KR102671918B1 - Floorings having excellent anti-pollution property - Google Patents
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Abstract
본 발명은 내오염성 및 왁스 친화성이 우수한 바닥재 및 이의 제조방법에 관한 것으로, 상기 바닥재는 표면 처리층에 소량의 실리콘 첨가제를 사용하고, 표면 처리층의 표면에 미세 주름 구조를 높은 빈도로 구현하여 우수한 내오염성과 왁스 친화성을 구현할 수 있는 이점이 있다.The present invention relates to a flooring material with excellent stain resistance and wax affinity and a method of manufacturing the same. The flooring material uses a small amount of silicone additive in the surface treatment layer and creates a fine wrinkle structure at a high frequency on the surface of the surface treatment layer. It has the advantage of realizing excellent stain resistance and wax affinity.
Description
본 발명은 내오염성 및 왁스 친화성이 우수한 바닥재 및 이의 제조방법에 관한 것으로, 상세하게는 바닥재 최상층인 표면 처리층의 조성을 제어하면서, 표면에 미세 주름 구조를 높은 빈도로 구현하여 우수한 내오염성과 왁스 친화성을 동시에 나타내는 바닥재 및 이의 제조방법에 관한 것이다.The present invention relates to a flooring material with excellent stain resistance and wax affinity and a method of manufacturing the same. Specifically, the composition of the surface treatment layer, which is the top layer of the flooring, is controlled and a fine wrinkle structure is implemented at a high frequency on the surface to provide excellent stain resistance and wax affinity. It relates to a flooring material that simultaneously exhibits affinity and a method of manufacturing the same.
일반적으로 바닥재는 시멘트 바닥으로부터 먼지 및 냉기를 차단하여 위생적인 공간을 제공하고, 다양한 색상의 미려한 무늬가 인쇄되어 있어 고객 취향에 따라 실내분위기를 아늑하게 바꿔주는 등 장식효과도 가진다. 이러한 종래의 바닥재는 그 표면이 오염물질로 더럽혀진 경우 사용자가 오염물질의 흔적을 쉽게 지울 수 없기 때문에 오염물질 흔적을 가진 바닥재는 그 기본 기능을 다할 수 없게 되는 문제가 있다.In general, flooring provides a hygienic space by blocking dust and cold air from the cement floor, and is printed with beautiful patterns in various colors, so it also has a decorative effect, such as changing the indoor atmosphere to a cozy atmosphere according to the customer's taste. Such conventional flooring has a problem in that when the surface is contaminated with contaminants, the user cannot easily erase traces of contaminants, so flooring with traces of contaminants cannot perform its basic function.
이에 따라 표면의 내오염성을 향상시키기 위하여 내오염성 첨가제를 사용한 표면 처리제가 개발된 바 있다. 그러나, 종래 일반적으로 사용되는 내오염성 첨가제는 표면 처리제의 표면 장력을 제어하여 이를 통해 형성되는 표면 처리층의 내오염성을 조절하는 원리를 갖는데, 이 경우 왁스에 대한 친화성이 현저히 저하되어 왁스 코팅이 어려운 한계가 있다.Accordingly, surface treatment agents using anti-fouling additives have been developed to improve the fouling resistance of the surface. However, conventionally commonly used anti-fouling additives have the principle of controlling the fouling resistance of the surface treatment layer formed by controlling the surface tension of the surface treatment agent. In this case, the affinity for wax is significantly reduced, resulting in wax coating. There are difficult limits.
따라서, 트레이드-오프(trade-off) 관계인 바닥재의 내오염성과 왁스 친화성이 우수한 바닥재의 개발이 절실히 요구되고 있다.Therefore, there is an urgent need for the development of flooring materials with excellent stain resistance and wax affinity, which are trade-offs.
본 발명의 목적은 내오염성과 왁스 친화성이 모두 우수한 바닥재를 제공하는데 있다.The purpose of the present invention is to provide a flooring material that is excellent in both stain resistance and wax affinity.
이에, 본 발명은 하나의 실시예에서,Accordingly, the present invention in one embodiment,
기재층 및 아크릴 수지 조성물의 표면 처리층을 포함하고;It includes a base layer and a surface treatment layer of an acrylic resin composition;
상기 표면 처리층은,The surface treatment layer is,
단위 면적 당(0.1 mm X 0.1 mm) 5 내지 20개의 주름을 포함하는 표면 구조를 가지며,It has a surface structure containing 5 to 20 wrinkles per unit area (0.1 mm
단위 면적(200 mm X 200 mm)에 3g의 왁스를 도포하는 경우, 1분 경과 후 도포된 왁스의 면적은 최초 도포 면적의 90% 이상인 바닥재를 제공한다.When 3g of wax is applied to a unit area (200 mm
또한, 본 발명은 하나의 실시예에서,In addition, the present invention in one embodiment,
기재층 상에 도포된 아크릴 수지 조성물에, 공기 중에서 200㎚ 내지 400㎚ 파장의 광을 조사하여 조성물을 일부 경화시키는 제1 광 조사 단계,A first light irradiation step of partially curing the composition by irradiating light with a wavelength of 200 nm to 400 nm in the air to the acrylic resin composition applied on the base layer,
300㎚ 미만 파장의 광을 조사하여 일부 경화된 조성물 표면에 주름을 유도하는 제2 광 조사 단계, 및A second light irradiation step of inducing wrinkles on the surface of the partially cured composition by irradiating light with a wavelength of less than 300 nm, and
질소 가스 (N2) 조건 하에서, 표면에 주름이 유도된 조성물에 200㎚ 내지 400㎚ 파장의 광을 조사하여 표면 처리층을 형성하는 제3 광 조사 단계를 포함하는 상기 바닥재의 제조방법을 제공한다.Provided is a method for producing the flooring, comprising a third light irradiation step of forming a surface treatment layer by irradiating light with a wavelength of 200 nm to 400 nm to the composition on which wrinkles are induced on the surface under nitrogen gas (N 2 ) conditions. .
본 발명에 따른 바닥재는 표면 처리층에 소량의 실리콘 첨가제를 사용하고, 표면 처리층의 표면에 미세 주름 구조를 높은 빈도로 구현하여 우수한 내오염성과 왁스 친화성을 구현할 수 있는 이점이 있다.The flooring material according to the present invention has the advantage of realizing excellent stain resistance and wax affinity by using a small amount of silicone additive in the surface treatment layer and realizing a high frequency of fine wrinkle structures on the surface of the surface treatment layer.
도 1은 본 발명에 따른 실시예 1의 바닥재 시편에 대한 주사 전자현미경 (SEM) 분석 결과를 도시한 이미지이다.
도 2는 본 발명에 따른 비교예 5의 바닥재 시편에 대한 주사 전자현미경 (SEM) 분석 결과를 도시한 이미지이다.
도 3은 제1 광 조사 단계 전·후, 아크릴 수지 조성물의 퓨리에 변환-적외선 분광을 분석한 결과를 도시한 그래프이다.Figure 1 is an image showing the results of scanning electron microscopy (SEM) analysis of the flooring specimen of Example 1 according to the present invention.
Figure 2 is an image showing the results of scanning electron microscopy (SEM) analysis of the flooring specimen of Comparative Example 5 according to the present invention.
Figure 3 is a graph showing the results of analyzing Fourier transform-infrared spectroscopy of an acrylic resin composition before and after the first light irradiation step.
본 발명은 다양한 변경을 가할 수 있고 여러 가지 실시예를 가질 수 있는 바, 특정 실시예들을 도면에 예시하고 상세한 설명에 상세하게 설명하고자 한다.Since the present invention can make various changes and have various embodiments, specific embodiments will be illustrated in the drawings and described in detail in the detailed description.
그러나, 이는 본 발명을 특정한 실시 형태에 대해 한정하려는 것이 아니며, 본 발명의 사상 및 기술 범위에 포함되는 모든 변경, 균등물 내지 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다.However, this is not intended to limit the present invention to specific embodiments, and should be understood to include all changes, equivalents, and substitutes included in the spirit and technical scope of the present invention.
본 발명에서, "포함한다" 또는 "가지다" 등의 용어는 명세서상에 기재된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다.In the present invention, terms such as "comprise" or "have" are intended to designate the presence of features, numbers, steps, operations, components, parts, or combinations thereof described in the specification, but are not intended to indicate the presence of one or more other features. It should be understood that this does not exclude in advance the possibility of the existence or addition of elements, numbers, steps, operations, components, parts, or combinations thereof.
또한, 본 발명에서 첨부된 도면은 설명의 편의를 위하여 확대 또는 축소하여 도시된 것으로 이해되어야 한다.In addition, the drawings attached to the present invention should be understood as being enlarged or reduced for convenience of explanation.
이하, 본 발명에 대하여 도면을 참고하여 상세하게 설명하고, 도면 부호에 관계없이 동일하거나 대응하는 구성 요소는 동일한 참조 번호를 부여하고 이에 대한 중복되는 설명은 생략하기로 한다.Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to the drawings. Identical or corresponding components will be assigned the same reference numerals regardless of reference numerals, and duplicate descriptions thereof will be omitted.
본 발명에서, "분자량"이란 해당 중합체의 "중량 평균 분자량"으로서, 상기 중량 평균 분자량은 겔 침투 크로마토그래피 (GPC) 측정을 통해 측정된 값일 수 있다.In the present invention, “molecular weight” refers to the “weight average molecular weight” of the polymer, and the weight average molecular weight may be a value measured through gel permeation chromatography (GPC) measurement.
또한, 본 발명에서, "표면 조도"란 기재층 상에 형성된 표면 처리층의 "표면 거칠기" 혹은 표면 처리층 표면에 형성된 "주름의 높이"와 동일시 될 수 있다. 또한, 상기 표면 조도는 표면을 주사 전자 현미경(SEM) 촬영하여 분석된 값일 수 있으며, 경우에 따라서는 KS B 0161에 따른 중심선 평균 거칠기(Ra)에 따라 측정된 값일 수 있다.Additionally, in the present invention, “surface roughness” may be equated with “surface roughness” of the surface treatment layer formed on the base layer or “height of wrinkles” formed on the surface of the surface treatment layer. In addition, the surface roughness may be a value analyzed by photographing the surface with a scanning electron microscope (SEM), and in some cases, it may be a value measured according to the center line average roughness (Ra) according to KS B 0161.
본 발명은 내오염성과 왁스 친화성이 우수한 바닥재 및 이의 제조방법에 관한 것이다.The present invention relates to a flooring material with excellent stain resistance and wax affinity and a method of manufacturing the same.
일반적으로 바닥재는 시멘트 바닥으로부터 먼지 및 냉기를 차단하여 위생적인 공간을 제공하고, 다양한 색상의 미려한 무늬가 인쇄되어 있어 고객 취향에 따라 실내분위기를 아늑하게 바꿔주는 등 장식효과도 가진다. 이러한 종래의 바닥재는 그 표면이 오염물질로 더럽혀진 경우 사용자가 오염물질의 흔적을 쉽게 지울 수 없기 때문에 오염물질 흔적을 가진 바닥재는 그 기본 기능을 다할 수 없게 되는 문제가 있다.In general, flooring provides a hygienic space by blocking dust and cold air from the cement floor, and is printed with beautiful patterns in various colors, so it also has a decorative effect, such as changing the indoor atmosphere to a cozy atmosphere according to the customer's taste. Such conventional flooring has a problem in that when the surface is contaminated with contaminants, the user cannot easily erase traces of contaminants, so flooring with traces of contaminants cannot perform its basic function.
이에 따라 표면의 내오염성을 향상시키기 위하여 내오염성 첨가제를 사용한 표면 처리제가 개발된 바 있다. 그러나, 종래 일반적으로 사용되는 내오염성 첨가제는 표면 처리제의 표면 장력을 제어하여 이를 통해 형성되는 표면 처리층의 내오염성을 조절하는 원리를 갖는데, 이 경우 왁스에 대한 친화성이 현저히 저하되어 왁스 코팅이 어려운 한계가 있다.Accordingly, surface treatment agents using anti-fouling additives have been developed to improve the fouling resistance of the surface. However, conventionally commonly used anti-fouling additives have the principle of controlling the fouling resistance of the surface treatment layer formed by controlling the surface tension of the surface treatment agent. In this case, the affinity for wax is significantly reduced, resulting in wax coating. There are difficult limits.
이에, 본 발명은 내오염성과 왁스 친화성이 우수한 바닥재 및 이의 제조방법을 제공한다.Accordingly, the present invention provides a flooring material with excellent stain resistance and wax affinity and a method for manufacturing the same.
상기 바닥재는 표면 처리층에 소량의 실리콘 첨가제를 사용하면서 표면 처리층의 표면에 미세 주름 구조를 높은 빈도로 구현하여 우수한 내오염성과 왁스 친화성을 구현할 수 있는 이점이 있다.The flooring material has the advantage of realizing excellent stain resistance and wax affinity by implementing a fine wrinkle structure on the surface of the surface treatment layer at a high frequency while using a small amount of silicone additive in the surface treatment layer.
