KR20010053100A

KR20010053100A - 선스크린 제제

Info

Publication number: KR20010053100A
Application number: KR1020007014588A
Authority: KR
Inventors: 루터헬무트; 스텔링알베르
Original assignee: 에프. 아. 프라저, 에른스트 알테르 (에. 알테르), 한스 페터 비틀린 (하. 페. 비틀린), 피. 랍 보프, 브이. 스펜글러, 페. 아에글러; 시바 스페셜티 케미칼스 홀딩 인크.
Priority date: 1998-06-22
Filing date: 1999-06-10
Publication date: 2001-06-25
Also published as: JP4156802B2; AU757342B2; KR100600424B1; ID26827A; DE69907454D1; JP2002518428A; BR9911414A; ES2196816T3; EP1089706A1; EP1089706B1; BRPI9911414B1; CN1306417A; US6521217B1; AR019691A1; CN1186007C; WO1999066896A1; AU4510999A; IL139118A0; DE69907454T2

Abstract

본 발명은 제제의 오일 상에 존재하는 미소화된 유기 자외선 흡수제(a) 및 미용적으로 허용되는 담체(b)를 포함하는 선스크린 제제에 관한 것이다.

본 발명의 선스크린 조성물은 일광의 손상 효과에 대해 인체 피부의 보호성이 탁월하며, 피부의 안전한 갈색화를 가능하게 한다.

Description

선스크린 제제{Sun screen formulations}

본 발명은 신규한 제제, 특히 제제의 오일 상(oil phase)에 존재하는 미소화된 자외선 흡수제를 포함하는 신규한 자외선 보호제에 관한 것이다.

지구의 표면에 도달하는 자외선에 대한 장기간의 노출은 홍반 또는 일광(light) 피부병의 발생을 유도할 뿐 아니라, 피부암 발생의 증가 또는 피부 노화 촉진을 유도할 수 있다.

자외선을 상쇄시켜 피부 상에서 상기의 바람직하지 않은 결과를 억제하고자 하는 물질을 포함하는 각종 선스크린 제제가 제안되어 왔다.

선스크린 제제에서 자외선 보호제로서의 사용하기 위한 다수의 화합물, 특히 가용성 유기 자외선 흡수제 및 불용성 미소화된 무기 화합물, 특히 산화아연 및 이산화티탄이 제안되어 왔다.

가용성 유기 자외선 흡수제의 선스크린 제제로의 사용에 관해서, 선스크린 제제에서 SPF(Sun Protection Factor:태양 보호 인자)의 관점에서 이들의 자외선 보호제로서의 효과는 종종 상업적 목적을 위해서는 너무 낮으며; 이들의 용해도로 인하여, 비교적 높은 알레르기 항원 잠재성을 나타내고; 고유의 광화학적 불안정성으로 인하여, 보호 효과의 지속성이 종종 너무 낮다는 단점들이 있다.

높은 비중의 불용성 무기 화합물, 예를 들어 이산화티탄은 이들을 함유하는 제제의 안정성을 감소시킨다. 게다가, 이러한 무기 화합물은 광과 물의 영향하에서 독성 라디칼을 발생시킨다고 보고되고 있다(참조: "Redox Mechanisms in Heterogeneous Photocatalysis", Serpone et al, Electrochemistry in Colloids and Dispersions, Editors Mackay and Texter, VCH Publishers Inc., New York 1992).

GB-A 2303549는 미소화된, 불용성 유기 자외선 흡수제의 제조방법 뿐 아니라, 미소화된 제제의 전체 조성물을 기준으로 하여, 0.1 내지 15중량%, 바람직하게는 0.5 내지 10중량%의 상기 제조방법으로 생산된 불용성 유기 자외선 흡수제(a) 및 임의로 미용적으로 허용되는 담체(b)를 포함하는 선스크린 조성물에 관해 기술하고 있다.

이렇게 수득된 미소화된, 불용성 유기 자외선 흡수제를 선스크린 제제에 사용하는 경우, 자외선 보호가 탁월하고, 이의 SPF 등급은 공지된 무기 자외선 흡수제를 함유하는 상응하는 선스크린 제제에 적어도 필적한다. 후자의 자외선 흡수제와는 달리, 미소화된, 불용성 유기 자외선 흡수제는 광의 영향하에서 인체 피부를 손상시키거나 감작화시킬 수 있는 라디칼을 발생시키는 경향을 보이지 않는다.

GB-A-2303549에 기재된 개념을 더욱 진보시킨 것으로서, 본 발명에 이르러 선스크린 제제의 오일 상에 존재하는 미소화된, 불용성 유기 자외선 흡수제는 일광 보호에 있어서 상당한 개선을 보인다는 것이 밝혀졌다.

따라서, 본 발명의 제1 국면은 제제의 오일속에 존재하는 미소화된 유기 자외선 흡수제(a) 및 미용적으로 허용되는 담체(b)를 포함하는, 약제 또는 화장품으로 사용하기에 특히 적합한 선스크린 제제를 제공한다.

미소화된 유기 자외선 흡수제인 성분(a)은 바람직하게는 GB-A-2303549에 기재된 방법, 즉 미소화된 유기 자외선 흡수제를 기준으로 하여, 1 내지 50중량%, 바람직하게는 5 내지 40중량%의 화학식 C_nH_2n+1O(C₆H₁₀O₅)_xH[여기서, n은 8 내지 16의 정수이고, x는 글루코시드 잔기(C₆H₁₀O₅)의 평균 중합도이며, 이의 범위는 1.4 내지 1.6이다]의 알킬 폴리글루코시드 또는 이의 에스테르의 존재하에, 유기 자외선 흡수제를 조악한 입자 형태로 분쇄 장치에서 분쇄함을 포함하는 방법에 의해 제조된다.

미소화된 유기 자외선 흡수제를 제조하기 위해 사용되는 분쇄 장치의 예로는 제트 밀(jet mill), 볼 밀(ball mill), 진동 밀(vibration mill) 또는 햄머 밀(hammer mill), 바람직하게는 고속 교반 밀 또는 임팩트 밀(impact mill), 특히 회전 볼 밀, 진동 밀, 튜브 밀(tube mill) 또는 로드 밀(rod mill)을 들 수 있다.

알킬 폴리글루코시드는 화학식 C_nH_2n+1O(C₆H₁₀O₅)_xH의 화합물의 C₁-C₁₂에스테르, 즉 C₁-C₁₂산, 예를 들어 포름산, 아세트산, 프로피온산, 부티르산, 설포석신산, 시트르산 또는 타르타르산을 글루코시드 잔기(C₆H₁₀O₅) 상의 하나 이상의 자유 OH 그룹과 반응시킴으로써 형성된 에스테르로 이루어질 수 있다.

미소화된 유기 자외선 흡수제을 상이한 방법으로 오일 상에 혼입시킬 수 있다.

