KR20020047876A - Semiconductor memory device - Google Patents
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Abstract
Description
본 발명은 반도체 메모리 장치에 관한 것으로, 특히 컴파일러(compiler)에 의해서 주문자의 요구에 따라 다양한 크기로 설계되는 가능한 반도체 메모리 장치에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to semiconductor memory devices, and more particularly, to a semiconductor memory device capable of being designed in various sizes by a compiler according to a request of an orderer.
컴파일드 마크로 정적 반도체 메모리 장치(Compiled macro static semiconductor memory device)는 컴파일러의 프로그램에 의해서 주문자의 요구에따라 다양한 크기의 장치로 설계된다.The compiled macro static semiconductor memory device is designed as a device of various sizes according to a request of an orderer by a program of a compiler.
그런데, 종래의 컴파일드 마크로 정적 반도체 메모리 장치는 장치의 크기가 변화하는 경우에 프리차지 인에이블 신호 및 라이트 인에이블 신호 라인의 라인 부하 캐패시턴스도 변화하게 된다. 그러나, 컴파일러는 이들 라인 부하 캐패시턴스에 의한 영향을 고려하지 않고 반도체 메모리 장치를 설계하게 된다.However, in the conventional compiled macro static semiconductor memory device, when the size of the device changes, the line load capacitance of the precharge enable signal and the write enable signal line also changes. However, compilers design semiconductor memory devices without considering the effects of these line load capacitances.
따라서, 종래의 컴파일드 마크로 정적 반도체 메모리 장치는 이들 제어신호들의 타이밍이 정확하게 발생되어야 하는데, 이들 신호 라인들의 부하 캐패시턴스가 장치의 크기에 따라 달라지기 때문에 이들 제어신호들의 발생 타이밍이 정확하지 않다는 문제점이 있었다.Therefore, in the conventional compiled macro static semiconductor memory device, the timing of these control signals must be generated accurately, and the problem that the timing of generation of these control signals is not accurate because the load capacitance of these signal lines varies with the size of the device. there was.
본 발명의 목적은 장치의 크기가 변화하더라도 프리차지 인에이블 신호 및 라이트 인에이블 신호가 정확하게 발생될 수 있는 반도체 메모리 장치를 제공하는데 있다.It is an object of the present invention to provide a semiconductor memory device in which a precharge enable signal and a write enable signal can be accurately generated even if the size of the device changes.
이와같은 목적을 달성하기 위한 본 발명의 반도체 메모리 장치는 복수개의 워드 라인들과 복수개의 비트 라인쌍들 각각의 사이에 연결된 복수개의 메모리 셀들을 구비한 메모리 셀 어레이, 복수개의 프리차지 제어신호들 각각에 응답하여 상기 복수개의 비트 라인쌍들을 프리차지하고, 복수개의 라이트 제어신호들 각각에 응답하여 소정 개수의 데이터 라인쌍으로부터 상기 복수개의 비트 라인쌍들로 데이터를 전송하기 위한 복수개의 프리차지 및 컬럼 선택 게이트 수단들, 및 프리차지 인에이블 신호에 응답하여 상기 복수개의 프리차지 제어신호들 각각을 발생하고,상기 프리차지 인에이블 신호 및 라이트 인에이블 신호에 응답하여 상기 복수개의 라이트 제어신호들 각각을 발생하기 위한 복수개의 제어수단들을 구비하는 것을 특징으로 한다.The semiconductor memory device of the present invention for achieving the above object is a memory cell array having a plurality of memory cells connected between each of a plurality of word lines and a plurality of bit line pairs, each of a plurality of precharge control signals Precharging the plurality of bit line pairs in response to the plurality of bit lines, and selecting a plurality of precharges and columns for transferring data from a predetermined number of data line pairs to the plurality of bit line pairs in response to each of the plurality of write control signals. Gate means, and generate each of the plurality of precharge control signals in response to a precharge enable signal, and generate each of the plurality of write control signals in response to the precharge enable signal and the write enable signal. It characterized in that it comprises a plurality of control means for.
도1은 종래의 반도체 메모리 장치의 구성을 나타내는 블록도이다.1 is a block diagram showing the structure of a conventional semiconductor memory device.
