KR20020056409A - Cleaning Device - Google Patents
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Abstract
본 발명은 롤 브러시에 순수를 공급받아 방출할 수 있는 내부 공간과 다수의 동공을 구비함으로써 공정을 단순화시키고 세정력을 증대시키는 세정 장치에 관한 것으로서, 특히 롤 브러시를 구비한 세정장치에 있어서, 상기 롤 브러시는 다수의 동공을 가지는 브러시 유닛과, 상기 브러시 유닛에 연결되어 세정수를 공급하는 공급관을 포함하여 구성되는 것을 특징으로 한다.The present invention relates to a cleaning apparatus for simplifying a process and increasing cleaning power by providing a plurality of pupils and an internal space capable of supplying and discharging pure water to a roll brush. Particularly, in a cleaning apparatus having a roll brush, the roll The brush is characterized in that it comprises a brush unit having a plurality of pupils, and a supply pipe connected to the brush unit to supply the washing water.
Description
본 발명은 세정장치에 관한 것으로, 특히 롤 브러시에 순수를 공급받아 방출할 수 있는 내부 공간과 다수의 동공을 구비함으로써 공정을 단순화시키고 세정력을 증대시키는 세정 장치에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a cleaning apparatus, and more particularly, to a cleaning apparatus that simplifies the process and increases cleaning power by having a plurality of pupils and an inner space capable of supplying and discharging pure water to a roll brush.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 종래 기술에 따른 세정 장치를 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, a cleaning apparatus according to the prior art will be described with reference to the accompanying drawings.
도 1은 종래 기술에 의한 세정장치의 구성도이고, 도 2는 종래 기술에 의한 롤 브러시의 측면도이다.1 is a block diagram of a cleaning apparatus according to the prior art, Figure 2 is a side view of a roll brush according to the prior art.
도 1 및 도 2를 참고하여 종래 기술에 의한 세정장치를 살펴보면, 세정할 기판(1)의 상,하측에 적어도 하나 이상 설치된 롤 브러시(2)와, 상기 롤 브러시(2)에 연결되어 상기 롤 브러시(2)를 회전하도록 구동시키는 구동모터(미도시)와, 상기 기판(1) 상,하부 측에 각각 위치하여 상기 기판(1)을 향해 세정수를 분사시키는 파이프 샤워(3)와, 상기 기판(1)을 로딩부(Loader)에서 언로딩부(Unloader)까지 정지하지 않고 계속 이동시키는 롤러(4)로 구성된다.Referring to FIGS. 1 and 2, a cleaning apparatus according to the prior art includes at least one roll brush 2 installed on upper and lower sides of a substrate 1 to be cleaned, and the roll brush 2 connected to the roll brush 2. A drive motor (not shown) for driving the brush 2 to rotate, a pipe shower 3 positioned above and below the substrate 1 to spray washing water toward the substrate 1, and the It consists of the roller 4 which keeps moving the board | substrate 1 from a loading part Loader to an unloader, without stopping.
이 때, 상기 세정 장치에 의해 세정되는 기판은 액정표시소자의 기판, 반도체 기판 등 불문한다.At this time, the board | substrate wash | cleaned by the said washing | cleaning apparatus is irrespective of the board | substrate of a liquid crystal display element, a semiconductor substrate, etc ..
그리고, 상기 롤 브러시(2)는 도 2에 도시된 바와 같이 그 표면에 수많은 포털(5)을 가지고 있어서, 기판의 오염 물질을 제거한다.The roll brush 2 has a number of portals 5 on its surface, as shown in Fig. 2, to remove contaminants from the substrate.
하지만, 롤 브러시의 고속 회전시 포털과 포털 사이 간격이 넓어져서 장기 사용시 오염 입자의 제거능력이 떨어지고, 포털이 서로 뭉쳐져 기판 전면에 대한 균일한 세정을 얻기가 힘들다.However, when the roll brush rotates at high speed, the gap between the portal and the portal is widened, so that the removal ability of contaminant particles is reduced during long-term use.
상기와 같이 구성된 세정장치는 상기 기판(1)이 이동하는 방향과 반대 방향 또는 같은 방향으로 상기 롤 브러시(2)를 회전시켜 그 상호 회전력에 의해 세정이이루어지도록 한다.The cleaning apparatus configured as described above rotates the roll brush 2 in the direction opposite to or in the same direction as the substrate 1 moves so that cleaning is performed by the mutual rotational force.
