KR200147688Y1 - Shock absorber for heater - Google Patents
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Abstract
본 고안은 브라운관의 제조공정에서 사용되는 히터에 관한 것으로,The present invention relates to a heater used in the manufacturing process of the CRT,
형광체 및 락카막의 도포가 완료된 브라운관의 판넬 내면부에 알루미늄 막을 진공중착할때 사용되는 히터의 완충장치로 열팽창과 수축시 단락 및 복원력을 유지시켜 제품의 수명을 연장시킨다. 본 고안은 히터가 안치되는 다이의 중심부에 형성되는 홈의 길이를 히터의 안치된 길이보다 소정의 크기를 갖도록 형성하며, 안치된 히터의 단부에 복원스프링이 설치되어 이루어진다.It is a buffer device of heater used for vacuum depositing aluminum film on the inner surface of the panel of phosphor tube and lacquer film which is completed, and it extends the life of the product by maintaining short circuit and restoring force during thermal expansion and contraction. The present invention forms the length of the groove formed in the center of the die in which the heater is placed to have a predetermined size than the settled length of the heater, the restoration spring is installed on the end of the heater placed.
Description
제1도는 본 고안에 따른 히터 완충장치의 사용 상태 단면도.1 is a cross-sectional view of the use state of the heater buffer according to the present invention.
제2도는 본 고안에 따른 히터 완충장치의 사시도.2 is a perspective view of a heater shock absorber according to the present invention.
* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명* Explanation of symbols for main parts of the drawings
10 : 다이 11 : 홈10: die 11: home
12 : 스프링 13 : 전극12 spring 13 electrode
14 : 클림프 20 : 히터14: crimp 20: heater
30 : 알루미늄 40 : 더미콘30: aluminum 40: dummy cone
50 : 판넬 60 : 배출구50: panel 60: outlet
본 고안은 브라운관의 제조공정에서 사용되는 히터에 관한 것으로, 특히 형광체막 및 락카막의 도포가 완료된 브라운관 판넬의 내면부 에 알루미늄막을 진공 증착할때 사용되는 히터의 완충장치에 관한 것이다.The present invention relates to a heater used in the manufacturing process of the CRT, and more particularly to a buffer of the heater used for vacuum deposition of the aluminum film on the inner surface of the CRT panel after the application of the phosphor film and the lacquer film.
일반적으로 브라운관의 판넬내면에 알루미늄막을 도포하는 목적은 브라운관의 휘도 즉 밝기를 향상시키기 위함이다.In general, the purpose of applying an aluminum film on the inner surface of the panel of the CRT is to improve the brightness, that is, the brightness of the CRT.
이는 캐소우드(cathode)로 부터 방사된 전자빔이 형광면에 충돌할 때 발광하는 빛이 반사되어진다 이때 알루미늄막은 반사되어진 빛을 재반사시켜 주는 반사막의 역활을 수행하고 이온(ION)에 의한 형광면의 손상을 방지한다.This reflects the light emitted when the electron beam emitted from the cathode collides with the fluorescent surface. At this time, the aluminum film functions as a reflective film that reflects the reflected light again and damages the fluorescent surface by ION. To prevent.
이는 전자총에서 방사된 전자임이 브라운관내에 잔여하는 미량의 가스(Gas)와 충돌하게 되는데 이 충돌로 인하여 가스가 분해되어 이온 이 발생되며, 발생된 이온은 양극전압에 의해 가속되어 형광면에 충돌 하므로 형광면의 에미션(Emission) 물질을 파괴한다.The electrons emitted from the electron gun collide with a small amount of gas (Gas) remaining in the CRT. This collision causes the gas to decompose and generate ions. Destroy the emission material.
또한 전자총에서 방사된 전자빔이 형광면에 충돌하면 전자는 음의 전기를 갖고있기 때문에 형장면의 전위가 떨어진다. 형광체는 도전성이 없으므로 전기를 통과시키지 못하여 형광체에 충돌한 전자는 다른쪽으로 흐르기 어렵기 때문에 형광면 전위가 과중되고 충돌된 부분의 전위가 떨어진다. 따라서 형광면 위에 알루미늄막을 형성하면 전자빔이 지닌 전자는 알루미늄막을 통하여 다른쪽으로 이동하여 전위가 떨어지는 것을 방지한다.In addition, when the electron beam emitted from the electron gun collides with the fluorescent surface, the potential of the mold surface drops because the electrons have negative electricity. Since the phosphor is not conductive, electrons that do not pass electricity and collide with the phosphor are difficult to flow to the other side, so that the potential of the fluorescent surface becomes heavy and the potential of the collided portion falls. Therefore, when the aluminum film is formed on the fluorescent surface, the electrons of the electron beam move to the other side through the aluminum film to prevent the potential from falling.
