KR20020047602A - liquid crystal display device - Google Patents
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Abstract
Description
본 발명은 액정 표시 장치에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 어레이 기판에 컬러 필터가 형성되어 있는 액정 표시 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a liquid crystal display device, and more particularly, to a liquid crystal display device in which a color filter is formed on an array substrate.
최근 정보화 사회로 시대가 급발전함에 따라 박형화, 경량화, 저 소비전력화 등의 우수한 특성을 가지는 평판 표시장치(flat panel display)의 필요성이 대두되었는데, 그 중 색 재현성 등이 우수한 액정 표시 장치(liquid crystal display)가 활발하게 개발되고 있다.Recently, with the rapid development of the information society, there is a need for a flat panel display having excellent characteristics such as thinning, light weight, and low power consumption. Among them, a liquid crystal display having excellent color reproducibility, etc. displays are actively being developed.
일반적으로 액정 표시 장치는 전극이 각각 형성되어 있는 두 기판을 두 전극이 형성되어 있는 면이 마주 대하도록 배치하고 두 기판 사이에 액정 물질을 주입한 다음, 두 전극에 전압을 인가하여 생성되는 전기장에 의해 액정 분자를 움직이게 함으로써, 이에 따라 달라지는 빛의 투과율에 의해 화상을 표현하는 장치이다.In general, a liquid crystal display device arranges two substrates on which electrodes are formed so that the surfaces on which the two electrodes are formed face each other, injects a liquid crystal material between the two substrates, and applies a voltage to the two electrodes to generate an electric field. By moving the liquid crystal molecules, the image is expressed by the transmittance of light that varies accordingly.
액정 표시 장치의 하부 기판은 화소 전극에 신호를 인가하기 위한 박막 트랜지스터를 포함하는 어레이 기판으로 박막을 형성하고 사진 식각하는 공정을 반복함으로써 이루어지고, 상부 기판은 컬러 필터를 포함하는 기판으로 컬러 필터는 적(R), 녹(G), 청(B)의 세 가지 색이 순차적으로 배열되어 있으며, 안료분산법이나 염색법, 전착법 등의 방법으로 제작된다.The lower substrate of the liquid crystal display is formed by repeating a process of forming a thin film and photolithography with an array substrate including a thin film transistor for applying a signal to a pixel electrode. The upper substrate is a substrate including a color filter. Three colors of red (R), green (G) and blue (B) are sequentially arranged, and are produced by methods such as pigment dispersion, dyeing, and electrodeposition.
이하, 첨부한 도면을 참조하여 일반적인 액정 표시 장치의 구조에 대하여 설명한다.Hereinafter, a structure of a general liquid crystal display device will be described with reference to the accompanying drawings.
도 1은 일반적인 액정 표시 장치에 대한 단면도이다.1 is a cross-sectional view of a general liquid crystal display.
도 1에 도시한 바와 같이, 액정 표시 장치는 화상이 표현되는 제 1 영역(A)과 화상을 표현하기 위해 외부 구동회로와 연결되는 패드(도시하지 않음)가 위치하는 제 2 영역(B)으로 나누어진다.As shown in FIG. 1, the liquid crystal display device includes a first area A in which an image is represented and a second area B in which a pad (not shown) connected to an external driving circuit is positioned to express an image. Divided.
제 1 영역(A)에서 하부의 어레이 기판은 투명한 제 1 기판(10) 위에 금속과 같은 도전 물질로 이루어진 게이트 전극(21)이 형성되어 있고, 그 위에 실리콘 질화막(SiNx)이나 실리콘 산화막(SiO2)으로 이루어진 게이트 절연막(30)이 게이트 전극(21)을 덮고 있다. 게이트 전극(21) 상부의 게이트 절연막(30) 위에는 비정질 실리콘으로 이루어진 액티브층(41)이 형성되어 있으며, 그 위에 불순물이 도핑된 비정질 실리콘으로 이루어진 오믹 콘택층(51, 52)이 형성되어 있다.In the first region A, the lower array substrate has a gate electrode 21 made of a conductive material such as a metal on the transparent first substrate 10, and a silicon nitride film (SiN x ) or a silicon oxide film (SiO) formed thereon. The gate insulating film 30 made of 2 ) covers the gate electrode 21. An active layer 41 made of amorphous silicon is formed on the gate insulating layer 30 on the gate electrode 21, and ohmic contact layers 51 and 52 made of amorphous silicon doped with impurities are formed thereon.
오믹 콘택층(51, 52) 상부에는 금속과 같은 도전 물질로 이루어진 소스 및 드레인 전극(61, 62)이 형성되어 있는데, 소스 및 드레인 전극(61, 62)은 게이트 전극(21)과 함께 박막 트랜지스터(T)를 이룬다.Source and drain electrodes 61 and 62 made of a conductive material such as a metal are formed on the ohmic contact layers 51 and 52, and the source and drain electrodes 61 and 62 together with the gate electrode 21 are thin film transistors. (T).
도시하지 않았지만, 게이트 전극(21)은 게이트 배선과 연결되어 있고, 소스 전극(61)은 데이터 배선과 연결되어 있으며, 게이트 배선과 데이터 배선은 서로 직교하여 화소 영역을 정의한다.Although not shown, the gate electrode 21 is connected to the gate wiring, the source electrode 61 is connected to the data wiring, and the gate wiring and the data wiring are orthogonal to each other to define the pixel region.
