KR102615484B1 - Heat treatment apparatus - Google Patents
Heat treatment apparatus Download PDFInfo
- Publication number
- KR102615484B1 KR102615484B1 KR1020210037882A KR20210037882A KR102615484B1 KR 102615484 B1 KR102615484 B1 KR 102615484B1 KR 1020210037882 A KR1020210037882 A KR 1020210037882A KR 20210037882 A KR20210037882 A KR 20210037882A KR 102615484 B1 KR102615484 B1 KR 102615484B1
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- heat treatment
- water vapor
- treatment chamber
- outlet
- gas supply
- Prior art date
Links
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 title claims abstract description 741
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Chemical compound O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 520
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims description 478
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 claims description 123
- 238000005192 partition Methods 0.000 claims description 93
- 238000007599 discharging Methods 0.000 claims description 7
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 6
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 87
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 34
- 230000032258 transport Effects 0.000 description 17
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 16
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 12
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 11
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 9
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 description 9
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 8
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 8
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 7
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 7
- 238000005245 sintering Methods 0.000 description 7
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 description 6
- 238000009751 slip forming Methods 0.000 description 6
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 5
- 230000008569 process Effects 0.000 description 5
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 4
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 4
- 230000015654 memory Effects 0.000 description 4
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 3
- 230000014759 maintenance of location Effects 0.000 description 3
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 3
- 230000007723 transport mechanism Effects 0.000 description 3
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical group [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 2
- 238000005238 degreasing Methods 0.000 description 2
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000005611 electricity Effects 0.000 description 2
- 239000003925 fat Substances 0.000 description 2
- 230000017525 heat dissipation Effects 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 238000005096 rolling process Methods 0.000 description 2
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 2
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 2
- 238000003892 spreading Methods 0.000 description 2
- 230000007480 spreading Effects 0.000 description 2
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 2
- 239000008400 supply water Substances 0.000 description 2
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 1
- 239000008236 heating water Substances 0.000 description 1
- 239000001307 helium Substances 0.000 description 1
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 description 1
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000003754 machining Methods 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 230000008016 vaporization Effects 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F27—FURNACES; KILNS; OVENS; RETORTS
- F27D—DETAILS OR ACCESSORIES OF FURNACES, KILNS, OVENS, OR RETORTS, IN SO FAR AS THEY ARE OF KINDS OCCURRING IN MORE THAN ONE KIND OF FURNACE
- F27D7/00—Forming, maintaining, or circulating atmospheres in heating chambers
- F27D7/02—Supplying steam, vapour, gases, or liquids
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F22—STEAM GENERATION
- F22G—SUPERHEATING OF STEAM
- F22G1/00—Steam superheating characterised by heating method
- F22G1/16—Steam superheating characterised by heating method by using a separate heat source independent from heat supply of the steam boiler, e.g. by electricity, by auxiliary combustion of fuel oil
- F22G1/165—Steam superheating characterised by heating method by using a separate heat source independent from heat supply of the steam boiler, e.g. by electricity, by auxiliary combustion of fuel oil by electricity
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F22—STEAM GENERATION
- F22B—METHODS OF STEAM GENERATION; STEAM BOILERS
- F22B1/00—Methods of steam generation characterised by form of heating method
- F22B1/28—Methods of steam generation characterised by form of heating method in boilers heated electrically
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F23—COMBUSTION APPARATUS; COMBUSTION PROCESSES
- F23G—CREMATION FURNACES; CONSUMING WASTE PRODUCTS BY COMBUSTION
- F23G7/00—Incinerators or other apparatus for consuming industrial waste, e.g. chemicals
- F23G7/06—Incinerators or other apparatus for consuming industrial waste, e.g. chemicals of waste gases or noxious gases, e.g. exhaust gases
- F23G7/061—Incinerators or other apparatus for consuming industrial waste, e.g. chemicals of waste gases or noxious gases, e.g. exhaust gases with supplementary heating
- F23G7/065—Incinerators or other apparatus for consuming industrial waste, e.g. chemicals of waste gases or noxious gases, e.g. exhaust gases with supplementary heating using gaseous or liquid fuel
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F24—HEATING; RANGES; VENTILATING
- F24C—DOMESTIC STOVES OR RANGES ; DETAILS OF DOMESTIC STOVES OR RANGES, OF GENERAL APPLICATION
- F24C1/00—Stoves or ranges in which the fuel or energy supply is not restricted to solid fuel or to a type covered by a single one of the following groups F24C3/00 - F24C9/00; Stoves or ranges in which the type of fuel or energy supply is not specified
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F27—FURNACES; KILNS; OVENS; RETORTS
- F27D—DETAILS OR ACCESSORIES OF FURNACES, KILNS, OVENS, OR RETORTS, IN SO FAR AS THEY ARE OF KINDS OCCURRING IN MORE THAN ONE KIND OF FURNACE
- F27D7/00—Forming, maintaining, or circulating atmospheres in heating chambers
- F27D7/06—Forming or maintaining special atmospheres or vacuum within heating chambers
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F28—HEAT EXCHANGE IN GENERAL
- F28D—HEAT-EXCHANGE APPARATUS, NOT PROVIDED FOR IN ANOTHER SUBCLASS, IN WHICH THE HEAT-EXCHANGE MEDIA DO NOT COME INTO DIRECT CONTACT
- F28D21/00—Heat-exchange apparatus not covered by any of the groups F28D1/00 - F28D20/00
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- Environmental & Geological Engineering (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Thermal Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Sustainable Energy (AREA)
- Sustainable Development (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Combustion & Propulsion (AREA)
- Furnace Details (AREA)
- Tunnel Furnaces (AREA)
- Heating, Cooling, Or Curing Plastics Or The Like In General (AREA)
Abstract
[과제] 과열 수증기에 의하여 피처리물의 열처리를 행하는 열처리 장치의 구조의 복잡화를 방지할 수 있음과 더불어, 피처리물의 열처리가 행해지는 열처리실 내에 있어서 분위기의 정체가 발생해 버리는 것을 억제할 수 있는, 열처리 장치를 제공한다.
[해결 수단] 열처리 장치(1)는, 열처리실(11)과 수증기 공급부(13)와 수증기 배출부(15)를 구비한다. 열처리실(11)은, 피처리물(10)이 반입되는 입구(31)와 피처리물(10)이 반출되는 출구(32)가 설치되고, 입구(31)로부터 출구(32)를 향하여 반송되는 피처리물(10)의 열처리가 행해진다. 수증기 공급부(13)는, 열처리실(11)에 있어서의 가열 영역(HR)에 설치되어, 열처리실(11) 내에 과열 수증기를 공급한다. 수증기 배출부(15)는, 열처리실(11)에 있어서, 수증기 공급부(13)에 대하여 입구(31) 측과 출구(32) 측에 각각 설치되고, 열처리실(11) 내의 과열 수증기를 열처리실(11)의 외부로 배출한다.[Problem] It is possible to prevent the structure of a heat treatment device that heat-treats a workpiece using superheated steam from becoming complicated, and it is also possible to prevent stagnation of the atmosphere from occurring in the heat treatment chamber where the heat treatment of the workpiece is performed. , provides a heat treatment device.
[Solution] The heat treatment apparatus 1 is provided with a heat treatment chamber 11, a water vapor supply part 13, and a water vapor discharge part 15. The heat treatment chamber 11 is provided with an inlet 31 through which the object to be treated 10 is brought in and an outlet 32 through which the object 10 is discharged, and the object 10 is conveyed from the inlet 31 toward the outlet 32. Heat treatment is performed on the object to be treated (10). The water vapor supply unit 13 is installed in the heating region HR in the heat treatment chamber 11 and supplies superheated water vapor into the heat treatment chamber 11. The water vapor discharge unit 15 is installed in the heat treatment chamber 11 on the inlet 31 side and the outlet 32 side with respect to the water vapor supply part 13, and discharges superheated water vapor in the heat treatment chamber 11 into the heat treatment chamber. Discharged to the outside of (11).
Description
본 발명은, 과열 수증기로 피처리물을 가열하여 피처리물의 열처리를 행하는 열처리 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a heat treatment apparatus that performs heat treatment on an object to be treated by heating the object with superheated steam.
종래부터, 과열 수증기로 피처리물을 가열하여 피처리물의 열처리를 행하는 열처리 장치가 알려져 있다(예를 들면, 특허문헌 1을 참조). 특허문헌 1에 기재된 열처리 장치는, 가열로(加熱爐)로서 설치되어 피처리물의 열처리가 행해지는 열처리실을 구비하고 있고, 피처리물을 가열하기 위한 가열 영역이 열처리실 내에 형성된다. 열처리실 내의 가열 영역은, 피처리물의 반송 방향의 상류 측으로부터 하류 측을 향하여 순서대로 인접하여 설치된 복수의 존(zone)으로 나누어져 있다. 그리고, 특허문헌 1의 열처리 장치는, 피처리물이 각 존 내를 순서대로 반송되면서 과열 수증기에 의하여 가열되어, 피처리물의 열처리가 행해지도록 구성되어 있다.Conventionally, a heat treatment apparatus has been known that heats the object to be treated by heating it with superheated steam (see, for example, Patent Document 1). The heat treatment apparatus described in
또, 특허문헌 1의 열처리 장치는, 열처리실 내의 복수의 존의 각각에 있어서, 과열 수증기로서의 수증기가 공급되도록 구성되어 있다. 보다 구체적으로는, 열처리실에 있어서의 각 존의 상면에 개공부(開孔部)가 설치되고, 각 존의 상면의 개공부로부터 과열 수증기로서의 수증기가 각 존 내에 공급되도록 구성되어 있다. 또, 특허문헌 1의 열처리 장치에 있어서는, 열처리실에 있어서의 각 존의 하면에 배기 구멍이 형성되어 있다. 이에 의하여, 특허문헌 1의 열처리 장치는, 열처리실 내의 각 존에 있어서, 상면의 개공부로부터 공급되어 각 존 내를 통과한 수증기가 하면의 배기 구멍으로부터 배출되도록 구성되어 있다.Additionally, the heat treatment apparatus of
특허문헌 1에 개시된 열처리 장치는, 열처리실 내에서 피처리물의 반송 방향으로 늘어서는 복수의 존의 각각에 있어서, 상면의 개공부로부터 과열 수증기를 공급하고, 하면의 배기 구멍으로부터 수증기를 배출하도록 구성되어 있다. 이 때문에, 열처리실 내에 과열 수증기를 공급하고, 그 후에 피처리물의 가열에 이용한 수증기를 외부로 배출하기 위한 구성이, 열처리실 내의 복수의 존의 각각에 필요하게 되어, 열처리 장치의 구조가 복잡화해 버린다고 하는 문제가 있다.The heat treatment apparatus disclosed in
또, 특허문헌 1의 열처리 장치는, 상기한 바와 같이, 열처리실 내에 있어서의 복수의 존의 각각에 있어서, 상면의 개공부로부터 과열 수증기를 공급하고 하면의 배기 구멍으로부터 수증기를 배출한다. 이 때문에, 열처리실 내의 각 존에 있어서 상면의 개공부로부터 하면의 배기 구멍으로 수증기가 흐르고, 존마다 편재하여 상방으로부터 하방으로 흐르는 수증기의 흐름이 형성된다. 이에 의하여, 열처리실 내에서, 피처리물의 반송 방향과 평행인 방향을 따른 수증기의 흐름이 생기기 어려워진다. 이것으로부터, 피처리물의 반송 방향과 평행인 방향을 따른 수증기의 흐름의 편차가 크게 생겨, 수증기의 흐름이 정체되는 영역이 생기기 쉬워지고, 그 결과, 열처리실 내에 있어서 분위기가 정체되는 영역이 생기기 쉬워진다.In addition, as described above, the heat treatment apparatus of
열처리실 내에 있어서 분위기의 정체가 생기기 쉬워지면, 열처리실 내에 있어서 과열 수증기의 분포의 불균일이 발생하기 쉬워지고, 같은 열처리실 내에서 열처리가 행해지는 복수의 피처리물의 사이에 있어서 열처리의 불균일이 생기기 쉬워진다고 하는 문제가 있다. 또, 열처리 시에 피처리물로부터 일부의 성분이 기화하여 가스가 발생하는 처리의 경우, 열처리실 내에 있어서 정체가 생기면, 정체가 발생한 영역에 있어서, 피처리물로부터 생긴 가스가 체류해 버리게 된다. 그리고, 분위기의 정체가 생겨 열처리 시에 피처리물로부터 생긴 가스가 체류하면, 가열 영역 내의 과열 수증기의 순도가 저하되어, 열처리 효율의 저하를 초래해 버린다고 하는 문제가 있다. 또, 피처리물로부터 생겨 분위기가 정체된 영역에 체류한 가스는, 열처리실로부터 배출되지 않고, 열처리가 종료되었을 때의 온도의 저하에 따라 액화하여, 열처리실 내의 천장 혹은 벽면에서 결로해 버리게 된다. 또한, 새롭게 열처리가 개시되었을 때에, 열처리실 내의 천장 혹은 벽면에서 결로한 성분이 피처리물에 적하하여, 피처리물에 오염을 발생시켜 버린다고 하는 문제가 있다.If stagnation of the atmosphere is likely to occur within the heat treatment chamber, uneven distribution of overheated water vapor is likely to occur within the heat treatment chamber, and uneven heat treatment is likely to occur among a plurality of objects to be heat treated within the same heat treatment chamber. There is a problem with it becoming easier. Additionally, in the case of processing in which gas is generated by vaporizing some components from the object to be treated during heat treatment, if stagnation occurs in the heat treatment chamber, the gas generated from the object to be treated stays in the area where the stagnation occurred. Additionally, if the atmosphere stagnates and the gas generated from the object to be treated during heat treatment stays, the purity of the superheated water vapor in the heating area decreases, leading to a decrease in heat treatment efficiency. In addition, the gas generated from the object to be treated and remaining in the area where the atmosphere is stagnant is not discharged from the heat treatment chamber, but liquefies as the temperature decreases when the heat treatment is completed, and condenses on the ceiling or walls in the heat treatment chamber. . Additionally, there is a problem that when a new heat treatment is started, components condensed on the ceiling or walls in the heat treatment chamber drip on the object to be treated, causing contamination in the object to be treated.
또한, 열처리 시에 피처리물로부터 일부의 성분이 기화하여 가스가 발생하는 처리로서는, 예를 들면, 소결 처리가 있다. 소결 처리에 있어서는, 유지(油脂) 성분을 포함하는 바인더로 일체화된 피소결체로서의 피처리물을 가열하여 바인더를 기화시켜 제거하는 처리가 행해진다. 이 처리 시, 기화한 바인더가 분위기가 정체된 영역에 체류하고 배출되지 않으면, 열처리가 종료되었을 때의 온도의 저하에 따라 액화하여, 열처리실 내의 천장 혹은 벽면에서 결로해 버리게 된다. 그리고, 새롭게 열처리가 개시되었을 때에, 열처리실 내의 천장 혹은 벽면에서 결로한 바인더의 성분이 피처리물에 적하하여, 피처리물에 오염을 발생시켜 버리게 된다.Additionally, as a treatment in which some components vaporize from the object to be treated and gas is generated during heat treatment, there is, for example, sintering treatment. In the sintering treatment, the object to be treated as a sintered body integrated with a binder containing an oil component is heated to vaporize and remove the binder. During this treatment, if the vaporized binder stays in the area where the atmosphere is stagnant and is not discharged, it will liquefy as the temperature decreases when the heat treatment is completed and condense on the ceiling or walls in the heat treatment chamber. Then, when a new heat treatment is started, the binder components that have condensed on the ceiling or walls in the heat treatment chamber drop on the object to be treated, causing contamination in the object to be treated.
상술한 바와 같이, 열처리실 내에 있어서 분위기의 정체가 생기기 쉬워지면, 같은 열처리실 내에서 열처리가 행해지는 복수의 피처리물의 사이에 있어서 열처리의 불균일을 일으키기 쉬워지고, 또한, 피처리물 중으로부터 생긴 가스의 체류에 따른 열처리 효율의 저하 및 피처리물의 오염의 발생과 같은 문제도 생기기 쉬워진다. 따라서, 열처리실 내의 분위기의 정체가 발생해 버리는 것을 억제하는 열처리 장치의 실현이 요망된다.As described above, if stagnation of the atmosphere is likely to occur in the heat treatment chamber, it is easy to cause non-uniformity in heat treatment among a plurality of objects to be heat treated in the same heat treatment chamber, and further, heat treatment may occur among the objects to be treated. Problems such as a decrease in heat treatment efficiency due to retention of gas and contamination of the object to be treated are likely to occur. Therefore, there is a need to realize a heat treatment device that suppresses stagnation of the atmosphere in the heat treatment chamber.
본 발명은, 상기 실정을 감안함으로써, 과열 수증기에 의하여 피처리물의 열처리를 행하는 열처리 장치의 구조의 복잡화를 방지할 수 있음과 더불어, 피처리물의 열처리가 행해지는 열처리실 내에 있어서 분위기의 정체가 발생해 버리는 것을 억제할 수 있는, 열처리 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.By taking the above-mentioned circumstances into consideration, the present invention can prevent the complexity of the structure of a heat treatment device that heat-treats the object to be treated using superheated steam, and also prevents stagnation of the atmosphere in the heat treatment chamber where the heat treatment of the object to be treated is performed. The purpose is to provide a heat treatment device that can suppress heat dissipation.
(1) 상기 과제를 해결하기 위하여, 본 발명의 어떤 국면에 따른 열처리 장치는, 과열 수증기로 피처리물을 가열하여 당해 피처리물의 열처리를 행하는 열처리 장치에 관한 것이다. 그리고, 본 발명의 어떤 국면에 따른 열처리 장치는, 상기 피처리물이 반입되는 입구와 상기 피처리물이 반출되는 출구가 설치되고, 상기 입구로부터 상기 출구를 향하여 반송되는 상기 피처리물의 열처리가 행해지는 열처리실과, 상기 열처리실에 있어서의 상기 피처리물의 가열이 행해지는 영역인 가열 영역에 설치되어, 상기 열처리실 내에 과열 수증기를 공급하는 수증기 공급부와, 상기 열처리실에 있어서, 상기 수증기 공급부에 대하여 상기 입구 측과 상기 출구 측에 각각 설치되고, 상기 열처리실 내의 과열 수증기를 상기 열처리실의 외부로 배출하는 수증기 배출부를 구비하고 있다.(1) In order to solve the above problems, a heat treatment apparatus according to a certain aspect of the present invention relates to a heat treatment apparatus that heats the object to be treated with superheated steam and performs heat treatment of the object to be treated. In addition, the heat treatment apparatus according to a certain aspect of the present invention is provided with an inlet through which the object to be treated is brought in and an outlet through which the object to be treated is discharged, and heat treatment of the object conveyed from the inlet toward the outlet is performed. is installed in a heat treatment chamber and a heating area, which is an area where the object to be treated is heated in the heat treatment chamber, and supplies superheated steam into the heat treatment chamber; and, in the heat treatment chamber, with respect to the water vapor supply unit. It is installed on the inlet side and the outlet side, respectively, and has a water vapor discharge unit that discharges superheated water vapor in the heat treatment chamber to the outside of the heat treatment chamber.
이 구성에 의하면, 열처리실의 가열 영역에 설치된 수증기 공급부로부터 열처리실 내에 공급된 과열 수증기에 의하여 피처리물이 가열되어 피처리물의 열처리가 행해진다. 그리고, 피처리물의 가열에 이용된 과열 수증기는, 가열 영역에 설치된 수증기 공급부로부터 열처리실의 입구 측과 출구 측에 각각 설치된 수증기 배출부를 향하여 흘러, 수증기 배출부로부터 열처리실의 외부로 배출된다. 이 때문에, 열처리실에 있어서는, 가열 영역 내의 수증기 공급부로부터 입구 측을 향하여 흘러 수증기 배출부로부터 외부로 배출되는 수증기의 흐름과, 가열 영역 내의 수증기 공급부로부터 출구 측을 향하여 흘러 수증기 배출부로부터 외부로 배출되는 수증기의 흐름이 형성된다. 그리고, 열처리실 내에 있어서는, 가열 영역 내의 수증기 공급부로부터 입구 측 및 출구 측의 각각을 향하여, 피처리물의 반송 방향과 평행인 방향을 따라 유속의 편차가 적은 보다 균일한 수증기의 흐름이 형성된다. 이에 의하여, 열처리실 내에 있어서, 수증기의 흐름이 정체되는 영역이 생기기 어려워지고, 그 결과, 열처리실 내에 있어서 분위기가 정체되는 영역이 생기기 어려워진다.According to this configuration, the object to be treated is heated by superheated steam supplied into the heat treatment chamber from a steam supply unit installed in the heating area of the heat treatment chamber, and heat treatment of the object is performed. Then, the superheated steam used to heat the object to be treated flows from the steam supply unit installed in the heating area toward the steam discharge unit provided at the entrance and exit sides of the heat treatment chamber, respectively, and is discharged from the water vapor discharge unit to the outside of the heat treatment chamber. For this reason, in the heat treatment chamber, the flow of water vapor flows from the water vapor supply part in the heating area toward the inlet side and is discharged to the outside from the water vapor discharge part, and the flow of water vapor flows from the water vapor supply part in the heating area towards the outlet side and is discharged to the outside from the water vapor discharge part. A stream of water vapor is formed. And, in the heat treatment chamber, a more uniform flow of water vapor with less variation in flow rate is formed along a direction parallel to the transport direction of the object to be treated from the water vapor supply section in the heating area toward each of the inlet and outlet sides. As a result, it becomes difficult to create an area in the heat treatment chamber where the flow of water vapor stagnates, and as a result, it becomes difficult to create an area where the atmosphere stagnates in the heat treatment chamber.
따라서, 상기의 구성에 의하면, 피처리물의 열처리가 행해지는 열처리실 내에 있어서 분위기의 정체가 발생해 버리는 것을 억제할 수 있다. 또, 상기의 구성에 의하면, 열처리실 내에 있어서 분위기의 정체가 발생해 버리는 것을 억제할 수 있기 때문에, 같은 열처리실 내에서 열처리가 행해지는 복수의 피처리물의 사이에 있어서 열처리의 불균일을 일으켜 버리는 것을 억제할 수 있고, 또한, 피처리물 중으로부터 생긴 가스의 체류에 따른 열처리 효율의 저하 및 피처리물의 오염의 발생도 억제할 수 있다.Therefore, according to the above configuration, it is possible to suppress the stagnation of the atmosphere within the heat treatment chamber where heat treatment of the object to be processed is performed. In addition, according to the above configuration, stagnation of the atmosphere within the heat treatment chamber can be suppressed, thereby preventing heat treatment unevenness among a plurality of objects to be heat treated within the same heat treatment chamber. In addition, it is possible to suppress a decrease in heat treatment efficiency due to retention of gas generated from the object to be treated and the occurrence of contamination of the object to be treated.
또, 상기의 구성에 의하면, 수증기 공급부가 열처리실의 가열 영역에 설치되고, 수증기 배출부가 열처리실의 입구 측 및 출구 측에 설치된 간소한 구성에 의하여, 열처리실 내에서의 분위기의 정체의 발생을 억제할 수 있는 열처리 장치를 실현할 수 있다. 이 때문에, 과열 수증기에 의하여 피처리물의 열처리를 행하는 열처리 장치의 구조의 복잡화를 방지할 수 있다.In addition, according to the above configuration, the simple structure in which the water vapor supply part is installed in the heating area of the heat treatment chamber and the water vapor discharge part is installed on the inlet and outlet sides of the heat treatment chamber prevents the occurrence of atmospheric stagnation in the heat treatment chamber. A heat treatment device capable of suppressing heat treatment can be realized. For this reason, it is possible to prevent the structure of the heat treatment apparatus that heat-treats the object to be treated using superheated steam from becoming complicated.
이상과 같이, 상기의 구성에 의하면, 과열 수증기에 의하여 피처리물의 열처리를 행하는 열처리 장치의 구조의 복잡화를 방지할 수 있음과 더불어, 피처리물의 열처리가 행해지는 열처리실 내에 있어서 분위기의 정체가 발생해 버리는 것을 억제할 수 있는, 열처리 장치를 제공할 수 있다.As described above, according to the above configuration, it is possible to prevent the complexity of the structure of the heat treatment apparatus that performs heat treatment of the object to be treated by superheated steam, and also prevents stagnation of the atmosphere from occurring in the heat treatment chamber where the heat treatment of the object to be treated is performed. A heat treatment device capable of suppressing heat dissipation can be provided.
(2) 상기 열처리실 내에 불활성 가스 및 공기 중 적어도 어느 하나를 공급하는 가스 공급부를 추가로 구비하고, 상기 입구는, 상기 열처리실의 외부에 대하여 개방되어 있고, 상기 가스 공급부로서, 상기 열처리실에 있어서 상기 수증기 공급부에 대하여 상기 입구 측에 설치된 상기 수증기 배출부보다 더욱 상기 입구 측에 설치된 입구 측 가스 공급부가 구비되어 있는 경우가 있다.(2) further provided with a gas supply part that supplies at least one of an inert gas and air into the heat treatment chamber, the inlet is open to the outside of the heat treatment chamber, and the gas supply part is provided to the heat treatment chamber. In some cases, an inlet-side gas supply part installed closer to the inlet than the water vapor discharge part installed to the inlet side is provided with respect to the water vapor supply part.
이 구성에 의하면, 열처리실의 입구가 외부에 대하여 개방되어 있기 때문에, 피처리물의 열처리실 내로의 반입 작업을 연속적으로 신속하고 또한 용이하게 행할 수 있다. 이에 의하여, 열처리 프로세스를 연속화하여 열처리의 작업 효율의 향상을 도모할 수 있다. 그리고, 상기의 구성에 의하면, 입구가 개방되어 있는 것에 더하여, 수증기 공급부에 대하여 입구 측에 설치된 수증기 배출부보다 더욱 입구 측에 설치되어 열처리실 내에 불활성 가스 및 공기 중 적어도 어느 하나의 가스를 공급하는 입구 측 가스 공급부가 설치되어 있다. 이 때문에, 입구 측 가스 공급부로부터 공급하는 가스에 의하여, 외부에 개방된 입구와 수증기 배출부의 사이에 있어서 열처리실 내의 분위기를 분리할 수 있다. 즉, 수증기 공급부로부터 입구 측 가스 공급부까지의 영역의 분위기와, 외부에 개방된 입구로부터 입구 측 가스 공급부까지의 영역의 분위기를 분리할 수 있다. 이에 의하여, 열처리의 작업 효율의 향상을 위하여 입구가 개방된 열처리 장치에 있어서, 수증기 공급부로부터 수증기 배출부까지의 영역의 분위기를 외부에 대하여 차단할 수 있고, 가열 영역에 있어서의 과열 수증기에 의한 피처리물의 열처리를 효율적으로 행할 수 있다.According to this configuration, since the entrance to the heat treatment chamber is open to the outside, the work of bringing the object to be treated into the heat treatment chamber can be carried out continuously, quickly and easily. As a result, the heat treatment process can be continued and the work efficiency of heat treatment can be improved. According to the above configuration, in addition to the inlet being open, the water vapor supply part is installed further on the inlet side than the water vapor discharge part installed on the inlet side to supply at least one of an inert gas and air into the heat treatment chamber. A gas supply unit is installed at the inlet side. For this reason, the atmosphere in the heat treatment chamber can be separated between the inlet open to the outside and the water vapor discharge section by using the gas supplied from the inlet side gas supply section. That is, the atmosphere of the area from the water vapor supply unit to the inlet-side gas supply unit can be separated from the atmosphere of the area from the inlet open to the outside to the inlet-side gas supply unit. As a result, in a heat treatment device with an open inlet to improve the work efficiency of heat treatment, the atmosphere in the area from the water vapor supply part to the water vapor discharge part can be blocked from the outside, and the treatment target due to overheated water vapor in the heating area can be prevented. Heat treatment of water can be performed efficiently.
(3) 상기 입구 측 가스 공급부는, 한 쌍으로 설치되고, 상기 열처리실에 있어서, 한 쌍의 상기 입구 측 가스 공급부의 사이에, 상기 열처리실 내의 가스를 상기 열처리실의 외부로 배기하는 입구 측 배기부가 설치되어 있는 경우가 있다.(3) The inlet side gas supply section is installed in a pair, and in the heat treatment chamber, an inlet side that exhausts the gas in the heat treatment chamber to the outside of the heat treatment chamber is between the pair of inlet side gas supply sections. In some cases, an exhaust part is installed.
