KR19980023344A - Electrode Formation Method of Flat Panel Display Device - Google Patents
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Abstract
본 발명은 평판표시소자의 전극을 형성하는 개선된 방법을 개시한다.The present invention discloses an improved method of forming an electrode of a flat panel display device.
인쇄방법으로 구성되는 전극은 도전성이 나쁘고 유해물질이 혼입되며 기판형상에 제한받는 문제가 있었다.The electrode constituted by the printing method has a problem in that the conductivity is poor, the harmful substances are mixed, and the shape of the substrate is limited.
본 발명에서는 기판상에 전면적으로 도전층을 도포한 뒤 이를 선별적 식각하여 전극을 형성하도록 하여, 도전성이 우수하며 청정한 전극을 임의 형태의 기판상에 형성할 수 있도록 하였다.In the present invention, the conductive layer is coated on the entire surface of the substrate and then selectively etched to form the electrode, thereby forming an electrode having excellent conductivity and a clean electrode on any type of substrate.
Description
제1도는 평판표시소자의 일예로서 DC형 PDP를 보이는 단면도,1 is a cross-sectional view showing a DC PDP as an example of a flat panel display device;
제2도는 종래의 전극형성방법으로 인쇄방법을 보이는 개략 단면도,2 is a schematic cross-sectional view showing a printing method by a conventional electrode forming method,
제3도는 인쇄방법에 의한 전극형성의 문제점을 보이는 확대단면도,3 is an enlarged cross-sectional view showing a problem of electrode formation by a printing method,
제4도 (a) 내지 (f)는 본 발명에 의한 전극형성방법을 보이는 순차적 단면도들,4 (a) to (f) are sequential cross-sectional views showing an electrode forming method according to the present invention,
제5도 (a), (b)는 각각 본 발명의 도전층의 구성을 보이는 단면도들이다.5 (a) and 5 (b) are cross-sectional views showing the structure of the conductive layer of the present invention, respectively.
*도면의 주요부분에 대한 부호의 설명** Description of symbols for main parts of the drawings *
P;P1,P2: 기판P; P1, P2: substrate
E;E1,E2: 전극E; E1, E2: electrode
1: 도전층(導電層)1: conductive layer
2: 감광층(感光層)2: photosensitive layer
G1: 기능입자G1: functional particles
G2: 소성(燒成)입자G2: calcined particles
본 발명은 평판표시소자의 제조에 관한 것으로, 특히 전극을 형성하는 방법에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to the manufacture of flat panel display devices, and more particularly to a method of forming electrodes.
평판표시소자는 기판상에 기능층을 형성하여 박형(薄形)소자를 구성하는 평판소자의 일종으로 LCD나 PDP등 다양한 구성의 평판표시 소자가 실용화되고 있다.BACKGROUND ART A flat panel display device is a type of flat panel device that forms a thin layer by forming a functional layer on a substrate, and flat panel display devices having various configurations such as LCDs and PDPs have been put into practical use.
제1도에는 그 일례로서 DC형 PDP를 도시하고 있는데 두 기판(P1,P2)에는 서로 대향하는 전극(E1,E2)이 교차하도록 배열되어 격벽(B)으로 구획하고, 격벽(B)사이의 화소에는 형광체(F)가 충전되어 있다.FIG. 1 shows a DC-type PDP as an example. In the two substrates P1 and P2, electrodes E1 and E2 facing each other are arranged so as to cross each other and partition into partitions B and between the partitions B. The phosphor F is filled in the pixel.
이와 같은 평판표시소자에서 전극(E1,E2)등 각 기능층은 제2도에 도시된 바와 같은 인쇄방법으로 형성되는데 이는 기판(P1,P2)상에 스크린(screen;S)을 통해 스퀴이즈(squeeze;S)로 페이스트(paste;T)를 인쇄한 뒤 소성(燒成)하여 기능층을 형성하는 방법이다.In such a flat panel display device, each functional layer such as the electrodes E1 and E2 is formed by a printing method as shown in FIG. 2, which is squeezed through a screen S on the substrates P1 and P2. A method of forming a functional layer by printing a paste (T) with squeeze (S) and then baking it.