바람직한 혼입 방법에서, 미소화된 유기 자외선 흡수제는 분말로서 혼입될 수 있다. 이러한 목적을 위해, 미소화된 유기 자외선 흡수제를 공지된 분말화 방법, 예를 들어 용매 침전, 용매로부터의 진공 분무 등을 수행할 수 있다. 이러한 분말의 입자 크기는 0.1nm 내지 2㎛이다. 응집 공정을 방지하기 위해, 미소화된 유기 자외선 흡수제를 표면 활성제, 예를 들어 비이온성, 음이온성, 양이온성 또는 양쪽성 표면활성제(예: 인지질), 또는 공지된 중합체, 예를 들어 PVP, 아크릴레이트 등으로 분말화 이전에 피복시킬 수 있다.

예를 들어, 수용성 계면활성제 또는 유화제를 미소화된 유기 자외선 흡수제의 수성 현탁액에 첨가한다. 이어서, 이러한 혼합물을 분무-건조시킨다. 분무-건조 공정 동안에 계면활성제 또는 유화제를 얇은 막의 형태로 미세-입자를 피복하고, 응집을 방지하고, 오일속에서 목적한 입자 크기로의 재-분산을 도모한다.

또 다른 바람직한 방법에서, 미소화된 유기 자외선 흡수제를 선스크린 제제의 제조 동안에 오일상으로 전달시킬 수 있다: 수성 분쇄시킴으로써 생산된 미소화된 유기 자외선 흡수제를 선스크린 제제의 오일상과 혼합시킬 때, 물을 공지된 방법, 예를 들어 진공 제거에 의해 제거한다. 이러한 방법에 의해, 미소화된 유기 자외선 흡수제를 제제의 오일상으로 전달시킨다.

또한, 선스크린 조성물의 수성상에 존재하는 미소화된 유기 자외선 흡수제는 수 일 또는 수 주후에 오일상으로 이동함이 관측되었다.

따라서, 본 발명의 또 다른 국면은 유기 자외선 흡수제를 수성 현탁액으로서 미소화시키는 제1 단계, 미소화된 유기 자외선 흡수제를 선스크린 조성물의 오일상과 혼합시키는 제2 단계 및 3주 이상 동안 제제를 저장하는 제3 단계에 의해 선스크린 조성물을 제조하는 방법에 관한 것이다.

적당한 유기 자외선 흡수제의 예로는 트리아진, 벤조트리아졸, 비닐 그룹 함유 아미드, 신남산 아미드 또는 설폰화 벤즈이미다졸 자외선 흡수제를 들 수 있다.

바람직한 트리아진 화합물류는 화학식 1의 화합물이다:

상기식에서,

R₁, R₂및 R₃은 독립적으로 H, OH, C₁-C₃알콕시, NH₂, NH-R₄, N(R₄)₂, OR₄[여기서, R₄는 C₁-C₃알킬이다], 페닐, 페녹시, 아닐리노 또는 피롤로이며, 여기서 페닐, 페녹시, 아닐리노 또는 피롤로 잔기는 치환되지 않거나, OH, 카복시, CO-NH₂, C₁-C₃알킬, C₁-C₃알콕시, 메틸리덴캄포르 그룹, 그룹 -(CH=CH)_mC(=O)-OR₄, 그룹또는 상응하는 알칼리 금속 염, 암모늄 염, 모노-, 디- 또는 트리-C₁-C₄알킬암모늄 염, 모노-, 디- 또는 트리-C₂-C₄알칸올암모늄 염, 또는 이들의 C₁-C₃알킬 에스테르, 화학식(1a)의 라디칼로부터 선택된 1개, 2개 또는 3개의 치환체에 의해 치환되고,

R₅는 하이드록시, 치환되지 않거나 하나 이상의 OH 그룹에 의해 치환된 C₁-C₅알킬, C₁-C₅알콕시, 아미노, 모노- 또는 디-C₁-C₅알킬아미노, M, 화학식(1b), 화학식(1c), 화학식(1d) 또는 화학식(1e)의 라디칼이며,

R', R″및 R'"은 각각 독립적으로 치환되지 않거나 하나 이상의 OH 그룹에 의해 치환된 기타 C₁-C₁₄알킬이며,

R₆는 수소, M, C₁-C₅알킬 또는 화학식의 라디칼이며,

M은 금속 양이온이고,

T₁은 수소 또는 C₁-C₈알킬이고,

m은 0 또는 1이고,

m₁은 1 내지 5이고,

m₂는 1 내지 4이고,

m₃은 2 내지 14이다.

바람직한 화학식 1의 화합물은 화학식 2의 화합물이다:

상기식에서,

R₇및 R₈은 각각 독립적으로 C₁-C₁₈알킬, C₂-C₁₈알케닐, 화학식 -CH₂-CH(-OH)-CH₂-O-T₁의 라디칼, 화학식의 라디칼 또는 화학식(2a)의 라디칼이고,

R₉는 직접 결합, 직쇄 또는 측쇄 C₁-C₄알킬렌 라디칼, 또는 화학식의 라디칼이고,

R₁₀, R₁₁및 R₁₂는 각각 독립적으로 C₁-C₁₈알킬, C₁-C₁₈알콕시 또는 화학식의 라디칼이고,

R₁₃은 C₁-C₅알킬이고,

T₁은 수소 또는 C₁-C₈알킬이고,

m₁, m₂및 m₃은 각각 독립적으로 1 내지 4이고,

p₁은 0 또는 1 내지 5이고,

A₁은 화학식(2b), 화학식(2c) 또는 화학식(2d)의 라디칼이고,

R₁₄는 수소, C₁-C₁₀알킬, -(CH₂CHR₁₆-O)_n1-R₁₅, -CH₂-CH(-OH)-CH₂-O-T₁또는 화학식의 라디칼이고,

R₁₅는 수소, M, C₁-C₅알킬 또는 화학식의 라디칼이고,

R₁₆은 수소 또는 메틸이고,

Q₁은 C₁-C₁₈알킬이고,

M은 금속 양이온이고,

n₁은 1 내지 16이다.

바람직한 화학식 2의 화합물은 화학식(2e), 화학식(2f), 화학식(2g), 화학식(2h)의 화합물이다:

상기식에서,

R₁₇및 R₁₈은 각각 독립적으로 C₃-C₁₈알킬 또는 -CH₂-CH(-OH)-CH₂-O-T₁이고,

R₁₉는 C₁-C₁₀알킬 또는 화학식(2a₁) 또는 화학식(2a₂)의 라디칼이고,

R₂₀은 수소, M, C₁-C₅알킬, -NH-C₁-C₅알킬, 바람직하게는 -NH-3급 알킬 또는 화학식 -(CH₂)_m-O-T₂의 라디칼이고,

T₁또는 T₂는 각각 독립적으로 수소 또는 C₁-C₅알킬이고,

m은 1 내지 4이다.

