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KR102635093B1 - 플루오로알콕시드의 제조 방법 - Google Patents

플루오로알콕시드의 제조 방법 Download PDF

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KR102635093B1
KR102635093B1 KR1020217023298A KR20217023298A KR102635093B1 KR 102635093 B1 KR102635093 B1 KR 102635093B1 KR 1020217023298 A KR1020217023298 A KR 1020217023298A KR 20217023298 A KR20217023298 A KR 20217023298A KR 102635093 B1 KR102635093 B1 KR 102635093B1
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KR
South Korea
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oxygen atom
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KR1020217023298A
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Inventor
나오유키 호시야
요스케 기시카와
Original Assignee
다이킨 고교 가부시키가이샤
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Publication date
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Abstract

종래의 방법보다 유용한 플루오로알콕시드의 제조 방법 등의 제공을 과제로 한다. 상기 과제는, 다음 식 (1):

(식 중, R1은 탄소 원자 사이에 산소 원자를 포함하고 있어도 되는 플루오로알킬기, 또는 탄소 원자 사이에 산소 원자를 포함하고 있어도 되는 플루오로알콕시기이고, 각각의 R2는 서로 동일하거나 또는 다르며 탄화수소기임.)
로 표시되는 화합물의 제조 방법이며, 다음 식 (2):

로 표시되는 화합물을, 다음 식 (3):

로 표시되는 화합물과 반응시키는 공정을 포함하는 제조 방법에 의해 해결할 수 있다.

