KR19980081471A - 감광 재료 처리용 장치 - Google Patents

Abstract

본 발명은 감광 재료를 처리하기 위한 장치에 관한 것이다. 본 발명의 감광 재료 처리용 장치는 사진용 재료를 처리하기 위한 처리 용액을 수용하기 위한 좁은 처리 채널을 구비한다. 처리 채널이 입구 및 출구를 구비한다. 유입 유체 보유 영역이 입구 부근에 제공되어 있고, 방출 유체 보유 영역이 출구 부근에 제공되어 있다. 유체 균형 채널이 상기 유입 유체 보유 영역과 상기 방출 유체 보유 영역 사이에서 연장되도록 제공되어 있다.

Description

감광 재료 처리용 장치

본 발명은 사진용 처리부에 관한 것으로, 특히 보다 부피가 적은 얇은 탱크형 처리부(low volume thin tank type processors)에 관한 것이다.

미국 특허 제 5,270,762 호, 제 5,353,088 호, 제 5,400,106 호, 제 5,420,659 호, 제 5,313,243 호, 제 5,355,190 호, 제 5,398,094 호, 제 5,418,591 호, 제 5,347,327 호, 제 5,386,261 호, 제 5,381,203 호, 제 5,353,087 호는 감광 재료가 좁은 처리 채널을 통과하는 얇은 탱크 처리부를 나타낸 것이다. 감광 재료가 처리 채널을 통과할 때 감광 재료상에 처리 용액을 충돌시키기 위해 노즐이 종종 사용되고 있다. 이러한 유형의 처리부는 또한 처리부내에 있는 처리 용액의 양을 최소화시키도록 설계된 부피가 적은 유형의 구조이다. 이러한 유형의 구조의 결과로서, 유입 유체 보유 영역이 처리 채널의 입구에 형성되며, 방출 유체 보유 영역이 처리 채널의 출구 단부에 형성된다. 이러한 2개의 보유 영역에서 처리 용액의 높이는 실질적으로 처리 채널을 통과하는 유체에 의해 유지되고 있다.

이러한 유형의 처리부가 감광 재료의 효과적인 처리를 제공하고 있고, 비교적 작은 양의 처리 용액을 사용하고 있지만, 본 출원인은 소정 상태에서 처리 용액의 바람직하지 않은 표면 파도가 처리 채널내에 발생되는 것을 발견하였다. 초기 파도는 감광 재료가 노즐에 도달하기 바로 전에 발생하며, 이것은 좁은 처리 채널의 유입 영역을 순간적으로 막고 있다. 이것은 감광 재료의 전방에 있는 채널의 영역에서 처리 용액이 상승하도록 한다. 처리 용액이 상승함에 따라, 처리 용액이 다음 처리부내로 흘러 넘치거나, 오버플로우 높이 제어 둑(weir) 밖으로 넘치게 된다.

감광 재료의 후단이 노즐을 통과할 경우, 감광 재료가 노즐의 바로 앞의 처리 채널을 막아서, 감광 재료의 후단 뒤의 처리 채널의 영역에서 처리 용액이 상승하도록 하는 반대 작용이 발생한다. 이것은 처리 용액이 처리부의 밖으로 넘쳐 흐르거나 또는 오버플로우 높이 제어 둑 밖으로 넘치게 한다.

처리 용액이 처리 채널의 일측으로 향하게 될 경우, 다른 측의 처리 용액의 높이가 낮아지게 된다. 처리 용액이 너무 늦게 흐르는 경우, 처리 용액이 처리 탱크로부터 연속적으로 제거될 때 탱크 출구에서의 처리 용액의 와동(渦動)(vortex)이 발생될 수도 있다. 이러한 와동은 처리 채널에서 실제로 건조를 수행하는 처리부에서 발생할 수 있다. 처리 채널의 일측의 처리 용액이 점점 많아질 경우, 다른 측의 처리 용액이 점점 적게 되고, 이러한 양쪽의 조건은 처리 장치에 이롭지 못하게 된다.

좁은 처리 채널이 처리 채널내로 처리 용액을 도입시키는 충격 노즐과 조합하여 사용될 경우, 일시적으로 과도 용액이 처리부의 밖으로 넘쳐 흐르는 처리 용액의 비효과적 사용이 발생될 수 있다. 더욱이, 처리 용액의 바라지 않은 와동이 발생할 수도 있다.