이 구성에 의하면, 입구 측 가스 공급부가 한 쌍으로 설치되고 그들의 사이에 입구 측 배기부가 설치되어 있다. 이 때문에, 수증기 배출부로부터 입구 측을 향하여, 수증기 배출부, 한 쌍의 입구 측 가스 공급부 중 한쪽, 입구 측 배기부, 한 쌍의 입구 측 가스 공급부 중 다른 쪽의 순서로, 이들이 배치되게 된다. 이 구성에 의하여, 수증기 배출부에서 완전하게 배출되지 않고 누출되도록 입구 측으로 유동한 약간의 수증기는, 한 쌍의 입구 측 가스 공급부 중 한쪽으로부터 공급되는 가스와 섞이고, 희석되게 된다. 그리고, 한 쌍의 입구 측 가스 공급부 중 한쪽으로부터 공급된 가스와 섞여 희석된 수증기는, 입구 측 배기부로부터 외부로 배기된다. 이 때문에, 수증기 배출부로부터 누출되도록 입구 측으로 유동한 약간의 수증기도, 입구 측 배기부로부터 배기된다. 그 결과, 입구 측 배기부와 입구 사이의 영역이고 온도가 낮은 영역에 수증기가 유입해 버리는 것을 방지할 수 있다. 이에 의하여, 입구 측 배기부와 입구 사이의 온도가 낮은 영역에 수증기가 유입하여 결로가 발생하는 것이 방지된다. 결로의 발생이 방지됨으로써, 입구로부터 반입된 피처리물에 수분이 적하되어 피처리물이 젖고, 피처리물의 열처리 상태에 영향이 생겨 버리는 것이 방지된다. 또, 상기의 구성에 의하면, 한 쌍의 입구 측 가스 공급부 중 다른 쪽으로부터 공급되는 가스에 의하여, 즉, 입구 측 배기부와 입구의 사이에 배치된 입구 측 가스 공급부로부터 공급되는 가스에 의하여, 수증기 공급부로부터 입구 측 가스 공급부까지의 영역의 분위기와, 입구로부터 입구 측 가스 공급부까지의 영역의 분위기를 보다 확실하게 분리하여 차단할 수 있다.According to this configuration, a pair of inlet-side gas supply units is installed, and an inlet-side exhaust unit is installed between them. For this reason, from the water vapor discharge section toward the inlet side, they are arranged in the following order: the water vapor discharge section, one of the pair of inlet side gas supply sections, the inlet side exhaust section, and the other of the pair of inlet side gas supply sections. With this configuration, a small amount of water vapor that flows to the inlet side but is not completely discharged from the water vapor discharge section and leaks is mixed with the gas supplied from one of the pair of inlet side gas supply sections and is diluted. Then, the water vapor mixed with the gas supplied from one of the pair of inlet-side gas supply units and diluted is exhausted to the outside from the inlet-side exhaust unit. For this reason, some water vapor that flows to the inlet side to leak out of the water vapor discharge section is also exhausted from the inlet side exhaust section. As a result, it is possible to prevent water vapor from flowing into the low-temperature area between the inlet and the exhaust part on the inlet side. This prevents water vapor from flowing into the low-temperature area between the inlet side exhaust unit and the inlet, causing condensation. By preventing the occurrence of condensation, moisture is prevented from dripping on the object to be treated brought in from the inlet, making the object to be treated wet, and affecting the heat treatment state of the object to be treated. In addition, according to the above configuration, water vapor is supplied by the gas supplied from the other of the pair of inlet-side gas supply parts, that is, by the gas supplied from the inlet-side gas supply part disposed between the inlet-side exhaust part and the inlet. The atmosphere of the area from the supply part to the inlet-side gas supply part and the atmosphere of the area from the inlet to the inlet-side gas supply part can be more reliably separated and blocked.
(4) 상기 열처리실 내에 불활성 가스 및 공기 중 적어도 어느 하나를 공급하는 가스 공급부를 추가로 구비하고, 상기 출구는, 상기 열처리실의 외부에 대하여 개방되어 있고, 상기 가스 공급부로서, 상기 열처리실에 있어서 상기 수증기 공급부에 대하여 상기 출구 측에 설치된 상기 수증기 배출부보다 더욱 상기 출구 측에 설치된 출구 측 가스 공급부가 구비되어 있는 경우가 있다.(4) A gas supply part that supplies at least one of an inert gas and air is further provided in the heat treatment chamber, the outlet is open to the outside of the heat treatment chamber, and the gas supply part supplies the heat treatment chamber. In some cases, the outlet-side gas supply part installed on the outlet side is provided further than the water vapor discharge part installed on the outlet side with respect to the water vapor supply part.
이 구성에 의하면, 열처리실의 출구가 외부에 대하여 개방되어 있기 때문에, 피처리물의 열처리실로부터의 반출 작업을 연속적으로 신속하고 또한 용이하게 행할 수 있다. 이에 의하여, 열처리 프로세스를 연속화하여 열처리의 작업 효율의 향상을 도모할 수 있다. 그리고, 상기의 구성에 의하면, 출구가 개방되어 있는 것에 더하여, 수증기 공급부에 대하여 출구 측에 설치된 수증기 배출부보다 더욱 출구 측에 설치되어 열처리실 내에 불활성 가스 및 공기 중 적어도 어느 하나의 가스를 공급하는 출구 측 가스 공급부가 설치되어 있다. 이 때문에, 출구 측 가스 공급부로부터 공급하는 가스에 의하여, 외부에 개방된 출구와 수증기 배출부의 사이에 있어서 열처리실 내의 분위기를 분리할 수 있다. 즉, 수증기 공급부로부터 출구 측 가스 공급부까지의 영역의 분위기와, 외부에 개방된 출구로부터 출구 측 가스 공급부까지의 영역의 분위기를 분리할 수 있다. 이에 의하여, 열처리의 작업 효율의 향상을 위하여 출구가 개방된 열처리 장치에 있어서, 수증기 공급부로부터 수증기 배출부까지의 영역의 분위기를 외부에 대하여 차단할 수 있고, 가열 영역에 있어서의 과열 수증기에 의한 피처리물의 열처리를 효율적으로 행할 수 있다.According to this configuration, since the outlet of the heat treatment chamber is open to the outside, the work of carrying out the object to be treated from the heat treatment chamber can be carried out continuously, quickly and easily. As a result, the heat treatment process can be continued and the work efficiency of heat treatment can be improved. According to the above configuration, in addition to the outlet being open, the water vapor supply part is installed further on the outlet side than the water vapor discharge part installed on the outlet side to supply at least one of the inert gas and air into the heat treatment chamber. A gas supply unit is installed on the outlet side. For this reason, the atmosphere in the heat treatment chamber can be separated between the outlet open to the outside and the water vapor discharge part by the gas supplied from the outlet side gas supply part. That is, the atmosphere of the area from the water vapor supply unit to the outlet-side gas supply unit can be separated from the atmosphere of the area from the outlet open to the outside to the outlet-side gas supply unit. As a result, in a heat treatment device with an open outlet to improve the work efficiency of heat treatment, the atmosphere in the area from the water vapor supply part to the water vapor discharge part can be blocked from the outside, and the treatment target due to overheated water vapor in the heating area can be prevented. Heat treatment of water can be performed efficiently.
(5) 상기 출구 측 가스 공급부는, 한 쌍으로 설치되고, 상기 열처리실에 있어서, 한 쌍의 상기 출구 측 가스 공급부의 사이에, 상기 열처리실 내의 가스를 상기 열처리실의 외부로 배기하는 출구 측 배기부가 설치되어 있다.(5) The outlet side gas supply units are installed in pairs, and in the heat treatment chamber, between the pair of outlet side gas supply units, an outlet side exhausts the gas in the heat treatment chamber to the outside of the heat treatment chamber. An exhaust unit is installed.
이 구성에 의하면, 출구 측 가스 공급부가 한 쌍으로 설치되고, 그들의 사이에 출구 측 배기부가 설치되어 있다. 이 때문에, 수증기 배출부로부터 출구 측을 향하여, 수증기 배출부, 한 쌍의 출구 측 가스 공급부 중 한쪽, 출구 측 배기부, 한 쌍의 출구 측 가스 공급부 중 다른 쪽의 순서로, 이들이 배치되게 된다. 이 구성에 의하여, 수증기 배출부에서 완전하게 배출되지 않고 누출되도록 출구 측으로 유동한 약간의 수증기는, 한 쌍의 출구 측 가스 공급부 중 한쪽으로부터 공급되는 가스와 섞이고, 희석되게 된다. 그리고, 한 쌍의 출구 측 가스 공급부 중 한쪽으로부터 공급된 가스와 섞여 희석된 수증기는, 출구 측 배기부로부터 외부로 배기된다. 이 때문에, 수증기 배출부로부터 누출되도록 출구 측으로 유동한 약간의 수증기도, 출구 측 배기부로부터 배기된다. 그 결과, 출구 측 배기부와 출구 사이의 영역이고 온도가 낮은 영역에 수증기가 유입해 버리는 것을 방지할 수 있다. 이에 의하여, 출구 측 배기부와 출구 사이의 온도가 낮은 영역에 수증기가 유입하여 결로가 발생하는 것이 방지된다. 결로의 발생이 방지됨으로써, 피처리물이 출구로부터 반출될 때에 피처리물에 수분이 적하되어 피처리물이 젖어 버리는 것이 방지된다. 또, 상기의 구성에 의하면, 한 쌍의 출구 측 가스 공급부 중 다른 쪽, 즉, 출구 측 배기부와 출구의 사이에 배치된 출구 측 가스 공급부로부터 공급되는 가스에 의하여, 수증기 공급부로부터 출구 측 가스 공급부까지의 영역의 분위기와, 출구로부터 출구 측 가스 공급부까지의 영역의 분위기를 보다 확실하게 분리하여 차단할 수 있다.According to this configuration, a pair of outlet-side gas supply units is installed, and an outlet-side exhaust unit is installed between them. For this reason, from the water vapor discharge section toward the outlet side, they are arranged in the following order: the water vapor discharge section, one of the pair of outlet side gas supply sections, the outlet side exhaust section, and the other of the pair of outlet side gas supply sections. With this configuration, some water vapor that flows to the outlet side but is not completely discharged from the water vapor discharge section and leaks is mixed with the gas supplied from one of the pair of outlet side gas supply sections and is diluted. Then, the water vapor mixed with the gas supplied from one of the pair of outlet-side gas supply parts and diluted is exhausted to the outside from the outlet-side exhaust part. For this reason, some water vapor that flows to the outlet side to leak out of the water vapor discharge section is also exhausted from the outlet side exhaust section. As a result, it is possible to prevent water vapor from flowing into the low-temperature area between the outlet side exhaust portion and the outlet. This prevents water vapor from flowing into the low-temperature area between the outlet side exhaust unit and the outlet, causing condensation. By preventing the occurrence of condensation, it is prevented from dripping moisture on the object to be treated and making the object wet when the object to be treated is carried out from the outlet. In addition, according to the above configuration, the gas supplied from the other of the pair of outlet-side gas supply parts, that is, the outlet-side gas supply part disposed between the outlet-side exhaust part and the outlet, is used to separate the water vapor from the water vapor supply part to the outlet-side gas supply part. The atmosphere of the area up to and the atmosphere of the area from the outlet to the outlet gas supply part can be more reliably separated and blocked.
(6) 상기 수증기 공급부는, 상기 피처리물의 반송 방향에 있어서 서로 대향하여 배치된 한 쌍의 노즐부를 구비하고, 한 쌍의 상기 노즐부의 각각은, 대향하는 한 쌍의 상기 노즐부의 중간 위치 측을 향하여 과열 수증기를 취출(吹出)하도록 구성되어 있는 경우가 있다.(6) The water vapor supply unit is provided with a pair of nozzle parts arranged to face each other in the conveyance direction of the object to be treated, and each of the pair of nozzle parts is positioned at an intermediate position of the pair of opposing nozzle parts. In some cases, it is configured to blow out superheated water vapor.
이 구성에 의하면, 수증기 공급부의 한 쌍의 노즐부의 각각으로부터 취출된 과열 수증기는, 대향하는 한 쌍의 노즐부의 중간 위치 측을 향하여 흐른다. 대향하는 한 쌍의 노즐부의 사이의 영역에는, 피처리물의 반송 방향과 평행인 방향에 있어서의 가스의 유동을 부분적으로 규제하도록 구성된 칸막이 판이 설치되어 있는 경우와, 그와 같은 칸막이 판이 설치되어 있지 않은 경우가 있다. 칸막이 판이 설치되어 있는 경우는, 각 노즐부로부터 취출되어 한 쌍의 노즐부의 중간 위치 측을 향하여 흐른 각 과열 수증기는, 칸막이 판에 충돌하고, 가열 영역에 있어서 피처리물의 반송 방향에 수직인 단면의 전체에 걸쳐 퍼지면서 피처리물의 반송 방향과 평행인 방향에 있어서 반전하여 되돌아 오는 것과 같이 흐른다. 또, 칸막이 판이 설치되어 있지 않은 경우는, 각 노즐부로부터 취출되어 한 쌍의 노즐부의 중간 위치 측을 향하여 흐른 각 과열 수증기는, 서로 충돌하고, 가열 영역에 있어서 피처리물의 반송 방향에 수직인 단면의 전체에 걸쳐 퍼지면서 피처리물의 반송 방향과 평행인 방향에 있어서 반전하여 되돌아 오는 것과 같이 흐른다. 이 때문에, 칸막이 판이 설치되어 있는 경우 및 되어 있지 않은 경우 중 어느 것에 있어서도, 각 노즐부로부터 취출된 과열 수증기는, 한 쌍의 노즐부의 중간 위치 측을 향하여 흘러 반전된 후, 가열 영역에 있어서 피처리물의 반송 방향에 수직인 단면의 전체에 걸쳐 퍼진 상태로, 한 쌍의 노즐부의 중간 위치 측과 반대 방향을 향하여 피처리물의 반송 방향과 평행인 방향을 따라 흐르게 된다. 즉, 한 쌍의 노즐부의 각각으로부터 취출된 과열 수증기는, 한 쌍의 노즐부의 중간 위치 측에서 흐름이 반전된 후, 가열 영역의 단면의 전체에 퍼진 상태로, 피처리물의 반송 방향과 평행인 방향을 따라 서로 떨어지는 방향을 따라 흐르게 된다. 이 때문에, 한 쌍의 노즐부 중 한쪽으로부터 취출한 과열 수증기는, 한 쌍의 노즐부의 중간 위치 측으로부터 열처리실의 입구 측을 향하여 가열 영역의 단면의 전체에 퍼진 상태로 흐르게 된다. 그리고, 한 쌍의 노즐부 중 다른 쪽으로부터 취출한 과열 수증기는, 한 쌍의 노즐부의 중간 위치 측으로부터 열처리실의 출구 측을 향하여 가열 영역의 단면의 전체에 퍼진 상태로 흐르게 된다. 이에 의하여, 열처리실 내에 있어서는, 한 쌍의 노즐부의 중간 위치 측으로부터 입구 측 및 출구 측의 각각을 향하여, 피처리물의 반송 방향과 평행인 방향을 따라 가열 영역의 단면의 전체에 퍼진 상태로 유속의 편차가 더욱 적어 보다 균일한 수증기의 흐름이 형성된다. 이에 의하여, 열처리실 내에 있어서, 수증기의 흐름이 정체되는 영역이 더 생기기 어려워지고, 그 결과, 열처리실 내에 있어서 분위기가 정체되는 영역이 더 생기기 어려워진다. 따라서, 상기의 구성에 의하면, 열처리실 내에 있어서 분위기의 정체가 발생해 버리는 것을 더욱 억제할 수 있다.According to this configuration, superheated water vapor blown out from each of the pair of nozzle parts of the water vapor supply unit flows toward the middle position of the pair of opposing nozzle parts. In the area between a pair of opposing nozzle portions, there is a case where a partition plate configured to partially regulate the flow of gas in the direction parallel to the conveyance direction of the object to be treated is provided, and there is a case where such a partition plate is not provided. There are cases. In the case where a partition plate is installed, each superheated water vapor blown out from each nozzle unit and flowing toward the middle position of the pair of nozzle units collides with the partition plate, causing a cross-section perpendicular to the conveyance direction of the object to be processed in the heating area. As it spreads throughout the entire area, it reverses and flows in a direction parallel to the transport direction of the object to be processed. In addition, when the partition plate is not installed, the superheated water vapor ejected from each nozzle unit and flowing toward the middle position of the pair of nozzle units collides with each other and forms a cross section perpendicular to the conveyance direction of the object to be treated in the heating area. It spreads throughout the entire area and flows as if reversed and returning in a direction parallel to the transport direction of the object to be processed. For this reason, regardless of whether the partition plate is installed or not, the superheated water vapor blown out from each nozzle unit flows toward the middle position of the pair of nozzle units, is reversed, and is then processed in the heating area. The water spreads across the entire cross section perpendicular to the conveyance direction of the water, and flows in a direction parallel to the conveyance direction of the object to be treated, toward the direction opposite to the intermediate position of the pair of nozzle portions. That is, the superheated water vapor blown out from each of the pair of nozzle parts spreads over the entire cross section of the heating area after the flow is reversed at the middle position of the pair of nozzle parts, and flows in a direction parallel to the conveyance direction of the object to be processed. They flow in opposite directions. For this reason, the superheated water vapor blown out from one of the pair of nozzle parts flows in a state spread across the entire cross section of the heating area from the middle position side of the pair of nozzle parts toward the entrance side of the heat treatment chamber. Then, the superheated water vapor blown out from the other of the pair of nozzle parts flows in a state spread across the entire cross section of the heating area from the middle position side of the pair of nozzle parts toward the outlet side of the heat treatment chamber. As a result, in the heat treatment chamber, the flow rate is spread over the entire cross section of the heating area along the direction parallel to the conveyance direction of the object to be treated, from the intermediate position side of the pair of nozzle portions toward each of the inlet side and the outlet side. The smaller the deviation, the more uniform the flow of water vapor is formed. As a result, it becomes more difficult to create areas in the heat treatment chamber where the flow of water vapor stagnates, and as a result, it becomes more difficult to create areas where the atmosphere stagnates in the heat treatment chamber. Therefore, according to the above configuration, stagnation of the atmosphere within the heat treatment chamber can be further suppressed.
(7) 한 쌍의 상기 입구 측 가스 공급부의 각각과 상기 입구 측 배기부의 사이에는, 각각 입구 측 칸막이 판이 설치되고, 상기 입구 측 칸막이 판은, 상기 열처리실에 있어서의 상기 피처리물의 반송 방향과 평행인 방향에 있어서의 가스의 유동을 부분적으로 규제하도록 구성되어 있는 경우가 있다.(7) An inlet-side partition plate is provided between each of the pair of inlet-side gas supply units and the inlet-side exhaust part, and the inlet-side partition plate is configured to correspond to the transport direction of the object to be treated in the heat treatment chamber. There are cases where it is configured to partially regulate the flow of gas in a parallel direction.
이 구성에 의하면, 한 쌍의 입구 측 가스 공급부의 각각과 입구 측 배기부의 사이에, 피처리물의 반송 방향과 평행인 방향에 있어서의 가스의 유동을 부분적으로 규제하는 입구 측 칸막이 판이 설치된다. 이 때문에, 입구 측 배기부를 사이에 두고 배치된 한 쌍의 입구 측 가스 공급부의 사이에 있어서, 가스가 유동 가능하도록 분위기가 연통된 상태를 유지하면서, 분위기를 보다 분리하기 쉬운 상태를 형성할 수 있다. 이에 의하여, 수증기 공급부로부터 입구 측 가스 공급부까지의 영역의 분위기와, 입구로부터 입구 측 가스 공급부까지의 영역의 분위기를 보다 효율적으로 분리하여 차단할 수 있다.According to this configuration, an inlet-side partition plate is provided between each of the pair of inlet-side gas supply units and the inlet-side exhaust unit to partially regulate the flow of gas in a direction parallel to the transport direction of the object to be processed. For this reason, a state in which the atmosphere can be more easily separated can be formed between a pair of inlet-side gas supply units disposed with the inlet-side exhaust unit in between, while maintaining a state in which the atmosphere is communicated so that the gas can flow. . As a result, the atmosphere in the area from the water vapor supply unit to the inlet-side gas supply unit and the atmosphere in the area from the inlet to the inlet-side gas supply unit can be more efficiently separated and blocked.
(8) 한 쌍의 상기 출구 측 가스 공급부의 각각과 상기 출구 측 배기부의 사이에는, 각각 출구 측 칸막이 판이 설치되고, 상기 출구 측 칸막이 판은, 상기 열처리실에 있어서의 상기 피처리물의 반송 방향과 평행인 방향에 있어서의 가스의 유동을 부분적으로 규제하도록 구성되어 있는 경우가 있다.(8) An outlet-side partition plate is provided between each of the pair of outlet-side gas supply parts and the outlet-side exhaust part, and the outlet-side partition plate is configured to correspond to the transport direction of the object to be treated in the heat treatment chamber. There are cases where it is configured to partially regulate the flow of gas in a parallel direction.
이 구성에 의하면, 한 쌍의 출구 측 가스 공급부의 각각과 출구 측 배기부의 사이에, 피처리물의 반송 방향과 평행인 방향에 있어서의 가스의 유동을 부분적으로 규제하는 출구 측 칸막이 판이 설치된다. 이 때문에, 출구 측 배기부를 사이에 두고 배치된 한 쌍의 출구 측 가스 공급부의 사이에 있어서, 가스가 유동 가능하도록 분위기가 연통된 상태를 유지하면서, 분위기를 보다 분리하기 쉬운 상태를 형성할 수 있다. 이에 의하여, 수증기 공급부로부터 출구 측 가스 공급부까지의 영역의 분위기와, 출구로부터 출구 측 가스 공급부까지의 영역의 분위기를 보다 효율적으로 분리하여 차단할 수 있다.According to this configuration, an outlet-side partition plate is provided between each of the pair of outlet-side gas supply units and the outlet-side exhaust unit to partially regulate the flow of gas in a direction parallel to the transport direction of the object to be processed. For this reason, a state in which the atmosphere can be more easily separated can be formed between a pair of outlet-side gas supply parts disposed with the outlet-side exhaust part in between, while maintaining a state in which the atmosphere is communicated so that the gas can flow. . As a result, the atmosphere in the area from the water vapor supply unit to the outlet-side gas supply unit and the atmosphere in the area from the outlet to the outlet-side gas supply unit can be more efficiently separated and blocked.
본 발명에 의하면, 과열 수증기에 의하여 피처리물의 열처리를 행하는 열처리 장치의 구조의 복잡화를 방지할 수 있음과 더불어, 피처리물의 열처리가 행해지는 열처리실 내에 있어서 분위기의 정체가 발생해 버리는 것을 억제할 수 있다.According to the present invention, it is possible to prevent the complexity of the structure of a heat treatment device that heat-treats the object to be treated using superheated steam, and also prevents stagnation of the atmosphere from occurring in the heat treatment chamber where the heat treatment of the object to be treated is performed. You can.
도 1은, 본 발명의 실시 형태에 따른 열처리 장치의 일례를 모식적으로 나타내는 도면이다.
도 2는, 열처리 장치의 수증기 공급부, 수증기 공급 계통, 수증기 배출부, 수증기 배출 계통, 가스 공급부, 가스 공급 계통 등에 대하여 모식적으로 나타내는 도면이다.
도 3은, 열처리 장치의 일부를 확대하여 나타내는 도면이고, 도 3의 (A)는, 열처리 장치에 있어서의 열처리실의 입구 및 그 근방을 확대하여 나타내는 도면이고, 도 3의 (B)는, 열처리 장치에 있어서의 열처리실의 출구 및 그 근방을 확대하여 나타내는 도면이다.
도 4는, 열처리 장치의 열처리실에 있어서의 수증기 공급부 및 그 근방을 확대하여 나타내는 도면이다.
도 5는, 열처리 장치의 일부의 모식적인 단면도이며, 도 5의 (A)는, 도 4의 A-A선 화살표 시선 위치에서 본 상태를 나타내는 도면이고, 도 5의 (B)는, 도 4의 B-B선 화살표 시선 위치에서 본 상태를 나타내는 도면이다.
도 6은, 열처리 장치의 열처리실에 있어서의 입구 측 수증기 배출부 및 입구 측 가스 공급부와 그 근방을 확대하여 나타내는 도면이다.
도 7은, 열처리 장치의 일부의 모식적인 단면도이며, 도 7의 (A)는, 도 6의 C-C선 화살표 시선 위치에서 본 상태를 나타내는 도면이고, 도 7의 (B)는, 도 6의 D-D선 화살표 시선 위치에서 본 상태를 나타내는 도면이다.
도 8은, 열처리 장치의 열처리실에 있어서의 출구 측 수증기 배출부 및 출구 측 가스 공급부와 그 근방을 확대하여 나타내는 도면이다.
도 9는, 열처리 장치의 일부의 모식적인 단면도이며, 도 9의 (A)는, 도 8의 E-E선 화살표 시선 위치에서 본 상태를 나타내는 도면이고, 도 9의 (B)는, 도 8의 F-F선 화살표 시선 위치에서 본 상태를 나타내는 도면이다.
도 10은, 열처리 장치에 있어서의 열처리실 내의 과열 수증기 및 불활성 가스의 흐름을 설명하기 위한 도면이다.
도 11은, 열처리 장치에 있어서의 열처리실 내의 과열 수증기 및 불활성 가스의 흐름을 설명하기 위한 도면이고, 도 11의 (A)는, 수증기 공급부의 주위의 영역에서의 과열 수증기 및 불활성 가스의 흐름을 설명하는 도면이고, 도 11의 (B)는, 입구 측 수증기 배출부 및 입구 측 가스 공급부의 주위의 영역에서의 과열 수증기 및 불활성 가스의 흐름을 설명하는 도면이고, 도 11의 (C)는, 출구 측 수증기 배출부 및 출구 측 가스 공급부의 주위의 영역에서의 과열 수증기 및 불활성 가스의 흐름을 설명하는 도면이다.1 is a diagram schematically showing an example of a heat treatment apparatus according to an embodiment of the present invention.
FIG. 2 is a diagram schematically showing the water vapor supply section, water vapor supply system, water vapor discharge section, water vapor discharge system, gas supply section, gas supply system, etc. of the heat treatment apparatus.
FIG. 3 is an enlarged view showing a part of the heat treatment device, FIG. 3 (A) is an enlarged view showing the entrance to the heat treatment chamber in the heat treatment device and its vicinity, and FIG. 3 (B) is an enlarged view showing, This is an enlarged view showing the exit of the heat treatment chamber in the heat treatment apparatus and its vicinity.
FIG. 4 is an enlarged view showing the water vapor supply section and its vicinity in the heat treatment chamber of the heat treatment apparatus.
FIG. 5 is a schematic cross-sectional view of a part of the heat treatment apparatus, FIG. 5 (A) is a view showing the state viewed from the line AA line of FIG. 4, and FIG. 5 (B) is a view showing the line BB in FIG. 4 This is a drawing showing the state seen from the line arrow gaze position.
FIG. 6 is an enlarged view showing the inlet side water vapor discharge section and the inlet side gas supply section and their vicinity in the heat treatment chamber of the heat treatment apparatus.
FIG. 7 is a schematic cross-sectional view of a part of the heat treatment apparatus, FIG. 7 (A) is a view showing the state viewed from the line arrow line CC in FIG. 6, and FIG. 7 (B) is a view showing the line DD in FIG. 6 This is a drawing showing the state seen from the line arrow gaze position.
FIG. 8 is an enlarged view showing the outlet-side water vapor discharge portion and the outlet-side gas supply portion and their vicinity in the heat treatment chamber of the heat treatment apparatus.
FIG. 9 is a schematic cross-sectional view of a part of the heat treatment apparatus, FIG. 9 (A) is a view showing the state viewed from the line arrow line EE in FIG. 8, and FIG. 9 (B) is a view showing the line FF in FIG. 8. This is a drawing showing the state seen from the line arrow gaze position.
