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KR20010093634A - 액정표시패널 및 그 제조방법 - Google Patents

액정표시패널 및 그 제조방법 Download PDF

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KR20010093634A
KR20010093634A KR1020000079155A KR20000079155A KR20010093634A KR 20010093634 A KR20010093634 A KR 20010093634A KR 1020000079155 A KR1020000079155 A KR 1020000079155A KR 20000079155 A KR20000079155 A KR 20000079155A KR 20010093634 A KR20010093634 A KR 20010093634A
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bus line
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가나야마야수후미
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아끼구사 나오유끼
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Publication date
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Abstract

본 발명은 액정표시패널 및 그 제조방법에 관한 것으로서, 유리기판(31)의 비표시부에 복수색의 칼라필터(33)를 적층하여 블랙 매트릭스로 하고, 또한 검사단자(12c, 12d)와 대향하는 영역에 마스크를 배치하여 ITO를 스퍼터링하여 공통전극(34)을 형성하며, 또한 검사단자(12c, 12d)에 대향하는 부분의 공통전극(34) 상에 절연성 수지막을 형성함으로써, 프로빙검사용 검사단자에 도전성 이물이 부착되어도 검사단자와 공통전극과의 단락을 피할 수 있는 액정표시패널 및 그 제조방법을 제공하는 기술이 제시된다.

Description

액정표시패널 및 그 제조방법{LIQUID CRYSTAL DISPLAY AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME}
본 발명은, 프로빙검사용 검사단자를 가지는 액정표시패널 및 그 제조방법에관한 것이다.
액정표시장치는, 얇고 경량임과 동시에 저전압에서 구동할 수 있어 소비전력이 작다고 하는 장점이 있어, 각종 전자기기에 폭넓게 사용되고 있다.
특히, TFT(Thin Film Transistor : 박막트랜지스터) 등의 능동소자가 화소마다 설치된 액티브 매트릭스방식의 액정표시장치는, 표시품질면에서도 CRT(Cathode-Ray Tube)에 필적할 만큼 우수한 것을 얻을 수 있게 되어, 최근에는 휴대 텔레비젼이나 퍼스널컴퓨터 등의 디스플레이에도 사용되게 되었다.
일반적인 TN(Twisted Nematic)형 액정표시장치는, 2장의 투명기판 사이에 액정을 봉입한 구조를 가지고 있다. 이들 투명기판의 상호 대향하는 2개의 면(대향면) 중, 한쪽 면측에는 공통전극(대향전극), 칼라필터 및 배향막 등이 형성되며, 또한 다른쪽 면측에는 TFT, 화소전극 및 배향막 등이 형성되어 있다. 또한, 각 투명기판의 대향면과 반대측 면에는 각각 편광판이 설치되어 있다. 이들 2장의 편광판은, 예를들어 편광판의 편광축이 서로 직교하도록 배치되고, 이에 의해 전계를 걸지않은 상태에서는 빛을 투과시키고, 전계를 인가한 상태에서는 차광하는 모드, 즉 노멀리 화이트모드가 된다. 또한, 2장의 편광판의 편광축이 평행한 경우에는 노멀리 블랙모드로 된다. 이하, TFT 및 화소전극 등이 형성된 기판을 TFT기판이라 부르며, 공통전극 및 칼라필터 등이 형성된 기판을 CF기판이라 부른다.
최근에는, 더욱 더 액정표시장치의 고성능화가 요구되고 있으며, 특히 시각특성의 개선 및 표시품질의 향상이 크게 요구되고 있다. 이와 같은 요구를 충족시키는 것으로서 수직배향(Vertically Aligned : VA)형 액정표시장치가 유망시되고있다.
한편, 액정표시패널의 제조공정에 있어서, 제 1 배선층(게이트 버스 라인 등)을 형성할 때, 에칭의 과부족에 의해 단락이나 저항치 이상 등이 발생하는 경우가 있다. 이와 같은 불량이 발생한 경우에는 그 후의 공정을 실시하여도 의미가 없기 때문에, 제 1 배선층을 형성한 후에 프로빙검사를 실시하여 불량품을 선별하고 있다.
