KR200152142Y1 - Vane of magnetron - Google Patents
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Abstract
본 고안은 마그네트론의 베인에 관한 것으로, 필라멘트(20)의 외측 둘레에 원통형상으로 양극몸체(10)가 형성되고, 이 양극몸체(10)와 상기 필라멘트(20)의 사이에 복수개의 베인(14)이 설치된 마그네트론에 있어서, 정전용량이 크도록 상기 필라멘트(20)와 마주하는 각 베인(14)의 단면적을 넓게 형성시켜 상기 필라멘트(20)와 마주하는 각 베인(14)의 선단면(16)의 상측과 하측간의 이격거리차로 인해 발생되는 고조파를 억제함으로서, 마그네트론의 효율이 향상되도록 한 것이다.The present invention relates to a vane of a magnetron, the anode body 10 is formed in a cylindrical shape around the outer periphery of the filament 20, a plurality of vanes 14 between the anode body 10 and the filament 20 ), The end face 16 of each vane 14 facing the filament 20 by forming a wide cross-sectional area of each vane 14 facing the filament 20 so as to have a large capacitance By suppressing harmonics caused by the difference in distance between the upper side and the lower side, the efficiency of the magnetron is improved.
Description
본 고안은 마이크로파를 발생하는 마그네트론에 관한 것으로, 특히 필라멘트와 마주하는 베인의 선단면의 상측과 하측간의 이격거리차로 인해 발생되는 고조파를 억제할 수 있는 데에 적합한 마그네트론의 베인에 관한 것이다.The present invention relates to a magnetron generating microwaves, and more particularly, to a vane of a magnetron suitable for suppressing harmonics caused by a difference in distance between an upper side and a lower side of a vane facing the filament.
일반적으로, 마그네트론이란 외부로부터 제공되는 고전압에 의해 초고주파를 발생하는 것으로서, 의료용, 전자렌지용, 기타 가열용에 사용되는 2450의 의 고주파를 발생하는 마그네트론과 공업용 가열렌지, 연속과 레이다에 사용되는 915의 고주파를 발생하는 마그네트론으로 구분되는데, 본 고안은 전자렌지에 사용되는 마그네트론에 관한 것이다.In general, the magnetron generates ultra-high frequency by high voltage supplied from the outside, and 2450 is used for medical, microwave, and other heating. 915 used for magnetrons and industrial heating ranges, continuous and radar It is divided into a magnetron that generates a high frequency of the present invention relates to a magnetron used in a microwave oven.
상기 전자렌지에 사용되는 종래의 마그네트론은 제1도에 도시한 바와같이 동파이프 등에 의해 원통형상으로 형성된 양극몸체(10)의 내부에 고주파 성분을 유기시키도록 공동공진기를 형성하는 복수개의(일반적으로, 짝수개임) 베인(13)이 축심방향을 향하여 동일한 간격으로 배치되어 있고, 이러한 양극몸체(10)와 베인(13)에 의해 양극부가 구성된다.Conventional magnetrons used in the microwave oven have a plurality of (generally, cavity resonators for inducing high frequency components inside the anode body 10 formed in a cylindrical shape by a copper pipe or the like as shown in FIG. 1). The even vanes 13 are arranged at equal intervals in the axial direction, and the anode body 10 and the vanes 13 constitute the anode portion.
그리고, 커패시턴스를 변화시켜 균일한 공진주파수를 얻기 위해 베인(13)의 선단부측에는 그 상하부에 각각 내측균압링(15) 및 외측균압링(17)이 베인(13)에 각각 교번적으로 접속배치되어 있고, 양극몸체(10)의 중심축상에는 복수개의 베인(13)의 선단부와 필라멘트(20) 사이에 작용공간(23)이 형성되어 있다.In order to change the capacitance to obtain a uniform resonant frequency, the inner side equalization ring 15 and the outer side equalization ring 17 are alternately connected to the vane 13 at upper and lower portions thereof, respectively, on the top end side of the vane 13. The working space 23 is formed on the central axis of the anode body 10 between the tip portions of the plurality of vanes 13 and the filaments 20.