본 발명은 처리부에서 처리 용액의 표면 높이가 균형을 이루도록하는 재순환 낮은 유체 처리 채널(recirculation low fluid management channel)을 제공하여 전술한 문제를 해결하므로써, 처리 용액이 좁은 처리 채널을 통과하여 이동할 필요 없이, 처리 채널의 유입 측면과 처리 채널의 출구 영역 사이에서 자유롭게 유동하도록 한다.

본 발명에 따르면 감광 재료를 처리하기 위한 장치를 제공하고 있다. 이 장치는 사진용 재료를 처리하기 위한 처리 용액을 수용하기 위한 좁은 처리 채널을 구비한다. 처리 채널이 입구 및 출구를 구비한다. 유입 유체 보유 영역이 입구에 인접하게 제공되고, 방출 유체 보유 영역이 출구에 인접하게 제공되어 있다. 적어도 하나의 유체 균형 채널이 상기 유입 유체 보유 영역과 상기 방출 유체 보유 영역 사이에서 연장하도록 제공되어 있다.

도 1은 본 발명에 따라 제조된 처리 장치의 개략도,

도 2a는 도 1의 처리 장치의 현상부의 확대 단면도,

도 2b는 처리 채널내로 처리 용액을 유입하도록 사용된 노즐에 도달하기 전에 처리 채널에 유입되는 감광 재료를 도시하는 도 2a와 유사한 도면,

도 2c는 노즐을 통과하는 감광 재료를 도시하는 도 2b와 유사한 도면,

도 2d는 노즐을 통과하여 지나간 감광 재료를 도시하는 도 2b와 유사한 도면,

도 3은 본 발명에 따라 제조된 균형 채널을 구비한 상측 블록 부재의 사시도,

도 4는 도 1의 선 4a-4b 사이를 절취한 다른 한 처리부의 일부 확대 단면도,

도 5는 본 발명에 따라 제조된 균형 채널을 도시하는 도 4의 처리부의 상측 블록 부재의 사시도.

도면의 주요부분에 대한 부호의 설명

10 : 처리 장치 12, 14, 16, 18, 20 : 처리부

21 : 처리 용액 22 : 건조기

23 : 감광 재료 24, 26, 28, 30, 32 : 재순환 시스템

36 : 펌프 40, 42 : 도관

도 1을 참조하면, 본 발명에 따라 제조된 처리 장치(10)를 도시하고 있다. 본 발명의 처리 장치는 복수의 처리부(12, 14, 16, 18, 20)를 포함하는데, 각각의 처리부는 그것을 통과하는 감광 재료(23)(도 2b에 도시함)를 처리하기 위한 처리 용액(21)을 유지하도록 설계되어 있다. 도시된 특정 실시예에 있어서, 처리부(12)는 현상 처리 용액(developing processing solution)을 수용하고, 처리부(14)는 표백제-고정 처리 용액(bleach-fixing processing solution)을 수용하며, 처리부(16, 18, 20)는 각각 안정 세정 처리 용액(stabilizer wash processing solution)을 수용한다. 각각의 처리부에 대한 처리 용액의 높이가 문자(L)로 표시되어 있다. 감광 재료(23)가 마지막 처리부(20)를 나간 후에 감광 재료(23)의 건조를 위해 건조기(22)가 제공되어 있다.

건조기(22)는 건조기(22)를 통과하도록 감광 재료(23)를 안내 및 이송시키기 위한 복수의 롤러(39)를 구비한다. 감광 재료가 건조기(22)를 통과할 때 화살표(41)에 의해 지시된 바와 같이 감광 재료(23)(도 1에 도시되지 않음)에 대해 건조 공기를 공급하도록 종래에 주지된 바와 같은 적절한 메카니즘이 제공되어, 감광 재료가 출구(43)를 통과하여 장치(10)를 빠져나갈 때 충분히 건조된다.

재순환 시스템(24, 26, 28, 30, 32)이 각각의 처리부(12, 14, 16, 18, 20)를 통과하는 처리 용액을 재순환하기 위해 제공되어 있다. 각각의 재순환 시스템(24, 26, 28, 30, 32)은 구성면에서 거의 동일하며, 동일한 참조 부호는 동일한 부품 및 작동을 나타낸다. 따라서, 재순환 시스템(24)에 대해서만 상세히 논의될 것이며, 나머지 재순환 시스템은 구조 및 작동에서 거의 유사하다.