최대 관심사의 화합물은 R₁₇및 R₁₈이 각각 독립적으로 C₃-C₁₈알킬 또는 -CH₂-CH(-OH)-CH₂-O-T₁이고 R₁₉가 C₁-C₁₀알킬인 화학식 (2e) 및 (2f)의 화합물, 및 R₁₇및 R₁₈이 각각 독립적으로 C₃-C₁₈알킬 또는 -CH₂-CH(-OH)-CH₂-O-T₁이고 T₁이 수소 또는 C₁-C₅알킬인 화학식 (2g) 및 (2h)의 화합물이다.

R₁₇및 R₁₈이 동일한 의미를 갖는 화학식 (2e) 내지 (2h)의 트리아진 화합물이 이러한 경우에 있어서 특히 바람직하다.

게다가, 관심사의 트리아진은 화학식 3에 상응한다:

상기식에서,

R₂₁은 C₁-C₃₀알킬, C₂-C₃₀알케닐, 치환되지 않거나, C₁-C₅알킬로 일치환 또는 다치환된 C₅-C₁₂사이클로알킬, C₁-C₅알콕시-C₁-C₁₂알킬, 아미노-C₁-C₁₂알킬, C₁-C₅모노알킬아미노-C₁-C₁₂알킬, C₁-C₅디알킬아미노-C₁-C₁₂알킬, 화학식(3a)의 라디칼 또는 화학식(3b)의 라디칼이고,

R₂₂, R₂₃및 R₂₄는 각각 독립적으로 수소, 하이드록실, C₁-C₃₀알킬 또는 C₂-C₃₀알케닐이고,

R₂₅는 수소 또는 C₁-C₅알킬이고,

m₁은 0 또는 1이고,

n₁은 1 내지 5이다.

바람직한 화합물은 화학식 4에 상응한다:

상기식에서,

R₂₆은

추가의 바람직한 화학식 1의 화합물은 화학식 5 내지 화학식 24의 화합물 중의 하나일 뿐 아니라, 2,4,6-트리스(디이소부틸-4'-아미노벤잘말로네이트)-s-트리아진 및 2,4-비스(디이소부틸-4-아미노벤잘말로네이트)-6-(4'-아미노벤질리덴캄포르)-s-트리아진이다:

화학식 1의 특히 바람직한 화합물은 화학식 25의 것이다:

상기식에서,

개개의 라디칼 R₂₆은 동일하거나 상이하며, 각각은 수소, 알칼리 금속, 암모늄 그룹 N(R₂₇)₄[여기서 R₂₇은 수소 또는 유기 라디칼이다], C₁-C₃알킬 또는 1 내지 10개의 에틸렌 옥사이드 단위를 함유하며 이의 말단 OH 그룹이 C₁-C₃알콜에 의해 에테르화될 수 있는 폴리옥시에틸렌 라디칼이다.

화학식 25의 화합물에 대해서, R₂₆이 알칼리 금속인 경우, 바람직하게는 칼륨 또는 특히는 나트륨이며, R₂₆이 그룹 N(R₂₇)₄[여기서, R₂₇은 이전의 의미를 갖는다]인 경우, 바람직하게는 모노-, 디- 또는 트리-C₁-C₄알킬암모늄 염, 모노-, 디- 또는 트리-C₂-C₄알칸올암모늄 염 또는 이의 C₁-C₃알킬 에스테르이고, R₂₇이 C₁-C₃알킬 그룹인 경우, 이는 바람직하게는 C₁-C₂알킬 그룹, 보다 바람직하게는 메틸 그룹이고, R₂₇이 폴리옥시에틸렌 그룹인 경우, 이는 바람직하게는 2 내지 6개의 에틸렌 옥사이드 단위를 함유한다.

한 가지 바람직한 트리아졸류의 미소화된 유기 자외선 흡수제는 화학식 26의 것이다:

상기식에서,

T₁은 C₁-C₃알킬 또는 바람직하게는 수소이고,

T₂는 C₁-C₄알킬, 바람직하게는 t-부틸 또는 페닐에 의해 치환된 C₁-C₄알킬, 바람직하게는 α,α-디메틸벤질이다.

또 다른 바람직한 트리아졸류의 미소화된 유기 자외선 흡수제는 화학식 27의 것이다:

상기식에서,

T₂는 위에서 정의한 의미를 갖는다.

또 다른 바람직한 트리아졸류의 미소화된 유기 자외선 흡수제는 화학식 28의 것이다:

상기식에서,

T₂는 수소, C₁-C₁₂알킬, 바람직하게는 t-부틸 또는 페닐에 의해 치환된 C₁-C₄알킬, 바람직하게는 α,α-디메틸벤질이다.

바람직한 비닐 그룹 함유 아미드류의 미소화된 유기 자외선 흡수제는 화학식 29의 것이다:

상기식에서,

R₂₈은 C₁-C₃알킬, 바람직하게는 C₁-C₂알킬, 또는 OH, C₁-C₃알킬, C₁-C₃알콕시 또는 CO-OR₃₃으로부터 선택된 1개, 2개 또는 3개의 치환체에 의해 임의 치환된 페닐이고,

R₃₃은 C₁-C₃알킬이고,

R₂₉, R₃₀, R₃₁및 R₃₂는 동일하거나 상이하며, 각각은 C₁-C₃알킬, 바람직하게는 C₁-C₂알킬 또는 수소이고,

Y는 -NH- 또는 -O-이고,

m은 0 또는 1이다.

화학식 29의 바람직한 화합물은 4-메틸-3-펜텐-2-온, 에틸-3-메틸아미노-2-부테노에이트, 3-메틸아미노-1-페닐-2-부텐-1-온 및 3-메틸아미노-1-페닐-2-부텐-1-온이다.

바람직한 신남산 아미드류의 미소화된 유기 자외선 흡수제는 화학식 30의 것이다:

상기식에서,

R₃₃은 하이드록시 또는 C₁-C₄알콕시, 바람직하게는 메톡시 또는 에톡시이고,

R₃₄는 수소, C₁-C₄알킬, 바람직하게는 메틸 또는 에틸이고,

R₃₅는 -(CONH)_m-페닐인데, 여기서 m은 0 또는 1이고, 페닐 그룹은 OH, C₁-C₃알킬, C₁-C₃알콕시 또는 COOR₄[여기서, R₄는 C₁-C₄알킬이다]로부터 선택된 1개, 2개 또는 3개의 치환체에 의해 임의 치환된다.

바람직한 R₃₅는 페닐, 4-메톡시페닐 또는 페닐아미노카보닐 그룹이다.

설폰화 벤즈이미다졸류의 미소화된 유기 자외선 흡수제는 화학식 31의 것이다:

상기식에서,

M은 수소, 알칼리 금속(바람직하게는 나트륨), 알칼리 토금속(예: 마그네슘 또는 칼슘) 또는 아연이다.

