KR20040058038A - Chemical conversion coating agent and surface-treated metal - Google Patents
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Abstract
Description
본 발명은 화성 처리제 및 표면 처리 금속에 관한 것이다.The present invention relates to a chemical conversion treatment agent and a surface treatment metal.
금속재료 표면에 양이온 전착 도장이나 분체 도장을 하는 경우,통상적으로 내식성,도막 밀착성 등의 성질을 향상시킬 목적으로 화성 처리가 행해지고 있다.도막의 밀착성이나 내식성을 보다 향상시킬 수 있는 관점에서, 화성 처리에 있어 사용되어 왔던 크로메이트 처리는 근래,크롬의 유해성이 지적받게 되어 크롬을 포함하지 않는 화성 처리제의 개발이 필요로 하게 되었다. 이와 같은 화성 처리로서는 인산 아연에 의한 처리가 폭넓게 행해지고 있다 (예를 들면,일본 특개평 10-204649호 공보 참조).When cationic electrodeposition coating or powder coating is applied to the surface of a metal material, chemical conversion treatment is usually performed for the purpose of improving properties such as corrosion resistance and coating film adhesion. From the viewpoint of improving the adhesion and corrosion resistance of the coating film, chemical conversion treatment is performed. The chromate treatment, which has been used in recent years, has been pointed out that the danger of chromium has been pointed out, requiring the development of a chemical treatment agent containing no chromium. As such chemical conversion treatment, a treatment with zinc phosphate is widely performed (for example, see Japanese Patent Laid-Open No. 10-204649).
그러나,인산 아연계 처리제는 금속 이온 및 산 농도가 높고 상당히 반응성이 강한 처리제이기 때문에,배수 처리에 있어서 경제성,작업성이 양호하지 않다. 이에 더하여, 인산 아연계 처리제에 의한 금속 표면 처리에 수반하여,물에 불용인 염류가 생성하여 침전되어 석출된다.이와 같은 침전물은 일반적으로 슬러지 라고 하며, 이와 같은 슬러지를 제거,폐기함에 따른 비용의 발생 등이 문제되고 있다.또한, 인산 이온은 부영양화에 의해 환경에 부담을 줄 우려가 있기 때문에, 폐액의 처리시 노력을 요하므로 사용하지 않는 것이 바람직하다. 또한, 인산 아연계 처리제에 의한 금속 표면 처리에 있어서는 표면 조정을 행하는 것이 필요하고 공정이 길어진다는 문제도 있다.However, since the zinc phosphate treatment agent is a highly reactive treatment agent with high metal ion and acid concentrations, economic efficiency and workability in wastewater treatment are not good. In addition, insoluble salts are formed in the water and precipitate due to the metal surface treatment with the zinc phosphate treatment agent. Such deposits are generally called sludge, and the cost of removing and discarding such sludge Generation and the like are problematic. Furthermore, since phosphate ions may burden the environment by eutrophication, it is preferable not to use phosphate ions because they require effort in treating the waste liquid. Moreover, in metal surface treatment with a zinc phosphate treatment agent, it is necessary to perform surface adjustment and there also exists a problem that a process becomes long.
이와 같은 인산 아연 화성 처리제 또는 크로메이트 화성 처리제 이외의 금속 표면 처리제로서,지르코늄 화합물로 이루어진 금속 표면 처리제가 공지되어 있다 (예를 들면, 일본 특개평 7-310189호 공보 참조).이와 같은 지르코늄 화합물로 이루어진 금속 표면 처리제는 슬러지의 발생이 억제된다는 점에서는 상술한 바와 같은 인산 아연 화성 처리제와 비교할 때 우수한 성질을 갖고 있다.As a metal surface treatment agent other than such a zinc phosphate chemical treatment agent or chromate chemical conversion treatment agent, the metal surface treatment agent which consists of a zirconium compound is known (for example, see Unexamined-Japanese-Patent No. 7-310189). It consists of such a zirconium compound. The metal surface treatment agent has excellent properties compared with the zinc phosphate chemical treatment agent mentioned above in that generation | occurrence | production of sludge is suppressed.
그러나, 지르코늄 화합물로 이루어진 금속 표면 처리제에 의하여 얻어진 화성 피막은, 양이온 전착 도장 또는 분체 도장 등에 의해 얻어지는 도막과의 밀착성이 나쁘고,통상,이러한 도장의 전처리 공정으로서 행해지는 일은 적었다.특히, 이와 같은 지르코늄 화합물로 이루어진 금속 표면 처리제에 있어서는, 인산 이온 등의 성분을 병용함으로써 밀착성의 향상이나 내식성을 개선하는 것이 행해지고 있다. 그러나, 인산 이온을 병용한 경우 상술한 바와 같은 부영양화 라는 문제가 발생한다. 또한, 이와 같은 금속 표면 처리제에 의한 처리를 도장의 전처리 방법으로서 사용하는 것에 관한 검토는 전혀 없었다. 다시 또, 이와 같은 금속 표면 처리제에 의하여 철계 기재를 처리하는 경우, 충분한 도막 밀착성이나 도장후의 내식성이 얻어지지 않는다는 문제가 있었다.However, the chemical conversion film obtained by the metal surface treatment agent which consists of a zirconium compound has bad adhesiveness with the coating film obtained by cation electrodeposition coating, powder coating, etc., and it is usually performed as a pretreatment process of such coating. In particular, such a zirconium In the metal surface treatment agent which consists of a compound, improvement of adhesiveness and corrosion resistance are performed by using components, such as a phosphate ion, together. However, when phosphate ions are used in combination, the problem of eutrophication as described above occurs. In addition, there was no examination regarding the use of such a treatment with a metal surface treatment agent as a pretreatment method for coating. Moreover, when processing an iron base material with such a metal surface treatment agent, there existed a problem that sufficient coating-film adhesiveness and corrosion resistance after coating were not obtained.
상술한 바와 같은 문제를 개선한 지르코늄 화합물 함유 금속 표면 처리제로서, 인산 이온을 함유하지 않는 지르코늄 화합물,바나듐 및 수지로 이루어진 금속 표면 처리제의 개발도 행해지고 있다 (예를 들면,일본 특개 2002-60699호 공보 참조).그러나, 이와 같은 금속 표면 처리제는 바나듐을 함유하기 때문에 인체에 대한 유해성이나 폐액 처리 문제 등을 일으키는 점에서 바람직하지 않다.As a zirconium compound containing metal surface treatment agent which improved the above-mentioned problem, development of the metal surface treatment agent which consists of a zirconium compound, vanadium, and resin which do not contain a phosphate ion is performed (for example, Unexamined-Japanese-Patent No. 2002-60699). However, since such a metal surface treatment agent contains vanadium, it is not preferable at the point which causes a danger to a human body, a waste liquid disposal problem, etc ..
또한, 자동차 차체나 부품 등의 철,아연,알루미늄 등 각종의 금속 소재로 구성된 부품에 대하여 1회 처리로 전체 금속의 표면 처리를 행하지 않으면 안되는 경우도 있고 이에 의한 경우에서도 문제 없이 화성 처리를 행할 수 있는 화성 처리제의 개발이 요망되고 있다.In addition, parts of various metal materials such as iron, zinc, and aluminum, such as automobile bodies and parts, may have to be subjected to surface treatment of all metals in a single treatment, and in this case, chemical conversion can be performed without problems. Development of chemical conversion agents is desired.
본 발명은 상기의 현재 상태를 감안하여,환경에 대한 부담이 적고 또한 철,아연,알루미늄 등의 모든 금속에 대하여 양호한 화성 처리를 할 수가 있는 화성 처리제 및 그것을 이용하여 얻어지는 표면 처리 금속을 제공하는 것을 목적으로 한 것이다.SUMMARY OF THE INVENTION In view of the present condition, the present invention provides a chemical conversion agent capable of performing a good chemical conversion treatment on all metals such as iron, zinc, aluminum, etc., and a surface-treated metal obtained by using the same. It is for the purpose.
본 발명은 지르코늄,티탄 및 하프늄으로 구성된 군으로부터 선택된 적어도 1종,불소 및 수용성 수지로 된 화성 처리제에 있어서,상기 수용성 수지는 적어도 일부에 하기의 식(1);The present invention is at least one member selected from the group consisting of zirconium, titanium and hafnium, a conversion treatment agent of fluorine and a water-soluble resin, wherein the water-soluble resin is at least a part of the following formula (1);
및/또는 하기의 식(2);And / or the following formula (2);
로 표시되는 구성 단위를 갖는 수용성 수지이고 인산 이온을 실질적으로 함유하지 않는 것을 특징으로 하는 화성 처리제이다.It is a water-soluble resin which has a structural unit represented by it, and is a chemical conversion treatment agent characterized by not containing phosphate ion substantially.