프로빙검사에서는, 검사핀을 검사단자에 접촉시켜 단락의 유무 및 저항치의 적합성 여부를 검사하는데, 액정표시패널의 고정세화에 따라 첨예한 검사핀이 사용되어지도록 되어 있어, 검사핀과의 접촉에 의해 검사단자의 일부가 벗겨져 검사단자에 도전성 이물이 부착된 상태가 되는 경우가 있다.
상기 도전성 이물이 검사단자 상에 남아 있는 채로 TFT기판이 제조되어 CF기판과 접합되면, 도전성 이물과 CF기판측의 공통전극이 접촉되어 단락불량의 원인으로 작용한다. 공통전극 상에는 폴리이미드 등으로 이루어지는 배향막이 형성되어 있는데, 일반적으로 배향막은 매우 얇기 때문에 도전성 이물이 접촉하게 되면 용이하게 절단되어 검사단자와 공통전극이 도전성 이물을 사이에 두고 전기적으로 접속되어지게 된다.
본 발명은, 검사단자에 도전성 이물이 부착되어도 검사단자와 공통전극과의 단락을 피할 수 있는 액정표시패널 및 그 제조방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.
본 발명의 액정표시패널은, 복수의 화소전극과, 복수의 게이트 버스 라인과, 복수의 데이터 버스 라인과, 이들의 화소전극, 게이트 버스 라인 및 데이터 버스 라인에 접속된 박막트랜지스터가 배치된 표시부와, 상기 표시부 주위의 비표시부에 배치되고, 상기 게이트 버스 라인에 접속된 검사단자를 가지는 제 1 기판과, 상기 복수의 화소전극에 대항하여 배치된 공통전극을 가지는 제 2 기판과, 상기 제 1 기판과 상기 제 2 기판 사이에 실드된 액정에 의해 구성되며, 상기 제 2 기판의 상기 검사단자에 대향하는 영역에는 상기 공통전극이 형성되지 않는다.
본 발명에 있어서는, 제 1 기판의 검사단자에 대향하는 제 2 기판(CF기판)의 영역상에는 공통전극을 형성하지 않는다. 이로 인해, 프로빙검사시에 검사단자 상에 도전성 이물이 부착되고, 그 후의 공정에서도 도전성 이물이 제거되지 않았다 하더라도 공통전극과의 전기적인 단락이 방지된다.
또한, 검사단자에 대향하는 제 2 기판의 영역상에 절연막을 형성할 수도 있다. 이로 인해, 검사단자 상에 부착된 도전성 이물은 절연막에 저지되어 공통전극과의 접촉을 피할 수 있다. 절연막은, 예를들면 포토레지스트를 사용하여 용이하게 형성할 수 있다. VA형 액정표시패널에서는 포토레지스트를 사용하여 도메인규제용 돌기를 형성하는 경우가 있다. 이 경우, 도메인규제용 돌기를 형성하기 위한 포토레지스트를 사용하여 동시에 절연막을 형성할 수 있다.
도 1은 본 발명에 제 1 실시예의 액정표시패널을 나타내는 평면도.
도 2는 제 1 실시예의 액정표시패널의 표시부에 형성된 화소를 나타내는 평면도.
도 3은 도 2의 A-A선에 있어서의 액정표시패널의 단면도.
도 4a는 TAB 실장측의 비표시부(도 1의 우단측)에 배치된 검사단자를 나타내는 평면도이고, 도 4b는 TAB 비실장측의 비표시부(도 1의 좌단측)에 배치된 검사단자를 나타내는 평면도.
도 5a는 도 4a의 B-B선에 있어서의 액정표시패널의 단면도이고, 도 5b는 도 4b의 C-C선에 있어서의 액정표시패널의 단면도.
도 6a, b는 검사단자 상에 도전성 이물이 부착된 상태를 나타내는 단면도.
도 7은 본 발명의 제 2 실시예의 액정표시패널의 표시부에 있어서의 단면도.
도 8은 제 2 실시예의 액정표시패널의 화소를 나타내는 평면도.
도 9a는 TAB 실장측의 비표시부에 배치된 검사단자(게이트 버스 라인에 접속된 검사단자)의 단면도, 도 9b는 TAB 비실장측의 비표시부에 배치된 검사단자(보조용량 버스 라인에 접속된 검사단자)의 단면도.