또한, 상기 작용공간(23) 내에는 텅스텐(W)가 산화토륨(ThO2)의 혼합물로 형성되어 나선형으로 권선된 필라멘트(20)가 양극몸체(10)와 동축형상으로 배치되어 있고, 이러한 필라멘트(20)는 외부로부터 제공되는 동작전류에 의해 가열되어 열전자를 방출한다.In the working space 23, tungsten (W) is formed of a mixture of thorium oxide (ThO 2 ), and a spirally wound filament 20 is disposed coaxially with the anode body 10. 20 is heated by an operating current provided from the outside to emit hot electrons.
한편, 상기 필라멘트(20)의 양단부에는 방출된 열전자가 중심축 방향으로 방사되는 것을 방지하기 위해 상부실드햇(25) 및 하부실드햇(27)이 각각 고착되어 있는데, 하부실드햇(27)의 중앙부에는 몰리브덴제의 중앙지지체인 제 1필라멘트전극(30)이 중앙부에 형성된 관통구멍을 통해서 상부실드햇(25)의 하단부에 용접고착되어 있고, 하부실드햇(27)의 바닥면에는 몰리브덴제의 제 2필라멘트전극(33)이 용접 고착되어 있다.On the other hand, the upper shield hat 25 and the lower shield hat 27 is fixed to both ends of the filament 20 in order to prevent the emitted hot electrons radiate in the direction of the central axis, respectively, of the lower shield hat 27 In the center part, the first filament electrode 30, which is a central support made of molybdenum, is welded and fixed to the lower end of the upper shield hat 25 through a through hole formed in the center part, and the bottom surface of the lower shield hat 27 is made of molybdenum material. 2 filament electrodes 33 are welded together.
여기에서, 상기 제 1필라멘트전극(30) 및 제 2필라멘트전극(33)은 마그네트론의 필라멘트(20)를 지지고정하는 절연세라믹(35)에 형성된 관통구멍을 통해 전원단자(37)에 접속되어 있는 제 1외부접속단자(40) 및 제 2외부접속단자(43)에 전기적으로 접속되어 필라멘트(20)에 전류를 공급하는 캐소드지지대이고, 제 1필라멘트전극(30)은 필라멘트(20)의 중심축을 관통하면서 상부실드햇(25)을 지지한다.Here, the first filament electrode 30 and the second filament electrode 33 are connected to the power supply terminal 37 through a through hole formed in the insulating ceramic 35 supporting and fixing the filament 20 of the magnetron. It is a cathode support electrically connected to the first external connection terminal 40 and the second external connection terminal 43 to supply a current to the filament 20, the first filament electrode 30 penetrates the central axis of the filament 20 While supporting the upper shield hat (25).
또한, 상기 양극몸체(10)의 양측개구부에는 필라멘트(20)와 베인(13) 간의 작용공간(23) 내에 자속을 균일하게 형성하도록 자로를 형성하는 상부폴러스(45) 및 하부폴러스(47)가 용접고착되어 있는데, 이러한 상부폴러스(45) 및 하부폴리스(47)는 깔대기형상의 자성체이다.In addition, the upper pole 45 and the lower pole 47 which form a magnetic path at both side openings of the anode body 10 to uniformly form the magnetic flux in the working space 23 between the filament 20 and the vanes 13. ), And the upper pole 45 and the lower polypolish 47 are funnel-shaped magnetic bodies.