도2는 도1에 나타낸 메모리 셀의 실시예의 회로도이다.FIG. 2 is a circuit diagram of an embodiment of the memory cell shown in FIG.
도3은 종래의 프리차지 & 컬럼 선택 게이트와 제어회로의 실시예의 회로도이다.Figure 3 is a circuit diagram of an embodiment of a conventional precharge & column select gate and control circuit.
도4는 도3에 나타낸 제어회로의 동작을 설명하기 위한 동작 타이밍도이다.4 is an operation timing diagram for explaining the operation of the control circuit shown in FIG.
도5는 본 발명의 프리차지 & 컬럼 선택 게이트와 제어회로의 실시예의 회로도이다.Figure 5 is a circuit diagram of an embodiment of the precharge & column select gate and control circuit of the present invention.
도6은 도5에 나타낸 제어회로의 동작을 설명하기 위한 동작 타이밍도이다.FIG. 6 is an operation timing diagram for explaining the operation of the control circuit shown in FIG.
이하, 첨부한 도면을 참고로 하여 본 발명의 반도체 메모리 장치를 설명하기 전에 종래의 반도체 메모리 장치를 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, a conventional semiconductor memory device will be described with reference to the accompanying drawings before describing the semiconductor memory device of the present invention.
도1은 종래의 반도체 메모리 장치의 구성을 나타내는 블록도로서, 메모리 셀 어레이(10), 로우 어드레스 디코더(12), 컬럼 어드레스 디코더(14), 라이트 드라이버(16), 제어신호 발생회로(18), 제어회로들(20-1, 20-2, ..., 20-m), 및 프리차지 & 컬럼 선택 게이트들(22-1, 22-2, ..., 22-m)로 구성되어 있다.1 is a block diagram showing the structure of a conventional semiconductor memory device, which includes a memory cell array 10, a row address decoder 12, a column address decoder 14, a write driver 16, and a control signal generation circuit 18. As shown in FIG. , Control circuits 20-1, 20-2, ..., 20-m, and precharge & column select gates 22-1, 22-2, ..., 22-m. have.
메모리 셀 어레이(10)는 워드 라인들(WL1, WL2, ..., WLn)과 비트 라인쌍들((BL1, BL1B), (BL2, BL2B), ..., (BLm, BLmB)) 각각의 사이에 연결된 복수개의 메모리 셀들(MC)로 구성되어 있다.The memory cell array 10 has word lines WL1, WL2, ..., WLn and bit line pairs (BL1, BL1B), (BL2, BL2B), ..., (BLm, BLmB), respectively. It is composed of a plurality of memory cells (MC) connected between.
도1에 나타낸 블록들 각각의 기능을 설명하면 다음과 같다.The function of each of the blocks shown in FIG. 1 will be described below.
메모리 셀 어레이(10)는 워드 라인들(WL1, WL2, ..., WLn) 각각으로부터 인가되는 신호에 응답하여 비트 라인쌍들((BL1, BL1B), (BL2, BL2B), ..., (BLm, BLmB))과의 사이에 데이터를 전송한다. 로우 어드레스 디코더(12)는 로우 어드레스(Xi)를 디코딩하여 워드 라인들(WL1, WL2, ..., WLn)을 선택하기 위한 신호들을 발생한다. 컬럼 어드레스 디코더(14)는 컬럼 어드레스(Yj)를 디코딩하여 컬럼 선택 신호들(y1, y2, ..., ym)을 발생한다. 라이트 드라이버(16)는 데이터(Din)를 구동하여 데이터 라인쌍(DL, DLB)으로 전송한다. 제어신호 발생회로(18)는 클럭신호(CLK)와 라이트 인에이블 신호(WE)를 입력하여 프리차지 인에이블 신호(S1)와 라이트 인에이블 신호(S3)를 발생한다. 제어회로들(20-1, 20-2, ..., 20-m) 각각은 프리차지 인에이블 신호(S1)에 응답하여 신호들(S21, S22, ..., S2m)을 발생하고, 라이트 인에이블 신호(WE)와 컬럼 선택 신호들(y1, y2, ..., ym) 각각을 조합한 신호들 각각에 응답하여 신호들(S41, S42, ..., S4m)을 발생한다. 프리차지 & 컬럼 선택 게이트들(22-1, 22-2, ..., 22-m) 각각은 신호들(S21, S22, ..., S2m) 각각에 응답하여 비트 라인쌍들((BL1, BL1B), (BL2, BL2B), ..., (BLm, BLmB))을 프리차지하고, 신호들(S41, S42, ..., S4m) 각각에 응답하여 데이터 라인쌍(DL, DLB)의 데이터를 비트 라인쌍들((BL1, BL1B), (BL2, BL2B), ..., (BLm, BLmB))로 전송한다. 