이하, 본 발명을 보다 상세히 설명한다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail.
바닥재flooring
본 발명은 일실시예에서,In one embodiment, the present invention
기재층 상에 아크릴 수지 조성물로부터 형성된 표면 처리층을 구비하는 바닥재를 제공한다.A flooring material including a surface treatment layer formed from an acrylic resin composition on a base material layer is provided.
본 발명에 따른 바닥재는 가정이나 사무실 등에서 사용되는 실내용 바닥재로서, 표면 처리층은 아크릴 수지 조성물의 경화층으로서 바닥재의 최상층에 위치한다. 여기서, 상기 아크릴 수지 조성물은 아크릴레이트계 올리고머와 모노머를 포함하며, 상기 성분과 함께 소량의 실리콘 첨가제를 함유하여 표면의 내오염성이 우수한 특징을 나타낼 수 있다.The flooring according to the present invention is an indoor flooring used in homes, offices, etc., and the surface treatment layer is a cured layer of an acrylic resin composition and is located on the top layer of the flooring. Here, the acrylic resin composition includes acrylate-based oligomers and monomers, and contains a small amount of silicone additives along with the above components, so that it can exhibit excellent surface contamination resistance.
하나의 예로서, 상기 바닥재는 내오염성이 향상되어 하기 조건 1 및 2 중 어느 하나 이상을 만족할 수 있다:As an example, the flooring material has improved stain resistance and can satisfy one or more of the following conditions 1 and 2:
[조건 1] 요오드 오염 20분 경과 후 세척된 바닥재을 육안으로 관찰하는 경우, 표면의 색상 차이가 없으며; 및[Condition 1] When observing the washed flooring with the naked eye after 20 minutes of iodine contamination, there is no difference in surface color; and
[조건 2] 유성 매직 오염 30초 경과 후 세척된 바닥재의 잔류 오염면적이 최초 오염면적 기준 5% 미만이다.[Condition 2] After 30 seconds of oil-based magic contamination, the residual contaminated area of the cleaned flooring is less than 5% of the initial contaminated area.
구체적으로, 상기 바닥재는 요오드에 대한 내오염성이 향상되어 표면에 요오드를 묻혀 오염시키고 20분이 경과한 후 세척하는 경우, 표면에 요오드 오염으로 인한 자국이 육안으로 관찰되지 않을 수 있다.Specifically, the flooring material has improved resistance to iodine contamination, so when the surface is contaminated with iodine and washed after 20 minutes, marks due to iodine contamination may not be observed with the naked eye on the surface.
또한, 상기 바닥재는 유성 매직과 같은 유기 물질에 대한 내오염성이 향상되어 표면에 유성 매직을 칠하고 30초가 경과한 후 세척하는 경우, 세척된 바닥재 표면의 잔류 오염면적이 최초 오염면적 기준 5% 미만일 수 있고, 보다 구체적으로는 4% 미만, 3% 미만 또는 2% 미만일 수 있다.In addition, the flooring has improved resistance to contamination by organic substances such as oil-based markers, so when oil-based markers are applied to the surface and washed after 30 seconds, the residual contaminated area of the cleaned flooring surface will be less than 5% of the initial contaminated area. It may be, and more specifically, it may be less than 4%, less than 3%, or less than 2%.
일반적으로 실리콘 첨가제는 표면장력이 낮아 표면 처리층에 일정량으로 사용하는 경우 표면에 오염물이 묻어 오염되는 것을 개선할 수 있다. 그러나, 이 경우 왁스에 대한 친화성이 낮아져 왁스 젖음성이나 코팅성이 저하되는 문제가 있다. 다시 말해, 표면 처리층에 실리콘 첨가제를 사용하는 경우 왁스가 잘 발리지 않거나 도포된 왁스가 건조 후 박리되는 문제가 있다.In general, silicone additives have a low surface tension, so when used in a certain amount in the surface treatment layer, they can improve contamination by contaminants on the surface. However, in this case, there is a problem that the affinity for wax is lowered and wax wettability and coating properties are reduced. In other words, when a silicone additive is used in the surface treatment layer, there is a problem that the wax does not spread well or the applied wax peels off after drying.
그러나, 본 발명의 바닥재는 표면 처리층의 표면 구조에 미세한 주름 구조를 도입함으로써 표면의 내오염성과 함께 왁스 친화성, 구체적으로는 왁스 젖음성, 코팅성, 접착성 등을 향상시킬 수 있다.However, the flooring material of the present invention can improve wax affinity, specifically wax wettability, coating properties, and adhesiveness, as well as surface stain resistance by introducing a fine wrinkle structure into the surface structure of the surface treatment layer.
여기서, 「주름이 형성된 표면」이란 상기 수지층이 적어도 그 일면에 주름을 포함하고, 상기 주름에 의해 수지층이 3 차원의 표면 요철을 갖는 것을 의미한다. 예를 들어, 상기 표면은, 크고 작은 릿지(ridge), 밸리(valley), 및 이들로부터 형성되어 소정 형상으로 시인될 수 있는 주름(wrinkle)을 포함하는 요철을 갖는다. 상기 릿지, 밸리, 및 주름 각각은 규칙 또는 불규칙한 형상을 가질 수 있다. 이러한, 주름이 형성된 표면은 미세 폴딩 구조를 갖는 표면으로도 호칭될 수 있다.Here, “surface with wrinkles” means that the resin layer includes wrinkles on at least one surface, and that the resin layer has three-dimensional surface irregularities due to the wrinkles. For example, the surface has irregularities including large and small ridges, valleys, and wrinkles formed therefrom that can be recognized as a predetermined shape. Each of the ridges, valleys, and wrinkles may have a regular or irregular shape. This wrinkled surface may also be referred to as a surface having a fine folding structure.
수지층의 법선 방향에서 주름이 형성된 수지층 표면을 관찰하였을 때, 릿지, 밸리, 주름, 및 이들로부터 형성된 요철은 예를 들어, 하기 설명되는 경화 과정을 거치면서 상기 표면의 전 영역에 걸쳐 관찰된다.When observing the surface of a resin layer with wrinkles formed in the normal direction of the resin layer, ridges, valleys, wrinkles, and irregularities formed therefrom are observed, for example, over the entire area of the surface while going through the curing process described below. .
상기 주름은 방향성을 갖는 라인 형상(line shape)(예: 직선, 곡선)을 포함하는 형태로 관찰될 수 있다. 하나의 예로서, 상기 주름은 직선 및 곡선 형상이 반복되면서 형성된 표면의 주름은 산맥 형상과 같은 굴곡을 수지층 표면에 부여할 수 있다. 상기와 같이 라인 형상을 갖는 주름에 의해 형성된 표면 요철 구조는, 수지층 형성을 위한 조성물 내에 입자를 사용하는 방식이나 에멀전 분산을 이용하는 방식에 따라 형성된 소위 포인트-와이즈(point-wise) 요철 형상과는 분명히 구별된다.The wrinkles may be observed in a form including a directional line shape (eg, a straight line, a curved line). As one example, the surface wrinkles formed by repeating straight and curved shapes may give a curved shape, such as a mountain range, to the surface of the resin layer. The surface uneven structure formed by line-shaped wrinkles as described above is different from the so-called point-wise uneven shape formed by using particles in a composition for forming a resin layer or using emulsion dispersion. clearly distinguished.
또한, 상기 표면 처리층은 소정 크기 및 형상으로 시인될 수 있는 주름을 포함할 수 있다. 예를 들어, 상기 주름은, nm 수준(약 1 ㎛ 미만)의 폭을 가지며, 수 마이크로미터(㎛) 이상 연장하는 선(직선 또는 곡선) 형상을 가질 수 있다. 상기 주름의 폭 및/또는 높이와 주름이 연장하는 길이는 첨부된 도면에서와 같이 주름이 형성된 표면을 촬영한 이미지(예: SEM)로부터 확인할 수 있다. 아울러, 연장 방향에서의 길이는 폭보다 클 수 있다. 구체적으로, 직선 또는 곡선 형태로 연장한 주름의 말단은 높이가 점점 낮아지는 경사를 이루며 수지층에 혼입될 수 있다. 경우에 따라서, 상기 크기 및 형상을 갖는 어느 한 주름의 말단은 다른 주름의 시작점이나 다른 주름과의 연결부가 될 수 있다. 또한, 상기 주름의 연장 방향에 대한 수직 방향에서 주름 부근의 단면 곡선을 관찰할 경우, 주름의 폭은 주름의 높이를 형성하는 지점 또는 부분(예: 릿지)을 기점으로 양 방향으로 높이가 점점 낮아지는 경사를 이루며 수지층에 혼입될 수 있다. 한편, 릿지와 그에 인접하는 밸리가 주름 또는 그 일부를 형성하는 경우, 밸리를 포함하여 시인되는 형상의 영역은 주름의 폭으로 볼 수 있다.Additionally, the surface treatment layer may include wrinkles that can be visually recognized as having a predetermined size and shape. For example, the wrinkles may have a width of nm (less than about 1 μm) and have a line (straight or curved) shape extending several micrometers (μm) or more. The width and/or height of the wrinkle and the length the wrinkle extends can be confirmed from an image (eg, SEM) taken of the surface on which the wrinkle is formed, as shown in the attached drawing. Additionally, the length in the extension direction may be greater than the width. Specifically, the ends of the wrinkles extending in a straight or curved form form a slope that gradually decreases in height and may be incorporated into the resin layer. In some cases, the end of one wrinkle having the above size and shape may be the starting point of another wrinkle or a connection point with another wrinkle. In addition, when observing the cross-sectional curve near the wrinkle in the direction perpendicular to the direction of extension of the wrinkle, the width of the wrinkle gradually decreases in height in both directions starting from the point or part (e.g., ridge) that forms the height of the wrinkle. The ground forms a slope and can be mixed into the resin layer. On the other hand, when a ridge and an adjacent valley form a wrinkle or a part thereof, the visible area of the shape including the valley can be viewed as the width of the wrinkle.
하나의 예로서, 상기 주름이 갖는 폭은 900 nm 이하일 수 있다. 구체적으로, 상기 주름이 갖는 폭은 800 nm 이하, 700 nm 이하, 600 nm 이하, 500 nm 이하, 400 nm 이하, 또는 300 nm 이하의 상한을 가질 수 있고, 150 nm 이상, 200 nm 이상, 250 nm 이상 또는 300 nm 이상의 하한을 가질 수 있다. 상기 범위를 만족하는 경우, 주름에 의해 형성된 표면이 내오염성과 왁스 친화성이 향상되고 무광 특성을 나타내는데 유리할 수 있다.As an example, the width of the wrinkles may be 900 nm or less. Specifically, the width of the wrinkles may have an upper limit of 800 nm or less, 700 nm or less, 600 nm or less, 500 nm or less, 400 nm or less, or 300 nm or less, and may have an upper limit of 150 nm or less, 200 nm or more, and 250 nm or less. It may have a lower limit of 300 nm or more. When the above range is satisfied, it may be advantageous for the surface formed by wrinkles to have improved stain resistance and wax affinity and to exhibit matte characteristics.
또한, 상기 주름이 연장하는 길이는 상한이 200 ㎛ 이하, 100 ㎛ 이하 또는 50 ㎛ 이하일 수 있고, 하한이 5 ㎛ 이상, 10 ㎛ 이상, 20 ㎛ 이상, 30 ㎛ 이상, 40 ㎛ 이상, 50 ㎛ 이상, 60 ㎛ 이상, 70 ㎛ 이상, 80 ㎛ 이상 또는 90 ㎛ 이상일 수 있다. 상기 범위를 만족하는 경우, 주름에 의해 형성된 표면이 내오염성과 왁스 친화성이 향상되고 무광 특성을 나타내는데 유리할 수 있다.In addition, the length to which the wrinkles extend may have an upper limit of 200 ㎛ or less, 100 ㎛ or less, or 50 ㎛ or less, and a lower limit of 5 ㎛ or more, 10 ㎛ or more, 20 ㎛ or more, 30 ㎛ or more, 40 ㎛ or more, and 50 ㎛ or more. , it may be 60 ㎛ or more, 70 ㎛ or more, 80 ㎛ or more, or 90 ㎛ or more. When the above range is satisfied, it may be advantageous for the surface formed by wrinkles to have improved stain resistance and wax affinity and to exhibit matte characteristics.