Description

플루오로알콕시드의 제조 방법
본 개시는, 플루오로알콕시드의 제조 방법 등에 관한 것이다.
플루오로알콕시드의 제조 방법으로서, 몇 가지의 방법이 알려져 있다.
예를 들어, 비특허문헌 1에는, 불화카르보닐을 불화칼륨과 반응시킴으로써, 칼륨퍼플루오로메톡시드가 얻어지는 것이 기재되어 있다.
특허문헌 1에는, CF3CF2CF2OCH3을 트리메틸아민과 반응시킴으로써, 테트라메틸암모늄퍼플루오로프로폭시드가 얻어지는 것이 기재되어 있다.
특허문헌 2에는, 트리플루오로아세틸플루오라이드를 트리스(디메틸아미노)술포늄디플루오로트리메틸실리케이트와 반응시킴으로써, 트리스(디메틸아미노)술포늄 퍼플루오로에톡시드가 얻어지는 것이 기재되어 있다.
일본 특허 공표 제2016-509597호 공보 미국 특허 제4628094호 명세서
Can. J. Chem. 1965, 42, 1893
비특허문헌 1에 기재된 방법에서는, 얻어지는 퍼플루오로알콕시드가 열에 불안정하다고 하는 문제가 있다.
특허문헌 1에 기재된 방법에서는, 원료의 CF3CF2CF2OCH3을 얻기 위해, 예를 들어 CF3CF2COF를 불화칼륨과 반응시키고, 해당 반응에 의해 얻어진 화합물을 황산디메틸과 반응시킬 필요가 있어, 공정수가 많아진다고 하는 문제가 있다.
특허문헌 2에 기재된 방법에서는, 트리스(디메틸아미노)술포늄디플루오로트리메틸실리케이트 등의 불소화제가 불안정하다고 하는 문제가 있다.
본 개시는, 종래의 방법보다 유용한 플루오로알콕시드의 제조 방법 등을 제공하는 것을 목적으로 한다.
본 개시는, 다음 양태를 포함한다.
항 1.
다음 식 (1):
(식 중, R1은 탄소 원자 사이에 산소 원자를 포함하고 있어도 되는 플루오로알킬기, 또는 탄소 원자 사이에 산소 원자를 포함하고 있어도 되는 플루오로알콕시기이고, 각각의 R2는 서로 동일하거나 또는 다르며 탄화수소기임.)
로 표시되는 화합물의 제조 방법이며,
다음 식 (2):
(식 중, R1은 상기와 동일 의미임.)
로 표시되는 화합물을, 다음 식 (3):
(식 중, R2는 상기와 동일 의미임.)
로 표시되는 화합물과 반응시키는 공정을 포함하는, 제조 방법.
항 2.
각각의 R2가 서로 동일하거나 또는 다르며 알킬기인, 항 1에 기재된 제조 방법.
항 3.
각각의 R2가 서로 동일하거나 또는 다르며 C1-4 알킬기인, 항 1 또는 2에 기재된 제조 방법.
항 4.
모든 R2가 메틸기인, 항 1 내지 3 중 어느 한 항에 기재된 제조 방법.
항 5.
R1이 탄소 원자 사이에 산소 원자를 포함하고 있어도 되는 퍼플루오로 C1-8 알킬기, 또는 탄소 원자 사이에 산소 원자를 포함하고 있어도 되는 퍼플루오로 C1-8 알콕시기인, 항 1 내지 4 중 어느 한 항에 기재된 제조 방법.
항 6.
상기 반응이, 할로겐계 용매, 우레아계 용매, 아미드계 용매, 술폭시드계 용매, 에스테르계 용매, 니트릴계 용매, 및 에테르계 용매로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1종의 용매의 존재하에서 실시되는, 항 1 내지 5 중 어느 한 항에 기재된 제조 방법.
항 7.
상기 반응이, 할로겐계 용매, 아미드계 용매, 니트릴계 용매, 및 에테르계 용매로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1종의 용매의 존재하에서 실시되는, 항 1 내지 6 중 어느 한 항에 기재된 제조 방법.
항 8.
상기 반응이, 니트릴계 용매의 존재하에서 실시되는, 항 1 내지 7 중 어느 한 항에 기재된 제조 방법.
항 9.
다음 식 (1):
(식 중, R1은 탄소 원자 사이에 산소 원자를 포함하고 있어도 되는 플루오로알킬기, 또는 탄소 원자 사이에 산소 원자를 포함하고 있어도 되는 플루오로알콕시기이고, 각각의 R2는 서로 동일하거나 또는 다르며 탄화수소기임.)
로 표시되는 화합물, 및 다음 식 (4):
(식 중, Ra는 탄소 원자 사이에 산소 원자를 포함하고 있어도 되는 플루오로알킬기, 또는 탄소 원자 사이에 산소 원자를 포함하고 있어도 되는 플루오로알콕시기이고, 각각의 Rb는 서로 동일하거나 또는 다르며 탄화수소기임.)
로 표시되는 화합물을 함유하는 조성물이며,
상기 식 (1)로 표시되는 화합물의 함유율(몰 비율)은, 상기 식 (1)로 표시되는 화합물의 함유율 및 상기 식 (4)로 표시되는 화합물의 함유율의 합계를 100％로 하였을 때, 70％ 이상인 조성물.
항 10.
각각의 R2가 서로 동일하거나 또는 다르며 알킬기이고, 및 각각의 Rb가 서로 동일하거나 또는 다르며 알킬기인, 항 9에 기재된 조성물.
항 11.
각각의 R2가 서로 동일하거나 또는 다르며 C1-4 알킬기이고, 및 각각의 Rb가 서로 동일하거나 또는 다르며 C1-4 알킬기인, 항 9 또는 10에 기재된 조성물.
항 12.
모든 R2가 메틸기이고, 및 모든 Rb가 메틸기인, 항 9 내지 11 중 어느 한 항에 기재된 조성물.
항 13.
R1이 탄소 원자 사이에 산소 원자를 포함하고 있어도 되는 퍼플루오로 C1-8 알킬기, 또는 탄소 원자 사이에 산소 원자를 포함하고 있어도 되는 퍼플루오로 C1-8 알콕시기이고, 및 Ra가 탄소 원자 사이에 산소 원자를 포함하고 있어도 되는 퍼플루오로 C1-8 알킬기, 또는 탄소 원자 사이에 산소 원자를 포함하고 있어도 되는 퍼플루오로 C1-8 알콕시기인,
항 9 내지 12 중 어느 한 항에 기재된 조성물.
항 14.
항 9 내지 13 중 어느 한 항에 기재된 조성물을 포함하는, 플루오로알콕시화제.
항 15.
다음 식 (5):
(식 중, R3은 탄소 원자 사이에 산소 원자를 포함하고 있어도 되는 플루오로알킬기, 또는 탄소 원자 사이에 산소 원자를 포함하고 있어도 되는 플루오로알콕시기이고, Q1은 유기기임.)
로 표시되는 화합물의 제조 방법이며,
다음 식 (6):
(식 중, R3은 상기와 동일 의미이고, 각각의 R4는 서로 동일하거나 또는 다르며 탄화수소기임.)
로 표시되는 화합물을, 다음 식 (7):
(식 중, Q1은 상기와 동일 의미이고, L은 탈리기임.)
로 표시되는 화합물과 반응시키는 공정을 포함하는, 제조 방법.
항 16.
Q1이 1개 이상의 치환기를 갖고 있어도 되는 탄화수소기인, 항 15에 기재된 제조 방법.
항 17.
L이 할로겐 원자인, 항 15 또는 16에 기재된 제조 방법.
항 18.
각각의 R4가 서로 동일하거나 또는 다르며 알킬기인, 항 15 내지 17 중 어느 한 항에 기재된 제조 방법.
항 19.
각각의 R4가 서로 동일하거나 또는 다르며 C1-4 알킬기인, 항 15 내지 18 중 어느 한 항에 기재된 제조 방법.
항 20.
모든 R4가 메틸기인, 항 15 내지 19 중 어느 한 항에 기재된 제조 방법.
항 21.
R3이 탄소 원자 사이에 산소 원자를 포함하고 있어도 되는 퍼플루오로 C1-8 알킬기, 또는 탄소 원자 사이에 산소 원자를 포함하고 있어도 되는 퍼플루오로 C1-8 알콕시기인, 항 15 내지 20 중 어느 한 항에 기재된 제조 방법.
항 22.
상기 반응이, 온도 0 내지 100℃의 범위 내에서, 1 내지 24시간의 범위 내에서 실시되는, 항 15 내지 21 중 어느 한 항에 기재된 제조 방법.
본 개시에 따르면, 종래의 방법보다 유용한 플루오로알콕시드의 제조 방법 등이 제공된다.
본 개시의 상기 개요는, 본 개시의 각각의 개시된 실시 형태 또는 모든 실장을 기술하는 것을 의도하는 것은 아니다.
본 개시의 후기 설명은, 실례의 실시 형태를 보다 구체적으로 예시한다.
본 개시의 몇 개소에서는, 예시를 통해 가이던스가 제공되며, 및 이 예시는 다양한 조합에 있어서 사용할 수 있다.
각각의 경우에 있어서 예시의 군은, 비배타적인, 및 대표적인 군으로서 기능할 수 있다.
본 명세서에서 인용한 모든 간행물, 특허 및 특허 출원은 그대로 인용에 의해 본 명세서에 포함될 수 있다.
용어
본 명세서 중의 기호 및 약호는, 특별히 한정이 없는 한, 본 명세서의 문맥을 따라, 본 개시가 속하는 기술분야에 있어서 통상 사용되는 의미로 이해할 수 있다.
본 명세서 중, 어구 「함유한다」는, 어구 「로부터 본질적으로 된다」, 및 어구 「로 이루어진다」를 포함하는 것을 의도하여 사용된다.
특별히 한정되지 않는 한, 본 명세서 중에 기재되어 있는 공정, 처리, 또는 조작은, 실온에서 실시될 수 있다.
본 명세서 중, 실온은, 10 내지 40℃의 범위 내의 온도를 의미할 수 있다.
본 명세서 중, 표기 「Cn-m」(여기서, n 및 m은, 각각 수임.)은, 당업자가 통상 이해하는 대로, 탄소수가 n 이상, 또한 m 이하인 것을 나타낸다.
본 명세서 중, 특별히 언급이 없는 한, 「할로겐 원자」로서는, 예를 들어 불소 원자, 염소 원자, 브롬 원자, 및 요오드 원자를 들 수 있다.