도1에 나타낸 블록도는 데이터 라이트 통로만을 나타낸 것으로, 데이터 리드 통로는 별도로 존재한다.The memory cell array 10 responds to a signal applied from each of the word lines WL1, WL2, ..., WLn, and the bit line pairs (BL1, BL1B), (BL2, BL2B), ..., (BLm, BLmB)) to transfer data. The row address decoder 12 decodes the row address Xi to generate signals for selecting word lines WL1, WL2,..., WLn. The column address decoder 14 decodes the column address Yj to generate column selection signals y1, y2, ..., ym. The write driver 16 drives the data Din and transmits the data to the data line pair DL and DLB. The control signal generation circuit 18 inputs the clock signal CLK and the write enable signal WE to generate the precharge enable signal S1 and the write enable signal S3. Each of the control circuits 20-1, 20-2, ..., 20-m generates signals S21, S22, ..., S2m in response to the precharge enable signal S1, Signals S41, S42, ..., S4m are generated in response to each of the combination of the write enable signal WE and the column select signals y1, y2, ..., ym. Each of the precharge & column select gates 22-1, 22-2,..., 22-m is in response to each of the signals S21, S22,..., S2m. , BL1B), (BL2, BL2B), ..., (BLm, BLmB)) and pre-charge the data line pair DL, DLB in response to each of the signals S41, S42, ..., S4m. Data is transmitted to bit line pairs (BL1, BL1B), (BL2, BL2B), ..., (BLm, BLmB). The block diagram shown in Fig. 1 shows only the data write path, and the data read path exists separately.
도2는 도1에 나타낸 메모리 셀의 실시예의 구성을 나타내는 회로도로서, NMOS트랜지스터들(N1, N2), 및 인버터들(I1, I2)로 구성된 래치(LA)로 구성되어 있다.FIG. 2 is a circuit diagram showing the configuration of the embodiment of the memory cell shown in FIG. 1, and is comprised of a latch LA composed of NMOS transistors N1 and N2 and inverters I1 and I2.
도2에 나타낸 메모리 셀(MC)은 워드 라인(WL1)과 비트 라인쌍(BL1, BL1B)사이에 연결된 셀을 나타내는 것이다.The memory cell MC shown in FIG. 2 represents a cell connected between the word line WL1 and the bit line pair BL1 and BL1B.
도2에 나타낸 회로의 동작을 설명하면 다음과 같다.The operation of the circuit shown in Fig. 2 is as follows.
워드 라인(WL1)이 선택되면 NMOS트랜지스터들(N1, N2)이 온되어 비트 라인쌍(BL1, BL1B)과 래치(LA)사이에 데이터가 전송된다. 래치(LA)는 NMOS트랜지스터들(N1, N2)을 통하여 전송되는 데이터를 반전하고 래치한다.When the word line WL1 is selected, the NMOS transistors N1 and N2 are turned on to transfer data between the bit line pairs BL1 and BL1B and the latch LA. The latch LA inverts and latches data transmitted through the NMOS transistors N1 and N2.
도3은 도1에 나타낸 프리차지 & 컬럼 선택 게이트 및 제어회로의 실시예의 회로도로서, PMOS트랜지스터들(P1, P2, P3), NMOS트랜지스터들(N3, N4), 인버터들(I3, I4, I5), 및 NAND게이트(NA)로 구성되어 있다.FIG. 3 is a circuit diagram of an embodiment of the precharge & column select gate and control circuit shown in FIG. 1, with PMOS transistors P1, P2, P3, NMOS transistors N3, N4, inverters I3, I4, I5. ) And a NAND gate (NA).
도3에 나타낸 회로의 동작을 설명하면 다음과 같다.The operation of the circuit shown in Fig. 3 is as follows.
