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KR20000044632A - Fabrication method of back panel for pdp - Google Patents

Fabrication method of back panel for pdp Download PDF

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KR20000044632A
KR20000044632A KR1019980061131A KR19980061131A KR20000044632A KR 20000044632 A KR20000044632 A KR 20000044632A KR 1019980061131 A KR1019980061131 A KR 1019980061131A KR 19980061131 A KR19980061131 A KR 19980061131A KR 20000044632 A KR20000044632 A KR 20000044632A
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KR
South Korea
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paste
forming
electrode
partition
display panel
Prior art date
Application number
KR1019980061131A
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Korean (ko)
Inventor
김진만
옥도영
Original Assignee
김영환
현대전자산업 주식회사
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Publication date
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    • H01ELECTRIC ELEMENTS
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Abstract

PURPOSE: A fabrication method of back panel for PDP(Plasma Display Panel) is provided to enhance the positioning precise of barrier ribs and the uniformity of height of the barrier ribs, thereby assuring reproductivity and fine patterns. CONSTITUTION: A fabrication method of back panel for PDP comprises: a first step coating paste for electrode on the back plate; a second step patterning the paste to simultaneously form address electrodes and a seed layer for forming barrier ribs; a third step forming a film which isn't reacted in electro plating; a forth step patterning the film to expose the seed layer; and a sixth step removing the film after the fifth step.

Description

플라즈마 디스플레이 패널의 배면판 제조방법Manufacturing method of back plate of plasma display panel

본 발명은 플라즈마 디스플레이 패널(plasma display panel, PDP) 기술에 관한 것으로, 특히 플라즈마 디스플레이 패널의 배면판(back panel) 제조방법에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to plasma display panel (PDP) technology, and more particularly to a method for manufacturing a back panel of a plasma display panel.

PDP는 기체 방전시에 생기는 플라즈마로부터 나오는 빛을 이용하여 문자 또는 영상을 표시하는 소자로 기체 방전 표시(gas discharge display) 소자라고도 부른다. PDP는 크게 플라즈마를 형성하기 위해 외부에서 가해주는 전압인가를 위해 사용되는 전극이 플라즈마에 직접 노출이 되어 전도전류가 전극을 통해 직접 흐르는 직류(DC)형과 전극이 유전체로 덮여 있어 직접 노출이 되지 않아 변위전류가 흐르게 되는 교류(AC)형으로 구분된다. 그리고, 방전 셀의 전극구조에 따라 대향 방전형, 표면 방전형, 격벽(barrier rib) 방전형 등으로 분류가 되며, 방전가스로부터 나오는 가시광을 직접 이용하는 경우는 대부분 단색표시 PDP 소자에서 이용되는데, 대표적인 것으로 Ne 가스에서 나오는 오렌지색을 이용한 PDP가 있으며, 풀 칼라(full color) 표시가 요구될 경우, Kr이나 Xe와 같은 방전가스로부터 나오는 자외선이 적색(R), 녹색(G), 청색(B) 형광체를 여기시켜 나오는 가시광을 이용하게 된다. 그러나, 아직까지 휘도와 명암비가 낮고, 구동전압이 타 소자에 비해 높고 전력 소비 효율이 낮으며, 대형화에 따른 제조 공정기술이 까다로워 생산 수율이 낮은 문제점들이 있어 상기의 특성의 개선과 더불어 저가격화가 이루어져야 하는 과제를 안고 있다.PDP is a device that displays characters or images by using light emitted from plasma generated during gas discharge, and is also called a gas discharge display device. PDP is largely exposed to direct plasma because the electrode used to apply external voltage to form plasma is directly exposed because the direct current (DC) type and conduction current flowing through the electrode are covered with dielectric. Therefore, it is classified into AC type through which displacement current flows. In addition, depending on the electrode structure of the discharge cell, it is classified into a counter discharge type, a surface discharge type, a barrier rib discharge type, and the like. In the case of directly using the visible light emitted from the discharge gas, it is used in a monochromatic display PDP device. There is an orange PDP from Ne gas, and when full color display is required, ultraviolet light emitted from discharge gas such as Kr or Xe is red (R), green (G) and blue (B) phosphor. Using the visible light to excite the. However, there are still problems such as low brightness and contrast ratio, high driving voltage, low power consumption efficiency, and low manufacturing yield due to the difficulty in manufacturing process technology due to large size. I have a problem to do.