이러한 효과를 갖는 알루미늄막은 판넬 내면부에 형광체 및 락카등의 화학물질이 도포된 그위에 진공중착법으로 도포한다.An aluminum film having such an effect is applied on the inner surface of the panel by a vacuum deposition method on chemical substances such as phosphors and lacquers.
알루미늄막의 진공중착을 위해서는 판넬을 안치하는 더미콘과 알루미늄봉을 확산시켜 주기 위한 히터 및 더미콘 내부를 진공상태로 형성시켜 주는 진공펌프 즉 알루미늄카트(CART)가 필요하며, 알루미늄을 진공중착하는 방법은 다음과 같다.For vacuum deposition of the aluminum film, a dummy cone for placing the panel, a heater for diffusing the aluminum rod, and a vacuum pump for forming the inside of the dummy cone in a vacuum state, that is, an aluminum cart (CART), are needed. The method is as follows.
더미콘 내부에 설치된 히터에 알루미늄봉을 안치시킨 다음 더미콘 상반부에 형광체 및 락카등이 도포된 판넬을 안치시켜 기밀을 유지한다. 이후 알루미늄카트를 구동하여 더미콘 내부를 소정의 상태로 진공시킨후 히터를 가열하여 알루미늄을 확산시켜 판넬 내면부에 막을 도포한다.The aluminum rod is placed in the heater installed inside the dummy cone, and then the panel coated with phosphor and lacquer is placed in the upper half of the dummy cone to maintain airtightness. Then, the aluminum cart is driven to vacuum the inside of the dummy cone to a predetermined state, and the heater is heated to diffuse aluminum to apply a film to the inner surface of the panel.
이때 히터는 양측 다이에 안치된 상태에서 클림프의 체결로 고정 되는데 알루미늄봉의 위치가 항상 일정하여야 한다. 이러한 히터는 말루미늄봉을 확산시키기 위해 소정의 온도로 히팅되므로 열적 변형 즉 팽창과 수축이 발생하여 위치변화가 발생되며, 열팽창에 의해 히터가 단락되는 문제점이 있었다.At this time, the heater is fixed by fastening the crimp in the state of being placed on both dies, but the position of the aluminum rods should be constant at all times. Since the heater is heated to a predetermined temperature in order to diffuse the aluminum rod, the thermal deformation, that is, expansion and contraction occurs, the position change occurs, there is a problem that the heater is short-circuited by thermal expansion.
본 고안은 전술한 바와 같은 문제점을 감안하여 안출한 것으로. 히터의 열팽창과 수축에 의한 위치변화를 보상하여 알루미늄막의 진공 증착에 신뢰성과 열팽창에 의한 히터의 단락을 방지하도록 한 것이다. 이와 같은 목적을 달성하기 위해 본 고안은 알루미늄을 가열하여 확산시키는 히터와 히터를 안치하는 다이를 구비한 히팅장치게 있어서, 상기 다이의 중심부에 단축 방향으로 소정길이 형성한 안치흠과, 상기 안치홈에 안치된 히터의 단부에 설치되어 히터의 열팽창과 수축을 보상하는 스프링 및 상기 히터를 상부에서 지지하여 주는 클림프를 구비하 는 것을 특징으로 하는 히터의 완충장치를 제공한다. 이하 첨부된 도면을 참조하여 본 고안의 바람직한 실시예률 설명 하면 다음과 같다.The present invention was devised in view of the above problems. The positional change due to the thermal expansion and contraction of the heater is compensated for, so that the vacuum deposition of the aluminum film is prevented and the short circuit of the heater due to the thermal expansion is prevented. In order to achieve the above object, the present invention provides a heating apparatus having a heater for heating and diffusing aluminum and a die for placing the heater, wherein the settled groove has a predetermined length formed in a uniaxial direction at the center of the die and the settling groove. It is provided at the end of the settled heater provides a shock absorber of the heater having a spring for compensating for the thermal expansion and contraction of the heater and a crimp for supporting the heater from above. Referring to the preferred embodiment of the present invention with reference to the accompanying drawings as follows.
제1도는 본 고안에 따른 히터 완충장치의 사용상태 단면도이고, 제2도는 본 고안에 따른 히터 완충장치의 사시도이다.1 is a cross-sectional view of the heater buffer according to the present invention, and FIG. 2 is a perspective view of the heater buffer according to the present invention.
제1도 내지 제2도에서 알수있는 바와 같이 본 고안은, 다이(10), 홈(11), 스프링(12), 전극(13) 클림프(14) 및 알루미늄(30)을 안치하여 확산시켜주는 히터(20)로 구성된다.As can be seen in Figures 1 to 2, the present invention, the die 10, the groove 11, the spring 12, the electrode 13, the crimp 14 and the aluminum (30) is placed in the diffused It consists of the heater 20.