PMOS트랜지스터들(P1, P2, P3)은 프리차지 및 등화 회로로서, "로우"레벨의 신호(S21)에 응답하여 비트 라인쌍(BL1, BL1B)을 프리차지 및 등화한다. NMOS트랜지스터들(N3, N4)은 "하이"레벨의 신호(S41)에 응답하여 데이터 라인쌍(DL, DLB)의 데이터를 비트 라인쌍(BL1, BL1B)으로 전송한다.The PMOS transistors P1, P2, and P3 are precharge and equalization circuits, which precharge and equalize the bit line pairs BL1 and BL1B in response to the signal " low " level S21. The NMOS transistors N3 and N4 transfer data of the data line pair DL and DLB to the bit line pair BL1 and BL1B in response to the signal “S” of the “high” level.
인버터들(I3, I4)은 프리차지 인에이블 신호(S1)를 지연하여 신호(S21)을 발생한다. NAND게이트(NA1)와 인버터(I5)는 라이트 인에이블 신호(S3)와 컬럼 선택신호(y1)를 논리곱하여 신호(S41)을 발생한다.The inverters I3 and I4 delay the precharge enable signal S1 to generate the signal S21. The NAND gate NA1 and the inverter I5 multiply the write enable signal S3 and the column select signal y1 to generate a signal S41.
그런데, 이때 발생되는 신호(S21)의 "하이"레벨 구간내에서 신호(S41)가 "하이"레벨을 유지해야만 라이트 동작이 정확하게 수행될 수 있다.However, the write operation may be performed correctly only when the signal S41 maintains the “high” level within the “high” level section of the signal S21 generated at this time.
도4는 도3에 나타낸 제어회로의 동작을 설명하기 위한 동작 타이밍도로서, 도4를 이용하여 도3에 나타낸 회로의 동작을 설명하면 다음과 같다.FIG. 4 is an operation timing diagram for describing the operation of the control circuit shown in FIG. 3. The operation of the circuit shown in FIG. 3 will be described below with reference to FIG. 4.
제어신호 발생회로(18)는 클럭신호(CLK) 및 미도시된 라이트 인에이블 신호(WE)에 응답하여 프리차지 인에이블 신호(S1)와 라이트 인에이블 신호(S3)를 발생한다. 그리고, 프리차지 인에이블 신호(S1)에 응답하여 신호(S21)가 발생되고, 라이트 인에이블 신호(S3)에 응답하여 신호(S41)가 발생된다.The control signal generation circuit 18 generates the precharge enable signal S1 and the write enable signal S3 in response to the clock signal CLK and the not shown write enable signal WE. The signal S21 is generated in response to the precharge enable signal S1, and the signal S41 is generated in response to the write enable signal S3.
즉, 신호들(S21, S41) 각각은 프리차지 인에이블 신호(S1)와 라이트 인에이블 신호(S3)를 각각 소정 시간 지연하여 발생된다.That is, each of the signals S21 and S41 is generated by delaying the precharge enable signal S1 and the write enable signal S3 for a predetermined time, respectively.
종래의 컴파일드 마크로 반도체 메모리 장치의 경우에는 장치의 크기가 변화됨에 따라 프라차지 인에이블 신호(S21)와 라이트 인에이블 신호(S41)를 전송하기 위한 신호 라인들(30, 32)의 라인 부하 캐패시턴스가 달라질 수가 있게 된다. 따라서, 신호들(S21, S41)의 타이밍이 어긋나게 됨으로써 정확한 라이트 동작이 이루어질 수 없다는 문제점이 있었다.In the conventional compiled macro semiconductor memory device, the line load capacitance of the signal lines 30 and 32 for transmitting the precharge enable signal S21 and the write enable signal S41 as the size of the device changes. Can vary. Therefore, the timing of the signals S21 and S41 is shifted so that a correct write operation cannot be performed.
도4의 타이밍도에서, 제어신호 발생회로(18)에 의해서 신호들(S1, S3)을 기간(d1)에서 기간(d6)사이에서 제어하는 것이 가능하다. 그러나, 신호 라인들(30, 32)의 라인 부하 캐패시턴스가 변화하게 신호들(S1, S3)의 발생 타이밍이 기간(d1)에서 기간(d6)사이를 벗어날 수가 있다.In the timing diagram of FIG. 4, it is possible by the control signal generation circuit 18 to control the signals S1 and S3 between the period d1 and the period d6. However, the timing of generation of the signals S1 and S3 may deviate from the period d1 to the period d6 so that the line load capacitance of the signal lines 30 and 32 changes.