첨부된 도면 도 1은 일반적인 AC형 PDP의 구성을 도시한 단면도로서, 유리기판(11) 상에 방전을 위한 투명전극(12), 버스(bus)전극(13)이 형성되며, 절연용 유전체(14)가 상기 구조를 피복하고 있는 전면판과, 유리기판(17) 상에 어드레스(address)전극(15), 격벽(16)이 배치된 배면판으로 구성되어 있다. 또한, 격벽(16) 사이에는 표시색을 나타내는 형광체(18)가 형성되어 있으며, 형광체(18)와 어드레스전극(15)은 유전체(19)로 절연되어 있다. 격벽(16)과 전면판 사이에 형성된 방전공간 내에는 Ne/Xe(1∼4%) 혼합가스가 300∼400torr로 충진되어 있으며, 격벽(16)의 벽면에 형성된 형광체(R, G, B)(18)는 플라즈마 방전으로 발생하는 자외선에 의해 발광하여 색상 표시를 하게 된다.1 is a cross-sectional view illustrating a structure of a general AC PDP, and a transparent electrode 12 and a bus electrode 13 for discharging are formed on a glass substrate 11, and an insulating dielectric ( 14 comprises a front plate covering the above structure, and a back plate on which an address electrode 15 and a partition wall 16 are arranged on a glass substrate 17. In addition, a phosphor 18 having a display color is formed between the partition walls 16, and the phosphor 18 and the address electrode 15 are insulated from the dielectric 19. In the discharge space formed between the partition 16 and the front plate, Ne / Xe (1 to 4%) mixed gas is filled with 300 to 400 torr, and phosphors R, G, and B formed on the wall of the partition 16 are formed. Reference numeral 18 denotes color display by emitting light from ultraviolet rays generated by plasma discharge.

격벽(16)은 방전거리를 유지시키고, 인접한 셀간의 전기적·광학적 혼신을 방지하기 위한 구조로서, 70∼100㎛의 폭, 120∼200㎛의 높이가 요구되고 있다.The partition wall 16 is a structure for maintaining the discharge distance and preventing electrical and optical interference between adjacent cells, and is required to have a width of 70 to 100 µm and a height of 120 to 200 µm.

첨부된 도면 도 2는 종래기술에 따른 격벽 형성 공정을 도시한 것으로, 스크린 마스크(screen mask)를 사용하여 수 차례의 패턴 인쇄 및 건조를 실시함으로써 원하는 높이의 격벽(20)을 형성하고 있다.2 is a view illustrating a barrier rib forming process according to the related art, and a barrier rib 20 having a desired height is formed by performing pattern printing and drying several times using a screen mask.

그러나, 이러한 종래의 격벽 형성 기술은 수회의 인쇄 공정을 거쳐야 하기 때문에 이에 따른 패턴의 위치 정밀도 불량(마스크의 응력 변화, 시간에 따른 공정 온도의 변화에 기인함), 격벽 높이의 균일도 불량으로 인한 문제점(후속 형광체 형성시 악영향을 미치며, 화상 구현시 불안정한 방전의 원인이 됨)이 있으며, 공정의 재현성(안정성)이 떨어져 수율이 저하되고, 미세한 패턴이 요구되는 고화질, 고정세 패턴의 제조가 어려운 한계가 있었다.However, such a conventional barrier rib formation technique requires a plurality of printing processes, resulting in poor positional accuracy of the pattern (due to a change in the stress of the mask and a change in the process temperature over time) and a poor uniformity of the barrier height. (Which adversely affects the formation of subsequent phosphors and may cause unstable discharges in image formation) There was.

본 발명은 격벽의 위치 정밀도 및 격벽 높이의 균일도를 향상시키고, 공정의 재현성을 확보하며, 미세한 패턴을 형성할 수 있는 플라즈마 디스플레이 패널의 배면판 제조방법을 제공하는데 그 목적이 있다.SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a method for manufacturing a back plate of a plasma display panel which improves the positional accuracy of the partition wall and the uniformity of the partition wall height, ensures reproducibility of the process, and can form fine patterns.