상기 주름은 연장하는 길이의 대부분에서 소정의 높이를 가질 수 있다. 예를 들어, 상기 주름은 2 ㎛ 이하, 1.5 ㎛ 이하, 1.0 ㎛ 이하 또는 0.1 내지 0.9 ㎛의 높이를 가질 수 있으며, 이는 표면 처리층의 "표면 조도"와 동일시 될 수 있다. 구체적으로, 주름의 연장 방향에 대한 수직 방향에서 주름의 단면 곡선을 관찰할 경우, 주름의 높이를 형성하는 지점 또는 부분(예: 릿지)과 상기 주름의 폭이 혼입하는 수지층의 지점이나 부분(예: 밸리)은 2 ㎛ 이하의 "높이 차이" 또는 "표면 조도"를 가질 수 있다. 본 발명은 주름의 높이 내지 표면 조도를 상기 범위로 제어함으로써 굵은 주름으로 인해 오염물이 주름 사이에 잔류하여 내오염성이 저하되는 것을 방지할 수 있다.The wrinkles may have a predetermined height over most of their extending length. For example, the wrinkles may have a height of 2 μm or less, 1.5 μm or less, 1.0 μm or less, or 0.1 to 0.9 μm, which can be equated to the “surface roughness” of the surface treatment layer. Specifically, when observing the cross-sectional curve of a wrinkle in a direction perpendicular to the direction of extension of the wrinkle, a point or part forming the height of the wrinkle (e.g., a ridge) and a point or part of the resin layer where the width of the wrinkle mix ( e.g. valleys) may have a “height difference” or “surface roughness” of less than 2 μm. The present invention controls the height and surface roughness of wrinkles within the above range to prevent contaminants remaining between wrinkles due to thick wrinkles, thereby reducing contamination resistance.
한편, 상기 "높이가 관찰되는 길이의 대부분"이란, 주름이 그 형상을 따라 연속적으로 연장하는 길이의 70 % 이상, 75 % 이상, 80 % 이상, 85 % 이상 또는 90 % 이상 또는 95 % 이상인 길이를 의미한다. 주름의 연장 방향에서 높이차가 점차 줄어들어, 상기 높이가 현저히 낮아지는 경우에는 주름의 말단이 수지층에 혼입되는 형상이 관찰될 수 있고, 또는 크기나 형상이 상기 주름과 상이한 다른 주름과의 접점이 시작되는 형상이 관찰될 수도 있다. 후자의 경우, 보다 복잡한 주름 구조가 표면의 요철을 형성할 수 있다.Meanwhile, the above-mentioned “most of the length at which the height is observed” refers to a length that is more than 70%, more than 75%, more than 80%, more than 85%, or more than 90%, or more than 95% of the length over which the wrinkle extends continuously along its shape. means. The height difference gradually decreases in the direction in which the wrinkle extends, and when the height is significantly lowered, the end of the wrinkle may be observed to be incorporated into the resin layer, or the point of contact with another wrinkle that is different in size or shape from the wrinkle may begin. The shape may be observed. In the latter case, a more complex wrinkle structure can form surface irregularities.
상기 주름은 상기 표면의 전 영역에 걸쳐 관찰되고, 규칙 또는 불규칙한 분포를 보이면서 표면 주름 또는 요철을 형성할 수 있다. 예를 들어, 상기 표면에서 상기 주름은 하나의 특정할 수 있는 점으로부터 복수의 주름이 서로 다른 방향으로 분지되는 형상을 가지면서 표면 요철을 형성할 수 있다. 구체적으로, 상기 표면에서 상기 주름은 「Y」 또는 「〈」 와 유사한 형상을 가질 수 있다. 이때, 「Y」 또는 「〈」 와 유사한 형상의 주름은 치밀하게 배치되어 표면 요철을 형성할 수 있다.The wrinkles are observed over the entire surface and may form surface wrinkles or irregularities with regular or irregular distribution. For example, the wrinkles on the surface may have a shape in which a plurality of wrinkles branch out in different directions from one specific point, forming surface irregularities. Specifically, the wrinkles on the surface may have a shape similar to “Y” or “〈”. At this time, wrinkles similar in shape to “Y” or “〈” may be densely arranged to form surface irregularities.
본 발명은 상술된 형상 및/또는 크기를 갖는 주름을 표면 처리층에 형성함으로써 보다 미세한 주름의 빈도를 높일 수 있으며, 이를 통해 표면 처리층에 소광제를 사용하지 않거나 소량의 소광제를 사용하여도 광택도를 낮출 수 있고, 주름 사이에 오염물이 잔류하여 표면이 오염되는 것을 방지할 수 있으며, 표면의 왁스 친화성을 향상시킬 수 있다.The present invention can increase the frequency of finer wrinkles by forming wrinkles having the above-described shape and/or size in the surface treatment layer, and through this, even without using a matting agent or using a small amount of matting agent in the surface treatment layer. It can lower the gloss, prevent the surface from being contaminated by contaminants remaining between wrinkles, and improve the wax affinity of the surface.
하나의 예로서, 상기 바닥재는 표면 처리층 표면의 단위 면적(0.1㎜ X 0.1㎜)당 5 내지 20개의 주름을 포함 (1㎜ X 1㎜ 당 500 내지 2,000개와 동일)할 수 있다. 구체적으로, 상기 바닥재의 표면 처리층 표면에는 단위 면적(0.1㎜ X 0.1㎜)당 5 내지 18개, 5 내지 15개, 5 내지 12개, 5 내지 10개, 5 내지 8개, 7 내지 20개, 10 내지 20개, 12 내지 20개, 15 내지 20개, 18 내지 20개, 8 내지 18개, 10 내지 15개, 12 내지 18개, 또는 8 내지 14개의 주름이 존재할 수 있다.As one example, the flooring material may include 5 to 20 wrinkles per unit area (0.1 mm x 0.1 mm) of the surface of the surface treatment layer (equivalent to 500 to 2,000 wrinkles per 1 mm Specifically, on the surface of the surface treatment layer of the flooring, there are 5 to 18, 5 to 15, 5 to 12, 5 to 10, 5 to 8, and 7 to 20 per unit area (0.1 mm x 0.1 mm). , 10 to 20, 12 to 20, 15 to 20, 18 to 20, 8 to 18, 10 to 15, 12 to 18, or 8 to 14 wrinkles may be present.
다른 하나의 예로서, 상기 바닥재는 왁스 친화성이 우수하여 3g의 왁스 (예컨대, 아크릴계 왁스 등)를 단위 면적(200 mm X 200 mm)에 도포하는 경우 1분 경과 후 도포된 왁스의 면적이 최초 도포 면적의 90% 이상을 차지할 수 있으며, 구체적으로는 93% 이상, 95% 이상, 97% 이상, 또는 98% 이상일 수 있다. 경우에 따라서는 왁스를 도포하고 1분 경과 후 도포된 왁스의 면적은 최초 도포 면적과 동일하게 100% 유지할 수 있다.As another example, the flooring material has excellent wax affinity, so when 3g of wax (e.g., acrylic wax, etc.) is applied to a unit area (200 mm It may occupy 90% or more of the application area, specifically 93% or more, 95% or more, 97% or more, or 98% or more. In some cases, 1 minute after applying the wax, the area of the applied wax can be maintained 100% the same as the initial application area.
또 다른 하나의 예로서, 상기 바닥재는 7.5±2.5㎛ 두께로 왁스를 도포하고 24분 경과 후 ASTM D3359에 따른 크로스-컷 시험 수행 시 건조된 왁스의 전체 면적 중 박리 면적은 5% 이하일 수 있으며, 구체적으로는 상기 박리 면적은 전체 면적 대비 4.5% 이하, 4.0% 이하, 3.5% 이하, 3.0% 이하, 2.0% 이하, 0.1 내지 5%, 0.1 내지 4.5%, 0.1 내지 4.0%, 0.1 내지 3.5%, 0.1 내지 3.0%, 0.5 내지 4.0%, 0.5 내지 3.0%, 0.5 내지 2.0%, 1.0 내지 2.0%, 1.0 내지 3.0%, 1.0 내지 4.0%, 2.0 내지 4.0%, 또는 0.1 내지 2%일 수 있다. 경우에 따라서, 건조된 왁스의 박리가 전혀 발생되지 않아 손상된 면적이 0.1% 이하로 0%에 가까울 수 있다.As another example, when wax is applied to the flooring material with a thickness of 7.5 ± 2.5 μm and a cross-cut test according to ASTM D3359 is performed 24 minutes later, the peeling area of the total area of the dried wax may be 5% or less, Specifically, the peeling area is 4.5% or less, 4.0% or less, 3.5% or less, 3.0% or less, 2.0% or less, 0.1 to 5%, 0.1 to 4.5%, 0.1 to 4.0%, 0.1 to 3.5%, compared to the total area. It may be 0.1 to 3.0%, 0.5 to 4.0%, 0.5 to 3.0%, 0.5 to 2.0%, 1.0 to 2.0%, 1.0 to 3.0%, 1.0 to 4.0%, 2.0 to 4.0%, or 0.1 to 2%. In some cases, no peeling of the dried wax occurs at all, so the damaged area may be less than 0.1% or close to 0%.
나아가, 상기 바닥재는 표면 처리층 표면에 형성된 주름 구조를 통해 표면에 입사되는 광의 산란을 유도함으로써 표면 처리층에 소광제를 사용하지 않거나 10 중량% 미만의 소량의 소광제를 사용하여도 현저히 낮은 광택을 구현할 수 있다.Furthermore, the flooring induces the scattering of light incident on the surface through the wrinkle structure formed on the surface of the surface treatment layer, resulting in a significantly low gloss even when no matting agent is used in the surface treatment layer or a small amount of less than 10% by weight of matting agent is used. can be implemented.
하나의 예로서, 상기 바닥재는 광택 측정기(Gloss Meter)를 이용한 60° 광택도(글로스 60 ° 조건) 를 측정 시 표면 광택도가 3 미만일 수 있고, 보다 구체적으로, 상한이 2.8 이하, 2.5 이하, 2.2 이하, 2.0 이하, 1.8 이하, 1.5 이하, 1.2 이하, 또는 1.0 이하이고, 하한이 0.1 이상, 0.5 이상, 또는 1 이상일 수 있다. 예를 들어, 상기 바닥재의 평균 표면 광택도는 0.1 내지 2.8, 0.1 내지 2.5, 0.2 내지 2.2, 0.2 내지 2.0, 0.5 내지 1.8, 0.2 내지 1.5, 0.2 내지 1.7, 0.5 내지 1.5, 0.8 내지 1.6, 0.9 내지 1.5, 0.1 내지 1.4, 또는 1.1 내지 1.5일 수 있다.As an example, the flooring material may have a surface gloss of less than 3 when measuring 60° gloss (gloss 60° conditions) using a gloss meter, and more specifically, the upper limit is 2.8 or less, 2.5 or less, It may be 2.2 or less, 2.0 or less, 1.8 or less, 1.5 or less, 1.2 or less, or 1.0 or less, and the lower limit may be 0.1 or more, 0.5 or more, or 1 or more. For example, the average surface gloss of the flooring is 0.1 to 2.8, 0.1 to 2.5, 0.2 to 2.2, 0.2 to 2.0, 0.5 to 1.8, 0.2 to 1.5, 0.2 to 1.7, 0.5 to 1.5, 0.8 to 1.6, 0.9 to 0.9. It may be 1.5, 0.1 to 1.4, or 1.1 to 1.5.
이러한 상기 표면 처리층은 내구성에 영향을 미치지 않는 적절한 범위의 평균 두께를 가질 수 있다. 예를 들어, 상기 표면 처리층은 외부 자극에 찢어지거나 손실되지 않도록 10㎛ 내지 30㎛의 평균 두께를 가질 수 있고, 보다 구체적으로는 10㎛ 내지 25㎛, 10㎛ 내지 20㎛, 10㎛ 내지 15㎛, 15㎛ 내지 30㎛, 20㎛ 내지 30㎛, 15㎛ 내지 25㎛, 18㎛ 내지 25㎛, 22㎛ 내지 28㎛, 11㎛ 내지 20㎛ 또는 12㎛ 내지 18㎛일 수 있다.The surface treatment layer may have an average thickness within an appropriate range that does not affect durability. For example, the surface treatment layer may have an average thickness of 10 ㎛ to 30 ㎛, more specifically 10 ㎛ to 25 ㎛, 10 ㎛ to 20 ㎛, 10 ㎛ to 15 ㎛ to prevent tearing or loss due to external stimuli. It may be ㎛, 15㎛ to 30㎛, 20㎛ to 30㎛, 15㎛ to 25㎛, 18㎛ to 25㎛, 22㎛ to 28㎛, 11㎛ to 20㎛ or 12㎛ to 18㎛.
한편, 본 발명에 따른 바닥재는 기재층 및 표면 처리층 이외에 비발포층, 유리 섬유층 및 인쇄층을 기재층을 더 포함할 수 있으며, 구체적으로는 발포층, 유리 섬유층, 인쇄층, 기재층 및 표면 처리층이 순차적으로 적층된 구조를 가질 수 있다.Meanwhile, the flooring according to the present invention may further include a non-foaming layer, a glass fiber layer, and a printed layer in addition to the base layer and the surface treatment layer, and specifically, a foam layer, a glass fiber layer, a printed layer, a base layer, and a surface. The treatment layers may have a sequentially stacked structure.
