KR20000014739A

KR20000014739A - Wafer supporting rod of semiconductor fabrication apparatus

Info

Publication number: KR20000014739A
Application number: KR1019980034296A
Authority: KR
Inventors: 옥진구
Original assignee: 윤종용; 삼성전자 주식회사
Priority date: 1998-08-24
Filing date: 1998-08-24
Publication date: 2000-03-15

Abstract

PURPOSE: A reference calibration plate(200), which acts a role of a reference horizontal surface to performing the calibration by checking the horizontal state of a wafer(300), is attached to a wafer supporting rod(100). CONSTITUTION: The supporting rod is to support the wafer during semiconductor fabrication process. The supporting rod is characterized by that the reference calibration plate is attached to the wafer supporting rod to calibrate so that the wafer supporting rod is horizontal. So, the wafer supporting rod can be maintained to be horizontal without using the reference wafer in every additional calibration work.

Description

Wafer Support of Semiconductor Manufacturing Equipment

본 발명은 반도체 제조 장치에 관한 것으로서, 특히 반도체 제조 장치의 웨이퍼 지지대에 관한 것이다.TECHNICAL FIELD The present invention relates to a semiconductor manufacturing apparatus, and more particularly, to a wafer support of a semiconductor manufacturing apparatus.

일반적으로, 반도체 제조 장치에는 웨이퍼 지지대가 구비되어 있다. 즉, 반도체 제조 공정을 수행하는 동안에 반도체 기판으로 사용되는 웨이퍼를 일정한 상태로 유지되도록 지지할 필요가 있다. 이와 같은 반도체 제조 장치 중에서 웨이퍼 지지대가 필수적으로 사용되는 노광 장비를 예를 들어 설명하기로 한다.Generally, the semiconductor manufacturing apparatus is equipped with the wafer support stand. That is, it is necessary to support the wafer used as the semiconductor substrate to be maintained in a constant state during the semiconductor manufacturing process. An exposure apparatus in which a wafer support is essentially used among such semiconductor manufacturing apparatuses will be described as an example.

반도체 장치의 제작에는 미세한 패턴을 형성하기 위한 사진 식각법이 사용된다. 이러한 사진 식각법을 수행하기 위해서는, 마스크(또는 레티클(reticle))의 패턴을 기판에 형성된 포토레지스트막에 전사하기 위한 노광 장비가 사용된다. 노광 장비는 소정의 패턴이 형성된 마스크가 올려지는 레티클 스테이지와, 마스크의 패턴이 전사될 웨이퍼가 안착되는 웨이퍼 지지대를 포함한다. 그리고 이 외에도 레티클 스테이지와 웨이퍼 사이에 각종 광학계가 포함되며, 레티클 스테이지의 위에는 광원이 설치된다. 이 광원으로부터 조사되는 광은 소정의 광학계를 통과하면서 특정 파장의 점광원이 되어, 마스크에 투사된 후 투영 광학계를 통하여 웨이퍼에 조사되어 웨이퍼 상의 포토레지스트막을 노광한다.In the fabrication of semiconductor devices, a photolithography method for forming a fine pattern is used. In order to perform such photolithography, an exposure apparatus for transferring a pattern of a mask (or reticle) to a photoresist film formed on a substrate is used. The exposure apparatus includes a reticle stage on which a mask on which a predetermined pattern is formed is mounted, and a wafer support on which a wafer on which the pattern of the mask is to be transferred is seated. In addition, various optical systems are included between the reticle stage and the wafer, and a light source is installed on the reticle stage. The light irradiated from this light source becomes a point light source of a specific wavelength while passing through a predetermined optical system, is projected onto the mask, and then irradiated onto the wafer through the projection optical system to expose the photoresist film on the wafer.

이와 같은 노광 장비에 있어서, 마스크, 각종 광학계를 구성하는 렌즈들 그리고 웨이퍼가 수평 상태를 유지하여야만 웨이퍼 상에는 마스크의 패턴이 균일하게 전사될 수 있다. 따라서, 노광 설비에 의한 노광 공정을 수행하기 전에는, 각 단위 설비들의 수평 상태, 특히 노광될 웨이퍼가 안착되는 웨이퍼 지지대의 수평 상태를 점검하여야 한다.In such exposure equipment, the mask, the lenses constituting various optical systems, and the wafer must be kept horizontal so that the pattern of the mask can be uniformly transferred onto the wafer. Therefore, before performing the exposure process by the exposure facilities, it is necessary to check the horizontal state of each unit facilities, in particular, the horizontal state of the wafer support on which the wafer to be exposed is seated.