또 다른 바람직한 부류의 미소화된 유기 자외선 흡수제가 본 발명을 위해 사용될 수 있다:

- p-아미노벤조산 유도체, 전형적으로 2-에틸헥실-4-디메틸아미노벤조에이트;

- 살리실산 유도체, 전형적으로 2-에틸헥실 살리실레이트, 호모살레이트 및 이소프로필 살리실레이트;

- 벤조페논 유도체, 전형적으로 2-하이드록시-4-메톡시벤조페논;

- 디벤조일메탄 유도체, 전형적으로 1-(4-t-부틸페닐)-3-(4-메톡시페닐)-프로판-1,3-디온;

- 디페닐아크릴레이트, 전형적으로 2-에틸헥실-2-시아노-3,3-디페닐아크릴레이트 및 3-(벤조푸라닐)-2-시아노아크릴레이트;

- 3-이미다졸-4-일-아크릴산 및 3-이미다졸-4-아크릴레이트;

- 벤조푸란 유도체, 바람직하게는 2-(p-아미노페닐)벤조푸란 유도체(EP-A-582 189, US-A-5 338 539, US-A-5 518 713 및 EP-A-613 893에 기재되어 있음);

- 중합성 자외선 흡수제, 예를 들어 벤질리덴말로네이트 유도체(그 중에서도 특히 EP-A-709 080호에 기재된 것);

- 신남산 유도체, 전형적으로 2-에틸헥실-4-메톡시신나메이트 또는 이소아밀레이트 또는 신남산 유도체(US-A-5 601 811 및 WO 97/00851호에 기재된 것);

- 캄포르 유도체, 전형적으로 3-(4'-메틸)벤질리덴보르난-2-온, 3-벤질리덴보르난-2-온, N-[2(및 4)-2-옥시보른-3-일리덴메틸)벤질]아크릴아미드 중합체, 3-(4'-트리메틸암모늄)벤질리덴보르난-2-온 메틸설페이트, 3,3'-(1,4-페닐렌디메틴)-비스(7,7-디메틸-2-옥소비사이클로-[2.2.1]헵탄-1-메탄설폰산) 및 이의 염, 3-(4'-설포)벤질리덴보르난-2-온 및 이의 염;

- 2-페닐벤즈이미다졸-5-설폰산 및 이의 염 및

- 메틸-o-아미노벤조에이트.

화학식 1 내지 30의 화합물에서, C₁-C₁₂알킬 그룹은 메틸, 에틸, n-프로필 또는 이소프로필, 부틸, 펜틸, 헥실, 헵틸, 옥틸, 이소옥틸, 노닐, 데실, 운데실 또는 도데실일 수 있고, 바람직하게는 메틸이고, C₁-C₃알콕시 그룹은 메톡시, 에톡시, 프로폭시 및 이소프로폭시이고, 메톡시 및 에톡시가 바람직하다.

C₂-C₄카복시알킬의 예로는카복시메틸, 카복시에틸, 카복시프로필 및 카복시이소프로필이 있고, 카복시메틸이 바람직하다.

C₅-C₈사이클로알킬의 예로는 사이클로펜틸, 사이클로헥실 및 사이클로옥틸이 있다.

화학식 1 내지 30의 화합물은 공지되어 있다.

바람직하게는, 신규한 선스크린제의 미소화된 유기 자외선 흡수제인 성분(a)의 평균 입자 크기가 0.01 내지 2, 보다 바람직하게는 0.02 내지 1.5, 특히는 0.05 내지 1.0μ이다.

선스크린 제제는 또한 임의 성분으로서 미소화되지 않은 지용성 유기 자외선 흡수제를 포함할 수 있다. 이는 임의의 공지된 지용성 유기 자외선 흡수제일 수 있고, 특히는 화장품용으로 이미 승인되어 시판중인 것이다. 이러한 지용성 자외선 흡수제는 예를 들어, 문헌[참조: "Sunscreens", Development, Evaluation and Regulatory Aspects, Eds.: N.H.Lowe and N.A.Shaath, M.Dekker Inc., New York and Basel, 1990, and Ken Klein, Encyclopedia of UV absorbers for sunscreen products, Cosmetics ＆ Toiletries 107 45-64(1992)]에 기재되어 있다.

미소화되지 않은 지용성 UV 흡수제는, 예를 들어 p-아미노벤조산 유도체, 예를 들어 p-아미노벤조산의 에스테르, 염 또는 아민-개질된 유도체; 살리실산 유도체, 예를 들어 이의 에스테르 또는 염; 벤조페논 유도체; 디벤조일메탄 유도체; 디페닐아크릴레이트 유도체; 벤조푸란 유도체; 하나 이상의 실리코-유기 잔기를 함유하는 중합성 UV 흡수제; 신나메이트 에스테르; 캄포르 유도체; 페닐벤즈이미다졸 설폰산 및 이의 염; 우로칸산(3-이미다졸-4-일-아크릴산) 또는 이의 에틸 에스테르 또는 아멘틸 안트라닐레이트를 들 수 있다.

p-아미노벤조산 유도체의 특정 예로는 4-아미노벤조산(PABA),

화학식의 에틸 디하이드록시프로필 PABA,

화학식[여기서, m, n 및 x는 동일하고, 각각은 대략 25이다]의 PEG-25 PABA,

화학식의 옥틸 디메틸 PABA 및

화학식의 글리세릴 아미노벤조에이트를 들 수 있다.

살리실산 유도체의 특정 예로는 화학식의 호모살레이트(호모메틸 살리실레이트),

화학식의 트리에탄올아민 살리실레이트,

화학식의 아밀 p-디메틸아미노 벤조에이트,

화학식의 옥틸 살리실레이트 및

화학식의 4-이소프로필벤질살리실레이트를 들 수 있다.

벤조페논 유도체의 특정 예로는 벤조페논-3-(2-하이드록시-4-메톡시벤조페논), 벤조페논-4-(2-하이드록시-4-메톡시벤조페논-5-설폰산) 및 벤조페논-8-(2,2'-디하이드록시-4-메톡시벤조페논)을 들 수 있다.

디벤조일메탄 유도체의 특정 예로는 부틸 메톡시디벤조일메탄[1-(4-t-부틸)-3-(4-메톡시페닐)프로판-1,3-디온]을 들 수 있다.

디페닐아크릴레이트 유도체의 특정 예로는 옥토크릴렌(2-에틸헥실-2-시아노-3,3'-디페닐 아크릴레이트) 및 에토크릴렌 (에틸-2-시아노-3,3'-디페닐 아크릴레이트)를 들 수 있다.

벤조푸란 유도체의 특정 예로는 US 5338539 또는 EP 582189에 기재된 3-(벤조푸라닐)-2-시아노아크릴레이트, 특히 화학식의 화합물 및 화학식의 화합물, US 5518713에 기재된 2-(2-벤조푸라닐)-5-t-부틸벤조옥사졸 및 US 5362481에 기재된 2-(p-아미노페닐)벤조푸란을 들 수 있다.

하나 이상의 실리코-유기 잔기를 함유하는 중합성 자외선 흡수제의 특정 예로는 EP 709080에 기재된 벤질리덴말로네이트 실리콘 유도체, 특히 화학식의 화합물[여기서 R₁₅는 H 또는 OMe이고, r은 약 7이다], 및 WO 94/06404에 기재된 벤조트리아졸 실리콘 형태의 중합체, 특히 화학식의 화합물을 들 수 있다.