본 명세서 중, 「유기기」란, 유기 화합물로부터 1개의 수소 원자를 제거하여 형성되는 기를 의미한다.
당해 「유기기」로서는, 예를 들어
1개 이상의 치환기를 갖고 있어도 되는 탄화수소기,
1개 이상의 치환기를 갖고 있어도 되는 비방향족 복소환기
1개 이상의 치환기를 갖고 있어도 되는 헤테로아릴기,
시아노기,
알데히드기,
RO-,
RS-,
RCO-,
RSO2-,
ROCO-, 및
ROSO2-
(이들 식 중, R은, 독립적으로,
1개 이상의 치환기를 갖고 있어도 되는 탄화수소기,
1개 이상의 치환기를 갖고 있어도 되는 비방향족 복소환기, 또는
1개 이상의 치환기를 갖고 있어도 되는 헤테로아릴기임)
을 들 수 있다.
「치환기」로서는, 예를 들어 할로겐 원자, 시아노기, 아미노기, 알콕시기, 및 알킬티오기를 들 수 있다. 또한, 2개 이상의 치환기는, 서로 동일해도 되고 달라도 된다.
본 명세서 중, 특별히 언급이 없는 한, 「탄화수소기」로서는, 예를 들어 알킬기, 알케닐기, 알키닐기, 시클로알킬기, 시클로알케닐기, 시클로알카디에닐기, 아릴기, 및 아르알킬기를 들 수 있다.
본 명세서 중, 특별히 언급이 없는 한, 「알킬기」로서는, 예를 들어 메틸, 에틸, 프로필(n-프로필, 이소프로필), 부틸(n-부틸, 이소부틸, sec-부틸, tert-부틸), 펜틸, 및 헥실 등의, 직쇄 또는 분지쇄상의 C1-20 알킬기를 들 수 있다.
본 명세서 중, 특별히 언급이 없는 한, 「알콕시기」로서는, 예를 들어 메톡시, 에톡시, 프로폭시(n-프로폭시, 이소프로폭시), 부톡시(n-부톡시, 이소부톡시, sec-부톡시, tert-부톡시), 펜틸옥시, 및 헥실옥시 등의, 직쇄상 또는 분지쇄상의 C1-20 알콕시기를 들 수 있다.
본 명세서 중, 특별히 언급이 없는 한, 「알킬티오기」로서는, 예를 들어 메틸티오, 에틸티오, 프로필티오(n-프로필티오, 이소프로필티오), 부틸티오(n-부틸티오, 이소부틸티오, sec-부틸티오, tert-부틸티오), 펜틸티오, 및 헥실티오 등의, 직쇄상 또는 분지쇄상의 C1-20 알킬티오기를 들 수 있다.
본 명세서 중, 특별히 언급이 없는 한, 「알케닐기」로서는, 예를 들어 비닐, 1-프로펜-1-일, 2-프로펜-1-일, 이소프로페닐, 2-부텐-1-일, 4-펜텐-1-일, 및 5-헥센-1-일 등의, 직쇄상 또는 분지쇄상의 C2-20 알케닐기를 들 수 있다.
본 명세서 중, 특별히 언급이 없는 한, 「알키닐기」로서는, 예를 들어 에티닐, 1-프로핀-1-일, 2-프로핀-1-일, 4-펜틴-1-일, 및 5-헥신-1-일 등의, 직쇄상 또는 분지쇄상의 C2-20 알키닐기를 들 수 있다.
본 명세서 중, 특별히 언급이 없는 한, 「시클로알킬기」로서는, 예를 들어 시클로프로필, 시클로부틸, 시클로펜틸, 시클로헥실, 및 시클로헵틸 등의, C3-10 시클로알킬기를 들 수 있다.
본 명세서 중, 특별히 언급이 없는 한, 「시클로알케닐기」로서는, 예를 들어 시클로프로페닐, 시클로부테닐, 시클로펜테닐, 시클로헥세닐, 및 시클로헵테닐 등의, C3-10 시클로알케닐기를 들 수 있다.
본 명세서 중, 특별히 언급이 없는 한, 「시클로알카디에닐기」로서는, 예를 들어 시클로부타디에닐, 시클로펜타디에닐, 시클로헥사디에닐, 시클로헵타디에닐, 시클로옥타디에닐, 시클로노나디에닐, 및 시클로데카디에닐 등의, C4-10 시클로알카디에닐기를 들 수 있다.
본 명세서 중, 특별히 언급이 없는 한, 「아릴기」는, 단환성, 2환성, 3환성, 또는 4환성일 수 있다.
본 명세서 중, 특별히 언급이 없는 한, 「아릴기」는, C6-18 아릴기일 수 있다.
본 명세서 중, 특별히 언급이 없는 한, 「아릴기」로서는, 예를 들어 페닐, 1-나프틸, 2-나프틸, 2-비페닐, 3-비페닐, 4-비페닐, 및 2-안트릴을 들 수 있다.
본 명세서 중, 특별히 언급이 없는 한, 「아르알킬기」로서는, 예를 들어 벤질, 페네틸, 디페닐메틸, 1-나프틸메틸, 2-나프틸메틸, 2,2-디페닐에틸, 3-페닐프로필, 4-페닐부틸, 5-페닐펜틸, 2-비페닐메틸, 3-비페닐메틸, 및 4-비페닐메틸을 들 수 있다.
본 명세서 중, 「비방향족 복소환기」란, 비방향족 복소환으로부터 1개의 수소 원자를 제거하여 형성되는 기를 의미한다.
본 명세서 중, 특별히 언급이 없는 한, 「비방향족 복소환기」는, 단환성, 2환성, 3환성, 또는 4환성일 수 있다.
본 명세서 중, 특별히 언급이 없는 한, 「비방향족 복소환기」는, 포화, 또는 불포화일 수 있다.
본 명세서 중, 특별히 언급이 없는 한, 「비방향족 복소환기」는, 예를 들어 5 내지 18원의 비방향족 복소환기일 수 있다.
본 명세서 중, 특별히 언급이 없는 한, 「비방향족 복소환기」는, 예를 들어 환 구성 원자로서, 탄소 원자에 더하여 산소 원자, 황 원자, 및 질소 원자에서 선택되는 1 내지 4개의 헤테로 원자를 함유하는 비방향족 복소환기일 수 있다.
본 명세서 중, 특별히 언급이 없는 한, 「비방향족 복소환기」로서는, 예를 들어 테트라히드로푸릴, 옥사졸리디닐, 이미다졸리닐(예: 1-이미다졸리닐, 2-이미다졸리닐, 4-이미다졸리닐), 아지리디닐(예: 1-아지리디닐, 2-아지리디닐), 피롤리디닐(예: 1-피롤리디닐, 2-피롤리디닐, 3-피롤리디닐), 피페리디닐(예: 1-피페리디닐, 2-피페리디닐, 3-피페리디닐), 아제파닐(예: 1-아제파닐, 2-아제파닐, 3-아제파닐, 4-아제파닐), 아조카닐(예: 1-아조카닐, 2-아조카닐, 3-아조카닐, 4-아조카닐), 피페라지닐(예: 1,4-피페라진-1-일, 1,4-피페라진-2-일), 디아제피닐(예: 1,4-디아제핀-1-일, 1,4-디아제핀-2-일, 1,4-디아제핀-5-일, 1,4-디아제핀-6-일), 디아조카닐(예: 1,4-디아조칸-1-일, 1,4-디아조칸-2-일, 1,4-디아조칸-5-일, 1,4-디아조칸-6-일, 1,5-디아조칸-1-일, 1,5-디아조칸-2-일, 1,5-디아조칸-3-일), 테트라히드로피라닐(예: 테트라히드로푸란-4-일), 모르폴리닐(예: 4-모르폴리닐), 티오모르폴리닐(예: 4-티오모르폴리닐), 2-옥사졸리디닐, 디히드로푸릴, 디히드로피라닐, 및 디히드로퀴놀릴 등을 들 수 있다.
본 명세서 중, 특별히 언급이 없는 한, 「헤테로아릴기」는, 단환성, 2환성, 3환성, 또는 4환성일 수 있다.
본 명세서 중, 특별히 언급이 없는 한, 「헤테로아릴기」는, 예를 들어 5 내지 18원의 헤테로아릴기일 수 있다.
본 명세서 중, 특별히 언급이 없는 한, 「헤테로아릴기」는, 예를 들어 환 구성 원자로서, 탄소 원자에 더하여 산소 원자, 황 원자, 및 질소 원자에서 선택되는 1 내지 4개의 헤테로 원자를 함유하는 헤테로아릴기일 수 있다.
본 명세서 중, 특별히 언급이 없는 한, 「헤테로아릴기」는, 「단환성 헤테로아릴기」 및 「방향족 축합 복소환기」를 포함한다.
본 명세서 중, 특별히 언급이 없는 한, 「단환성 헤테로아릴기」로서는, 예를 들어 피롤릴(예: 1-피롤릴, 2-피롤릴, 3-피롤릴), 푸릴(예: 2-푸릴, 3-푸릴), 티에닐(예: 2-티에닐, 3-티에닐), 피라졸릴(예: 1-피라졸릴, 3-피라졸릴, 4-피라졸릴), 이미다졸릴(예: 1-이미다졸릴, 2-이미다졸릴, 4-이미다졸릴), 이소옥사졸릴(예: 3-이소옥사졸릴, 4-이소옥사졸릴, 5-이소옥사졸릴), 옥사졸릴(예: 2-옥사졸릴, 4-옥사졸릴, 5-옥사졸릴), 이소티아졸릴(예: 3-이소티아졸릴, 4-이소티아졸릴, 5-이소티아졸릴), 티아졸릴(예: 2-티아졸릴, 4-티아졸릴, 5-티아졸릴), 트리아졸릴(예: 1,2,3-트리아졸-3-일, 1,2,4-트리아졸-4-일), 옥사디아졸릴(예: 1,2,4-옥사디아졸-3-일, 1,2,4-옥사디아졸-5-일), 티아디아졸릴(예: 1,2,4-티아디아졸-3-일, 1,2,4-5-일), 테트라졸릴, 피리딜(예: 2-피리딜, 3-피리딜, 4-피리딜), 피리다지닐(예: 3-피리다지닐, 4-피리다지닐), 피리미디닐(예: 2-피리미디닐, 4-피리미디닐, 5-피리미디닐), 및 피라지닐 등을 들 수 있다.