그리고,상기 상부폴리스(45) 및 하부폴리스(47)의 상하부에는 상부실드컵(50) 및 하부실드컵(53)이 각각 밀착되어 용착고착되어 있고, 상기 상부실드컵(50) 및 하부실드컵(53)의 상하부에는 양극몸체(10)의 내부를 진공상태로 밀봉하기 위하여 안테나세라믹(55) 및 절연세라믹(35)이 밀착되어 용접고착되어 있다.In addition, upper and lower shield cups 50 and 53 are welded and adhered to upper and lower portions of the upper poly 45 and the lower poly 47, respectively, and the upper shield cup 50 and the lower shield cup At the upper and lower parts of 53, the antenna ceramic 55 and the insulating ceramic 35 are closely attached and welded to seal the inside of the anode body 10 in a vacuum state.
또한, 마그네트론의 출력부를 구성하는 상부실드컵(50)의 상부개구단부에는 후술될 안테나캡(57)을 절연시키는 원통형상의 안테나세라믹(55)이 접합되어 있고, 안테나세라믹(55)의 상부측 선단부에는 구리물질인 배기관(60)이 접합되어 있으며, 배기관(60)의 내측 중앙부에는 공공공진기 내에서 발진되는 고주파를 출력하기 위해 안테나(63)가 구비되는데, 이러한 안테나(63)는 베인(13)으로부터 도출되며, 상부폴리스(45)의 중앙부를 통해 관통되어 축상으로 연장되면서 그 끝부분이 배기관(60) 내에 고정되어 있다.In addition, a cylindrical antenna ceramic 55 for insulating the antenna cap 57 to be described later is joined to the upper opening end of the upper shield cup 50 constituting the output portion of the magnetron, and an upper end portion of the antenna ceramic 55 is joined. There is a copper pipe exhaust pipe 60 is bonded, the inner central portion of the exhaust pipe 60 is provided with an antenna 63 for outputting a high frequency oscillated in the public resonator, the antenna 63 is the vane (13) Derived from, the end is fixed in the exhaust pipe (60) while extending through the central portion of the upper poly (45) axially.
그리고, 상기 배기관(60)의 외측면에는 배기관(60)의 용접고착부를 보호하고, 전계집중으로 발생되는 스파크를 방지하며, 고주파 안테나의 역할을 하고,고주파를 외부로 출력하는 창(Window)역할을 하는 안테나세라믹(55)과 안테나컵(57)이 씌워져있다.The outer surface of the exhaust pipe 60 protects the welding fixing portion of the exhaust pipe 60, prevents sparks generated by electric field concentration, serves as a high frequency antenna, and serves as a window for outputting high frequency to the outside. The antenna ceramic 55 and the antenna cup 57 is covered.
또한, 양극몸체(10)의 외부에는 귀환되는 자속을 연결하기 위해 상기 양극몸체(10)내의 자속량을 결정하는 상부요오크(60) 및 하부요오크(61)가 설치되어 있고, 상기 양극몸체(10) 및 하부요오크(61)사이에는 복수개의 알루미튬 냉각핀(65)이 상기 양극몸체(10) 및 하부요우크(61)에 고정된 클램프부재(67)에 의해 감합배치되어 상기 마그네트A(70) 및 마그네트K(73)와 함께 자로형상을 상부요우크(60) 및 하부요우크(61)에 의해 덮혀 있다.In addition, the outer side of the positive electrode body 10 is provided with an upper yoke 60 and a lower yoke 61 for determining the amount of magnetic flux in the positive electrode body 10 to connect the return magnetic flux, the positive electrode body Between the 10 and the lower yoke 61, a plurality of aluminium cooling fins 65 are fitted by the clamp member 67 fixed to the anode body 10 and the lower yoke 61, and the magnet is disposed. Together with the A 70 and the magnet K 73, the shape of the magnetic path is covered by the upper yoke 60 and the lower yoke 61.