도 1은 일반적인 AC형 PDP의 구성을 도시한 단면도.1 is a cross-sectional view showing the configuration of a typical AC PDP.

도 2는 종래기술에 따른 격벽(barrier rib) 형성 공정도.2 is a process diagram of forming a barrier rib according to the prior art.

도 3a 내지 도 3h는 본 발명의 일 실시예에 따른 PDP의 배면판 제조 공정도.3A to 3H are rear plate manufacturing process diagrams of a PDP according to an embodiment of the present invention.

* 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명* Explanation of symbols for the main parts of the drawings

30 : 유리기판 31 : 감광성 페이스트30 glass substrate 31 photosensitive paste

31a : 어드레스 전극 31b : 격벽 형성용 지지패턴31a: address electrode 31b: support pattern for forming partition wall

32, 34 : 포토 마스크 33 : 감광성 DFR32, 34: photo mask 33: photosensitive DFR

35 : 격벽 물질 36 : 절연성 흰색 페이스트35 bulkhead material 36 insulating white paste

본 발명은 전기 도금법(electro plating)을 이용하여 격벽을 형성하고자 한다. 즉, 본 발명은 어드레스 전극 형성과 동시에 격벽 형성용 지지패턴(seed layer)을 형성하고, 선택적으로 전기 도금을 실시하여 격벽을 형성한다. 이 경우, 종래의 스크린 인쇄법에 비해 마스크 변형에 따른 정렬 불안정으로 생기는 격벽의 틀어짐 없이 단 한번의 정렬만으로 격벽을 형성하기 때문에 정확한 패턴 형성이 가능하다. 또한, 격벽을 전기 도금법으로 형성하기 때문에 마스크 자체적인 무늬 같은 것에 의해 발생하는 평탄성 불량이 거의 발생하지 않게 된다. 아울러, 전극 폭 정도의 공간에서도 무리 없이 적층이 되기 때문에 미세한 패턴 형성이 가능하다.The present invention seeks to form partition walls using electroplating. That is, the present invention forms a barrier layer formation support layer (seed layer) at the same time as the address electrode is formed, and selectively performs electroplating to form a barrier rib. In this case, compared to the conventional screen printing method, since the partition wall is formed by only one alignment without distortion of the partition wall caused by alignment instability due to mask deformation, accurate pattern formation is possible. In addition, since the partition wall is formed by the electroplating method, the flatness defect caused by the pattern of the mask itself is hardly generated. In addition, even in the space of the width of the electrode can be stacked without difficulty because fine pattern formation is possible.

따라서, 상기 기술적 과제를 달성하기 위하여 본 발명으로부터 제공되는 특징적인 플라즈마 디스플레이 패널의 배면판 제조방법은, 배면기판 상에 전극용 페이스트를 도포하는 제1 단계; 상기 전극용 페이스트를 패터닝하여 어드레스 전극 및 격벽 형성용 지지패턴을 동시에 형성하는 제2 단계; 상기 제2 단계 수행 후, 전체구조 상부에 전기 도금시 반응하지 않는 물질막을 형성하는 제3 단계; 상기 물질막을 패터닝하여 상기 격벽 형성용 지지패턴을 노출시키는 트렌치를 형성하는 제4 단계; 전기 도금법을 사용하여 상기 트렌치 내에 격벽 물질을 매립하는 제5 단계; 및 상기 제5 단계 수행 후, 잔류하는 상기 물질막을 제거하는 제6 단계를 포함하여 이루어진다.Accordingly, in order to achieve the above technical problem, a method of manufacturing a back plate of a characteristic plasma display panel provided from the present invention includes a first step of applying an electrode paste on a back substrate; Patterning the electrode paste to simultaneously form an address electrode and a support pattern for forming a partition; A third step of forming a material film which does not react upon electroplating on the entire structure after performing the second step; A fourth step of patterning the material film to form a trench exposing the support pattern for forming the partition wall; A fifth step of embedding the partition material in the trench using an electroplating method; And a sixth step of removing the remaining material film after the fifth step.

이하, 본 발명이 속한 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자가 본 발명을 보다 용이하게 실시할 수 있도록 하기 위하여 본 발명의 바람직한 실시예를 소개하기로 한다.Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be introduced in order to enable those skilled in the art to more easily carry out the present invention.