이에 따라 기판(P1,P2)상에 인쇄된 페이스트(T)의 상태는 기능층의 기능을 달성하기 위한 기능입자(G1)와 소성시 소결(燒結)되어 기능입자(G1)를 고정시키는 소성입자(G2)가 용제(V;Vehicle)에 분산된 상태가 된다.Accordingly, the state of the paste T printed on the substrates P1 and P2 is the functional particles G1 for achieving the function of the functional layer and the sintered particles during firing to fix the functional particles G1. (G2) is in a state dispersed in a solvent (V; Vehicle).
이러한 인쇄방법은 공정이 비교적 간단하고 패턴(pattern)상태로 성막(成膜)할 수 있어 공수도 절감되는 여러 가지 장점이 있어서 평판표시소자의 제조공정에 널리 사용되고 있으나 특히 전극(E1,E2)의 제조에는 적합하지 못한 여러 가지 문제가 있다.This printing method is widely used in the manufacturing process of flat panel display devices because the printing process is relatively simple and the film formation can be performed in a pattern state and thus the labor is reduced. There are a number of problems that are not appropriate.
즉 전극(E1,E2)의 경우 기능입자(G1)는 도전성의 금속분말이 되는데, 소성입자(G2)의 함량이 높아 충분한 도전성을 발휘할 수 없으며, 기판(P1,P2)이 평면이 아니면 인쇄가 불가능하여 곡면이나 요철을 가지는 기판(P1,P2)이나 기판(P1,P2) 측단에 대한 인쇄등은 불가능한 것이다.That is, in the case of the electrodes E1 and E2, the functional particles G1 become conductive metal powders, and the content of the sintered particles G2 is not high enough to exhibit sufficient conductivity. It is impossible to print on the side surfaces of the substrates P1 and P2 or the substrates P1 and P2 having curved surfaces and irregularities.
뿐만아니라 인쇄를 위해 페이스트(T)에는 다량의 용제(V)가 사용되며, 전극(E1,E2) 형상의 유지를 위해 섬유소등이 사용되는 바, 이들은 모두 전극(E1,E2)의 기능에 유해한 유기성분들을 잔류시키게 된다.In addition, a large amount of solvent (V) is used in the paste (T) for printing, and fiber is used to maintain the shape of the electrodes (E1, E2), all of which are harmful to the function of the electrodes (E1, E2). Organic components remain.
이와 같은 종래의 문제점을 감안하여 본 발명의 목적은 도전성이 높고 기판형상에 제한받지 않으면 유해성분이 잔류하지 않는 전극형성방법을 제공하는 것이다.In view of such a conventional problem, an object of the present invention is to provide an electrode formation method in which no harmful components remain unless the conductivity is high and the substrate shape is not limited.
상술한 목적의 달성을 위해 본 발명에 의한 방법은 기판상에 도전층을 전면형성한 뒤, 이 도전층을 선별적으로 식각(etching)하여 전극을 형성하는 것을 특징으로 한다.In order to achieve the above object, the method according to the present invention is characterized in that after forming the conductive layer on the substrate, the electrode is formed by selectively etching the conductive layer.
이러한 도전층은 금속막이나 금속분말을 소결입자로 고정하는 소성방법으로 형성될 수 있는데, 전자의 방법은 금소의 스퍼터링(sputtering)이나 용사(溶射), 후자의 방법은 분체(粉體) 인쇄나 일반 인쇄방법으로 이루어질 수 있다.The conductive layer may be formed by a sintering method of fixing a metal film or metal powder with sintered particles. The former method is sputtering or thermal spraying of metal, and the latter method is powder printing or It can be made by a general printing method.