상기 수용성 수지는 폴리비닐아민 수지 또는 폴리알릴아민 수지인 것이 바람직하다.상기 수용성 수지는 분자량이 500∼500000 이고,상기 화성 처리제 중의 상기 수용성 수지의 함유량은 5∼5000 ppm 인 것이 바람직하다.It is preferable that the said water-soluble resin is polyvinylamine resin or polyallylamine resin. The said water-soluble resin has a molecular weight of 500-500000, and it is preferable that content of the said water-soluble resin in the said chemical conversion treatment agent is 5-5000 ppm.
상기 화성 처리제는 추가로, 아질산 이온; 니트로기 함유 화합물; 황산 히드록실아민; 과황산 이온; 아황산 이온; 차아황산 이온; 과산화물; 철(III) 이온; 구연산 철 화합물; 브롬산 이온; 과염소산 이온; 염소산 이온; 아염소산 이온; 또는 아스코르빈산,구연산,주석산,말론산,호박산 및 이들의 염으로 구성된 군으로부터 선택된 적어도 1종; 의 화성 반응 촉진제를 1∼5000 ppm 함유하는 것이 바람직하다.The chemical conversion treatment agent further includes nitrite ions; Nitro group-containing compounds; Sulfuric acid hydroxylamine; Persulfate ions; Sulfite ions; Hyposulfite ions; peroxide; Iron (III) ions; Iron citrate compounds; Bromate ions; Perchlorate ions; Chlorate ions; Chlorite ions; Or at least one selected from the group consisting of ascorbic acid, citric acid, tin acid, malonic acid, zucchini acid and salts thereof; It is preferable to contain 1-5000 ppm of chemical conversion reaction accelerators.
상기 화성 처리제는 상기 지르코늄,티탄 및 하프늄으로 구성된 군으로부터 선택된 적어도 1종의 함유량이 금속 이온 농도로서 20∼10000 ppm 이고 pH 가 1.5∼6.5 인 것이 바람직하다.The chemical conversion agent preferably has at least one content selected from the group consisting of zirconium, titanium and hafnium as a metal ion concentration of 20 to 10000 ppm and a pH of 1.5 to 6.5.
본 발명은 상기 화성 처리제에 의하여 형성된 화성 피막을 갖는 것을 특징으로 하는 표면 처리 금속도 제공한다.The present invention also provides a surface-treated metal having a chemical conversion film formed by the chemical conversion treatment agent.
상기 화성 피막은 피막량이 화성 처리제에 포함된 금속의 합계량으로 0.1∼500 mg/m2인 것이 바람직하다.It is preferable that the said chemical conversion film is 0.1-500 mg / m <2> as a total amount of the metal contained in a chemical conversion treatment agent.
이하,본 발명을 상세히 설명한다.Hereinafter, the present invention will be described in detail.
본 발명은 지르코늄,티탄 및 하프늄으로 구성된 군으로부터 선택되는 적어도 1종 및 불소를 함유하고,크롬이나 바나듐 등의 유해한 중금속 이온이나 인산 이온을 실질적으로 함유하지 않는 화성 처리제이다.The present invention is a chemical conversion treatment agent containing at least one selected from the group consisting of zirconium, titanium and hafnium and fluorine, and substantially free of harmful heavy metal ions such as chromium and vanadium or phosphate ions.
종래 알려져 있는 지르코늄 등으로 이루어진 화성 처리제로 금속 표면을 처리한 경우,금속 종류에 따라 양호한 처리 피막을 형성할 수 없는 것이 있다.특히 철계 기재에 대하여 상기 화성 처리제에 의한 처리를 행한 경우에는,화성 피막상에 도장을 행한 경우의 도막과 금속 표면과의 밀착성이나 도장후 내식성이 충분히 얻어지지 않는다는 문제가 있었다.본 발명은 특정의 수지 성분을 함유하는 화성 처리제에 의하여 상기 문제가 개선되는 것을 발견함으로써 완성된 것이다.In the case where the metal surface is treated with a known chemical conversion treatment agent composed of zirconium or the like, a good treatment film may not be formed depending on the type of metal. Particularly in the case where the iron-based substrate is treated with the chemical conversion treatment agent, There was a problem that the adhesion between the coating film and the metal surface in the case of coating on the film and the corrosion resistance after coating were not sufficiently obtained. The present invention is completed by discovering that the above problem is solved by a chemical conversion agent containing a specific resin component. It is done.
상기 화성 처리제에 포함된 지르코늄,티탄 및 하프늄으로 구성된 군으로부터 선택된 적어도 1종은 화성 피막 형성 성분이고,기재에 지르코늄,티탄 및 하프늄으로 구성된 군으로부터 선택된 적어도 1종을 포함한 화성 피막이 형성됨으로써,기재의 내식성이나 내마모성을 향상시키고 더 나아가, 도막과의 밀착성을 높일 수 있다.At least one selected from the group consisting of zirconium, titanium, and hafnium contained in the conversion treatment agent is a chemical conversion film-forming component, and a chemical conversion film including at least one selected from the group consisting of zirconium, titanium, and hafnium is formed on the substrate, It can improve corrosion resistance and abrasion resistance, and can further improve adhesiveness with a coating film.
상기 지르코늄의 공급원은 특별히 한정되지 않으며,예를 들면,K2ZrF6등의The source of the zirconium is not particularly limited, for example, K 2 ZrF 6
알칼리 금속 플루오르 지르코네이트; (NH4)2ZrF6등의 플루오르 지르코네이트;H2ZrF6등의 플루오르 지르코네이트산 등의 가용성 플루오르 지르코네이트 등; 불화 지르코늄; 산화 지르코늄 등을 들 수 있다.Alkali metal fluoro zirconates; Fluorine zirconates such as (NH 4 ) 2 ZrF 6 ; soluble fluorine zirconates such as fluoro zirconate acids such as H 2 ZrF 6 , and the like; Zirconium fluoride; Zirconium oxide etc. are mentioned.
상기 티탄의 공급원은 특별히 한정되지 않으며,예를 들면,알칼리 금속 플루오르 티타네이트,(NH4)2TiF6등의 플루오르 티타네이트; H2TiF6등의 플루오르 티타네이트산 등의 가용성 플루오르 티타네이트 등; 불화 티탄; 산화 티탄 등을 들 수 있다.The source of the titanium is not particularly limited, and for example, fluoro titanates such as alkali metal fluoro titanate and (NH 4 ) 2 TiF 6 ; Soluble fluoro titanates such as fluoro titanate acid such as H 2 TiF 6 and the like; Titanium fluoride; Titanium oxide, and the like.
상기 하프늄의 공급원은 특별히 한정되지 않으며,예를 들면,H2HfF6등의 플루오르 하프네이트산; 불화 하프늄 등을 들 수 있다.The source of the hafnium is not particularly limited, and for example, fluorinated hafnate acids such as H 2 HfF 6 ; Hafnium fluoride and the like.
상기 지르코늄,티탄 및 하프늄으로 구성된 군으로부터 선택된 적어도 1종의 공급원은, 피막 형성 능력이 높은 것으로 ZrF6 2-,TiF6 2-,HfF6 2-로 구성된 군으로부터 선택된 적어도 1종을 포함하는 화합물이 바람직하다.The at least one source selected from the group consisting of zirconium, titanium and hafnium is a compound having a high film-forming ability and containing at least one member selected from the group consisting of ZrF 6 2- , TiF 6 2- , and HfF 6 2- . This is preferable.
상기 화성 처리제에 함유된 지르코늄,티탄 및 하프늄으로 구성된 군으로부터 선택된 적어도 1종의 함유량은 금속 환산으로 하한 20 ppm,상한 1000O ppm 의 범위내인 것이 바람직하다.상기 하한 미만인 경우 얻어지는 화성 피막의 성능이 불충분하고,상기 상한을 초과하면 그 이상의 효과를 바랄 수 없으므로 경제적으로 불리하다.상기 하한은 50 ppm 이 보다 바람직하고,상기 상한은 2000 ppm 이 보다 바람직하다.The content of at least one selected from the group consisting of zirconium, titanium and hafnium contained in the chemical conversion treatment agent is preferably in the range of 20 ppm lower limit and 1000 upper ppm upper limit in terms of metal. It is inadequate and it is economically disadvantageous because it cannot exceed further the said upper limit. The said minimum is more preferable 50 ppm, and the upper limit is more preferable 2000 ppm.