도 10a, b는 검사단자 상에 도전성 이물이 부착된 상태를 나타낸 단면도.
도면의 주요부분에 대한 부호의 설명
1 : 액정표시패널 2 : 플렉시블기판
3 : LSI 4 : 표시부
5 : 비표시부 10 : TFT기판
11, 31 : 유리기판 12a : 게이트 버스 라인
12b : 보조용량 버스 라인 12c, 12d : 검사단자
13, 18 : 절연막 14a, 14b : 비정질 실리콘막
15 : 채널보호막 16 : 오믹(ohmic) 콘택트층
17 : TFT 17a : 데이터 버스 라인
17b : 소스전극 17c : 드레인전극
17d : 보조용량전극 19a : 화소전극
19s : 슬릿 20, 35 : 배향막
30 : CF기판 33 : 칼라필터
34 : 공통전극 36a : 도메인규제용 돌기
36b : 수지막 38, 39 : 액정
이하, 본 발명의 실시예에 대하여 첨부한 도면을 참조하여 설명하기로 한다.
제 1 실시예
도 1은 본 발명의 제 1 실시예인 액정표시패널을 나타내는 평면도이고, 도 2는 마찬가지로 상기 액정표시패널의 표시부에 형성된 화소를 나타내는 평면도이고, 도 3은 도 2의 A-A선에 있어서의 액정표시패널의 단면도이다. 또한, 도 4a는 TAB 실장측의 비표시부(도 1의 우단측)에 배치된 검사단자를 나타내는 평면도이고, 도 4b는 TAB 비실장측의 비표시부(도 1의 좌단측)에 배치된 검사단자를 나타내는 평면도이며, 도 5a는 도 4a의 B-B선에 있어서의 액정표시패널의 단면도, 도 5b는 도 4b의 C-C선에 있어서의 액정표시패널의 단면도이다.
액정표시패널(1)의 인접하는 2개의 변을 따라 복수의 TAB단자(도시생략)가 설치되어 있으며, 이들 TAB단자에 LSI(대규모집적회로 : Large Scale Integration)(3)가 탑재된 플렉시블기판(2)이 접속된다. 이들 플렉시블기판(2)을 매개로 액정표시패널(1)에 표시데이터 및 타이밍신호 등이 공급된다.
액정표시패널(1)은, 도 3에 나타낸 바와 같이, TFT기판(10)과, CF기판(30)과, 이들 TFT기판(10)과 CF기판(30) 사이에 봉입된 액정(38)에 의해 구성되어 있다. 또한, 액정표시패널(1)은 도 1에 나타낸 바와 같이 다수의 화소가 배열된 표시부(4)와 그 주위의 비표시부(5)의 2개의 영역으로 나뉠 수 있다. TFT기판(10)의 표시부(4)에는, 도 2에 나타낸 바와 같이, 서로 평행하게 배치된 복수개의 게이트 버스 라인(12a)과, 각 게이트 버스 라인(12a) 사이에 각각 배치된 복수개의 보조용량 버스 라인(12b)과, 게이트 버스 라인(12a)에 교차하는 복수개의 데이터 버스 라인(17a)이 형성되어 있다. 게이트 버스 라인(12a) 및 데이터 버스 라인(17a)으로 둘러싸인 장방형의 영역이 각각 화소영역으로 되어 있다. 그리고, 각 화소영역마다 TFT(17), 화소전극(19a) 및 보조용량전극(17d)이 형성되어 있다. 본 예에서는, TFT(17)의 소스전극(17b) 및 드레인전극(17c)은 게이트 버스 라인(12a)을 사이에 두고 배치되며, 보조용량전극(17d)은 보조용량 버스 라인(12b)의 상방에 배치되어 있다.
한편, CF기판(30)에는 적색(R), 녹색(G) 및 청색(B)의 칼라필터(33)와, 이들 칼라필터(33)를 덮는 공통전극(34)과, 공통전극(34)을 덮는 배향막(35)이 형성되어 있다. 본 예에서는, 차광영역(즉, 화소간의 영역, TFT형성영역 및 비표시부(5))을 차광하는 블랙 매트릭스를, 도 3, 도 5에 나타낸 바와 같이 2색 이상의 칼라필터(33)(도에서는 적색(R)과 청색(B)의 칼라필터)를 적층하여 형성하고 있다. 또한, 검사단자(12c, 12d)에 대향하는 CF기판측의 영역(도 4a, b에서 파선사이에 들어 있는 영역)에는 공통전극(34)이 형성되어 있지 않다.