신나메이트 에스테르의 특정 예로는 옥틸 메톡시 신나메이트(4-메톡시-신남산 2-에틸헥실 에스테르), 디에탄올아민 메톡시 신나메이트(4-메톡시신남산의 디에탄올아민 염), 이소아밀 p-메톡시신나메이트(4-메톡시신남산 2-이소아밀 에스테르), 2,5-디이소프로필 메틸 신나메이트, US 5601811에 기재된 신나미도 유도체 및 WO 97/00851에 기재된 유도체를 들 수 있다.

캄포르 유도체의 특정 예로는 4-메틸-벤질리덴 캄포르[3-(4'-메틸)벤질리덴-보르난-2-온], 3-벤질리덴 캄포르(3-벤질리덴-보르난-2-온), 폴리아크릴아미도메틸 벤질리덴 캄포르{N-[2(및 4)-2-옥소보른-3-일리덴-메틸)벤질]아크릴아미드 중합체}, 트리모늄 벤질리덴 캄포르 설페이트[3-(4'-트리메틸암모늄)-벤질리덴-보르난-2-온 메틸 설페이트], 테레프탈리덴 디캄포르 설폰산{3,3'-(1,4-페닐렌디메틴)-비스-(7,7-디메틸-2-옥소-비사이클로-[2.2.1]헵탄-1-메탄설폰산} 및 이의 염 및 벤질리덴 캄포르 설폰산[3-(4'-설포)벤질리덴-보르난-2-온] 및 이의 염을 들 수 있다.

트리아닐리노-s-트리아진 유도체의 특정 예로는 옥틸 트리아진[2,4,6-트리아닐리노-(p-카보-2'-에틸-1'-옥시)-1,3,5-트리아진, US 5332568에 기재된 트리아닐리노-s-트리아진 유도체, EP 517104에 기재된 트리아닐리노-s-트리아진 유도체, EP 570838에 기재된 트리아닐리노-s-트리아진 유도체, US 5252323에 기재된 트리아닐리노-s-트리아진 유도체, WO 93/17002-A1 및 WO 97/03642-A1에 기재된 트리아닐리노-s-트리아진을 들 수 있다.

벤조트리아졸의 특정 예로는 2-(2-하이드록시-5-메틸-페닐)벤조트리아졸이 있다.

하이드록시페닐트리아진의 특정 예로는 EP-A1-775,698에 기재된 것, 예를 들어 2,4-비스-{[4-(2-에틸-헥실옥시)-2-하이드록시]-페닐}-6-(4-메톡시페닐)-1,3,5-트리아진을 들 수 있다.

비스-레조르시놀-디알킬아미노트리아진의 특정 예로는 EP-A1-780,382에 기재된 것을 들 수 있다.

본 발명의 선스크린 조성물은 유중수 또는 수중유 분산액, 오일 또는 오일-알콜 로숀, 이온성 또는 비이온성의 양친매성 지질의 소포성 분산액, 겔, 고체 스틱(stick) 또는 에어로졸 제제로서 제제화된다.

유중수 또는 수중유 분산액으로 제제화되는 경우, 미용적으로 허용되는 담체는, 각각 담체의 전체 중량을 기준으로 하여, 바람직하게는 오일상 5 내지 50중량%, 유화제 5 내지 20중량% 및 물 30 내지 90중량%를 포함한다.

오일상은 화장품 제형에서 통상적으로 사용되는 임의의 오일, 특히 피부 연화제(emollient), 예를 들어 하나 이상의 지방 알콜, 탄화수소 오일, 천연 또는 합성 트리글리세리드, 장쇄 산과 알콜의 에스테르뿐 아니라 왁스와 유사한 성질을 갖는 화합물을 포함하는 왁스, 지방산 에스테르 또는 지방 알콜, 및 라놀린-함유 제품을 포함할 수 있다.

지방 알콜의 예로는 세틸 알콜, 스테아릴 알콜, 옥틸도데카놀, 세테아릴 알콜 및 올레일 알콜, 탄화수소 오일의 예로는 미네랄 오일(경질 또는 중질), 와셀린(황색 또는 백색), 폴리에틸렌, 파라핀, 스쿠알란, 미세결정성 왁스, 세레신, 폴리부텐 및 수소화 폴리이소부텐이 있고, 천연 또는 합성 트리글리세리드의 예로는 피마자유, 카프릴산/카프르산 트리글리세리드, 저팬 왁스(Japan wax), 수소화 식물성 기름, 스위트 아몬드유, 맥아유, 참깨유, 수소화된 목화씨유, 코코넛유, 맥아 글리세리드, 아보카도유, 옥수수유, 트리라우린, 수소화된 피마자유, 쉐 버터(shea butter), 코코아 버터, 땅콩유, 밍크(mink)유, 해바라기유, 잇꽃유, 머캐덤(macadamia) 열매유, 올리브유, 수소화 탈로우(tallow), 살구씨(apricot kernel)유, 헤이즐넛유 및 보라고(borage)유를 들 수 있고, 장쇄 산과 알콜의 에스테르뿐 아니라 왁스와 유사한 성질을 갖는 화합물을 포함하는 왁스의 예로는 카노바(carnauba) 왁스, 비즈왁스(beeswax)(백색 또는 황색), 라놀린, 칸데렐릴라(candelellila) 왁스, 오조케리트(ozokerite), 라놀린 오일, 파라핀, 저팬 왁스, 미세결정성 왁스, 세레신, 조조바(jojoba) 오일, 세테아릴 에스테르 왁스, 합성 조조바 오일, 합성 비즈왁스 및 라놀린 왁스를 들 수 있고, 실리콘 오일의 예로는 디메티콘 또는 사이클로메티콘을 들 수 있고, 지방산 에스테르 또는 지방 알콜의 예로는 이소프로필 미리스테이트, 이소프로필 팔미테이트, 옥틸 팔미테이트, 이소프로필 라놀레이트, 아세틸화된 라놀린 알콜, C₁₂-C₁₅알콜의 벤조에이트, 세테아릴 옥타노에이트, 세틸 팔미테이트, 미리스틸 미리스테이트, 미리스틸 락테이트, 세틸 아세테이트, 프로필렌 글리콜 디카프릴레이트/카프레이트, 데실 올레에이트, 아세틸화 라놀린, 스테아릴 헵타노에이트, 디이소스테아릴 말레이트, 옥틸 하이드록시스테아레이트, 옥틸 하이드록시스테아레이트 및 이소프로필 이소스테아레이트를 들 수 있고, 라놀린-함유 제품의 예로는 라놀린, 라놀린 유, 이소프로필 라놀레이트, 아세틸화 라놀린 알콜, 아세틸화 라놀린, 하이드록실화 라놀린, 수소화 라놀린 및 라놀린 왁스를 들 수 있다.