따라서, 이 경우에는 신호들(S21, S41)의 발생 타이밍 또한 어긋나게 됨으로써 즉, 신호(S21)의 "하이"레벨 구간내에 신호(S41)가 발생되지 못하게 됨으로써 정확한 라이트 동작이 수행될 수 없다는 문제점이 있다.Therefore, in this case, the timings of the generation of the signals S21 and S41 are also shifted, that is, the signal S41 is not generated within the "high" level section of the signal S21, so that the correct write operation cannot be performed. have.
도5는 본 발명의 프리차지 & 컬럼 선택 게이트 및 제어회로의 실시예의 회로도로서, 프리차지 & 컬럼 선택 게이트(22-1)의 구성은 도3에 나타낸 프리차지 및 컬럼 선택 게이트의 구성과 동일하고, 제어회로(20'-1)는 인버터들(I3, I4), NAND게이트(NA2), 및 NOR게이트(NOR)로 구성되어 있다.Fig. 5 is a circuit diagram of an embodiment of the precharge & column select gate and control circuit of the present invention, wherein the configuration of the precharge & column select gate 22-1 is the same as that of the precharge and column select gate shown in Fig. 3; The control circuit 20'-1 is composed of inverters I3 and I4, a NAND gate NA2, and a NOR gate NOR.
도5에 나타낸 회로의 기능을 설명하면 다음과 같다.The function of the circuit shown in Fig. 5 is as follows.
인버터들(I3, I4)은 신호(S1)를 지연하여 신호(S21)를 발생하고,NAND게이트(NA2)는 신호(S3)와 컬럼 선택신호(y1)를 비논리곱한다. NOR게이트(NOR)는 인버터(I3)의 출력신호와 NAND게이트(NA2)의 출력신호를 비논리합하여 신호(S41)를 발생한다.Inverters I3 and I4 delay signal S1 to generate signal S21, and NAND gate NA2 nonlogically multiplies signal S3 with column select signal y1. The NOR gate NOR non-logically combines the output signal of the inverter I3 with the output signal of the NAND gate NA2 to generate a signal S41.
즉, 신호(S21)는 프라차지 인에이블 신호(S1)에 응답하여 발생되고, 신호(S41)는 신호(S1)에 응답하여 라이트 인에이블 신호(S3)와 컬럼 선택신호(y1)를 비논리곱한 신호를 신호(S41)로 발생한다.That is, the signal S21 is generated in response to the precharge enable signal S1, and the signal S41 is non-logically multiplied by the write enable signal S3 and the column select signal y1 in response to the signal S1. A signal is generated as the signal S41.
도6은 도5에 나타낸 제어회로의 동작을 설명하기 위한 동작 타이밍도로서, 도6을 이용하여 도5에 나타낸 회로의 동작을 설명하면 다음과 같다.FIG. 6 is an operation timing diagram for describing the operation of the control circuit shown in FIG. 5. The operation of the circuit shown in FIG. 5 will be described below with reference to FIG. 6.
제어신호 발생회로(18)는 클럭신호(CLK) 및 미도시된 라이트 인에이블 신호(WE)에 응답하여 프리차지 인에이블 신호(S1)와 라이트 인에이블 신호(S3)를 발생한다. 그런데, 이때, 발생되는 라이트 인에이블 신호(S3)는 클럭신호(CLK)의 상승 엣지에 응답하여 인에이블된다.The control signal generation circuit 18 generates the precharge enable signal S1 and the write enable signal S3 in response to the clock signal CLK and the not shown write enable signal WE. However, at this time, the generated write enable signal S3 is enabled in response to the rising edge of the clock signal CLK.
그리고, 프리차지 인에이블 신호(S1)에 응답하여 신호(S21)가 발생되고, 신호(S4)는 프리차지 인에이블 신호(S1)의 "하이"레벨에서 신호(S3)가 "하이"레벨이면 신호(S4)가 "하이"레벨로 천이되고, 신호(S1)가 "로우"레벨로 천이되면 신호(S4)가 "로우"레벨로 천이된다.When the signal S21 is generated in response to the precharge enable signal S1 and the signal S4 is at the "high" level of the precharge enable signal S1, the signal S3 is at the "high" level. When the signal S4 transitions to the "high" level, and the signal S1 transitions to the "low" level, the signal S4 transitions to the "low" level.