또한, 상기 파이프 샤워(3)에서는 상기 롤 브러시(2)의 오염을 제거하고, 제거된 오염 입자의 비산을 방지하고, 상기 기판(1) 상에 남아있는 유기오염을 제거하고 또한, 기판과 롤 브러시와의 계면 마찰을 줄일 수 있도록 하기 위해 순수를 분사한다.In addition, in the pipe shower (3) to remove the contamination of the roll brush (2), to prevent the scattering of the contaminated particles removed, to remove the organic pollution remaining on the substrate (1), and also to the substrate and the roll Pure water is sprayed to reduce interfacial friction with the brush.
이때, 상기 기판(1)의 표면에 존재하는 오염의 제거정도는 상기 롤 브러시(2)의 회전력, 상기 기판(1)과 롤 브러시(2)의 밀착력, 상기 기판(1)의 이동속도, 상기 롤 브러시(2)의 표결상태 등에 의해서 결정된다.In this case, the degree of removal of contamination present on the surface of the substrate 1 may include the rotational force of the roll brush 2, the adhesion force between the substrate 1 and the roll brush 2, the moving speed of the substrate 1, and the It is determined by the vote state of the roll brush 2, and the like.
특히, 상기 롤 브러시(2)의 표결상태는 시간이 지남에 따라 변하게 되는데, 기판과 접촉되는 롤 브러시의 표결이 도 3에 도시된 바와 같이 한쪽 방향으로 치우치게 되어 오염 제거능력이 떨어진다.In particular, the voting state of the roll brush 2 is changed over time, the voting of the roll brush in contact with the substrate is biased in one direction as shown in Fig. 3, so that the decontamination ability.
그러나, 상기와 같은 종래의 세정 장치는 다음과 같은 문제점이 있다.However, the above conventional cleaning apparatus has the following problems.
첫째, 롤 브러시의 고속 회전시 포털과 포털 사이 간격이 넓어져서 장기 사용시 오염 입자의 제거능력이 떨어진다.First, the gap between the portal and the portal is widened during the high speed rotation of the roll brush, so that the ability to remove contaminants in the long term is reduced.
둘째, 노즐을 통해 순수 또는 세정액을 기판에 분사시킨후, 롤 브러시를 이용하여 오염 물질을 제거하는데. 이 때 상기 순수 또는 세정액에 의해 롤 브러시의 포털이 서로 뭉쳐져 기판의 전표면에 대한 균일한 세정이 불가능하게 된다.Second, spraying pure water or cleaning liquid onto the substrate through the nozzle and then removing the contaminants using a roll brush. At this time, the portals of the roll brush are agglomerated with each other by the pure water or the cleaning liquid, thereby making it impossible to uniformly clean the entire surface of the substrate.
본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위하여 안출한 것으로, 롤 브러시에 순수를 공급받아 방출할 수 있는 내부 공간과 다수의 동공을 구비함으로써 공정을 단순화시키고 세정력을 증대시키는 세정 장치를 제공하는데 그 목적이 있다.The present invention has been made to solve the above problems, and to provide a cleaning device to simplify the process and increase the cleaning power by having a plurality of pupils and the inner space that can be supplied and discharged pure water to the roll brush. There is this.
도 1은 종래 기술에 의한 세정장치의 구성도.1 is a block diagram of a cleaning apparatus according to the prior art.
도 2는 종래 기술에 의한 롤 브러시의 측면도.2 is a side view of a roll brush according to the prior art.
도 3은 본 발명에 의한 세정장치의 구성도.3 is a block diagram of a cleaning device according to the present invention.
도 4는 본 발명에 의한 롤 브러시의 측면도.4 is a side view of a roll brush according to the present invention;
도 5는 본 발명의 제 1 실시예에 의한 롤 브러시의 단면도.5 is a cross-sectional view of a roll brush according to a first embodiment of the present invention.
도 6은 본 발명의 제 2 실시예에 의한 롤 브러시의 단면도.6 is a cross-sectional view of a roll brush according to a second embodiment of the present invention.