유화제는 화장품용 제형에서 통상적으로 사용되는 임의의 유화제, 예를 들어 하나 이상의 천연유 유도체의 에톡실화 에스테르, 예를 들어 수소화 피마자유의 폴리에톡실화 에스테르; 실리콘유 유화제, 예를 들어 실리콘 폴리올; 임의로 에톡실화 지방산 비누, 에톡실화 지방 알콜; 임의로 에톡실화 소르비탄 에스테르; 에톡실화 지방산; 또는 에톡실화 글리세리드를 포함할 수 있다.

본 발명의 선스크린 조성물은 선스크린 조성물에서 유용한 역할을 수행하는 것으로 알려진 추가의 성분을 또한 포함할 수 있다. 이러한 추가의 성분의 예로는 피부 연화제, 피부 습윤제, 피부 갈색화(tanning) 촉진제, 산화방지제, 유화 안정화제, 증점제(예: 크산탄), 보습제(예: 글리세린), 필름 형성제, 방부제, 방향제 및 착색제를 들 수 있다.

본 발명의 선스크린 조성물은 일광의 손상 효과에 대해 인체를 탁월하게 보호하면서, 피부의 안전한 갈색화를 가능하게 한다. 게다가, 본 발명의 선스크린 조성물은 피부 방수 효과를 갖는다.

다음의 실시예는 추가로 본 발명을 예시한다. 달리 언급이 없는 한, 부 및 백분율은 중량 단위이다.

실시예 1: O/W 선스크린 로숀의 제조

성분(중량%)

A

폴리글리세릴-3 메틸글루코즈 디스테아레이트	2.0
데실 올레에이트	5.7
이소프로필 팔미테이트	5.0
카프릴산/카프르산 트리글리세리드	6.5
옥틸 메톡시신나메이트	5.0

B

글리세린	3.0
페노닙(phenonip)	0.5
물	62.9

C

카보머	0.2
이소프로필 팔미테이트	0.8

D

미소화된 2,2'-메틸렌-비스-[6-(2H-벤즈트리아졸-2-일)-4-(1,1,3,3-테트라메틸부틸)-페놀의 50% 수성 현탁액(d50=200nm)

8.0

E

NaOH(10%)

필요량

수성 분쇄(D)에 의해 제조된 미소화된 유기 자외선 흡수제를 오일상(A)에 첨가한다. 물을 진공하에서 제거하여 미소입자를 오일 상으로 이동시킨다. 이어서, 균질화된 오일 상(A)과 수성 상(B)을 80℃까지 각각 가열한 다음, 함께 교반한다. 이어서, 상(C)을 첨가하고, 강렬하게 균질화한다. 교반하면서 실온까지 냉각시킨 다음, 에멀젼을 10% NaOH-용액으로 pH 6.5 내지 7로 조정한다.

이러한 에멀젼의 SPF(실험관내:SPF-분석기 290)는 34이다.

미소화된 유기 자외선 흡수제의 수성 현탁액을 추가의 상으로서 수성 상에 첨가하거나 유화 공정의 말미에 따로 첨가하는 방식으로 제조하는 경우, 이의 실험관내-SPF는 불과 12이다.

실시예 2: O/W 선스크린 로숀

성분(중량%)

A

폴리글리세릴-3 메틸글루코즈 디스테아레이트	2.0
데실 올레에이트	5.7
이소프로필 팔미테이트	5.0
카프릴산/카프르산 트리글리세리드	6.5
옥토크릴렌	2.0
옥틸 메톡시신나메이트	5.0

B

글리세린	3.0
테레프탈리덴 디캄퍼 설폰산	0.5
페노닙(phenonip)^R	0.5
물	61.5

C

카보머	0.2
이소프로필 팔미테이트	0.8

D

건식 미소화된 2,2'-메틸렌-비스-[6-(2H-벤즈트리아졸-2-일)-4-(1,1,3,3-테트라메틸부틸)-페놀(d50=200nm)

8.0

E

NaOH(10%)

필요량

건식 미소화된 2,2'-메틸렌-비스-[6-(2H-벤즈트리아졸-2-일)-4-(1,1,3,3-테트라메틸부틸)-페놀(D)을 혼합과 초음파를 사용하여 강렬하게 오일상에 현탁시킨다. 이어서, 상(A) 및 (B)를 따로 80℃까지 가열하고, 교반 없이 혼합한다. (C)의 첨가후에, 강렬하게 균질화하고, 교반과 함께 실온까지 냉각시킨다. 말미에, 목적 pH를 (E)로 조정한다.

이러한 에멀젼의 SPF(실험관내:SPF-분석기 290)는 30이다.

실시예 3: O/W 선스크린 로숀

성분(중량%)

A

B

글리세린	3.0
페노닙^R	0.5
물	62.9

C

카보머	0.2
이소프로필 팔미테이트	0.8

D

8.0

E

NaOH(10%)

필요량

상(A) 및 (B)를 따로 80℃까지 가열하고, 교반 없이 함께 혼합한다. (C)의 첨가 후에, 제제를 강렬하게 균질화한다. 혼합물을 교반한 다음, 실온까지 냉각시킨다. 말미에, 목적 pH를 (E)로 조정한다.

제조 직후의 실험관내-SPF는 12로 측정되었고, 3주의 저장 후에는 SPF가 37로 증가하였다. 오일 상 중의 미세-입자의 존재를 현미경으로 검사한다.

실시예 4: O/W 선스크린 로숀

성분(중량%)

A

폴리글리세릴-3 메틸글루코즈 디스테아레이트	2.0
데실 올레에이트	5.7
이소프로필 팔미테이트	5.0
카프릴산/카프르산 트리글리세리드	6.5
2,4-비스{[4-(2-에틸헥실옥시)-2-하이드록시]페닐}-6-(4-메톡시페닐)-1,3,5-트리아진	2.0
옥틸 메톡시신나메이트	5.0

B

글리세린	3.0
페노닙^R	0.5
물	62.9

C

카보머	0.2
이소프로필 팔미테이트	0.8

D

8.0

E

NaOH(10%)

필요량

2,4-비스{[4-(2-에틸헥실옥시)-2-하이드록시]페닐}-6-(4-메톡시페닐)-1,3,5-트리아진을 옥틸 메톡시신나메이트에 용해시키고, 오일 상(A)에 첨가한다. 상(A) 및 (B)를 따로 80℃까지 가열하고, 교반 없이 혼합한다. (C)의 첨가후에, 강렬하게 균질화하고, 교반과 함께 실온까지 냉각시킨다. 상(D)을 시트르산으로 pH 5.5까지 조정하고, 조심스럽게 교반하면서 분량으로 첨가한다. 약 15분 동안 추가로 교반한 다음, 목적 pH를 (E)로 조정한다.

제조 직후의 실험관내-SPF는 23으로 측정되었고, 3주의 저장 후에는 SPF가 54로 증가하였다. 오일 상 중의 미세-입자의 존재를 현미경으로 검사한다.