종래에는 이를 위하여, 웨이퍼 지지대 상에 기준이 되는 기준 웨이퍼, 즉 가장 평탄도가 좋은 웨이퍼를 웨이퍼 지지대 상에 안착한 후에 캘리브레이션 장비를 사용하여 그 수평 상태를 검사하였다.Conventionally, for this purpose, a reference wafer, that is, a wafer having the highest flatness, as a reference on the wafer support is placed on the wafer support, and then the horizontal state is inspected using a calibration equipment.

그런데, 이와 같은 종래의 방법은 사용되는 기준 웨이퍼의 종류에 따라 그 수평 상태가 다르게 될 수 있으며, 캘리브레이션을 수행하고자 할 때마다 매번 기준 웨이퍼를 웨이퍼 지지대 상에 안착한 후에 캘리브레이션을 수행하여야 하므로 작업이 번거롭다는 단점이 있다.However, such a conventional method may be different in the horizontal state according to the type of reference wafer used, and the work is cumbersome because the calibration must be performed after the reference wafer is placed on the wafer support every time calibration is to be performed. The disadvantage is that it is beneficial.

본 발명의 목적은, 상기와 같은 문제점을 개선하기 위하여 웨이퍼의 수평 상태를 확인하여 캘리브레이션하기 위한 기준 수평면 역할을 하는 기준 캘리브레이션판이 부착되어 있는 반도체 제조 장치의 웨이퍼 지지대를 제공하는데 있다.An object of the present invention is to provide a wafer support of a semiconductor manufacturing apparatus having a reference calibration plate attached to serve as a reference horizontal plane for checking and calibrating the horizontal state of the wafer in order to improve the above problems.

도 1은 본 발명에 따른 반도체 제조 장치의 웨이퍼 지지대를 나타내 보인 단면도이다.1 is a cross-sectional view showing a wafer support of a semiconductor manufacturing apparatus according to the present invention.

도 2는 도 1의 반도체 제조 장치의 웨이퍼 지지대의 평면도이다.FIG. 2 is a plan view of the wafer support of the semiconductor manufacturing apparatus of FIG. 1. FIG.

<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명><Explanation of symbols for main parts of the drawings>

100...웨이퍼 지지대 200...기준 캘리브레이션판100 ... wafer support 200 ... standard calibration plate

300...노광될 웨이퍼300 ... wafer to be exposed

상기 목적을 달성하기 위하여, 본 발명에 따른 반도체 제조 장치의 웨이퍼 지지대는, 반도체 제조 공정 중에 웨이퍼가 일정한 상태를 유지하도록 상기 웨이퍼를 지지하기 위한 반도체 제조 장치의 웨이퍼 지지대에 있어서, 상기 웨이퍼 지지대가 수평 상태가 되도록 캘리브레이션하기 위한 기준면을 제공하는 기준 캘리브레이션판이 상기 웨이퍼 지지대에 부착된 것을 특징으로 한다.In order to achieve the above object, the wafer support of the semiconductor manufacturing apparatus according to the present invention is a wafer support of the semiconductor manufacturing apparatus for supporting the wafer so that the wafer is kept constant during the semiconductor manufacturing process, the wafer support is horizontal And a reference calibration plate attached to the wafer support, the reference calibration plate providing a reference surface for calibrating to a state.

여기서, 상기 기준 캘리브레이션판은 상기 웨이퍼 지지대의 주위에 부착되는 것이 바람직하다.Here, the reference calibration plate is preferably attached around the wafer support.

이하, 첨부 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 상세히 설명한다.Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 1은 본 발명에 따른 반도체 제조 장치, 예컨대 노광 장비의 웨이퍼 지지대를 나타내 보인 단면도이고, 도 2는 그 평면도이다.1 is a cross-sectional view showing a wafer support of a semiconductor manufacturing apparatus such as an exposure apparatus according to the present invention, Figure 2 is a plan view thereof.

도 1 및 도 2를 참조하면, 본 발명에 따른 반도체 제조 장치의 웨이퍼 지지대(100)는 웨이퍼 지지대(100)가 수평 상태가 되도록 캘리브레이션하기 위한 기준면을 제공하는 기준 캘리브레이션판(200)이 부착되어 일체화된다. 이 때, 기준 캘리브레이션판(200)은 웨이퍼 지지대(100)의 주위에 부착된다.1 and 2, the wafer support 100 of the semiconductor manufacturing apparatus according to the present invention is integrated with a reference calibration plate 200 that provides a reference surface for calibrating the wafer support 100 so that it is horizontal. do. At this time, the reference calibration plate 200 is attached around the wafer support 100.