이하, 본 실시예의 액정표시패널의 제조방법에 대하여 도 1∼도 5를 참조하여 설명하기로 한다. 우선, TFT기판(10)의 제조방법에 대하여 설명하기로 한다.
우선, 유리기판(11) 상에 Cr(크롬)을 스퍼터링하여, 제 1 배선층이 되는 도전막을 약 150nm의 두께로 형성한다. 그리고, 포토리소그래피에 의해 상기 도전막을 패터닝하여 게이트 버스 라인(12a), 보조용량 버스 라인(12b), 검사단자(12c, 12d) 및 TAB단자(도시생략)를 형성한다. 도 4a, b에 나타낸 바와 같이, 검사단자(12c)는 게이트 버스 라인(12a)에 접속하고, 검사단자(12d)는 보조용량 버스 라인(12b)에 접속하여 형성한다. 또한, 이들 검사단자(12c, 12d)는 비표시부(5)에 형성한다. 또한, 본 예에서는 제 1 배선층이 되는 도전막을 Cr에의해 형성하였는데, 이에 한정되는 것이 아니라, Al(알루미늄)과 Ti(티탄)의 적층구조로 할 수도 있으며, Al합금으로 형성할 수도 있다.
그 후, 프로빙검사를 수행한다. 즉, 검사단자(12c, 12d)에 검사핀을 접촉시켜 단락불량의 유무 및 저항치의 적합성 여부를 검사하여 불량이라 판정된 것을 제조라인에서 제외시킨다.
다음으로, 유리기판(11)의 상측 전면(全面)에 절연막(게이트 절연막)(13)을 형성하고, 상기 절연막(13)에 의해 게이트 버스 라인(12a), 보조용량 버스 라인(12b), 검사단자(12c, 12d) 및 TAB단자를 덮는다. 절연막(13)은 질화실리콘(SiN) 또는 산화실리콘(SiO2)에 의해 약 100∼600nm의 두께로 형성한다.
다음으로, 절연막(13) 상에 TFT(17)의 활성층이 되는 비정질 실리콘막(14a)을 선택적으로 형성한다. 이 때, 동시에 검사단자(12d) 상에도 비정질 실리콘막(14b)을 형성한다. 비정질 실리콘막(14a, 14b)은 예를들면 15∼50nm의 두께로 형성한다.
그 후, 비정질 실리콘막(14a) 상에, 채널보호막(절연막)(15)을 형성한다. 채널보호막(15)은 예를들면 질화실리콘에 의해 약 50nm∼200nm의 두께로 형성한다.
다음으로, 유리기판(11)의 상측 전면에 TFT(17)의 오오믹(ohmic) 콘택트층이 되는 n+형 비정질 실리콘막을 약 30nm의 두께로 형성한다. 그 후, 상기 비정질 실리콘막 상에 Ti, Al 및 Ti을 순서대로 적층하여 이들 Ti, Al 및 Ti의 3층 구조의 도전막(제 2 배선층)을 형성한다. 하층의 Ti층의 두께는 예를들면 20nm, Al층의 두께는 예를들면 75nm, 상층의 Ti층의 두께는 예를들면 20nm로 한다.
그리고, 포토리소그래피에 의해 도전막 및 n+형 비정질 실리콘막을 패터닝하여 오오믹 콘택트층(16), 데이터 버스 라인(17a), 소스전극(17b), 드레인전극(17c) 및 보조용량전극(17d)을 형성한다. 본 예에서는 제 2 배선층을 Ti, Al 및 Ti의 3층구조로 하였는데, Al, Al합금 또는 그 밖의 저저항금속으로 형성할 수도 있다.