상기와 같이 구성된 마그네트론은 외부전윈이 전원단자(37)를 통해 제 1외부접속단자(40) 및 제 2 외부접속단자(43)로 제공되면, 제 1외부접속단자(40)와, 제 1 필라멘트전극(30), 상부실드햇(25), 필라멘트(20), 하부실드햇(27), 제 2필라멘트전극(33) 및 제 2외부접속단자(43)로 이루어지는 폐회로가 구성되어 필라멘트(20)에 동작전류가 공급된다.The magnetron configured as described above has the first external connection terminal 40 and the first filament when the external power is provided to the first external connection terminal 40 and the second external connection terminal 43 through the power supply terminal 37. A closed circuit composed of an electrode 30, an upper shield hat 25, a filament 20, a lower shield hat 27, a second filament electrode 33, and a second external connection terminal 43 is configured to form a filament 20. The operating current is supplied to the
그 다음, 필라멘트(20)로 제공되는 동작전류에 의해 필라멘트(20)가 가열되어 필라멘트(20)로부터 열전자가 방출되고, 방출된 열전자에 의한 전자군이 형성된다.Then, the filament 20 is heated by the operating current provided to the filament 20 to emit hot electrons from the filament 20, thereby forming an electron group by the released hot electrons.
이때, 제 2필라멘트전극(33)과 양극부(즉, 양극몸체(10)와 베인913)에 인가되는 구동전압에 의해 필라멘트(20)와 베인(13) 간의 작용공간(23) 내에는 강한 전계가 형성되고, 마그네트A(70)와 마그네트K(73)에 의해 발생된 자계가 하부폴리스(47)를 따라 작용공간(23) 쪽으로 인도되어 작용공간(23)을 통해 상부폴리스(45)로 진행하면서 작용공간(23) 내에 높은 자계가 형성된다.At this time, a strong electric field is formed in the working space 23 between the filament 20 and the vane 13 by the driving voltage applied to the second filament electrode 33 and the anode portion (that is, the anode body 10 and the vane 913). Is formed, the magnetic field generated by the magnet A (70) and the magnet K (73) is guided along the lower poly (47) toward the working space (23) and proceeds to the upper poly (45) through the working space (23) While a high magnetic field is formed in the working space (23).
따라서, 필라멘트(20)로부터 작용공간(23)으로 방출된 열전자로 형성되는 전자군이 작용공간(23) 내에 형성된 강한 전계 및 높은 자계에 의해 양극부(양극몸체(10)와 베인(13)) 방향으로 나선형의 회전운동을 하면서 진행되고, 전자군의 이러한 운동은 작용공간(23)의 모든 공간에서 이루어진다.Therefore, the electron group formed by the hot electrons emitted from the filament 20 into the working space 23 is formed by the strong electric field and the high magnetic field formed in the working space 23 (the anode body 10 and the vane 13). It proceeds while making a spiral rotational movement in the direction, and this movement of the electron group takes place in all the spaces of the working space 23.
이때, 베인(13)과 공동공진기와의 구조적인 공진회로에 따라 열전자들로 형성된 전자군이 양극부(양극몸체(10)와 베인913)) 방향으로 반복적으로 진행되면서 발생된 열은 베인(13)을 따라 양극몸체(10)를 통해 상기 양극몸체(10)에 기재된 냉각핀(65)에 전달되어 외부로 방열되고, 상기 전자군이 회전하는 속도에 상응하는 공진고주파수인 2450의 고주파가 베인(13)으로부터 유기된다.At this time, the heat generated as the electron group formed of the hot electrons repeatedly proceeds toward the anode part (the anode body 10 and the vane 913) according to the structural resonance circuit of the vane 13 and the cavity resonator. 2450, which is a resonance high frequency corresponding to the speed at which the electron group rotates and is transmitted to the cooling fins 65 described in the anode body 10 through the anode body 10). The high frequency of is induced from the vane 13.
그 다음, 베인(13)으로부터 유기된 고주파(2450)가 안테나(63)를 통해 배기관(60)으로 전송되고, 웨이브 가이드(Wave Guied)를 통해 전자렌지로 제공된 다음, 분산장치를 통해 전자렌지의 캐비티(Cavity)로 제공되어 캐비티 내의 음식물의 분자들이 초당 24억 5천만번 정도 진동되면서 발생되는 마찰열에 의해 음식물이 조리된다.Then, the high frequency 2450 induced from the vane 13 ) Is transmitted to the exhaust pipe 60 through the antenna 63, provided to the microwave through a wave guide (Wave Guied), and then provided to the cavity of the microwave through a dispersing device so that the molecules of food in the cavity Food is cooked by the frictional heat generated by vibrating about 2.4 billion times per second.