상기 화성 처리제에 함유된 불소는 기재의 에칭제로서의 역할을 하는 것이다. 상기 불소의 공급원은 특별히 한정되지 않으며,예를 들면,불화수소산,불화암모늄,불화붕소산,불화수소 암모늄,불화나트륨,불화수소나트륨 등의 불화물을 들 수 있다.또,착불화물은 예를 들면,헥사플루오르 규산염을 들 수 있고,그 구체적인 예로서 규소불화수소산,규소불화수소산 아연,규소불화수소산 망간,규소불화수소산 마그네슘,규소불화수소산 니켈,규소불화수소산 철,규소불화수소산 칼슘 등을 들 수 있다.Fluorine contained in the chemical conversion treatment agent serves as an etchant for the substrate. The source of the fluorine is not particularly limited, and examples thereof include fluorides such as hydrofluoric acid, ammonium fluoride, boric fluoride, ammonium hydrogen fluoride, sodium fluoride, sodium hydrogen fluoride, and the like. Hexafluorosilicates; specific examples thereof include hydrofluoric acid silicon, zinc hydrofluoric acid, zinc hydrofluoric acid, manganese silicon hydrofluoric acid, magnesium hydrofluoric acid, nickel hydrofluoric acid, iron hydrofluoric acid, calcium hydrofluoric acid, and the like. have.
본 발명의 화성 처리제에 사용되는 수용성 수지는 적어도 일부에 하기의 식(1);The water-soluble resin used for the chemical conversion treatment agent of the present invention has at least a part of the following formula (1);
및/또는 하기의 식(2);And / or the following formula (2);
로 표시되는 구성 단위를 갖는 수용성 수지이다.상기 수용성 수지로 이루어진 화성 피막은 상기 수용성 수지에 함유된 아미노기의 작용에 의하여 금속 기재 및 도막의 밀착성을 높일 수 있다고 생각된다.상기 수용성 수지의 제조 방법은 특별히 한정되는 것이 아니며, 공지 방법에 의하여 제조할 수 있다.It is thought that the chemical conversion film which consists of the said water-soluble resin can improve the adhesiveness of a metal base material and a coating film by the action of the amino group contained in the said water-soluble resin. It is not specifically limited, It can manufacture by a well-known method.
상기 수용성 수지는 상기의 식(1)로 표시되는 구성 단위만으로 이루어진 중합체인 폴리비닐아민 수지 및/또는 상기의 식(2)로 표시되는 구성 단위만으로 이루어진 중합체인 폴리알릴아민 수지가 특히 바람직하다.상기 폴리비닐아민 수지 및 폴리알릴아민 수지는 특히 밀착성 향상의 효과가 뛰어나다는 점에서 바람직하다. 상기 폴리비닐아민 수지는 특별히 한정되지 않으며,PVAM-0595B (미쯔비시화학 주식회사) 등의 시판되는 폴리비닐아민 수지를 사용할 수 있다. 상기 폴리알릴아민 수지는 특별히 한정되지 않으며,예를 들면,PAA-01,PAA-10C,PAA-H-10C,PAA-DllHCl (모두 일동방주식회사 제품) 등의 시판되는 폴리알릴아민 수지를 사용할 수 있다.또한,폴리비닐아민 수지와 폴리알릴아민 수지를 병용한 것이어도 좋다.As for the said water-soluble resin, polyvinylamine resin which is a polymer which consists only of a structural unit represented by said Formula (1), and / or polyallylamine resin which is a polymer which consists only of a structural unit represented by said formula (2) is especially preferable. The said polyvinylamine resin and polyallylamine resin are especially preferable at the point which is excellent in the effect of an adhesive improvement. The said polyvinylamine resin is not specifically limited, Commercially available polyvinylamine resin, such as PVAM-0595B (Mitsubishi Chemical Corporation), can be used. The polyallylamine resin is not particularly limited, and for example, commercially available polyallylamine resins such as PAA-01, PAA-10C, PAA-H-10C, PAA-DllHCl (all of which are manufactured by Il Dong Oriental Co., Ltd.) can be used. Moreover, what used polyvinylamine resin and polyallylamine resin together may be sufficient.
상기 수용성 수지는 본 발명의 목적을 손상하지 않는 범위에서,상기 폴리비닐아민 수지 및/또는 폴리알릴아민 수지의 아미노기의 일부를 아세틸화 하는 등의 방법에 의하여 변성(modified)한 것,아미노기의 일부 또는 전부가 산에 의하여 중화된 것,용해성에 영향을 주지 않는 범위에서 가교제에 의하여 가교된 것 등도 사용할 수 있다.The water-soluble resin is modified by a method such as acetylating a part of the amino group of the polyvinylamine resin and / or polyallylamine resin within a range that does not impair the object of the present invention, part of the amino group Or the whole thing neutralized with the acid, the thing bridge | crosslinked by the crosslinking agent in the range which does not affect solubility, etc. can also be used.
상기 수용성 수지는 수지 100g 당 하한 0.01 몰,상한 2.3 몰의 범위내의 아미노기를 갖는 것이 바람직하다. O.0l 몰 미만이면 충분한 효과를 얻을 수 없어 바람직하지 않다.2.3 몰을 초과하면 목적하는 효과를 얻을 수 없게 될 우려가 있다.상기 하한은 0.1 몰이 보다 바람직하다.It is preferable that the said water-soluble resin has an amino group in the range of the lower limit 0.01 mol and an upper limit 2.3 mol per 100 g of resin. If it is less than 0.1 mol, sufficient effect cannot be obtained and it is not preferable. If it exceeds 2.3 mol, there exists a possibility that a desired effect may not be obtained. The said minimum is more preferable at 0.1 mol.
본 발명의 화성 처리제에 있어서 상기 수용성 수지의 함유량은 고형분으로 하한 5 ppm,상한 5000 ppm 의 범위내인 것이 바람직하다. 5 ppm 미만이면 충분한도막 밀착성을 갖는 화성 피막을 얻을 수 없어 바람직하지 않다.5000 ppm 을 초과하면 피막 형성을 저해할 우려가 있다.상기 하한은 1Oppm 이 보다 바람직하고,상기 상한은 500 ppm 이 보다 바람직하다.In the chemical conversion treatment agent of the present invention, the content of the water-soluble resin is preferably in the range of 5 ppm lower limit and 5000 ppm upper limit as solid content. If it is less than 5 ppm, the chemical conversion film which has sufficient coating film adhesiveness cannot be obtained, and it is unpreferable. When it exceeds 5000 ppm, there exists a possibility that it may inhibit film formation. The said lower limit is more preferable 10 ppm, and the said upper limit is more preferable 500 ppm. Do.
상기 수용성 수지는 분자량이 하한 500,상한 500000 의 범위내인 것이 바람직하다.500 미만이면 충분한 도막 밀착성을 갖는 화성 피막을 얻을 수 없어 바람직하지 않다.500000 을 초과하면 피막 형성을 저해할 우려가 있다.It is preferable that the said water-soluble resin is in the range of the lower limit 500 and the upper limit 500000. If it is less than 500, the chemical conversion film which has sufficient coating-film adhesiveness cannot be obtained, and it is unpreferable. When it exceeds 500000, there exists a possibility of inhibiting film formation.
상기 하한은 5000 이 보다 바람직하고 상기 상한은 70000 이 보다 바람직하다.5000 is more preferable and the said minimum is more preferable 70000.