즉, 신호들(S2, S4)이 프리차지 인에이블 신호(S1)에 응답하여 발생된다. 이때, 인버터(I3)를 구성하는 PMOS트랜지스터(미도시)의 크기를 크게하고, NOR게이트(NOR)를 구성하는 PMOS트랜지스터(미도시)의 크기를 작게하면 기간(d2, d3)의 타이밍을 가지게 되고, 반면에 인버터(I3)를 구성하는 NMOS트랜지스터(미도시)의 크기를 작게하고, NOR게이트(NOR)를 구성하는 NMOS트랜지스터(미도시)의 크기를 크게하면 기간(d5, d6)의 타이밍을 가지게 된다.That is, signals S2 and S4 are generated in response to the precharge enable signal S1. At this time, if the size of the PMOS transistor (not shown) constituting the inverter I3 is increased and the size of the PMOS transistor (not shown) constituting the NOR gate (NOR) is reduced, the timing of periods d2 and d3 is achieved. On the other hand, if the size of the NMOS transistor (not shown) constituting the inverter I3 is reduced and the size of the NMOS transistor (not shown) constituting the NOR gate NOR is increased, the timing of the periods d5 and d6 is achieved. Will have
제어회로(20'-1)를 구성하는 게이트들의 트랜지스터들의 크기를 조절함에 의해서 타이밍을 조절할 수 있다.The timing may be adjusted by adjusting the sizes of the transistors of the gates constituting the control circuit 20'-1.
본 발명의 제어회로들은 신호들((S21, S22, ..., S2m), (S41, S42, ..., S4m))을 발생할 때 제어신호 발생회로로부터 출력되는 제어신호들(S1, S3) 각각에 응답하여 독립적으로 발생되는 것이 아니라, 이들 신호들이 제어신호(S1)와 관련되어 발생되기 때문에 신호 라인들(30, 32)의 라인 부하 캐패시턴스의 변화가 있더라도 정확하게 발생될 수 있다.The control circuits of the present invention control signals S1 and S3 output from the control signal generation circuit when generating signals S21, S22, S2m, S41, S42, S4m. Rather than being generated independently in response to each of these signals, these signals are generated in association with the control signal S1, so that even if there is a change in the line load capacitance of the signal lines 30 and 32, it can be generated accurately.
상기에서는 본 발명의 바람직한 실시예를 참조하여 설명하였지만, 해당 기술 분야의 숙련된 당업자는 하기의 특허 청구의 범위에 기재된 본 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 이해할 수 있을 것이다.Although the above has been described with reference to a preferred embodiment of the present invention, those skilled in the art will be variously modified and changed within the scope of the present invention without departing from the spirit and scope of the invention described in the claims below. I can understand that you can.
따라서, 본 발명의 반도체 메모리 장치는 프리차지 및 라이트 인에이블 신호 라인의 부하 캐패시턴스가 변화하더라도 프리차지 및 라이트 동작이 정확하게 이루어질 수 있다.Therefore, in the semiconductor memory device of the present invention, even when the load capacitance of the precharge and write enable signal lines changes, the precharge and write operations can be accurately performed.
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KR1020000076513A KR100714890B1 (en) | 2000-12-14 | 2000-12-14 | Semiconductor memory device |
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Cited By (2)
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US7170805B2 (en) * | 2003-06-09 | 2007-01-30 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Memory devices having bit line precharge circuits with off current precharge control and associated bit line precharge methods |
KR100706833B1 (en) * | 2005-11-30 | 2007-04-13 | 주식회사 하이닉스반도체 | Apparatus and method for writing data of semiconductor memory |
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- 2000-12-14 KR KR1020000076513A patent/KR100714890B1/en not_active IP Right Cessation
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7170805B2 (en) * | 2003-06-09 | 2007-01-30 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Memory devices having bit line precharge circuits with off current precharge control and associated bit line precharge methods |
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Also Published As
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KR100714890B1 (en) | 2007-05-04 |
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