이어, 소스 및 드레인 전극(61, 62) 위에는 실리콘 질화막이나 실리콘 산화막 또는 유기 절연막으로 이루어진 보호층(70)이 형성되어 있으며, 보호층(70)은 드레인 전극(62)을 드러내는 콘택홀(71)을 가진다.Subsequently, a passivation layer 70 made of a silicon nitride film, a silicon oxide film, or an organic insulating layer is formed on the source and drain electrodes 61 and 62, and the passivation layer 70 has a contact hole 71 exposing the drain electrode 62. Has
보호층(70) 상부의 화소 영역에는 투명 도전 물질로 이루어진 화소 전극(81)이 형성되어 있고, 화소 전극(81)은 콘택홀(71)을 통해 드레인 전극(62)과 연결되어 있다.A pixel electrode 81 made of a transparent conductive material is formed in the pixel area above the passivation layer 70, and the pixel electrode 81 is connected to the drain electrode 62 through the contact hole 71.
한편, 제 1 기판(10) 상부에는 제 1 기판(10)과 일정 간격을 가지고 이격되어 있으며 투명한 제 2 기판(110)이 배치되어 있고, 제 2 기판(110)의 안쪽면에는 블랙 매트릭스(121)가 박막 트랜지스터(T)와 대응되는 위치에 형성되어 있는데, 도시하지 않았지만 블랙 매트릭스(121)는 화소 전극(81) 이외의 부분도 덮고 있다. 블랙 매트릭스(121) 하부에는 컬러 필터(131)가 형성되어 있는데, 컬러 필터(131)는 적, 녹, 청의 색이 순차적으로 반복되어 있으며, 하나의 색이 하나의 화소 영역에 대응된다. 컬러 필터(131) 하부에는 투명한 도전 물질로 이루어진 공통 전극(141)이 형성되어 있다.On the other hand, the second substrate 110 is spaced apart from the first substrate 10 at regular intervals on the first substrate 10, and the black matrix 121 is disposed on the inner surface of the second substrate 110. ) Is formed at a position corresponding to the thin film transistor T. Although not illustrated, the black matrix 121 covers portions other than the pixel electrode 81. A color filter 131 is formed below the black matrix 121. The color filters 131 sequentially repeat red, green, and blue colors, and one color corresponds to one pixel area. The common electrode 141 made of a transparent conductive material is formed under the color filter 131.
그리고, 두 기판(10, 110) 사이에는 액정층(150)이 주입되어 있다.The liquid crystal layer 150 is injected between the two substrates 10 and 110.
한편, 상부 기판(110)의 공통 전극(141)은 제 2 영역(B)까지 연장되어 형성되어 있고, 제 2 영역(B)의 하부 기판(10)과 상부 기판(110) 사이에는 액정 주입을 위한 갭을 형성하고 주입된 액정의 누설을 방지하는 씰 패턴(seal pattern)(160)이 형성되어 있다.Meanwhile, the common electrode 141 of the upper substrate 110 extends to the second region B, and liquid crystal injection is performed between the lower substrate 10 and the upper substrate 110 of the second region B. FIG. A seal pattern 160 is formed to form a gap for preventing the leakage of the injected liquid crystal.
이러한 액정 표시 장치는 박막트랜지스터와 화소 전극이 배열된 하부의 어레이 기판을 제조하는 공정과 컬러 필터 및 공통 전극을 포함하는 상부의 컬러 필터 기판을 제조하는 공정, 그리고 제조된 두 기판의 배치와 액정 물질의 주입 및 봉지, 편광판 부착으로 이루어진 액정 셀(cell) 공정에 의해 형성된다.Such a liquid crystal display includes a process of manufacturing a lower array substrate on which a thin film transistor and a pixel electrode are arranged, a process of manufacturing an upper color filter substrate including a color filter and a common electrode, an arrangement of the two substrates, and a liquid crystal material It is formed by a liquid crystal cell process consisting of the injection and encapsulation of a, and the attachment of a polarizing plate.
도 2는 일반적인 액정 셀 제조 공정을 도시한 흐름도로서, 도 2를 참조하여 액정 셀 제조 공정에 대하여 간략히 설명한다.FIG. 2 is a flowchart illustrating a general liquid crystal cell manufacturing process, and will be briefly described with reference to FIG. 2.
먼저, 박막트랜지스터를 포함하는 하부의 박막트랜지스터 기판과 컬러 필터를 포함하는 상부의 컬러 필터 기판을 준비한다(st1).First, a lower thin film transistor substrate including a thin film transistor and an upper color filter substrate including a color filter are prepared (st1).
박막트랜지스터 기판은 박막을 증착하고 패터닝하는 과정을 여러 회 반복함으로써 형성되며, 컬러 필터 기판은 각 컬러 필터를 구분하며 화소 영역 이외의 부분에서 발생하는 빛샘을 방지하기 위한 블랙 매트릭스와 적(R), 녹(G), 청(B)의 컬러 필터 및 공통 전극을 순차적으로 형성함으로써 이루어진다.The thin film transistor substrate is formed by repeating the process of depositing and patterning a thin film several times. The color filter substrate distinguishes each color filter and prevents light leakage occurring in portions other than the pixel region. This is achieved by sequentially forming green (G), blue (B) color filters, and a common electrode.
이어, 각 기판에 액정 분자의 초기 배향 방향을 결정하기 위한 배향막을 형성한다(st2).Next, an alignment film for determining the initial alignment direction of the liquid crystal molecules is formed on each substrate (st2).