FIG. 10 is a diagram for explaining the flow of superheated water vapor and inert gas in the heat treatment chamber of the heat treatment apparatus.
FIG. 11 is a diagram for explaining the flow of superheated water vapor and inert gas in the heat treatment chamber of the heat treatment apparatus, and FIG. 11 (A) shows the flow of superheated water vapor and inert gas in the area around the water vapor supply unit. It is an explanatory diagram, and FIG. 11(B) is a diagram illustrating the flow of superheated water vapor and inert gas in the area around the inlet side water vapor discharge unit and the inlet side gas supply part, and FIG. 11(C) is, This is a diagram explaining the flow of superheated water vapor and inert gas in the area around the outlet-side water vapor discharge unit and the outlet-side gas supply unit.
이하, 본 발명을 실시하기 위한 형태에 대하여 도면을 참조하면서 설명한다.EMBODIMENT OF THE INVENTION Hereinafter, the form for carrying out this invention will be described with reference to the drawings.
[열처리 장치의 개략][Overview of heat treatment device]
도 1은, 본 발명의 실시 형태에 따른 열처리 장치(1)의 일례를 모식적으로 나타내는 도면이다. 도 2는, 열처리 장치(1)의 수증기 공급부(13), 수증기 공급 계통(14), 수증기 배출부(15), 수증기 배출 계통(16a, 16b), 가스 공급부(17), 가스 공급 계통(18) 등에 대하여 모식적으로 나타내는 도면이다. 도 3은, 열처리 장치(1)의 일부를 확대하여 나타내는 도면이고, 도 3의 (A)는, 열처리 장치(1)에 있어서의 열처리실(11)의 입구(31) 및 그 근방을 확대하여 나타내는 도면이고, 도 3의 (B)는, 열처리 장치(1)에 있어서의 열처리실(1)의 출구(32) 및 그 근방을 확대하여 나타내는 도면이다.1 is a diagram schematically showing an example of a
도 1 내지 도 3을 참조하여, 열처리 장치(1)는, 금속제의 피처리물(10)을 과열 수증기로 가열하여 피처리물(10)의 열처리를 행하는 장치로서 구성되어 있다. 또한, 과열 수증기는, 비점보다 높은 온도로 가열된 수증기이며, 비점보다 높은 온도의 건조한 수증기이다. 열처리 장치(1)는, 피처리물(10)이 반입되는 입구(31)와 피처리물(10)이 반출되는 출구(32)가 설치된 열처리실(11)을 구비하고 있다. 그리고, 열처리 장치(1)에 있어서는, 열처리실(11) 내에 있어서, 입구(31)로부터 출구(32)를 향하여 피처리물(10)이 반송되면서 과열 수증기로 가열되어 피처리물(10)의 열처리가 행해진다. 열처리 장치(1)에 있어서 과열 수증기를 이용하여 행해지는 피처리물(10)에 대한 열처리로서는, 예를 들면, 탈지 처리, 소결 처리를 예시할 수 있다.Referring to FIGS. 1 to 3 , the
열처리 장치(1)에 있어서 탈지 처리가 행해지는 경우, 열처리 장치(1)에서의 처리 전의 처리 공정에 있어서 기계 가공 등이 실시된 피처리물(10)이, 열처리 장치(1)에 반입된다. 그리고, 열처리 장치(1)에 있어서는, 피처리물(10)에 부착된 유지가, 과열 수증기에 의하여 가열됨으로써 기화되어, 피처리물(10)로부터 제거된다. 또, 열처리 장치(1)에 있어서 소결 처리가 행해지는 경우, 유지 성분을 포함하는 바인더로 결합된 피소결재로서 구성된 피처리물(10)이, 열처리 장치(1)에 반입된다. 그리고, 열처리 장치(1)에 있어서는, 과열 수증기에 의하여 피처리물(10)이 가열되어 바인더가 기화되어 제거되고, 계속해서, 과열 수증기에 의하여 더욱 가열됨으로써, 바인더가 제거된 피처리물(10)이 소결된다.When degreasing treatment is performed in the
열처리 장치(1)에 있어서는, 피처리물(10)은, 열처리실(11)에 반입되고, 열처리실(11) 내에 있어서 반송되면서 과열 수증기에 의하여 가열된다. 이에 의하여, 피처리물(10)에 대한 열처리가 행해진다. 그리고, 열처리실(11) 내에서의 열처리가 종료된 피처리물(10)은, 열처리실(11)로부터 반출된다. 또, 피처리물(10)은, 열처리실(11)에 연속적으로 반송되고, 열처리실(11) 내에서 연속적으로 반송되면서 열처리가 실시되고, 열처리실(11)로부터 연속적으로 반출된다.In the
열처리 장치(11)에서 처리되는 피처리물(10)은, 예를 들면, 금속제의 부재로서 설치되어 있고, 외형이 대략 링 형상 혹은 대략 원통 형상인 부재로서 설치되어 있다. 외형이 대략 링 형상 혹은 대략 원통 형상인 피처리물(10)로서는, 예를 들면, 전동 모터의 코어(철심), 구름 베어링의 외륜 및 내륜 등의 레이스 부재, 평기어 등의 기어, 구름 베어링의 롤러, 샤프트, 와셔 등을 예시할 수 있다. 또한, 피처리물(10)은, 대략 링 형상 또는 대략 원통 형상인 부재로서 구성되어 있지 않아도 되고, 대략 링 형상 또는 대략 원통 형상 이외의 형상으로 형성된 부재로서 구성되어 있어도 된다. 예를 들면, 원기둥 형상, 각기둥 형상, 각통 형상, 직방체 형상, 입방체 형상, 막대 형상, 판 형상, 특수한 단면 형상 혹은 표면 형상을 갖는 형상 등 다양한 형상이어도 된다.The
열처리 장치(1)에 있어서의 열처리실(11)의 입구(31) 및 그 근방의 확대도인 도 3의 (A)에 있어서는, 열처리실(11)에 피처리물(10)이 반입되어 있는 상태를 나타내고 있다. 또, 열처리 장치(1)에 있어서의 열처리실(11)의 출구(32) 및 그 근방의 확대도인 도 3의 (B)에 있어서는, 피처리물(10)이 열처리실(11) 내를 반송되어 열처리실(11)로부터 반출되고 있는 상태를 나타내고 있다. 도 3의 (A) 및 도 3의 (B)를 참조하여, 피처리물(10)은, 열처리실(11)에 반입될 때에는, 예를 들면, 박형의 상자 형상으로 형성된 케이스(10a) 내에 배치된 상태로, 반입된다. 케이스(10a)에는, 복수의 피처리물(10)이, 대략 균등 간격으로 퍼져 배치된 상태로, 수납된다. 그리고, 피처리물(10)은, 케이스(10a) 내에 배치된 상태로 열처리실(11) 내에 반입된다. 또한, 복수의 피처리물(10)을 수납하는 케이스(10a)에는, 주위의 기체가 거의 저항 없이 통과할 수 있도록, 예를 들면, 주위 측면 및 바닥면에 형성된 다수의 구멍과, 상면에 형성된 개구가 형성되어 있다. 이에 의하여, 열처리실(11) 내의 분위기의 과열 수증기가 케이스(10a)를 통과하여 유동하도록 구성되어 있다. 또한, 케이스(10a)는, 열처리실(11) 내의 분위기의 과열 수증기가 케이스(10a)를 거의 저항 없이 통과하도록 유동할 수 있는 구조이면 되고, 예를 들면, 그물 형상의 부재로 형성된 형태여도 된다.In Figure 3 (A), which is an enlarged view of the
열처리 장치(1)는, 열처리실(11), 히터(12), 수증기 공급부(13), 수증기 공급 계통(14), 수증기 배출부(15), 수증기 배출 계통(16a, 16b), 가스 공급부(17), 가스 공급 계통(18), 입구 측 배기부(19), 출구 측 배기부(20), 배기 계통(21a, 21b), 칸막이 판(22), 바인더 배출부(23), 가스 커튼부(24), 제어부(25) 등을 구비하여 구성되어 있다. 이하, 열처리 장치(1)의 구성에 대하여 상세하게 설명한다.The
[열처리실][Heat treatment room]
도 4는, 열처리 장치(1)의 열처리실(11)에 있어서의 수증기 공급부(13) 및 그 근방을 확대하여 나타내는 도면이다. 도 5는, 열처리 장치(11)의 일부의 모식적인 단면도이며, 도 5의 (A)는, 도 4의 A-A선 화살표 시선 위치에서 본 상태를 나타내는 도면이고, 도 5의 (B)는, 도 4의 B-B선 화살표 시선 위치에서 본 상태를 나타내는 도면이다. 도 1 내지 도 5를 참조하여, 열처리실(11)은, 피처리물(10)이 반입되는 입구(31)와 피처리물(10)이 반출되는 출구(32)가 설치되고, 입구(31)로부터 출구(32)를 향하여 반송되는 피처리물(10)의 열처리가 행해지는 열처리로로서 구성되어 있다.FIG. 4 is an enlarged view showing the water
열처리실(11)은, 직선적으로 통 형상으로 연장되는 터널 형상의 외형을 갖고 있고, 피처리물(10)이 반송됨과 더불어 피처리물(10)의 열처리가 행해지는 처리 공간이 내부에 설치되어 있다. 피처리물(10)의 반송 방향, 즉, 열처리실(11) 내에 있어서 피처리물(10)이 반송되는 방향은, 열처리실(11)이 통 형상으로 연장되는 길이 방향과 평행인 방향이 된다. 또한, 도 1 내지 도 3에 있어서, 피처리물(10)의 반송 방향에 대해서는, 일점쇄선의 화살표(X1)로 나타내고 있고, 이하, 반송 방향(X1)이라고 칭한다.The
열처리실(11)은, 한 쌍의 측벽(11a, 11b), 천장벽(11c), 및 바닥벽(11d)을 갖고 있다. 열처리실(11)의 한 쌍의 측벽(11a, 11b), 천장벽(11c), 및 바닥벽(11d)은, 철강제의 판 형상의 부재로 형성되어 있다. 열처리실(11)은, 철강제의 판 형상의 부재로 형성되어 있음으로써, 열처리실(11)을 외부로부터 가열하는 후술하는 히터(12)로부터의 열이 전도되기 쉽도록 구성되어 있다. 한 쌍의 측벽(11a, 11b)은, 평행하게 배치되어 있고, 모두 상하 방향과 반송 방향(X1)을 따라 연장되는 벽부로서 설치되어 있다. 천장벽(11c)은, 열처리실(11)의 상부의 천장 부분을 구획하는 벽부로서 설치되고, 한 쌍의 측벽(11a, 11b)의 상단부를 일체로 결합하도록 설치되어 있다. 또, 천장벽(11c)은, 반송 방향(X1)에 수직인 단면에 있어서 아치 형상으로 연장되도록 형성되어 있다. 바닥벽(11d)은, 열처리실(11)의 바닥 부분을 구획하는 벽부로서 설치되고, 한 쌍의 측벽(11a, 11b)의 하단부를 일체로 결합하도록 설치되어 있다.The
열처리실(11)의 입구(31)는, 열처리실(11)에 있어서의 피처리물(10)이 반입되는 개구로서 설치되어 있다. 본 실시 형태에서는, 입구(31)는, 측벽(11a)의 단부, 측벽(11b)의 단부, 천장벽(11c)의 단부, 및 바닥벽(11d)의 단부로 구획된 개구로서 설치되어 있다. 그리고, 입구(31)는, 열처리실(11)에 있어서, 반송 방향(X1)과 평행인 방향에 있어서의 한쪽의 단부의 개구로서 설치되고, 열처리실(11)에 있어서의 반송 방향(X1)의 상류 측의 단부에서 개구하고 있다. 입구(31)는, 열처리실(11)의 외부에 대하여 개방되어 있고, 문은 설치되어 있지 않아, 상시, 외부에 대하여 개방되어 있다. 또한, 피처리물(10)은, 상술한 바와 같이, 케이스(10a)에 수납된 상태로, 입구(31)로부터 열처리실(11)에 반입된다.The
열처리실(11)의 출구(32)는, 열처리실(11)에 있어서의 피처리물(10)이 반출되는 개구로서 설치되어 있다. 본 실시 형태에서는, 출구(32)는, 측벽(11a)의 단부, 측벽(11b)의 단부, 천장벽(11c)의 단부, 및 바닥벽(11d)의 단부로 구획된 개구로서 설치되어 있다. 그리고, 출구(32)는, 열처리실(11)에 있어서, 반송 방향(X1)과 평행인 방향에 있어서의 입구(31) 측의 단부와는 반대 측의 단부의 개구로서 설치되고, 열처리실(11)에 있어서의 반송 방향(X1)의 하류측의 단부에서 개구하고 있다. 출구(32)는, 열처리실(11)의 외부에 대하여 개방되어 있고, 문은 설치되어 있지 않아, 상시, 외부에 대하여 개방되어 있다. 또한, 피처리물(10)은, 상술한 바와 같이, 케이스(10a)에 수납된 상태로, 출구(32)로부터 열처리실(11)의 외부로 반출된다.The
또, 열처리실(11)에 있어서는, 피처리물(10)의 가열이 행해지는 영역인 가열 영역(HR)이 설치되어 있다. 가열 영역(HR)은, 열처리실(11)에 있어서, 반송 방향(X1)에 있어서의 일부의 영역으로서 설정되어 있다. 또한, 도 1에 있어서는, 열처리실(11)에 있어서의 가열 영역(HR)에 대하여, 반송 방향(X1)에 있어서의 소정의 범위로서 양단 화살표로 나타내고 있고, 열처리실(11)의 외부에 도시한 양단 화살표로 모식적으로 나타내고 있다.Additionally, in the
열처리실(11) 내에 있어서는, 피처리물(10)은, 후술하는 수증기 공급부(13)로부터 공급되는 과열 수증기에 의하여 가열됨과 더불어, 열처리실(11)을 외부로부터 가열하는 후술하는 히터(12)에 의하여 열처리실(11)이 가열됨으로써 열처리실(11)을 통하여 가열된 열처리실(11) 내의 분위기에 의해서도 가열된다. 이 때문에, 열처리실(11)에 있어서, 피처리물(10)의 가열이 행해지는 영역인 가열 영역(HR)은, 과열 수증기에 의한 가열과 히터(12)로부터의 열에 의한 가열(즉, 히터(12)로부터의 열에 의하여 열처리실(11)을 통하여 가열된 열처리실(11) 내의 분위기에 의한 가열) 중 적어도 어느 하나를 행하는 영역으로서 구성된다.Inside the
또한, 열처리실(11) 내에 있어서, 히터(12)로부터의 열에 의한 피처리물(10)의 가열은, 반송 방향(X1)에 있어서 히터(12)가 배치되어 있는 영역에 있어서 행해진다. 그리고, 과열 수증기에 의한 피처리물(10)의 가열은, 열처리실(11) 내에 있어서 분위기에 과열 수증기가 포함되는 영역에 있어서 행해진다. 본 실시 형태에서는, 열처리실(11)에 있어서 과열 수증기에 의한 피처리물(10)의 가열이 행해지는 영역은, 수증기 공급부(13)로부터 후술하는 가스 공급부(17)에 있어서의 입구 측 가스 공급부(36a)까지의 영역, 및, 수증기 공급부(13)로부터 후술하는 가스 공급부(17)에 있어서의 출구 측 가스 공급부(37b)까지의 영역이 된다. 그리고, 본 실시 형태에서는, 열처리실(11)에 있어서, 히터(12)로부터의 열에 의한 피처리물(10)의 가열이 행해지는 영역은, 과열 수증기에 의한 피처리물(10)의 가열이 행해지는 영역에 포함되어 있다. 즉, 열처리실(11)의 반송 방향(X1)에 있어서, 히터(12)로부터의 열에 의한 피처리물(10)의 가열이 행해지는 영역은, 과열 수증기에 의한 피처리물(10)의 가열이 행해지는 영역의 내측에 배치되어 있다. 이 때문에, 본 실시 형태에서는, 가열 영역(HR)은, 수증기 공급부(13)로부터 후술하는 가스 공급부(17)에 있어서의 입구 측 가스 공급부(36a)까지의 영역, 및, 수증기 공급부(13)로부터 후술하는 가스 공급부(17)에 있어서의 출구 측 가스 공급부(37b)까지의 영역이 된다.Additionally, within the
또, 본 실시 형태에서는, 상기한 바와 같이, 히터(12)로부터의 열에 의한 가열이 행해지는 영역이, 과열 수증기에 의한 가열이 행해지는 영역의 내측에 배치되어 있다. 이 때문에, 가열 영역(HR) 내의 영역으로서, 히터(12)로부터의 열에 의한 가열이 행해지는 영역에 있어서는, 히터(12)로부터의 열에 의한 가열과 과열 수증기에 의한 가열의 양쪽 모두의 가열이 행해진다. 그리고, 가열 영역(HR) 내의 영역이고, 히터(12)가 배치되어 있지 않아 히터(12)로부터의 열에 의한 가열이 행해지지 않는 영역에 있어서는, 과열 수증기에 의한 가열만이 행해진다.Additionally, in this embodiment, as described above, the area where heating is performed by heat from the
또한, 본 실시 형태에서는, 히터(12)로부터의 열에 의한 가열이 행해지는 영역이, 과열 수증기에 의한 가열이 행해지는 영역의 내측에 배치된 형태를 예시했지만, 이대로가 아니어도 된다. 히터(12)로부터의 열에 의한 피처리물(10)의 가열이 행해지는 영역이, 과열 수증기에 의한 피처리물(10)의 가열이 행해지는 영역의 내측으로부터 외측에까지 걸쳐 배치되어 있어도 된다. 이 경우, 과열 수증기에 의한 가열이 행해지는 영역이, 히터(12)로부터의 열에 의한 가열이 행해지는 영역의 내측에 배치되게 된다. 그리고, 가열 영역(HR)은, 과열 수증기에 의한 가열이 행해지는 영역을 포함하는 영역이고, 히터(12)로부터의 열에 의한 가열이 행해지는 영역이 된다.In addition, in this embodiment, an example is given in which the area where heating by heat from the
또, 열처리실(11)에는, 반송 기구(33)가 설치되어 있다. 반송 기구(33)는, 피처리물(10)을 열처리실(11) 내에 있어서 반송하는 기구로서 설치되어 있다. 또한, 본 실시 형태에서는, 반송 기구(33)는, 피처리물(10)을 케이스(10a)째 반송하도록, 즉, 케이스(10a)에 수납된 상태로 피처리물(10)을 반송하도록, 구성되어 있다. 반송 기구(33)는, 열처리실(11) 내에 있어서의 하방의 영역에 배치되고, 바닥벽(11d)의 상방에서 바닥벽(11d)의 벽면과 평행하게 반송 방향(X1)을 따라 배치되어 있다. 반송 기구(33)는, 예를 들면, 주회(周回)하는 무단(無端) 형상의 메시 벨트(34)에 의하여 피처리물(10)을 반송하는 기구로서 구성되어 있다. 그리고, 반송 기구(33)는, 메시 벨트(34)가 주회함으로써, 메시 벨트(34)의 상면에 배치된 케이스(10a)에 수납된 피처리물(10)을 케이스(10a)와 함께 반송하도록 구성되어 있다.Additionally, a
또한, 무단 형상의 메시 벨트(34)는, 예를 들면, 그 폭 방향의 양 가장자리부에 롤러 체인이 각각 설치된 구조를 갖고, 롤러 체인에 맞물리는 스프로킷이 설치된 복수의 구동 샤프트(35)에 의하여 구동되어, 주회하도록 구성되어 있다. 복수의 구동 샤프트(35)는, 메시 벨트(34)의 내측에 삽입 통과된 상태로, 각각 축심 둘레로 회전하도록 설치되어 있다. 복수의 구동 샤프트(35)는, 서로 평행하게 연장되도록 배치되고, 한 쌍의 측벽(11a, 11b)에 대하여 수직인 방향을 따라 연장되도록 배치되어 있다. 또, 각 구동 샤프트(35)는, 한 쌍의 측벽(11a, 11b)에 대하여, 회전 자유자재로 지지되어 있다. 또, 각 구동 샤프트(35)에는, 그 축 방향으로 떨어져 배치된 한 쌍의 스프로킷(35a, 35a)이 설치되고, 각 스프로킷(35a)은, 메시 벨트(34)의 양 가장자리부의 각 롤러 체인에 맞물려 있다. 또, 복수의 구동 샤프트(35) 중 적어도 1개는, 제어부(25)로부터의 제어 지령에 의거하여 작동하는 전동 모터(도시 생략)에 의하여 회전 구동되도록 구성되어 있다. 구동 샤프트(35)가 전동 모터에 의하여 회전 구동되면, 구동 샤프트(35)의 회전 구동이, 스프로킷(35a)과 롤러 체인의 맞물림을 통하여 메시 벨트(34)에 전달된다. 그리고, 복수의 구동 샤프트(35)에 의하여 주회 자유자재로 지지된 메시 벨트(34)의 주회 동작이 행해지게 된다. 메시 벨트(34)가 주회 동작을 행하면, 케이스(10a)에 수납된 상태로 메시 벨트(34)의 상면에 배치된 피처리물(10)이 반송되게 된다.In addition, the
[히터][heater]
도 1을 참조하여, 히터(12)는, 열처리실(11)을 외부로부터 가열하는 기구로서 설치되고, 복수 설치되어 있다. 복수의 히터(12)는, 열처리실(11)의 길이 방향을 따라(즉, 반송 방향(X1)을 따라) 직렬로 늘어서서 배치되어 있다. 또한, 도 2 및 도 4 이후의 도면에 있어서는, 히터(12)의 도시는 생략되어 있다.Referring to FIG. 1, a plurality of
각 히터(12)는, 열처리실(11)의 주위에 배치된 발열체(도시 생략)와, 열처리실(11)의 주위에 배치된 발열체의 더욱 외측에서 열처리실(11)의 주위와 발열체를 덮도록 배치된 단열 부재(도시 생략)를 구비하여 구성되어 있다. 발열체는, 열처리실(11)에 있어서의 한 쌍의 측벽(11a, 11b), 천장벽(11c), 및 바닥벽(11d)을 외부로부터 가열하도록 배치되어 있다. 발열체는, 예를 들면, 도시가 생략된 전원으로부터 공급되는 전기 에너지를 열에너지로 변환하는 전열체를 구비하고, 전열체에 통전이 행해짐으로써 발열하도록 구성되어 있다. 또, 히터(12)의 발열체는, 제어부(25)로부터의 제어 지령에 의거하여 작동하고, 발열한다. 제어부(25)로부터의 제어 지령에 의거하여 히터(12)의 발열체가 작동하고 발열하면, 히터(12)의 발열체로부터의 열에 의하여 열처리실(11)의 한 쌍의 측벽(11a, 11b), 천장벽(11c), 및 바닥벽(11d)이 가열된다. 그에 의하여, 열처리실(11) 내의 분위기가 가열된다. 그리고, 열처리실(11)을 반송되는 피처리물(10)은, 과열 수증기에 의하여 가열됨과 더불어, 히터(12)로부터의 열에 의하여 가열된 열처리실(11) 내의 분위기에 의해서도 가열된다.Each
[수증기 공급부][Steam Supply Department]
도 1, 도 2, 도 4, 도 5를 참조하여, 수증기 공급부(13)는, 열처리실(11)에 있어서의 가열 영역(HR)에 설치되어, 열처리실(11) 내에 과열 수증기를 공급하는 기구로서 설치되어 있다. 본 실시 형태에 있어서 예시한 열처리 장치(1)에서는, 수증기 공급부(13)는, 가열 영역(HR)에 있어서의 피처리물(10)의 반송 방향(X1)의 중앙 부분에 설치되어 있다. 또한, 수증기 공급부(13)는, 가열 영역(HR)에 배치되어 있으면 되고, 반송 방향(X1)의 중앙 부분보다 입구(31) 측 혹은 출구(32) 측에 설치되어 있어도 된다.1, 2, 4, and 5, the water
수증기 공급부(13)는, 후술하는 수증기 공급 계통(14)으로부터 공급되는 과열 수증기를 열처리실(11) 내에 공급하는 한 쌍의 노즐부(38a, 38b)를 구비하여 구성되어 있다. 한 쌍의 노즐부(38a, 38b)의 각각은, 원통 형상으로 연장됨과 더불어 원통축 방향의 양단부가 폐쇄된 부재로서 설치되어 있다. 한 쌍의 노즐부(38a, 38b)는, 피처리물(10)의 반송 방향(X1)에 있어서 서로 대향하여 배치되어 있다. 그리고, 피처리물(10)의 반송 방향(X1)에 있어서, 노즐부(38a)가 노즐부(38b)에 대하여 입구(31) 측에 배치되고, 노즐부(38b)가 노즐부(38a)에 대하여 출구(32) 측에 배치되어 있다. 또, 본 실시 형태에서는, 한 쌍의 노즐부(38a, 38b)는, 열처리실(11) 내에 있어서 가열 영역(HR)에 있어서의 반송 방향(X1)의 중앙 부분에 배치되어 있다. 그리고, 노즐부(38a)가, 가열 영역(HR)에 있어서의 반송 방향(X1)의 중앙 위치보다 입구(31) 측에 배치되고, 노즐부(38b)가, 가열 영역(HR)에 있어서의 반송 방향(X1)의 중앙 위치보다 출구(32) 측에 배치되어 있다. 또, 각 노즐부(38a, 38b)는, 그 원통축 방향이, 열처리실(11)의 폭 방향을 따라 수평으로 연장된 상태로, 열처리실(11) 내에 배치되어 있다. 또한, 열처리실(11)의 폭 방향은, 수평으로 연장되는 열처리실(11)의 길이 방향(즉, 반송 방향(X1))과, 열처리실(11)의 높이 방향(즉, 상하 방향)에 대하여 수직인 방향으로서 규정된다.The water
또, 각 노즐부(38a, 38b)는, 그 원통축 방향에 있어서의 대략 중앙 위치에 있어서, 후술하는 수증기 공급 계통(14)의 각 수증기 공급 배관(42a, 42b)에 접속하고 있다. 또한, 노즐부(38a)는, 수증기 공급 배관(42a)에 접속하고, 노즐부(38b)는, 수증기 공급 배관(42b)에 접속하고 있다. 각 수증기 공급 배관(42a, 42b)은, 열처리실(11)의 천장벽(11c)을 관통하고, 열처리실(11) 내의 각 노즐부(38a, 38b)에 접속하고 있다. 각 노즐부(38a, 38b)에 접속한 각 수증기 공급 배관(42a, 42b)은, 천장벽(11c)을 관통한 상태로, 천장벽(11c)에 고정되어 있다. 이에 의하여, 열처리실(11) 내에 있어서, 각 노즐부(38a, 38b)가, 각 수증기 공급 배관(42a, 42b)을 통하여, 천장벽(11c)에 지지되어 있다.In addition, each
각 노즐부(38a, 38b)의 내부와 각 수증기 공급 배관(42a, 42b)의 내부는 연통하고 있고, 각 수증기 공급 배관(42a, 42b)으로부터 공급되는 과열 수증기는, 각 노즐부(38a, 38b)의 내부에 공급된다. 또, 각 노즐부(38a, 38b)에는, 복수의 노즐 구멍(39)이 형성되어 있다. 각 노즐 구멍(39)은, 예를 들면, 원형의 형상으로 개구한 관통 구멍으로서 형성되어 있다. 또한, 각 노즐 구멍(39)의 개구 형상은, 원형의 형상에 한정되지 않고, 예를 들면, 직사각형의 형상, 슬릿형의 형상 등의 다양한 형상으로 형성되어도 된다. 복수의 노즐 구멍(39)은, 각 노즐부(38a, 38b)에 있어서, 그 원통축 방향을 따라 직선 형상으로 늘어서서 배치되고, 예를 들면, 등간격으로 늘어서서 배치되어 있다. 또한, 각 노즐부(38a, 38b)의 원통축 방향은, 열처리실(11)의 폭 방향을 따르고 있기 때문에, 각 노즐부(38a, 38b)에 있어서의 복수의 노즐 구멍(39)은, 열처리실(11)의 폭 방향을 따라 배치되어 있다. 각 수증기 공급 배관(42a, 42b)으로부터 각 노즐부(38a, 38b)에 공급된 과열 수증기는, 각 노즐부(38a, 38b) 내에서 충만하고, 또한, 복수의 노즐 구멍(39)으로부터 외부로 취출된다. 복수의 노즐 구멍(39)으로부터 과열 수증기가 취출됨으로써, 열처리실(11) 내에 각 노즐부(38a, 38b)로부터 과열 수증기가 공급되게 된다.The inside of each