이와 같은 본 발명의 구체적 특징과 이점들은 첨부된 도면을 참조한 이하의 바람직한 실시예의 설명으로 더욱 명확해질 것이다.Such specific features and advantages of the present invention will become more apparent from the following description of the preferred embodiments with reference to the accompanying drawings.
제4도 (a)에서 기판(P)상에는 도전층(1)의 소요두께로 전면형성된다. 도전층(1)의 전면형성은 바람직하기로 제5도의 방법으로 형성된다.In FIG. 4A, the entire surface of the conductive layer 1 is formed on the substrate P with the required thickness of the conductive layer 1. The whole surface formation of the conductive layer 1 is preferably formed by the method of FIG.
도전층(1)상에는 제4도 (b)와 같이 감광층(2)이 형성된다. 여기서 도전층(1)에 감광물질을 혼합하여 패터닝(patterning)하는 방법이 더 용이할 것이나, 가능한한 도전층(1)의 도전성능의 유지를 위해 별도의 감광층(2)을 형성하는 것이 바람직하다.On the conductive layer 1, the photosensitive layer 2 is formed like FIG. 4 (b). Here, the method of mixing and patterning the photosensitive material on the conductive layer 1 will be easier, but it is preferable to form a separate photosensitive layer 2 to maintain the conductive performance of the conductive layer 1 as much as possible. Do.
그러면 제4도 (d)와 같이 감광층(2)상에 전극(E) 형태의 마스크(M)를 통해 감광층(2)을 노광하고, 이를 현상하면 제4도 (d)와 같이 도전층(1)상에 노광된 감광층(2)이 잔류하게 된다.Then, the photosensitive layer 2 is exposed on the photosensitive layer 2 through the mask M in the form of an electrode E, as shown in FIG. 4 (d). The photosensitive layer 2 exposed on (1) remains.
이를 산수용액등 식각용액으로 식각하고 나면 감광층(2) 하부의 도전층(1)만이 제4도 (e)와 같이 잔류하고, 감광층(2)을 파이어링(firing)등에 의해 제거하고 나면 제4도 (f)와 같이 기판(P)상에 전극(E)이 형성된다.After etching with an etching solution such as an acid solution, only the conductive layer 1 under the photosensitive layer 2 remains as shown in FIG. 4E, and after removing the photosensitive layer 2 by firing or the like. The electrode E is formed on the board | substrate P like FIG.
한편 도전층(1)을 전면형성하는 방법으로는 먼저 제5도 (a)와 같이 기판(P)상에 금속막을 형성하는 방법이 사용될 수 있다. 금속막은 도전성 금속의 스퍼터링(sputtering)으로 구성될 수 있는데, 이를 위해서는 고진공의 증착실과 고순도의 금속 타겟(target)의 구성이 필요하므로, 바람직하기로 금속막은 용사법에 의해 형성된다.Meanwhile, as a method of forming the entire surface of the conductive layer 1, a method of forming a metal film on the substrate P may be used as shown in FIG. 5A. The metal film may be composed of sputtering of a conductive metal. For this purpose, since a high vacuum deposition chamber and a high purity metal target are required, the metal film is preferably formed by thermal spraying.
용사법은 용융된 금속을 노즐(nozzle)을 통해 분사하면 그 금속방울이 기판(P)의 표면에 충돌하여 냉각됨으로써 기판(P)상에 금속층을 형성하는 구성인 바, 스퍼터링에 비해 상당한 후막(厚膜)이 형성되지만 고진공 분위기의 형성이나 고순도의 타겟이 불필요하므로 평판표시소자의 실용적 제조에 적합하다.The thermal spraying method is a structure in which when a molten metal is sprayed through a nozzle, the metal droplets collide with the surface of the substrate P to be cooled to form a metal layer on the substrate P. Thus, a considerably thicker film is formed than sputtering. ) But is not required to form a high vacuum atmosphere or a high purity target, which is suitable for the practical production of flat panel display devices.