본 명세서 중, 특별히 언급이 없는 한, 「방향족 축합 복소환기」로서는, 예를 들어 이소인돌릴(예, 1-이소인돌릴, 2-이소인돌릴, 3-이소인돌릴, 4-이소인돌릴, 5-이소인돌릴, 6-이소인돌릴, 7-이소인돌릴), 인돌릴(예, 1-인돌릴, 2-인돌릴, 3-인돌릴, 4-인돌릴, 5-인돌릴, 6-인돌릴, 7-인돌릴), 벤조[b]푸라닐(예, 2-벤조[b]푸라닐, 3-벤조[b]푸라닐, 4-벤조[b]푸라닐, 5-벤조[b]푸라닐, 6-벤조[b]푸라닐, 7-벤조[b]푸라닐), 벤조[c]푸라닐(예, 1-벤조[c]푸라닐, 4-벤조[c]푸라닐, 5-벤조[c]푸라닐), 벤조[b]티에닐, (예, 2-벤조[b]티에닐, 3-벤조[b]티에닐, 4-벤조[b]티에닐, 5-벤조[b]티에닐, 6-벤조[b]티에닐, 7-벤조[b]티에닐), 벤조[c]티에닐(예, 1-벤조[c]티에닐, 4-벤조[c]티에닐, 5-벤조[c]티에닐), 인다졸릴(예, 1-인다졸릴, 2-인다졸릴, 3-인다졸릴, 4-인다졸릴, 5-인다졸릴, 6-인다졸릴, 7-인다졸릴), 벤조이미다졸릴(예, 1-벤조이미다졸릴, 2-벤조이미다졸릴, 4-벤조이미다졸릴, 5-벤조이미다졸릴), 1,2-벤조이소옥사졸릴(예, 1,2-벤조이소옥사졸-3-일, 1,2-벤조이소옥사졸-4-일, 1,2-벤조이소옥사졸-5-일, 1,2-벤조이소옥사졸-6-일, 1,2-벤조이소옥사졸-7-일), 벤조옥사졸릴(예, 2-벤조옥사졸릴, 4-벤조옥사졸릴, 5-벤조옥사졸릴, 6-벤조옥사졸릴, 7-벤조옥사졸릴), 1,2-벤조이소티아졸릴(예, 1,2-벤조이소티아졸-3-일, 1,2-벤조이소티아졸-4-일, 1,2-벤조이소티아졸-5-일, 1,2-벤조이소티아졸-6-일, 1,2-벤조이소티아졸-7-일), 벤조티아졸릴(예, 2-벤조티아졸릴, 4-벤조티아졸릴, 5-벤조티아졸릴, 6-벤조티아졸릴, 7-벤조티아졸릴), 이소퀴놀릴(예, 1-이소퀴놀릴, 3-이소퀴놀릴, 4-이소퀴놀릴, 5-이소퀴놀릴), 퀴놀릴(예, 2-퀴놀릴, 3-퀴놀릴, 4-퀴놀릴, 5-퀴놀릴, 8-퀴놀릴), 신놀리닐(예, 3-신놀리닐, 4-신놀리닐, 5-신놀리닐, 6-신놀리닐, 7-신놀리닐, 8-신놀리닐), 프탈라지닐(예, 1-프탈라지닐, 4-프탈라지닐, 5-프탈라지닐, 6-프탈라지닐, 7-프탈라지닐, 8-프탈라지닐), 퀴나졸리닐(예, 2-퀴나졸리닐, 4-퀴나졸리닐, 5-퀴나졸리닐, 6-퀴나졸리닐, 7-퀴나졸리닐, 8-퀴나졸리닐), 퀴녹살리닐(예, 2-퀴녹살리닐, 3-퀴녹살리닐, 5-퀴녹살리닐, 6-퀴녹살리닐, 7-퀴녹살리닐, 8-퀴녹살리닐), 피라졸로[1,5-a]피리딜(예, 피라졸로[1,5-a]피리딘-2-일, 피라졸로[1,5-a]피리딘-3-일, 피라졸로[1,5-a]피리딘-4-일, 피라졸로[1,5-a]피리딘-5-일, 피라졸로[1,5-a]피리딘-6-일, 피라졸로[1,5-a]피리딘-7-일), 이미다조[1,2-a]피리딜(예, 이미다조[1,2-a]피리딘-2-일, 이미다조[1,2-a]피리딘-3-일, 이미다조[1,2-a]피리딘-5-일, 이미다조[1,2-a]피리딘-6-일, 이미다조[1,2-a]피리딘-7-일 및 이미다조[1,2-a]피리딘-8-일) 등을 들 수 있다.
본 명세서 중, 특별히 언급이 없는 한, 「탄소 원자 사이에 산소 원자를 포함하고 있어도 되는 플루오로알킬기」로서는, 예를 들어
CF3-,
CH3-CF2-,
CHF2-CH2-,
CF3-CH2-,
CF3-CF2-,
CF3-CF2-CH2-,
CF3-CF2-CF2-,
(CF3)2CF-,
CF3-O-CF2-,
CF3-O-CF(CF3)-,
CF3-CF2-CF2-CF2-,
CF3-CF2-CF(CF3)-CF2-,
CF3-O-CH2-CH2-,
CF3-O-CH(CF3)-CH2-,
CF3-O-CF2-CF2-,
(CF3CF2)(CF2)CF-,
(CF3)3C-,
CF3-CF2-O-CF2-,
CF3-CF2-CF2-CF2-CF2-,
CF3-CF2-O-CF2-CF2-,
CF3-O-CF2-O-CF2-,
CF3-CF2-CF2-CF2-CF2-CF2-,
CF3-CF2-CF2-O-CH2-CF2-,
CF3-CF2-CF2-O-CF2-CF2-,
CF3-CF2-CF2-CF2-CF2-CF2-CF2-,
CF3-CF2-CF2-CF2-CF2-CF2-CF2-CF2-,
CHF2-CF2-CF2-CF2-CF2-CF2-CF2-CH2-
CF3-CF(CF3)-CF2-,
CF3-CF2-CF(CF3)-,
CF3-CF2-CF2-O-CF(CF3)-CF2-
CF3-CF2-CF2-O-CF(CF3)-CF2-O-CF(CF3)-CF2-
CF3-CF2-CF2-O-[CF(CF3)-CF2-O-]2-CF(CF3)-CF2-
등의, 직쇄상 또는 분지쇄상의, 플루오로 C1-10 알킬기, 플루오로 C1-4 알콕시플루오로 C1-4 알킬기, 또는 플루오로 C1-4 알콕시플루오로 C1-4 알콕시플루오로 C1-4 알킬기를 들 수 있다.
본 명세서 중, 특별히 언급이 없는 한, 「탄소 원자 사이에 산소 원자를 포함하고 있어도 되는 플루오로알콕시기」로서는, 예를 들어
CF3-O-,
CF3-CH2-O-,
CF3-CF2-O-,
CF3-CF2-CF2-O-,
CF3-CF2-CF2-CF2-O-,
CF3-O-CF2-O-,
CF3-O-CF2-CF2-CF2-O-,
CF3-O-CH2-CF2-CF2-O-
CF3-CF2-O-CF2-CF2-O-,
CF3-CF2-CF2-O-CH2-CF2-CF2-O-,
CF3-CF2-CF2-O-CF2-CF2-CF2-O-,
CF3-CF(CF3)-O-,
CF3-CF2-CF(CF3)-O-,
CF3-CF(CF3)-CF(CF3)-O-,
CF3-CF2-CF2-O-CF(CF3)-CF2-O-,
CF3-CF2-CF2-O-[CF(CF3)-CF2-O-]2-O-,
CF3-CF2-CF2-O-[CF(CF3)-CF2-O-]3-O-
등의, 직쇄상 또는 분지쇄상의, 플루오로 C1-10 알콕시기, 플루오로 C1-4 알콕시플루오로 C1-4 알콕시기를 들 수 있다.
식 (1)로 표시되는 화합물의 제조 방법
본 개시의 다음 식 (1):
(식 중, R1은 탄소 원자 사이에 산소 원자를 포함하고 있어도 되는 플루오로알킬기, 또는 탄소 원자 사이에 산소 원자를 포함하고 있어도 되는 플루오로알콕시기이고, 각각의 R2는 서로 동일하거나 또는 다르며 탄화수소기임.)
로 표시되는 화합물의 제조 방법은, 일 실시 양태에 있어서, 다음 식 (2):
(식 중, R1은 상기와 동일 의미임.)
로 표시되는 화합물을, 다음 식 (3):
(식 중, R2는 상기와 동일 의미임.)
로 표시되는 화합물과 반응시키는 공정을 포함하는 제조 방법이다. 이 방법에 의하면, 금속 프리이며 열에 안정된 플루오로알콕시드를 간편하게 제조할 수 있다.
식 (1) 및 (2)에 있어서, R1은 바람직하게는 탄소 원자 사이에 산소 원자를 포함하고 있고 있어도 되는 퍼플루오로알킬기, 또는 탄소 원자 사이에 산소 원자를 포함하고 있어도 되는 퍼플루오로알콕시기이고, 보다 바람직하게는 탄소 원자 사이에 산소 원자를 포함하고 있어도 되는 퍼플루오로 C1-8 알킬기, 또는 탄소 원자 사이에 산소 원자를 포함하고 있어도 되는 퍼플루오로 C1-8 알콕시기이다.
식 (1) 및 (3)에 있어서, 각각의 R2는 바람직하게는 알킬기, 아릴기, 또는 아르알킬기이고, 보다 바람직하게는 알킬기이고, 보다 더 바람직하게는 C1-4 알킬기이다. 반응성 및 열 안정성의 점에서, 모든 R2가 메틸기인 것도 바람직하다.
식 (3)으로 표시되는 화합물의 적합한 예는, 하기에 나타나는 화합물을 포함한다:
(식 중, Me은 메틸기이고, Et는 에틸기이고, Pr은 프로필기이고, Bu는 부틸기임.)
식 (3)으로 표시되는 화합물의 사용량의 하한은, 식 (2)로 표시되는 화합물 1몰에 대해, 통상 0.1몰, 바람직하게는 0.2몰, 0.3몰, 0.4몰, 또는 0.5몰일 수 있다.
식 (3)으로 표시되는 화합물의 사용량의 상한은, 식 (2)로 표시되는 화합물 1몰에 대해, 통상 10몰, 바람직하게는 5몰, 4몰, 3몰, 또는 2몰일 수 있다.
식 (3)으로 표시되는 화합물의 사용량은, 식 (2)로 표시되는 화합물 1몰에 대해, 통상 0.1 내지 10몰, 바람직하게는 0.2 내지 5몰, 더욱 바람직하게는 0.5 내지 2몰의 범위 내이다.
식 (2)로 표시되는 화합물과 식 (3)으로 표시되는 화합물의 반응은, 바람직하게는 용매의 존재하에서 실시된다.
용매의 예로서는, 예를 들어
탄화수소 용매(예: n-헥산 등의 쇄상 탄화수소, 벤젠, 톨루엔, p-크실렌 등의 방향족 탄화수소);
할로겐계 용매(예: 디클로로메탄, 디클로로에탄 등의 할로알칸, 클로로벤젠 등의 할로아렌);
니트릴계 용매(예: 아세토니트릴, 프로피오니트릴, 아크릴로니트릴 등의 쇄상 니트릴; 벤조니트릴 등의 환상 니트릴);
아미드계 용매[예: 카르복실산아미드(예: 포름아미드, N-메틸포름아미드, N,N-디메틸포름아미드 등의 쇄상 아미드, N-메틸피롤리돈 등의 환상 아미드), 인산 아미드(예: 헥사메틸인산아미드)];
에테르계 용매(예: 디에틸에테르 등의 쇄상 에테르, 테트라히드로푸란, 디옥산 등의 환상 에테르);
우레아계 용매(예: N,N-디메틸프로필렌우레아);
에스테르계 용매(예: 아세트산에스테르);
술폭시드계 용매(예: 디메틸술폭시드);
니트로계 용매(예: 니트로메탄, 니트로벤젠);
케톤계 용매(예: 아세톤, 메틸에틸케톤); 및
이들 2종 이상의 혼합 용매
등을 들 수 있다.