다음으로, 유리기판(11)의 상측 전면에 질화실리콘으로 이루어지는 절연막(보호막)(18)을 약 330nm의 두께로 형성한다. 그리고, 상기 절연막(18)에, 소스전극(17b)에 도달하는 콘택트홀, 보조용량전극(17d)에 도달하는 콘택트홀 및 검사단자(12d)에 도달하는 콘택트홀을 형성한다.
다음으로, 유리기판(11)의 상측전면에 ITO(indium-tin oxide : 인듐산화주석)으로 이루어지는 투명도전막을 약 70nm의 두께로 형성한다. 그리고, 상기 투명도전막을 포토리소그래피에 의해 패터닝하여 화소전극(19a)과 검사단자(12d) 상의 커버막(19b)을 형성한다.
이어서, 유리기판(11)의 상측 전면에 폴리이미드로 이루어지는 배향막(20)을 약 100nm의 두꼐로 형성한다. 이로써, TFT기판(10)이 완성된다.
이하, CF기판의 제조방법을 나타내는 도이다.
우선, 유리기판(31) 상에 청색안료를 분산시킨 포토레지스트를 약 1.5㎛의 두께로 도포하고, 노광 및 현상공정을 거쳐 청색화소부 및 차광영역에 청색칼라필터(33)(B)를 형성한다. 그 후, 유리기판(31) 상에 적색안료를 분산시킨 포토레지스트를 약 1.5㎛의 두께로 도포하고 노광 및 현상공정을 거쳐 적색화소부 및 차광영역에 적색칼라필터(33)(R)를 형성한다. 이어서, 유리기판(31) 상에 녹색안료를분산시킨 포토레지스트를 1.5㎛의 두께로 도포하고, 노광 및 현상공정을 거쳐 녹색화소부에 녹색칼라필터(33)(G)를 형성한다.
이어서, TFT기판(10)의 검사단자(12c, 12d)에 대향하는 유리기판(31) 상의 영역을 마스크로 덮고, ITO를 스퍼터링하여 두께가 약 150nm인 공통전극(34)을 형성한다. 이로써, 검사단자(12c, 12d)의 형성영역에 대향하는 영역을 제외하고 유리기판(31)의 상측에 공통전극(34)이 형성되어진다.
그 후, 유리기판(31)의 상측 전면에 폴리이미드를 약 100nm의 두께로 형성하여 배향막(35)으로 한다. 이로써 CF기판(30)이 완성된다.
이와 같이 하여 TFT기판(10) 및 CF기판(30)을 형성한 후, TFT기판(10) 또는 CF기판(30) 중 어느 한쪽의 표시부 외측에 실드재를 도포하고, 구형 또는 원통형의 스페이서(도시생략)를 산포하여 TFT기판(10)과 CF기판(30)을 접합시킨다. 이 때, 후공정에서 TFT기판(10)과 CF기판(30) 사이에 액정을 주입하기 위하여 일부분 실드재를 도포하지 않은 영역을 마련해서 액정주입구로 한다.
그 후, 진공환경속에서 액정주입구를 액정속에 넣어 진공환경을 대기압으로 되돌린다. 이로 인해, TFT기판(10)과 CF기판(30) 사이에 액정이 주입된다. 그 후, 액정주입구를 수지로 실드한다. 이로써, 본 실시예의 액정표시패널이 완성된다. 또한, TFT기판(10) 및 CF기판(30) 중 어느 한쪽 상에 액정을 적하시킨 후, 그 위에 다른쪽 기판을 배치하는 이른바 적하주입법에 의해 TFT기판(10)과 CF기판(30) 사이에 액정을 주입할 수도 있다.
본 실시예에 있어서는, 도 5a, b에 나타낸 바와 같이, 검사단자(12c, 12d)가형성된 영역에 대응하는 CF기판(30) 측의 영역에는 공통전극(34)이 형성되어 있지 않기 때문에, 도 6(a), (b)에 나타낸 바와 같이, 프로빙검사시에 검사단자(12c, 12d)로부터 벗겨진 도전성 이물(22)이 검사단자(12c, 12d) 상에 부착되었다 하더라도, 검사단자(12c, 12d)와 공통전극(34)의 단락불량의 발생을 피할 수 있다. 이로써, 액정표시패널의 제조수율이 향상되는 효과를 볼 수 있다. 또한, 마스크 스퍼터링에 의해 검사단자(12c, 12d)에 대향하는 유리기판(31) 상의 영역에 ITO가 부착되지 않도록 하고 있기 때문에, 에칭에 의해 당해 영역의 ITO를 제거하는 방법에 비해 공정수를 삭감할 수 있다는 이점도 있다.