본 발명의 화성 처리제는 이에 더하여,화성 반응 촉진제를 함유하는 것이 바람직하다.상기 화성 반응 촉진제는 지르코늄 화합물로 이루어진 금속 표면 처리제에 의해 얻어지는 화성 피막 표면의 얼룩을 억제하는 효과를 갖는 것이다.이와 같은 얼룩의 발생은 기재의 에지부와 평면부 등의 부위 차이에 따라 피막 석출량이 다르기 때문에 일어나는 것이다. 예를 들어, 종래의 지르코늄 화합물로 이루어진 표면 처리제로 에지부를 갖는 금속 기재를 처리하는 경우, 에지부에서 애노드 용해 반응이 선택적으로 일어나기 때문에 캐소드 반응이 일어나기 쉽게 되고, 그 결과, 에지부 부근에서 피막이 석출되기 쉬운 반면 평면부에서는 애노드 용해 반응이 일어나기 어려워 피막의 석출이 억제되기 때문에 이러한 얼룩이 발생된다.In addition, the chemical conversion treatment agent of the present invention preferably contains a chemical reaction accelerator. The chemical reaction accelerator has an effect of suppressing the stain on the surface of the chemical film obtained by the metal surface treatment agent made of a zirconium compound. Occurs because the amount of deposited film is different depending on the difference in the portions of the base and the edge of the substrate. For example, when treating a metal substrate having an edge portion with a surface treatment agent made of a conventional zirconium compound, the cathode dissolution reaction selectively occurs at the edge portion, so that a cathode reaction is likely to occur, and as a result, a film is deposited near the edge portion. On the other hand, such staining occurs because the anode dissolution reaction hardly occurs in the planar portion and the deposition of the film is suppressed.
인산 아연 화성 처리에 따르면,얻어지는 화성 피막은 후막(두꺼운 막) 타입이기 때문에 얼룩은 그다지 큰 문제가 되지 않지만,지르코늄 화합물로 이루어진 화성 피막은 박막 타입이기 때문에 화성 처리되기 어려운 평면부에 있어서 충분한피막량을 얻을 수 없는 경우 도장시의 도장 얼룩의 원인이 되고,도장 외관,내식성등에 문제가 생기는 경우가 있다.According to the zinc phosphate chemical treatment, since the obtained chemical film is a thick film (thick film) type, staining is not a big problem. However, since the chemical film made of a zirconium compound is a thin film type, sufficient amount of film in the flat part which is difficult to chemically treat If it cannot be obtained, it may cause uneven coating, and may cause problems in appearance, corrosion resistance, and the like.
본 발명에 있어서 상기 화성 반응 촉진제는 화성 처리제에 배합함으로써 상술한 에지부 및 평면부에 있어서 화성 처리 반응의 차이가 생기는 일 없이 화성 처리를 행할 수 있도록 하는 성질을 갖는 것이다.In the present invention, the chemical reaction accelerator is blended with the chemical treatment agent so that the chemical conversion treatment can be performed without causing a difference in chemical conversion treatment between the edge portion and the flat portion.
상기 화성 반응 촉진제는 아질산 이온; 니트로기 함유 화합물; 황산 히드록실아민; 과황산 이온; 아황산 이온; 차아황산 이온; 과산화물; 철(III) 이온; 구연산철 화합물; 브롬산 이온; 과염소산 이온; 염소산 이온; 아염소산 이온; 또는 아스코르빈산,구연산,주석산,말론산,호박산 및 이들의 염으로 구성된 군으로부터 선택된 적어도 1종이나,그 중에서도 에칭 반응을 효율적으로 촉진하기 위해 산화 작용을 갖는 것 또는 유기산이 바람직하다.The chemical reaction accelerator may include nitrite ions; Nitro group-containing compounds; Sulfuric acid hydroxylamine; Persulfate ions; Sulfite ions; Hyposulfite ions; peroxide; Iron (III) ions; Iron citrate compounds; Bromate ions; Perchlorate ions; Chlorate ions; Chlorite ions; Or at least one selected from the group consisting of ascorbic acid, citric acid, tartaric acid, malonic acid, succinic acid and salts thereof, and among them, one having an oxidizing action or an organic acid to efficiently promote the etching reaction is preferable.
이러한 화성 반응 촉진제를 화성 처리제에 배합함으로써,피막 석출의 편중을 조정하고 기재의 에지부 및 평면부에 있어서도 얼룩 없는 양호한 화성 피막을 얻을 수 있다.By incorporating such a chemical reaction promoter into a chemical conversion treatment agent, it is possible to adjust the bias of the film deposition and to obtain a good chemical film without spots even at the edge portion and the flat portion of the substrate.
상기 아질산 이온의 공급원은 특별히 한정되지 않으며,예를 들면,아질산 나트륨,아질산 칼륨,아질산 암모늄 등을 들 수 있다.상기 니트로기 함유 화합물은 특별히 한정되지 않으며,예를 들면,니트로벤젠 술폰산,니트로 구아니딘 등을 들 수 있다.상기 과황산 이온의 공급원은 특별히 한정되지 않으며,예를 들면,Na2S2O8,K2S2O8등을 들 수 있다.상기 아황산 이온의 공급원은 특별히 한정되지 않으며,예를 들면,아황산 나트륨,아황산 칼륨,아황산 암모늄 등을 들 수 있다.상기 차아황산 이온의 공급원은 특별히 한정되지 않으며,예를 들면,차아황산 나트륨,차아황산 칼륨,차아황산 암모늄 등을 들 수 있다.상기 과산화물은 특별히 한정되지 않으며,예를 들면,과산화수소,과산화나트륨,과산화칼륨 등을 들 수 있다.The source of the nitrite ion is not particularly limited, and examples thereof include sodium nitrite, potassium nitrite, ammonium nitrite, and the like. The nitro group-containing compound is not particularly limited. For example, nitrobenzene sulfonic acid and nitro guanidine. The source of the persulfate ions is not particularly limited, and examples thereof include Na 2 S 2 O 8 , K 2 S 2 O 8 , and the like. The source of the sulfite ions is not particularly limited. Examples thereof include sodium sulfite, potassium sulfite, ammonium sulfite, and the like. The source of the sulfite ions is not particularly limited. The peroxide is not particularly limited, and examples thereof include hydrogen peroxide, sodium peroxide and potassium peroxide.
상기 철(III)이온의 공급원은 특별히 한정되지 않으며,예를 들면,질산 제2 철,황산 제2철,염화 제2철 등을 들 수 있다.구연산철 화합물은 특별히 한정되지 않으며,예를 들면,구연산철 암모늄,구연산철 나트륨,구연산철 칼륨 등을 들 수 있다.상기 브롬산 이온의 공급원은 특별히 한정되지 않으며,예를 들면, 브롬산 나트륨,브롬산 칼륨,브롬산 암모늄 등을 들 수 있다.상기 과염소산 이온의 공급원은 특별히 한정되지 않으며,예를 들면,과염소산 나트륨,과염소산 칼륨,과염소산 암모늄 등을 들 수 있다.The source of the iron (III) ions is not particularly limited, and examples thereof include ferric nitrate, ferric sulfate, ferric chloride, and the like. The ferric citrate compound is not particularly limited. And ammonium ferric citrate, sodium ferric citrate, potassium ferric citrate, and the like. The source of the bromate ions is not particularly limited, and examples thereof include sodium bromide, potassium bromide, and ammonium bromide. The source of the perchlorate ion is not particularly limited, and examples thereof include sodium perchlorate, potassium perchlorate, and ammonium perchlorate.
상기 염소산 이온의 공급원은 특별히 한정되지 않으며,예를 들면,염소산 나트륨,염소산 칼륨,염소산 암모늄 등을 들 수 있다.상기 아염소산 이온의 공급원은 특별히 한정되지 않으며,예를 들면,아염소산 나트륨,아염소산 칼륨,아염소산 암모늄 등을 들 수 있다.상기 아스코르빈산 및 그 염은 특별히 한정되지 않으며, 예를 들면,아스코르빈산,아스코르빈산 나트륨,아스코르빈산 칼륨,아스코르빈산 암모늄 등을 들 수 있다. 상기 구연산 및 그 염은 특별히 한정되지 않으며,예를 들면,구연산,구연산 나트륨,구연산 칼륨,구연산 암모늄 등을 들 수 있다. 상기 주석산 및 그 염은 특별히 한정되지 않으며,예를 들면,주석산,주석산암모늄,주석산 칼륨,주석산 나트륨 등을 들 수 있다. 상기 말론산 및 그 염은 특별히 한정되지 않으며,예를 들면,말론산,말론산 암모늄,말론산 칼륨,말론산 나트륨 등을 들 수 있다. 상기 호박산 및 그 염은 특별히 한정되지 않으며,예를 들면,호박산,호박산 나트륨,호박산 칼륨,호박산 암모늄 등을 들 수 있다.The source of the chlorate ions is not particularly limited, and for example, sodium chlorate, potassium chlorate, ammonium chlorate, etc. The source of the chlorite ions is not particularly limited, for example, sodium chlorite, nitrite Potassium chlorate, ammonium chlorite, and the like. The ascorbic acid and salts thereof are not particularly limited, and examples thereof include ascorbic acid, sodium ascorbate, potassium ascorbate and ammonium ascorbate. Can be. The citric acid and salts thereof are not particularly limited, and examples thereof include citric acid, sodium citrate, potassium citrate, and ammonium citrate. The said tartaric acid and its salt are not specifically limited, For example, a tartaric acid, ammonium titanate, potassium titanate, sodium titanate, etc. are mentioned. The said malonic acid and its salt are not specifically limited, For example, malonic acid, ammonium malonate, potassium malonate, sodium malonate, etc. are mentioned. The succinic acid and salts thereof are not particularly limited, and examples thereof include amber acid, sodium amber acid, potassium amber acid, ammonium amber acid and the like.