재순환 시스템(24)은 도관(40)에 의해 펌프(36)와 유체적으로 연결된 출구(34)로부터 처리 용액을 얻고 있다. 처리 용액은 펌프(36)에 의해 도관(41)을 통과하고 필터(38)를 통과하여 재순환되고 있다. 처리 용액이 도관(42)을 통해 필터(38)를 떠나, 처리부(12)의 입구(44)로 공급된다. 재순환 처리 용액의 보충을 위한 이러한 프로세서에서 일반적으로 행해지는 바와 같이, 보충 시스템(37)이 재순환 시스템(24)내로 보충 용액을 도입시키기 위해 제공되어 있다.

도 2a를 참조하면, 처리부(12)의 확대도를 나타내고 있다. 처리부(12)는 부피가 적은 얇은 탱크형(low volume thin tank type)이 되도록 설계되어 있다. 특히, 좁은 처리 채널(46)은 감광 재료(23)가 처리를 위해 통과하는 입구(47) 및 출구(49)를 갖도록 제공되어 있다. 처리 채널(46)은 그것의 길이를 따라 거의 일정한 두께(T)를 가진다. 사진용 페이퍼를 처리하기 위한 프로세서에 있어서, 처리 채널(46)은 바람직하게는 페이퍼 두께의 50배 이하의 두께(T)를 가지며, 보다 바람직하게는 사진용 페이퍼의 두께의 약 10배 이하의 두께를 가진다. 사진용 필름을 처리하기 위한 프로세서에서는, 두께(T)가 필름 두께의 약 100배 이하여야 하며, 바람직하게는 필름 두께의 약 18배 이하여야 한다.

전술한 바와 같이, 처리부(12)는 부피가 적은 유형이다. 즉, 처리부(12)내에 수용되는 처리 용액의 총량이 이용가능한 처리 용액, 즉 처리부(12) 및 재순환 시스템(24)에서 이용가능한 처리 용액의 적어도 전체 체적의 40%이다. 바람직하게는, 처리부(12)내의 처리 용액의 체적이 이용가능한 처리 용액의 전체 체적의 적어도 50%이다. 도시된 특정 실시예에 있어서, 처리부(12)내에 처리 용액의 체적이 이용가능한 처리 용액의 전체 체적의 약 60%이다. 처리부(12)는 처리 용액(21)이 처리 채널(46)의 외측에 존재할 수 있는 매우 작은 과도 영역 또는 체적이 있도록 설계되어 있다. 가능한 곳에서, 적절한 부분이 어떤 롤러 또는 그 안에 배치된 다른 아이템과 밀접하게 정합되도록 구성되어 있다.

도시된 실시예에 있어서, 처리부(12)는 감광 유제(emulsion)를 가지는 감광 재료의 측면에 대해 입구(44)로부터 처리 채널(46)내로 처리 용액(21)을 도입시키기 위한 한쌍의 노즐(50, 51)을 구비한다. 처리 용액(21)은 감광 재료(23)에 충돌하도록 도입되며, 바람직하게는 처리 용액이 감광 재료(23)의 표면에 충분한 세기로 도입되도록 충분한 힘을 갖게 된다. 특히, 각각의 처리 노즐(50, 51)은 처리 채널(46)을 통과하는 처리 재료의 폭에 걸쳐 연장하는 길다랗고 좁은 연속적인 슬롯을 포함한다.

노즐(50, 51)을 통과하는 처리 용액의 효과적인 유동을 제공하기 위하여, 하기 관계식에 따라 각각의 노즐(50, 51)이 처리 채널(46)을 통과하는 처리 용액을 전달하도록 하는 것이 바람직하다.

1≤F/A≤40

여기서, F는 노즐을 통과하는 용액의 유량(갤런/분)이며, A는 노즐의 단면적(in²)이다.

상술한 관계식에 따라 제공된 슬롯 노즐은 감광 재료에 대한 처리 용액의 적절한 방출을 보장한다.

감광 재료(23)가 개구(52)를 통하여 처리부(12)내로 유입되고, 안내판(53)에 의해 한쌍의 유입 롤러(54)로 안내된다.