용매는, 바람직하게는 할로겐계 용매, 우레아계 용매, 아미드계 용매, 술폭시드계 용매, 에스테르계 용매, 니트릴계 용매, 에테르계 용매, 혹은 이들 2종 이상의 혼합 용매이고, 보다 바람직하게는 할로겐계 용매, 니트릴계 용매, 아미드계 용매, 또는 에테르계 용매, 혹은 이들 2종 이상의 혼합 용매이고, 보다 더 바람직하게는 니트릴계 용매이다.
식 (2)로 표시되는 화합물과 식 (3)으로 표시되는 화합물의 반응에 있어서, 반응 온도 및 반응 시간은 반응이 진행되는 한, 특별히 제한되는 것은 아니다. 반응은 가열에 의해 촉진시킬 수 있다.
반응 온도의 하한은, 예를 들어 -20℃, 바람직하게는 -10℃, -5℃, 0℃, 5℃, 10℃, 또는 15℃일 수 있다.
반응 온도의 상한은, 예를 들어 110℃, 바람직하게는 100℃, 90℃, 80℃, 70℃, 60℃, 50℃, 또는 40℃일 수 있다.
반응 온도는, 예를 들어 -20 내지 110℃, 바람직하게는 0 내지 70℃, 더욱 바람직하게는 15 내지 40℃의 범위 내이다.
반응 시간은, 예를 들어 0.5 내지 48시간, 바람직하게는 1 내지 24시간의 범위 내이다.
조성물
본 개시의 일 실시 양태의 조성물은, 식 (1)로 표시되는 화합물, 및 다음 식 (4):
(식 중, Ra는 탄소 원자 사이에 산소 원자를 포함하고 있어도 되는 플루오로알킬기, 또는 탄소 원자 사이에 산소 원자를 포함하고 있어도 되는 플루오로알콕시기이고, 각각의 Rb는 서로 동일하거나 또는 다르며 탄화수소기임.)
로 표시되는 화합물을 함유하는 조성물이다.
식 (1)로 표시되는 화합물은, 상기 「식 (1)로 표시되는 화합물의 제조 방법」에서 예시된 화합물에서 선택할 수 있다.
식 (4)에 있어서, Ra는 바람직하게는 탄소 원자 사이에 산소 원자를 포함하고 있어도 되는 퍼플루오로알킬기, 또는 탄소 원자 사이에 산소 원자를 포함하고 있어도 되는 퍼플루오로알콕시기이고, 보다 바람직하게는 탄소 원자 사이에 산소 원자를 포함하고 있어도 되는 퍼플루오로 C1-8 알킬기, 또는 탄소 원자 사이에 산소 원자를 포함하고 있어도 되는 퍼플루오로 C1-8 알콕시기이다.
식 (4)에 있어서, 각각의 Rb는 바람직하게는 알킬기, 아릴기, 또는 아르알킬기이고, 보다 바람직하게는 알킬기이고, 보다 더 바람직하게는 C1-4 알킬기이다. 모든 Rb가 메틸기인 것도 바람직하다.
식 (4)로 표시되는 화합물의 적합한 예는, -OC(＝O)Ra로 표시되는 음이온이 (퍼플루오로 C1-8 알킬)카르보닐옥시이며, 또한 +N(Rb)4로 표시되는 양이온이 하기:
(식 중, Me는 메틸기이고, Et는 에틸기이고, Pr은 프로필기이고, Bu는 부틸기임.)
에서 선택되는 화합물을 포함한다.
식 (4)로 표시되는 화합물은, 예를 들어 식 (1)로 표시되는 화합물의 가수 분해물일 수 있다. 이 경우, 식 (1)의 R1과 식 (4)의 Ra는 동일하고, 및 식 (1)의 R2와 식 (4)의 Rb는 동일하다.
식 (1)로 표시되는 화합물의 함유율(몰 비율)의 하한은, 식 (1)로 표시되는 화합물의 함유율 및 식 (4)로 표시되는 화합물의 함유율의 합계를 100％로 하였을 때, 통상 70％, 바람직하게는 80％, 더욱 바람직하게는 85％일 수 있다.
식 (1)로 표시되는 화합물의 함유율(몰 비율)의 상한은, 식 (1)로 표시되는 화합물의 함유율 및 식 (4)로 표시되는 화합물의 함유율의 합계를 100％로 하였을 때, 예를 들어 99％, 98％, 97％, 96％, 또는 95％일 수 있다.
식 (1)로 표시되는 화합물의 함유율(몰 비율)은, 식 (1)로 표시되는 화합물의 함유율 및 식 (4)로 표시되는 화합물의 함유율의 합계를 100％로 하였을 때, 예를 들어 70 내지 99％, 80 내지 99％, 또는 85 내지 99％의 범위 내일 수 있다.
식 (1)로 표시되는 화합물의 함유율은, 19F-NMR 스펙트럼에 있어서의 δ-20 내지 -40ppm의 피크(식 (1)로 표시되는 화합물에서 유래되는 피크)와 δ-112 내지 -118ppm의 피크(식 (4)로 표시되는 화합물에서 유래되는 피크)의 강도비로부터 계산되는 값이다.
플루오로알콕시화제
본 개시의 일 실시 양태의 플루오로알콕시화제는, 식 (1)로 표시되는 화합물, 및 식 (4)로 표시되는 화합물을 함유하는 조성물로 이루어진다. 플루오로알콕시화제에 포함되는 조성물은, 상기 「조성물」에서 예시된 것에서 선택할 수 있다.
플루오로알콕시화제는, 바람직하게는 퍼플루오로알콕시화제이다.
식 (5)로 표시되는 화합물의 제조 방법
본 개시의 다음 식 (5):
(식 중, R3은 탄소 원자 사이에 산소 원자를 포함하고 있어도 되는 플루오로알킬기, 또는 탄소 원자 사이에 산소 원자를 포함하고 있어도 되는 플루오로알콕시기이고, Q1은 유기기임.)
로 표시되는 화합물의 제조 방법은, 일 실시 양태에 있어서, 다음 식 (6):
(식 중, R3은 상기와 동일 의미이고, 각각의 R4는 서로 동일하거나 또는 다르며 탄화수소기임.)
로 표시되는 화합물을, 다음 식 (7):
(식 중, Q1은 상기와 동일 의미이고, L은 탈리기임.)
로 표시되는 화합물과 반응시키는 공정을 포함하는 제조 방법이다.
식 (5) 및 (6)에 있어서, R3은 바람직하게는 탄소 원자 사이에 산소 원자를 포함하고 있고 있어도 되는 퍼플루오로알킬기, 또는 탄소 원자 사이에 산소 원자를 포함하고 있어도 되는 퍼플루오로알콕시기이고, 보다 바람직하게는 탄소 원자 사이에 산소 원자를 포함하고 있어도 되는 퍼플루오로 C1-8 알킬기, 또는 탄소 원자 사이에 산소 원자를 포함하고 있어도 되는 퍼플루오로 C1-8 알콕시기이다.
식 (6)에 있어서, 각각의 R4는 바람직하게는 알킬기, 아릴기, 또는 아르알킬기이고, 보다 바람직하게는 알킬기이고, 보다 더 바람직하게는 C1-4 알킬기이다. 반응성 및 열 안정성의 점에서, 모든 R4가 메틸기인 것도 바람직하다.
식 (6)으로 표시되는 화합물의 적합한 예는, -OCF2R3으로 표시되는 음이온이 퍼플루오로 C1-9 알콕시드이고, 또한 +N(R4)4로 표시되는 양이온이 하기:
(식 중, Me는 메틸기이고, Et는 에틸기이고, Pr은 프로필기이고, Bu는 부틸기임.)
에서 선택되는 화합물을 포함한다.
식 (7)에 있어서, Q1은 바람직하게는 1개 이상의 치환기를 갖고 있어도 되는 탄화수소기이고, 보다 바람직하게는 탄화수소기이고, 보다 더 바람직하게는 알킬기, 알케닐기, 아릴기, 또는 아르알킬기이다.
L로 표시되는 탈리기로서는, 예를 들어 할로겐 원자(예: 염소, 브롬, 요오드), 알킬술포닐옥시(예: 메실옥시), 할로알킬술포닐옥시(예: 트리플루오로메틸옥시) 및 아릴술포닐옥시(예: 토실옥시)를 들 수 있다. L은, 바람직하게는 할로겐 원자이고, 보다 바람직하게는 염소, 브롬 및 요오드에서 선택되는 1종이다.
식 (7)로 표시되는 화합물의 적합한 예는, 알킬할라이드(예: 에틸브로마이드, 프로필브로마이드, 부틸브로마이드 등의 C2-20 알킬브로마이드, 이들 브롬이 염소로 치환된 C2-20 알킬클로라이드), 알케닐할라이드(예: 알릴브로마이드, 3-부테닐브로마이드, 4-펜테닐브로마이드, 5- 헥세닐브로마이드 등의 C3-20 알케닐브로마이드, 이들 브롬이 염소로 치환된 C3-20 알케닐클로라이드), 아릴할라이드(예: 브로모벤젠 등의 C6-10 아릴브로마이드, 이들 브롬이 염소로 치환된 C6-10 아릴클로라이드), 및 아르알킬할라이드(예: 벤질브로마이드, 페네틸브로마이드 등의 C6-10 아릴 C1-10 알킬브로마이드, 이들 브롬이 염소로 치환된 C6-10 아릴 C1-10 알킬클로라이드)를 포함한다.
식 (6)으로 표시되는 화합물의 사용량의 하한은, 식 (7)로 표시되는 화합물 1몰에 대해, 통상 0.5몰, 바람직하게는 0.6몰, 0.7몰, 0.8몰, 또는 0.9몰일 수 있다.
식 (6)으로 표시되는 화합물의 사용량의 상한은, 식 (7)로 표시되는 화합물 1몰에 대해, 통상 10몰, 바람직하게는 9몰, 8몰, 7몰, 6몰, 또는 5몰일 수 있다.
식 (6)으로 표시되는 화합물의 사용량은, 식 (7)로 표시되는 화합물 1몰에 대해, 통상 0.5 내지 10몰, 바람직하게는 0.9 내지 5몰의 범위 내이다.
식 (6)으로 표시되는 화합물과 식 (7)로 표시되는 화합물의 반응은, 바람직하게는 보조제의 존재하에서 실시된다.
보조제로서는, 예를 들어 테트라플루오로붕산은, 헥사플루오로인산은 등을 들 수 있다. 이들 보조제는, 단독으로 또는 2종 이상 조합하여 사용할 수 있다.
보조제의 사용량은, 식 (7)로 표시되는 화합물 1몰에 대해, 통상 0.1 내지 10몰, 바람직하게는 0.2 내지 5몰의 범위 내이다.
식 (6)으로 표시되는 화합물과 식 (7)로 표시되는 화합물의 반응은, 바람직하게는 용매의 존재하에서 실시된다.
용매의 예로서는, 예를 들어