또한, 상기의 예에서는 2색 이상의 칼라필터(33)를 적층함으로써 블랙 매트릭스를 형성하였는데, 블랙 매트릭스는 Cr(크롬) 등의 금속 또는 흑색수지에 의해 형성할 수도 있다. 단, 블랙 매트릭스가 도전성을 가지는 경우에는, 블랙 매트릭스 상에 절연성의 수지(예를들면, 칼라필터)를 형성하는 등의 방법에 의해 블랙 매트릭스와 공통전극이 전기적으로 접속되지 않도록 할 필요가 있다.
또한, 상기의 예에서는 마스크 스퍼터링에 의해 검사단자에 대향하는 부분에 대한 ITO의 부착을 방지하였는데, 전면에 ITO막을 형성하고 에칭 등의 방법으로 검사단자에 대향하는 부분의 ITO막을 제거할 수도 있다.
실시예 2
이하, 본 발명의 제 2 실시예인 액정표시패널의 제조방법에 대하여 설명하기로 한다. 본 실시예는 본 발명을 VA형 액정표시패널에 적용시킨 예를 나타낸다.
도 7은 제 2 실시예의 액정표시패널의 표시부에 있어서의 단면도이고, 도 8은 화소를 나타내는 평면도, 도 9a는 TAB 실장측의 비표시부에 배치된 검사단자(게이트 버스 라인과 접속한 검사단자)의 단면도이고, 도 9b는 TAB 비실장측의 비표시부에 배치된 검사단자(보조용량 버스 라인과 접속한 검사단자)의 단면도이다. 또한, 도 7∼도 9에 있어서, 도 2∼도 5와 동일한 것에는 동일한 부호를 붙여 그 상세한 설명은 생략하기로 한다.
본 실시예에 있어서는, TFT기판(10)측의 화소전극(19a)에 경사방향으로 배열한 복수의 슬릿(19s)이 설치되어 있다. 또한, CF(30)측의 공통전극(34)의 하측에는, TFT기판(10)측의 슬릿(19s)의 배열방향에 평행하게 뻗은 도메인규제용 돌기(36a)가 형성되어 있다. 또한, TFT기판(10)과 CF기판(30) 사이에는 VA형 액정(39)이 봉입되어 있다.
전압이 인가되어 있지 않은 상태에서는, VA형 액정(39)의 액정분자는 배향막(20. 34)에 수직인 방향으로 배향된다. 따라서, 돌기(36a)의 양측에서는 액정분자의 배향방향이 서로 다르다. 화소전극(19a)과 공통전극(34) 사이에 전압이 인가되면, 액정분자는 전계에 수직인 방향으로 쓰러진다. 이 때, 돌기(36a)의 양측 및 슬릿(19s)의 양측에서는 액정분자가 쓰러지는 방향이 서로 다르다. 즉, 하나의 화소내에서 액정분자가 쓰러지는 방향이 서로 다른 2개의 영역이 존재하게 된다. 이와 같이 해서 배향분할(멀티도메인)이 달성되어 시각특성이 크게 개선된다.
또한, 본 실시예에서는, TFT기판(10)의 프로빙검사단자(12c, 12d)에 대향하는 CF기판(30)의 영역에 절연성의 수지막(36b)이 형성되어 있다. 돌기(36a) 및 수지막(36b)은 모두 포토레지스트에 의해 형성되어 있다.
이하, 본 실시예의 액정표시패널의 제조방법에 대하여 설명하기로 한다. 우선, TFT기판의 제조방법에 대하여 설명하기로 한다.
제 1 실시예와 마찬가지로 하여, 유리기판(11) 상에 게이트 버스 라인(12a), 보조용량 버스 라인(12b), 보조용량단자(12c, 12d) 및 TAB단자 등을 형성한 후, 프로빙검사를 실시하여 불량품을 선별한다.