또, 노즐부(38a)에 있어서는, 그 원통축 방향을 따라 배치된 복수의 노즐 구멍(39)은, 모두, 대향하는 한 쌍의 노즐부(38a, 38b)의 중간 위치 측을 향하여 개구하고 있고, 출구(32) 측을 향하여 개구하고 있다. 이 때문에, 한 쌍의 노즐부(38a, 38b) 중 입구(31) 측에 배치된 노즐부(38a)로부터 열처리실(11) 내에 공급되는 과열 수증기는, 입구(31) 측과는 반대 측의 출구(32) 측을 향하여, 노즐부(38a)로부터 취출된다. 또, 본 실시 형태에서는, 노즐부(38a)에 있어서, 복수의 노즐 구멍(39)은, 가열 영역(HR)에 있어서의 반송 방향(X1)의 중앙 위치 측을 향하여 개구하고 있다. 또한, 노즐부(38a)는, 가열 영역(HR)에 있어서의 반송 방향(X1)의 중앙 위치보다 입구(31) 측에 배치되어 있고, 노즐부(38a)의 각 노즐 구멍(39)은, 출구(32) 측을 향하여 개구하고 있다. 이 때문에, 가열 영역(HR)에 있어서의 반송 방향(X1)의 중앙 위치보다 입구(31) 측에 배치된 노즐부(38a)로부터 열처리실(11) 내에 공급되는 과열 수증기는, 입구(31) 측으로부터, 가열 영역(HR)에 있어서의 반송 방향(X1)의 중앙 위치 측을 향하여, 노즐부(38a)로부터 취출된다.In addition, in the
또, 노즐부(38b)에 있어서는, 그 원통축 방향을 따라 배치된 복수의 노즐 구멍(39)은, 모두, 대향하는 한 쌍의 노즐부(38a, 38b)의 중간 위치 측을 향하여 개구하고 있고, 입구(31) 측을 향하여 개구하고 있다. 이 때문에, 한 쌍의 노즐부(38a, 38b) 중 출구(32) 측에 배치된 노즐부(38b)로부터 열처리실(11) 내에 공급되는 과열 수증기는, 출구(32) 측과는 반대 측의 입구(31) 측을 향하여, 노즐부(38b)로부터 취출된다. 또, 본 실시 형태에서는, 노즐부(38b)에 있어서, 복수의 노즐 구멍(39)은, 가열 영역(HR)에 있어서의 반송 방향(X1)의 중앙 위치 측을 향하여 개구하고 있다. 또한, 노즐부(38b)는, 가열 영역(HR)에 있어서의 반송 방향(X1)의 중앙 위치보다 출구(32) 측에 배치되어 있고, 노즐부(38b)의 각 노즐 구멍(39)은, 입구(31) 측을 향하여 개구하고 있다. 이 때문에, 가열 영역(HR)에 있어서의 반송 방향(X1)의 중앙 위치보다 출구(32) 측에 배치된 노즐부(38a)로부터 열처리실(11) 내에 공급되는 과열 수증기는, 출구(32) 측으로부터, 가열 영역(HR)에 있어서의 반송 방향(X1)의 중앙 위치 측을 향하여, 노즐부(38b)로부터 취출된다.In addition, in the
상기의 구성에 의하여, 한 쌍의 노즐부(38a, 38b)의 각각은, 대향하는 한 쌍의 노즐부(38a, 38b)의 중간 위치 측을 향하여 과열 수증기를 취출하도록 구성되어 있다. 또, 본 실시 형태에서는, 노즐부(38a)는, 가열 영역(HR)에 있어서의 반송 방향(X1)의 중앙 부분에 있어서, 입구(31) 측으로부터 가열 영역(HR)에 있어서의 반송 방향(X1)의 중앙 위치 측을 향하여 과열 수증기를 취출하도록, 배치되어 있다. 그리고, 노즐부(38b)는, 가열 영역(HR)에 있어서의 반송 방향(X1)의 중앙 부분에 있어서, 출구(32) 측으로부터 가열 영역(HR)에 있어서의 반송 방향(X1)의 중앙 위치 측을 향하여 과열 수증기를 취출하도록, 배치되어 있다. 이 때문에, 한 쌍의 노즐부(38a, 38b)는, 가열 영역(HR)에 있어서의 반송 방향(X1)의 중앙 위치를 사이에 두고, 피처리물(10)의 반송 방향(X1)에 있어서 서로 대향하여 배치되어 있다. 그리고, 한 쌍의 노즐부(38a, 38b)의 각각은, 가열 영역(HR)에 있어서의 피처리물(10)의 반송 방향(X1)의 중앙 위치 측을 향하여 과열 수증기를 취출하도록 구성되어 있다.With the above configuration, each of the pair of
[수증기 공급 계통][Water vapor supply system]
도 2, 도 4 및 도 5를 참조하여, 수증기 공급 계통(14)은, 과열 수증기를 생성하여 수증기 공급부(13)에 과열 수증기를 공급하는 기구로서 설치되어 있다. 그리고, 수증기 공급 계통(14)은, 과열 수증기 생성부(40), 수증기 공급 배관(41, 42a, 42b)을 구비하여 구성되어 있다.2, 4, and 5, the water
과열 수증기 생성부(40)는, 물을 가열하여 과열 수증기를 생성하는 기구로서 설치되어 있고, 보일러와 과열기를 구비하여 구성되어 있다. 보일러는, 물을 가열하고 증발시켜 비점 정도의 온도의 포화 수증기를 생성하고, 과열기는, 보일러에서 생성된 포화 수증기를 추가로 가열하여 과열 수증기를 생성한다. 과열 수증기 생성부(40)는, 제어부(25)로부터의 제어 지령에 의거하여 작동하여, 과열 수증기를 생성한다. 즉, 제어부(25)로부터의 제어 지령에 의거하여 보일러 및 과열기가 작동하여, 과열 수증기의 생성이 행해진다. 제어부(25)로부터의 제어 지령에 의거하여 과열 수증기 생성부(40)가 작동하여 과열 수증기가 생성되면, 후술하는 수증기 공급 배관(41, 42a, 42b)을 통하여 수증기 공급부(13)의 한 쌍의 노즐부(38a, 38b)에 과열 수증기가 공급된다.The superheated
수증기 공급 배관(41)은, 그 상류단 측에 있어서 과열 수증기 생성부(40)에 접속되고, 과열 수증기 생성부(40)에서 생성된 과열 수증기를 공급하는 배관 계통으로서 설치되어 있다. 또, 수증기 공급 배관(41)은, 그 하류단 측에 있어서, 수증기 공급 배관(42a)과 수증기 공급 배관(42b)에 접속하고 있다. 즉, 수증기 공급 배관(41)은, 병렬로 분기하도록 수증기 공급 배관(42a, 42b)에 접속하고 있다. 수증기 공급 배관(42a)은, 수증기 공급 배관(41)과 노즐부(38a)를 접속하는 배관 계통으로서 설치되고, 과열 수증기 생성부(40)에서 생성되어 수증기 공급 배관(41)을 거쳐 공급된 과열 수증기를 노즐부(38a)에 공급하도록 구성되어 있다. 수증기 공급 배관(42b)은, 수증기 공급 배관(41)과 노즐부(38b)를 접속하는 배관 계통으로서 설치되고, 과열 수증기 생성부(40)에서 생성되어 수증기 공급 배관(41)을 거쳐 공급된 과열 수증기를 노즐부(38b)에 공급하도록 구성되어 있다.The water
[수증기 배출부][Water vapor discharge unit]
도 6은, 열처리 장치(1)의 열처리실(11)에 있어서의 후술하는 입구 측 수증기 배출부(15a) 및 후술하는 입구 측 가스 공급부(36a, 36b)와 그 근방을 확대하여 나타내는 도면이다. 도 7은, 열처리 장치(1)의 일부의 모식적인 단면도이며, 도 7의 (A)는, 도 6의 C-C선 화살표 시선 위치에서 본 상태를 나타내는 도면이고, 도 7의 (B)는, 도 6의 D-D선 화살표 시선 위치에서 본 상태를 나타내는 도면이다. 도 8은, 열처리 장치(1)의 열처리실(11)에 있어서의 후술하는 출구 측 수증기 배출부(15b) 및 후술하는 출구 측 가스 공급부(37a, 37b)와 그 근방을 확대하여 나타내는 도면이다. 도 9는, 열처리 장치(1)의 일부의 모식적인 단면도이며, 도 9의 (A)는, 도 8의 E-E선 화살표 시선 위치에서 본 상태를 나타내는 도면이고, 도 9의 (B)는, 도 8의 F-F선 화살표 시선 위치에서 본 상태를 나타내는 도면이다.FIG. 6 is an enlarged view showing the inlet side water
도 1 내지 도 3, 도 6 내지 도 9를 참조하여, 수증기 배출부(15)는, 열처리실(11) 내의 과열 수증기를 열처리실(11)의 외부로 배출하기 위한 기구로서 설치되어 있다. 그리고, 수증기 배출부(15)는, 열처리실(11)에 있어서, 수증기 공급부(13)에 대하여 입구(31) 측과 출구(32) 측에 각각 설치되어 있다.1 to 3 and 6 to 9, the water
열처리실(11)의 입구(31) 측에는, 수증기 배출부(15)로서, 입구 측 수증기 배출부(15a)가 설치되어 있다. 열처리실(11)의 출구(32) 측에는, 수증기 배출부(15)로서, 출구 측 수증기 배출부(15b)가 설치되어 있다. 본 실시 형태에서는, 입구 측 수증기 배출부(15a) 및 출구 측 수증기 배출부(15b)는, 열처리실(11)에 있어서의 가열 영역(HR) 내에 배치되어 있고, 가열 영역(HR)에 있어서의 반송 방향(X1)의 양단부의 근방의 영역에 각각 배치되어 있다. 또, 본 실시 형태에서는, 입구 측 수증기 배출부(15a)는, 열처리실(11)에 있어서, 반송 방향(X1)을 따라 늘어서는 복수의 히터(12) 중 가장 입구(31) 측에 배치된 히터(12)에 대응하는 위치에 배치되어 있다. 그리고, 출구 측 수증기 배출부(15b)는, 열처리실(11)에 있어서, 반송 방향(X1)을 따라 늘어서는 복수의 히터(12) 중 가장 출구(32) 측에 배치된 히터(12)에 대응하는 위치에 배치되어 있다. 또, 입구 측 수증기 배출부(15a) 및 출구 측 수증기 배출부(15b)는, 가열 영역(HR)의 반송 방향(X1)과 평행인 방향에 있어서의 양단부의 각각의 근방의 영역에 있어서, 천장벽(11c) 측의 영역, 즉, 열처리실(11)의 반송 방향(X1)과 수직인 단면에 있어서의 상측 반분 측의 영역에 배치되어 있다.On the
입구 측 수증기 배출부(15a) 및 출구 측 수증기 배출부(15b)는, 동일하게 구성되어 있고, 열처리실(11)의 폭 방향을 따라 연장되는 중공(中空)의 상자 형상으로 형성되어 있다. 그리고, 입구 측 수증기 배출부(15a) 및 출구 측 수증기 배출부(15b)의 각각은, 반송 방향(X1)에 수직인 단면에 있어서 천장벽(11c)을 따라 아치 형상으로 연장되는 상벽(43a)과, 수평으로 연장되는 하벽(43b)과, 반송 방향(X1)에 수직인 단면을 따라 연장되는 한 쌍의 측벽(43c, 43d)을 구비하여 구성되어 있다. 이에 의하여, 입구 측 수증기 배출부(15a) 및 출구 측 수증기 배출부(15b)의 각각의 내측의 중공 영역은, 상벽(43a), 하벽(43b), 및 한 쌍의 측벽(43c, 43d)으로 둘러싸인 원호 형상의 돔형의 중공 영역으로서 형성되어 있다.The inlet side water
또, 입구 측 수증기 배출부(15a) 및 출구 측 수증기 배출부(15b)의 각각의 하벽(43b)에는, 과열 수증기를 흡입하기 위한 복수의 관통 구멍(도시 생략)이 형성되어 있다. 과열 수증기는, 입구 측 수증기 배출부(15a) 및 출구 측 수증기 배출부(15b)의 각각으로부터 흡입되어 열처리실(11)로부터 배출된다.In addition, a plurality of through holes (not shown) for sucking in superheated water vapor are formed in the
[수증기 배출 계통][Water vapor discharge system]
도 2 및 도 6 내지 도 9를 참조하여, 수증기 배출 계통(16a, 16b)은, 입구 측 수증기 배출부(15a) 및 출구 측 수증기 배출부(15b)로부터 과열 수증기를 흡입하여 열처리실(11)의 외부로 과열 수증기를 배출하는 기구로서 설치되어 있다. 그리고, 수증기 배출 계통(16a, 16b)은, 입구 측 수증기 배출부(15a) 및 출구 측 수증기 배출부(15b)의 각각에 접속되어 있다. 또한, 수증기 배출 계통(16a)은, 입구 측 수증기 배출부(15a)에 접속되어 있고, 입구 측 수증기 배출부(15a)에 흡입된 과열 수증기는, 수증기 배출 계통(16a)에 흡입되어 열처리실(11)로부터 배출된다. 그리고, 수증기 배출 계통(16b)은, 출구 측 수증기 배출부(15b)에 접속되어 있고, 출구 측 수증기 배출부(15b)에 흡입된 과열 수증기는, 수증기 배출 계통(16b)에 흡입되어 열처리실(11)로부터 배출된다.2 and 6 to 9, the water
수증기 배출 계통(16a) 및 수증기 배출 계통(16b)은, 동일하게 구성되고, 모두, 수증기 배출관(44)과 이젝터(45)를 구비하여 구성되어 있다.The water
수증기 배출 계통(16a, 16b)의 각 수증기 배출관(44)은, 열처리실(11)의 천장벽(11c)을 관통하고, 열처리실(11) 내의 입구 측 수증기 배출부(15a) 및 출구 측 수증기 배출부(15b)의 각각에 접속되어 있다. 입구 측 수증기 배출부(15a) 및 출구 측 수증기 배출부(15b)의 각각의 내부와 각 수증기 배출관(44)은 연통하고 있고, 입구 측 수증기 배출부(15a) 및 출구 측 수증기 배출부(15b)의 각각에 흡입된 과열 수증기는, 각 수증기 배출관(44)에 흡입된다. 또, 입구 측 수증기 배출부(15a) 및 출구 측 수증기 배출부(15b)의 각각에 접속된 각 수증기 배출관(44)은, 천장벽(11c)을 관통한 상태로, 천장벽(11c)에 고정되어 있다. 이에 의하여, 열처리실(11) 내에 있어서, 입구 측 수증기 배출부(15a) 및 출구 측 수증기 배출부(15b)의 각각이, 각 수증기 배출관(44)을 통하여, 천장벽(11c)에 지지되어 있다.Each water
수증기 배출 계통(16a, 16b)의 각 이젝터(45)는, 각 수증기 배출관(44)에 대하여, 각 수증기 배출관(44)에 있어서의 입구 측 수증기 배출부(15a) 및 출구 측 수증기 배출부(15b)의 각각에 접속되어 있는 단부와는 반대 측의 단부에 있어서, 접속되어 있다. 그리고, 각 이젝터(45)는, 고압 유체를 이용하여 부압을 발생시킴으로써, 각 수증기 배출관(44)을 통하여 입구 측 수증기 배출부(15a) 및 출구 측 수증기 배출부(15b)의 각각으로부터 과열 수증기를 흡인하고, 또한 흡인한 과열 수증기를 외부로 배출하는 기구로서 설치되어 있다.Each
수증기 배출 계통(16a, 16b)의 각 이젝터(45)는, 예를 들면, 고압 유체로서의 압축 공기가 공급되는 노즐과, 노즐의 주위를 덮는 보디와, 보디에 연통함과 더불어 외부로 개구하는 토출구가 설치된 디퓨저를 구비하여 구성되어 있다. 노즐은, 압축 공기 공급원(도시 생략)으로부터 압축 공기가 공급되도록 구성되어 있다. 또한, 노즐의 상류 측에는, 후술하는 제어부(25)로부터의 제어 지령에 의거하여 개폐하는 전자 밸브가 설치되고, 노즐로의 압축 공기의 급배(給排)가 제어된다. 보디는, 노즐의 하류단의 주위의 영역을 부압 발생 영역으로서 구획함과 더불어 각 수증기 배출관(44)에 접속되어 있다. 또한, 보디에 있어서의 각 수증기 배출관(44)의 하류단에 접속하는 부분에는, 제어부(25)로부터의 제어 지령에 의거하여 개폐하는 전자 밸브가 설치되고, 이젝터(45)를 작동시켜 각 수증기 배출관(44)을 통한 과열 수증기의 흡인 동작을 행하는 경우에는 그 전자 밸브가 개방된다.Each
입구 측 수증기 배출부(15a) 및 출구 측 수증기 배출부(15b)에 의한 바인더의 배출이 행해질 때에는, 제어부(25)로부터의 제어 지령에 의거하여, 수증기 배출 계통(16a, 16b)의 각 이젝터(45)의 전자 밸브가 개방되고, 이젝터(45)가 작동한다. 즉, 노즐의 상류 측의 전자 밸브가 개방됨과 더불어, 보디에 있어서의 각 수증기 배출관(44)의 하류단에 접속하는 부분에 설치된 전자 밸브가 개방되고, 각 이젝터(45)가 작동한다. 각 이젝터(45)가 작동하면, 압축 공기가 노즐로부터 보디 내에 고속으로 취출함으로써 보디 내에서 부압이 발생하고, 이에 의하여, 각 수증기 배출관(44)을 통하여 입구 측 수증기 배출부(15a) 및 출구 측 수증기 배출부(15b)의 각각의 내부의 과열 수증기가 흡인된다. 입구 측 수증기 배출부(15a) 및 출구 측 수증기 배출부(15b)의 각각의 내부의 과열 수증기가 각 수증기 배출관(44)에 흡인됨으로써, 입구 측 수증기 배출부(15a) 및 출구 측 수증기 배출부(15b)의 각각의 하벽(43b)에 설치된 복수의 관통 구멍으로부터 열처리실(11) 내에 있어서의 과열 수증기가 흡입된다. 입구 측 수증기 배출부(15a) 및 출구 측 수증기 배출부(15b)의 각각에 흡입된 과열 수증기는, 각 수증기 배출관(44)을 통하여 각 이젝터(45)의 보디로 유동하고, 보디 내에서 노즐로부터 취출된 압축 공기와 혼합된다. 그리고, 과열 수증기와 압축 공기가 혼합된 상태의 혼합 가스가, 디퓨저 내를 하류측으로 유동하고, 디퓨저의 토출구로부터 외부로 배출된다. 이와 같이 하여, 열처리실(11) 내의 과열 수증기가, 입구 측 수증기 배출부(15a) 및 출구 측 수증기 배출부(15b)의 각각으로부터 흡입되어 각 수증기 배출관(44) 및 각 이젝터(45)를 통하여 외부로 배출된다.When the binder is discharged by the inlet side water
[가스 공급부][Gas Supply Department]
도 1 내지 도 3 및 도 6 내지 도 9를 참조하여, 가스 공급부(17)는, 열처리실(11) 내에 불활성 가스 및 공기 중 적어도 어느 하나를 공급하는 기구로서 설치되어 있다. 즉, 가스 공급부(17)는, 열처리실(11) 내에 불활성 가스를 공급하는 기구로서, 또는, 열처리실(11) 내에 공기를 공급하는 기구로서, 혹은, 열처리실(11) 내에 불활성 가스와 공기의 혼합 가스를 공급하는 기구로서, 설치되어 있다. 또한, 본 실시 형태에서는, 가스 공급부(17)가 열처리실(11) 내에 불활성 가스를 공급하는 기구로서 구성된 형태를 예시하고 있다. 가스 공급부(17)가 열처리실(11) 내에 공급하는 불활성 가스는, 예를 들면, 질소 가스이다. 또한, 가스 공급부(17)가 공급하는 질소 가스 이외의 불활성 가스로서, 예를 들면, 헬륨, 및, 아르곤 가스를 예시할 수 있다.1 to 3 and 6 to 9, the
열처리 장치(1)에 있어서는, 가스 공급부(17)로서, 입구 측 가스 공급부(36a, 36b)와, 출구 측 가스 공급부(37a, 37b)가 설치되어 있다. 열처리실(11)에 있어서, 입구 측 가스 공급부(36a, 36b)는, 수증기 공급부(13)에 대하여 입구(31) 측에 설치되고, 출구 측 가스 공급부(37a, 37b)는, 수증기 공급부(13)에 대하여 출구(32) 측에 설치되어 있다.In the
입구 측 가스 공급부(36a, 36b)는, 한 쌍으로 설치되고, 열처리실(11)에 있어서 수증기 공급부(13)에 대하여 입구(31) 측에 설치된 입구 측 수증기 배출부(15a)보다 더욱 입구(31) 측에 설치되어 있다. 한 쌍의 입구 측 가스 공급부(36a, 36b)의 각각은, 예를 들면, 원통 형상으로 연장됨과 더불어 원통축 방향의 양단부가 폐쇄된 부재로서 설치되어 있다. 한 쌍의 입구 측 가스 공급부(36a, 36b)는, 본 실시 형태에서는, 가열 영역(HR)의 반송 방향(X1)과 평행인 방향에 있어서의 입구(31) 측의 단부의 근방의 영역에 배치되어 있다. 그리고, 한 쌍의 입구 측 가스 공급부(36a, 36b)는, 반송 방향(X1)을 따라 늘어서서 배치되어 있고, 입구 측 가스 공급부(36a)가, 입구 측 가스 공급부(36b)에 대하여, 입구(31) 측에 배치되어 있다. 또, 각 입구 측 가스 공급부(36a, 36b)는, 그 원통축 방향이, 열처리실(11)의 폭 방향을 따라 수평으로 연장된 상태로, 열처리실(11) 내에 배치되어 있다.The inlet side
또, 각 입구 측 가스 공급부(36a, 36b)는, 그 원통축 방향에 있어서의 대략 중앙 위치에 있어서, 불활성 가스를 공급하는 후술하는 가스 공급 계통(18)의 각 분기 배관(48a, 48b)에 접속하고 있다. 또한, 입구 측 가스 공급부(36a)는, 분기 배관(48a)에 접속하고, 입구 측 가스 공급부(36b)는, 분기 배관(48b)에 접속하고 있다. 각 분기 배관(48a, 48b)은, 열처리실(11)의 천장벽(11c)을 관통하고, 열처리실(11) 내의 각 입구 측 가스 공급부(36a, 36b)에 접속하고 있다. 각 입구 측 가스 공급부(36a, 36b)에 접속한 각 분기 배관(48a, 48b)은, 천장벽(11c)을 관통한 상태로, 천장벽(11c)에 고정되어 있다. 이에 의하여, 열처리실(11) 내에 있어서, 각 입구 측 가스 공급부(36a, 36b)가, 각 분기 배관(48a, 48b)을 통하여, 천장벽(11c)에 지지되어 있다.In addition, each inlet side
각 입구 측 가스 공급부(36a, 36b)의 내부와 각 분기 배관(48a, 48b)의 내부는 연통하고 있고, 각 분기 배관(48a, 48b)으로부터 공급되는 불활성 가스는, 각 입구 측 가스 공급부(36a, 36b)의 내부에 공급된다. 또, 각 입구 측 가스 공급부(36a, 36b)에는, 복수의 노즐 구멍(도시 생략)이 형성되어 있다. 복수의 노즐 구멍은, 각 입구 측 가스 공급부(36a, 36b)에 있어서, 그 원통축 방향을 따라 직선 형상으로 늘어서서 배치되고, 예를 들면, 등간격으로 늘어서서 배치되어 있다. 또, 각 입구 측 가스 공급부(36a, 36b)에 있어서 원통축 방향을 따라 배치된 복수의 노즐 구멍은, 모두, 하방을 향하여 개구하고 있다. 이 때문에, 각 입구 측 가스 공급부(36a, 36b)로부터는, 불활성 가스는, 하방을 향하여 취출된다.The inside of each inlet side
상기의 구성에 의하여, 각 분기 배관(48a, 48b)으로부터 각 입구 측 가스 공급부(36a, 36b)에 공급된 불활성 가스는, 각 입구 측 가스 공급부(36a, 36b) 내에서 충만하고, 또한, 복수의 노즐 구멍으로부터 하방을 향하여 외부로 취출한다. 그리고, 복수의 노즐 구멍으로부터 불활성 가스가 취출됨으로써, 열처리실(11) 내에 각 입구 측 가스 공급부(36a, 36b)로부터 불활성 가스가 공급되게 된다. 입구 측 수증기 배출부(15a)보다 입구(31) 측에 설치된 입구 측 가스 공급부(36a, 36b)로부터 불활성 가스가 공급됨으로써, 입구(31)와 입구 측 수증기 배출부(15a)의 사이에 있어서 열처리실(11) 내의 분위기가 분리되게 된다.By the above configuration, the inert gas supplied from each
출구 측 가스 공급부(37a, 37b)는, 한 쌍으로 설치되고, 열처리실(11)에 있어서 수증기 공급부(13)에 대하여 출구(32) 측에 설치된 출구 측 수증기 배출부(15b)보다 더욱 출구(32) 측에 설치되어 있다. 한 쌍의 출구 측 가스 공급부(37a, 37b)의 각각은, 예를 들면, 원통 형상으로 연장됨과 더불어 원통축 방향의 양단부가 폐쇄된 부재로서 설치되어 있다. 한 쌍의 출구 측 가스 공급부(37a, 37b)는, 본 실시 형태에서는, 가열 영역(HR)의 반송 방향(X1)과 평행인 방향에 있어서의 출구(32) 측의 단부의 근방의 영역에 배치되어 있다. 그리고, 한 쌍의 출구 측 가스 공급부(37a, 37b)는, 반송 방향(X1)을 따라 늘어서서 배치되어 있고, 출구 측 가스 공급부(37b)가, 출구 측 가스 공급부(37a)에 대하여, 출구(32) 측에 배치되어 있다. 또, 각 출구 측 가스 공급부(37a, 37b)는, 그 원통축 방향이, 열처리실(11)의 폭 방향을 따라 수평으로 연장된 상태로, 열처리실(11) 내에 배치되어 있다.The outlet side
또, 각 출구 측 가스 공급부(37a, 37b)는, 그 원통축 방향에 있어서의 대략 중앙 위치에 있어서, 불활성 가스를 공급하는 후술하는 가스 공급 계통(18)의 각 분기 배관(48c, 48d)에 접속하고 있다. 또한, 출구 측 가스 공급부(37a)는, 분기 배관(48c)에 접속하고, 출구 측 가스 공급부(37b)는, 분기 배관(48d)에 접속하고 있다. 각 분기 배관(48c, 48d)은, 열처리실(11)의 천장벽(11c)을 관통하고, 열처리실(11) 내의 각 출구 측 가스 공급부(37a, 37b)에 접속하고 있다. 각 출구 측 가스 공급부(37a, 37b)에 접속한 각 분기 배관(48c, 48d)은, 천장벽(11c)을 관통한 상태로, 천장벽(11c)에 고정되어 있다. 이에 의하여, 열처리실(11) 내에 있어서, 각 출구 측 가스 공급부(37a, 37b)가, 각 분기 배관(48c, 48d)을 통하여, 천장벽(11c)에 지지되어 있다.In addition, each outlet-side
각 출구 측 가스 공급부(37a, 37b)의 내부와 각 분기 배관(48c, 48d)의 내부는 연통하고 있고, 각 분기 배관(48c, 48d)으로부터 공급되는 불활성 가스는, 각 출구 측 가스 공급부(37a, 37b)의 내부에 공급된다. 또, 각 출구 측 가스 공급부(37a, 37b)에는, 복수의 노즐 구멍(도시 생략)이 형성되어 있다. 복수의 노즐 구멍은, 각 출구 측 가스 공급부(37a, 37b)에 있어서, 그 원통축 방향을 따라 직선 형상으로 늘어서서 배치되고, 예를 들면, 등간격으로 늘어서서 배치되어 있다. 또, 각 출구 측 가스 공급부(37a, 37b)에 있어서 원통축 방향을 따라 배치된 복수의 노즐 구멍은, 모두, 하방을 향하여 개구하고 있다. 이 때문에, 각 출구 측 가스 공급부(37a, 37b)에서는, 불활성 가스는, 하방을 향하여 취출된다.The inside of each outlet side