탄화수소 용매(예: n-헥산 등의 쇄상 탄화수소, 벤젠, 톨루엔, p-크실렌 등의 방향족 탄화수소);
할로겐계 용매(예: 디클로로메탄, 디클로로에탄 등의 할로알칸, 클로로벤젠 등의 할로아렌),
니트릴계 용매(예: 아세토니트릴, 프로피오니트릴, 아크릴로니트릴 등의 쇄상 니트릴; 벤조니트릴 등의 환상 니트릴);
아미드계 용매[예: 카르복실산아미드(예: 포름아미드, N-메틸포름아미드, N,N-디메틸포름아미드 등의 쇄상 아미드, N-메틸피롤리돈 등의 환상 아미드), 인산아미드(예: 헥사메틸인산아미드)];
에테르계 용매(예: 디에틸에테르 등의 쇄상 에테르, 테트라히드로푸란, 디옥산 등의 환상 에테르);
우레아계 용매(예: N,N-디메틸프로필렌우레아);
에스테르계 용매(예: 아세트산에스테르);
술폭시드계 용매(예: 디메틸술폭시드);
니트로계 용매(예: 니트로메탄, 니트로벤젠);
케톤계 용매(예: 아세톤, 메틸에틸케톤); 및
이들 2종 이상의 혼합 용매
등을 들 수 있다.
용매는, 바람직하게는 할로겐계 용매, 우레아계 용매, 아미드계 용매, 술폭시드계 용매, 에스테르계 용매, 니트릴계 용매, 에테르계 용매, 혹은 이들 2종 이상의 혼합 용매이고, 보다 바람직하게는 할로겐계 용매, 니트릴계 용매, 아미드계 용매, 또는 에테르계 용매, 혹은 이들 2종 이상의 혼합 용매이고, 보다 더 바람직하게는 니트릴계 용매이다.
식 (6)으로 표시되는 화합물과 식 (7)로 표시되는 화합물의 반응에 있어서, 반응 온도 및 반응 시간은, 반응이 진행되는 한 특별히 제한되는 것은 아니다. 반응은, 가열에 의해 진행시킬 수 있다.
반응 온도의 하한은, 예를 들어 0℃, 바람직하게는 5℃, 10℃, 또는 15℃일 수 있다.
반응 온도의 상한은, 예를 들어 100℃, 바람직하게는 95℃, 90℃, 85℃, 또는 80℃일 수 있다.
반응 온도는, 예를 들어 0 내지 100℃, 바람직하게는 15 내지 80℃의 범위 내이다.
반응 시간은, 예를 들어 0.5 내지 24시간, 바람직하게는 1 내지 24시간, 더욱 바람직하게는 1 내지 18시간의 범위 내이다.
식 (6)으로 표시되는 화합물과 식 (7)로 표시되는 화합물로부터의 반응 생성물은, 부생성물로서 예를 들어 다음 식 (5'):
(식 중, R3 및 Q1은 각각 상기와 동일 의미임.)
로 표시되는 화합물을 포함하는 경우가 있다.
반응 생성물에 있어서, 식 (5')로 표시되는 화합물의 함유율(몰 비율)은, 식 (5)로 표시되는 화합물의 함유율 및 식 (5')로 표시되는 화합물의 함유율의 합계를 100％로 하였을 때, 예를 들어 30％ 이하, 바람직하게는 20％ 이하, 더욱 바람직하게는 15％ 이하이다. 또한, 식 (5')로 표시되는 화합물의 함유율은, 19F-NMR 스펙트럼의 피크 강도로부터 계산할 수 있다.
상기 반응 생성물은 관용의 방법, 예를 들어 여과, 칼럼 크로마토그래피 등에 의해 정제해도 된다.
실시예
이하, 실시예에 의해 본 개시의 일 실시 양태를 더욱 상세하게 설명하는데, 본 개시는 이것에 한정되는 것은 아니다.
실시예 1 테트라메틸암모늄 퍼플루오로옥탄-1-올레이트의 합성
질소 분위기 하에서, 10mL의 내압 용기에, 테트라메틸암모늄플루오라이드 23.8㎎을 칭량하고, 아세토니트릴 1mL를 첨가하였다.
당해 용기에 퍼플루오로옥타노일 플루오라이드 104㎎과 아세토니트릴 0.2mL를 첨가하였다.
당해 용기를 실온에서 30분 교반한 후, 19F NMR로 해석한바, 표제의 알콕시드가 퍼플루오로헵탄산테트라메틸암모늄과의 87:13의 몰비의 혼합물로 생성되어 있었다.
19F NMR(376㎒, CD3CN): δ -34.3(br-s, 2F), -80.4(t, J＝9.7㎐, 3F), -120.4(t, J＝13.5㎐, 2F), -120.8 내지 -121.5(m, 6F), -122.0(m, 2F), -125.4(m, 2F)ppm.
실시예 2 테트라메틸암모늄 퍼플루오로헥산-1-올레이트의 합성
질소 분위기 하에서, 10mL의 내압 용기에, 테트라메틸암모늄플루오라이드 23.8㎎을 칭량하고, 아세토니트릴 1mL를 첨가하였다.
당해 용기에 퍼플루오로헥사노일 플루오라이드 79㎎과 아세토니트릴 0.2mL를 첨가하였다.
당해 용기를 실온에서 30분 교반한 후, 19F NMR로 해석한바, 표제의 알콕시드가 퍼플루오로헥산산테트라메틸암모늄과의 88:12의 몰비의 혼합물로 생성되어 있었다.
19F NMR(376㎒, CD3CN): δ -25.5(t, J＝8.8㎐, 2F), -80.8(t, J＝10.5㎐, 2F), -120.6 내지 -120.7(m, 2F), -121.6(br-s, 2F), -122.3 내지 -122.4(m, 2F), -125.7(t, J＝13.5㎐, 2F)ppm.
실시예 3 테트라메틸암모늄 퍼플루오로-2-프로폭시프로판-1-올레이트의 합성
질소 분위기 하에서, 10mL의 내압 용기에, 테트라메틸암모늄플루오라이드 23.8㎎을 칭량하고, 아세토니트릴 1mL를 첨가하였다.
당해 용기에 2-(헵타플루오로프로폭시)테트라플루오로프로피오닐 플루오라이드 83㎎과 아세토니트릴 0.2mL를 첨가하였다.
당해 용기를 실온에서 30분 교반한 후, 19F NMR로 해석한바, 표제의 알콕시드가 퍼플루오로-2-프로폭시프로판산테트라메틸암모늄과의 84:16의 몰비의 혼합물로 생성되어 있었다.
19F NMR(376㎒, CD3CN): δ -29.8(br-s, 2F), -79.7(d, J＝9.0㎐, 3F), -81.1(t, J＝9.0㎐, 3F), -81.7(s, 2F), -129.5(t, J＝9.0㎐, 2F), -137.7(t, J＝20.3㎐, 1F)ppm.
실시예 4 (벤질퍼플루오로옥틸에테르의 합성)
질소 분위기 하에서, 10mL의 용기에, 테트라메틸암모늄플루오라이드 70㎎을 칭량하고, 아세토니트릴 4mL를 첨가하였다.
당해 용기에 퍼플루오로헵타아실플루오라이드 325㎎과 아세토니트릴 0.8mL를 첨가하였다.
당해 용기를 실온에서 30분 교반한 후, 벤질브로마이드 35.7μL, 테트라플루오로붕산은 70.1mg, 아세토니트릴 0.4mL를 첨가하였다.
당해 용기를 45℃에서 8시간 가열하였다.
당해 용기를 실온까지 냉각한 후, 용기의 내용물을 디클로로메탄을 사용하여 셀라이트로 여과 후, 실리카겔 칼럼 크로마토그래피에 의해 정제한바, 목적의 표제 에테르가 벤질브로마이드에 대해 52％의 몰 수율로 생성되어 있었다.
19F NMR: (376㎒, CDCl3): δ -80.8(t, J＝9.0㎐, 3F), -8.47(br-s, 2F), -121.9(br-s, 6F), -122.7(br-s, 2F), -125.1(br-s, 2F), -126.2(br-s, 2F)ppm.
실시예 5 (알릴퍼플루오로옥틸에테르의 합성)
질소 분위기 하에서, 10mL의 용기에, 테트라메틸암모늄플루오라이드 72.6㎎을 칭량하고, 아세토니트릴 2mL를 첨가하였다.
당해 용기에 퍼플루오로헵타아실플루오라이드 325㎎과 아세토니트릴 0.8mL를 첨가하였다.
당해 용기를 실온에서 30분 교반한 후, 알릴브로마이드 25.3μL, 테트라플루오로붕산은 70.1mg, 아세토니트릴 0.4mL를 첨가하였다.
당해 용기를 45℃에서 8시간 가열하였다.
당해 용기를 실온까지 냉각한 후, 용기의 내용물을 디클로로메탄을 사용하여 셀라이트로 여과 후, 19F NMR로 해석한바, 목적의 표제 에테르가 알릴브로마이드에 대해 38％의 몰 수율로 생성되어 있었다.
19F NMR(376㎒, CDCl3): δ -80.6(t, J＝8.1㎐, 3F), -84.7(br-s, 12F), -122.0(br-s, 2F), -122.6(br-s, 2F), -125.0(br-s, 2F), -126.0(br-s, 2F)ppm.
실시예 6 (2-(퍼플루오로옥틸옥시)아세트산에틸의 합성)
질소 분위기 하에서, 10mL의 용기에, 테트라메틸암모늄플루오라이드 70㎎을 칭량하고, 아세토니트릴 4mL를 첨가하였다.
당해 용기에 퍼플루오로헵타아실플루오라이드 325㎎과 아세토니트릴 0.8mL를 첨가하였다.
당해 용기를 실온에서 30분 교반한 후, 브로모아세트산에틸 33.2μL, 테트라플루오로붕산은 70.1mg, 아세토니트릴 0.4mL를 첨가하였다.
당해 용기를 45℃에서 9시간 가열하였다.
당해 용기를 실온까지 냉각한 후, 용기의 내용물을 디클로로메탄을 사용하여 셀라이트로 여과 후, 19F NMR로 해석한바, 목적의 표제 에테르가 브로모아세트산에틸에 대해 22％의 몰 수율로 생성되어 있었다.
19F NMR(376㎒, CDCl3): δ -81.5(t, J＝9.0㎐, 3F), -85.5(br-s, 2F), -122.3 내지 -122.4(m, 6F), -123.2(br-s, 2F), -125.6(br-s, 2F), -126.6(br-s, 2F)ppm.