상술한 화성 반응 촉진제는 단독으로 사용해도 좋으나 필요에 따라 2 이상의 성분을 사용해도 좋다.Although the above-mentioned chemical reaction accelerator may be used alone, two or more components may be used as needed.
본 발명의 화성 처리제에 있어서 상기 화성 반응 촉진제의 배합량은 하한 1 ppm,상한 5000 ppm 의 범위내인 것이 바람직하다.1 ppm 미만이면 충분한 효과를 얻을 수 없어 바람직하지 않다.5000 ppm 을 초과하면 피막 형성을 저해할 우려가 있다.상기 하한은 3 ppm 이 보다 바람직하고,5ppm이 더욱 바람직하다.상기 상한은 2000 ppm 이 보다 바람직하고 1500 ppm 이 더욱 바람직하다.In the chemical conversion treatment agent of the present invention, the compounding amount of the chemical reaction accelerator is preferably in the range of 1 ppm lower limit and 5000 ppm upper limit. If it is less than 1 ppm, sufficient effect cannot be obtained. The lower limit is more preferably 3 ppm, more preferably 5 ppm. The upper limit is more preferably 2000 ppm and even more preferably 1500 ppm.
본 발명의 화성 처리제는 실질적으로 인산 이온을 함유하지 않는 것이 바람직하다.실질적으로 인산 이온을 함유하지 않는다는 것은, 인산 이온이 화성 처리제 중의 성분으로서 작용하는 정도로 함유되지 않았다는 것을 의미하며, 본 발명에서 사용되는 화성 처리제는 실질적으로 인산 이온을 포함하지 않으므로 환경적 측면에서 부담을 주는 원인이 되는 인을 실질적으로 사용하지 않고, 인산 아연계 처리제를 사용할 경우에 발생하는 인산 철,인산 아연 등과 같은 슬러지의 발생을 억제할 수 있다.It is preferable that the chemical conversion treatment agent of the present invention is substantially free of phosphate ions. Actually containing no phosphate ions means that phosphate ions are not contained to such an extent that they act as a component in the chemical conversion treatment agent and are used in the present invention. Since the chemical conversion agent does not substantially contain phosphate ions, sludge, such as iron phosphate and zinc phosphate, generated when a zinc phosphate treatment agent is used, without substantially using phosphorus which causes environmental burdens. Can be suppressed.
상기 화성 처리제는 pH 가 하한 1.5,상한 6.5 의 범위내인 것이 바람직하다. 하한이 1.5 미만이면 에칭 과잉이 되어 충분한 피막 형성이 불가능하게 된다.또한 상한이 6.5 를 초과하면 에칭이 불충분하여 양호한 피막을 얻을 수 없다.상기 하한은 2.0 이 보다 바람직하고 상기 상한은 5.5 가 보다 바람직하다.상기 하한은 2.5 가 더욱 바람직하고 상기 상한은 5.0 이 더욱 바람직하다.상기 화성 처리제의 pH 를 조정하기 위해 질산,황산 등의 산성 화합물 및 수산화나트륨,수산화칼륨,암모니아 등의 알칼리성 화합물을 사용할 수 있다.It is preferable that the said chemical conversion treatment agent exists in the range of the minimum of 1.5 and the upper of 6.5. If the lower limit is less than 1.5, the etching is excessive and sufficient film formation is impossible. If the upper limit is more than 6.5, etching is insufficient and a good film cannot be obtained. The lower limit is more preferably 2.0, and the upper limit is more preferably 5.5. The lower limit is more preferably 2.5, and the upper limit is more preferably 5.0. Acidic compounds such as nitric acid and sulfuric acid and alkaline compounds such as sodium hydroxide, potassium hydroxide and ammonia can be used to adjust the pH of the chemical conversion agent. have.
본 발명의 화성 처리제는 상기 성분 이외에 필요에 따라,임의의 성분을 병용하는 것이어도 좋다.사용할 수 있는 성분으로서는 아연 이온,마그네슘 이온, 칼슘 이온,알루미늄 이온,망간 이온,철 이온,코발트 이온,구리 이온 등의 금속 이온,실리카,수용성 규산염 화합물,규산 에스테르류,알킬 실리케이트류 및 실란 커플링제 등의 규소 함유 화합물 등을 들 수 있다.The chemical conversion treatment agent of this invention may use arbitrary components together as needed in addition to the said component. As a component which can be used, zinc ion, magnesium ion, calcium ion, aluminum ion, manganese ion, iron ion, cobalt ion, copper And silicon-containing compounds such as metal ions such as ions, silica, water-soluble silicate compounds, silicate esters, alkyl silicates, and silane coupling agents.
상기 화성 처리제에 의한 금속의 화성 처리는 특별히 한정되는 것이 아니며, 통상의 처리 조건에서 화성 처리제와 금속 표면을 접촉시킴으로써 행할 수 있다. 상기 화성 처리에 있어서 처리 온도는 하한 20℃,상한 70℃의 범위내인 것이 바람직하다.상기 하한은 30℃ 인 것이 보다 바람직하고 상기 상한은 50℃ 인 것이 보다 바람직하다.상기 화성 처리에 있어서 화성 시간은 하한 5초,상한 1200초의 범위내인 것이 바람직하다.상기 하한은 30초가 보다 바람직하고,상기 상한은 120초가 보다 바람직하다.화성 처리 방법은 특별히 한정되지 않으며,예를 들면,침지법,스프레이법,롤코트법 등을 들 수 있다.The chemical conversion treatment of the metal by the chemical conversion treatment agent is not particularly limited and can be carried out by bringing the chemical conversion treatment agent into contact with the metal surface under normal processing conditions. In the chemical conversion treatment, the treatment temperature is preferably in the range of the lower limit of 20 ° C and the upper limit of 70 ° C. The lower limit is more preferably 30 ° C and more preferably the upper limit of 50 ° C. It is preferable that the time is in the range of a lower limit of 5 seconds and an upper limit of 1200 seconds. The lower limit is more preferably 30 seconds, and the upper limit is more preferably 120 seconds. The chemical conversion treatment method is not particularly limited, for example, the dipping method, Spray method, roll coat method and the like.
본 발명의 화성 처리제에 의하여 처리되는 금속 기재는 철계 기재,알루미늄계 기재 및 아연계 기재 등을 들 수 있다.철,알루미늄 및 아연계 기재란 기재가철 및/또는 그 합금으로 된 철계 기재,기재가 알루미늄 및/또는 그 합금으로 된 알루미늄 기재,기재가 아연 및/또는 그 합금으로 된 아연계 기재를 의미한다.본 발명의 화성 처리제는 철계 기재,알루미늄계 기재 및 아연계 기재 중의 복수의 금속 기재로 이루어진 피도장물의 화성 처리에 대해서도 사용할 수 있다.Examples of the metal substrate to be treated by the chemical conversion treatment agent of the present invention include iron-based substrates, aluminum-based substrates, and zinc-based substrates. Iron, aluminum, and zinc-based substrates include iron-based substrates made of iron and / or alloys thereof. An aluminum substrate made of aluminum and / or an alloy thereof, and a zinc based substrate made of zinc and / or an alloy thereof. The chemical conversion treatment agent of the present invention includes a plurality of metal substrates of an iron base, an aluminum base, and a zinc base. It can also be used for chemical conversion of the finished coating.