상기의 구성에 의하여, 각 분기 배관(48c, 48d)으로부터 각 출구 측 가스 공급부(37a, 37b)에 공급된 불활성 가스는, 각 출구 측 가스 공급부(37a, 37b) 내에서 충만하고, 또한, 복수의 노즐 구멍으로부터 하방을 향하여 외부로 취출한다. 그리고, 복수의 노즐 구멍으로부터 불활성 가스가 취출됨으로써, 열처리실(11) 내에 각 출구 측 가스 공급부(37a, 37b)로부터 불활성 가스가 공급되게 된다. 출구 측 수증기 배출부(15b)보다 출구(32) 측에 설치된 출구 측 가스 공급부(37a, 37b)로부터 불활성 가스가 공급됨으로써, 출구(32)와 출구 측 수증기 배출부(15b)의 사이에 있어서 열처리실(11) 내의 분위기가 분리되게 된다.By the above configuration, the inert gas supplied from each
[가스 공급 계통][Gas supply system]
도 2 및 도 6 내지 도 9를 참조하여, 가스 공급 계통(18)은, 불활성 가스를 가스 공급부(17)에 공급하는 기구로서 설치되어 있다. 그리고, 가스 공급 계통(18)은, 불활성 가스 공급원(46), 공통 배관(47), 분기 배관(48a, 48b, 48c, 48d), 가스 공급 밸브(49a, 49b, 49c, 49d)를 구비하여 구성되어 있다.2 and FIGS. 6 to 9, the
불활성 가스 공급원(46)은, 대기압 이상의 고압의 불활성 가스를 공급하는 공급원으로서 설치되고, 예를 들면, 대기압 이상의 고압으로 압축된 상태의 불활성 가스가 저장된 탱크 혹은 봄베 등의 용기로서 구성되어 있다. 공통 배관(46a)은, 불활성 가스 공급원(46)에 접속되고, 불활성 가스 공급원(46)으로부터 고압의 불활성 가스를 분기 배관(48a, 48b, 48c, 48d)에 공급하기 위한 배관 계통으로서 설치되어 있다.The inert
분기 배관(48a, 48b, 48c, 48d)은, 공통 배관(47)으로부터 분기하고, 공통 배관(47)과 가스 공급부(17)의 입구 측 가스 공급부(36a, 36b) 및 출구 측 가스 공급부(37a, 37b)를 접속하는 배관 계통으로서 설치되어 있다. 4개의 분기 배관(48a, 48b, 48c, 48d)은, 공통 배관(47)으로부터 병렬로 분기하고 있다. 그리고, 각 분기 배관(48a, 48b)은, 각 입구 측 가스 공급부(36a, 36b)에 각각 접속하고, 각 분기 배관(48c, 48d)은, 각 출구 측 가스 공급부(37a, 37b)에 각각 접속하고 있다. 구체적으로는, 분기 배관(48a)은, 공통 배관(47)과 입구 측 가스 공급부(36a)를 접속하고, 불활성 가스를 입구 측 가스 공급부(36a)에 공급하도록 구성되어 있다. 분기 배관(48b)은, 공통 배관(47)과 입구 측 가스 공급부(36b)를 접속하고, 불활성 가스를 입구 측 가스 공급부(36b)에 공급하도록 구성되어 있다. 분기 배관(48c)은, 공통 배관(47)과 출구 측 가스 공급부(37a)를 접속하고, 불활성 가스를 출구 측 가스 공급부(37a)에 공급하도록 구성되어 있다. 분기 배관(48d)은, 공통 배관(47)과 출구 측 가스 공급부(37b)를 접속하고, 불활성 가스를 출구 측 가스 공급부(37b)에 공급하도록 구성되어 있다.The
가스 공급 밸브(49a, 49b, 49c, 49d)의 각각은, 전자 밸브로서 설치되고, 분기 배관(48a, 48b, 48c, 48d)의 각각에 설치되어 있다. 또한, 가스 공급 밸브(49a)가 분기 배관(48a)에 설치되고, 가스 공급 밸브(49b)가 분기 배관(48b)에 설치되고, 가스 공급 밸브(49c)가 분기 배관(48c)에 설치되고, 가스 공급 밸브(49d)가 분기 배관(48d)에 설치되어 있다. 각 가스 공급 밸브(49a, 49b, 49c, 49d)는, 개폐 동작을 행함으로써, 각 분기 배관(48a, 48b, 48c, 48d)의 상태를 개방 상태와 폐쇄 상태로 전환하도록 구성되어 있다. 각 가스 공급 밸브(49a, 49b, 49c, 49d)는, 제어부(25)로부터의 제어 지령에 의거하여 작동한다. 제어부(25)로부터의 제어 지령에 의거하여 각 가스 공급 밸브(49a, 49b, 49c, 49d)가 개방 동작을 행하여, 각 분기 배관(48a, 48b, 48c, 48d)의 상태가 개방 상태로 전환되었을 때에는, 불활성 가스 공급원(46)과 각 입구 측 가스 공급부(36a, 36b) 및 각 출구 측 가스 공급부(37a, 37b)가, 공통 배관(47)과 각 분기 배관(48a, 48b, 48c, 48d)을 통하여 연통한다. 이에 의하여, 불활성 가스 공급원(46)으로부터 공급되는 불활성 가스가, 공통 배관(47) 및 각 분기 배관(48a, 48b, 48c, 48d)을 통하여 각 입구 측 가스 공급부(36a, 36b) 및 각 출구 측 가스 공급부(37a, 37b)에 공급된다. 그리고, 각 입구 측 가스 공급부(36a, 36b) 및 각 출구 측 가스 공급부(37a, 37b)로부터 열처리실(11) 내에 불활성 가스가 공급된다. 또한, 제어부(25)로부터의 제어 지령에 의거하여 각 가스 공급 밸브(49a, 49b, 49c, 49d)가 폐쇄 동작을 행하여, 각 분기 배관(48a, 48b, 48c, 48d)의 상태가 폐쇄 상태로 전환되어 연통이 차단되었을 때에는, 불활성 가스는, 열처리실(11)에는 공급되지 않는다.Each of the
[입구 측 배기부, 출구 측 배기부][Inlet side exhaust, outlet side exhaust]
도 1 내지 도 3 및 도 6 내지 도 9를 참조하여, 입구 측 배기부(19) 및 출구 측 배기부(20)는, 열처리실(11) 내의 가스를 열처리실(11)의 외부로 배기하기 위한 기구로서 설치되어 있다.1 to 3 and 6 to 9, the inlet
입구 측 배기부(19)는, 열처리실(11)에 있어서, 한 쌍의 입구 측 가스 공급부(36a, 36b)의 사이에 설치되어 있다. 즉, 입구 측 배기부(19)는, 열처리실(11)에 있어서, 입구 측 가스 공급부(36a)와 입구 측 가스 공급부(36b) 사이의 영역에 설치되어 있다. 이 때문에, 열처리실(11) 내에 있어서의 입구 측 수증기 배출부(15a)보다 입구(31) 측의 영역에 있어서는, 입구 측 수증기 배출부(15a) 측으로부터 입구(31) 측을 향하여, 입구 측 수증기 배출부(15a), 입구 측 가스 공급부(36b), 입구 측 배기부(19), 입구 측 가스 공급부(36a)가, 이 순서로 배치되어 있다. 또, 입구 측 배기부(19)는, 열처리실(11) 내에 있어서의 한 쌍의 입구 측 가스 공급부(36a, 36b)의 사이의 영역에 있어서, 천장벽(11c) 측의 영역, 즉, 열처리실(11)의 반송 방향(X1)과 수직인 단면에 있어서의 상측 반분 측의 영역에 배치되어 있다.The inlet
출구 측 배기부(20)는, 열처리실(11)에 있어서, 한 쌍의 출구 측 가스 공급부(37a, 37b)의 사이에 설치되어 있다. 즉, 출구 측 배기부(20)는, 열처리실(11)에 있어서, 출구 측 가스 공급부(37a)와 출구 측 가스 공급부(37b) 사이의 영역에 설치되어 있다. 이 때문에, 열처리실(11) 내에 있어서의 출구 측 수증기 배출부(15b)보다 출구(32) 측의 영역에 있어서는, 출구 측 수증기 배출부(15b) 측으로부터 출구(32) 측을 향하여, 출구 측 수증기 배출부(15b), 출구 측 가스 공급부(37a), 출구 측 배기부(20), 출구 측 가스 공급부(36b)가, 이 순서로 배치되어 있다. 또, 출구 측 배기부(20)는, 열처리실(11) 내에 있어서의 한 쌍의 출구 측 가스 공급부(37a, 37b)의 사이의 영역에 있어서, 천장벽(11c) 측의 영역, 즉, 열처리실(11)의 반송 방향(X1)과 수직인 단면에 있어서의 상측 반분 측의 영역에 배치되어 있다.The outlet
입구 측 배기부(19) 및 출구 측 배기부(20)는, 동일하게 구성되어 있고, 열처리실(11)의 폭 방향을 따라 연장되는 중공의 상자 형상으로 형성되어 있다. 그리고, 입구 측 배기부(19) 및 출구 측 배기부(20)의 각각은, 반송 방향(X1)에 수직인 단면에 있어서 천장벽(11c)을 따라 아치 형상으로 연장되는 상벽(50a)과, 수평으로 연장되는 하벽(50b)과, 반송 방향(X1)에 수직인 단면을 따라 연장되는 한 쌍의 측벽(50c, 50d)을 구비하여 구성되어 있다. 이에 의하여, 입구 측 배기부(19) 및 출구 측 배기부(20)의 각각의 내측의 중공 영역은, 상벽(50a), 하벽(50b), 및 한 쌍의 측벽(50c, 50d)으로 둘러싸인 원호 형상의 돔형의 중공 영역으로서 형성되어 있다.The inlet
또, 입구 측 배기부(19) 및 출구 측 배기부(20)의 각각의 하벽(50b)에는, 열처리실(11) 내의 가스를 흡입하기 위한 복수의 관통 구멍(도시 생략)이 형성되어 있다. 열처리실(11) 내의 가스는, 입구 측 배기부(19) 및 출구 측 배기부(20)의 각각으로부터 흡입되어 열처리실(11)로부터 배출된다. 또한, 입구 측 배기부(19)로부터는, 입구 측 가스 공급부(36b)로부터 열처리실(11) 내에 공급된 불활성 가스와, 입구 측 가스 공급부(36a)로부터 열처리실(11) 내에 공급되어 입구(31) 측과는 반대 측으로 유동한 불활성 가스와, 입구 측 수증기 배출부(15a)에서 배출되지 않고 입구(31) 측으로 유동한 약간의 과열 수증기가, 열처리실(11) 내의 가스로서 흡입되어 배출된다. 또, 출구 측 배기부(20)에서는, 출구 측 가스 공급부(37a)로부터 열처리실(11) 내에 공급된 불활성 가스와, 출구 측 가스 공급부(37b)로부터 열처리실(11) 내에 공급되어 출구(32) 측과는 반대 측으로 유동한 불활성 가스와, 출구 측 수증기 배출부(15b)에서 배출되지 않고 출구(32) 측으로 유동한 약간의 과열 수증기가, 열처리실(11) 내의 가스로서 흡입되어 배출된다.In addition, a plurality of through holes (not shown) for sucking in the gas in the
[배기 계통][Exhaust system]
도 2 및 도 6 내지 도 9를 참조하여, 배기 계통(21a, 21b)은, 입구 측 배기부(19) 및 출구 측 배기부(20)로부터 열처리실(11) 내의 가스를 흡입하고 그 흡입한 가스를 열처리실(11)의 외부로 배기하는 기구로서 설치되어 있다. 그리고, 배기 계통(21a, 21b)은, 입구 측 배기부(19) 및 출구 측 배기부(20)의 각각에 접속되어 있다. 또한, 배기 계통(21a)은, 입구 측 배기부(19)에 접속되어 있고, 입구 측 배기부(19)에 흡입된 열처리실(11) 내의 가스는, 배기 계통(21a)에 흡입되어 열처리실(11)로부터 배출된다. 그리고, 배기 계통(21b)은, 출구 측 배기부(20)에 접속되어 있고, 출구 측 배기부(20)에 흡입된 열처리실(11) 내의 가스는, 배기 계통(21b)에 흡입되어 열처리실(11)로부터 배출된다.2 and 6 to 9, the
배기 계통(21a) 및 배기 계통(21b)은, 동일하게 구성되고, 모두, 가스 배기관(51)과 이젝터(52)를 구비하여 구성되어 있다.The
배기 계통(21a, 21b)의 각 가스 배기관(51)은, 열처리실(11)의 천장벽(11c)을 관통하고, 열처리실(11) 내의 입구 측 배기부(19) 및 출구 측 배기부(20)의 각각에 접속되어 있다. 입구 측 배기부(19) 및 출구 측 배기부(20)의 각각의 내부와 각 가스 배기관(51)은 연통하고 있고, 입구 측 배기부(19) 및 출구 측 배기부(20)의 각각에 흡입된 가스는, 각 가스 배기관(51)에 흡입된다. 또, 입구 측 배기부(19) 및 출구 측 배기부(20)의 각각에 접속된 각 가스 배기관(51)은, 천장벽(11c)을 관통한 상태로, 천장벽(11c)에 고정되어 있다. 이에 의하여, 열처리실(11) 내에 있어서, 입구 측 배기부(19) 및 출구 측 배기부(20)의 각각이, 각 가스 배기관(51)을 통하여, 천장벽(11c)에 지지되어 있다.Each
배기 계통(21a, 21b)의 각 이젝터(52)는, 각 가스 배기관(51)에 대하여, 각 가스 배기관(51)에 있어서의 입구 측 배기부(19) 및 출구 측 배기부(20)의 각각에 접속되어 있는 단부와는 반대 측의 단부에 있어서, 접속되어 있다. 그리고, 각 이젝터(52)는, 고압 유체를 이용하여 부압을 발생시킴으로써, 각 가스 배기관(51)을 통하여 입구 측 배기부(19) 및 출구 측 배기부(20)의 각각으로부터 가스를 흡인하고, 또한 흡인한 가스를 외부로 배출하는 기구로서 설치되어 있다. 배기 계통(21a, 21b)의 각 이젝터(52)는, 수증기 배출 계통(16a, 16b)의 각 이젝터(45)와 동일하게 구성되어 있다. 즉, 각 이젝터(52)는, 고압 유체로서의 압축 공기가 공급되는 노즐과, 노즐의 주위를 덮는 보디와, 보디에 연통함과 더불어 외부로 개구하는 토출구가 설치된 디퓨저를 구비하여 구성되어 있다. 그리고, 노즐의 상류 측과 보디에 있어서의 가스 배기관(51)의 하류단에 접속하는 부분에 설치된 전자 밸브가 후술하는 제어부(25)로부터의 제어 지령에 의거하여 개폐함으로써, 이젝터(52)의 작동이 제어된다.Each
입구 측 배기부(19) 및 출구 측 배기부(20)에 의한 열처리실(11) 내의 가스의 배출이 행해질 때에는, 제어부(25)로부터의 제어 지령에 의거하여, 배기 계통(21a, 21b)의 각 이젝터(52)의 전자 밸브가 개방되고, 이젝터(52)가 작동한다. 즉, 노즐의 상류 측의 전자 밸브가 개방됨과 더불어, 보디에 있어서의 각 가스 배기관(51)의 하류단에 접속하는 부분에 설치된 전자 밸브가 개방되고, 각 이젝터(52)가 작동한다. 각 이젝터(52)가 작동함으로써, 각 가스 배기관(51)을 통하여 입구 측 배기부(19) 및 출구 측 배기부(20)의 각각의 내부의 가스가 흡인된다. 입구 측 배기부(19) 및 출구 측 배기부(20)의 각각의 가스가 각 가스 배기관(51)에 흡인됨으로써, 입구 측 배기부(19) 및 출구 측 배기부(20)의 각각의 하벽(50b)에 설치된 복수의 관통 구멍으로부터 열처리실(11) 내의 가스가 흡입된다. 입구 측 배기부(19) 및 출구 측 배기부(20)의 각각에 흡입된 가스는, 각 가스 배기관(51)을 통하여 각 이젝터(52)의 보디로 유동하고, 보디 내에서 압축 공기와 혼합되어 각 이젝터(52)의 디퓨저의 토출구로부터 외부로 배출된다. 이와 같이 하여, 열처리실(11) 내의 가스가, 입구 측 배기부(19) 및 출구 측 배기부(20)의 각각으로부터 흡입되어 각 가스 배기관(51) 및 각 이젝터(52)를 통하여 외부로 배출된다.When the gas in the
[칸막이 판][Partition board]
도 1 내지 도 9를 참조하여, 칸막이 판(22)은, 복수 설치되어 있고, 본 실시 형태에서는, 복수의 칸막이 판(22)으로서, 칸막이 판(22a, 22b, 22c, 22d, 22e, 22f, 22g, 22h, 22i, 22j)이 설치되어 있다. 복수의 칸막이 판(22(22a~j))은, 열처리실(11) 내에 있어서 반송 방향(X1)을 따라 배치되어 있다.1 to 9, a plurality of
각 칸막이 판(22(22a~j))은, 열처리실(11)의 반송 방향(X1)과 수직인 단면에 있어서의 상측 반분만큼을 부분적으로 막는 평판 형상의 부재로서 설치되어 있다. 또, 각 칸막이 판(22(22a~j))은, 그 상단의 가장자리 부분이 천장벽(11c)을 따라 배치되고, 천장벽(11c)에 대하여 고정되어 있다. 그리고, 각 칸막이 판(22(22a~j))은, 열처리실(11) 내에 있어서의 상측 반분의 영역에서, 열처리실(11)의 반송 방향(X1)과 수직인 단면을 따라 퍼지도록 설치되어 있다. 각 칸막이 판(22(22a~j))은, 상기와 같이 설치되어 있음으로써, 열처리실(11)에 있어서의 피처리물(10)의 반송 방향(X1)과 평행인 방향에 있어서의 가스의 유동을 부분적으로 규제하도록 구성되어 있다. 또한, 본 실시 형태에서는, 각 칸막이 판(22(22a~j))은, 열처리실(11)의 반송 방향(X1)과 수직인 단면에 있어서, 상측 반분 측의 영역의 가스의 유동을 규제하고, 하측 반분 측의 영역의 가스의 유동을 허용하도록, 구성되어 있다.Each partition plate 22 (22a to j) is provided as a flat member that partially blocks the upper half of the
또, 도 2, 도 3, 도 6, 도 7을 참조하여, 복수의 칸막이 판(22) 중 칸막이 판(22a, 22b)은, 본 실시 형태에 있어서의 입구 측 칸막이 판(22a, 22b)으로서 설치되어 있다. 입구 측 칸막이 판(22a, 22b)은, 한 쌍의 입구 측 가스 공급부(36a, 36b)의 각각과 입구 측 배기부(19)의 사이에 각각 설치되어 있다. 보다 구체적으로는, 입구 측 칸막이 판(22a)은, 입구 측 가스 공급부(36a)와 입구 측 배기부(19)의 사이에 설치되고, 입구 측 배기부(19)에 대하여 입구(31) 측에서 서로 이웃하여 배치되어 있다. 또, 입구 측 칸막이 판(22b)은, 입구 측 배기부(19)와 입구 측 가스 공급부(36b)의 사이에 설치되고, 입구 측 배기부(19)에 대하여 출구(32) 측에서 서로 이웃하여 배치되어 있다.2, 3, 6, and 7, among the plurality of
상기의 배치 구성에 의하여, 열처리실(11) 내에 있어서의 입구 측 가스 공급부(36a, 36b)의 근방의 영역에 있어서, 입구(31) 측으로부터 출구(32) 측을 향하여, 입구 측 가스 공급부(36a), 입구 측 칸막이 판(22a), 입구 측 배기부(19), 입구 측 칸막이 판(22b), 입구 측 가스 공급부(36b)가, 이 순서로 늘어서서 설치되어 있다. 그리고, 입구 측 칸막이 판(22a, 22b)은, 입구 측 가스 공급부(36a, 36b)의 근방의 영역에 있어서, 열처리실(11)에 있어서의 피처리물(10)의 반송 방향(X1)과 평행인 방향에 있어서의 가스의 유동을 부분적으로 규제하도록 구성되어 있다.According to the above-described arrangement, in the area near the inlet
또, 도 2, 도 3, 도 6, 도 7을 참조하여, 복수의 칸막이 판(22) 중 칸막이 판(22c, 22d)은, 열처리실(11) 내에 있어서, 입구 측 수증기 배출부(15a)의 근방에 배치되어 있다. 또, 칸막이 판(22c, 22d)은, 입구 측 수증기 배출부(15a)에 대하여, 반송 방향(X1)에 있어서의 양측에 배치되어 있다. 보다 구체적으로는, 칸막이 판(22c)은, 입구 측 가스 공급부(36b)와 수증기 배출부(15a)의 사이에 설치되고, 입구 측 수증기 배출부(15a)에 대하여 입구(31) 측에서 서로 이웃하여 배치되어 있다. 또, 칸막이 판(22d)은, 입구 측 수증기 배출부(15a)에 대하여 출구(32) 측에서 서로 이웃하여 배치되어 있다.Also, with reference to FIGS. 2, 3, 6, and 7, among the plurality of
또, 도 2, 도 4, 도 5를 참조하여, 복수의 칸막이 판(22) 중 칸막이 판(22e, 22f)은, 열처리실(11) 내에 있어서, 수증기 공급부(13)에 있어서의 한 쌍의 노즐부(38a, 38b)의 사이에 설치되어 있다. 또, 칸막이 판(22e)과 칸막이 판(22f)의 사이에는, 후술하는 바인더 배출부(23)가 배치되어 있다. 또한, 칸막이 판(22e)은, 바인더 배출부(23)에 대하여 입구(31) 측에서 서로 이웃하여 배치되고, 칸막이 판(22f)은, 바인더 배출부(23)에 대하여 출구(32) 측에서 서로 이웃하여 배치되어 있다.2, 4, and 5, among the plurality of
또, 도 2, 도 3, 도 8, 도 9를 참조하여, 복수의 칸막이 판(22) 중 칸막이 판(22g, 22h)은, 열처리실(11) 내에 있어서, 출구 측 수증기 배출부(15b)의 근방에 배치되어 있다. 또, 칸막이 판(22g, 22h)은, 출구 측 수증기 배출부(15b)에 대하여, 반송 방향(X1)에 있어서의 양측에 배치되어 있다. 보다 구체적으로는, 칸막이 판(22g)은, 출구 측 수증기 배출부(15b)에 대하여 입구(31) 측에서 서로 이웃하여 배치되어 있다. 또, 칸막이 판(22h)은, 수증기 배출부(15b)와 출구 측 가스 공급부(37a)의 사이에 설치되고, 출구 측 수증기 배출부(15b)에 대하여 출구(32) 측에서 서로 이웃하여 배치되어 있다.2, 3, 8, and 9, among the plurality of
또, 도 2, 도 3, 도 8, 도 9를 참조하여, 복수의 칸막이 판(22) 중 칸막이 판(22i, 22j)은, 본 실시 형태에 있어서의 출구 측 칸막이 판(22i, 22j)으로서 설치되어 있다. 출구 측 칸막이 판(22i, 22j)은, 한 쌍의 출구 측 가스 공급부(37a, 37b)의 각각과 출구 측 배기부(20)의 사이에 각각 설치되어 있다. 보다 구체적으로는, 출구 측 칸막이 판(22i)은, 출구 측 가스 공급부(37a)와 출구 측 배기부(20)의 사이에 설치되고, 출구 측 배기부(20)에 대하여 출구(32) 측에서 서로 이웃하여 배치되어 있다. 또, 출구 측 칸막이 판(22j)은, 출구 측 배기부(20)와 출구 측 가스 공급부(37b)의 사이에 설치되고, 출구 측 배기부(20)에 대하여 출구(32) 측에서 서로 이웃하여 배치되어 있다.2, 3, 8, and 9, among the plurality of
상기의 배치 구성에 의하여, 열처리실(11) 내에 있어서의 출구 측 가스 공급부(37a, 37b)의 근방의 영역에 있어서, 입구(31) 측으로부터 출구(32) 측을 향하여, 출구 측 가스 공급부(37a), 출구 측 칸막이 판(22i), 출구 측 배기부(20), 출구 측 칸막이 판(22j), 출구 측 가스 공급부(37b)가, 이 순서로 늘어서서 설치되어 있다. 그리고, 출구 측 칸막이 판(22i, 22j)은, 출구 측 가스 공급부(37a, 37b)의 근방의 영역에 있어서, 열처리실(11)에 있어서의 피처리물(10)의 반송 방향(X1)과 평행인 방향에 있어서의 가스의 유동을 부분적으로 규제하도록 구성되어 있다.According to the above-described arrangement, in the area near the outlet
[바인더 배출부][Binder discharge section]
도 1, 도 2, 도 4 및 도 5를 참조하여, 바인더 배출부(23)는, 열처리 장치(1)에 있어서 소결 처리가 행해질 때에, 피처리물(10)로부터 발생하는 기화한 바인더를 열처리실(11)의 외부로 배출하기 위한 기구로서 설치되어 있다. 바인더 배출부(23)는, 예를 들면, 열처리 장치(1)에서의 소결 처리 시, 피처리물(10)로부터 바인더가 대량으로 발생하는 것과 같은 경우에, 대량으로 발생한 바인더를 배출하기 위하여 이용된다.1, 2, 4, and 5, the
바인더 배출부(23)는, 열처리실(11)에 있어서, 칸막이 판(22e)과 칸막이 판(22f)의 사이에 배치되고, 가열 영역(HR)에 있어서의 반송 방향(X1)의 중앙 위치에 배치되어 있다. 칸막이 판(22e, 22f)은, 수증기 공급부(13)의 한 쌍의 노즐부(38a, 38b)의 사이에 배치되어 있고, 바인더 배출부(23)에 대하여, 입구(31) 측에 칸막이 판(22e)이 배치되고, 출구(32) 측에 칸막이 판(22f)이 배치되어 있다. 이 때문에, 본 실시 형태에서는, 가열 영역(HR)에 있어서의 반송 방향(X1)의 중앙 부분에 있어서, 입구(31) 측으로부터 출구(32) 측을 향하여, 노즐부(38a), 칸막이 판(22e), 바인더 배출부(23), 칸막이 판(22f), 노즐부(38b)가, 이 순서로 늘어서서 설치되어 있다. 또, 바인더 배출부(23)는, 열처리실(11) 내에 있어서의 칸막이 판(22e, 22f)의 사이의 영역에 있어서, 천장벽(11c) 측의 영역, 즉, 열처리실(11)의 반송 방향(X1)과 수직인 단면에 있어서의 상측 반분 측의 영역에 배치되어 있다.The
바인더 배출부(23)는, 열처리실(11)의 폭 방향을 따라 연장되는 중공의 상자 형상으로 형성되어 있다. 그리고, 바인더 배출부(23)는, 반송 방향(X1)에 수직인 단면에 있어서 천장벽(11c)을 따라 아치 형상으로 연장되는 상벽(23a)과, 수평으로 연장되는 하벽(23b)과, 반송 방향(X1)에 수직인 단면을 따라 연장되는 한 쌍의 측벽(23c, 23d)을 구비하여 구성되어 있다. 이에 의하여, 바인더 배출부(23) 내의 중공 영역은, 상벽(23a), 하벽(23b), 및 한 쌍의 측벽(23c, 23d)으로 둘러싸인 원호 형상의 돔형의 중공 영역으로서 형성되어 있다. 그리고, 바인더 배출부(23)의 하벽(23b)에는, 바인더를 흡입하기 위한 복수의 관통 구멍(도시 생략)이 형성되어 있다. 또한, 바인더 배출부(23)로부터 바인더가 흡입되어 열처리실(11)로부터 배출될 때에는, 바인더는, 열처리실(11) 내의 분위기의 가스와 함께 바인더 배출부(23)에 흡입되어 배출된다. 즉, 열처리실(11) 내의 분위기에 있어서의 고농도의 바인더를 포함하는 가스가 바인더 배출부(23)에 흡입됨으로써, 바인더가 바인더 배출부(23)에 흡입되어 열처리실(11)로부터 배출된다.The
또, 바인더 배출부(23)는, 바인더 배출부(23)로부터 바인더를 많이 포함하는 가스를 흡입하여 열처리실(11)의 외부로 바인더를 포함하는 가스를 배출하기 위한 바인더 배출 계통(53)에 접속되어 있다. 바인더 배출 계통(53)은, 바인더 배출관(54)과, 이젝터(55)를 구비하여 구성되어 있다.In addition, the
바인더 배출관(54)은, 열처리실(11)의 천장벽(11c)을 관통하고, 열처리실(11) 내의 바인더 배출부(23)에 접속되어 있다. 바인더 배출부(23)의 내부와 바인더 배출관(54)은 연통하고 있고, 바인더 배출부(23)에 흡입된 바인더를 포함하는 가스는, 바인더 배출관(54)에 흡입된다. 또, 바인더 배출부(23)에 접속한 바인더 배출관(54)은, 천장벽(11c)을 관통한 상태로, 천장벽(11c)에 고정되어 있다. 이에 의하여, 열처리실(11) 내에 있어서, 바인더 배출부(23)가, 바인더 배출관(53)을 통하여, 천장벽(11c)에 지지되어 있다.The