일반적으로 배향막에는 폴리이미드(polyimide) 계열의 유기물질이 주로 사용되고, 배향막을 배열시키는 방법으로는 러빙 방법이 이용된다.In general, a polyimide-based organic material is mainly used for the alignment layer, and a rubbing method is used as a method of arranging the alignment layer.
다음, 두 기판 중 어느 하나의 기판에 씰 패턴(seal pattern)을 형성하는데(st3), 씰 패턴은 액정 주입을 위한 갭을 형성하고 주입된 액정의 누설을 방지하는 역할을 한다.Next, a seal pattern is formed on one of the two substrates (st3), and the seal pattern forms a gap for injecting the liquid crystal and prevents leakage of the injected liquid crystal.
이어, 두 기판 중 어느 하나의 기판에 액정 표시 장치의 상부 기판과 하부 기판 사이의 간격을 정밀하고 균일하게 유지하기 위해 일정한 크기의 스페이서를 산포한다(st4).Subsequently, in order to maintain a precise and uniform spacing between the upper substrate and the lower substrate of the liquid crystal display device, either one of the two substrates is dispersed (st4).
다음, 액정 표시 장치의 두 기판 즉, 박막 트랜지스터 기판과 칼라 필터 기판을 배치하고 씰 패턴을 가압경화하여 합착한다(st5).Next, two substrates of the liquid crystal display, that is, the thin film transistor substrate and the color filter substrate, are disposed, and the seal patterns are pressed and cured (st5).
이어, 두 기판 사이에 액정을 주입한다(st6).Next, the liquid crystal is injected between the two substrates (st6).
액정의 주입이 완료되면 셀의 주입구에서 액정이 흘러나오지 않도록 주입구를 봉합한다.When the injection of the liquid crystal is completed, the injection hole is sealed so that the liquid crystal does not flow out of the injection hole of the cell.
이와 같이 액정 셀을 제조하고 액정 셀의 외측에 각각 편광판을 부착한 후 구동회로를 연결하면 액정 패널이 완성된다.The liquid crystal panel is completed by manufacturing a liquid crystal cell and attaching polarizers to the outside of the liquid crystal cell, and then connecting the driving circuits.
그런데, 이때 화소 전극과 컬러 필터가 일대일 대응되도록 기판을 배치하는 과정에서 오정렬(misalign)이 발생하여 이후 액정 표시 장치의 구동시 빛샘과 같은 불량이 생길 수 있다. 이를 방지하기 위해 상부 기판의 블랙 매트릭스 폭을 넓게 형성할 수 있는데, 이러한 경우 액정 표시 장치의 개구율이 낮아지게 된다.However, in this case, misalignment may occur in the process of disposing the substrate so that the pixel electrode and the color filter correspond one-to-one, and a defect such as light leakage may occur when driving the liquid crystal display. In order to prevent this, the width of the black matrix of the upper substrate may be widened. In this case, the aperture ratio of the liquid crystal display becomes low.
본 발명은 상기한 종래의 문제점을 해결하기 위하여 안출된 것으로, 본 발명의 목적은 개구율이 높으며 불량을 방지할 수 있는 액정 표시 장치용 어레이 기판 및 그 제조 방법을 제공하는 것이다.SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above-described problems, and an object of the present invention is to provide an array substrate for a liquid crystal display device and a method of manufacturing the same, which have a high aperture ratio and can prevent defects.
도 1은 일반적인 액정 표시 장치의 단면도.1 is a cross-sectional view of a general liquid crystal display device.
도 2는 일반적인 액정 셀 공정을 도시한 흐름도.2 is a flowchart illustrating a general liquid crystal cell process.
도 3은 본 발명에 따른 액정 표시 장치의 평면도.3 is a plan view of a liquid crystal display device according to the present invention;
도 4는 본 발명에 따른 액정 표시 장치의 단면도.4 is a cross-sectional view of a liquid crystal display device according to the present invention.
도 5는 본 발명의 제 1 실시예를 도시한 것으로, 도 3에서 C-C 선을 따라 자른 단면도.5 is a cross-sectional view taken along line C-C in FIG. 3, showing a first embodiment of the present invention.
도 6은 본 발명의 제 2 실시예에 따른 액정 표시 장치의 단면도.6 is a cross-sectional view of a liquid crystal display according to a second embodiment of the present invention.
도 7a 및 도 7b는 본 발명의 제 3 실시예에 따른 액정 표시 장치의 단면도.7A and 7B are cross-sectional views of a liquid crystal display according to a third embodiment of the present invention.
도 8은 본 발명의 제 4 실시예에 따른 액정 표시 장치의 단면도.8 is a cross-sectional view of a liquid crystal display according to a fourth embodiment of the present invention.
도 9a 및 도 9b는 본 발명의 제 4 실시예에 따른 제 1 블랙 매트릭스를 도시한 평면도.9A and 9B are plan views showing a first black matrix according to a fourth embodiment of the present invention.