본 발명의 화성 처리제는, 통상의 지르코늄 등으로 된 화성 처리제에 있어서는 충분한 도막 밀착성을 얻기가 곤란한 철계 기재에 대해서도 충분한 도막 밀착성을 부여할 수 있는 점에서 바람직하고,이 때문에, 특히 적어도 일부에 철계 기재를 포함하는 피처리물의 처리에도 사용할 수 있다는 점에서 우수한 성질을 갖는 것이다.The chemical conversion treatment agent of this invention is preferable at the point which can provide sufficient coating film adhesiveness also with respect to the iron base material which is difficult to obtain sufficient coating film adhesiveness in the chemical conversion treatment agent which consists of normal zirconium etc., For this reason, at least one part is especially iron-based base material. It has excellent properties in that it can also be used for the treatment of the to-be-processed object containing.
상기 철계 기재는 특별히 한정되지 않으며,예를 들면,냉연 강판,열연 강판 등을 들 수 있다. 상기 알루미늄계 기재는 특별히 한정되지 않고,예를 들면,5000번계 알루미늄 합금, 6000번계 알루미늄 합금 등을 들 수 있다. 상기 아연계 기재는 특별히 한정되지 않으며,예를 들면,아연 도금 강판,아연-니켈 도금 강판,아연-철 도금 강판,아연-크롬 도금 강판,아연-알루미늄 도금 강판,아연-티탄 도금 강판,아연-마그네슘 도금 강판,아연-망간 도금 강판 등의 아연계 전기 도금,용융 도금,증착 도금 강판 등의 아연 또는 아연계 합금 도금 강판 등을 들 수 있다.상기 화성 처리제를 이용하여,철,알루미늄 및 아연계 기재를 동시에 화성 처리할 수 있다.The iron-based substrate is not particularly limited, and examples thereof include a cold rolled steel sheet and a hot rolled steel sheet. The aluminum base is not particularly limited, and examples thereof include a 5000 series aluminum alloy and a 6000 series aluminum alloy. The zinc-based substrate is not particularly limited, for example, zinc-plated steel sheet, zinc-nickel plated steel sheet, zinc-iron plated steel sheet, zinc-chromium-plated steel sheet, zinc-aluminum-plated steel sheet, zinc-titanium plated steel sheet, zinc- Zinc- or zinc-based alloy-coated steel sheets such as zinc-based electroplating such as magnesium-plated steel sheets and zinc-manganese-plated steel sheets, hot dip galvanizing and deposition-coated steel sheets, and the like. The substrate can be chemically treated simultaneously.
본 발명의 화성 처리제에 의해 얻어지는 화성 피막은 피막량이 화성 처리제에 함유되는 금속의 합계량으로 하한 O.l mg/m2,상한 5OO mg/m2의 범위내인 것이 바람직하다.O.l mg/m2미만이면 균일한 화성 피막을 얻을 수 없어 바람직하지 않다. 5OO mg/m2를 초과하면 그 이상의 효과가 얻어지지 않아 경제적으로 불리하다. 상기 하한은 5 mg/m2가 보다 바람직하고 상기 상한은 2OO mg/m2가 보다 바람직하다.Chemical conversion coating obtained by the chemical conversion treatment agent of the present invention is preferably the coating amount is in the range of a lower limit to the total amount of metal Ol mg / m 2, the upper limit 5OO mg / m 2 to be contained in the chemical conversion treatment agent is .Ol mg / m is less than 2 It is not preferable because a uniform chemical conversion film cannot be obtained. If it exceeds 5OO mg / m 2 , no further effect is obtained and it is economically disadvantageous. As for the said minimum, 5 mg / m <2> is more preferable, and the said upper limit is more preferable 200 mg / m <2> .
상기 금속 기재의 표면은 상기 화성 처리제에 의하여 화성 처리되기 전에 탈지 처리,탈지후 수세 처리를 행하고, 화성 처리 후에 화성후 수세 처리를 행하는 것이 바람직하다.The surface of the metal substrate is preferably subjected to degreasing treatment after degreasing and washing with degreasing before being chemically treated by the chemical conversion agent, and washing with dehydration after chemical conversion.
상기 탈지 처리는 기재 표면에 부착되어 있는 유분이나 오염을 제거하기 위해 행해지는 것으로서, 무인ㆍ무질소 탈지 세척액 등의 탈지제를 이용하여 통상 30∼55℃ 에서 수분 정도의 시간 동안 침지 처리가 이루어진다.필요에 따라, 탈지 처리 전에 예비 탈지 처리를 행할 수 있다.The degreasing treatment is carried out to remove oil or dirt adhering to the surface of the substrate. The degreasing treatment is usually performed for 30 minutes at a temperature of 30 to 55 ° C. using a degreasing agent such as an unattended and nitrogen-free degreasing washing liquid. Therefore, the preliminary degreasing treatment can be performed before the degreasing treatment.
상기 탈지후 수세 처리는,탈지 처리 후에 탈지제를 수세하기 위해 대량의 수세용 물을 써서 1회 또는 그 이상으로 스프레이 처리를 함으로써 행해지는 것이다.The degreasing washing treatment after degreasing is performed by spraying one or more times using a large amount of washing water to wash the degreasing agent after the degreasing treatment.
상기 화성후 수세 처리는 그 뒤의 각종 도장후의 밀착성, 내식성 등에 악영향을 미치지 않도록 하기 위해 1회 또는 그 이상으로 행해지는 것이다.이 경우,최종 수세는 순수한 물로 행해지는 것이 적당하다.이 화성후 수세 처리에 있어서는,스프레이 수세 또는 침지 수세의 어느 쪽이어도 좋으며 이들 방법을 조합하여 수세할 수도 있다.The above-described water washing treatment is performed one or more times so as not to adversely affect the adhesion, corrosion resistance, and the like after the various coatings thereafter. In this case, the final water washing is appropriately performed with pure water. In the treatment, either spray washing or immersion washing may be used, and washing may be performed by combining these methods.
상기 화성후 수세 처리의 뒤에는 공지 방법에 따라 필요시 건조하고 그 후 각종 도장을 행할 수 있다.After the above-mentioned chemical | cleaning treatment after chemical conversion, it can dry as needed by a well-known method, and can apply | coat various coatings after that.
또한 본 발명의 화성 처리제를 사용하는 화성 처리는, 종래부터 실용화 되고 있는 인산 아연계 화성 처리제를 이용하여 처리하는 방법에서 필요로 하는, 표면 조정 처리 등을 행하지 않아도 좋기 때문에 더 소수의 공정으로 금속 기재의 화성 처리를 행할 수 있게 된다.In addition, since the chemical conversion treatment using the chemical conversion treatment agent of the present invention does not need to perform surface adjustment treatment or the like, which is required by a method of treating using a zinc phosphate chemical conversion treatment agent, which has been put to practical use in the past, the metal base material in fewer processes. The conversion process can be performed.
본 발명은 상기 화성 처리제에 의하여 형성되는 화성 피막을 갖는 표면 처리 금속도 제공한다. 본 발명의 표면 처리 금속은 또한, 양이온 전착 도장,분체 도장등의 도장을 상기 화성 피막 상에 형성할 때에,도막과 금속의 밀착성이 우수한 것이다.본 발명의 표면 처리 금속에 대하여 행할 수 있는 도장은 특별히 한정되지 않으나,양이온 전착 도장,분체 도장 등을 들 수 있다.그 중에서도,본 발명의 화성 처리제는, 철,아연,알루미늄 등의 모든 금속에 대하여 양호한 처리를 행할 수 있기 때문에, 적어도 일부가 철계 기재로 이루어진 피처리물의 양이온 전착 도장의 전처리로서 매우 적합하게 사용할 수 있다. 상기 양이온 전착 도장은 특별히 한정되지 않으며, 아미노화 에폭시 수지,아미노화 아크릴 수지,설포늄화 에폭시 수지 등으로 이루어진 종래의 공지된 양이온 전착 도료를 도포할 수 있다.The present invention also provides a surface-treated metal having a chemical conversion film formed by the chemical conversion treatment agent. The surface-treated metal of the present invention is also excellent in adhesion between the coating film and the metal when forming coatings such as cationic electrodeposition coating and powder coating on the chemical conversion film. The coating that can be performed on the surface treatment metal of the present invention Although it does not specifically limit, cationic electrodeposition coating, powder coating, etc. are mentioned. Especially, since the chemical conversion treatment agent of this invention can perform favorable treatment with respect to all metals, such as iron, zinc, and aluminum, at least one part is iron type | system | group. It can be used suitably as a pretreatment of the cation electrodeposition coating of the to-be-processed object which consists of a base material. The said cationic electrodeposition coating is not specifically limited, The conventionally well-known cation electrodeposition coating material which consists of an amino-ized epoxy resin, an amino-ized acrylic resin, a sulfonated epoxy resin, etc. can be apply | coated.