도시되는 바와 같이, 처리 채널(46)이 거의 U형의 전체 구조를 가지며 감광 재료(23)가 입구(47)를 통하여 제 1 아치부(59)내로 들어간 뒤 노즐(50, 51)이 위치된 직선부를 통과하고, 그 후에 아치형 출구부(62)를 통과하여 감광 재료(23)가 처리 채널(46)의 출구(49)를 지나 밖으로 나온다. 제 2, 제 3 및 제 4의 가이드/전달 롤러 쌍(63, 64, 67)이 감광 재료(23)의 안내 및/또는 이송을 위해 제공되어 있다. 특히, 롤러(63)는 처리 채널(46)의 직선부(61)에서 감광 재료(23)를 안내하며, 롤러(64, 67)는 감광 재료(23)가 처리 채널(46)의 출구(49)를 지나 처리부(12)의 바깥으로 나올 때 감광 재료(23)를 안내한다. 안내판(66)이 처리부(12)의 출구(68) 바깥으로 나온 감광 재료(23)를 다음 처리부[본 실시예에서는 처리부(14)]로 안내하도록 제공되어 있다.

도 2a에 도시된 바와 같이, 처리 채널(46)이 하측 블록 부재(48) 및 상측 블록 부재(55)의 형상 및 위치에 의해 형성된다. 도시된 실시예에서, 노즐(50, 51)이 하측 블록 부재(48)에 통합되어 있다. 상술한 바와 같이, 처리부(12)는 최소량의 처리 용액(21)을 유지하도록 설계되어 있다. 블록 부재(48, 55)의 형상은 유입 유체 보유 영역(73)이 처리 채널(46)의 입구에 인접하며, 유체 보유 영역(74)이 처리 채널(46)의 출구(49)에 인접하도록 형성되어 있다. 과도 처리 용액이 처리부(12) 바깥으로 나가도록 둑(78)이 제공되어 있다. 특히, 둑(78)은 유체 보유 영역(74)과 직접 유체 연통하도록 배치되어 있다.

도 3을 참조하면, 상측 블록 부재(55)의 사시도가 도시되어 있다. 상측 블록 부재(55)는 그 안에 복수의 균형 통로/채널(70)을 형성하고 있으며, 이 균형 통로/채널이 처리부(12)의 롤러(54)를 수용하는 유입 유체 보유 영역(73)과 롤러(64)를 수용하는 처리부의 외측 유체 보유 영역(74) 사이에 유체 연통관계를 제공하고 있다. 도시된 실시예에 있어서, 제조를 용이하게 하기 위해 각각 직사각형 단면 형상을 갖는 3개의 채널(70)이 제공되어 있다. 그러나, 어떤 소망하는 수의 채널(70)이 제공될 수 있고, 또한 어떤 소망하는 단면 형상을 가질 수 있다. 채널(70)은 각각 높이(H)와 폭(W)을 구비한다. 채널(70)의 체적은 처리 용액의 양을 최소로하도록 그러나 보유 영역(73, 74) 사이에 적절한 유동을 허용하는 충분한 크기를 갖도록 설계되어 있다. 본 출원인은, 각각 0.25인치의 높이(H) 및 약 0.5인치의 폭(W)을 갖는 3개의 채널이 2개의 보유 영역 사이에 적절한 처리 용액의 유동을 제공한다는 사실을 발견하였다.

도 2a에 도시되는 바와 같이, 커버(84)는 블록 부재(48)의 상측 표면(89) 및 처리 용액이 커버(84)의 높이까지 상승하는 경우 인접한 처리 용액(21)과 결합하도록 설계된 표면(87)을 구비하고 있다. 커버(84)는 처리 용액(21)의 산화를 최소로하도록 도와주며, 처리 용액을 외부 오염 및 증발로부터 보호한다.

도 2b, 도 2c 및 도 2d를 참조하면, 감광 재료(23)가 처리부(12)의 처리 채널(46)을 통과함에 따른 감광 재료(23)의 진행 위치를 도시하고 있다. 특히, 도 2b를 참조하면, 한 시트의 감광 재료가 제 1 노즐(50)을 지나기 바로 전의 위치에 위치되어 있다. 이러한 위치에서, 과도 처리 용액(23)이 감광 재료(23)의 선단(75)의 전방에 충전되어 처리 용액(23)이 외측 유체 보유 영역(74)을 향하여 유동하게 될 것이다. 이에 따라 처리 용액이 높이(L')까지 상승될 것이다. 채널(70)이 처리 모듈(12)내에서 상승할 수 있는 처리 용액의 양을 제한한다. 처리 용액은 화살표(91)에 의해 지시된 바와 같이 방출 유체 보유 영역(74)으로부터 유입 유체 보유 영역(73)으로 이동하게되고, 이에 의해 방출 유체 보유 영역(74)내의 높이와 일치되도록 유입 유체 보유 영역(73)내의 처리 용액의 높이를 상승시킨다. 그러나, 도시된 바와 같이, 처리 용액(21)은 둑(78)의 상측 및 출구(68)의 아래에 남아 있으므로, 방출 유체 보유 영역(74)내의 처리 용액의 일시적 상승으로 인한 처리 용액의 너무 이른 처분이 방지된다.