Claims (22)

  1. 다음 식 (1):

    (식 중, R1은 탄소 원자 사이에 산소 원자를 포함하고 있어도 되는 플루오로알킬기, 또는 탄소 원자 사이에 산소 원자를 포함하고 있어도 되는 플루오로알콕시기이고, 각각의 R2는 서로 동일하거나 또는 다르며 탄화수소기임.)
    로 표시되는 화합물의 제조 방법이며,
    다음 식 (2):

    (식 중, R1은 상기와 동일 의미임.)
    로 표시되는 화합물을, 다음 식 (3):

    (식 중, R2는 상기와 동일 의미임.)
    로 표시되는 화합물과 반응시키는 공정을 포함하고,
    상기 공정에 있어서,
    식 (1)로 표시되는 화합물이, 식 (1)로 표시되는 화합물, 및 다음 식 (4'):

    (식 중, R1 및 R2는 상기와 동일 의미임.)
    로 표시되는 화합물의 합계를 100몰로 하였을 때, 70몰 이상의 비율로 생성되는, 제조 방법.
  2. 제1항에 있어서,
    각각의 R2가 서로 동일하거나 또는 다르며 알킬기인, 제조 방법.
  3. 제1항 또는 제2항에 있어서,
    각각의 R2가 서로 동일하거나 또는 다르며 C1-4 알킬기인, 제조 방법.
  4. 제1항 또는 제2항에 있어서,
    모든 R2가 메틸기인, 제조 방법.
  5. 제1항 또는 제2항에 있어서,
    R1이 탄소 원자 사이에 산소 원자를 포함하고 있어도 되는 퍼플루오로 C1-8 알킬기, 또는 탄소 원자 사이에 산소 원자를 포함하고 있어도 되는 퍼플루오로 C1-8 알콕시기인, 제조 방법.
  6. 제1항 또는 제2항에 있어서,
    상기 반응이, 할로겐계 용매, 우레아계 용매, 아미드계 용매, 술폭시드계 용매, 에스테르계 용매, 니트릴계 용매, 및 에테르계 용매로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1종의 용매의 존재하에서 실시되는, 제조 방법.
  7. 제1항 또는 제2항에 있어서,
    상기 반응이, 할로겐계 용매, 아미드계 용매, 니트릴계 용매, 및 에테르계 용매로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1종의 용매의 존재하에서 실시되는, 제조 방법.
  8. 제1항 또는 제2항에 있어서,
    상기 반응이, 니트릴계 용매의 존재하에서 실시되는, 제조 방법.
  9. 다음 식 (1):