이러한 목적을 달성하기 위한 액정 표시 장치에서는 제 1 기판 상에 제 1 블랙 매트릭스가 형성되어 있고, 그 위에 제 1 블랙 매트릭스 상부에서 경계를 이루며 적, 녹, 청의 색이 순차적으로 이루어진 컬러 필터 형성되어 있다. 컬러 필터 상부에는 평탄한 표면을 가지는 평탄화막이 형성되어 있으며, 그 위에 직교하는 다수의 게이트 배선과 데이터 배선이 형성되어 있다. 이어, 게이트 배선 및 데이터 배선과 연결되어 있는 박막 트랜지스터가 형성되어 있고, 박막 트랜지스터로부터 신호를 인가받는 화소 전극이 형성되어 있다. 제 1 기판 상부에는 제 1 기판과 일정 간격 이격되어 있는 제 2 기판이 있는데, 제 2 기판 안쪽면에는 박막 트랜지스터와 대응하는 부분 및 제 2 기판의 외곽부에 제 2 블랙 매트릭스가 형성되어 있다. 제 2 블랙 매트릭스 하부에는 화소 전극과 함께 전계를 생성하는 투명 전극이 형성되어 있으며, 제 1 기판과 제 2 기판 사이의 외곽부에는 제 1 및 제 2 블랙 매트릭스와 중첩하는 씰 패턴이 형성되어 있다. 제 1 및 제 2 기판 사이의 씰 패턴 안쪽에는 액정층이 주입되어 있다.In the liquid crystal display device for achieving the above object, a first black matrix is formed on a first substrate, and a color filter is formed on the first black matrix and has a red, green, and blue color sequentially. . A flattening film having a flat surface is formed on the color filter, and a plurality of orthogonal gate wirings and data wirings are formed thereon. Next, a thin film transistor connected to the gate line and the data line is formed, and a pixel electrode to receive a signal from the thin film transistor is formed. A second substrate is spaced apart from the first substrate by a predetermined distance on the first substrate, and a second black matrix is formed on an inner surface of the second substrate and a portion corresponding to the thin film transistor and an outer portion of the second substrate. A transparent electrode for generating an electric field together with the pixel electrode is formed below the second black matrix, and a seal pattern overlapping the first and second black matrices is formed at an outer portion between the first substrate and the second substrate. The liquid crystal layer is injected into the seal pattern between the first and second substrates.
여기서, 씰 패턴과 중첩하는 제 1 블랙 매트릭스는 씰 패턴과 일부만 중첩할 수 있다.Here, the first black matrix overlapping the seal pattern may partially overlap the seal pattern.
또한, 씰 패턴과 중첩하는 제 1 블랙 매트릭스는 스트라이프 형태로 이루어질 수 있으며, 모자이크 패턴으로 이루어질 수도 있다.In addition, the first black matrix overlapping the seal pattern may be formed in a stripe form or may be formed in a mosaic pattern.
한편, 본 발명에 따른 액정 표시 장치의 제조 방법에서는 제 1 기판을 구비하여 제 1 기판 상에 제 1 블랙 매트릭스를 형성한 후, 제 1 블랙 매트릭스 상부에서 경계를 이루며 적, 녹, 청의 색이 순차적으로 이루어진 컬러 필터를 형성한다. 이어, 컬러 필터 상부에 평탄한 표면을 가지는 평탄화막을 형성하고, 평탄화막 상부에 직교하는 다수의 게이트 배선과 데이터 배선을 형성한다. 다음, 게이트 배선 및 데이터 배선과 연결되어 있는 박막 트랜지스터를 형성하고 박막 트랜지스터와 연결되는 화소 전극을 형성한다. 다음, 제 2 기판을 구비하여 제 2 기판 상에 제 2 블랙 매트릭스를 형성한 후, 제 2 블랙 매트릭스 상부에 투명 전극을 형성한다. 이어, 제 1 기판과 제 2 기판 중 어느 하나의 기판 외곽부에 씰 패턴을 형성하고, 화소 전극이 형성된 제 1 기판과 투명 전극이 형성된 제 2 기판을 합착한 후, 제 1및 제 2 기판 사이의 씰 패턴 안쪽에 액정을 주입한다. 여기서, 씰 패턴은 제 1 및 제 2 블랙 매트릭스와 중첩된다.Meanwhile, in the method of manufacturing the liquid crystal display according to the present invention, after the first black matrix is formed on the first substrate by including the first substrate, the red, green, and blue colors are sequentially formed on the first black matrix. To form a color filter consisting of. Subsequently, a planarization film having a flat surface is formed on the color filter, and a plurality of gate wires and data wires orthogonal to the planarization film are formed. Next, a thin film transistor connected to the gate line and the data line is formed, and a pixel electrode connected to the thin film transistor is formed. Next, after forming the second black matrix on the second substrate with the second substrate, a transparent electrode is formed on the second black matrix. Next, a seal pattern is formed on the outer periphery of any one of the first substrate and the second substrate, the first substrate on which the pixel electrode is formed and the second substrate on which the transparent electrode is formed are bonded together, and then the first and second substrates Inject the liquid crystal inside the seal pattern. Here, the seal pattern overlaps the first and second black matrices.
이때, 씰 패턴과 중첩하는 제 1 블랙 매트릭스는 씰 패턴과 일부만 중첩될 수 있다.In this case, the first black matrix overlapping the seal pattern may partially overlap the seal pattern.
또한, 씰 패턴과 중첩하는 제 1 블랙 매트릭스는 스트라이프 형태로 이루어지거나 모자이크 패턴으로 이루어질 수도 있다.In addition, the first black matrix overlapping the seal pattern may have a stripe shape or a mosaic pattern.
이와 같이 본 발명에서는 컬러 필터가 박막 트랜지스터 하부에 위치하는 구조를 사용하여 액정 표시 장치의 개구율을 높이면서, 하부 기판에서 씰 패턴이 형성되는 위치에도 블랙 매트릭스가 형성되도록 하여 하부 기판과 평탄화막 사이의 접착력을 향상시킬 수 있다.As described above, the present invention uses a structure in which the color filter is disposed under the thin film transistor to increase the aperture ratio of the liquid crystal display, and to form a black matrix at a position where the seal pattern is formed on the lower substrate, thereby forming a black matrix between the lower substrate and the planarization layer. Adhesion can be improved.