본 발명의 화성 처리제는 지르코늄,티탄 및 하프늄으로 구성된 군에서 선택된 적어도 1종을 피막 형성 성분으로서 함유하고, 이에 더하여, 특정의 구조를 갖는 수용성 수지를 함유하는 것으로서, 종래의 지르코늄 등으로 이루어진 화성 처리제에서의 전처리가 부적절했던 철계 기재에 대하여도 도막 밀착성이 우수했던 화성 피막을 형성할 수 있다.The chemical conversion treatment agent of the present invention contains at least one member selected from the group consisting of zirconium, titanium, and hafnium as a film forming component, and in addition, contains a water-soluble resin having a specific structure. The chemical conversion film which was excellent in coating-film adhesiveness can also be formed also about the iron base material with which the pretreatment in place was inadequate.
본 발명에서 사용하는 화성 처리제는, 실질적으로 인산 이온을 함유하지 않기 때문에,환경에 대한 부담이 적고 슬러지도 발생하지 않는다.또한,본 발명의 화성 처리제를 사용하는 화성처리는 표면 조정 공정을 필요로 하지 않기 때문에 보다 적은 공정으로 금속 기재의 화성 처리를 행할 수 있다.Since the chemical conversion treatment agent used in the present invention does not substantially contain phosphate ions, the burden on the environment is small and no sludge occurs. Moreover, the chemical conversion treatment using the chemical conversion treatment agent of the present invention requires a surface adjustment process. Since it does not, the chemical conversion treatment of a metal base material can be performed in a lesser process.
실시예Example
이하의 실시예에서 본 발명을 더욱 상세하게 설명하지만 본 발명은 이들 실시예 만으로 한정되는 것이 아니다.In the following Examples, the present invention is described in more detail, but the present invention is not limited only to these Examples.
실시예 1Example 1
시판되는 냉간 압연 강판(SPCC-SD, 일본 테스트패널사,70mm×150mm×0.8mm)을 기재로 하여, 다음의 조건에서 도장 전처리를 실시하였다.Based on a commercially available cold rolled steel sheet (SPCC-SD, Japan Test Panel Co., Ltd., 70 mm x 150 mm x 0.8 mm), coating pretreatment was performed under the following conditions.
(1) 도장 전처리(1) painting pretreatment
탈지 처리: 2중량% 「서프 클리너-53」(니폰페인트사 탈지제)로 40℃에서 2분간 침지 처리 하였다.Degreasing treatment: It was immersed for 2 minutes at 40 degreeC with 2 weight% "Surf Cleaner-53" (Nippon Paint Co., Ltd. degreaser).
탈지후 수세 처리: 수돗물로 30초간 스프레이 처리하였다.Washing treatment after degreasing: Sprayed with tap water for 30 seconds.
화성 처리: 피막 형성 성분으로서 지르콘 불화수소산, 수지로서 PVAM-0595B (폴리비닐아민 수지: 분자량 70000: 미쓰비시화학사)를 사용하여, 지르코늄 농도 100 ppm, 고형분으로서 수지 농도 100 ppm 의 화성 처리제를 조제했다. pH 는 수산화 나트륨을 사용하여 4 로 조정했다. 화성 처리제의 온도를 40 ℃로 조정하고 기재를 60초 동안 침지 처리하였다. 처리의 초기 단계에서의 피막량은 10 mg/m2이었다.Chemical conversion treatment: A chemical conversion treatment agent having a resin concentration of 100 ppm as a zirconium concentration of 100 ppm and a solid content was prepared using zircon hydrofluoric acid as a film forming component and PVAM-0595B (polyvinylamine resin: molecular weight 70000: Mitsubishi Chemical Corporation) as a resin. pH was adjusted to 4 using sodium hydroxide. The temperature of the chemical conversion treatment agent was adjusted to 40 ° C. and the substrate was immersed for 60 seconds. The amount of coating at the initial stage of treatment was 10 mg / m 2 .
화성후 수세 처리: 수돗물로 30초간 스프레이 처리하였다.다시또, 이온 교환수로 30초간 스프레이 처리하였다.After ignition washing with water: sprayed with tap water for 30 seconds. Again, sprayed with ion-exchanged water for 30 seconds.
건조 처리: 수세 처리후의 냉연 강판을 전기건조로에서 80 ℃에서 5분간 건조하였다. 또한, 피막량은 「XRF 1700」(시마즈제작소, 형광 X선 분석 장치)를 이용하여 화성 처리제에 함유된 금속의 합계량으로서 분석하였다.Drying Treatment: The cold rolled steel sheet after washing with water was dried at 80 ° C. for 5 minutes in an electric drying furnace. In addition, the coating amount was analyzed as the total amount of the metal contained in the chemical conversion treatment agent using "XRF 1700" (Shimazu Corporation, fluorescence X-ray analyzer).
(2) 도장(2) painting
화성 처리제 1L 당 1 m2의 냉간 압연 강판을 처리한 후에 「파워닉스 110」(니폰페인트사, 양이온 전착 도료)를 이용하여 건조 막두께 20㎛ 가 되도록 전착 도장하고, 수세 후 170℃에서 20분간 가열하여 베이크(bake)시켜서 시험판을 제작하였다.After processing a cold rolled steel sheet of 1 m 2 per 1 L of chemical conversion treatment agent, electrodeposition coating was carried out using a `` Powernics 110 '' (Nippon Paint Co., cationic electrodeposition paint) so as to have a dry film thickness of 20 μm, followed by water washing at 170 ° C. for 20 minutes. The test plate was produced by baking by heating.
평가 시험Evaluation test
(슬러지 관찰)(Sludge observation)
화성 처리제 1L 당 1 m2의 냉간 압연 강판을 처리한 후 화성 처리제 중의 탁함을 육안 관찰하였다.After treating a 1 m 2 cold rolled steel sheet per 1 L of chemical conversion agent, the haze in the chemical conversion agent was visually observed.
: 탁하지 않음 : Not cloudy
×: 탁함×: turbidity
(2차 밀착성 시험(SDT))(Second Adhesion Test (SDT))
수득된 시험판에, 밑바닥까지 도달하는 종방향 평행 컷트를 2개 넣은 후,5% NaCl 수용액 중에서 50℃ 에서 480시간 동안 침지시켰다. 그 후, 컷트부를 테이프 박리하여 도료의 박리를 관찰하였다.In the obtained test plate, two longitudinal parallel cuts reaching the bottom were put, and then immersed in a 5% NaCl aqueous solution at 50 ° C. for 480 hours. Then, the cut part was peeled off by tape and the peeling of paint was observed.
◎: 박리 없음◎: no peeling
: 약간 박리됨 : Slightly peeled off
×: 박리폭 3 mm 이상X: Peeling width 3 mm or more
평가 결과는 표 1에 나타낸다.The evaluation results are shown in Table 1.
실시예 2Example 2
수용성 수지로서 PAA-01 (폴리알릴아민 수지: 분자량 1000: 일동방주식회사)를 사용하여 수지 농도를 500 ppm 으로 변경한 것 이외에는 실시예 1과 동일한 방식으로 하여 시험판을 제작했다.A test plate was produced in the same manner as in Example 1 except that the resin concentration was changed to 500 ppm using PAA-01 (polyallylamine resin: molecular weight 1000: Ildong Oriental Co., Ltd.) as the water-soluble resin.
실시예 3Example 3
수용성 수지로서 PAA-10C (폴리알릴아민 수지: 분자량 15000: 일동방주식회사)를 사용한 것 이외에는 실시예 1과 동일한 방식으로 하여 시험판을 제작했다.A test plate was produced in the same manner as in Example 1 except that PAA-10C (polyallylamine resin: molecular weight 15000: Ildong Oriental Co., Ltd.) was used as the water-soluble resin.