실시예 5:

하기 화합물(101) 60g을 물 128g 중의 C₈-C₁₆알킬-폴리글루코시드{플란타케어(Plantacare)^R2000, 제조원:헨켈)} 12g의 용액에 분산시키고, 40㎖의 ZrO₂-분쇄 펄(pearl)을 갖는 펄 밀(perl mill)에서 평균 입자 크기 170nm로 연마한다.

(101)

분리시킨 후에, 분쇄 보조제인 0.4% 1,2-프로필렌글리콜 중에 분산된 0.2% 크산탄 검을 수득된 나노분산액(nanodispersion)(=나노분산액 2)에 첨가한다.

이러한 나노분산액을 다음 조성의 W/O 에멀젼으로 추가로 후처리한다:

20g 나노분산액 2(6%의 화합물(101)을 포함한다)

5g 폴리글리세릴-2-디폴리하이드록시스테아레이트

1g 글리세릴 올레에이트

6g 카프릴산/카프르산 트리글리세리드

6g 옥틸도데카놀

5g 세테아릴 이소노나노에이트

1g 토코페릴 아세테이트

1.2g 비즈왁스(beeswax)

49.3g 물

5g 글리세린

0.5g 방부제

이의 SPF(실험관내:SPF-분석기 290)는 20.2이다.

실시예 6:

물의 양을 줄이고 2-에틸헥실-p-메톡시신나메이트 1.5g을 실시예 5의 나노분산액 2에 첨가한 경우, 예상치 못한 높은 36.2의 SPF가 수득된다.

20g 나노분산액 2(6%의 화합물(101)을 포함한다)

5g 폴리글리세릴-2-디폴리하이드록시스테아레이트

1g 글리세릴 올레에이트

6g 카프릴산/카프르산 트리글리세리드

6g 옥틸도데카놀

5g 세테아릴 이소노나노에이트

1g 토코페릴 아세테이트

1.2g 비즈왁스

1.5g 2-에틸헥실-p-메톡시신나메이트

47.8g 물

5g 글리세린

0.5g 방부제

Claims

제제의 오일 상(oil phase)에 존재하는 미소화된 유기 자외선 흡수제(a)와 미용적으로 허용되는 담체(b)를 포함하는 선스크린 제제.
제1항에 있어서, 미소화된 유기 자외선 흡수제가 트리아진, 벤조트리아졸, 비닐 그룹 함유 아미드, 신남산 아미드 또는 설폰화된 벤즈이미다졸 자외선 흡수제인 선스크린 제제.
제2항에 있어서, 트리아진 자외선 흡수제가 화학식 1의 화합물인 선스크린 제제.

화학식 1

위의 화학식 1에서,

R₁, R₂및 R₃은 독립적으로 H, OH, C₁-C₃알콕시, NH₂, NH-R₄, N(R₄)₂, OR₄(여기서, R₄는 C₁-C₃알킬이다), 페닐, 페녹시, 아닐리노 또는 피롤로[여기서, 페닐, 페녹시, 아닐리노 또는 피롤로 잔기는 치환되지 않거나, OH, 카복시, CO-NH₂, C₁-C₃알킬, C₁-C₃알콕시, 메틸리덴캄포르 그룹, 그룹 -(CH=CH)_mC(=O)-OR₄, 그룹또는 상응하는 알칼리 금속 염, 암모늄 염, 모노-, 디- 또는 트리-C₁-C₄알킬암모늄 염, 모노-, 디- 또는 트리-C₂-C₄알칸올암모늄 염 또는 이들의 C₁-C₃알킬 에스테르, 및 화학식(1a)의 라디칼로부터 선택된 1개, 2개 또는 3개의 치환체에 의해 치환된다]이고,

R₅는 하이드록시, 치환되지 않거나 하나 이상의 OH 그룹에 의해 치환된 C₁-C₅알킬, C₁-C₅알콕시, 아미노, 모노- 또는 디-C₁-C₅알킬아미노, M, 화학식(1b)의 라디칼, 화학식(1c)의 라디칼, 화학식(1d)의 라디칼 또는 화학식(1e)의 라디칼이며,

R', R″및 R'"은 각각 독립적으로 치환되지 않거나 하나 이상의 OH 그룹에 의해 치환된 기타의 C₁-C₁₄알킬이며,

R₆는 수소, M, C₁-C₅알킬 또는 화학식의 라디칼이며,

M은 금속 양이온이고,

T₁은 수소 또는 C₁-C₈알킬이고,

m은 0 또는 1이고,

m₁은 1 내지 5이고,

m₂는 1 내지 4이고,

m₃은 2 내지 14이다.
제2항 또는 제3항에 있어서, 트리아진 자외선 흡수제가 화학식 2의 화합물인 선스크린 제제.

화학식 2

위의 화학식 2에서,

R₇및 R₈은 각각 독립적으로 C₁-C₁₈알킬, C₂-C₁₈알케닐, 화학식 -CH₂-CH(-OH)-CH₂-O-T₁의 라디칼, 화학식의 라디칼 또는 화학식(2a)의 라디칼이고,

R₉는 직접 결합, 직쇄 또는 측쇄 C₁-C₄알킬렌 라디칼, 또는 화학식의 라디칼 또는 화학식의 라디칼이고,

R₁₀, R₁₁및 R₁₂는 각각 독립적으로 C₁-C₁₈알킬, C₁-C₁₈알콕시 또는 화학식의 라디칼이고,

R₁₃은 C₁-C₅알킬이고,

T₁은 수소 또는 C₁-C₈알킬이고,

m₁, m₂및 m₃은 각각 독립적으로 1 내지 4이고,

p₁은 0 또는 1 내지 5이고,

A₁은 화학식(2b)의 라디칼, 화학식(2c)의 라디칼 또는 화학식(2d)의 라디칼이고,

R₁₄는 수소, C₁-C₁₀알킬, 화학식 -(CH₂CHR₁₆-O)_n1-R₁₅의 라디칼, 화학식 -CH₂-CH(-OH)-CH₂-O-T₁의 라디칼 또는 화학식의 라디칼이고,

R₁₅는 수소, M, C₁-C₅알킬 또는 화학식 -(CH₂)_m2-O-T₁의 라디칼이고,

R₁₆은 수소 또는 메틸이고,

Q₁은 C₁-C₁₈알킬이고,

M은 금속 양이온이고,

n₁은 1 내지 16이다.
제2항에 있어서, 트리아진 화합물이 화학식 3의 화합물인 선스크린 제제.

화학식 3

위의 화학식 3에서,

R₂₁은 C₁-C₃₀알킬, C₂-C₃₀알케닐, 치환되지 않거나, C₁-C₅알킬에 의해 일치환 또는 다치환된 C₅-C₁₂사이클로알킬, C₁-C₅알콕시-C₁-C₁₂알킬, 아미노-C₁-C₁₂알킬, C₁-C₅모노알킬아미노-C₁-C₁₂알킬, C₁-C₅디알킬아미노-C₁-C₁₂알킬, 화학식(3a)의 라디칼 또는 화학식(3b)의 라디칼이고,

R₂₂, R₂₃및 R₂₄는 각각 독립적으로 수소, 하이드록실, C₁-C₃₀알킬 또는 C₂-C₃₀알케닐이고,

R₂₅는 수소 또는 C₁-C₅알킬이고,

m₁은 0 또는 1이고,

n₁은 1 내지 5이다.
제5항에 있어서, 트리아진 화합물이 화학식 4의 화합물인 선스크린 제제.