최근 액정 표시 장치의 오정렬을 방지하고 개구율을 향상시키기 위해 컬러 필터를 어레이 기판에 형성하는 방법이 제시되었다. 이때, 컬러 필터를 박막 트랜지스터 하부에 형성할 수 있는데, 이러한 구조를 박막 트랜지스터 온 컬러 필터(thin film transistor on color filter ; TOC) 구조라고 한다.Recently, a method of forming a color filter on an array substrate to prevent misalignment of an LCD and to improve an aperture ratio has been proposed. In this case, a color filter may be formed under the thin film transistor, which is called a thin film transistor on color filter (TOC) structure.
이하, 첨부한 도면을 참조하여 본 발명의 실시예에 따른 박막 트랜지스터 온 컬러 필터 구조의 액정 표시 장치에 대하여 설명하기로 한다.Hereinafter, a liquid crystal display of a thin film transistor on color filter structure according to an exemplary embodiment of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings.
도 3은 본 발명에 따른 액정 표시 장치의 평면도이다.3 is a plan view of a liquid crystal display according to the present invention.
도 3에 도시한 바와 같이, 액정 표시 장치는 제 1 및 제 2 영역(I, II)이 정의된 하부 기판(210)과 상부 기판(220)으로 이루어진다. 제 1 영역(I)은 화상이 표현되는 부분으로, 도시하지 않았지만 하부 기판(210)의 제 1 영역(I)에는 화상을표시하기 위한 소자인 박막 트랜지스터와 화소 전극 및 컬러 필터가 형성되어 있고, 제 2 영역(II)에는 외부의 구동회로와 연결되어 제 1 영역(I)의 소자에 화상 신호를 인가해 주는 패드(230)가 형성되어 있다. 상부 기판(220)의 제 1 영역(I)에는 블랙 매트릭스(도시하지 않음)와 공통 전극(도시하지 않음)이 형성되어 있는데, 블랙 매트릭스는 하부 기판(210)의 박막 트랜지스터와 대응하는 위치에 형성되어 있다. 또한, 블랙 매트릭스는 화상 표시 영역 이외에서 빛이 누설되는 것을 방지하기 위해 제 2 영역(II)에도 형성되어 제 1 영역(I)을 둘러싸고 있다. 상부 기판(220)은 하부 기판(210)보다 크기가 작아 하부 기판(210) 상에 형성되어 있는 패드(230)를 드러낸다. 한편, 상부 및 하부 기판(220, 210) 사이의 제 2 영역(II)에는 씰 패턴(240)이 형성되어 있는데, 씰 패턴(240)은 상부 기판(220)의 블랙 매트릭스와 중첩되어 있으며, 두 기판(210, 220) 사이의 씰 패턴(240) 내부 즉, 제 1 영역(I)에는 액정층(도시하지 않음)이 주입되어 있다.As illustrated in FIG. 3, the liquid crystal display includes a lower substrate 210 and an upper substrate 220 in which first and second regions I and II are defined. Although the first region I is a portion in which an image is represented, a thin film transistor, a pixel electrode, and a color filter, which are elements for displaying an image, are formed in the first region I of the lower substrate 210. In the second region II, a pad 230 is formed to be connected to an external driving circuit to apply an image signal to an element of the first region I. A black matrix (not shown) and a common electrode (not shown) are formed in the first region I of the upper substrate 220, and the black matrix is formed at a position corresponding to the thin film transistor of the lower substrate 210. It is. In addition, the black matrix is formed in the second region II to surround the first region I in order to prevent leakage of light outside the image display region. The upper substrate 220 is smaller than the lower substrate 210 to expose the pads 230 formed on the lower substrate 210. Meanwhile, a seal pattern 240 is formed in the second region II between the upper and lower substrates 220 and 210, and the seal pattern 240 overlaps the black matrix of the upper substrate 220. A liquid crystal layer (not shown) is injected into the seal pattern 240, that is, the first region I, between the substrates 210 and 220.
도 4는 본 발명의 실시예에 따른 액정 표시 장치의 단면도로서, 도 3의 제 1 영역에서 하나의 화소(pixel)에 해당하는 부분을 도시한 것이다.FIG. 4 is a cross-sectional view of a liquid crystal display according to an exemplary embodiment of the present invention and illustrates a portion corresponding to one pixel in the first region of FIG. 3.
도 4에 도시한 바와 같이, 투명한 제 1 기판(310) 위에 제 1 블랙 매트릭스(311)가 형성되어 있고, 그 위에 제 1 블랙 매트릭스(311) 상부에서 경계를 이루는 적(R), 녹(G), 청(B)의 칼라 필터(312)가 각각 형성되어 있다. 여기서, 제 1 블랙 매트릭스(311)는 빛을 차단할 수 있는 물질로 형성하면 되는데, 기판(310)과의 접착력이 좋은 금속 물질을 이용할 수도 있다.As shown in FIG. 4, a first black matrix 311 is formed on the transparent first substrate 310, and red (R) and green (G) bordering on the first black matrix 311 are formed thereon. ), Blue (B) color filters 312 are formed, respectively. In this case, the first black matrix 311 may be formed of a material that blocks light, and a metal material having good adhesion to the substrate 310 may be used.