감광 재료(23)가 도 2c에 도시되는 바와 같이, 양쪽 노즐(50, 51) 위로 통과할 때, 처리 용액이 초기 높이(L)로 돌아온다. 감광 재료가, 도 2d에 도시되는 바와 같이, 노즐(50, 51)을 통과하여 지났을 때, 과도 처리 용액(23)이 유입 유체 보유 영역(73)내로 가압될 것이나, 이러한 상태에서는 균형 채널(70)로 인하여 처리 용액(21)이 화살표(93)에 의해 도시되는 바와 같이 유입 유체 보유 영역(73)으로부터 유체 보유 영역(74)으로 유동하므로써, 처리부(12)의 전체 처리 용액(21)의 양이 균형을 이루어 처리 용액(21)이 감광 노즐을 통과한 감광 재료에 의해 생성되는 파도(wave) 효과로 인해 상측 둑(78) 또는 개구(52) 위로 상승되지 않을 것이다.

따라서, 감광 재료가 노즐을 통과하기 바로 전에, 처리 용액이 출구 영역(74)으로부터 입구 영역(73)으로의 방향으로 이동하는 반면, 나중에 감광 재료가 노즐을 통과한 후에, 처리 용액(21)이 입구 영역(73)으로부터 출구 영역(74)으로 이동하므로써, 처리 용액(21)의 내부 유체 균형을 제공하여, 유체 보유 영역(73, 74)의 하나에서의 처리 용액의 순간적인 증가로 인한 처리 용액의 어떤 불필요한 손실을 방지할 수 있다. 또한 처리 채널은 처리 용액이 처리 채널(46)의 일측에서 너무 낮게 떨어짐으로써 발생하는 처리 용액의 와동을 방지한다. 재순환 시스템(24)이 처리부(12)를 통과한 처리 용액을 연속적으로 재순환시킨다. 만일 처리 용액이 너무 낮게 떨어지면, 너무 적은 처리 요액을 구비한 측에 와동을 발생시킬 수 있다. 이것은 처리 용액이 처리부 바깥으로 넘쳐흘러서 처리 채널내의 처리 용액의 대부분을 배출시키게 되는 상태가 발생되게 할 수 있다.

각각의 균형 채널(70)의 바닥 표면(79)은 채널(70)내의 유체가 유체 보유 영역(73, 74)의 일측 또는 양측으로 흐르도록 수평에 대해 작은 각도(α)로 경사져 있는 것이 바람직하다. 도시된 실시예에 있어서, 채널(70)은 처리 용액(21)이 보유 영역(74)으로 흐르도록 경사져 있다. 각도(α)는 1°이상인 것이 바람직하며, 도시된 실시예에서 각도(α)는 2°이다. 그러나, 각도(α)는 처리 용액이 채널(70)로부터 배출되는 한 소망하는 어떤 각도일 수도 있다.

도시된 실시예에 있어서, 채널(70) 위에 있는 커버(84)의 바닥 표면(80)은 또한 공기가 채널(70)내에 갖히는 것을 방지하도록 각도(θ)로 기울어져 있다.

도시된 특정 실시예에 있어서, 처리부(12)는 한쌍의 노즐(50, 51)을 구비하지만, 본 발명은 어떤 소망하는 수의 노즐을 구비한 다른 상태에 동일하게 적용가능하다. 도 4를 참조하면, 처리부(14)의 단면도를 도시한 것이다. 이것은 처리부(12)와 유사하며, 동일한 참조 부호는 동일한 부품 및 작동을 나타낸다. 그러나, 본 실시예에서 구별되는 유일한 특징은 한쌍의 노즐(50, 51)이 제공되는 대신에 단지 하나의 노즐(50)이 제공된다는 것이다.