이때, 상기 비발포층은 바닥재의 최하부에 위치하는 층으로서 상부의 경화층, 기재층, 인쇄층, 치수 안정층 등을 지지하는 한편, 바닥재의 내충격성, 보행감 및 강도를 더 보완해 주는 역할을 한다.At this time, the non-foam layer is a layer located at the bottom of the flooring material and supports the upper cured layer, base material layer, printed layer, and dimensionally stable layer, while further supplementing the impact resistance, walking feeling, and strength of the flooring material. Do it.
상기 비발포층은 폴리염화비닐 수지를 포함하는 폴리염화비닐 수지 조성물로 형성될 수 있고, 상기 폴리염화비닐 수지 조성물은 중합도 900 내지 1200의 폴리염화비닐 수지 100 중량부를 기준으로, 가소제(예를 들어, 디옥틸테레프탈레이트) 35 내지 58 중량부, 필러(예를 들어, 탄산칼슘) 80 내지 100 중량부를 포함할 수 있다.The non-foaming layer may be formed of a polyvinyl chloride resin composition containing a polyvinyl chloride resin, and the polyvinyl chloride resin composition may contain a plasticizer (e.g. , dioctyl terephthalate) 35 to 58 parts by weight, and 80 to 100 parts by weight of filler (e.g., calcium carbonate).
상기 비발포층의 두께는 200 내지 2,000 ㎛일 수 있다. 상기 비발포층의 두께가 200 ㎛ 미만일 경우에 는 바닥재의 내충격성 및 보행감 등이 저하될 수 있고, 2,000 ㎛를 초과할 경우에는 바닥재가 필요 이상으로 두꺼워질 수 있다. 상기 투명층은 상기 섬유함침층 상에 형성되며, 내구성, 내마모성 및 탄성을 높이고, 강도를 보완하는 역할을 한다.The thickness of the non-foaming layer may be 200 to 2,000 ㎛. If the thickness of the non-foam layer is less than 200 ㎛, the impact resistance and walking comfort of the flooring may be reduced, and if it exceeds 2,000 ㎛, the flooring may become thicker than necessary. The transparent layer is formed on the fiber impregnated layer, and serves to increase durability, wear resistance, and elasticity, and to supplement strength.
또한, 상기 치수 안정층은 폴리염화비닐(PVC)계 수지, 폴리우레탄계 수지, 폴리유산계 수지, 폴리올레핀 수지 등의 바인더 수지에 유리섬유가 함침된 복합재로 형성될 수 있다. 이렇게 형성된 치수 안정층은 고온 고습 조건에서도 치수 변형률을 감소시켜 우수한 치수 안정성을 구현하면서도 상부 및 하부에 적층되는 다른 층들과의 접착력을 높은 수준으로 유지하여 뛰어난 내구성을 구현할 수 있다. 이때, 상기 치수 안정층의 평균 두께는 약 0.1 mm 내지 약 2.0 mm일 수 있다.Additionally, the dimensionally stable layer may be formed of a composite material in which glass fibers are impregnated with a binder resin such as polyvinyl chloride (PVC)-based resin, polyurethane-based resin, polylactic acid-based resin, or polyolefin resin. The dimensional stability layer formed in this way can achieve excellent dimensional stability by reducing dimensional strain even under high temperature and high humidity conditions, while maintaining a high level of adhesion with other layers laminated on the top and bottom, thereby realizing excellent durability. At this time, the average thickness of the dimensionally stable layer may be about 0.1 mm to about 2.0 mm.
아울러, 상기 유리 섬유의 평균 직경은 100 내지 900 ㎛, 100 내지 800 ㎛, 100 내지 700 ㎛, 100 내지 600 ㎛, 100 내지 500 ㎛, 100 내지 400 ㎛, 200 내지 1,000 ㎛, 200 내지 800 ㎛, 200 내지 600 ㎛, 200 내지 400 ㎛, 300 내지 800 ㎛, 400 내지 600 ㎛, 500 내지 1,000 ㎛, 300 내지 500 ㎛ 또는 150 내지 300 ㎛ 범위일 수 있다. 본 발명은 유리 섬유의 평균 직경을 상기 범위로 제어함으로써 낮은 평량을 갖는 유리 섬유층을 포함하여도 고강도 및 고내구성을 구현할 수 있다.In addition, the average diameter of the glass fiber is 100 to 900 ㎛, 100 to 800 ㎛, 100 to 700 ㎛, 100 to 600 ㎛, 100 to 500 ㎛, 100 to 400 ㎛, 200 to 1,000 ㎛, 200 to 800 ㎛. ㎛, 200 It may range from 600 μm, 200 to 400 μm, 300 to 800 μm, 400 to 600 μm, 500 to 1,000 μm, 300 to 500 μm, or 150 to 300 μm. The present invention can achieve high strength and high durability even if it includes a glass fiber layer with a low basis weight by controlling the average diameter of the glass fibers within the above range.
이와 더불어, 상기 유리 섬유층의 단위 면적당 평균 중량은 110 내지 140 g/m2 범위일 수 있고, 구체적으로 110 내지 135 g/m2, 110 내지 130 g/m2, 110 내지 125 g/m2, 115 내지 140 g/m2, 115 내지 135 g/m2, 115 내지 130 g/m2, 또는 118 내지 122 g/m2 범위에서 조절될 수 있다. 상기 유리 섬유층의 단위 면적당 평균 중량을 상기 범위로 제어함으로써, 중량이 지나치게 증가하는 것을 방지하면서, 기재의 경도를 우수하게 유지할 수 있다.In addition, the average weight per unit area of the glass fiber layer may range from 110 to 140 g/m 2 , specifically 110 to 135 g/m 2 , 110 to 130 g/m 2 , 110 to 125 g/m 2 , It can be adjusted in the range of 115 to 140 g/m 2 , 115 to 135 g/m 2 , 115 to 130 g/m 2 , or 118 to 122 g/m 2 . By controlling the average weight per unit area of the glass fiber layer within the above range, excellent hardness of the substrate can be maintained while preventing excessive increase in weight.
또한, 상기 기재층은 투명 또는 반투명 폴리염화비닐(PVC)층으로서 약 0.05mm 내지 약 2.0mm의 두께를 가질 수 있고, 상기 범위 내의 두께를 가짐으로써 바닥재의 총 두께를 지나치게 증가시키지 않으면서 후술하는 바와 같이 하부에 적층되는 인쇄층의 무늬나 패턴을 충분히 보호할 수 있다.In addition, the base layer is a transparent or translucent polyvinyl chloride (PVC) layer and may have a thickness of about 0.05 mm to about 2.0 mm. By having a thickness within the above range, the total thickness of the flooring will not be excessively increased, and as described later, As shown, the pattern or pattern of the printed layer laminated below can be sufficiently protected.
아울러, 상기 인쇄층은 베이스를 형성하는 백색층과 무늬를 구현하는 전사층을 포함할 수 있으며, 예를 들어, 전사 인쇄, 그라비어 인쇄, 스크린 인쇄, 오프셋 인쇄, 로터리 인쇄 또는 플렉소 인쇄 등의 다양한 방식으로 무늬를 부여함으로써 형성될 수 있다. 이때, 인쇄층은 약 1㎛ 내지 약 10㎛의 평균 두께를 가질 수 있다.In addition, the printing layer may include a white layer forming a base and a transfer layer implementing a pattern, for example, various printing methods such as transfer printing, gravure printing, screen printing, offset printing, rotary printing, or flexo printing. It can be formed by giving a pattern in this way. At this time, the printed layer may have an average thickness of about 1㎛ to about 10㎛.
바닥재의 제조방법Manufacturing method of flooring
또한, 본 발명은 일실시예에서,In addition, in one embodiment of the present invention,
기재층 상에 도포된 아크릴 수지 조성물에, 공기 중에서 200㎚ 내지 400㎚ 파장의 광을 조사하여 조성물을 일부 경화시키는 제1 광 조사 단계,A first light irradiation step of partially curing the composition by irradiating light with a wavelength of 200 nm to 400 nm in the air to the acrylic resin composition applied on the base layer,
300㎚ 미만 파장의 광을 조사하여 일부 경화된 조성물 표면에 주름을 유도하는 제2 광 조사 단계, 및A second light irradiation step of inducing wrinkles on the surface of the partially cured composition by irradiating light with a wavelength of less than 300 nm, and
질소 가스 (N2) 조건 하에서, 표면에 주름이 유도된 조성물에 200㎚ 내지 400㎚ 파장의 광을 조사하여 표면 처리층을 형성하는 제3 광 조사 단계를 포함하는 바닥재의 제조방법을 제공한다.Provided is a method of manufacturing a flooring material including a third light irradiation step of forming a surface treatment layer by irradiating light with a wavelength of 200 nm to 400 nm to a composition on which wrinkles are induced on the surface under nitrogen gas (N 2 ) conditions.
본 발명에 따른 바닥재의 제조방법은 아크릴 수지 조성물에 특정 범위의 단파장 광을 서로 다른 조건 하에서 3 단계로 조사하여 경화시키는 단계를 갖는다.The method of manufacturing a flooring material according to the present invention includes the step of curing an acrylic resin composition by irradiating a specific range of short-wavelength light in three steps under different conditions.
구체적으로, 제1 광 조사 단계는 기재 상에 도포된 조성물에 광을 조사하는 첫 번째 단계로서, 공기 중에서 아크릴 수지 조성물에, 200㎚ 내지 400㎚ 파장의 광을 조사하여 조성물을 일부 경화, 구체적으로는 20~60%, 또는 30~50%의 경화율로 아크릴 수지 조성물을 예비 경화시키는 단계이다. 여기서, 상기 경화율은 아크릴 수지 조성물의 제1 광 조사 단계 전·후의 퓨리에 변환-적외선 분광(FT-IR) 측정을 통해 확인한 것일 수 있고, 구체적으로는 아크릴 수지 조성물의 제1 광 조사 단계 전·후 퓨리에 변환-적외선 분광(FT-IR) 측정 시 809.6±1 cm-1의 파수 범위에서 나타나는 C=C 결합의 스트레칭 피크의 강도 변화를 통해 알 수 있다.Specifically, the first light irradiation step is the first step of irradiating light to the composition applied on the substrate, partially curing the composition by irradiating light with a wavelength of 200 nm to 400 nm to the acrylic resin composition in the air, specifically. is a step of pre-curing the acrylic resin composition at a curing rate of 20 to 60%, or 30 to 50%. Here, the curing rate may be confirmed through Fourier transform-infrared spectroscopy (FT-IR) measurement before and after the first light irradiation step of the acrylic resin composition, and specifically, before and after the first light irradiation step of the acrylic resin composition. This can be seen through the change in intensity of the stretching peak of the C=C bond that appears in the wavenumber range of 809.6±1 cm -1 during Fourier transform-infrared spectroscopy (FT-IR) measurement.
하나의 예로서, 상기 아크릴 수지 조성물은 퓨리에-적외선 분광 분석 시 하기 식 1을 만족할 수 있다:As an example, the acrylic resin composition may satisfy the following equation 1 when subjected to Fourier-infrared spectroscopy analysis:
[식 1] 0.5 ≤ Aharden/Aacryl ≤0.7[Equation 1] 0.5 ≤ A harden /A acryl ≤0.7
식 1에서,In equation 1,
Aacryl는 광 조사가 되지 않은 아크릴 수지 조성물에 대한 퓨리에-적외선 분광 분석 시 809.6±1 cm-1의 파수에 나타내는 피크의 면적을 의미하고,A acryl refers to the area of the peak shown at a wave number of 809.6±1 cm -1 during Fourier-infrared spectroscopy analysis of an acrylic resin composition that has not been irradiated with light,
Aharden는 제1 광조사 단계가 수행된 아크릴 수지 조성물에 대한 퓨리에-적외선 분광 분석 시 809.6±1 cm-1의 파수에 나타내는 피크의 면적을 의미한다.A harden refers to the area of the peak shown at a wave number of 809.6 ± 1 cm -1 during Fourier-infrared spectroscopy analysis of the acrylic resin composition on which the first light irradiation step was performed.
구체적으로, 상기 아크릴 수지 조성물은 제1 광 조사 단계에서 일부 경화가 진행되어, 제1 광 조사 단계 수행 전·후의 퓨리에-적외선 분광 분석 시 C=C 결합의 스트레칭을 나타내는 809.6±1 cm-1 파수 범위의 피크 면적 비율(Aharden/Aacryl)이 0.5 내지 0.7일 수 있으며, 구체적으로는 0.5 내지 0.65, 0.55 내지 0.7, 0.55 내지 0.65, 0.58 내지 0.64 또는 0.61 내지 0.66일 수 있다.Specifically, the acrylic resin composition is partially cured in the first light irradiation step, and when analyzed by Fourier-infrared spectroscopy before and after performing the first light irradiation step, the acrylic resin composition has a wave number of 809.6 ± 1 cm -1 , indicating stretching of the C=C bond. The peak area ratio (A harden / A acryl ) may range from 0.5 to 0.7, specifically 0.5 to 0.65, 0.55 to 0.7, 0.55 to 0.65, 0.58 to 0.64, or 0.61 to 0.66.