다음으로, 제 1 실시예와 마찬가지로 하여, 유리기판(11) 상에 게이트 절연막(13), TFT(17), 데이터 버스 라인(17a), 보조용량전극(17d), 절연막(보호막)(18) 등을 형성한다. 그리고, 절연막(18)에, 소스전극(17b)에 도달하는 콘택트홀, 보조용량전극(17d)에 도달하는 콘택트홀 및 검사단자(12d)에 도달하는 콘택트홀을 선택적으로 형성한 후, 유리기판(11)의 상측 전면에 ITO막을 형성한다. 그 후, 상기 ITO막을 포토리소그래피에 의해 패터닝하여 화소전극(19a) 및 검사단자(12d) 상의 커버막(19d)을 형성한다. 이 때, 화소전극(19a)에는 경사방향으로 배열한 복수의 슬릿(19s)을 설치해 둔다.
이어서, 유리기판(11)의 상측 전면에 폴리이미드로 이루어지는 배향막(20)을 형성한다. 이로써, TFT기판(10)이 완성된다.
이하, CF기판의 제조방법에 대하여 설명하기로 한다.
제 1 실시예와 마찬가지로 하여, 유리기판(31) 상에 청색 칼라필터(33)(B), 적색 칼라필터(33)(R) 및 녹색 칼라필터(33)(G)를 형성한다. 이 때, 차광영역(즉, 화소간의 영역, TFT형성영역 및 비표시부(5))에는 2색 이상의 칼라필터를 적층하여블랙 매트릭스로 해 둔다.
다음으로, 전면에 ITO를 스퍼터링하여 공통전극(34)을 형성한다. 그 후, 공통전극(34) 상에 포토레지스트막을 형성하고, 노광 및 현상공정을 거쳐 표시부(4)의 공통전극(34) 상에 돌기(36a)를 형성함과 동시에, 검사단자(12c, 12d)에 대향하는 비표시부(5)의 공통전극(34) 상에 수지막(36b)을 형성한다.
이어서, 유리기판(31)의 상측 전면에 폴리이미드로 이루어지는 배향막(35)을 형성하고, 공통전극(34), 돌기(36a) 및 수지막(36b)의 표면을 덮는다. 이로써, CF기판(30)이 완성된다.
그 후, TFT기판(10)과 CF기판(30)을 실드재로 접합시키고, 이들 TFT기판(10)과 CF기판(30) 사이에 VA형 액정(39)을 주입한다. 그리고, 액정주입구를 수지 등으로 실드함으로써, 본 실시예의 액정표시패널이 완성된다.
본 실시예에 있어서는, 검사단자(12c, 12d)의 상방에 절연성 수지막(36b)이 형성되어 있기 때문에, 도 10에 나타낸 바와 같이, 검사단자(12c, 12d) 상에 도전성 이물(22)이 부착되어 있어도 검사단자(12c, 12d)와 공통전극(34)의 단락이 방지된다.
상기 실시예에 있어서는, TFT기판(10) 측의 화소전극(19a)에 도메인규제용 슬릿(19s)을 설치한 경우에 대하여 설명하였는데, 슬릿(19s) 대신에 화소전극(19a) 상에 도메인규제용 돌기를 형성할 수도 있다.
또한, 상기 실시예에서는 포토레지스트에 의해 절연막(수지막(36b))을 형성하였는데, 포토레지스트 이외의 재료로 절연막을 형성할 수도 있다.
이상에서 설명한 바와 같이, 본 발명에 의하면, 검사단자에 대향하는 부분에 공통전극을 형성하지 않거나, 또는 절연막을 형성하기 때문에, 프로빙검사에 의해 박리된 도전성 이물이 검사단자 상에 부착되어도 검사단자와 공통전극의 단락을 확실하게 방지할 수 있다. 이로써, 액정표시패널의 제조수율이 향상된다.