*도면의 주요 부분에 대한 부호설명* Explanation of symbols on the main parts of the drawings
11 : 기판 12 : 롤 브러시11: substrate 12: roll brush
13 : 공급관 14 : 롤러13: supply pipe 14: roller
15 : 포털 16 : 동공15: portal 16: pupil
17 : 브러시 유닛 18 : 캐비테이션 유닛17 brush unit 18 cavitation unit
상기와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명의 세정 장치는 롤 브러시를 구비한 세정장치에 있어서, 상기 롤 브러시는 다수의 동공을 가지는 브러시 유닛과, 상기 브러시 유닛에 연결되어 세정수를 공급하는 공급관을 포함하여 구성되는 것을 특징으로 한다.The cleaning device of the present invention for achieving the above object is a cleaning device having a roll brush, the roll brush is a brush unit having a plurality of pupils, and a supply pipe connected to the brush unit to supply the washing water Characterized in that it comprises a.
즉, 본 발명에 의한 세정 장치는 롤 브러시 내부에 순수를 공급받아 방출할 수 있는 공간을 형성하여 별도로 파이프 샤워를 설치하지 않는 것을 특징으로 한다.That is, the cleaning apparatus according to the present invention is characterized in that the pipe shower is not separately installed by forming a space in which the pure water is supplied and discharged inside the roll brush.
특히, 상기 롤 브러시는 물리적 힘에 의해서만 오염 물질을 제거했던 종래와 달리, 다수의 미세한 동공을 가지는 롤 브러시를 회전시키면서 세정수를 방출하므로 오염 입자 제거능력이 향상되고 포털이 서로 뭉치지 않게 된다.Particularly, unlike the conventional brush which removes contaminants only by physical force, the roll brush discharges washing water while rotating a roll brush having a plurality of fine pores, thereby improving the ability to remove contaminants and not allowing the portals to stick together.
이 때, 공급관을 통해 공급되는 세정수가 채워지는 공간은 따로 형성함 없이 롤 브러시의 내부 공간을 이용하거나 또는, 롤 브러시의 내부에 캐비테이션 제트 유닛(Cavitation Jet Unit)을 따로 장착함으로써 형성한다.At this time, the space filled with the washing water supplied through the supply pipe is formed by using an inner space of the roll brush without separately forming or by separately mounting a cavitation jet unit inside the roll brush.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예에 의한 세정 장치를 상세히 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, a cleaning apparatus according to an embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
도 3은 본 발명에 의한 세정장치의 구성도이고, 도 4는 본 발명에 의한 롤 브러시의 측면도이다.3 is a block diagram of a cleaning apparatus according to the present invention, Figure 4 is a side view of a roll brush according to the present invention.
도 5는 본 발명의 제 1 실시예에 의한 롤 브러시의 단면도이고, 도 6은 본발명의 제 2 실시예에 의한 롤 브러시의 단면도이다.5 is a cross-sectional view of a roll brush according to a first embodiment of the present invention, Figure 6 is a cross-sectional view of a roll brush according to a second embodiment of the present invention.
제 1 실시예First embodiment
도 3 및 도 4를 참고하여 본 발명의 제 1 실시예에 의한 세정장치를 살펴보면, 세정할 기판(11)의 상,하측에 적어도 하나 이상 설치되어 다수의 동공을 가지는 롤 브러시(12)와, 상기 롤 브러시(12)에 연결되어 상기 롤 브러시(12)를 회전시켜 주는 구동모터(미도시)와, 상기 롤 브러시(12)와 연결되어 상기 롤 브러시에 세정수를 공급해 주는 공급관(13)과, 상기 기판(11)을 로딩부(Loader)에서 언로딩부(Unloader)까지 정지하지 않고 계속 이동시키는 롤러(14)로 구성된다.3 and 4, the cleaning apparatus according to the first embodiment of the present invention, at least one or more installed on the upper and lower sides of the substrate 11 to be cleaned and a roll brush 12 having a plurality of pupils, A drive motor (not shown) connected to the roll brush 12 to rotate the roll brush 12, a supply pipe 13 connected to the roll brush 12 to supply washing water to the roll brush; The roller 11 is configured to continuously move the substrate 11 without stopping from the loader to the unloader.