또한, 상기 공기 조건은 일반적인 공기(air) 또는 건조된 공기(clean dry air) 조건에서 수행될 수 있고, 경우에 따라서는 산소 가스(O2)가 질소 가스(N2)에 혼합된 상태를 의미할 수 있다. 이 경우, 질소 가스(N2) 중 산소 가스(O2)의 농도는 전체 혼합 기체 100 부피부에 대하여 30 부피부 이하 또는 20 부피부 이하일 수 있으며, 보다 구체적으로는 5 내지 25 부피부, 10 내지 25 부피부, 또는 15 내지 22 부피부일 수 있다.In addition, the air conditions may be performed under general air or clean dry air conditions, and in some cases, oxygen gas (O 2 ) is mixed with nitrogen gas (N 2 ). can do. In this case, the concentration of oxygen gas (O 2 ) in nitrogen gas (N 2 ) may be 30 parts by volume or less or 20 parts by volume or less based on 100 parts by volume of the total mixed gas, and more specifically, 5 to 25 parts by volume, 10 parts by volume. It may be from 25 parts by volume, or from 15 to 22 parts by volume.
본 발명은 제1 광 조사 단계를 통하여 아크릴 수지 조성물 표면에 주름을 형성하기 이전에 예비적으로 경화시킴으로써 주름의 빈도를 현저히 증가시킬 수 있다. 예컨대, 본 발명에 따른 바닥재는 제1 광 조사 단계를 수행함으로써 최종적으로 표면 처리층 표면에 0.1 mm X 0.1 mm의 단위 면적당 5 내지 20개의 주름(1 mm X 1 mm의 단위 면적당 500 내지 2,000개)을 포함하나, 제1 광 조사 단계를 수행하지 않는 경우 0.1 mm X 0.1 mm의 단위 면적당 400개 이하로 낮은 빈도를 갖는 주름 구조를 포함할 수 있다.The present invention can significantly increase the frequency of wrinkles by preliminarily curing the surface of the acrylic resin composition before forming wrinkles through the first light irradiation step. For example, the flooring material according to the present invention performs the first light irradiation step, so that 5 to 20 wrinkles per unit area of 0.1 mm However, if the first light irradiation step is not performed, it may include a wrinkle structure with a low frequency of 400 or less per unit area of 0.1 mm x 0.1 mm.
한편, 기재 상에 조성물을 도포하는 방법은 기술분야에서 공지된 방법에 의해 수행될 수 있으며, 예를 들어, 메이어(Mayer), 디-바(D-bar), 고무롤(rubber roll), G/V 롤(G/V roll), 에어나이프(air knife), 슬롯다이(slot die), 마이크로그라비아 등을 이용하여 수행될 수 있다.Meanwhile, the method of applying the composition on the substrate may be performed by a method known in the technical field, for example, Mayer, D-bar, rubber roll, G/ It can be performed using a V roll (G/V roll), air knife, slot die, microgravure, etc.
아울러, 제2 광 조사 단계는 조사된 광에 의해 발생된 엑시머(excimer)가 조성물 및/또는 표면 처리층의 표면을 수축시켜 주름을 형성함으로써 표면에 입사되는 빛의 산란율을 증가시키는 단계이다. 본 발명은 엑시머를 이용하여 조성물 및/또는 표면 처리층의 표면을 상술된 주름 구조로 수축시킴으로써 빛의 산란율을 증가시킬 수 있으므로 소광제를 사용하지 않거나 10 중량% 미만의 소량의 소광제를 사용하여도 표면 처리층의 광택도를 감소시킬 수 있다. 이를 위해 상기 제2 광 조사 단계는 고에너지를 갖는 300㎚ 미만, 구체적으로는 100 내지 200㎚ 또는 150 내지 195㎚의 파장을 광을 사용하여 비반응성 가스인 질소 (N2) 분위기에서 수행될 수 있고, 경우에 따라서는 산소(O2)를 소량, 구체적으로는 1,000 ppm 이하로 포함하는 질소(N2) 분위기에서 수행될 수 있다. 또한, 제2 광 조사 단계에서 조성물과 광원의 거리는 50~150㎜일 수 있고, 구체적으로는 50~120㎜, 60~120㎜, 80~130㎜, 70~150㎜, 100~150㎜, 120~140㎜, 80~110㎜, 90~110㎜, 또는 95~105㎜일 수 있다.In addition, the second light irradiation step is a step in which excimers generated by the irradiated light shrink the surface of the composition and/or the surface treatment layer to form wrinkles, thereby increasing the scattering rate of light incident on the surface. The present invention can increase the scattering rate of light by shrinking the surface of the composition and/or the surface treatment layer into the wrinkled structure described above using excimer, so no matting agent is used or a small amount of matting agent of less than 10% by weight is used. It may also reduce the glossiness of the surface treatment layer. To this end, the second light irradiation step can be performed in a nitrogen (N 2 ) atmosphere, a non-reactive gas, using light with a high energy wavelength of less than 300 nm, specifically 100 to 200 nm or 150 to 195 nm. In some cases, it may be performed in a nitrogen (N 2 ) atmosphere containing a small amount of oxygen (O 2 ), specifically, 1,000 ppm or less. In addition, the distance between the composition and the light source in the second light irradiation step may be 50 to 150 mm, specifically 50 to 120 mm, 60 to 120 mm, 80 to 130 mm, 70 to 150 mm, 100 to 150 mm, 120 mm. It may be ~140 mm, 80-110 mm, 90-110 mm, or 95-105 mm.
아울러, 상기 제2 광 조사 단계에서 광 조사량은 100 mJ/㎠ 내지 500 mJ/㎠일 수 있고, 구체적으로는 100 mJ/㎠ 내지 400 mJ/㎠¸200 mJ/㎠ 내지 500 mJ/㎠, 200 mJ/㎠ 내지 400 mJ/㎠, 250 mJ/㎠ 내지 350 mJ/㎠, 320 mJ/㎠ 내지 400 mJ/㎠, 280 mJ/㎠ 내지 320 mJ/㎠ 또는 290 mJ/㎠ 내지 310 mJ/㎠일 수 있다.In addition, the amount of light irradiation in the second light irradiation step may be 100 mJ/cm2 to 500 mJ/cm2, specifically 100 mJ/cm2 to 400 mJ/cm2¸200 mJ/cm2 to 500 mJ/cm2, 200 mJ /cm2 to 400 mJ/cm2, 250 mJ/cm2 to 350 mJ/cm2, 320 mJ/cm2 to 400 mJ/cm2, 280 mJ/cm2 to 320 mJ/cm2 or 290 mJ/cm2 to 310 mJ/cm2. .
하나의 예로서, 상기 제2 광 조사 단계는 조성물 내에 엑시머를 형성하기 위하여 조성물에 172±2㎚ 파장을 갖는 광을 100ppm 이하의 산소(O2)를 포함하는 질소(N2) 조건에서 295~305 mJ/㎠의 광량 (즉, 광 조사량)으로 1~2초의 매우 짧은 시간 동안 조사하여 수행될 수 있다.As an example, in the second light irradiation step, in order to form an excimer in the composition, light with a wavelength of 172 ± 2 nm is applied to the composition at 295 ~ 295 under nitrogen (N 2 ) conditions containing 100 ppm or less of oxygen (O 2 ) It can be performed by irradiating with a light dose of 305 mJ/㎠ (i.e., light irradiation amount) for a very short time of 1 to 2 seconds.
본 발명은 제2 광 조사 단계 수행 시 가스 조건, 조성물과 광원의 거리 및/또는 광 조사량을 상기 범위로 제어함으로써 표면 처리층의 표면에 형성되는 미세 주름 구조의 크기 및/또는 형태를 용이하게 제어할 수 있다.The present invention facilitates controlling the size and/or shape of the fine wrinkle structure formed on the surface of the surface treatment layer by controlling the gas conditions, the distance between the composition and the light source, and/or the amount of light irradiation within the above range when performing the second light irradiation step. can do.
나아가, 제3 광 조사 단계는 주름이 형성된 조성물에 자외선(UV)을 추가적으로 조사하여 조성물이 95% 이상으로 완전 경화, 다시 말해 "진경화"를 수행하는 단계로서, 400㎚ 이하의 파장, 구체적으로는 100 내지 400㎚, 200 내지 400㎚, 200 내지 300㎚, 300 내지 400㎚, 150 내지 300㎚, 200 내지 250㎚ 또는 270 내지 320㎚의 파장을 광을 사용하여 질소(N2) 분위기에서 수행될 수 있다.Furthermore, the third light irradiation step is a step of additionally irradiating ultraviolet (UV) rays to the composition in which wrinkles are formed to completely cure the composition to 95% or more, that is, "hardening", with a wavelength of 400 nm or less, specifically. is carried out in a nitrogen (N 2 ) atmosphere using light with a wavelength of 100 to 400 nm, 200 to 400 nm, 200 to 300 nm, 300 to 400 nm, 150 to 300 nm, 200 to 250 nm or 270 to 320 nm. It can be.
이때, 진경화된 조성물 및/또는 표면 처리층의 표면 온도는 20 내지 90℃일 수 있으며, 구체적으로는 20 내지 80℃또는 30 내지 70℃일 수 있다.At this time, the surface temperature of the hardened composition and/or the surface treatment layer may be 20 to 90°C, specifically 20 to 80°C or 30 to 70°C.
하나의 예로서, 상기 제3 광 조사 단계는 조성물 및/또는 표면 처리층에 300±10㎚ 파장을 갖는 광을 100~3,000 mJ/㎠, 구체적으로는 500~900 mJ/㎠의 광량으로 1~2초의 매우 짧은 시간 동안 질소(N2) 분위기에서 조사하여 수행될 수 있고, 이때 조성물 및/또는 표면 처리층과 광원 사이의 거리는 100±10㎜일 수 있다.As an example, the third light irradiation step is performed by applying light with a wavelength of 300 ± 10 nm to the composition and/or the surface treatment layer at a light quantity of 100 to 3,000 mJ/cm2, specifically 500 to 900 mJ/cm2. It can be performed by irradiating in a nitrogen (N 2 ) atmosphere for a very short time of 2 seconds, where the distance between the composition and/or surface treatment layer and the light source can be 100 ± 10 mm.
본 발명에서 조사되는 광은 각 단계에서 요구되는 파장의 광을 조사할 수 있는 공지된 방법에 따라 조사될 수 있다. 예를 들어, UV 영역인 400㎚ 이하의 파장을 갖는 광은 수은 또는 메탈 할라이드 램프 등을 이용하여 조사될 수 있다.The light irradiated in the present invention can be irradiated according to a known method that can irradiate light of the required wavelength in each step. For example, light with a wavelength of 400 nm or less, which is the UV region, may be irradiated using a mercury or metal halide lamp.
또한, 본 발명에서 광이 조사되는 시간은 1~2초의 매우 짧은 시간일 수 있고, 이러한 광 조사 시간은 광 조사 시 조성물이 이동하는 속도, 예컨대 기재 상에 코팅된 조성물의 이동 속도에 의해 제어될 수 있다. 예를 들어, 상기 조성물 및/또는 조성물이 코팅된 기재의 이동 속도는 1 내지 50 m/min일 수 있고, 구체적으로는 5 내지 40 m/min, 10 내지 40 m/min, 20 내지 40 m/min, 30 내지 40 m/min, 15 내지 25 m/min, 5 내지 15 m/min, 15 내지 20 m/min, 35 내지 40 m/min 또는 18 내지 22 m/min일 수 있다.In addition, in the present invention, the light irradiation time may be a very short time of 1 to 2 seconds, and this light irradiation time may be controlled by the speed at which the composition moves upon light irradiation, for example, the speed at which the composition coated on the substrate moves. You can. For example, the moving speed of the composition and/or the composition-coated substrate may be 1 to 50 m/min, specifically 5 to 40 m/min, 10 to 40 m/min, and 20 to 40 m/min. min, 30 to 40 m/min, 15 to 25 m/min, 5 to 15 m/min, 15 to 20 m/min, 35 to 40 m/min or 18 to 22 m/min.
본 발명은 조성물의 경화 시 특정 범위의 단파장 광을 서로 다른 조건 하에서 단계적으로 사용함으로써 개시제를 상기 범위로 소량 포함하여도 높은 경화율을 나타낼 수 있다.The present invention uses a specific range of short-wavelength light step by step under different conditions when curing the composition, so that a high curing rate can be achieved even if a small amount of the initiator is included in the above range.
한편, 상기 아크릴 수지 조성물은 다관능성 아크릴레이트 올리고머, 다관능성 아크릴레이트 모노머 및 단관능성 아크릴레이트 모노머를 포함할 수 있다.Meanwhile, the acrylic resin composition may include a multifunctional acrylate oligomer, a multifunctional acrylate monomer, and a monofunctional acrylate monomer.