첨부된 도면 도 3a 내지 도 3h는 본 발명의 일 실시예에 따른 PDP의 격벽 형성 공정을 도시한 것으로, 이하 이를 참조하여 설명한다.3A to 3H illustrate a process of forming a partition wall of a PDP according to an embodiment of the present invention, which will be described with reference to the following.

본 실시예에 따른 공정은, 우선 도 3a에 도시된 바와 같이 유리기판(30) 상에 스핀 코팅(spin coating) 또는 β인쇄법을 사용하여 감광성 페이스트(paste)(31)를 전면 도포한다.In the process according to the present embodiment, first, as shown in FIG. 3A, the photosensitive paste 31 is completely coated on the glass substrate 30 using spin coating or β printing.

다음으로, 도 3b에 도시된 바와 같이 어드레스 전극과 격벽 구조가 인쇄된 포토 마스크(32)를 사용한 자외선(UV) 노광 공정을 진행한다.Next, as shown in FIG. 3B, an ultraviolet (UV) exposure process using the photomask 32 on which the address electrode and the partition structure are printed is performed.

계속하여, 도 3c에 도시된 바와 같이 현상 공정을 진행하여 어드레스 전극(31a) 및 격벽 형성용 지지패턴(seed layer)(31b)을 형성하고, 소성 공정을 실시한다.Subsequently, as shown in FIG. 3C, the developing process is performed to form the address electrode 31a and the support layer 31b for forming the partition wall, and the firing process is performed.

이어서, 도 3d에 도시된 바와 같이 전체구조 상부에 감광성 DFR(dry film resist)(33)을 형성하고, 격벽 구조가 인쇄된 포토 마스크(34)를 사용하여 자외선(UV) 노광 공정을 실시한다.Subsequently, as illustrated in FIG. 3D, a photosensitive dry film resist (DFR) 33 is formed on the entire structure, and an ultraviolet (UV) exposure process is performed using a photomask 34 on which a partition structure is printed.

다음으로, 도 3e에 도시된 바와 같이 현상 공정을 실시하여 감광성 DFR(33)을 패터닝한다. 이때, 격벽 형성용 지지패턴(31b)이 노출된다.Next, as illustrated in FIG. 3E, a developing process is performed to pattern the photosensitive DFR 33. At this time, the partition formation support pattern 31b is exposed.

계속하여, 도 3f에 도시된 바와 같이 전기 도금법으로 격벽 물질(35)을 매립한다.Subsequently, the partition material 35 is embedded by electroplating as shown in FIG. 3F.

계속하여, 도 3g에 도시된 바와 같이 감광성 DFR(33)을 제거하고, 도 3h에 도시된 바와 같이 점도가 비교적 낮은(20∼30Pa·s) 절연성 흰색 페이스트(white paste)(36)를 β인쇄법을 사용하여 도포하고, 고온(약 180℃) 건조를 실시한 다음, 형광체(도시되지 않음)를 형성하고 소성 공정을 실시하여 절연성 흰색 페이스트(35)와 형광체의 소성을 동시에 진행한다.Subsequently, the photosensitive DFR 33 is removed as shown in FIG. 3G, and β-printed an insulating white paste 36 having a relatively low viscosity (20 to 30 Pa · s) as shown in FIG. 3H. The coating is applied using a method, high temperature (about 180 DEG C) drying is performed, a phosphor (not shown) is formed, and a firing process is performed to simultaneously fire the insulating white paste 35 and the phosphor.

이상에서 설명한 본 발명은 전술한 실시예 및 첨부된 도면에 의해 한정되는 것이 아니고, 본 발명의 기술적 사상을 벗어나지 않는 범위 내에서 여러 가지 치환, 변형 및 변경이 가능하다는 것이 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 있어 명백할 것이다.The present invention described above is not limited to the above-described embodiments and the accompanying drawings, and various substitutions, modifications, and changes can be made in the art without departing from the technical spirit of the present invention. It will be apparent to those of ordinary knowledge.