특히, 상기 롤 브러시(12)는 도 5에서와 같이 공급관(13)으로부터 공급되는 세정수를 채울 수 있는 빈 공간을 가지며 표면에 다수개의 공동(16)과 포털(15)을 가진다.In particular, the roll brush 12 has an empty space for filling the washing water supplied from the supply pipe 13 as shown in FIG. 5 and has a plurality of cavities 16 and portals 15 on the surface.
이 때, 세정 장치에 의해 세정되는 상기 기판(11)은 액정표시소자의 기판, 반도체 기판 등 그 종류를 불문한다.At this time, the substrate 11 cleaned by the cleaning device may be any type, such as a substrate of a liquid crystal display element, a semiconductor substrate, or the like.
그리고, 상기 기판(11)의 상면과 롤 브러시(roll brush)(12)는 서로 밀착되도록 설치되어 상기 롤 브러시가 회전할 때, 상기 기판(11) 상의 오염이 제거되도록 한다.In addition, the top surface of the substrate 11 and the roll brush 12 are installed to be in close contact with each other so that the contamination on the substrate 11 is removed when the roll brush is rotated.
특히, 상기 롤 브러시(12)가 회전할 때, 공급관(13)에 의해 공급된 세정수가 상기 롤 브러시(12)에 다수개 형성된 동공(16)으로 동시에 방출된다.In particular, when the roll brush 12 is rotated, the washing water supplied by the supply pipe 13 is simultaneously discharged to the plurality of pupils 16 formed in the roll brush 12.
이 때, 상기 롤 브러시(12)의 회전력을 크게 하거나, 세정수를 공급하는 공급관의 수압을 높이거나, 동공의 크기의 작게 하여 그 수를 많게 하면 세정력이 크게 증대된다.At this time, if the rotational force of the roll brush 12 is increased, the water pressure of the supply pipe for supplying the washing water is increased, or the number of the pupils is increased to increase the number thereof, the washing power is greatly increased.
또한, 동공에 의해 물이 방출되므로 그 사이에 형성된 포털이 뭉치는 것도 방지할 수 있다.In addition, since water is released by the pupil, the portals formed therebetween can also be prevented from agglomeration.
따라서, 롤 브러시 자체의 오염 입자 제거 능력이 향상되고 수명이 길어진다.Therefore, the dirt removal ability of the roll brush itself is improved and its life is long.
제 2 실시예Second embodiment
본 발명의 제 2 실시예에 의한 세정장치를 살펴보면, 세정할 기판의 상,하측에 적어도 하나 이상 설치되어 다수의 동공을 가지는 롤 브러시와, 상기 롤 브러시에 연결되어 상기 롤 브러시를 회전시켜 주는 구동모터와, 상기 롤 브러시와 연결되어 상기 롤 브러시에 세정수를 공급해 주는 공급관과, 상기 기판을 로딩부(Loader)에서 언로딩부(Unloader)까지 정지하지 않고 계속 이동시키는 롤러로 구성된다.Looking at the cleaning apparatus according to a second embodiment of the present invention, at least one of the roll brush having a plurality of pupils installed on the upper and lower sides of the substrate to be cleaned, and a drive connected to the roll brush to rotate the roll brush It is composed of a motor, a supply pipe connected to the roll brush to supply the washing water to the roll brush, and a roller that continuously moves the substrate without stopping from the loader to the unloader.
특히, 상기 롤 브러시(12)는 도 6에 도시된 바와 같이 공급관(13)으로부터 공급되는 세정수를 채울 수 있는 빈 공간을 가지는 캐비테이션 유닛(18)과, 회전하면서 포털(15)을 이용하여 기판의 오염을 제거하는 브러시 유닛(17)으로 구성된다.In particular, the roll brush 12 has a cavitation unit 18 having an empty space for filling the washing water supplied from the supply pipe 13, as shown in FIG. 6, and the substrate using the portal 15 while rotating. It consists of a brush unit 17 to remove the contamination.
이 때, 상기 캐비테이션 유닛(18)과 브러시 유닛(17)은 상기 공급관(13)에 의해 공급된 세정수가 방출될 수 있도록 다수개의 미세한 동공(16)을 가진다.At this time, the cavitation unit 18 and the brush unit 17 have a plurality of fine pores 16 so that the washing water supplied by the supply pipe 13 can be discharged.