구체적으로, 상기 아크릴계 올리고머는 아크릴기를 포함하는 모노머를 이용하여 얻어지는 올리고머를 의미하며, 상기 모노머로는 메틸(메트)아크릴레이트, 에틸(메트)아크릴레이트, 프로필(메트)아크릴레이트, 부틸(메트)아크릴레이트, 펜틸(메트)아크릴레이트, 헥실(메트)아크릴레이트, 헵틸(메트)아크릴레이트, 옥틸(메트)아크릴레이트 및 벤질아크릴레이트로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상의 (메트)아크릴레이트일 수 있다. 예를 들어, 상기 아크릴계 올리고머는 메틸아크릴레이트, (메타)아크릴레이트, 에틸아크릴레이트, 벤질아크릴레이트 또는 이들의 혼합물을 중합한, 메틸아크릴레이트 올리고머, (메타)아크릴레이트 올리고머, 메틸(메타)아크릴레이트 올리고머, 에틸아크릴레이트 올리고머, 벤질아크릴레이트 올리고머, 벤질(메타)아크릴레이트 올리고머 등을 포함할 수 있다.Specifically, the acrylic oligomer refers to an oligomer obtained using a monomer containing an acrylic group, and the monomers include methyl (meth)acrylate, ethyl (meth)acrylate, propyl (meth)acrylate, and butyl (meth)acrylate. It may be one or more (meth)acrylates selected from the group consisting of acrylate, pentyl (meth)acrylate, hexyl (meth)acrylate, heptyl (meth)acrylate, octyl (meth)acrylate, and benzyl acrylate. there is. For example, the acrylic oligomer may be methyl acrylate, (meth)acrylate, ethyl acrylate, benzyl acrylate, or a mixture thereof, such as methyl acrylate oligomer, (meth)acrylate oligomer, or methyl (meth)acrylate. It may include late oligomer, ethyl acrylate oligomer, benzyl acrylate oligomer, benzyl (meth)acrylate oligomer, etc.
또한, 상기 아크릴계 올리고머의 중량평균 분자량은 100 내지 50,000일 수 있고, 보다 구체적으로는 500 내지 30,000; 1,000 내지 10,000; 5,000 내지 10,000; 6,000 내지 8,000; 1,000 내지 5,000 또는 1,500 내지 2,500일 수 있다. 본 발명은 아크릴계 올리고머의 중량평균 분자량을 상기 범위로 조절함으로써 경화층의 내구성을 보다 향상시킬 수 있다.In addition, the weight average molecular weight of the acrylic oligomer may be 100 to 50,000, more specifically 500 to 30,000; 1,000 to 10,000; 5,000 to 10,000; 6,000 to 8,000; It may be 1,000 to 5,000 or 1,500 to 2,500. The present invention can further improve the durability of the cured layer by adjusting the weight average molecular weight of the acrylic oligomer within the above range.
아울러, 상기 단관능성 및 다관능성 아크릴레이트 모노머는 탄소수 1 내지 7의 직쇄 또는 측쇄 알킬기와 아크릴기를 포함하는 화합물로서, 화합물에 포함된 아크릴기의 개수에 따라 단관능성과 다관능성으로 구분될 수 있다. 예컨대, 화합물 내에 아크릴기가 2개 이상인 경우 다관능성으로 구분될 수 있고, 본 발명에서 사용되는 다관능성 아크릴레이트 모노머는 2 관능성 모노머, 3 관능성 모노머, 4 관능성 모노머 및 6 관능성 모노머 중 1종 이상을 포함할 수 있다.In addition, the monofunctional and multifunctional acrylate monomers are compounds containing a straight or branched chain alkyl group having 1 to 7 carbon atoms and an acrylic group, and can be classified into monofunctional and multifunctional depending on the number of acrylic groups contained in the compound. For example, if the compound has two or more acrylic groups, it can be classified as multifunctional, and the multifunctional acrylate monomer used in the present invention is one of two functional monomers, three functional monomers, four functional monomers, and six functional monomers. It may include more than one species.
하나의 예로서, 상기 다관능성 아크릴레이트 모노머로는 1,6-헥산디올디아크릴레이트, 테트라에틸렌글리콜 디아크릴레이트, 트리프로필렌글리콜 디아크릴레이트, 트리에틸렌글리콜 디아크릴레이트, 디프로필렌글리콜 디아크릴레이트, 펜타에리트리톨 트리아크릴레이트, 트리메틸올프로판에톡시트리아크릴레이트 및 헥사메틸디아민 디아크릴레이트로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상을 들 수 있으며, 경우에 따라서는 상기 아크릴레이트 모노머와 2관능성 우레탄 아크릴레이트, 3관능성 우레탄 아크릴레이트 또는 4관능성 우레탄 아크릴레이트를 병용하여 사용할 수 있다.As an example, the multifunctional acrylate monomers include 1,6-hexanediol diacrylate, tetraethylene glycol diacrylate, tripropylene glycol diacrylate, triethylene glycol diacrylate, and dipropylene glycol diacrylate. , pentaerythritol triacrylate, trimethylolpropane ethoxy triacrylate, and hexamethyldiamine diacrylate, and in some cases, the acrylate monomer and difunctional urethane. Acrylate, tri-functional urethane acrylate, or tetra-functional urethane acrylate can be used in combination.
또한, 상기 단관능성 아크릴 모노머는 화합물 내에 아크릴기가 1개 포함하는 화합물로서, 예를 들어, 메틸(메트아크릴레이트(methyl(meth)acrylate, 탄소수 1~2의 알킬기 포함), 에틸(메트아크릴레이트(ethyl(meth)acrylate, 탄소수 2~3의 알킬기 포함), 프로필(메트아크릴레이트(propyl(meth)acrylate, 탄소수 3~4의 알킬기 포함), 부틸(메트아크릴레이트(butyl(meth)acrylate, 탄소수 4~5의 알킬기 포함), 펜틸(메트아크릴레이트(pentyl(meth)acrylate, 탄소수 5~6의 알킬기 포함), 및 헥실(메트)아크릴레이트(hexyl(meth)acrylate, 탄소수 6~7의 알킬기 포함)로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상을 포함할 수 있다.In addition, the monofunctional acrylic monomer is a compound containing one acrylic group in the compound, for example, methyl (methyl(meth)acrylate, including an alkyl group having 1 to 2 carbon atoms), ethyl (methacrylate ( ethyl(meth)acrylate, containing an alkyl group with 2 to 3 carbon atoms), propyl (propyl(meth)acrylate, containing an alkyl group with 3 to 4 carbon atoms), butyl (butyl(meth)acrylate, with 4 carbon atoms) Contains an alkyl group of ~5), pentyl (meth)acrylate (contains an alkyl group of 5 to 6 carbon atoms), and hexyl (meth)acrylate (contains an alkyl group of 6 to 7 carbon atoms) It may include one or more types selected from the group consisting of.
또한, 상기 단관능성 아크릴 모노머는 경우에 따라서 반응성 관능기를 1개 이상 포함하는 모노머를 포함할 수 있다. 구체적으로, 상기 반응성 관능기를 1개 이상 포함하는 모노머는 하이드록시기, 아민기, 아마이드기 등의 반응성 관능기를 함유하는 아크릴계 모노머일 수 있다.Additionally, the monofunctional acrylic monomer may, in some cases, include a monomer containing one or more reactive functional groups. Specifically, the monomer containing one or more reactive functional groups may be an acrylic monomer containing reactive functional groups such as a hydroxy group, an amine group, and an amide group.
예를 들어, 상기 단관능성 아크릴 모노머는 2-하이드록시에틸 아크릴레이트, 2-하이드록시프로필아크릴레이트, 4-하이드록시부틸아크릴레이트, 6-하이드록시헥실아크릴레이트, 8-하이드록시옥틸아크릴레이트, 2-하이드록시에틸렌글리콜아크릴레이트, 2-하이드록시프로필렌글리콜아크릴레이트 및 카프로락톤 변성 하이드록시아크릴레이트(caprolactone modified hydroxyl acrylate, CHA)로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상의 하이드록시 함유 아크릴계 모노머를 포함할 수 있다.For example, the monofunctional acrylic monomer includes 2-hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxypropyl acrylate, 4-hydroxybutylacrylate, 6-hydroxyhexyl acrylate, 8-hydroxyoctylacrylate, It may contain one or more hydroxy-containing acrylic monomers selected from the group consisting of 2-hydroxyethylene glycol acrylate, 2-hydroxypropylene glycol acrylate, and caprolactone modified hydroxyl acrylate (CHA). You can.
또한, 상기 단관능성 아크릴 모노머는 1,3-디메틸아밀아민, 3-아미노 에틸아크릴레이트, 2-(디메틸아미노)에틸 아크릴레이트 및 2-(디에틸아미노)에틸 아크릴레이트로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상의 아미노기 함유 아크릴계 모노머를 포함할 수 있다.In addition, the monofunctional acrylic monomer is 1 selected from the group consisting of 1,3-dimethylamylamine, 3-amino ethyl acrylate, 2-(dimethylamino)ethyl acrylate, and 2-(diethylamino)ethyl acrylate. It may contain more than one type of acrylic monomer containing an amino group.
아울러, 상기 단관능성 아크릴 모노머는 아크릴아마이드, (메타)아크릴아마이드, N-메틸아크릴아마이드, N-메틸(메타)아크릴아마이드, N-디메틸아크릴아마이드, N-디메틸(메타)아크릴아마이드 및 N-부톡시 메틸(메타)아크릴아마이드로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상의 아마이드기 함유 아크릴계 모노머를 포함할 수 있다.In addition, the monofunctional acrylic monomers include acrylamide, (meth)acrylamide, N-methylacrylamide, N-methyl(meth)acrylamide, N-dimethylacrylamide, N-dimethyl(meth)acrylamide, and N-part. It may include one or more amide group-containing acrylic monomers selected from the group consisting of toxymethyl (meth)acrylamide.
본 발명은 상기와 같은 단관능성 아크릴 모노머를 표면 처리제에 함유함으로써 표면 처리제의 점도를 적절히 낮출 수 있다.The present invention can appropriately lower the viscosity of the surface treatment agent by containing the monofunctional acrylic monomer as described above in the surface treatment agent.
본 발명에서 사용되는 아크릴 수지 조성물은 다관능성 아크릴레이트 올리고머 100 중량부에 대하여, 단관능성 아크릴레이트 모노머와 다관능성 아크릴레이트 모노머를 각각 50 내지 70 중량부 및 40 내지 70 중량부로 포함할 수 있다.The acrylic resin composition used in the present invention may include 50 to 70 parts by weight and 40 to 70 parts by weight of monofunctional acrylate monomer and polyfunctional acrylate monomer, respectively, based on 100 parts by weight of polyfunctional acrylate oligomer.
하나의 예로서, 상기 아크릴 수지 조성물은 다관능성 우레탄 아크릴레이트 올리고머 100 중량부에 대하여, 단관능성 아크릴레이트 모노머와 다관능성 아크릴레이트 모노머를 각각 57 내지 70 중량부 및 50 내지 63 중량부, 구체적으로는 각각 61 내지 68 중량부 및 51 내지 60 중량부로 포함할 수 있다.As an example, the acrylic resin composition contains 57 to 70 parts by weight and 50 to 63 parts by weight of monofunctional acrylate monomer and polyfunctional acrylate monomer, respectively, based on 100 parts by weight of polyfunctional urethane acrylate oligomer, specifically. It may contain 61 to 68 parts by weight and 51 to 60 parts by weight, respectively.
나아가, 상기 아크릴 수지 조성물은 표면 처리층의 내오염성을 개선하기 위하여 자외선 경화형의 액상 실리콘 첨가제를 더 포함할 수 있으며, 이러한 실리콘 첨가제로는 예를 들어, 고분자량의 양친매성 실리콘 첨가제를 사용할 수 있다. 이때, 상기 실리콘 첨가제의 분자량은 30,000 내지 90,000일 수 있다.Furthermore, the acrylic resin composition may further include a UV-curable liquid silicone additive to improve the contamination resistance of the surface treatment layer. For example, a high molecular weight amphiphilic silicone additive may be used as such silicone additive. . At this time, the molecular weight of the silicone additive may be 30,000 to 90,000.
또한, 실리콘 첨가제는 소량으로 사용될 수 있다. 구체적으로, 상기 실리콘 첨가제는 다관능성 아크릴레이트 올리고머 100 중량부에 대하여 0.1 내지 5 중량부로 사용될 수 있으며, 보다 구체적으로는 0.1 내지 4 중량부, 0.1 내지 3 중량부, 0.1 내지 2 중량부, 0.5 내지 1.5 중량부, 0.1 내지 1.1 중량부 또는 0.7 내지 1.3 중량부로 사용될 수 있다.Additionally, silicone additives may be used in small amounts. Specifically, the silicone additive may be used in an amount of 0.1 to 5 parts by weight, more specifically, 0.1 to 4 parts by weight, 0.1 to 3 parts by weight, 0.1 to 2 parts by weight, and 0.5 to 5 parts by weight, based on 100 parts by weight of the multifunctional acrylate oligomer. It can be used at 1.5 parts by weight, 0.1 to 1.1 parts by weight, or 0.7 to 1.3 parts by weight.