한편, 작용공간(23) 내의 전자군은 제2도에 도시된 필라멘트(20)와 베인(13)의 상부이격거리(d1)와 하부이격거리(d2)가 동일한 상태에서 필라멘트(20)에서 베인(13)으로 수평적 운동을 한다.On the other hand, the electron group in the working space 23 is the vane in the filament 20 in the state that the upper separation distance (d1) and the lower separation distance (d2) of the filament 20 and vanes 13 shown in FIG. Do horizontal movement with (13).
그러나, 마그네트론의 제조공정시에 베인과 필라멘트의 상부이격거리(d1)와 하부이격거리(d2)의 차가 발생함으로써,(C는 정전용량, d는 이격거리)이므로 이격거리에 따라 정전용량이 달라져 작용공간 내의 전자군이 정전용량이 큰 곳에서 작은 곳으로 수직 운동을 하여 마그네트론 내에 매우 높은 고조파가 발생되는 문제점이 있었다.However, in the manufacturing process of the magnetron, the difference between the upper separation distance d1 and the lower separation distance d2 of the vanes and filaments is generated. (C is the capacitance, d is the separation distance), so the capacitance varies according to the separation distance, which causes the electron group in the working space to move vertically from the place where the capacitance is large to the very small harmonic in the magnetron. .
따라서, 본 고안은 상기한 바와 같은 문제점을 감안하여 안출한 것으로, 필라멘트와 마주하는 베인의 선단면에 복수개의 홈이 형성되어 필라멘트와 베인 간의 이격거리 차에 의해 발생되는 고조파가 억제되도록 된 마그네트론의 베인을 제공하는 데에 그 목적이 있다.Accordingly, the present invention has been made in view of the above problems, and a plurality of grooves are formed in the front end surface of the vane facing the filament, so that the harmonics generated by the separation distance between the filament and the vane are suppressed. The purpose is to provide vanes.
상기 목적을 달성하기 위하여 본 고안에 의한 마그네트론의 베인은, 필라멘트의 외측 둘레에 원통형상으로 양극몸체가 형성되고, 이 양극몸체와 상기 필라멘트의 사이에 복수개의 베인이 설치된 마그네트론에 있어서, 상기 필라멘트와 마주하는 각 베인의 단면적을 넓게 형성시킨 것을 특징으로 한다.In order to achieve the above object, the vane of the magnetron according to the present invention has a cathode body formed in a cylindrical shape around an outer circumference of the filament, and in the magnetron having a plurality of vanes provided between the anode body and the filament, It is characterized in that the cross-sectional area of each vane facing is formed wide.
제1도는 일반적인 마그네트론의 구조를 도시한 단면도.1 is a cross-sectional view showing the structure of a general magnetron.
제2도는 제1도의 마그네트론에 있어서, 베인을 도시한 도면.FIG. 2 shows vanes in the magnetron of FIG. 1. FIG.
제3도는 본 고안에 의한 마그네트론의 베인을 도시한 도면.3 is a view showing the vanes of the magnetron according to the present invention.
* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명* Explanation of symbols for main parts of the drawings
10 : 양극몸체 13,14 : 베인10: bipolar body 13,14: vane
16 : 선단면 18 : 홈16: end face 18: groove
20 : 필라멘트 23 : 작용공간20: filament 23: working space
25 : 상부실드햇 27 : 하부실드햇25: upper shield hat 27: lower shield hat
45 : 상부폴피스 47 : 하부폴피스45: upper pole piece 47: lower pole piece
60 : 상부요우크 63 : 하부요우크60: upper yoke 63: lower yoke
65 : 냉각핀 70 : 마그네트A65: cooling fin 70: magnet A
73 : 마그네트K73: magnet K
이하, 본 고안의 일실시예를 첨부된 도면을 참조하여 상세히 설명한다.Hereinafter, with reference to the accompanying drawings an embodiment of the present invention will be described in detail.