이젝터(55)는, 바인더 배출관(54)에 대하여, 바인더 배출부(23)에 접속하고 있는 단부와는 반대 측의 단부에 있어서, 접속되어 있다. 그리고, 이젝터(55)는, 고압 유체를 이용하여 부압을 발생시킴으로써, 바인더 배출관(54)을 통하여 바인더 배출부(23)로부터 바인더를 포함하는 가스를 흡인하고, 또한 흡인한 가스를 외부로 배출하는 기구로서 설치되어 있다. 바인더 배출 계통(53)의 이젝터(55)는, 수증기 배출 계통(16a, 16b)의 이젝터(45)와 동일하게 구성되어 있다. 즉, 이젝터(55)는, 고압 유체로서의 압축 공기가 공급되는 노즐과, 노즐의 주위를 덮는 보디와, 보디에 연통함과 더불어 외부로 개구하는 토출구가 설치된 디퓨저를 구비하여 구성되어 있다. 그리고, 노즐의 상류 측과 보디에 있어서의 바인더 배출관(54)의 하류단에 접속하는 부분에 설치된 전자 밸브가 후술하는 제어부(25)로부터의 제어 지령에 의거하여 개폐함으로써, 이젝터(55)의 작동이 제어된다.The
바인더 배출부(23)에 의한 바인더의 배출이 행해질 때에는, 제어부(25)로부터의 제어 지령에 의거하여, 이젝터(55)의 전자 밸브가 개방되고, 이젝터(55)가 작동한다. 즉, 노즐의 상류 측의 전자 밸브가 개방됨과 더불어, 보디에 있어서의 바인더 배기관(54)의 하류단에 접속하는 부분에 설치된 전자 밸브가 개방되고, 이젝터(55)가 작동한다. 이젝터(55)가 작동함으로써, 바인더 배기관(54)을 통하여 바인더 배출부(23) 내의 가스가 흡인된다. 바인더 배출부(23)의 가스가 바인더 배기관(54)에 흡인됨으로써, 바인더 배기부(23)의 하벽(23b)에 설치된 복수의 관통 구멍으로부터 열처리실(11) 내에 있어서의 바인더를 포함하는 가스가 흡입된다. 바인더 배기부(23)에 흡입된 바인더를 포함하는 가스는, 바인더 배기관(54)을 통하여 이젝터(55)의 보디로 유동하고, 보디 내에서 노즐로부터 취출된 압축 공기와 혼합되어 이젝터(55)의 디퓨저의 토출구로부터 외부로 배출된다. 이와 같이 하여, 열처리실(11) 내의 바인더를 포함하는 가스가, 바인더 배출부(23)로부터 흡입되어 바인더 배기관(54) 및 이젝터(55)를 통하여 외부로 배출된다.When the binder is discharged by the
[가스 커튼부][Gas curtain part]
도 1 및 도 3을 참조하여, 가스 커튼부(24)는, 열처리실(11)에 있어서의 입구(31) 측의 단부와 출구(32) 측의 단부에 있어서, 불활성 가스가 커튼 형상으로 퍼지는 영역을 형성하도록 불활성 가스를 분사하는 기구로서 설치되어 있다. 열처리실(11)의 입구(31) 측의 단부에 있어서는, 가스 커튼부(24)로서, 입구 가스 커튼부(24a)가 설치되고, 열처리실(11)의 출구(32) 측의 단부에 있어서는, 가스 커튼부(24)로서, 출구 가스 커튼부(24b)가 설치되어 있다.1 and 3, the
입구 가스 커튼부(24a) 및 출구 가스 커튼부(24b)는, 각각, 중공의 상자 형상으로 형성되어 있음과 더불어 불활성 가스 공급원(46)으로부터의 불활성 가스가 공급되는 가스 공급 상자를 갖고 있다. 입구 가스 커튼부(24a)의 가스 공급 상자는, 열처리실(11)에 있어서의 입구(31) 측의 단부에 설치되고, 출구 가스 커튼부(24b)의 가스 공급 상자는, 열처리실(11)에 있어서의 출구(32) 측의 단부에 설치되어 있다. 입구 가스 커튼부(24a) 및 출구 가스 커튼부(24b)의 각각의 가스 공급 상자는, 가스 공급 계통(18)의 공통 배관(47)에 대하여, 도시가 생략된 배관을 통하여 접속되어 있고, 불활성 가스 공급원(46)으로부터의 불활성 가스가 공급되도록 구성되어 있다.The inlet
또, 입구 가스 커튼부(24a) 및 출구 가스 커튼부(24b)의 각 가스 공급 상자에는, 열처리실(11) 내에 연통하는 복수의 분사 구멍이 형성되어 있다. 그리고, 각 가스 공급 상자에 설치된 복수의 분사 구멍은, 불활성 가스 공급원(46)으로부터 공급된 불활성 가스를 열처리실(11)의 내부에 분사하도록 구성되어 있다. 또, 입구 가스 커튼부(24a)의 가스 공급 상자의 복수의 분사 구멍은, 입구(31)의 개구면과 평행인 방향을 따라 커튼 형상으로 불활성 가스가 퍼지도록, 불활성 가스를 분사하도록 구성되어 있다. 그리고, 출구 가스 커튼부(24b)의 가스 공급 상자의 복수의 분사 구멍은, 출구(32)의 개구면과 평행인 방향을 따라 커튼 형상으로 불활성 가스가 퍼지도록, 불활성 가스를 분사하도록 구성되어 있다. 열처리실(11)의 입구(31) 측의 단부에 있어서 입구 가스 커튼부(24a)로부터 불활성 가스가 커튼 형상으로 분사됨으로써, 열처리실(11)의 입구(31)의 근방에 있어서, 열처리실(11)의 내측의 영역과 외측의 영역의 분위기가 분리되게 된다. 또, 열처리실(11)의 출구(32) 측의 단부에 있어서 출구 가스 커튼부(24b)로부터 불활성 가스가 커튼 형상으로 분사됨으로써, 열처리실(11)의 출구(32)의 근방에 있어서, 열처리실(11)의 내측의 영역과 외측의 영역의 분위기가 분리되게 된다.Additionally, a plurality of injection holes communicating within the
[제어부][Control unit]
도 2를 참조하여, 열처리실(11)의 반송 기구(33), 히터(12), 수증기 공급 계통(14), 수증기 배출 계통(16a, 16b), 가스 공급 계통(18), 배기 계통(21a, 21b), 바인더 배출 계통(53)의 동작은, 제어부(25)에 의하여 제어된다. 구체적으로는, 제어부(25)는, 반송 기구(33)의 구동 샤프트(35)를 구동하는 전동 모터, 히터(12)의 발열체, 수증기 공급 계통(14)의 과열 수증기 생성부(40)의 보일러 및 과열기, 수증기 배출 계통(16a, 16b)의 이젝터(45)의 전자 밸브, 가스 공급 계통(18)의 가스 공급 밸브(49a~d), 배기 계통(21a, 21b)의 이젝터(52)의 전자 밸브, 및, 바인더 배출 계통(53)의 이젝터(55)의 전자 밸브의 작동을 제어함으로써, 반송 기구(33), 히터(12), 수증기 공급 계통(14), 수증기 배출 계통(16a, 16b), 가스 공급 계통(18), 배기 계통(21a, 21b), 및, 바인더 배출 계통(53)의 동작을 제어한다.Referring to FIG. 2, the
또, 제어부(25)는, CPU(Central Processing Unit) 등의 하드웨어·프로세서, RAM(Random Access Memory) 및 ROM(Read Only Memory) 등의 메모리, 유저에 의하여 조작되는 조작 패널 등의 조작부, 인터페이스 회로 등을 구비하여 구성되어 있다. 제어부(25)의 메모리에는, 구동 샤프트(35)를 구동하는 전동 모터, 히터(12)의 발열체, 과열 수증기 생성부(40)의 보일러 및 과열기, 이젝터(45)의 전자 밸브, 가스 공급 밸브(49a~d), 이젝터(52)의 전자 밸브, 이젝터(55)의 전자 밸브 등의 작동을 제어하는 제어 지령을 작성하기 위한 프로그램이 기억되어 있다. 예를 들면, 작업자에 의하여 조작부가 조작됨으로써, 메모리로부터 상기의 프로그램이 하드웨어·프로세서에 의하여 읽어내어져 실행된다. 이에 의하여, 상기의 제어 지령이 작성되고, 그 제어 지령에 의거하여, 구동 샤프트(35)를 구동하는 전동 모터, 히터(12)의 발열체, 과열 수증기 생성부(40)의 보일러 및 과열기, 이젝터(45)의 전자 밸브, 가스 공급 밸브(49a~d), 이젝터(52)의 전자 밸브, 이젝터(55)의 전자 밸브 등이 작동한다.In addition, the
[열처리 장치의 동작][Operation of heat treatment device]
다음으로, 열처리 장치(1)의 처리 동작의 일례에 대하여 설명한다. 열처리 장치(1)의 처리 동작이 개시될 때에는, 우선, 제어부(25)로부터의 제어 지령에 의거하여, 열처리실(11)의 반송 기구(33), 히터(12), 수증기 공급 계통(14), 수증기 배출 계통(16a, 16b), 가스 공급 계통(18), 배기 계통(21a, 21b)의 작동이 개시된다. 제어부(25)로부터의 제어 지령에 의거하여 열처리 장치(1)의 처리 동작이 개시되면, 구체적으로는, 열처리 장치(1)에 있어서는, 이하의 동작이 행해진다.Next, an example of the processing operation of the
우선, 히터(12)에 의한 열처리실(11) 내의 분위기의 가열이 행해진다. 구체적으로는, 히터(12)의 발열체의 전열체로의 통전이 행해져 발열체가 발열하고, 열처리실(11)이 외부로부터 히터(12)에 의하여 가열된다. 그리고, 열처리실(11)이 외부로부터 가열됨으로써, 열처리실(11) 내의 분위기의 가열이 행해진다.First, the atmosphere in the
또, 열처리실(11)에 있어서, 반송 기구(33)의 구동 샤프트(35)를 구동하는 전동 모터의 운전이 개시되고, 반송 기구(33)의 메시 벨트(34)의 주회 동작이 개시되어, 반송 기구(33)에 의한 열처리실(11) 내에서의 피처리물(10)의 반송이 가능한 상태가 된다. 또한, 전동 모터의 회전 속도가 적절히 설정됨으로써, 메시 벨트(34)의 주회 동작에 의하여 피처리물(10)을 반송할 때의 반송 속도, 즉, 반송 기구(33)에 의한 피처리물(10)의 반송 속도가, 소정의 속도가 되도록 설정된다. 또, 반송 기구(33)에 의한 피처리물(10)의 반송 속도는, 열처리실(11) 내에서 열처리되는 피처리물(10)의 열처리 시간 등의 열처리 조건에 따라 적절히 설정된다.Additionally, in the
또, 수증기 공급 계통(14)의 과열 수증기 생성부(40)의 보일러 및 과열기가 작동하여, 과열 수증기의 생성이 연속적으로 행해진다. 또한, 과열 수증기 생성부(40)에서 생성되는 과열 수증기의 온도와 단위 시간당 생성되는 과열 수증기의 양은, 과열 수증기에 의한 가열에 의하여 열처리가 행해지는 열처리 대상으로서의 피처리물(10)의 열처리 조건에 따라 적절히 설정된다. 과열 수증기 생성부(40)에서 생성되는 가열 수증기는, 수증기 공급 배관(41, 42a, 42b)을 통하여 수증기 공급부(13)의 한 쌍의 노즐부(38a, 38b)에 연속적으로 공급된다. 또한, 각 노즐부(38a, 38b)에 공급되는 과열 수증기는, 각 노즐부(38a, 38b)의 복수의 노즐 구멍(39)으로부터 취출하여, 열처리실(11) 내에 과열 수증기가 연속적으로 공급된다.In addition, the boiler and superheater of the superheated
또, 수증기 배출 계통(16a, 16b)의 각 이젝터(45)의 작동이 개시된다. 이에 의하여, 열처리실(11) 내의 과열 수증기가, 입구 측 수증기 배출부(15a) 및 출구 측 수증기 배출부(15b)의 각각으로부터 흡입되어 각 수증기 배출관(44) 및 각 이젝터(45)를 통하여 외부로 연속적으로 배출된다.Additionally, the operation of each
또, 가스 공급부(17)의 입구 측 가스 공급부(36a, 36b) 및 출구 측 가스 공급부(37a, 37b)로부터의 열처리실(11) 내로의 불활성 가스의 공급이 개시된다. 구체적으로는, 가스 공급 계통(18)의 가스 공급 밸브(49a~d)가 개방 동작을 행하도록 작동하여, 불활성 가스 공급원(46)으로부터 공급되는 불활성 가스가, 공통 배관(47) 및 각 분기 배관(48a~d)을 통하여 입구 측 가스 공급부(36a, 36b) 및 출구 측 가스 공급부(37a, 37b)에 연속적으로 공급된다. 그리고, 입구 측 가스 공급부(36a, 36b) 및 출구 측 가스 공급부(37a, 37b)로부터 열처리실(11) 내에 불활성 가스가 연속적으로 공급된다.In addition, the supply of inert gas into the
또, 배기 계통(21a, 21b)의 이젝터(52)의 작동이 개시된다. 이에 의하여, 열처리실(11) 내의 가스가, 입구 측 배기부(19) 및 출구 측 배기부(20)의 각각으로부터 흡입되어 각 가스 배기관(51) 및 각 이젝터(52)를 통하여 외부로 연속적으로 배출된다.Additionally, the operation of the
또한, 바인더 배출 계통(53)은, 열처리 장치(1)에서 소결 처리가 행해지고, 피처리물(10)로부터 바인더가 대량으로 발생하는 열처리 조건의 경우에, 제어부(25)로부터의 제어 지령에 의거하여 작동한다. 바인더 배출 계통(53)의 이젝터(55)의 작동 중에는, 열처리실(11) 내의 분위기에 있어서의 고농도의 바인더를 포함하는 가스가 바인더 배출부(23)에 흡입되어 열처리실(11)로부터 배출된다.In addition, the
상기와 같이, 열처리 장치(1)의 처리 동작이 개시되면, 가열 영역(HR)에 있어서의 반송 방향(X1)의 중앙 부분에 설치된 수증기 공급부(13)로부터 공급되는 과열 수증기가, 열처리실(11) 내에서 충만하면서 유동한다. 그리고, 수증기 공급부(13)로부터 입구(31) 측 및 출구(32) 측의 수증기 배출부(15)로 흐르는 과열 수증기의 흐름이 계속적으로 형성된다. 즉, 열처리실(11) 내에서 과열 수증기가 충만하면서, 수증기 공급부(13)로부터 입구 측 수증기 배출부(15a)로 흐르는 과열 수증기의 흐름과, 수증기 공급부(13)로부터 출구 측 수증기 배출부(15b)로 흐르는 과열 수증기의 흐름이, 계속적으로 형성된다.As described above, when the processing operation of the
또, 가스 공급부(17)의 입구 측 가스 공급부(36a, 36b)로부터 공급되는 불활성 가스가, 열처리실(11) 내에 있어서의 입구 측 가스 공급부(36a, 36b)의 근방의 영역에서 퍼지도록 유동한다. 이에 의하여, 입구 측 가스 공급부(36a, 36b)의 근방의 영역에 있어서, 불활성 가스에 의한 분위기의 분리가 행해진다. 또, 가스 공급부(17)의 출구 측 가스 공급부(37a, 37b)로부터 공급되는 불활성 가스가, 열처리실(11) 내에 있어서의 출구 측 가스 공급부(37a, 37b)의 근방의 영역에서 퍼지도록 유동한다. 이에 의하여, 출구 측 가스 공급부(37a, 37b)의 근방의 영역에 있어서, 불활성 가스에 의한 분위기의 분리가 행해진다.In addition, the inert gas supplied from the inlet side
상기와 같이, 열처리 장치(1)의 처리 동작이 개시되면, 열처리실(11) 내에 있어서, 수증기 공급부(13)로부터 입구(31) 측 및 출구(32) 측의 수증기 배출부(15)로 흐르는 과열 수증기의 흐름이 계속적으로 형성됨과 더불어, 가스 공급부(17)로부터 공급되는 불활성 가스에 의한 분위기의 분리도 행해진다.As described above, when the processing operation of the
여기서, 열처리 장치(1)의 동작 중에 있어서의 열처리실(11) 내에서의 수증기의 흐름과 불활성 가스에 의한 분위기의 분리에 대하여 추가로 설명한다. 도 10 및 도 11은, 열처리 장치(1)에 있어서의 열처리실(11) 내의 과열 수증기 및 불활성 가스의 흐름을 설명하기 위한 도면이다. 또한, 도 11의 (A)는, 수증기 공급부(13)의 주위의 영역에서의 과열 수증기의 흐름을 설명하는 도면이다. 도 11의 (B)는, 입구 측 수증기 배출부(15a) 및 입구 측 가스 공급부(36a, 36b)의 주위의 영역에서의 과열 수증기 및 불활성 가스의 흐름을 설명하는 도면이다. 도 11의 (C)는, 출구 측 수증기 배출부(15b) 및 출구 측 가스 공급부(37a, 37b)의 주위의 영역에서의 과열 수증기 및 불활성 가스의 흐름을 설명하는 도면이다. 또한, 도 10 및 도 11에 있어서는, 열처리실(11) 내에 있어서의 과열 수증기의 흐름의 방향을 파선(破線)의 화살표로 모식적으로 나타내고 있고, 열처리실(11) 내에 있어서의 불활성 가스의 흐름의 방향을 실선의 화살표로 모식적으로 나타내고 있다.Here, the separation of the flow of water vapor and the atmosphere by the inert gas within the
도 10 및 도 11의 (A)에 나타내는 바와 같이, 수증기 공급부(13)의 한 쌍의 노즐부(38a, 38b)의 각각으로부터 취출된 과열 수증기는, 한 쌍의 노즐부(38a, 38b)의 중간 위치 측을 향하여 흐르고, 본 실시 형태에서는, 가열 영역(HR)에 있어서의 피처리물(10)의 반송 방향(X1)의 중앙 위치 측을 향하여 흐른다. 또, 한 쌍의 노즐부(38a, 38b)의 사이의 영역이고 가열 영역(HR)의 중앙 위치 부근의 영역에는, 칸막이 판(22e, 22f)이 설치되어 있다. 이 때문에, 각 노즐부(38a, 38b)로부터 취출되어 한 쌍의 노즐부(38a, 38b)의 중간 위치 측(본 실시 형태에서는, 가열 영역(HR)의 중앙 위치 측)을 향하여 흐른 각 과열 수증기는, 칸막이 판(22e, 22f)에 충돌한다. 즉, 노즐부(38a)로부터 취출된 과열 수증기는, 칸막이 판(22e)에 충돌하고, 노즐부(38b)로부터 취출된 과열 수증기는, 칸막이 판(22f)에 충돌한다. 그리고, 각 노즐부(38a, 38b)로부터 취출되어 칸막이 판(22e, 22f)에 충돌한 각 과열 수증기는, 가열 영역(HR)에 있어서 반송 방향(X1)에 수직인 단면의 전체에 걸쳐 퍼지면서 반송 방향(X1)과 평행인 방향에 있어서 반전하여 되돌아 오는 것과 같이 흐른다.10 and 11 (A), the superheated water vapor blown out from each of the pair of
상기와 같이, 노즐부(38a)로부터 취출된 과열 수증기는, 한 쌍의 노즐부(38a, 38b)의 중간 위치 측을 향하여 흘러 반전된 후, 가열 영역(HR)에 있어서 반송 방향(X1)에 수직인 단면의 전체에 걸쳐 퍼진 상태로, 한 쌍의 노즐부(38a, 38b)의 중간 위치 측과 반대 방향을 향하여 반송 방향(X1)과 평행인 방향을 따라 흐른다. 즉, 노즐부(38a)로부터 취출한 과열 수증기는, 한 쌍의 노즐부(38a, 38b)의 중간 위치 측으로부터 열처리실(11)의 입구(31) 측을 향하여 가열 영역(HR)의 단면의 전체에 퍼진 상태로 흐른다. 그리고, 노즐부(38b)로부터 취출된 과열 수증기는, 한 쌍의 노즐부(38a, 38b)의 중간 위치 측을 향하여 흘러 반전된 후, 가열 영역(HR)에 있어서 반송 방향(X1)에 수직인 단면의 전체에 걸쳐 퍼진 상태로, 한 쌍의 노즐부(38a, 38b)의 중간 위치 측과 반대 방향을 향하여 반송 방향(X1)과 평행인 방향을 따라 흐른다. 즉, 노즐부(38b)로부터 취출한 과열 수증기는, 한 쌍의 노즐부(38a, 38b)의 중간 위치 측으로부터 열처리실(11)의 출구(32) 측을 향하여 가열 영역(HR)의 단면의 전체에 퍼진 상태로 흐른다. 이에 의하여, 열처리실(11) 내에 있어서는, 한 쌍의 노즐부(38a, 38b)의 중간 위치 측으로부터 입구(31) 측 및 출구(32) 측의 각각을 향하여, 반송 방향(X1)과 평행인 방향을 따라 가열 영역(HR)의 단면의 전체에 퍼진 상태로 유속의 편차가 적은 대략 균일한 수증기의 흐름이 형성된다.As described above, the superheated water vapor blown out from the
또, 노즐부(38a)로부터 취출되어 입구(31) 측으로 흐른 과열 수증기는, 도 10 및 도 11의 (B)에 나타내는 바와 같이, 입구 측 수증기 배출부(15a)를 향하여 흐르고, 입구 측 수증기 배출부(15a)로부터 흡입되어 열처리실(11)의 외부로 배출된다. 또한, 입구 측 수증기 배출부(15a)를 향하여 흐른 과열 수증기는, 칸막이 판(22d)의 하방의 영역을 통과하여 입구 측 수증기 배출부(15a)의 하벽(43b)의 복수의 관통 구멍으로부터 입구 측 수증기 배출부(15a)에 흡입된다. 또, 노즐부(38b)로부터 취출되어 출구(32) 측으로 흐른 과열 수증기는, 도 10 및 도 11의 (C)에 나타내는 바와 같이, 출구 측 수증기 배출부(15b)를 향하여 흐르고, 출구 측 수증기 배출부(15b)로부터 흡입되어 열처리실(11)의 외부로 배출된다. 또한, 출구 측 수증기 배출부(15b)를 향하여 흐른 과열 수증기는, 칸막이 판(22g)의 하방의 영역을 통과하여 출구 측 수증기 배출부(15b)의 하벽(43b)의 복수의 관통 구멍으로부터 입구 측 수증기 배출부(15a)에 흡입된다.In addition, the superheated water vapor blown out from the
상기와 같이, 열처리실(11) 내에 있어서, 수증기 공급부(13)로부터 입구(31) 측 및 출구(32) 측의 수증기 배출부(15)로 흐르는 대략 균일한 과열 수증기의 흐름이 계속적으로 형성된다. 이 때문에, 수증기 공급부(13)로부터 입구(31) 측 및 출구(32) 측의 수증기 배출부(15)까지의 영역에 있어서는, 유동하고 있는 상태의 과열 수증기가 충만해 있음과 더불어, 가열 영역(HR)의 단면의 전체에 퍼진 상태로 유속의 편차가 적은 대략 균일한 과열 수증기의 흐름이 계속적으로 형성된다.As described above, in the
또, 열처리실(11) 내에 있어서의 입구 측 수증기 배출부(15a)보다 입구(31) 측의 영역에서는, 도 10 및 도 11의 (B)에 나타내는 바와 같이, 입구 측 가스 공급부(36a) 및 입구 측 가스 공급부(36b)의 각각으로부터 불활성 가스가 취출된다.Additionally, in the area within the
입구 측 가스 공급부(36a)로부터는, 불활성 가스는, 하방을 향하여 퍼지도록 하여 취출된다. 입구 측 가스 공급부(36a)로부터 취출된 불활성 가스는, 입구 측 가스 공급부(36b)의 근방의 영역에 있어서 충만하도록 퍼지게 된다. 그리고, 입구 측 가스 공급부(36a)의 근방의 영역에서 충만하도록 퍼진 불활성 가스의 일부는, 입구 측 가스 공급부(36a)보다 입구(31) 측의 영역을 향하여 유동한다. 이 때문에, 입구 측 가스 공급부(36a)보다 입구(31) 측의 영역의 분위기의 가스가 입구 측 가스 공급부(36a) 측으로 유동하는 것이 저지된다. 이에 의하여, 수증기 공급부(13)로부터 입구 측 가스 공급부(36a, 36b)까지의 영역의 분위기와, 입구(31)로부터 입구 측 가스 공급부(36a, 36b)까지의 영역의 분위기가, 보다 확실하게 분리되어 차단된다. 또, 입구 측 가스 공급부(36a)로부터 취출된 불활성 가스의 일부는, 입구 측 가스 배기부(19)를 향하여 흘러, 칸막이 판(22a)의 하방의 영역에 충만하도록 퍼진 상태로 칸막이 판(22a)의 하방의 영역을 통과한다. 그리고, 칸막이 판(22a)의 하방의 영역을 통과한 불활성 가스는, 입구 측 가스 배기부(19)의 하벽(50b)의 복수의 관통 구멍으로부터 입구 측 가스 배기부(19)에 흡입되어 열처리실(11)의 외부로 배출된다.The inert gas is blown out from the inlet side
또, 입구 측 가스 공급부(36b)로부터도, 불활성 가스가, 하방을 향하여 퍼지도록 하여 취출된다. 입구 측 가스 공급부(36b)로부터 하방으로 퍼져 취출된 불활성 가스는, 입구 측 가스 배기부(19)를 향하여 흘러, 칸막이 판(22b)의 하방의 영역에 충만하도록 퍼진 상태로 칸막이 판(22b)의 하방의 영역을 통과한다. 그리고, 칸막이 판(22b)의 하방의 영역을 통과한 불활성 가스는, 입구 측 가스 배기부(19)의 하벽(50b)의 복수의 관통 구멍으로부터 입구 측 가스 배기부(19)에 흡입되어 열처리실(11)의 외부로 배출된다.Additionally, the inert gas is blown out from the inlet side
또, 입구 측 가스 공급부(36b)의 근방의 영역에 있어서는, 입구 측 수증기 배출부(15a)에서 완전하게 배출되지 않고 누출되도록 입구(31) 측으로 유동한 약간의 수증기가, 입구 측 가스 공급부(36b)로부터 열처리실(11) 내에 공급되는 불활성 가스와 섞이고, 희석되게 된다. 그리고, 입구 측 가스 공급부(36b)로부터 열처리실(11) 내에 공급된 불활성 가스와 섞여 희석된 수증기는, 입구 측 배기부(19)로부터 외부로 배기된다. 이 때문에, 입구 측 수증기 배출부(15a)로부터 누출되도록 입구(31) 측으로 유동한 약간의 수증기도, 입구 측 배기부(19)로부터 배기된다.Additionally, in the area near the inlet side
상기와 같이, 입구 측 가스 공급부(36a, 36b)로부터 공급되는 불활성 가스가, 열처리실(11) 내에 있어서의 입구 측 가스 공급부(36a, 36b)의 근방의 영역에서 퍼지도록 유동한다. 그리고, 입구(31) 측으로 유동하는 불활성 가스의 흐름과, 입구 측 가스 공급부(36a, 36b)의 사이에 배치된 입구 측 가스 배기부(19)로 유동하는 불활성 가스의 흐름이 계속적으로 형성된다. 이에 의하여, 입구 측 가스 공급부(36a, 36b)의 근방의 영역에 있어서, 입구 측 가스 공급부(36a, 36b)로부터 열처리실(11) 내에 공급되는 불활성 가스에 의한 분위기의 분리가 행해진다.As described above, the inert gas supplied from the inlet side
또, 열처리실(11) 내에 있어서의 출구 측 수증기 배출부(15b)보다 출구(32) 측의 영역에서는, 도 10 및 도 11의 (C)에 나타내는 바와 같이, 출구 측 가스 공급부(37a) 및 출구 측 가스 공급부(37b)의 각각으로부터 불활성 가스가 취출된다.In addition, in the area on the
출구 측 가스 공급부(37a)로부터는, 불활성 가스가, 하방을 향하여 퍼지도록 하여 취출된다. 출구 측 가스 공급부(37a)로부터 하방으로 퍼져 취출된 불활성 가스는, 출구 측 가스 배기부(20)를 향하여 흘러, 칸막이 판(22i)의 하방의 영역에 충만하도록 퍼진 상태로 칸막이 판(22i)의 하방의 영역을 통과한다. 그리고, 칸막이 판(22i)의 하방의 영역을 통과한 불활성 가스는, 출구 측 가스 배기부(20)의 하벽(50b)의 복수의 관통 구멍으로부터 출구 측 가스 배기부(20)에 흡입되어 열처리실(11)의 외부로 배출된다.Inert gas is blown out from the outlet side