도 5를 참조하면, 복수의 균형 채널(70)을 구비한 상측 블록 부재(55)를 도시하고 있다. 도 3의 블록 부재와 도 5의 블록 부재 사이의 기본적 차이는 그것의 크기이다. 이 실시예에 있어서, 처리 채널(46)의 중앙 영역에서 감광 재료(23)를 구동하기 위한 한쌍의 롤러(63)가 더 이상 필요하지 않게 된다. 그러나, 처리 채널(46)은 많은 부분에 있어서 처리부(12)에 대해 상술한 바와 같은 동일한 방법으로 작동한다.

감광 재료(23)가 처리부(12, 14, 16, 18, 20)의 각각의 처리 채널을 통과한 후에, 건조부(22)내로 통과한다. 롤러(82)는 감광 재료(23)가 출구(86)를 통과하여 구동되도록 사용된다. 화살표(88)는 가열된 공기의 유동을 가리키는 바, 이 가열된 공기의 유동은 감광 재료가 처리 장치(10)를 떠날 때 감광 재료가 충분히 건조되도록 감광 재료를 건조시키는 데 사용된다.

도시된 바람직한 실시예에 있어서, 채널(70)이 상측 블록 부재(55)의 상부에 형성되어 있으나, 본 발명은 이것에 제한되지 않는다. 필요시, 채널(70)이 상측 블록 부재(55) 또는 하측 블록 부재(48)내에 형성될 수 있으며, 이러한 경우에, 채널/통로는, 채널의 단부가 처리 장치의 어떤 다른 구성요소에 의해 방해 받지 않아서 감광 재료가 처리되고 있을 경우, 처리 용액의 자유로운 유동이 보유 영역(73, 74) 사이에 발생하도록 위치된다.

따라서 본 발명은 감광 재료를 처리용 좁은 처리 채널을 구비한 부피가 적은 처리 장치를 제공하여, 좁은 처리 채널을 통과하는 처리 재료에 기인한 처리 용액의 잠재적 낭비를 최소화한다.

본 발명의 범위내에서 다양한 다른 변화 및 변형이 가능하며, 본 발명이 다음의 청구범위에 의해 제한되고 있다는 것을 이해할 수 있을 것이다.

본 발명은 좁은 처리 채널을 통과하는 처리 재료로 인하여 처리 용액의 위치 낭비를 최소화하는 감광 재료를 처리하도록 좁은 처리 채널을 구비한 부피가 적은 처리 장치를 제공한다.

Claims (21)

1. 감광 재료 처리용 장치에 있어서,

   감광 재료 처리용 처리 용액을 유지하기 위한 좁은 처리 채널을 포함하며, 상기 처리 채널은 입구 및 출구를 구비하며, 유입 유체 보유 영역이 상기 입구에 인접하게 제공되어 있고, 방출 유체 보유 영역이 상기 출구에 인접하게 제공되어 있으며,

   유체 균형 채널이 상기 유입 유체 보유 영역과 상기 방출 유체 보유 영역 사이에서 연장하도록 제공되는 감광 재료 처리용 장치.
2. 제 1 항에 있어서,

   유체 노즐이 처리 용액을 상기 채널내로 상기 감광 재료에 대해 도입하도록 제공되어 있는 감광 재료 처리용 장치.
3. 제 1 항에 있어서,

   상기 감광 재료는 사진용 페이퍼이며, 상기 처리 채널은 상기 처리 채널을 통과하는 감광 재료 두께의 100배 이하의 두께를 가지는 감광 재료 처리용 장치.
4. 제 1 항에 있어서,

   상기 감광 재료는 사진용 필름이며, 상기 처리 채널은 상기 처리 채널을 통과하는 감광 재료 두께의 50배 이하의 두께를 가지는 감광 재료 처리용 장치.
5. 제 1 항에 있어서,

   상기 사진용 재료는 사진용 페이퍼이며, 상기 처리 채널은 상기 처리 채널을 통과하는 감광 재료 두께의 10배 이하의 두께를 가지는 감광 재료 처리용 장치.
6. 제 1 항에 있어서,

   상기 감광 재료는 사진용 필름이며, 상기 처리 채널은 상기 처리 채널을 통과하는 감광 재료 두께의 20배 이하의 두께를 가지는 감광 재료 처리용 장치.
7. 제 1 항에 있어서,