상기 캐비테이션 유닛(18)과 브러시 유닛(17)의 동공(16)은 위치가 서로 일치하지 않아도 된다.The cavity 16 of the cavitation unit 18 and the brush unit 17 does not have to coincide with each other in position.
또한, 세정을 위해 상기 브러시 유닛(17)이 회전할 때, 상기 캐비테이션 유닛(18)은 회전하여도 되고 회전하지 않아도 되는데, 회전시 그 방향은 상기 브러시 유닛(17)과의 회전 방향과 서로 무관하다.In addition, when the brush unit 17 rotates for cleaning, the cavitation unit 18 may or may not rotate, and the direction of rotation is independent of the direction of rotation with the brush unit 17. Do.
이와 같이 형성된 세정장치는 기판(11)의 상면과 롤 브러시(roll brush)(12)가 서로 밀착되도록 설치되어 상기 롤 브러시가 회전할 때, 상기 기판(11) 상의 오염이 제거되도록 하는데, 상기 롤 브러시 회전시, 공급관(13)에 의해 공급된 세정수가 캐비테이션 유닛(18)과 브러시 유닛(17)의 동공(16)으로 동시에 방출되어 마찰을 감소시키고 잔여 오염 물질을 제거한다.The cleaning apparatus formed as described above is installed such that the upper surface of the substrate 11 and the roll brush 12 closely adhere to each other so that the contamination on the substrate 11 is removed when the roll brush is rotated. At the time of brush rotation, the washing water supplied by the supply pipe 13 is simultaneously released into the cavity 16 of the cavitation unit 18 and the brush unit 17 to reduce friction and remove residual contaminants.
이 때, 상기 브러시 유닛(17)의 회전력 또는 캐비테이션 유닛(18)의 회전력을 크게 하거나, 세정수를 공급하는 공급관의 수압을 높이거나, 동공의 크기의 작게 하여 그 수를 많게 하면 세정력이 크게 증대된다.At this time, when the rotational force of the brush unit 17 or the rotational force of the cavitation unit 18 is increased, the water pressure of the supply pipe for supplying the washing water is increased, or the size of the pupil is increased to increase the number thereof, the washing force is greatly increased. do.
또한, 동공에 의해 물이 방출되므로 그 사이에 형성된 포털이 서로 뭉치지 않으며, 롤 브러시 자체의 세정이 간단해진다.In addition, since water is released by the pupils, the portals formed therebetween do not stick together, and the cleaning of the roll brush itself is simplified.
상기에서와 같이 형성된 세정장치는 액정표시소자의 기판, 반도체 기판 등 다양한 기판을 세정할 수 있다.The cleaning apparatus formed as described above may clean various substrates such as a substrate of a liquid crystal display device, a semiconductor substrate, and the like.
상기와 같은 본 발명의 세정 장치는 다음과 같은 효과가 있다.The cleaning device of the present invention as described above has the following effects.
첫째, 물리적 힘에 의해서만 오염 물질을 제거했던 종래의 롤 브러시와 달리, 동공을 가진 롤 브러시를 이용함으로써 기포를 형성하여 오염 입자 제거 능력을 향상시킨다.First, unlike the conventional roll brush which removed the contaminants only by physical force, the use of the roll brush with the pupil forms bubbles to improve the ability to remove contaminants.
둘째, 롤 브러시의 동공으로 방출되는 공급수에 의해 브러시 표면의 포털이서로 뭉치지 않게 되어 오염 제거능력이 향상되고 세정 불량이 감소한다.Secondly, the portal water on the brush surface does not clump together by the feed water discharged into the pupil of the roll brush, thereby improving the decontamination ability and reducing the cleaning failure.
셋째, 롤 브러시 내부에 캐비테이션 제트 유닛(Cavitation Jet Unit)을 장착함으로써 세정력이 현저히 증대된다.Third, the cleaning power is remarkably increased by mounting a cavitation jet unit inside the roll brush.
넷째, 롤 브러시 내부에 세정수 공급관를 연결시킴으로써 별도로 파이프 샤워를 설치하지 않아도 되므로 세정 장치의 면적을 최소화할 수 있다.Fourth, it is possible to minimize the area of the cleaning device because it is not necessary to install a separate pipe shower by connecting the cleaning water supply pipe inside the roll brush.
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