이어, 칼라 필터(312) 상부에는 유기 물질로 이루어진 평탄화막(313)이 형성되어 있다. 여기서, 평탄화막(313)은 칼라 필터로 인한 단차를 없애고 이후 공정을 원활하게 하기 위한 것이다.Next, a planarization film 313 made of an organic material is formed on the color filter 312. Here, the planarization film 313 is to eliminate the step caused by the color filter and to facilitate the subsequent process.
다음, 평탄화막(313) 상부에는 금속과 같은 도전 물질로 게이트 전극(321)이 형성되어 있는데, 게이트 전극(321)은 게이트 배선(도시하지 않음)과 연결되어 있다. 게이트 전극(310) 상부에는 실리콘 질화막이나 실리콘 산화막으로 이루어진 게이트 절연막(330)이 형성되어 게이트 전극(321)을 덮고 있다.Next, the gate electrode 321 is formed of a conductive material such as metal on the planarization layer 313, and the gate electrode 321 is connected to a gate wiring (not shown). A gate insulating film 330 made of a silicon nitride film or a silicon oxide film is formed on the gate electrode 310 to cover the gate electrode 321.
게이트 전극(321) 상부의 게이트 절연막(330) 위에는 비정질 실리콘으로 이루어진 액티브층(341)이 형성되어 있으며, 그 위에 불순물이 도핑된 비정질 실리콘으로 이루어진 오믹 콘택층(351, 352)이 형성되어 있다.An active layer 341 made of amorphous silicon is formed on the gate insulating layer 330 on the gate electrode 321, and ohmic contact layers 351 and 352 made of amorphous silicon doped with impurities are formed thereon.
오믹 콘택층(351, 352) 상부에는 게이트 전극(321)을 중심으로 서로 마주 대하는 소스 및 드레인 전극(361, 362)이 형성되어 있으며, 소스 및 드레인 전극(361, 362)은 게이트 전극(321)과 함께 박막 트랜지스터를 이룬다. 소스 전극(361)은 게이트 배선과 직교하여 화소 영역을 정의하는 데이터 배선(도시하지 않음)과 연결되어 있다.Source and drain electrodes 361 and 362 are formed on the ohmic contact layers 351 and 352 to face each other with respect to the gate electrode 321, and the source and drain electrodes 361 and 362 are formed on the gate electrode 321. Together to form a thin film transistor. The source electrode 361 is connected to a data line (not shown) that defines a pixel area orthogonal to the gate line.
이어, 소스 및 드레인 전극(361, 362) 위에는 실리콘 질화막이나 실리콘 산화막 또는 유기절연막으로 이루어진 보호층(370)이 형성되어 있는데, 보호층(370)은 드레인 전극(362)을 드러내는 콘택홀(371)을 가진다.Subsequently, a passivation layer 370 made of a silicon nitride film, a silicon oxide film, or an organic insulating layer is formed on the source and drain electrodes 361 and 362, and the passivation layer 370 is a contact hole 371 exposing the drain electrode 362. Has
다음, 투명 도전 물질로 이루어진 화소 전극(381)이 보호층(370) 상부의 화소 영역에 형성되어 있는데, 화소 전극(381)은 콘택홀(371)을 통해 드레인 전극(362)과 연결되어 있다.Next, a pixel electrode 381 made of a transparent conductive material is formed in the pixel area above the passivation layer 370, and the pixel electrode 381 is connected to the drain electrode 362 through the contact hole 371.
한편, 제 1 기판(310) 상부에는 제 1 기판(310)과 일정 간격을 가지고 이격되어 있으며 투명한 제 2 기판(410)이 배치되어 있고, 제 2 기판(410)의 안쪽면에는 제 2 블랙 매트릭스(420)가 형성되어 있고, 그 하부에 투명 도전 물질로 이루어진 공통 전극(430)이 형성되어 있다. 여기서, 제 2 블랙 매트릭스(420)는 외부의 빛이 박막 트랜지스터의 채널로 들어가는 것을 차단하여 광전류(photo current)의 발생을 방지하는 것으로, 제 2 블랙 매트릭스(420)는 박막 트랜지스터에 대응하는 위치에만 형성할 수 있다.Meanwhile, a second substrate 410 is disposed on the first substrate 310 and spaced apart from the first substrate 310 at a predetermined interval, and a second black matrix is formed on the inner surface of the second substrate 410. A 420 is formed and a common electrode 430 made of a transparent conductive material is formed under the 420. Here, the second black matrix 420 prevents external light from entering the channel of the thin film transistor to prevent the generation of photo current, and the second black matrix 420 is located only at a position corresponding to the thin film transistor. Can be formed.
그리고, 두 기판(310, 410) 사이에는 액정층(500)이 주입되어 있다.The liquid crystal layer 500 is injected between the two substrates 310 and 410.
도시하지 않았지만, 화소 전극(381) 및 보호층(370) 상부와 공통 전극(430) 하부에는 각각 배향막이 형성되어 있으며, 배향막은 일정한 방향으로 배열되어 있어 액정층(500)의 액정 분자들의 초기 배향을 결정한다.Although not shown, an alignment layer is formed on the pixel electrode 381 and the protective layer 370, and the lower portion of the common electrode 430, respectively, and the alignment layer is arranged in a predetermined direction so that initial alignment of liquid crystal molecules of the liquid crystal layer 500 is performed. Determine.