Claims (12)

  1. 복수의 화소전극과, 복수의 게이트 버스 라인과, 복수의 데이터 버스 라인과, 이들 화소전극, 게이트 버스 라인 및 데이터 버스 라인에 접속된 박막트랜지스터가 배치된 표시부와, 상기 표시부 주위의 비표시부에 배치되고, 상기 게이트 버스 라인에 접속된 검사단자를 가지는 제 1 기판과,
    상기 복수의 화소전극에 대향하여 배치된 공통전극을 가지는 제 2 기판과,
    상기 제 1 기판과 상기 제 2 기판 사이에 봉입된 액정
    으로 구성된 액정표시패널에 있어서,
    상기 제 2 기판의, 상기 검사단자에 대향하는 영역에는 상기 공통전극이 형성되어 있지 않는 것을 특징으로 하는 액정표시패널.
  2. 복수의 화소전극과, 복수의 게이트 버스 라인과, 복수의 데이터 버스 라인과, 이들 화소전극, 게이트 버스 라인 및 데이터 버스 라인에 접속된 박막트랜지스터가 배치된 표시부와, 상기 표시부 주위의 비표시부에 배치되고, 상기 게이트 버스 라인에 접속된 검사단자를 가지는 제 1 기판과,
    상기 복수의 화소전극 및 상기 검사단자에 대향하여 배치된 공통전극과, 상기 공통전극 상의, 상기 검사단자에 대향하는 영역에 형성된 절연막을 가지는 제 2 기판과,
    상기 제 1 기판과 상기 제 2 기판 사이에 봉입된 액정
    을 가지는 것을 특징으로 하는 액정표시패널.
  3. 제 2항에 있어서,
    상기 절연막이 포토레지스트에 의해 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 액정표시패널.
  4. 제 2항에 있어서,
    상기 제 2 기판의 상기 공통전극 상에 도메인규제용 돌기를 가지는 것을 특징으로 하는 액정표시패널.
  5. 제 4항에 있어서,
    상기 절연막 및 상기 도메인규제용 돌기가 모두 포토레지스트에 의해 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 액정표시패널.
  6. 제 1 기판의 표시부에 게이트 버스 라인을 형성하고, 비표시부에 상기 게이트 버스 라인과 접속된 검사단자를 형성하는 공정과,
    상기 제 1 기판상에 데이터 버스 라인과, 화소전극과, 이들 데이터 버스 라인, 화소전극 및 상기 게이트 버스 라인에 접속한 박막 트랜지스터를 형성하는 공정과,
    상기 검사단자에 대향하는 영역을 제외하고 제 2 기판 상에 공통전극을 형성하는 공정과,
    상기 제 1 기판과 상기 제 2 기판 사이에 액정을 봉입하는 공정
    을 가지는 것을 특징으로 하는 액정표시패널의 제조방법.
  7. 제 6항에 있어서,
    상기 공통전극은 상기 검사단자에 대향하는 영역에 마스크를 배치하고, 도전재료를 스퍼터링하여 형성하는 것을 특징으로 하는 액정표시패널의 제조방법.
  8. 제 1 기판의 표시부에 게이트 버스 라인을 형성하고, 비표시부에 상기 게이트 버스 라인과 접속된 검사단자를 형성하는 공정과,
    상기 제 1 기판상에 데이터 버스 라인과, 화소전극과, 이들 데이터 버스 라인, 화소전극 및 상기 게이트 버스 라인에 접속한 박막 트랜지스터를 형성하는 공정과,
    제 2 기판상에 공통전극을 형성하는 공정과,
    상기 검사단자에 대향하는 영역의 상기 공통전극 상에 절연막을 형성하는 공정과,
    상기 제 1 기판과 상기 제 2 기판 사이에 액정을 봉입하는 공정
    을 가지는 것을 특징으로 하는 액정표시패널의 제조방법.
  9. 제 8항에 있어서,
    상기 절연막을 포토레지스트에 의해 형성하는 것을 특징으로 하는 액정표시패널의 제조방법.
  10. 제 8항에 있어서,
    상기 화소전극에 도메인규제용 슬릿을 형성하는 것을 특징으로 하는 액정표시패널의 제조방법.
  11. 제 8항에 있어서,
    상기 공통전극 상에 도메인규제용 돌기를 형성하는 공정을 가지는 것을 특징으로 하는 액정표시패널의 제조방법.
  12. 제 11항에 있어서,
    상기 도메인규제용 돌기 및 상기 절연막은 포토레지스트에 의해 동시에 형성하는 것을 특징으로 하는 액정표시패널의 제조방법.
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