실리콘 첨가제를 사용하는 경우 아크릴 수지 조성물의 표면 장력이 낮아져 표면 처리층의 왁스 친화성이 저하되는 문제가 있다. 그러나, 본 발명은 표면 처리층의 표면에 미세한 주름 구조를 도입함과 동시에 실리콘 첨가제의 함량을 상기 범위로 제어함으로써 아크릴 수지 조성물의 표면장력을 적절히 낮춰 아크릴 수지 조성물을 이용하여 형성되는 표면 처리층의 내오염성을 향상시키면서, 왁스 친화성이 저하되는 것을 최소화할 수 있다. 아울러, 과량의 실리콘 첨가제로 인하여 경화율이 현저히 저하되는 것을 방지할 수 있다.When silicone additives are used, there is a problem that the surface tension of the acrylic resin composition is lowered and the wax affinity of the surface treatment layer is lowered. However, the present invention introduces a fine wrinkle structure on the surface of the surface treatment layer and at the same time controls the content of the silicone additive within the above range to appropriately lower the surface tension of the acrylic resin composition to form a fine wrinkle structure on the surface of the surface treatment layer. While improving fouling resistance, the decrease in wax affinity can be minimized. In addition, it is possible to prevent the curing rate from being significantly reduced due to excessive silicone additives.
이하, 본 발명을 실시예 및 실험예에 의해 보다 상세히 설명한다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail through examples and experimental examples.
단, 하기 실시예 및 실험예는 본 발명을 예시하는 것일 뿐, 본 발명의 내용이 하기 실시예 및 실험예에 한정되는 것은 아니다.However, the following examples and experimental examples only illustrate the present invention, and the content of the present invention is not limited to the following examples and experimental examples.
제조예 1 내지 3. 아크릴 수지 조성물의 제조Preparation Examples 1 to 3. Preparation of acrylic resin composition
제1 아크릴레이트 올리고머 (2관능 올리고머, Mw: 2,000), 제2 아크릴레이트 올리고머 (3관능 올리고머, Mw: 7,000), 제1 아크릴레이트 모노머 (2관능 모노머, Mw: 225), 제2 아크릴레이트 모노머 (3관능 모노머, Mw: 296), 단관능성 아크릴레이트 모노머, 소광제 및 개시제를 함께 하기 표 1에 나타낸 바와 같이 혼합하여 무용제 타입의 아크릴 수지 조성물을 제조하였다.First acrylate oligomer (bifunctional oligomer, Mw: 2,000), second acrylate oligomer (trifunctional oligomer, Mw: 7,000), first acrylate monomer (bifunctional monomer, Mw: 225), second acrylate monomer (trifunctional monomer, Mw: 296), monofunctional acrylate monomer, matting agent, and initiator were mixed together as shown in Table 1 below to prepare a solvent-free type acrylic resin composition.
실시예 1.Example 1.
제조예 3에서 얻은 아크릴 수지 조성물을 가로 10 ㎝ X 세로 10 ㎝의 폴리비닐클로라이드 (PVC) 기재에 도포하고 광 경화장치에 고정시켰다. 그 후 하기 표 2에 나타낸 바와 같이 9±0.5 m/min의 이동속도로 기재를 이동시키면서 단계적으로 광 조사를 수행하여 SLS 타입의 비발포식 타일 바닥재 시편을 제조하였다. 이때, 상기 경화층의 평균 두께는 20±1㎛이였다.The acrylic resin composition obtained in Preparation Example 3 was applied to a polyvinyl chloride (PVC) substrate measuring 10 cm wide Then, as shown in Table 2 below, light irradiation was performed step by step while moving the substrate at a moving speed of 9 ± 0.5 m/min to prepare an SLS type non-foaming tile flooring specimen. At this time, the average thickness of the cured layer was 20 ± 1㎛.
(O2 농도: 1,000 ppm 이하)N 2 condition
(O 2 concentration: 1,000 ppm or less)
비교예 1 내지 6.Comparative Examples 1 to 6.
하기 표 3 및 4와 같은 경화조건으로 조성물을 경화하는 것을 제외하고 실시예 1과 동일한 방법으로 수행하여 바닥재 시편을 제조하였다. 이때, 상기 표면 처리층의 평균 두께는 15±1㎛이였다.Flooring specimens were prepared in the same manner as in Example 1, except that the composition was cured under the curing conditions shown in Tables 3 and 4 below. At this time, the average thickness of the surface treatment layer was 15 ± 1㎛.
조성물Production Example 3
composition
조성물Production example 3
composition
(O2 농도: 20±2 vol.%)Clean dry air conditions
(O 2 concentration: 20±2 vol.%)
(O2 농도: 1,000 ppm 이하)N 2 condition
(O 2 concentration: 1,000 ppm or less)
실험예 1.Experimental Example 1.
본 발명에 따른 바닥재의 최외각층인 표면 처리층의 표면 구조를 확인하기 위하여 실시예 1과 비교예 6에서 제조된 바닥재 시편을 대상으로 주사 전자현미경(SEM) 분석을 수행하였으며, 그 결과는 도 1 및 2에 나타내었다.In order to confirm the surface structure of the surface treatment layer, which is the outermost layer of the flooring according to the present invention, scanning electron microscopy (SEM) analysis was performed on the flooring specimens prepared in Example 1 and Comparative Example 6, and the results are shown in Figure 1 and 2.
도 1 및 2를 살펴보면, 본 발명에 따른 실시예 1의 시편은 표면에 일정 크기와 빈도로 미세한 주름 구조를 포함하는 것으로 나타났으며, 상기 주름 구조는 상기 주름 구조는 불규칙한 직선 및 곡선이 반복되면서 산맥 형상과 같은 굴곡을 갖는 것을 알 수 있다. 또한, 상기 주름은 폭이 평균 8±0.5㎛이고 높이는 약 1~2 ㎛이며, 약 10 내지 50㎛ 내에서 연장되는 것으로 나타났다. 또한, 상기 주름은 높은 빈도로 균일하게 형성되어 0.1 mm X 0.1 mm의 면적 당 5~20개 정도 존재하는 것이 확인되었다.Looking at Figures 1 and 2, the specimen of Example 1 according to the present invention was found to contain fine wrinkle structures on the surface of a certain size and frequency, and the wrinkle structure was formed by repeating irregular straight lines and curves. You can see that it has curves similar to the shape of a mountain range. In addition, the wrinkles were found to have an average width of 8 ± 0.5 ㎛, a height of about 1 to 2 ㎛, and extending within about 10 to 50 ㎛. In addition, it was confirmed that the wrinkles were formed uniformly at a high frequency, and that there were about 5 to 20 wrinkles per area of 0.1 mm x 0.1 mm.
이에 반해, 비교예 6의 시편은 불규칙한 직선 및 곡선이 반복되는 산맥 형상을 갖는 주름을 포함하나, 상기 주름은 굵고 높으며, 하나의 특정 지점으로부터 복수의 주름이 서로 다른 방향으로 분지되는 형상을 가져 1 mm X 1 mm의 면적 당 주름이 5~8개 정도 존재하는 것이 확인되었다.On the other hand, the specimen of Comparative Example 6 included wrinkles having the shape of a mountain range with repeated irregular straight lines and curves, but the wrinkles were thick and high, and had a shape in which a plurality of wrinkles branched out in different directions from one specific point. 1 It was confirmed that there were about 5 to 8 wrinkles per area of mm
이러한 결과로부터, 제1 광 조사 단계를 수행하는 경우 표면 처리층 표면에 형성된 주름 구조의 크기와 빈도를 제어할 수 있음을 알 수 있다.From these results, it can be seen that when performing the first light irradiation step, the size and frequency of the wrinkle structure formed on the surface of the surface treatment layer can be controlled.
실험예 2.Experimental Example 2.
제1 광 조사 단계에 따른 표면 처리층의 변화를 확인하기 위하여, 퓨리에 변환-적외선 분광 분석을 수행하였다. 구체적으로, 제조예 3에서 얻은 아크릴 수지 조성물을 가로 10 ㎝ X 세로 10 ㎝의 폴리비닐클로라이드 (PVC) 시편에 도포하고, 시편을 대상으로 400~4,000 cm-1 파수 범위에서의 퓨리에 변환-적외선 분광을 측정하였다. 그런 다음, 시편에 제1 광 조사 단계를 수행한 후 400~4,000 cm-1 파수 범위에서의 퓨리에 변환-적외선 분광을 재측정하였으며, 그 결과를 도 3에 나타내었다.In order to confirm changes in the surface treatment layer according to the first light irradiation step, Fourier transform-infrared spectroscopy analysis was performed. Specifically, the acrylic resin composition obtained in Preparation Example 3 was applied to a polyvinyl chloride (PVC) specimen measuring 10 cm wide was measured. Then, after performing the first light irradiation step on the specimen, Fourier transform-infrared spectroscopy in the wavenumber range of 400 to 4,000 cm -1 was remeasured, and the results are shown in FIG. 3.
도 3을 살펴보면, 제1 광 조사 단계는 표면 처리층에 형성되는 주름 구조의 크기와 빈도를 제어하는 것을 알 수 있다.Looking at Figure 3, it can be seen that the first light irradiation step controls the size and frequency of the wrinkle structure formed in the surface treatment layer.
구체적으로, 실시예 1에서 준비된 바닥재 시편에 대한 퓨리에 변환-적외선 분광 그래프를 참고하면, 아크릴 수지 조성물은 제1 광 조사 단계 전 퓨리에 변환-적외선 분광(FT-IR) 측정 시 810.2±2 cm-1의 파수 범위에서 나타나는 C=C 결합의 스트레칭 피크를 갖는 것을 확인할 수 있는데, 상기 피크는 제1 광 조사 단계 후 그 강도가 작아지는 것을 확인할 수 있다. 보다 구체적으로, 상기 피크는 제1 광 조사 단계 이후 강도가 작아지므로, 제1 광 조사 단계 이전의 피크 면적 (Aacryl) 대비 제1 광 조사 단계 이후의 피크 면적 (Aharden)의 비율(Aharden/Aacryl)이 0.5 내지 0.7인 것을 확인할 수 있다. 이는 아크릴 수지 조성물이 제1 광 조사 단계 이후 약 30% 내지 50%의 경화가 진행됨을 의미한다.Specifically, referring to the Fourier transform-infrared spectroscopy graph for the flooring specimen prepared in Example 1, the acrylic resin composition was 810.2±2 cm -1 when measured by Fourier transform-infrared spectroscopy (FT-IR) before the first light irradiation step. It can be confirmed that there is a stretching peak of the C=C bond that appears in the wavenumber range of , and it can be confirmed that the intensity of the peak decreases after the first light irradiation step. More specifically, since the intensity of the peak becomes smaller after the first light irradiation step, the ratio of the peak area (A acryl ) before the first light irradiation step to the peak area (A harden ) after the first light irradiation step (A harden /A acryl ) can be confirmed to be 0.5 to 0.7. This means that the acrylic resin composition is cured by about 30% to 50% after the first light irradiation step.
이와 같은 제1 광 조사 단계에서의 아크릴 수지 조성물의 일부 경화는 제2 광 조사 단계에서 형성된 엑시머가 아크릴 수지 조성물의 표면에 주름 구조를 형성하는 정도를 약화시켜 주름 구조의 크기를 작게 하고 빈도를 증가시킬 수 있음을 알 수 있다Partial curing of the acrylic resin composition in the first light irradiation step weakens the extent to which the excimer formed in the second light irradiation step forms a wrinkle structure on the surface of the acrylic resin composition, thereby reducing the size of the wrinkle structure and increasing the frequency. I can see that it can be done.
실험예 3.Experimental Example 3.
본 발명에 따른 바닥재의 광택성, 내오염성 및 왁스 친화성을 평가하기 위하여 실시예 1과 비교예 1 내지 6에서 제조된 시편을 대상으로 광택도, 내오염성 및 왁스 친화도를 측정하였다. 구체적인 측정방법은 다음과 같으며, 측정된 결과는 하기 표 5에 나타내었다:In order to evaluate the gloss, stain resistance, and wax affinity of the flooring material according to the present invention, the gloss, stain resistance, and wax affinity were measured for the specimens prepared in Example 1 and Comparative Examples 1 to 6. The specific measurement method is as follows, and the measured results are shown in Table 5 below:
가) 광택도 평가A) Glossiness evaluation
실시예 및 비교예의 시편들을 대상으로 광택 측정기(Gloss Meter)를 이용하여 60° 광택도(글로스 60° 조건) 를 측정하였다.The 60° glossiness (gloss 60° condition) was measured using a gloss meter for the specimens of Examples and Comparative Examples.