또, 출구 측 가스 공급부(37a)의 근방의 영역에 있어서는, 출구 측 수증기 배출부(15b)에서 완전하게 배출되지 않고 누출되도록 출구(32) 측으로 유동한 약간의 수증기가, 출구 측 가스 공급부(37a)로부터 열처리실(11) 내에 공급되는 불활성 가스와 섞이고, 희석되게 된다. 그리고, 출구 측 가스 공급부(37a)로부터 열처리실(11) 내에 공급된 불활성 가스와 섞여 희석된 수증기는, 출구 측 배기부(20)로부터 외부로 배기된다. 이 때문에, 출구 측 수증기 배출부(15b)로부터 누출되도록 출구(32) 측으로 유동한 약간의 수증기도, 출구 측 배기부(20)로부터 배기된다.Additionally, in the area near the outlet side
또, 출구 측 가스 공급부(37b)로부터도, 불활성 가스는, 하방을 향하여 퍼지도록 하여 취출된다. 출구 측 가스 공급부(37b)로부터 취출된 불활성 가스는, 출구 측 가스 공급부(37b)의 근방의 영역에 있어서 충만하도록 퍼지게 된다. 그리고, 출구 측 가스 공급부(37b)의 근방의 영역에서 충만하도록 퍼진 불활성 가스의 일부는, 출구 측 가스 공급부(37b)보다 출구(32) 측의 영역을 향하여 유동한다. 이 때문에, 출구 측 가스 공급부(37b)보다 출구(32) 측의 영역의 분위기의 가스가 출구 측 가스 공급부(37b) 측으로 유동하는 것이 저지된다. 이에 의하여, 수증기 공급부(13)로부터 출구 측 가스 공급부(37a, 37b)까지의 영역의 분위기와, 출구(32)로부터 출구 측 가스 공급부(37a, 37b)까지의 영역의 분위기가, 보다 확실하게 분리되어 차단된다. 또, 출구 측 가스 공급부(37b)로부터 취출된 불활성 가스의 일부는, 출구 측 가스 배기부(20)를 향하여 흘러, 칸막이 판(22j)의 하방의 영역에 충만하도록 퍼진 상태로 칸막이 판(22j)의 하방의 영역을 통과한다. 그리고, 칸막이 판(22j)의 하방의 영역을 통과한 불활성 가스는, 출구 측 가스 배기부(20)의 하벽(50b)의 복수의 관통 구멍으로부터 출구 측 가스 배기부(20)에 흡입되어 열처리실(11)의 외부로 배출된다.Additionally, the inert gas is blown out from the outlet side
상기와 같이, 출구 측 가스 공급부(37a, 37b)로부터 공급되는 불활성 가스가, 열처리실(11) 내에 있어서의 출구 측 가스 공급부(37a, 37b)의 근방의 영역에서 퍼지도록 유동한다. 그리고, 출구(32) 측으로 유동하는 불활성 가스의 흐름과, 출구 측 가스 공급부(37a, 37b)의 사이에 배치된 출구 측 가스 배기부(20)로 유동하는 불활성 가스의 흐름이 계속적으로 형성된다. 이에 의하여, 출구 측 가스 공급부(37a, 37b)의 근방의 영역에 있어서, 출구 측 가스 공급부(37a, 37b)로부터 열처리실(11) 내에 공급되는 불활성 가스에 의한 분위기의 분리가 행해진다.As described above, the inert gas supplied from the outlet side
상기와 같이, 열처리 장치(1)의 처리 동작이 개시되어 각 기기가 작동하면, 수증기 공급부(13)로부터 입구(31) 측 및 출구(32) 측의 수증기 배출부(15)까지의 영역에 있어서, 열처리실(11) 내에서 충만하면서 대략 균일하게 유동하는 과열 수증기의 흐름이 계속적으로 형성된 상태가 된다. 그리고, 입구 측 가스 공급부(36a, 36b)의 근방 및 출구 측 가스 공급부(37a, 37b)의 근방의 각각에 있어서, 불활성 가스에 의한 분위기의 분리가 행해진 상태가 된다. 이 상태로, 케이스(10a)에 수납된 피처리물(10)이, 열처리실(11)에 반입된다.As described above, when the processing operation of the
케이스(10a)에 수납된 상태의 피처리물(10)은, 입구(31)로부터 열처리실(11) 내에, 반복하여 연속적으로 순서대로 반입된다. 보다 구체적으로는, 피처리물(10)이 복수 수납된 케이스(10a) 중 1개가 입구(31)로부터 열처리실(11)에 반입되면, 소정 시간 경과 후에, 피처리물(10)이 복수 수납된 다음의 케이스(10a)가 입구(31)로부터 열처리실(11)에 반입된다. 그리고, 또한 소정 시간 경과마다, 피처리물(10)이 복수 수납된 그 다음의 케이스(10a)가 입구(31)로부터 열처리실(11)에 반입된다. 이렇게 하여, 피처리물(10)이 복수 수납된 케이스(10a)가, 입구(31)로부터 열처리실(11) 내에, 반복하여 연속적으로 순서대로 반입된다.The
피처리물(10)을 수납한 케이스(10a)는, 입구(31)로부터 열처리실(11) 내에 반입되면, 반송 기구(33)의 메시 벨트(34)의 상면에 배치된 상태로, 메시 벨트(34)의 주회 동작과 함께, 열처리실(11) 내를 반송 방향(X1)으로 반송된다. 열처리실(11) 내를 반송 방향(X1)으로 케이스(10a)와 함께 반송되는 피처리물(10)은, 입구 측 가스 공급부(36a)의 하방을 통과하면, 가열 영역(HR)으로 진입하고, 가열 영역(HR)에서의 과열 수증기에 의한 가열이 개시된다. 또한, 피처리물(10)은, 입구 측 가스 공급부(36a)의 하방을 통과 후로부터 입구 측 가스 공급부(36b)의 근방에 도달할 때까지의 사이는, 입구 측 수증기 배출부(15a)에서 배출되지 않고 입구(31) 측으로 유동한 약간의 과열 수증기에 의하여 가열된다. 그리고, 입구 측 가스 공급부(36b)의 근방에 도달하고 나서 입구 측 수증기 배출부(15a)의 하방의 영역을 통과할 때까지의 사이는, 입구(31) 측으로 유동한 상기의 약간의 과열 수증기와, 히터(12)로부터의 열에 의하여 가열된 분위기에 의하여 가열된다.When the
피처리물(10)은, 입구 측 수증기 배출부(15a)의 하방을 통과하면, 열처리실(11) 내에서 충만하면서 대략 균일하게 수증기 공급부(13)로부터 입구 측 가스 배출부(15a)로 유동하는 과열 수증기의 분위기 중을 반송 방향(X1)으로 반송된다. 그리고, 피처리물(10)은, 과열 수증기가 유동하는 상기의 분위기 중에서, 가열이 계속된다. 또한, 이 사이, 피처리물(10)은, 히터(12)로부터의 열에 의하여 가열된 분위기에 의해서도 가열된다.When the
피처리물(10)은, 상기와 같이 가열되면서 가열 영역(HR)의 중앙 부분까지 반송된다. 그리고, 피처리물(10)은, 가열 영역(HR)의 중앙 부분에 설치된 수증기 공급부(13)의 하방을 통과하면, 열처리실(11) 내에서 충만하면서 대략 균일하게 수증기 공급부(13)로부터 출구 측 가스 배출부(15b)로 유동하는 과열 수증기의 분위기 중을 반송 방향(X1)으로 반송된다. 그리고, 피처리물(10)은, 과열 수증기가 유동하는 상기의 분위기 중에서, 가열이 계속된다. 또한, 이 사이, 피처리물(10)은, 히터(12)로부터의 열에 의하여 가열된 분위기에 의해서도 가열된다.The object to be treated 10 is conveyed to the central part of the heating region HR while being heated as described above. Then, when the
열처리실(11) 내를 상기와 같이 가열되면서 반송 방향(X1)으로 반송되는 피처리물(10)은, 출구 측 수증기 배출부(15b)의 하방의 영역까지 계속해서 가열되면서 반송된다. 또한, 피처리물(10)에 대하여 행하는 것이 필요한 과열 수증기에 의한 열처리는, 주로, 입구 측 수증기 배출부(15a)의 하방을 통과하고 나서 수증기 공급부(13)의 하방의 영역을 거쳐 출구 측 수증기 배출부(15b)의 하방의 영역에 도달할 때까지의 사이에 있어서의 과열 수증기에 의한 가열에 의하여 행해진다.The
피처리물(10)은, 출구 측 수증기 배출부(15b)의 하방의 영역을 통과하면, 출구 측 수증기 배출부(15b)에서 배출되지 않고 출구(32) 측으로 유동한 약간의 과열 수증기에 의하여 가열된다. 또한, 피처리물(10)은, 출구 측 수증기 배출부(15b)의 하방의 영역으로부터 출구(32) 측으로 반송되면, 출구 측 배기부(20)의 하방을 통과하여 출구 측 가스 공급부(37b)의 하방의 영역에 도달하고, 가열 영역(HR)으로부터 빠져나가게 된다. 피처리물(10)은, 출구 측 가스 공급부(37b)의 하방의 영역을 통과하여 가열 영역(HR)으로부터 빠져나가면, 가열 처리가 행해지는 일 없이, 열처리실(11) 내를 출구(32)까지 반송 방향(X1)을 따라 반송된다. 그리고, 출구(32)에 도달하면, 케이스(10a)에 수납된 상태의 피처리물(10)은, 출구(32)로부터 열처리실(11)의 밖으로 반출된다. 또한, 피처리물(10)이 수납된 케이스(10a)는, 반복하여 연속적으로 순서대로 열처리실(11) 내에 반입되어 있고, 출구(32)로부터의 반출 시에도, 반복하여 연속적으로 순서대로 반출된다.When the
열처리 장치(1)에서의 열처리가 필요한 모든 피처리물(10)의 열처리가 종료되고, 모든 피처리물(10)이 열처리실(11)로부터 반출되면, 제어부(25)로부터의 제어 지령에 의거하여, 반송 기구(33), 히터(12), 수증기 공급 계통(14), 수증기 배출 계통(16a, 16b), 가스 공급 계통(18), 배기 계통(21a, 21b)의 작동이 정지된다. 이에 의하여, 열처리 장치(1)의 처리 동작이 종료된다.When the heat treatment of all
[본 실시 형태의 효과][Effect of this embodiment]
이상 설명한 바와 같이, 본 실시 형태의 열처리 장치(1)에 의하면, 열처리실(11)의 가열 영역(HR)에 설치된 수증기 공급부(13)로부터 열처리실(11) 내에 공급된 과열 수증기에 의하여 피처리물(10)이 가열되어 피처리물(10)의 열처리가 행해진다. 그리고, 피처리물(10)의 가열에 이용된 과열 수증기는, 가열 영역(HR)에 설치된 수증기 공급부(13)로부터 열처리실(11)의 입구(31) 측과 출구(32) 측에 각각 설치된 수증기 배출부(15(15a, 15b))를 향하여 흘러, 수증기 배출부(15(15a, 15b))로부터 열처리실의 외부로 배출된다. 이 때문에, 열처리실(11)에 있어서는, 가열 영역(HR) 내의 수증기 공급부(13)로부터 입구(31) 측을 향하여 흘러 입구 측 수증기 배출부(15a)로부터 외부로 배출되는 수증기의 흐름과, 가열 영역(HR) 내의 수증기 공급부(13)로부터 출구(32) 측을 향하여 흘러 출구 측 수증기 배출부(15b)로부터 외부로 배출되는 수증기의 흐름이 형성된다. 그리고, 열처리실(11) 내에 있어서는, 가열 영역(HR) 내의 수증기 공급부(13)로부터 입구(31) 측 및 출구(32) 측의 각각을 향하여, 피처리물(10)의 반송 방향(X1)과 평행인 방향을 따라 유속의 편차가 적은 보다 균일한 수증기의 흐름이 형성된다. 이에 의하여, 열처리실(11) 내에 있어서, 수증기의 흐름이 정체되는 영역이 생기기 어려워지고, 그 결과, 열처리실(11) 내에 있어서 분위기가 정체되는 영역이 생기기 어려워진다.As described above, according to the
따라서, 본 실시 형태의 열처리 장치(1)에 의하면, 피처리물(10)의 열처리가 행해지는 열처리실(11) 내에 있어서 분위기의 정체가 발생해 버리는 것을 억제할 수 있다. 또, 열처리 장치(1)에 의하면, 열처리실(11) 내에 있어서 분위기의 정체가 발생해 버리는 것을 억제할 수 있기 때문에, 같은 열처리실(11) 내에서 열처리가 행해지는 복수의 피처리물(10)의 사이에 있어서 열처리의 불균일을 일으켜 버리는 것을 억제할 수 있고, 또한, 피처리물(10) 중으로부터 생긴 가스의 체류에 따른 열처리 효율의 저하 및 피처리물(10)의 오염의 발생도 억제할 수 있다.Therefore, according to the
또, 본 실시 형태에 의하면, 수증기 공급부(13)가 열처리실(11)의 가열 영역(HR)에 설치되고, 수증기 배출부(15(15a, 15b))가 열처리실(11)의 입구(31) 측 및 출구(32) 측에 설치된 간소한 구성에 의하여, 열처리실(11) 내에서의 분위기의 정체의 발생을 억제할 수 있는 열처리 장치(1)를 실현할 수 있다. 이 때문에, 과열 수증기에 의하여 피처리물(10)의 열처리를 행하는 열처리 장치(1)의 구조의 복잡화를 방지할 수 있다.Moreover, according to this embodiment, the water
이상과 같이, 본 실시 형태에 의하면, 과열 수증기에 의하여 피처리물(10)의 열처리를 행하는 열처리 장치(1)의 구조의 복잡화를 방지할 수 있음과 더불어, 피처리물(10)의 열처리가 행해지는 열처리실(11) 내에 있어서 분위기의 정체가 발생해 버리는 것을 억제할 수 있는, 열처리 장치(1)를 제공할 수 있다.As described above, according to the present embodiment, not only can the complexity of the structure of the
또, 본 실시 형태의 열처리 장치(1)에 의하면, 열처리실(11)의 입구(31)가 외부에 대하여 개방되어 있기 때문에, 피처리물(10)의 열처리실(11) 내로의 반입 작업을 연속적으로 신속하고 또한 용이하게 행할 수 있다. 이에 의하여, 열처리 프로세스를 연속화하여 열처리의 작업 효율의 향상을 도모할 수 있다. 그리고, 열처리 장치(1)에 의하면, 입구(31)가 개방되어 있는 것에 더하여, 수증기 공급부(13)에 대하여 입구(31) 측에 설치된 입구 측 수증기 배출부(15a)보다 더욱 입구(31) 측에 설치되어 열처리실(11) 내에 불활성 가스를 공급하는 입구 측 가스 공급부(36a, 36b)가 설치되어 있다. 이 때문에, 입구 측 가스 공급부(36a, 36b)로부터 공급하는 불활성 가스에 의하여, 외부에 개방된 입구(31)와 입구 측 수증기 배출부(15a)의 사이에 있어서 열처리실(11) 내의 분위기를 분리할 수 있다. 즉, 수증기 공급부(13)로부터 입구 측 가스 공급부(36a, 36b)까지의 영역의 분위기와, 외부에 개방된 입구(31)로부터 입구 측 가스 공급부(36a, 36b)까지의 영역의 분위기를 분리할 수 있다. 이에 의하여, 열처리의 작업 효율의 향상을 위하여 입구(31)가 개방된 열처리 장치(1)에 있어서, 수증기 공급부(13)로부터 입구 측 수증기 배출부(15a)까지의 영역의 분위기를 외부에 대하여 차단할 수 있고, 가열 영역(HR)에 있어서의 과열 수증기에 의한 피처리물(10)의 열처리를 효율적으로 행할 수 있다.In addition, according to the
또, 본 실시 형태의 열처리 장치(1)에 의하면, 입구 측 가스 공급부(36a, 36b)가 한 쌍으로 설치되고 그들의 사이에 입구 측 배기부(19)가 설치되어 있다. 이 때문에, 입구 측 수증기 배출부(15a)로부터 입구(31) 측을 향하여, 입구 측 수증기 배출부(15a), 입구 측 가스 공급부(36b), 입구 측 배기부(19), 입구 측 가스 공급부(36a)의 순서로, 이들이 배치되게 된다. 이 구성에 의하여, 입구 측 수증기 배출부(15a)에서 완전하게 배출되지 않고 누출되도록 입구(31) 측으로 유동한 약간의 수증기는, 입구 측 가스 공급부(36b)로부터 공급되는 불활성 가스와 섞이고, 희석되게 된다. 그리고, 입구 측 가스 공급부(36b)로부터 공급된 불활성 가스와 섞여 희석된 수증기는, 입구 측 배기부(19)로부터 외부로 배기된다. 이 때문에, 입구 측 수증기 배출부(15a)로부터 누출되도록 입구(31) 측으로 유동한 약간의 수증기도, 입구 측 배기부(19)로부터 배기된다. 그 결과, 입구 측 배기부(19)와 입구(31) 사이의 영역이고 온도가 낮은 영역에 수증기가 유입해 버리는 것을 방지할 수 있다. 이에 의하여, 입구 측 배기부(19)와 입구(31) 사이의 온도가 낮은 영역에 수증기가 유입하여 결로가 발생하는 것이 방지된다. 결로의 발생이 방지됨으로써, 입구(31)로부터 반입된 피처리물(10)에 수분이 적하되어 피처리물(10)이 젖어, 피처리물(10)의 열처리 상태에 영향이 생겨 버리는 것이 방지된다. 또, 상기의 구성에 의하면, 입구 측 배기부(19)와 입구(31)의 사이에 배치된 입구 측 가스 공급부(36a)로부터 공급되는 불활성 가스에 의하여, 수증기 공급부(13)로부터 입구 측 가스 공급부(36a, 36b)까지의 영역의 분위기와, 입구(31)로부터 입구 측 가스 공급부(36a, 36b)까지의 영역의 분위기를 보다 확실하게 분리하여 차단할 수 있다.Moreover, according to the
또, 본 실시 형태의 열처리 장치(1)에 의하면, 열처리실(11)의 출구(32)가 외부에 대하여 개방되어 있기 때문에, 피처리물(10)의 열처리실(11)로부터의 반출 작업을 연속적으로 신속하고 또한 용이하게 행할 수 있다. 이에 의하여, 열처리 프로세스를 연속화하여 열처리의 작업 효율의 향상을 도모할 수 있다. 그리고, 열처리 장치(1)에 의하면, 출구(32)가 개방되어 있는 것에 더하여, 수증기 공급부(13)에 대하여 출구(32) 측에 설치된 출구 측 수증기 배출부(15b)보다 더욱 출구(32) 측에 설치되어 열처리실(11) 내에 불활성 가스를 공급하는 출구 측 가스 공급부(37a, 37b)가 설치되어 있다. 이 때문에, 출구 측 가스 공급부(37a, 37b)로부터 공급하는 불활성 가스에 의하여, 외부에 개방된 출구(32)와 출구 측 수증기 배출부(15b)의 사이에 있어서 열처리실(11) 내의 분위기를 분리할 수 있다. 즉, 수증기 공급부(13)로부터 출구 측 가스 공급부(37a, 37b)까지의 영역의 분위기와, 외부에 개방된 출구(32)로부터 출구 측 가스 공급부(37a, 37b)까지의 영역의 분위기를 분리할 수 있다. 이에 의하여, 열처리의 작업 효율의 향상을 위하여 출구(32)가 개방된 열처리 장치(1)에 있어서, 수증기 공급부(13)로부터 출구 측 수증기 배출부(15b)까지의 영역의 분위기를 외부에 대하여 차단할 수 있고, 가열 영역(HR)에 있어서의 과열 수증기에 의한 피처리물(10)의 열처리를 효율적으로 행할 수 있다.In addition, according to the
또, 본 실시 형태의 열처리 장치(1)에 의하면, 출구 측 가스 공급부(37a, 37b)가 한 쌍으로 설치되고 그들의 사이에 출구 측 배기부(20)가 설치되어 있다. 이 때문에, 출구 측 수증기 배출부(15b)로부터 출구(32) 측을 향하여, 출구 측 수증기 배출부(15b), 출구 측 가스 공급부(37a), 출구 측 배기부(20), 출구 측 가스 공급부(37b)의 순서로, 이들이 배치되게 된다. 이 구성에 의하여, 출구 측 수증기 배출부(15b)에서 완전하게 배출되지 않고 누출되도록 출구(32) 측으로 유동한 약간의 수증기는, 출구 측 가스 공급부(37a)로부터 공급되는 불활성 가스와 섞이고, 희석되게 된다. 그리고, 출구 측 가스 공급부(37b)로부터 공급된 불활성 가스와 섞여 희석된 수증기는, 출구 측 배기부(20)로부터 외부로 배기된다. 이 때문에, 출구 측 수증기 배출부(15b)로부터 누출되도록 출구(32) 측으로 유동한 약간의 수증기도, 출구 측 배기부(20)로부터 배기된다. 그 결과, 출구 측 배기부(20)와 출구(32) 사이의 영역이고 온도가 낮은 영역에 수증기가 유입해 버리는 것을 방지할 수 있다. 이에 의하여, 출구 측 배기부(20)와 출구(32) 사이의 온도가 낮은 영역에 수증기가 유입하여 결로가 발생하는 것이 방지된다. 결로의 발생이 방지됨으로써, 피처리물(10)이 출구(32)로부터 반출될 때에 피처리물(10)에 수분이 적하되어 피처리물(10)이 젖어 버리는 것이 방지된다. 또, 상기의 구성에 의하면, 출구 측 배기부(20)와 출구(32)의 사이에 배치된 출구 측 가스 공급부(37b)로부터 공급되는 가스에 의하여, 수증기 공급부(13)로부터 출구 측 가스 공급부(37a, 37b)까지의 영역의 분위기와, 출구(32)로부터 출구 측 가스 공급부(37a, 37b)까지의 영역의 분위기를 보다 확실하게 분리하여 차단할 수 있다.Moreover, according to the
또, 본 실시 형태의 열처리 장치(1)에 의하면, 수증기 공급부(13)는, 한 쌍의 노즐부(38a, 38b)를 구비하고 있다. 그리고, 한 쌍의 노즐부(38a, 38b)의 각각으로부터 취출된 과열 수증기는, 대향하는 한 쌍의 노즐부(38a, 38b)의 중간 위치 측을 향하여 흐른다. 대향하는 한 쌍의 노즐부(38a, 38b)의 사이의 영역에는, 피처리물(10)의 반송 방향(X1)과 평행인 방향에 있어서의 가스의 유동을 부분적으로 규제하도록 구성된 칸막이 판(22e, 22f)이 설치되어 있다. 각 노즐부(38a, 38b)로부터 취출되어 한 쌍의 노즐부(38a, 38b)의 중간 위치 측을 향하여 흐른 각 과열 수증기는, 칸막이 판(22e, 22f)에 충돌하고, 가열 영역(HR)에 있어서 피처리물(10)의 반송 방향(X1)에 수직인 단면의 전체에 걸쳐 퍼지면서 피처리물(10)의 반송 방향(X1)과 평행인 방향에 있어서 반전하여 되돌아 오는 것과 같이 흐른다. 이 때문에, 각 노즐부(38a, 38b)로부터 취출된 과열 수증기는, 한 쌍의 노즐부(38a, 38b)의 중간 위치 측을 향하여 흘러 반전된 후, 가열 영역(HR)에 있어서 피처리물(10)의 반송 방향(X1)에 수직인 단면의 전체에 걸쳐 퍼진 상태로, 한 쌍의 노즐부(38a, 38b)의 중간 위치 측과 반대 방향을 향하여 피처리물(10)의 반송 방향(X1)과 평행인 방향을 따라 흐르게 된다. 즉, 한 쌍의 노즐부(38a, 38b)의 각각으로부터 취출된 과열 수증기는, 한 쌍의 노즐부(38a, 38b)의 중간 위치 측에서 흐름이 반전된 후, 가열 영역(HR)의 단면의 전체에 퍼진 상태로, 피처리물(10)의 반송 방향(X1)과 평행인 방향을 따라 서로 떨어지는 방향을 따라 흐르게 된다. 이 때문에, 노즐부(38a)로부터 취출한 과열 수증기는, 한 쌍의 노즐부(38a, 38b)의 중간 위치 측으로부터 열처리실(11)의 입구(31) 측을 향하여 가열 영역(HR)의 단면의 전체에 퍼진 상태로 흐르게 된다. 그리고, 노즐부(38b)로부터 취출한 과열 수증기는, 한 쌍의 노즐부(38a, 38b)의 중간 위치 측으로부터 열처리실(11)의 출구(32) 측을 향하여 가열 영역(HR)의 단면의 전체에 퍼진 상태로 흐르게 된다. 이에 의하여, 열처리실(11) 내에 있어서는, 한 쌍의 노즐부(38a, 38b)의 중간 위치 측으로부터 입구(31) 측 및 출구(32) 측의 각각을 향하여, 피처리물(10)의 반송 방향(X1)과 평행인 방향을 따라 가열 영역(HR)의 단면의 전체에 퍼진 상태로 유속의 편차가 더욱 적어 보다 균일한 수증기의 흐름이 형성된다. 이에 의하여, 열처리실(11) 내에 있어서, 수증기의 흐름이 정체되는 영역이 더 생기기 어려워지고, 그 결과, 열처리실(11) 내에 있어서 분위기가 정체되는 영역이 더 생기기 어려워진다. 따라서, 상기의 구성에 의하면, 열처리실(11) 내에 있어서 분위기의 정체가 발생해 버리는 것을 더욱 억제할 수 있다.Moreover, according to the
또, 본 실시 형태의 열처리 장치(1)에 의하면, 한 쌍의 입구 측 가스 공급부(36a, 36b)의 각각과 입구 측 배기부(19)의 사이에, 피처리물(10)의 반송 방향(X1)과 평행인 방향에 있어서의 가스의 유동을 부분적으로 규제하는 입구 측 칸막이 판(22a, 22b)이 설치된다. 이 때문에, 입구 측 배기부(19)를 사이에 두고 배치된 한 쌍의 입구 측 가스 공급부(36a, 36b)의 사이에 있어서, 가스가 유동 가능하도록 분위기가 연통된 상태를 유지하면서, 분위기를 보다 분리하기 쉬운 상태를 형성할 수 있다. 이에 의하여, 수증기 공급부(13)로부터 입구 측 가스 공급부(36a, 36b)까지의 영역의 분위기와, 입구(31)로부터 입구 측 가스 공급부(36a, 36b)까지의 영역의 분위기를 보다 효율적으로 분리하여 차단할 수 있다.In addition, according to the
또, 본 실시 형태의 열처리 장치(1)에 의하면, 한 쌍의 출구 측 가스 공급부(37a, 37b)의 각각과 출구 측 배기부(20)의 사이에, 피처리물(10)의 반송 방향(X1)과 평행인 방향에 있어서의 가스의 유동을 부분적으로 규제하는 출구 측 칸막이 판(22i, 22j)이 설치된다. 이 때문에, 출구 측 배기부(20)를 사이에 두고 배치된 한 쌍의 출구 측 가스 공급부(37a, 37b)의 사이에 있어서, 가스가 유동 가능하도록 분위기가 연통된 상태를 유지하면서, 분위기를 보다 분리하기 쉬운 상태를 형성할 수 있다. 이에 의하여, 수증기 공급부(13)로부터 출구 측 가스 공급부(37a, 37b)까지의 영역의 분위기와, 출구(32)로부터 출구 측 가스 공급부(37a, 37b)까지의 영역의 분위기를 보다 효율적으로 분리하여 차단할 수 있다.Moreover, according to the
[변형예][Variation example]
이상, 본 발명의 실시 형태에 대하여 설명했지만, 본 발명은 상술한 실시 형태에 한정되는 것이 아니고, 특허청구범위에 기재한 한에 있어서 다양하게 변경하여 실시할 수 있는 것이다. 예를 들면, 다음과 같은 변형예가 실시되어도 된다.Although embodiments of the present invention have been described above, the present invention is not limited to the above-described embodiments and can be implemented with various modifications within the scope of the claims. For example, the following modification may be implemented.