홈(11)은 다이(10) 중심부에 단축방향으로 히터(20)가 삽입되도록 소정깊이로 형성하며, 홈(11)의 길이는 히터(20)의 안치상태보다 소정치 만큼 연장시킨다. 스프링(12)은 히터(20)가 안치된 흠(11)의 단부 에 삽입설치되어 히터(20)의 열변형을 보상한다. 전극(13)은 다이 (10)의 소정부분에 설치되며 전원으로 부터의 전압을 공급받는다. 클림프(14)는 다이(10)의 평면부 소정위치에 설치고정되며 홈(11)에 삽입 된 히터(20)률 지지한다.The groove 11 is formed to a predetermined depth so that the heater 20 is inserted into the center of the die 10 in the short axis direction, and the length of the groove 11 extends by a predetermined value than the settled state of the heater 20. The spring 12 is inserted into the end of the groove 11 in which the heater 20 is placed to compensate for the thermal deformation of the heater 20. The electrode 13 is installed at a predetermined portion of the die 10 and receives a voltage from a power source. The crimp 14 is fixed to a predetermined position on the flat portion of the die 10 and supports the heater 20 inserted into the groove 11.
전술한 바와 같은 기능으로 구성된 본 고안을 이용한 브라운관 판넬의 알루미늄막 진공중착동작을 설명한다.The vacuum deposition operation of the aluminum film of the CRT panel using the present invention configured as described above will be described.
더미콘(40)의 내부에 설치된 히터(20)의 중심부에 알루미늄(30)을 안치시킨 다음 더미콘(40) 상부에 판넬(50)을 안치하여 기밀을 유지시킨다. 이후 알루미늄카트를 구동시켜 배출구(60)를 통해 더미콘(40) 내부를 소정의 진공상태로 형성한다. 진공이 형성되면 외부의 전압공 급원으로 부터의 소정의 전압이 전극(13)에 인가되면 전극(13)을 통한 전압이 히터(20)를 가열한다. 따라서 히터(20)가 소정온도 이상으로 히팅되면 안치된 알루미늄(30)이 확산되어 판넬(50)의 내면에 알루미늄 막이 증착된다. 이때 히터(20)는 열변형 하여 팽창되는데 히터(20)의 단부 홈(11)에 삽입설치된 스프링(12)에 의해 팽창되는 히터(20)가 단선되지 않는다. 또한 히터(20)가 냉각되면 수축되는데, 스프링(12)의 복원력에 의해 히터(20)는 셀팅된 위치로 복원되어 정상상태를 유지한 다.The aluminum 30 is placed in the center of the heater 20 installed in the dummy cone 40, and then the panel 50 is placed on the dummy cone 40 to maintain airtightness. Thereafter, the aluminum cart is driven to form the inside of the dummy cone 40 in a predetermined vacuum state through the outlet 60. When a vacuum is formed, a predetermined voltage from an external voltage supply source is applied to the electrode 13, and a voltage through the electrode 13 heats the heater 20. Therefore, when the heater 20 is heated to a predetermined temperature or more, the enclosed aluminum 30 is diffused to deposit an aluminum film on the inner surface of the panel 50. At this time, the heater 20 is expanded by thermal deformation, but the heater 20 expanded by the spring 12 inserted into the end groove 11 of the heater 20 is not disconnected. In addition, when the heater 20 is cooled, it is contracted. The heater 20 is restored to the sheltered position by the restoring force of the spring 12 to maintain a normal state.
이상에서 설명한 바와 같이 본 고안은 히터의 열팽창시 단선이 발생되지 않으며 냉각되어 수축되면 스프링의 복원력에 의해 처음 셋팅된 정위치로 복원된다.As described above, the present invention does not cause disconnection during thermal expansion of the heater, and when cooled and contracted, the present invention is restored to the initial position set by the restoring force of the spring.
Claims (2)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR2019930030101U KR200147688Y1 (en) | 1993-12-28 | 1993-12-28 | Shock absorber for heater |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR2019930030101U KR200147688Y1 (en) | 1993-12-28 | 1993-12-28 | Shock absorber for heater |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR950021072U KR950021072U (en) | 1995-07-26 |
KR200147688Y1 true KR200147688Y1 (en) | 1999-06-15 |
Family
ID=19373119
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Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR2019930030101U KR200147688Y1 (en) | 1993-12-28 | 1993-12-28 | Shock absorber for heater |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR200147688Y1 (en) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6773803B2 (en) | 2000-12-19 | 2004-08-10 | Posco | Far-infrared emission powder with antibacterial activity and bio-wave steel plate coated with resin containing same |
-
1993
- 1993-12-28 KR KR2019930030101U patent/KR200147688Y1/en not_active IP Right Cessation
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6773803B2 (en) | 2000-12-19 | 2004-08-10 | Posco | Far-infrared emission powder with antibacterial activity and bio-wave steel plate coated with resin containing same |
Also Published As
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---|---|
KR950021072U (en) | 1995-07-26 |
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