화학식 4

위의 화학식 4에서,

R₂₆은
제2항에 있어서, 트리아진 화합물이 화학식 25의 화합물인 선스크린 제제.

화학식 25

위의 화학식 25에서,

개개의 라디칼 R₂₆은 동일하거나 상이하며, 각각은 수소, 알칼리 금속, 암모늄 그룹 N(R₂₇)₄(여기서, R₂₇은 수소 또는 유기 라디칼이다), C₁-C₃알킬 또는 1 내지 10개의 에틸렌 옥사이드 단위를 함유하며 이의 말단 OH 그룹이 C₁-C₃알콜에 의해 에테르화될 수 있는 폴리옥시에틸렌 라디칼이다.
제1항 또는 제2항에 있어서, 트리아졸 유기 자외선 흡수제가 화학식 26의 화합물인 선스크린 제제.

화학식 26

위의 화학식 26에서,

T₁은 C₁-C₃알킬 또는 수소이고,

T₂는 C₁-C₄알킬이다.
제1항 또는 제2항에 있어서, 트리아졸 유기 자외선 흡수제가 화학식 27의 화합물인 선스크린 제제.

화학식 27

위의 화학식 27에서,

T₂는 제8항에서 정의한 바와 같다.
제2항에 있어서, 벤조트리아졸 유기 자외선 흡수제가 화학식 28의 화합물인 선스크린 제제.

화학식 28

위의 화학식 28에서,

T₂는 수소, C₁-C₁₂알킬, 또는 페닐에 의해 치환된 C₁-C₄알킬이다.
제10항에 있어서, T₂가 t-부틸인 선스크린 제제.
제2항에 있어서, 비닐 그룹 함유 아미드 유기 자외선 흡수제가 화학식 29의 화합물인 선스크린 제제.

화학식 29

위의 화학식 29에서,

R₂₈은 C₁-C₃알킬, 페닐, 또는 OH, C₁-C₃알킬, C₁-C₃알콕시 및 화학식 CO-OR₃₃의 라디칼로부터 선택된 1개, 2개 또는 3개의 치환체에 의해 치환된 페닐이고,

R₃₃은 C₁-C₃알킬이고,

R₂₉, R₃₀, R₃₁및 R₃₂는 동일하거나 상이하며, 각각은 C₁-C₃알킬 또는 수소이고,

Y는 -NH- 또는 -O-이고,

m은 0 또는 1이다.
제2항에 있어서, 신남산 아미드 유기 자외선 흡수제가 화학식 30의 화합물인 선스크린 제제.

화학식 30

위의 화학식 30에서,

R₃₃은 하이드록시 또는 C₁-C₄알콕시이고,

R₃₄는 수소 또는 C₁-C₄알킬이고,

R₃₅는 -(CONH)_m-페닐[여기서, m은 0 또는 1이고, 페닐 그룹은 OH, C₁-C₃알킬, C₁-C₃알콕시 및 화학식 CO-OR₄(여기서, R₄는 C₁-C₄알킬이다)의 라디칼로부터 선택된 1개, 2개 또는 3개의 치환체에 의해 임의로 치환된다]이다.
제2항에 있어서, 설폰화 벤즈이미다졸 유기 자외선 흡수제가 화학식 31의 화합물인 선스크린 제제.

화학식 31

위의 화학식 31에서,

M은 수소 또는 알칼리 금속, 알칼리 토금속 또는 아연이다.
제1항 내지 제14항 중의 어느 한 항에 있어서, 미소화된 유기 자외선 흡수제인 성분(a)의 평균 입자 크기 범위가 0.1nm 내지 2μ인 선스크린 제제.
제1항 내지 제15항 중의 어느 한 항에 있어서, p-아미노벤조산 유도체, 살리실산 유도체, 벤조페논 유도체, 디벤조일메탄 유도체, 디페닐아크릴레이트, 벤조푸란 유도체, 하나 이상의 실리코-유기 잔기를 함유하는 중합성 자외선 흡수제, 신나메이트 에스테르, 캄포르 유도체, 트리아닐리노-s-트리아진 유도체, 페닐벤즈이미다졸 설폰산 또는 이들의 염 중의 하나, 우로칸산(3-이미다졸-4-일-아크릴산) 또는 이의 에틸 에스테르, 멘틸 안트라닐레이트, 벤조트리아졸, 하이드록시페닐트리아진 유도체 및 비스-레조르시놀-디알킬아미노트리아진으로부터 선택된 지용성 유기 자외선 흡수제를 추가로 포함하는 선스크린 제제.
제1항 내지 제16항 중의 어느 한 항에 있어서, 미소화된 유기 자외선 흡수제(a) 0.5 내지 10중량%와 미용적으로 허용되는 담체(b)를 포함하는 선스크린 제제.
제1항 내지 제17항 중의 어느 한 항에 있어서, 유중수 또는 수중유 분산액, 오일 또는 오일-알콜 로숀, 이온성 또는 비이온성의 양친매성 지질의 소포성 분산액, 겔, 고체 스틱(stick) 또는 에어로졸 제제로서 제제화되는 선스크린 제제.
유기 자외선 흡수제를 미소화시키는 제1 단계 및 분말로서의 제1 단계에서 수득한 유기 자외선 흡수제를 조성물의 오일 상으로 혼입시키는 제2 단계를 포함하는, 제1항에 따르는 선스크린 제제의 제조방법.
제19항에 있어서, 미소화된 유기 자외선 흡수제를 피복시킨 다음, 표면 활성제 또는 중합체를 혼입시키는 방법.
제20항에 있어서, 표면 활성제가 음이온성, 양이온성, 비이온성 또는 양쪽성 계면활성제인 방법.
유기 자외선 흡수제를 수성 현탁액으로서 미소화시키는 제1 단계,

제1 단계에서 수득한 미소화된 유기 자외선 흡수제를 선스크린 조성물의 오일상과 혼합시키는 제2 단계 및

제2 단계에서 수득한 제제를 3주 이상 동안 저장하는 제3 단계로 제1항에 따르는 선스크린 제제를 제조하는 방법.
유기 자외선 흡수제를 수성 현탁액으로서 미소화시키는 제1 단계,

제1 단계에서 수득한 미소화된 유기 자외선 흡수제를 선스크린 조성물의 오일상과 혼합시키는 제2 단계 및

선 스크린 조성물의 수성 상으로부터 물을 제거하는 제3 단계로 제1항에 따르는 선스크린 제제를 제조하는 방법.
제23항에 있어서, 진공을 적용하여 물을 제거하는 방법.