(1) 상술한 실시 형태에서는, 가열 영역이, 수증기 공급부로부터 입구 측 가스 공급부까지의 영역, 및, 수증기 공급부로부터 출구 측 가스 공급부까지의 영역으로서 구성된 형태를 예시했지만, 이대로가 아니어도 되고, 다른 형태가 실시되어도 된다. 가열 영역은, 열처리실에 있어서의 피처리물의 가열이 행해지는 영역이면 되고, 과열 수증기에 의한 가열과 히터로부터의 열에 의한 가열(즉, 히터로부터의 열에 의하여 열처리실을 통하여 가열된 열처리실 내의 분위기에 의한 가열) 중 적어도 어느 하나가 행해지는 영역으로서 구성된다. 예를 들면, 열처리실을 외부로부터 가열하는 히터가, 열처리실의 입구로부터 출구까지의 영역에 걸쳐 배치되어 있는 형태이면, 열처리실에 있어서의 입구로부터 출구까지의 전체 길이에 걸친 영역이, 가열 영역이 된다.(1) In the above-described embodiment, the heating area is configured as an area from the water vapor supply part to the inlet side gas supply part, and an area from the water vapor supply part to the outlet side gas supply part. However, it does not have to be like this, and other The form may be implemented. The heating area may be an area where heating of the object to be processed in the heat treatment chamber is performed, and may include heating by superheated steam and heating by heat from the heater (i.e., the atmosphere in the heat treatment chamber heated through the heat treatment chamber by heat from the heater). It is configured as an area where at least one of (heating by) is performed. For example, if a heater that heats the heat treatment chamber from the outside is arranged over the area from the entrance to the outlet of the heat treatment chamber, the area spanning the entire length from the entrance to the outlet of the heat treatment chamber is the heating area. This happens.
(2) 또, 상술한 실시 형태에서는, 수증기 배출부가, 가열 영역에 있어서의 피처리물의 반송 방향의 중앙 부분에 설치된 형태를 예시했지만, 이대로가 아니어도 되고, 다른 형태가 실시되어도 된다. 예를 들면, 수증기 공급부가, 가열 영역에 있어서의 피처리물의 반송 방향의 중앙 부분보다 입구 측 또는 출구 측에 설치된 형태가 실시되어도 된다.(2) In addition, in the above-described embodiment, a form in which the water vapor discharge unit is installed in the central portion of the heating area in the direction of conveyance of the object to be treated is exemplified, but this does not have to be the case, and other forms may be implemented. For example, the water vapor supply unit may be installed on the inlet side or outlet side rather than the central portion of the heating area in the transfer direction of the object to be processed.
(3) 또, 상술한 실시 형태에서는, 수증기 공급부가, 피처리물의 반송 방향에 있어서 서로 대향하여 배치된 한 쌍의 노즐부를 구비하여 구성된 형태를 예시했지만, 이대로가 아니어도 되고, 다른 형태가 실시되어도 된다. 예를 들면, 수증기 공급부가, 1개 혹은 3개 이상의 노즐부를 구비하여 구성된 형태가 실시되어도 된다. 또, 상술한 실시 형태에서는, 원통 형상으로 형성된 노즐부를 예시했지만, 노즐부의 형상은 이대로가 아니어도 되고, 다양하게 변경하여 실시되어도 된다. 예를 들면, 노즐부가, 상자 형상, 각통 형상, 혹은, 복수의 원통 형상의 부분이 그들의 내부가 연통한 상태로 연결된 형상 등의 다양한 형상으로 형성된 형태가 실시되어도 된다. 또, 상술한 실시 형태에서는, 노즐부에 있어서, 복수의 노즐 구멍이, 한 쌍의 노즐부의 중간 위치 측을 향하여 과열 수증기를 취출하도록 설치된 형태를 예시했지만, 이대로가 아니어도 되고, 다른 형태가 실시되어도 된다. 예를 들면, 노즐부에 있어서, 복수의 노즐 구멍이, 상방 또는 하방을 향하여 과열 수증기를 취출하도록 설치된 형태가 실시되어도 된다. 혹은, 노즐부에 있어서, 복수의 노즐 구멍이, 한 쌍의 노즐부의 중간 위치 측과 반대 측을 향하여 과열 수증기를 취출하도록 설치된 형태가 실시되어도 된다.(3) In addition, in the above-described embodiment, a configuration is exemplified in which the water vapor supply portion is provided with a pair of nozzle portions arranged opposite to each other in the conveyance direction of the object to be processed. However, this does not have to be the case, and other configurations can be implemented. It's okay. For example, the water vapor supply unit may be configured to include one or three or more nozzle units. In addition, in the above-described embodiment, the nozzle portion formed in a cylindrical shape is exemplified, but the shape of the nozzle portion does not have to be as is, and may be implemented with various changes. For example, the nozzle portion may be formed in various shapes such as a box shape, a rectangular cylinder shape, or a shape in which a plurality of cylindrical parts are connected with their interiors communicating. In addition, in the above-described embodiment, a form in which a plurality of nozzle holes are provided in the nozzle part to blow out superheated water vapor toward the middle position of a pair of nozzle parts is exemplified, but this does not have to be the case, and other forms are implemented. It's okay. For example, in the nozzle portion, a plurality of nozzle holes may be provided to blow out superheated water vapor upward or downward. Alternatively, in the nozzle portion, a plurality of nozzle holes may be provided to blow out superheated water vapor toward a side opposite to the middle position side of the pair of nozzle portions.
(4) 또, 상술한 실시 형태에서는, 수증기 공급부의 한 쌍의 노즐부의 사이에, 한 쌍의 칸막이 판과 바인더 배출부가 설치된 형태를 예시했지만, 이대로가 아니어도 되고, 다른 형태가 실시되어도 된다. 예를 들면, 수증기 공급부의 한 쌍의 노즐부의 사이에 있어서, 바인더 배출부가 설치되어 있지 않고, 1장의 칸막이 판이 설치된 형태가 실시되어도 된다. 또는, 수증기 공급부의 한 쌍의 노즐부의 사이에 있어서, 칸막이 판이 설치되어 있지 않고, 바인더 배출부가 설치된 형태가 실시되어도 된다. 혹은, 수증기 공급부의 한 쌍의 노즐부의 사이에 있어서, 칸막이 판 및 바인더 배출부의 모두가 설치되어 있지 않은 형태가 실시되어도 된다.(4) In addition, in the above-described embodiment, a form in which a pair of partition plates and a binder discharge part are provided between a pair of nozzle parts of the water vapor supply part is exemplified, but this does not have to be the case, and other forms may be implemented. For example, between a pair of nozzle parts of the water vapor supply part, a binder discharge part may not be provided and a single partition plate may be provided. Alternatively, a form may be implemented in which no partition plate is provided between the pair of nozzle portions of the water vapor supply portion and a binder discharge portion is provided. Alternatively, a configuration may be implemented in which neither the partition plate nor the binder discharge portion is provided between the pair of nozzle portions of the water vapor supply portion.
(5) 또, 상술한 실시 형태에서는, 가스 공급부가 열처리실 내에 불활성 가스를 공급하는 형태를 예시했지만, 이대로가 아니어도 되고, 다른 형태가 실시되어도 된다. 예를 들면, 가스 공급부가 열처리실 내에 공기를 공급하는 형태가 실시되어도 된다. 혹은, 가스 공급부가 열처리실 내에 불활성 가스와 공기의 혼합 가스를 공급하는 형태가 실시되어도 된다.(5) In addition, in the above-described embodiment, a form in which the gas supply unit supplies an inert gas into the heat treatment chamber is exemplified, but this does not have to be the case, and other forms may be implemented. For example, a gas supply unit may supply air into the heat treatment chamber. Alternatively, a form in which the gas supply unit supplies a mixed gas of inert gas and air into the heat treatment chamber may be implemented.
(6) 또, 상술한 실시 형태에서는, 입구 측 가스 공급부가 한 쌍으로 설치된 형태를 예시했지만, 이대로가 아니어도 되고, 다른 형태가 실시되어도 된다. 예를 들면, 입구 측 가스 공급부가 1개 혹은 3개 이상 설치된 형태가 실시되어도 된다. 또, 상술한 실시 형태에서는, 원통 형상으로 형성된 입구 측 가스 공급부를 예시했지만, 입구 측 가스 공급부의 형상은 이대로가 아니어도 되고, 다양하게 변경하여 실시되어도 된다. 예를 들면, 입구 측 가스 공급부가, 상자 형상, 각통 형상, 혹은, 복수의 원통 형상의 부분이 그들의 내부가 연통한 상태로 연결된 형상 등의 다양한 형상으로 형성된 형태가 실시되어도 된다. 또, 상술한 실시 형태에서는, 입구 측 가스 공급부에 있어서, 복수의 노즐 구멍이, 가스를 하방을 향하여 취출하도록 설치된 형태를 예시했지만, 이대로가 아니어도 되고, 다른 형태가 실시되어도 된다. 예를 들면, 노즐부에 있어서, 복수의 노즐 구멍이, 하방 이외의 방향을 향하여 가스를 취출하도록 설치된 형태가 실시되어도 된다.(6) In addition, in the above-described embodiment, a form in which the inlet-side gas supply units are installed as a pair is exemplified, but this does not have to be the case, and other forms may be implemented. For example, a form in which one or three or more inlet-side gas supply units may be installed may be implemented. In addition, in the above-described embodiment, the inlet side gas supply part formed in a cylindrical shape is exemplified, but the shape of the inlet side gas supply part does not have to be as is, and may be implemented with various changes. For example, the inlet side gas supply part may be formed in various shapes such as a box shape, a rectangular cylinder shape, or a shape in which a plurality of cylindrical parts are connected with their interiors in communication. In addition, in the above-described embodiment, a form in which a plurality of nozzle holes are provided in the inlet-side gas supply part to blow out gas downward is exemplified, but this does not have to be the case, and other forms may be implemented. For example, in the nozzle portion, a plurality of nozzle holes may be provided to blow out gas in a direction other than downward.
(7) 또, 상술한 실시 형태에서는, 출구 측 가스 공급부가 한 쌍으로 설치된 형태를 예시했지만, 이대로가 아니어도 되고, 다른 형태가 실시되어도 된다. 예를 들면, 출구 측 가스 공급부가 1개 혹은 3개 이상 설치된 형태가 실시되어도 된다. 또, 상술한 실시 형태에서는, 원통 형상으로 형성된 출구 측 가스 공급부를 예시했지만, 출구 측 가스 공급부의 형상은 이대로가 아니어도 되고, 다양하게 변경하여 실시되어도 된다. 예를 들면, 출구 측 가스 공급부가, 상자 형상, 각통 형상, 혹은, 복수의 원통 형상의 부분이 그들의 내부가 연통한 상태로 연결된 형상 등의 다양한 형상으로 형성된 형태가 실시되어도 된다. 또, 상술한 실시 형태에서는, 출구 측 가스 공급부에 있어서, 복수의 노즐 구멍이, 가스를 하방을 향하여 취출하도록 설치된 형태를 예시했지만, 이대로가 아니어도 되고, 다른 형태가 실시되어도 된다. 예를 들면, 노즐부에 있어서, 복수의 노즐 구멍이, 하방 이외의 방향을 향하여 가스를 취출하도록 설치된 형태가 실시되어도 된다.(7) In addition, in the above-described embodiment, a form in which the outlet-side gas supply units are installed as a pair is exemplified, but this does not have to be the case, and other forms may be implemented. For example, one or three or more outlet-side gas supply units may be installed. In addition, in the above-described embodiment, the outlet-side gas supply part formed in a cylindrical shape is exemplified, but the shape of the outlet-side gas supply part does not have to be as is, and may be implemented with various changes. For example, the outlet-side gas supply portion may be formed in various shapes such as a box shape, a rectangular cylinder shape, or a shape in which a plurality of cylindrical parts are connected with their interiors in communication. In addition, in the above-described embodiment, a form in which a plurality of nozzle holes are provided in the outlet-side gas supply part to blow out gas downward is exemplified, but this does not have to be the case, and other forms may be implemented. For example, in the nozzle portion, a plurality of nozzle holes may be provided to blow out gas in a direction other than downward.
본 발명은, 과열 수증기로 피처리물을 가열하여 피처리물의 열처리를 행하는 열처리 장치에 관한 것으로, 널리 적용할 수 있다.The present invention relates to a heat treatment device that performs heat treatment on a workpiece by heating the workpiece with superheated steam, and can be widely applied.
1 열처리 장치
10 피처리물
11 열처리실
13 수증기 공급부
15, 15a, 15b 수증기 배출부
17 가스 공급부
19 입구 측 배기부
20 출구 측 배기부
31 입구
32 출구
36a, 36b 입구 측 가스 공급부(가스 공급부)
37a, 37b 출구 측 가스 공급부(가스 공급부)
HR 가열 영역1 heat treatment device
10 Materials to be treated
11 Heat treatment room
13 Steam supply unit
15, 15a, 15b water vapor outlet
17 Gas supply department
19 Inlet side exhaust part
20 outlet side exhaust
31 entrance
36a, 36b inlet side gas supply unit (gas supply unit)
37a, 37b outlet side gas supply unit (gas supply unit)
HR heating zone
Claims (8)
상기 피처리물이 반입되는 입구와 상기 피처리물이 반출되는 출구가 설치되고, 상기 입구로부터 상기 출구를 향하여 반송되는 상기 피처리물의 열처리가 행해지는 열처리실과,
상기 열처리실에 있어서의 상기 피처리물의 가열이 행해지는 영역인 가열 영역에 설치되어, 상기 열처리실 내에 과열 수증기를 공급하는 수증기 공급부와,
상기 열처리실에 있어서, 상기 수증기 공급부에 대하여 상기 입구 측과 상기 출구 측에 각각 설치되고, 상기 열처리실 내의 과열 수증기를 상기 열처리실의 외부로 배출하는 수증기 배출부와,
상기 수증기 배출부로부터 과열 수증기를 흡인하여 상기 열처리실의 외부로 배출하는 이젝터와,
상기 수증기 배출부를 사이에 두고 상기 피처리물의 반송 방향에 있어서의 양측에 배치된 한 쌍의 칸막이 판을 구비하고,
상기 수증기 배출부는, 상기 피처리물의 반송 방향과 수직인 방향인 상기 열처리실의 폭 방향을 따라 연장되는 중공의 상자 형상으로 형성되어 있음과 더불어, 과열 수증기를 흡입하는 복수의 관통 구멍이 형성되어 있으며,
상기 칸막이 판은, 상기 피처리물의 반송 방향과 수직인 단면을 따라 퍼지도록 설치되어, 상기 열처리실에 있어서의 상기 피처리물의 반송 방향과 평행인 방향에서의 가스의 유동을 부분적으로 규제하도록 구성되어 있는, 열처리 장치.A heat treatment device for performing heat treatment on an object to be treated by heating the object with superheated steam,
A heat treatment chamber provided with an inlet through which the object to be treated is brought in and an outlet through which the object to be treated is taken out, and where heat treatment is performed on the object to be treated transported from the inlet toward the outlet;
a water vapor supply unit installed in a heating area in the heat treatment chamber, which is an area where the object to be treated is heated, and supplying superheated water vapor into the heat treatment chamber;
In the heat treatment chamber, a water vapor discharge part installed at the inlet side and the outlet side with respect to the water vapor supply part, respectively, and discharging superheated water vapor in the heat treatment chamber to the outside of the heat treatment chamber;
an ejector that sucks superheated water vapor from the water vapor discharge unit and discharges it to the outside of the heat treatment chamber;
A pair of partition plates disposed on both sides in a transport direction of the object to be treated with the water vapor discharge portion interposed therebetween,
The water vapor discharge portion is formed in a hollow box shape extending along the width direction of the heat treatment chamber in a direction perpendicular to the transport direction of the object to be treated, and has a plurality of through holes for sucking in superheated water vapor. ,
The partition plate is installed to spread along a cross section perpendicular to the conveyance direction of the object to be treated, and is configured to partially regulate the flow of gas in a direction parallel to the direction of transport of the object to be treated in the heat treatment chamber. There is a heat treatment device.
상기 열처리실 내에 불활성 가스 및 공기 중 적어도 어느 하나를 공급하는 가스 공급부를 추가로 구비하고,
상기 입구는, 상기 열처리실의 외부에 대하여 개방되어 있고,
상기 가스 공급부로서, 상기 열처리실에 있어서 상기 수증기 공급부에 대하여 상기 입구 측에 설치된 상기 수증기 배출부보다 더욱 상기 입구 측에 설치된 입구 측 가스 공급부가 구비되어 있는, 열처리 장치.In claim 1,
further comprising a gas supply unit supplying at least one of an inert gas and air into the heat treatment chamber,
The inlet is open to the outside of the heat treatment chamber,
The heat treatment apparatus, wherein, as the gas supply part, an inlet side gas supply part is provided further on the inlet side than the water vapor discharge part installed on the inlet side with respect to the water vapor supply part in the heat treatment chamber.
상기 입구 측 가스 공급부는, 한 쌍으로 설치되고,
상기 열처리실에 있어서, 한 쌍의 상기 입구 측 가스 공급부의 사이에, 상기 열처리실 내의 가스를 상기 열처리실의 외부로 배기하는 입구 측 배기부가 설치되어 있는, 열처리 장치.In claim 2,
The inlet side gas supply unit is installed as a pair,
In the heat treatment chamber, an inlet side exhaust portion for exhausting gas in the heat treatment chamber to the outside of the heat treatment chamber is provided between a pair of the inlet gas supply portions.
상기 열처리실 내에 불활성 가스 및 공기 중 적어도 어느 하나를 공급하는 가스 공급부를 추가로 구비하고,
상기 출구는, 상기 열처리실의 외부에 대하여 개방되어 있고,
상기 가스 공급부로서, 상기 열처리실에 있어서 상기 수증기 공급부에 대하여 상기 출구 측에 설치된 상기 수증기 배출부보다 더욱 상기 출구 측에 설치된 출구 측 가스 공급부가 구비되어 있는, 열처리 장치.In claim 1,
further comprising a gas supply unit supplying at least one of an inert gas and air into the heat treatment chamber,
The outlet is open to the outside of the heat treatment chamber,
A heat treatment apparatus, wherein, as the gas supply part, an outlet-side gas supply part is provided in the heat treatment chamber further on the outlet side than the water vapor discharge part installed on the outlet side with respect to the water vapor supply part.
상기 출구 측 가스 공급부는, 한 쌍으로 설치되고,
상기 열처리실에 있어서, 한 쌍의 상기 출구 측 가스 공급부의 사이에, 상기 열처리실 내의 가스를 상기 열처리실의 외부로 배기하는 출구 측 배기부가 설치되어 있는, 열처리 장치.In claim 4,
The outlet side gas supply unit is installed as a pair,
In the heat treatment chamber, an outlet side exhaust part for exhausting gas in the heat treatment chamber to the outside of the heat treatment chamber is provided between a pair of the outlet side gas supply parts.
상기 수증기 공급부는, 상기 피처리물의 반송 방향에 있어서 서로 대향하여 배치된 한 쌍의 노즐부를 구비하고,
한 쌍의 상기 노즐부의 각각은, 대향하는 한 쌍의 상기 노즐부의 중간 위치 측을 향하여 과열 수증기를 취출(吹出)하도록 구성되어 있는, 열처리 장치.The method according to any one of claims 1 to 5,
The water vapor supply section includes a pair of nozzle sections arranged to face each other in the conveyance direction of the object to be treated,
A heat treatment apparatus, wherein each of the pair of nozzle parts is configured to blow out superheated water vapor toward an intermediate position of the pair of opposing nozzle parts.
한 쌍의 상기 입구 측 가스 공급부의 각각과 상기 입구 측 배기부의 사이에는, 각각 입구 측 칸막이 판이 설치되고,
상기 입구 측 칸막이 판은, 상기 열처리실에 있어서의 상기 피처리물의 반송 방향과 평행인 방향에 있어서의 가스의 유동을 부분적으로 규제하도록 구성되어 있는, 열처리 장치.In claim 3,
An inlet-side partition plate is provided between each of the pair of inlet-side gas supply units and the inlet-side exhaust unit, respectively,
The heat treatment apparatus, wherein the inlet side partition plate is configured to partially regulate the flow of gas in a direction parallel to the conveyance direction of the object to be treated in the heat treatment chamber.
한 쌍의 상기 출구 측 가스 공급부의 각각과 상기 출구 측 배기부의 사이에는, 각각 출구 측 칸막이 판이 설치되고,
상기 출구 측 칸막이 판은, 상기 열처리실에 있어서의 상기 피처리물의 반송 방향과 평행인 방향에 있어서의 가스의 유동을 부분적으로 규제하도록 구성되어 있는, 열처리 장치.In claim 5,
An outlet-side partition plate is provided between each of the pair of outlet-side gas supply units and the outlet-side exhaust unit, respectively,
The heat treatment apparatus wherein the outlet side partition plate is configured to partially regulate the flow of gas in a direction parallel to the conveyance direction of the object to be treated in the heat treatment chamber.
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2020058144A JP7443122B2 (en) | 2020-03-27 | 2020-03-27 | heat treatment equipment |
JPJP-P-2020-058144 | 2020-03-27 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20210120874A KR20210120874A (en) | 2021-10-07 |
KR102615484B1 true KR102615484B1 (en) | 2023-12-19 |
Family
ID=77808777
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020210037882A KR102615484B1 (en) | 2020-03-27 | 2021-03-24 | Heat treatment apparatus |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP7443122B2 (en) |
KR (1) | KR102615484B1 (en) |
CN (1) | CN113446861B (en) |
TW (1) | TWI803847B (en) |
Family Cites Families (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5123551U (en) * | 1974-08-10 | 1976-02-20 | ||
JP2751979B2 (en) * | 1992-05-21 | 1998-05-18 | 日立テクノエンジニアリング株式会社 | Vapor reflow soldering equipment |
JP3407963B2 (en) * | 1994-01-24 | 2003-05-19 | 株式会社タムラ製作所 | Flux coating device |
JPH07246458A (en) * | 1994-03-09 | 1995-09-26 | Tamura Seisakusho Co Ltd | Vapor phase soldering device |
JP3636815B2 (en) * | 1996-05-15 | 2005-04-06 | 松下電器産業株式会社 | Reflow soldering equipment |
JP2003325340A (en) | 2002-05-15 | 2003-11-18 | Johnson Boiler Kk | Calcining device by ordinary pressure superheated steam |
CN1668409A (en) * | 2002-06-14 | 2005-09-14 | 蒸汽阶段技术公司 | Method and apparatus for vapour phase soldering |
JP4257262B2 (en) | 2004-06-01 | 2009-04-22 | 財団法人大阪産業振興機構 | Continuous normal pressure high temperature sterilizer |
JP4393576B1 (en) | 2008-09-03 | 2010-01-06 | 新熱工業株式会社 | Disassembly method of electrical equipment |
US9290823B2 (en) * | 2010-02-23 | 2016-03-22 | Air Products And Chemicals, Inc. | Method of metal processing using cryogenic cooling |
DE102012005180A1 (en) * | 2012-03-16 | 2013-09-19 | Gkn Sinter Metals Holding Gmbh | Sintering furnace with a gas discharge device |
JP2015002325A (en) | 2013-06-18 | 2015-01-05 | 株式会社Ssテクノ | Steam reflow device and steam reflow method |
JP6188671B2 (en) * | 2014-12-12 | 2017-08-30 | 株式会社Ssテクノ | Steam reflow apparatus and steam reflow method |
KR20160100070A (en) * | 2015-02-13 | 2016-08-23 | 허혁재 | Continuous furnace |
-
2020
- 2020-03-27 JP JP2020058144A patent/JP7443122B2/en active Active
-
2021
- 2021-01-07 CN CN202110018775.1A patent/CN113446861B/en active Active
- 2021-03-24 KR KR1020210037882A patent/KR102615484B1/en active IP Right Grant
- 2021-03-26 TW TW110110980A patent/TWI803847B/en active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP7443122B2 (en) | 2024-03-05 |
TW202136696A (en) | 2021-10-01 |
CN113446861B (en) | 2023-07-25 |
KR20210120874A (en) | 2021-10-07 |
JP2021156515A (en) | 2021-10-07 |
CN113446861A (en) | 2021-09-28 |
TWI803847B (en) | 2023-06-01 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR102038292B1 (en) | Dryer | |
US3732628A (en) | Garment finishing tunnel | |
JP2020535371A (en) | Equipment and methods for treating materials thermally or thermochemically | |
US4985111A (en) | Process and apparatus for intermittent fluid application | |
KR102615484B1 (en) | Heat treatment apparatus | |
FI106643B (en) | steam blower box | |
JP6742399B2 (en) | Cooling device and heat treatment device | |
WO2016013424A1 (en) | Cooling device and multi-chamber heat treatment device | |
JPH0681266A (en) | Device for continuously treating straight product | |
CN1616737A (en) | Device for treating textile fabrics in roped form | |
US9260815B2 (en) | Garment tunnel finisher with atomized spray and hot air mix | |
CH699032B1 (en) | Method for decontamination of clean chamber e.g. insulator, and temporary material to be treated present in chamber, involves removing condensate from insulator and sluice in rinsing phase after defined residence time | |
JP6469747B2 (en) | Continuous heat treatment equipment | |
RU2744838C1 (en) | Installation for heat treatment of metal products | |
JP7399560B2 (en) | Atmosphere replacement equipment and heat treatment system | |
JP5615539B2 (en) | Continuous heat treatment method and continuous heat treatment apparatus | |
JP2017214620A (en) | Hardening device of aviation component and heat treating system | |
JP7377780B2 (en) | heat treatment furnace | |
JP2506255B2 (en) | Fish heat treatment equipment | |
JP2005090949A (en) | Oven especially for glass article treatment, and heat treatment method of glass article | |
JP2022057747A (en) | Treatment furnace | |
JP3194345U (en) | Superheated steam baking machine | |
JP2021078724A (en) | Isolator | |
JP6270338B2 (en) | Continuous heat treatment equipment | |
WO2023203533A1 (en) | Improved sterilisation autoclave |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
AMND | Amendment | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
AMND | Amendment | ||
E601 | Decision to refuse application | ||
X091 | Application refused [patent] | ||
AMND | Amendment | ||
X701 | Decision to grant (after re-examination) | ||
GRNT | Written decision to grant |