실시예 4Example 4
수용성 수지로서 PAA-H-10C (폴리알릴아민 수지: 분자량 60000: 일동방주식회사)를 사용하여 수지 농도를 50 ppm 으로 변경한 것 이외에는 실시예 1과 동일한 방식으로 하여 시험판을 제작했다.A test plate was produced in the same manner as in Example 1 except that the resin concentration was changed to 50 ppm using PAA-H-10C (polyallylamine resin: molecular weight 60000: Ildong Oriental Co., Ltd.) as the water-soluble resin.
실시예 5Example 5
수용성 수지로서 PAA-D11-HC1 (폴리알릴아민 공중합체: 분자량 70000: 일동방주식회사)를 사용하여 수지 농도를 50 ppm 으로 변경한 것 이외에는 실시예 1과 동일한 방식으로 하여 시험판을 제작했다.A test plate was produced in the same manner as in Example 1 except that the resin concentration was changed to 50 ppm using PAA-D11-HC1 (polyallylamine copolymer: molecular weight 70000: Ildong Co., Ltd.) as the water-soluble resin.
실시예 6Example 6
수용성 수지로서 PAA-H-10C 를 사용하여 수지 농도를 5 ppm 으로 변경한 것 이외에는 실시예 1과 동일한 방식으로 하여 시험판을 제작했다.A test plate was produced in the same manner as in Example 1 except that the resin concentration was changed to 5 ppm using PAA-H-10C as the water-soluble resin.
실시예 7Example 7
지르코늄 농도를 500 ppm 로 하고, 수용성 수지로서 PAA-01 을 사용하여 수지 농도를 5000 ppm 으로 변경한 것 이외에는 실시예 1과 동일한 방식으로 하여 시험판을 제작했다.A test plate was produced in the same manner as in Example 1 except that the zirconium concentration was 500 ppm and the resin concentration was changed to 5000 ppm using PAA-01 as the water-soluble resin.
실시예 8Example 8
금속 기재를 아연계 도금 강판 (GA 강판, 일본 테스트패널사, 70mm×180mm×0.8mm)으로 변경한 것 이외에는 실시예 1과 동일한 방식으로 하여 시험판을 제작하였다.A test plate was produced in the same manner as in Example 1 except that the metal substrate was changed to a galvanized steel sheet (GA steel plate, Japanese Test Panel Co., Ltd., 70 mm x 180 mm x 0.8 mm).
실시예 9Example 9
금속 기재를 5000계 알루미늄 (일본 테스트패널사,70mm×180mm×0.8mm)으로 변경한 것 이외에는 실시예 1과 동일한 방식으로 하여 시험판을 제작하였다.A test plate was produced in the same manner as in Example 1 except that the metal substrate was changed to 5000 series aluminum (70 mm × 180 mm × 0.8 mm, Japan Test Panel Co., Ltd.).
실시예 10Example 10
「서프 클리너 53」대신「서프 클리너 EC92」를 이용하여 탈지 처리를 행하고, 지르콘 불화수소산,PAA-10C,질산 아연,시판의 실리카 (닛산화학공업사),화성 반응 촉진제로서 아스코르빈산을 표 1에 나타낸 농도로 배합하고,금속 기재를 건조하지 않고 웨트(습윤) 상태 그대로 도장 공정에 투입한 것 이외에는 실시예 1과 동일한 방식으로 하여 시험판을 제작하였다.질산 아연 및 실리카의 농도는 금속 이온으로서 또는 규소 성분으로서의 농도이다.Instead of "Surf Cleaner 53", degreasing treatment was performed using "Surf Cleaner EC92", zircon hydrofluoric acid, PAA-10C, zinc nitrate, commercial silica (Nissan Chemical), and ascorbic acid as chemical reaction accelerators in Table 1 A test plate was prepared in the same manner as in Example 1, except that the compound was blended in the concentration shown and was put into a coating process without drying the metal substrate in a wet (wet) state. The concentrations of zinc nitrate and silica were used as metal ions or silicon. Concentration as a component.
실시예 11Example 11
지르콘 불화수소산,질산 아연,질산 마그네슘,화성 반응 촉진제로서 브롬산 나트륨을 표 1에 나타낸 농도로 배합하고,pH 를 5.5 로 조정하고 금속 기재를 송풍건조하여 도장 공정에 투입한 것 이외에는 실시예 10과 동일한 방식으로 하여 시험판을 제작하였다.Examples 10 and 10 except that zirconic hydrofluoric acid, zinc nitrate, magnesium nitrate, and sodium bromide were blended in the concentrations shown in Table 1 as pH, the pH was adjusted to 5.5, and the metal substrate was blow-dried to be added to the coating process. In the same manner, a test plate was produced.
비교예 1Comparative Example 1
수용성 수지를 배합하지 않은 것 이외에는 실시예 1과 동일한 방식으로 하여 시험판을 제작하였다.A test plate was produced in the same manner as in Example 1 except that no water-soluble resin was added.
비교예 2Comparative Example 2
지르콘 불화수소산을 배합하지 않은 것 이외에는 실시예 1과 동일한 방식으로 하여 시험판을 제작하였다.A test plate was produced in the same manner as in Example 1 except that no zirconic hydrofluoric acid was added.
비교예 3Comparative Example 3
지르콘 불화수소산,구연산철(III) 암모늄을 표 1에 나타낸 농도로 배합한 것 이외에는 실시예 10과 동일한 방식으로 하여 시험판을 제작하였다.A test plate was prepared in the same manner as in Example 10 except that zirconic hydrofluoric acid and ammonium ferric citrate were blended in the concentrations shown in Table 1.
비교예 4Comparative Example 4
탈지후 수세 처리의 뒤에 서프파인 5N-8M (니폰페인트사)를 이용하여 실온에서 30초간 표면 조정을 행하고, 서프다인 SD-6350 (니폰페인트사, 인산 아연계 화성 처리제)를 이용하여 35℃ 에서 2분간 침지 처리를 행함으로써 화성 처리를 실시한 것 이외에는 실시예 1와 동일한 방식으로 하여 시험판을 수득했다.After degreasing, washing with water was carried out for 30 seconds at room temperature using surfpine 5N-8M (Nippon Paint Co., Ltd.), and at 35 ° C using Surfdyne SD-6350 (Nippon Paint Co., zinc phosphate chemical treatment agent). A test plate was obtained in the same manner as in Example 1 except that the chemical conversion treatment was performed by performing the dipping treatment for 2 minutes.
[표 1]TABLE 1
표 1 로부터,본 발명의 화성 처리제 중에 슬러지가 발생하지 않는 것을 확인할 수 있다. 더 나아가,본 발명의 화성 처리제는 모든 금속 기재에 있어서,양호한 도막 밀착성을 갖는 화성 피막을 형성하는 것으로 나타났다.한편,비교예에 있어서는,슬러지의 발생을 억제하고 또한 양이온 전착 도막과의 밀착성도 뛰어난화성 피막을 얻을 수가 없었다.From Table 1, it can confirm that sludge does not generate | occur | produce in the chemical conversion treatment agent of this invention. Furthermore, the chemical conversion treatment agent of the present invention has been shown to form a chemical conversion film having good coating film adhesion on all metal substrates. On the other hand, in the comparative example, it suppresses the generation of sludge and also has excellent adhesion to the cationic electrodeposition coating film. Martian film could not be obtained.
본 발명의 화성 처리제는 크롬,바나듐 등의 유해한 중금속 화합물이나 인산염 화합물을 실질적으로 사용하지 않는 것이기 때문에,환경에 대한 부담이 적고,슬러지도 발생하지 않는다.또한,철계 기재,알루미늄계 기재 및 아연계 기재의 모든 소재에 대하여 양호한 처리를 할 수 있고,피막으로서의 안정성 및 도막 밀착성이 우수한 화성 피막을 형성할 수 있다.또,자동차 차체나 부품 등과 같이,철계 기재,알루미늄계 기재 및 아연 기재 등의 각종 기재로 이루어진 피처리물에 대하여 표면 처리를 할 수 있다는 점에서도 뛰어나다.Since the chemical conversion treatment agent of the present invention is substantially free of harmful heavy metal compounds such as chromium and vanadium or phosphate compounds, it is less burdensome to the environment and does not generate sludge. Iron-based substrates, aluminum-based substrates and zinc-based compounds All materials of the base material can be treated well, and a chemical film having excellent stability and coating film adhesion can be formed. In addition, such as automobile bodies and parts, various kinds of iron-based, aluminum-based and zinc-based substrates, etc. It is also excellent in that it can surface-treat the to-be-processed object consisting of a base material.
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