   상기 균형 채널은 처리 용액이 상기 균형 채널로부터 배출되도록 기울어져 있는 바닥 표면을 구비하는 감광 재료 처리용 장치.
8. 제 1 항에 있어서,

   상기 처리 채널은 상측 블록 부재 및 하측 블록 부재에 의해 형성되고, 상기 균형 채널은 상기 상측 블록 부재의 상부상에 형성되는 감광 재료 처리용 장치.
9. 제 8 항에 있어서,

   커버가 상기 상측 블록 부재의 상부와 결합하도록 제공되며, 상기 채널 영역의 상기 커버는 상기 채널내의 갖힌 공기가 빠져나갈 수 있도록 기울어져 있는 감광 재료 처리용 장치.
10. 제 1 항에 있어서,

    상기 채널이 상기 상측 블록 부재 또는 상기 하측 블록 부재의 내측에 제공되는 감광 재료 처리용 장치.
11. 적어도 하나의 처리부를 구비하는, 감광 재료 처리용 장치에 있어서,

    상기 적어도 하나의 처리부는,

    상측 블록 부재와,

    하측 블록 부재로서, 상기 상측 및 하측 블록 부재가 감광 재료 처리용 처리 용액을 유지하기 위한 좁은 처리 채널을 형성하도록 서로에 대해 형성 및 배치되며, 상기 처리 채널은 입구 및 출구를 구비하고, 유입 유체 보유 영역이 상기 입구에 인접하게 제공되고, 방출 유체 보유 영역이 상기 출구에 인접하게 제공되는, 상기 하측 블록 부재와,

    처리 용액을 상기 좁은 처리 채널내로 도입시키도록 제공되는 노즐과,

    상기 유입 유체 보유 영역과 상기 방출 유체 보유 영역 사이에서 연장하도록 제공되는 유체 균형 채널을 포함하는 감광 재료 처리용 장치.
12. 제 11 항에 있어서,

    상기 처리 채널은 상기 감광 재료가 상기 좁은 처리 채널로 들어가는 제 1 아치부, 상기 제 1 아치부에 인접하는 거의 직선인 직선부 및 상기 감광 재료가 상기 좁은 처리 채널을 떠나는 직선부에 인접하는 제 2 아치부를 구비하며, 상기 노즐은 상기 처리 용액을 상기 직선부내로 도입하도록 배치되는 감광 재료 처리용 장치.
13. 제 11 항에 있어서,

    상기 감광 재료는 사진용 페이퍼이며, 상기 처리 채널은 상기 처리 채널을 통과하는 상기 감광 재료 두께의 100배 이하의 두께를 가지는 감광 재료 처리용 장치.
14. 제 11 항에 있어서,

    상기 감광 재료는 사진용 필름이며, 상기 처리 채널은 상기 처리 채널을 통과하는 상기 감광 재료 두께의 50배 이하의 두께를 가지는 감광 재료 처리용 장치.
15. 제 11 항에 있어서,

    상기 감광 재료는 사진용 페이퍼이며, 상기 처리 채널은 상기 처리 채널을 통과하는 상기 감광 재료 두께의 20배 이하의 두께를 가지는 감광 재료 처리용 장치.
16. 제 11 항에 있어서,

    상기 감광 재료는 사진용 필름이며, 상기 처리 채널은 상기 처리 채널을 통과하는 상기 감광 재료 두께의 20배 이하의 두께를 가지는 감광 재료 처리용 장치.
17. 제 11 항에 있어서,

    상기 균형 채널은 처리 용액이 상기 균형 채널로부터 배출되도록 기울어진 바닥 표면을 구비하는 감광 재료 처리용 장치.
18. 제 11 항에 있어서,

    커버가 상기 상측 블록 부재의 상부와 결합하도록 제공되며, 상기 채널 영역내의 상기 커버는 상기 채널내의 갖힌 공기가 빠져나가도록 기울어져 있는 감광 재료 처리용 장치.
19. 제 11 항에 있어서,

    상기 채널은 상기 상측 블록 부재 또는 상기 하측 블록 부재의 내부에 제공되는 감광 재료 처리용 장치.
20. 제 11 항에 있어서,

    복수의 균형 채널이 제공되는 감광 재료 처리용 장치.
21. 제 20 항에 있어서,

    3개의 균형 채널이 제공되는 감광 재료 처리용 장치.