    (식 중, R1은 탄소 원자 사이에 산소 원자를 포함하고 있어도 되는 플루오로알킬기, 또는 탄소 원자 사이에 산소 원자를 포함하고 있어도 되는 플루오로알콕시기이고, 각각의 R2는 서로 동일하거나 또는 다르며 탄화수소기임.)
    로 표시되는 화합물, 및 다음 식 (4):

    (식 중, Ra는 탄소 원자 사이에 산소 원자를 포함하고 있어도 되는 플루오로알킬기, 또는 탄소 원자 사이에 산소 원자를 포함하고 있어도 되는 플루오로알콕시기이고, 각각의 Rb는 서로 동일하거나 또는 다르며 탄화수소기임.)
    로 표시되는 화합물을 함유하는 조성물이며,
    상기 식 (1)로 표시되는 화합물의 함유율(몰 비율)은, 상기 식 (1)로 표시되는 화합물의 함유율(몰 비율) 및 상기 식 (4)로 표시되는 화합물의 함유율(몰 비율)의 합계를 100％로 하였을 때, 70％ 이상 100％ 미만인, 조성물.
  10. 제9항에 있어서,
    각각의 R2가 서로 동일하거나 또는 다르며 알킬기이고, 및 각각의 Rb가 서로 동일하거나 또는 다르며 알킬기인, 조성물.
  11. 제9항 또는 제10항에 있어서,
    각각의 R2가 서로 동일하거나 또는 다르며 C1-4 알킬기이고, 및 각각의 Rb가 서로 동일하거나 또는 다르며 C1-4 알킬기인, 조성물.
  12. 제9항 또는 제10항에 있어서,
    모든 R2가 메틸기이고, 및 모든 Rb가 메틸기인, 조성물.
  13. 제9항 또는 제10항에 있어서,
    R1이 탄소 원자 사이에 산소 원자를 포함하고 있어도 되는 퍼플루오로 C1-8 알킬기, 또는 탄소 원자 사이에 산소 원자를 포함하고 있어도 되는 퍼플루오로 C1-8 알콕시기이고, 및
    Ra가 탄소 원자 사이에 산소 원자를 포함하고 있어도 되는 퍼플루오로 C1-8 알킬기, 또는 탄소 원자 사이에 산소 원자를 포함하고 있어도 되는 퍼플루오로 C1-8 알콕시기인, 조성물.
  14. 제9항 또는 제10항에 기재된 조성물을 포함하는, 플루오로알콕시화제.
  15. 다음 식 (5):

    (식 중, R3은 탄소 원자 사이에 산소 원자를 포함하고 있어도 되는 플루오로알킬기, 또는 탄소 원자 사이에 산소 원자를 포함하고 있어도 되는 플루오로알콕시기이고, Q1은 유기기임.)
    로 표시되는 화합물의 제조 방법이며,
    다음 식 (2'):

    (식 중, R3은 상기와 동일 의미임.)
    로 표시되는 화합물을, 다음 식 (3'):

    (식 중, 각각의 R4는 서로 동일하거나 또는 다르며 탄화수소기임.)
    로 표시되는 화합물과 반응시키고, 다음 식 (6):

    (식 중, R3 및 R4는 상기와 동일 의미임.)
    로 표시되는 화합물을 얻는 공정 A, 및
    식 (6)으로 표시되는 화합물을, 다음 식 (7):

    (식 중, Q1은 상기와 동일 의미이고, L은 탈리기임.)
    로 표시되는 화합물과 반응시키는 공정 B를 포함하고,
    상기 공정 A에 있어서,
    식 (6)으로 표시되는 화합물이, 식 (6)으로 표시되는 화합물, 및 다음 식 (4"):

    (식 중, R3 및 R4는 상기와 동일 의미임.)
    로 표시되는 화합물의 합계를 100몰로 하였을 때, 70몰 이상의 비율로 생성되는, 제조 방법.
  16. 제15항에 있어서,
    Q1이 1개 이상의 치환기를 갖고 있어도 되는 탄화수소기인, 제조 방법.
  17. 제15항 또는 제16항에 있어서,
    L이 할로겐 원자인, 제조 방법.
  18. 제15항 또는 제16항에 있어서,
    각각의 R4가 서로 동일하거나 또는 다르며 알킬기인, 제조 방법.
  19. 제15항 또는 제16항에 있어서,
    각각의 R4가 서로 동일하거나 또는 다르며 C1-4 알킬기인, 제조 방법.
  20. 제15항 또는 제16항에 있어서,
    모든 R4가 메틸기인, 제조 방법.
  21. 제15항 또는 제16항에 있어서,
    R3이 탄소 원자 사이에 산소 원자를 포함하고 있어도 되는 퍼플루오로 C1-8 알킬기, 또는 탄소 원자 사이에 산소 원자를 포함하고 있어도 되는 퍼플루오로 C1-8 알콕시기인, 제조 방법.
  22. 제15항 또는 제16항에 있어서,
    상기 공정 B의 반응이, 온도 0 내지 100℃의 범위 내에서, 1 내지 24시간의 범위 내에서 실시되는, 제조 방법.
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Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2022138156A (ja) * 2021-03-09 2022-09-22 ダイキン工業株式会社 ハロエーテル及びその製造方法並びにビニルエーテル及びその製造方法

Family Cites Families (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3113967A (en) * 1960-10-25 1963-12-10 Du Pont Addition of carbonyl fluoride to polyfluoro-olefins
US3449389A (en) * 1965-03-15 1969-06-10 Du Pont Primary fluorocarbon alkoxides
JPS60112828A (ja) * 1983-11-22 1985-06-19 Nippon Mektron Ltd パ−フルオロエ−テルスルホン酸重合体およびその製造法
US4628094A (en) 1984-06-08 1986-12-09 E. I. Du Pont De Nemours And Company Tris(disubstituted amino)sulfonium perfluoroalkoxides and perfluoroalkylmercaptides and process for their preparation
JPH0830020B2 (ja) * 1987-09-11 1996-03-27 日本メクトロン株式会社 含ヨウ素パーフルオロエーテルの製造法
JPH0225439A (ja) * 1988-07-15 1990-01-26 Tokuyama Soda Co Ltd 含フッ素エーテル化合物の製造方法
DE60036758T2 (de) * 1999-08-04 2008-07-24 Sumitomo Chemical Co., Ltd. Verfahren zur Herstellung von optisch aktiver 3,3,3-Trifluor-2-hydroxy-2-methylpropionsäure und deren Salze
BR122015015718B1 (pt) * 2004-01-28 2016-05-10 Mitsui Chemicals Inc derivados de amida
JPWO2006137395A1 (ja) * 2005-06-23 2009-01-22 三井化学株式会社 アミド誘導体、該化合物を含有する殺虫剤およびその使用方法
CN1733675A (zh) * 2005-08-26 2006-02-15 山东新时代药业有限公司 一氟代甲基醚的制备方法
EP2058292B1 (en) * 2006-08-29 2014-04-23 Unimatec Co., Ltd. Polyfluoroalkane carboxylic acid fluoride, process for producing the same and process for producing polyfluoroalkane carboxylic acid using the same
TW200829171A (en) * 2006-11-17 2008-07-16 Nihon Nohyaku Co Ltd Haloalkyl sulfonanilide derivatives or salts thereof, herbicide using it as effective constituent and use-method thereof
WO2013134296A1 (en) * 2012-03-05 2013-09-12 The Regents Of The University Of California Difluoromethylation of aryl and vinyl iodides
US9725456B2 (en) * 2013-01-11 2017-08-08 The Chemours Company Fc, Llc Quarternary ammonium perfluoroalkoxy salts for preparation of perfluoropolyethers
CN106458903B (zh) * 2014-06-10 2021-02-05 宇部兴产株式会社 杂芳族磺酰胺化合物的制造方法
JP2018077300A (ja) * 2016-11-08 2018-05-17 コニカミノルタ株式会社 電子写真感光体、電子写真感光体の製造方法及び電子写真用カートリッジ
WO2019116262A1 (en) * 2017-12-13 2019-06-20 3M Innovative Properties Company Hydrofluoroolefin ethers, compositions, apparatuses and methods for using same
EP3781611B1 (en) * 2018-04-20 2022-08-24 Solvay Specialty Polymers Italy S.p.A. Method of making mixture of polymers

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