한편 도전층(1)은 제5도 (b)에 도시된 바와 같이 소성방법으로도 형성될 수 있는데 이 방법은 도전성 금속분말등의 기능입자(G1)를 소성입자(G2)와 혼합하여 기판(P)상에 도포한 뒤 소성입자(G2)를 소결하여 기능입자(G1)를 고정시키는 방법이다.On the other hand, the conductive layer 1 may also be formed by a firing method as shown in FIG. 5 (b), in which the functional particles G1 such as conductive metal powder are mixed with the firing particles G2 to form a substrate ( After coating on P), the sintered particles G2 are sintered to fix the functional particles G1.
이때 기능입자(G1)와 소성입자(G2)는 기판(P)에 전면도포되므로 롤 코팅(roll coating)등 용제를 포함하지 않는 분체인쇄방법으로 용이하게 도포될 수 있다. 그러면 기능입자(G1)와 소성입자(G2)는 기판(P)에 대해 반데르발스힘등 분자력에 의해 유지되고, 가열에 의해 소성입자(G2)가 소결되어 도전층(1)을 형성하게 된다.In this case, since the functional particles G1 and the calcined particles G2 are completely coated on the substrate P, the functional particles G1 and the calcined particles G2 may be easily applied by a powder printing method including no solvent such as roll coating. Then, the functional particles G1 and the calcined particles G2 are held by molecular force such as van der Waals forces with respect to the substrate P, and the calcined particles G2 are sintered by heating to form the conductive layer 1. .
한편 도전층(1)의 일반적인 인쇄방법, 즉 기능입자(G1)와 소성입자(G2)를 용제(3도의 V)에 분산시켜 인쇄한 뒤 소성하는 방법으로 형성될 수도 있다.On the other hand, it may be formed by a general printing method of the conductive layer 1, that is, a method of dispersing the functional particles (G1) and the calcined particles (G2) in a solvent (V of 3 degrees) to print and then fire.
특히 인쇄방법을 사용하는 경우, 종래의 인쇄방법과 차이나는 점은 패턴인쇄가 아니라 전면인쇄이므로 용제(V)를 매우 소량 사용해도 될 뿐아니라 형상유지를 위한 섬유소등의 성분이 포함될 필요가 없다는 점이다. 또한 전면인쇄에 따라 소량의 소성입자(G2)로도 기능입자(G1)를 고정시킬수 있어 기능입자(G1)의 함량을 크게 할수 있으며, 이에 따라 도전층(1) 및 이로부터 구성된 전극(E)의 도전특성이 크게 개선될 수 있게 된다.In particular, in the case of using the printing method, the difference from the conventional printing method is not the pattern printing but the front printing, so that a very small amount of the solvent (V) can be used, and it is not necessary to include the components such as fiber for maintaining the shape. to be. In addition, it is possible to fix the functional particles (G1) even with a small amount of calcined particles (G2) according to the front surface printing to increase the content of the functional particles (G1), accordingly the conductive layer (1) and the electrode (E) composed therefrom The conductive properties can be greatly improved.
이와 같은 본 발명 전극(E)의 또다른 장점은 스크린(제2도의 S)을 사용하지 않으므로 기판(P)에 굴곡이 있거나 기판(P)이 곡면이어도 전극(E) 형성이 가능하며, 전극(E)의 접속단을 기판(P) 측단으로 인출하고자 하는 경우 인출전극도 동시에 형성할 수 있는 점이다.Another advantage of the electrode (E) of the present invention is that since the screen (S in FIG. 2) is not used, the electrode (E) can be formed even if the substrate (P) is curved or the substrate (P) is curved. In the case where the connecting end of E) is to be drawn out to the side of the substrate P, the drawing electrode can be formed at the same time.
이상과 같이 본 발명에 의하면 도전특성이 우수하고 유해물질의 혼합이 없는 전극을 기판의 형상에 제한없이 구성할 수 있는 효과가 있다.As described above, according to the present invention, there is an effect that the electrode having excellent conductivity and no mixing of harmful substances can be configured without limitation on the shape of the substrate.
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