나) 내오염성 (깔끄미) 평가B) Contamination resistance (staining resistance) evaluation
KS M 3802에 따라 시험을 수행하되, 오염 재료로서 보드마카를 사용하여 표면에 약 10 cm의 선을 긋고 이후 30초가 경과하면 킴와이프스로 그어진 선을 문질러 제거하여 최초 오염면적 기준으로 지워지지 않고 잔류하는 면적 (예컨대, 흔적이나 번짐)을 육안으로 확인하였으며, 그 결과를 하기의 기준에 따라 분류하였다:The test is performed in accordance with KS M 3802, but a line of approximately 10 cm is drawn on the surface using a board marker as a contamination material. After 30 seconds, the drawn line is removed by rubbing with a Kimwipe to remove any residue that is not erased based on the initial contamination area. Areas (e.g., traces or smears) were confirmed visually, and the results were classified according to the following criteria:
- 1등급: 최초 오염면적 기준 잔류하는 면적이 90% 이상- Grade 1: Based on the initial contaminated area, the remaining area is more than 90%
- 2등급: 최초 오염면적 기준 잔류하는 면적이 60% 이상 90% 미만- Grade 2: Based on the initial contaminated area, the remaining area is more than 60% but less than 90%.
- 3등급: 최초 오염면적 기준 잔류하는 면적이 20% 이상 60% 미만- Grade 3: Based on the initial contaminated area, the remaining area is more than 20% and less than 60%.
- 4등급: 최초 오염면적 기준 잔류하는 면적이 5% 이상 20% 미만- Grade 4: Based on the initial contaminated area, the remaining area is more than 5% and less than 20%.
- 5등급: 최초 오염면적 기준 잔류하는 면적이 5% 미만- Grade 5: Based on the initial contaminated area, the remaining area is less than 5%
다) 왁스 친화도 평가 I: 크로스-컷c) Wax affinity evaluation I: cross-cut
실시예 및 비교예의 시편들 표면에 각각 7.5±2.5㎛ 두께로 왁스를 도포하고 24분 동안 건조 시켜 표면 처리층 상에 왁스를 코팅하였다. 그런 다음, ASTM D3359의 A 평가방법에 따라 적층 필름의 표면을 칼로 30~45°의 각도 및 약 40㎜ (1.5 inch) 길이를 갖는 X자 커팅을 하였다. 그 후 커팅된 표면에 X자를 따라 테이프(길이 약 75㎜ (3inch))를 견고하게 붙이고 빠르게 떼어내어 커팅된 X자의 박리 상태를 확인하였다. 확인된 박리 상태에 따라 부여하였으며, 그 기준은 다음과 같다:Wax was applied to the surfaces of the specimens of Examples and Comparative Examples to a thickness of 7.5 ± 2.5 μm, dried for 24 minutes, and the wax was coated on the surface treatment layer. Then, according to evaluation method A of ASTM D3359, the surface of the laminated film was cut with a knife in an Afterwards, a tape (about 75 mm (3 inches) in length) was firmly attached along the X shape to the cut surface and quickly removed to check the peeling state of the cut X shape. It was given according to the confirmed delamination condition, and the criteria were as follows:
0 등급: X자 영역이 완전히 벗겨짐,Grade 0: X-shaped area completely peeled off;
1 등급: 전체 면적의 약 50% 이상의 박리가 확인됨,Grade 1: Delamination of approximately 50% or more of the total area is confirmed;
2 등급: 커팅된 X자의 직선 부위 양 옆으로 최대 3.2㎜ (1/8 inch)의 박리가 지그재그로 확인됨,Grade 2: Delamination of up to 3.2 mm (1/8 inch) is observed in a zigzag pattern on both sides of the straight section of the cut X.
3 등급: 커팅된 X자의 직선 부위 양 옆으로 약 1.6㎜ (1/6 inch) 내외의 박리가 지그재그로 확인됨,Grade 3: Zigzag peeling of approximately 1.6 mm (1/6 inch) was observed on both sides of the straight line of the cut X.
4 등급: 커팅된 X자의 직선 부위 또는 교차점을 따라 전체 면적의 약 5% 이하의 박리 또는 제거 흔적이 확인됨,Grade 4: Traces of peeling or removal of approximately 5% or less of the total area are confirmed along the straight line or intersection of the cut X;
5 등급: 커팅된 표면의 박리가 확인되지 않음.Grade 5: No delamination of cut surfaces observed.
라) 왁스 친화도 평가 II: 왁스 액적의 평균 크기 측정d) Wax affinity evaluation II: Measurement of average size of wax droplets
실시예 및 비교예의 시편들 표면에 22±2℃에서, 3g의 왁스 (아크릴 수지 및 물을 50~70 중량%로 포함하는 혼합액)를 떨어뜨리고, 스펀지를 이용하여 단위 면적(200 mm X 200 mm)을 모두 채우도록 도포하였다. 그 후 1분 경과하면 도포된 왁스의 면적을 측정하고, 최초 도포 면적 대비 1분 경과 후 도포된 면적 비율을 산출하였다.At 22 ± 2°C, 3g of wax (mixture containing 50-70% by weight of acrylic resin and water) was dropped on the surfaces of the specimens of Examples and Comparative Examples, and a unit area (200 mm ) was applied to fill all of the area. After 1 minute, the area of the applied wax was measured, and the ratio of the area applied after 1 minute compared to the initial application area was calculated.
왁스 도포 면적율After 1 minute
Wax application area rate
상기 표 5에 나타낸 바와 같이 본 발명에 따른 바닥재는 광택도가 3 이하로 현저히 낮고, 우수한 내오염성 및 왁스 친화성을 동시에 구현된 것을 알 수 있다.As shown in Table 5, it can be seen that the flooring material according to the present invention has a significantly low gloss of 3 or less, and has excellent stain resistance and wax affinity at the same time.
구체적으로, 실시예 1의 바닥재 시편은 10 중량% 미만의 소량의 소광제를 사용하여도 글로스 60° 조건에서의 광택도가 2.0 미만이고, 내오염성이 뛰어나 요오드 오염 전후 육안으로 표면에 오염 흔적이 확인되지 않았으며, 보드마카 오염 및 세척 후 오염 면적이 5% 미만인 것으로 나타났다. 뿐만 아니라, 상기 바닥재 시편은 왁스 친화성이 우수하여 코팅된 왁스를 크로스-컷 탈착을 수행해도 왁스의 박리가 발생하지 않고, 표면에 왁스를 도포하고 1분이 경과된 후에도 최초 도포된 면적을 100% 유지하는 것으로 확인되었다.Specifically, the flooring specimen of Example 1 had a gloss of less than 2.0 under a gloss condition of 60° even when a small amount of less than 10% by weight of matting agent was used, and had excellent stain resistance, so there were no traces of contamination on the surface with the naked eye before and after iodine contamination. It was not confirmed, and the contaminated area after board marker contamination and washing was found to be less than 5%. In addition, the flooring specimen has excellent wax affinity, so peeling of the wax does not occur even when the coated wax is cross-cut and detached, and even after 1 minute after applying the wax to the surface, 100% of the initially applied area is maintained. confirmed to be maintained.
이러한 결과로부터 본 발명에 따른 바닥재는 표면 처리층에 다관능성의 우레탄 아크릴레이트 올리고머와 실리콘 아크릴레이트 올리고머를 특정 비율로 포함하고, 표면 처리층의 표면에 미세 주름 구조를 높은 빈도로 구현하여 별도의 첨가제 없이 낮은 광택도를 구현하고, 내오염성 및 왁스 친화성이 모두 우수한 것을 알 수 있다.From these results, the flooring material according to the present invention contains multifunctional urethane acrylate oligomer and silicone acrylate oligomer in a specific ratio in the surface treatment layer, and a fine wrinkle structure is implemented at a high frequency on the surface of the surface treatment layer, so that no separate additive is used. It can be seen that low gloss is achieved without any staining, and both stain resistance and wax affinity are excellent.
Claims (11)
상기 표면 처리층은 평균 두께가 10㎛ 내지 30㎛이며,
단위 면적 당(0.1 mm X 0.1 mm) 5 내지 20개의 주름을 포함하는 표면 구조를 가지며,
단위 면적(200 mm X 200 mm)에 3g의 왁스를 도포하는 경우, 1분 경과 후 도포된 왁스의 면적은 최초 도포 면적의 90% 이상인 바닥재.
It includes a base layer and a surface treatment layer of an acrylic resin composition;
The surface treatment layer has an average thickness of 10㎛ to 30㎛,
It has a surface structure containing 5 to 20 wrinkles per unit area (0.1 mm
When applying 3g of wax to a unit area (200 mm
상기 표면 처리층은 7.5±2.5㎛ 두께로 왁스를 도포하고 24분 경과 후 ASTM D3359에 따른 크로스-컷 시험 수행 시 건조된 왁스의 전체 면적 중 박리 면적은 5% 이하인 특징으로 하는 바닥재.
According to paragraph 1,
The surface treatment layer is a flooring material characterized in that the peeling area is less than 5% of the total area of the dried wax when the wax is applied to a thickness of 7.5 ± 2.5㎛ and a cross-cut test according to ASTM D3359 is performed 24 minutes later.
표면 처리층의 표면 조도(Ra)는 2㎛ 이하인 바닥재.
According to paragraph 1,
Flooring material whose surface roughness (Ra) of the surface treatment layer is 2㎛ or less.
바닥재는 보드마카 오염 30초 경과 후 세척된 표면 처리층의 잔류 오염면적이 최초 오염면적 기준 5% 미만인 바닥재.
According to paragraph 1,
Flooring is a flooring material in which the residual contamination area of the surface treatment layer cleaned after 30 seconds of board marker contamination is less than 5% of the initial contamination area.
표면 광택도가 글로스(Gloss) 60° 조건 하에서 3 미만인 바닥재.
According to paragraph 1,
Flooring material with a surface gloss of less than 3 under gloss conditions of 60°.
기재층은 하부에 비발포층, 유리 섬유층 및 인쇄층을 구비하는 바닥재.
According to paragraph 1,
The base layer is a flooring material including a non-foam layer, a glass fiber layer, and a printed layer at the bottom.
300㎚ 미만 파장의 광을 조사하여 일부 경화된 조성물 표면에 주름을 유도하는 제2 광 조사 단계, 및
질소 가스 (N2) 조건 하에서, 표면에 주름이 유도된 조성물에 200㎚ 내지 400㎚ 파장의 광을 조사하여 표면 처리층을 형성하는 제3 광 조사 단계를 포함하고;
하기 식 1을 만족하는 제1항의 바닥재의 제조방법:
[식 1] 0.5 ≤ Aharden/Aacryl ≤0.7
식 1에서,
Aacryl는 광 조사가 되지 않은 아크릴 수지 조성물에 대한 퓨리에-적외선 분광 분석 시 809.6±1 cm-1의 파수에 나타내는 피크의 면적을 의미하고,
Aharden는 제1 광조사 단계가 수행된 아크릴 수지 조성물에 대한 퓨리에-적외선 분광 분석 시 809.6±1 cm-1의 파수에 나타내는 피크의 면적을 의미한다.
A first light irradiation step of partially curing the composition by irradiating light with a wavelength of 200 nm to 400 nm in the air to the acrylic resin composition applied on the base layer,
A second light irradiation step of inducing wrinkles on the surface of the partially cured composition by irradiating light with a wavelength of less than 300 nm, and
A third light irradiation step of forming a surface treatment layer by irradiating light with a wavelength of 200 nm to 400 nm to the composition on which wrinkles are induced on the surface under nitrogen gas (N 2 ) conditions;
Method for producing the flooring material of claim 1 that satisfies the following formula 1:
[Equation 1] 0.5 ≤ A harden /A acryl ≤0.7
In equation 1,
A acryl refers to the area of the peak shown at a wave number of 809.6±1 cm -1 during Fourier-infrared spectroscopy analysis of an acrylic resin composition that has not been irradiated with light,
A harden refers to the area of the peak shown at a wave number of 809.6 ± 1 cm -1 during Fourier-infrared spectroscopy analysis of the acrylic resin composition on which the first light irradiation step was performed.
아크릴 수지 조성물은,
다관능성 아크릴레이트 올리고머 100 중량부에 대하여,
다관능성 아크릴레이트 모노머 40 내지 70 중량부; 및
단관능성 아크릴레이트 모노머 50 내지 70 중량부로 포함하는 바닥재의 제조방법.
According to clause 8,
The acrylic resin composition is,
For 100 parts by weight of multifunctional acrylate oligomer,
40 to 70 parts by weight of multifunctional acrylate monomer; and
A method of producing a flooring material comprising 50 to 70 parts by weight of a monofunctional acrylate monomer.
아크릴 수지 조성물은 실리콘 첨가제를 더 포함하는 바닥재의 제조방법.
According to clause 8,
A method of manufacturing a flooring material in which the acrylic resin composition further includes a silicone additive.
실리콘 첨가제의 함량은 다관능성 아크릴레이트 올리고머 100 중량부에 대하여 0.1 내지 5 중량부인 바닥재의 제조방법.According to clause 10,
A method for producing a flooring material in which the content of the silicone additive is 0.1 to 5 parts by weight based on 100 parts by weight of the multifunctional acrylate oligomer.
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