즉, 노광 장비에 의한 노광 공정을 수행하기 전에, 노광될 웨이퍼(300)가 정확히 수평 상태가 되도록 하기 위해서는 웨이퍼(300)가 안착되는 웨이퍼 지지대(100)가 정확히 수평 상태가 되어야 한다. 따라서, 노광 공정을 수행하기 전에, 웨이퍼 지지대(100)의 수평 상태를 검사하고, 검사한 결과 수평 상태가 이루어지지 않은 경우에는 캘리브레이션을 수행하여 수평 상태가 되도록 하여야 한다.That is, before performing the exposure process by the exposure equipment, in order to ensure that the wafer 300 to be exposed is exactly horizontal, the wafer support 100 on which the wafer 300 is to be placed should be exactly horizontal. Therefore, before performing the exposure process, the horizontal state of the wafer support 100 is inspected, and if the horizontal state is not achieved as a result of the inspection, calibration should be performed to be horizontal.

캘리브레이션을 수행하여야 하는 경우에, 기준 캘리브레이션판(200)은 캘리브레이션 장비(미도시)로 기준이 되는 평면을 제공한다. 이 때, 기준 캘리브레이션판(200)은 웨이퍼 지지대(100)에 항상 부착되어 있으므로, 노광 공정을 수행하기 전에 수행되는 캘리브레이션 작업 시마다 동일한 기준 평면을 제공한다.If calibration is to be performed, the reference calibration plate 200 provides a reference plane to the calibration equipment (not shown). In this case, since the reference calibration plate 200 is always attached to the wafer support 100, the reference calibration plate 200 provides the same reference plane for every calibration operation performed before the exposure process.

캘리브레이션 작업 시에 사용되는 캘리브레이션 장비에 따라서는, 기준 캘리브레이션판(200) 대신에 일정한 마크가 형성된 조각 형태의 캘리브레이션판도 사용될 수도 있다.Depending on the calibration equipment used in the calibration operation, instead of the reference calibration plate 200, a calibration plate in the form of a piece having a predetermined mark may be used.

이상, 본 발명을 바람직한 실시예를 들어 상세하게 설명하였으나, 본 발명은 상기 실시예에 한정되지 않으며, 본 발명의 기술적 사상의 범위 내에서 당 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의하여 여러 가지 변형이 가능하다. 예를 들면 노광 장비의 다른 단위 장치, 예컨대 레티클 스테이지 또는 광학계에 포함된 렌즈들의 수평 상태를 유지하기 위한 캘리브레이션을 수행하는 경우에도, 레티클 스테이지 또는 렌즈들에도 기준 캘리브레이션판이 일체화되어 부착될 수도 있다.In the above, the present invention has been described in detail with reference to preferred embodiments, but the present invention is not limited to the above embodiments, and various modifications may be made by those skilled in the art within the scope of the technical idea of the present invention. It is possible. For example, even when performing calibration to maintain the horizontal state of lenses included in other unit devices of the exposure apparatus, such as the reticle stage or the optical system, the reference calibration plate may be integrally attached to the reticle stage or the lenses.

이상의 설명에서와 같이, 본 발명에 따른 반도체 제조 장치의 웨이퍼 지지대에 의하면, 캘리브레이션을 위한 기준 평면을 제공하기 위한 기준 캘리브레이션판이 웨이퍼 지지대에 부착되어 일체화되어 있으므로, 별개의 캘리브레이션 작업 시마다 기준 웨이퍼를 사용하지 않고도 일정하게 웨이퍼 지지대를 수평 상태로 유지시킬 수 있으며, 이에 따라 반도체 제조 공정 수행 시에 웨이퍼가 수평 상태를 일정하게 유지할 수 있도록 한다.As described above, according to the wafer support of the semiconductor manufacturing apparatus according to the present invention, since a reference calibration plate for providing a reference plane for calibration is attached to and integrated with the wafer support, a reference wafer is not used for each separate calibration operation. It is possible to keep the wafer support horizontal even without constant, thereby allowing the wafer to remain horizontal during the semiconductor manufacturing process.

Claims

In the wafer support of the semiconductor manufacturing apparatus for supporting a wafer during a semiconductor manufacturing process,

And a reference calibration plate attached to the wafer support, the reference calibration plate providing a reference surface for calibrating the wafer support to be horizontal.

The method of claim 1,

And the reference calibration plate is attached to the periphery of the wafer support.