이와 같이 본 발명에서는 컬러 필터를 하부 기판에 형성하므로 상부 기판과 하부 기판의 합착시 컬러 필터와 화소 전극의 오정렬이 발생하지 않으며, 상부 기판의 블랙 매트릭스는 박막 트랜지스터 상부에만 형성할 수 있으므로 액정 표시 장치의 개구율을 향상시킬 수 있다.As described above, since the color filter is formed on the lower substrate, misalignment of the color filter and the pixel electrode does not occur when the upper substrate and the lower substrate are bonded together, and the black matrix of the upper substrate may be formed only on the thin film transistor. The aperture ratio can be improved.
한편, 도 5는 도 3에서 C-C선을 따라 자른 단면에 해당하는 것으로, 씰 패턴이 형성된 부분을 도시한 것이다.Meanwhile, FIG. 5 corresponds to a cross section taken along line C-C in FIG. 3 and illustrates a portion where a seal pattern is formed.
도 5에 도시한 바와 같이, 하부 기판(310)의 전면에 평탄화막(313)이 형성되어 있고, 그 위의 제 1 영역(I)에는 화상을 표시하기 위한 소자(D)들이 형성되어 있다. 하부 기판(310)과 일정 간격을 가지고 배치되어 있는 상부 기판(410)의 제 2영역(II) 하부에는 제 2 블랙 매트릭스(420)가 형성되어 있는데, 도시하지 않았지만 제 2 블랙 매트릭스(420)는 제 1 영역(I)에도 형성되어 있다. 제 2 블랙 매트릭스(420) 하부에는 기판(410) 전면에 걸쳐 공통 전극(430)이 형성되어 있다. 그리고, 상부 기판(410) 및 하부 기판(310) 사이의 제 2 영역(II)에는 씰 패턴(450)이 형성되어 있어, 씰 패턴(450)은 제 2 블랙 매트릭스(420)와 중첩한다.As shown in FIG. 5, a planarization film 313 is formed on the entire surface of the lower substrate 310, and elements D for displaying an image are formed in the first region I thereon. A second black matrix 420 is formed below the second region II of the upper substrate 410, which is disposed at a predetermined distance from the lower substrate 310. Although not shown, the second black matrix 420 is formed. It is also formed in the first region I. The common electrode 430 is formed on the entire surface of the substrate 410 under the second black matrix 420. The seal pattern 450 is formed in the second region II between the upper substrate 410 and the lower substrate 310, so that the seal pattern 450 overlaps the second black matrix 420.
그런데, 평탄화막(313)과 하부 기판(310)은 접착력이 좋지 않아서, 특히 접착력이 약한 하부 기판(310)과 평탄화막(313)의 바깥쪽 접촉 부분(도 5의 'E')으로 기체가 유입될 수 있다. 이는 평탄화막(313)과 하부 기판(310) 사이를 벌어지게 하거나, 평탄화막(313)과 하부 기판(310) 사이에 기포가 형성되도록 하여, 씰 패턴(450) 터짐을 유발한다. 이로 인해 이후 두 기판(310, 410) 사이에 액정을 주입할 때 불량이 발생하게 된다.However, the flattening film 313 and the lower substrate 310 do not have good adhesion, and in particular, the gas is transferred to the outer contact portion ('E' in FIG. 5) of the lower substrate 310 and the flattening film 313 having weak adhesive strength. Can be introduced. This causes the gap between the planarization layer 313 and the lower substrate 310 or bubbles to be formed between the planarization layer 313 and the lower substrate 310, causing the seal pattern 450 to burst. As a result, a defect occurs when the liquid crystal is injected between the two substrates 310 and 410.
이러한 것을 방지하기 위해 본 발명의 제 2 실시예에서는 씰 패턴 하부에 제 1 블랙 매트릭스를 형성한다.In order to prevent this, in the second embodiment of the present invention, a first black matrix is formed under the seal pattern.
도 6은 본 발명의 제 2 실시예를 도시한 단면도이다.6 is a sectional view showing a second embodiment of the present invention.
도 6에 도시한 바와 같이, 하부 기판(310)과 상부 기판(410)이 일정한 간격을 가지고 배치되어 있으며, 하부 기판(310)의 제 2 영역(II)에는 제 1 블랙 매트릭스(311)가 형성되어 있다. 그 위에 평탄화막(313)이 기판(310) 전면에 걸쳐 형성되어 있고, 평탄화막(313) 상부의 제 1 영역(I)에는 화상을 표시하기 위한 소자(D)들이 형성되어 있다. 하부 기판(310) 상부에는 일정 간격을 가지고 상부 기판(410)이 배치되어 있는데, 상부 기판(410)의 안쪽면 제 2 영역(II)에는 제 2 블랙 매트릭스(410)가 형성되어 있다. 그 하부에 기판(410) 전면에 걸쳐 형성되어 있는 공통 전극(430)이 있고, 제 2 영역(II)의 두 기판(310, 410) 사이에는 씰 패턴(450)이 형성되어 제 1 및 제 2 블랙 매트릭스(311, 420)와 중첩되어 있다.As shown in FIG. 6, the lower substrate 310 and the upper substrate 410 are disposed at regular intervals, and a first black matrix 311 is formed in the second region II of the lower substrate 310. It is. The planarization film 313 is formed over the entire surface of the substrate 310, and the elements D for displaying an image are formed in the first region I above the planarization film 313. The upper substrate 410 is disposed on the lower substrate 310 at regular intervals, and a second black matrix 410 is formed in the second region II of the inner surface of the upper substrate 410. Below the common electrode 430 is formed over the entire surface of the substrate 410, the seal pattern 450 is formed between the two substrates 310, 410 of the second region (II) to form the first and second It overlaps with the black matrices 311 and 420.