제3도는 본 고안에 따른 마그네트론의 베인을 도시한 도면이다.3 is a view illustrating the vanes of the magnetron according to the present invention.
종래의 통상적인 마그네트론의 베인을 도시한 제2도에서의 베인(13)과 본 고안에 따른 마그네트론의 베인을 도시한 제3도에서의 베인(14)의 형상을 비교참조하면 알 수 있듯이, 본 고안에 따른 베인(14)의 형상은 필라멘트(20)와 마주하는 베인(14)의 선단면(16)에 두 개의 홈(16)이 소정의 간격(a)를 두고 형성되어 있다.As can be seen by comparing the shape of the vanes 13 in FIG. 2 showing the vanes of the conventional magnetron, and the vanes 14 in FIG. 3 showing the vanes of the magnetron according to the present invention, The shape of the vane 14 according to the invention is formed in the front end surface 16 of the vane 14 facing the filament 20, two grooves 16 are formed at a predetermined interval (a).
상기한 바와 같은 구조를 갖는 본 고안에 따른 마그네트론의 베인의 동작과정에 대하여 제3도를 참조하여 보다 상세하게 설명하기로 한다.An operation process of the vanes of the magnetron according to the present invention having the structure as described above will be described in more detail with reference to FIG. 3.
제3도를 참조하면 알 수 있듯이, 본 고안에 따른 베인(14)은 고조파를 제거하기 위해 정전용량이 커지도록 필라멘트(20)와 마주하는 각 베인(14)의 선단면(16)에 복수개(예를 들면, 2개)의 오목한 형상의 홈(18)이 소정의(예를 들면 8∼9) 거리(a)를 두고 형성되어 있다.As can be seen with reference to Figure 3, the vane 14 according to the present invention is a plurality of vanes (14) in the front end surface 16 of each vane 14 facing the filament 20 to increase the capacitance to remove harmonics For example, two concave grooves 18 are predetermined (for example, 8 to 9). Is formed at a distance a).
따라서, 상기 필라멘트(20)와 베인(14) 간의 상부이격거리(d1)와 하부이격거리(d2)의 차에 작용공간(23) 내의 전자군의 수직 운동이 베인(14)의 선단면(16)에 형성된 홈(18)에 의해 억제되므로 마그네트론 내의 매우 높은 고조파가 억제되어 마그네트론의 효율이 향상된다.Accordingly, the vertical motion of the electron group in the working space 23 is the tip end surface 16 of the vane 14 in the difference between the upper separation distance d1 and the lower separation distance d2 between the filament 20 and the vane 14. Since it is suppressed by the groove | channel 18 formed in), very high harmonics in a magnetron are suppressed and the efficiency of a magnetron improves.
따라서, 본 고안을 이용하면 베인의 정전용량이 크게 형성되어 필라멘트와 베인 간의 상측과 하측간의 이격거리차로 인해 발생되는 고조파를 억제함으로서, 마그네트론의 효율이 향상되는 효과가 있다.Therefore, by using the present invention, the capacitance of the vane is largely formed, thereby suppressing harmonics caused by the distance between the upper side and the lower side between the filament and the vane, thereby improving the efficiency of the magnetron.
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US6693378B1 (en) | 2002-08-05 | 2004-02-17 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Magnetron for microwave ovens |
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1997
- 1997-02-06 KR KR2019970001854U patent/KR200152142Y1/en not_active IP Right Cessation
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6693378B1 (en) | 2002-08-05 | 2004-02-17 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Magnetron for microwave ovens |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR19980057604U (en) | 1998-10-15 |
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