전술한 본 발명은 배면기판의 변형으로 인한 전극과 격벽의 정렬 문제를 해소할 수 있으며, 전극 폭 이하의 미세 패턴으로 격벽을 형성할 수 있어 고정세용 패널 제조에 적용이 가능하다. 또한, 본 발명은 생산성과 재현성이 향상되어 생산원가의 절감을 기대할 수 있다.The present invention described above can solve the problem of the alignment of the electrode and the partition wall due to the deformation of the back substrate, it is possible to form the partition wall in a fine pattern of less than the electrode width can be applied to high-precision panel manufacturing. In addition, the present invention can be expected to reduce the production cost is improved productivity and reproducibility.

Claims (7)

배면기판 상에 전극용 페이스트를 도포하는 제1 단계;A first step of applying the electrode paste on the back substrate; 상기 전극용 페이스트를 패터닝하여 어드레스 전극 및 격벽 형성용 지지패턴을 동시에 형성하는 제2 단계;Patterning the electrode paste to simultaneously form an address electrode and a support pattern for forming a partition; 상기 제2 단계 수행 후, 전체구조 상부에 전기 도금시 반응하지 않는 물질막을 형성하는 제3 단계;A third step of forming a material film which does not react upon electroplating on the entire structure after performing the second step; 상기 물질막을 패터닝하여 상기 격벽 형성용 지지패턴을 노출시키는 트렌치를 형성하는 제4 단계;A fourth step of patterning the material film to form a trench exposing the support pattern for forming the partition wall; 전기 도금법을 사용하여 상기 트렌치 내에 격벽 물질을 매립하는 제5 단계; 및A fifth step of embedding the partition material in the trench using an electroplating method; And 상기 제5 단계 수행 후, 잔류하는 상기 물질막을 제거하는 제6 단계A sixth step of removing the remaining material film after the fifth step; 를 포함하여 이루어진 플라즈마 디스플레이 패널의 배면판 제조방법.Back plate manufacturing method of the plasma display panel comprising a. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 제6 단계 수행 후,After performing the sixth step, 절연성 흰색 페이스트를 도포하는 제7 단계와,A seventh step of applying the insulating white paste, 상기 절연성 흰색 페이스트를 고온 건조하는 제8 단계를 더 포함하여 이루어진 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 배면판 제조방법.And an eighth step of drying the insulating white paste at a high temperature. 제 2 항에 있어서,The method of claim 2, 상기 제8 단계 수행 후,After performing the eighth step, 상기 격벽 물질 사이에 형광체를 형성하는 제9 단계와,Forming a phosphor between the partition materials; 상기 절연성 흰색 페이스트와 상기 형광체의 소성 공정을 실시하는 제10 단계를 더 포함하여 이루어진 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 배면판 제조방법.And a tenth step of performing the firing process of the insulating white paste and the phosphor. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 전극용 페이스트가,The electrode paste, 감광성 페이스트인 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 배면판 제조방법.It is a photosensitive paste, The manufacturing method of the back plate of a plasma display panel. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,The method according to claim 1 or 2, 상기 물질막이,The material film, 감광성 DFR(dry film resist)인 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 배면판 제조방법.Method for manufacturing a back plate of a plasma display panel, characterized in that the photosensitive dry film resist (DFR). 제 2 항에 있어서,The method of claim 2, 상기 절연성 흰색 페이스트가,The insulating white paste, 20∼30Pa·s의 점도를 가지는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 배면판 제조방법.It has a viscosity of 20-30 Pa.s, The manufacturing method of the back plate of a plasma display panel. 제 4 항에 있어서,The method of claim 4, wherein 상기 제2 단계가,The second step, 상기 어드레스 전극 및 격벽 구조가 인쇄된 포토 마스크를 사용하여 상기 감광성 페이스트를 노광하는 제7 단계;A seventh step of exposing the photosensitive paste using a photo mask on which the address electrode and the barrier rib structure are printed; 현상 공정을 진행하여 상기 감광성 페이스트를 패터닝하는 제8 단계; 및An eighth step of patterning the photosensitive paste by a developing process; And 소성 공정을 실시하는 제9 단계를 포함하여 이루어진 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 배면판 제조방법.And a ninth step of carrying out the calcination process.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100759559B1 (en) * 2005-11-21 2007-09-18 삼성에스디아이 주식회사 Manufacturing method of barrier ribs for flat display panel

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