여기서, 제 1 블랙 매트릭스(311)는 금속 물질로 이루어지는데, 이는 기판(310)과의 접착력 뿐만 아니라 평탄화막(313)과의 접착력도 우수하다. 따라서, 기체가 하부 기판(310) 및 평탄화막(313)의 바깥쪽 접촉 부분을 통해 유입되더라도 기판(310)의 내부로 침투하는 것을 제 1 블랙 매트릭스(311)가 차단하여 씰 패턴(450)의 터짐 현상을 막을 수 있고, 액정 주입시 불량을 방지할 수 있다.Here, the first black matrix 311 is made of a metal material, which is excellent in adhesion not only to the substrate 310 but also to the planarization layer 313. Therefore, even if the gas is introduced through the outer contact portions of the lower substrate 310 and the planarization layer 313, the first black matrix 311 blocks the penetration of the inside of the substrate 310 so that the seal pattern 450 may be formed. The bursting phenomenon can be prevented and a defect can be prevented during the liquid crystal injection.
한편, 도 6에서는 제 1 블랙 매트릭스(311)와 씰 패턴(450)을 완전히 중첩되도록 형성하였으나, 일부만 중첩되도록 할 수도 있다.Meanwhile, in FIG. 6, the first black matrix 311 and the seal pattern 450 are completely overlapped, but only a part of the first black matrix 311 may be overlapped.
이러한 본 발명의 제 3 실시예에 대하여 도 7a 및 도 7b에 도시하였다.A third embodiment of this invention is shown in Figs. 7A and 7B.
도 7a는 제 1 블랙 매트릭스(311)의 우측 일부와 씰 패턴(450)의 좌측 일부가 중첩되도록 형성한 것을 도시하였고, 도 7b는 제 1 블랙 매트릭스(311)의 좌측 일부와 씰 패턴(450)의 우측 일부가 중첩되도록 형성한 것을 도시하였다.FIG. 7A illustrates that a right portion of the first black matrix 311 and a left portion of the seal pattern 450 overlap each other, and FIG. 7B illustrates a portion of the left portion of the first black matrix 311 and the seal pattern 450. It is shown that the right portion of the formed to overlap.
이어, 본 발명의 제 4 실시예에 따른 액정 표시 장치의 단면도를 도 8에 도시하였다.Next, a cross-sectional view of the liquid crystal display according to the fourth exemplary embodiment of the present invention is illustrated in FIG. 8.
도시한 바와 같이, 씰 패턴(450)은 하부 기판(310)의 제 1 블랙 매트릭스(311) 및 상부 기판(410)의 제 2 블랙 매트릭스(420)와 중첩되어 있는데, 제 1 블랙 매트릭스(311)는 다수의 패턴으로 이루어져 있다. 이는 제 1 블랙 매트릭스(311)를 금속 물질로 형성하기 때문에, 제 1 블랙 매트릭스(311)와 제 1영역(I)의 하부 기판(310)에 위치하는 박막 트랜지스터(도시하지 않음) 사이에 발생할 수 있는 기생용량(parasitic capacitance)을 감소시키기 위한 것으로, 제 1 블랙 매트릭스(311)는 다양한 형태로 이루어질 수 있다.As shown, the seal pattern 450 overlaps the first black matrix 311 of the lower substrate 310 and the second black matrix 420 of the upper substrate 410. Consists of a number of patterns. This may occur between the first black matrix 311 and the thin film transistor (not shown) positioned on the lower substrate 310 of the first region I because the first black matrix 311 is formed of a metal material. In order to reduce parasitic capacitance, the first black matrix 311 may be formed in various forms.
이러한 제 1 블랙 매트릭스(311)의 모양을 도 9a 및 도 9b에 도시하였는데, 도시한 바와 같이 제 1 블랙 매트릭스(311)는 스트라이프(stripe) 형태로 이루어질 수 있고, 또는 모자이크 패턴으로 이루어질 수도 있다.The shape of the first black matrix 311 is illustrated in FIGS. 9A and 9B. As illustrated, the first black matrix 311 may have a stripe shape or may have a mosaic pattern.
본 발명은 상기한 실시예에 한정되지 아니하며, 본 발명의 정신을 벗어나지 않는 이상 다양한 변화와 변형이 가능하다.The present invention is not limited to the above embodiments, and various changes and modifications can be made without departing from the spirit of the present invention.
본 발명에 따른 액정 표시 장치에서는 컬러 필터를 박막 트랜지스터 하부에 형성하는 TOC 구조를 사용하여 액정 표시 장치의 개구율을 향상시키는데 있어서, 씰 패턴이 형성되는 위치의 하부 기판에 블랙 매트릭스하고 그 위에 평탄화막을 형성하여 평탄화막과 기판과의 접착력을 향상시킴으로써, 씰 패턴 터짐 현상을 방지하고 액정 주입시 불량을 막을 수 있다.In the liquid crystal display according to the present invention, in order to improve the aperture ratio of the liquid crystal display using a TOC structure in which a color filter is formed under the thin film transistor, a black matrix is formed on the lower substrate at the position where the seal pattern is formed and a planarization film is formed thereon. By improving the adhesion between the planarization film and the substrate, it is possible to prevent the seal pattern burst phenomenon and to prevent defects during the liquid crystal injection.
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