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KR102502812B1 - Manufacturing method of organic EL display - Google Patents

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KR102502812B1
KR102502812B1 KR1020197034306A KR20197034306A KR102502812B1 KR 102502812 B1 KR102502812 B1 KR 102502812B1 KR 1020197034306 A KR1020197034306 A KR 1020197034306A KR 20197034306 A KR20197034306 A KR 20197034306A KR 102502812 B1 KR102502812 B1 KR 102502812B1
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optical film
film
optical
coating liquid
forming
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Inventor
후미히코 이케다
Original Assignee
도쿄엘렉트론가부시키가이샤
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Publication date
Application filed by 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 filed Critical 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
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Abstract

유기 발광 다이오드가 미리 형성된 기판 상에, 액정 분자와 용매를 포함하는 광학막용 도포액을 도포하여 건조시킴으로써, 액정 분자가 배향된 광학막을 형성하는 광학 부재 형성 공정을 갖는 유기 EL 디스플레이의 제조 방법. A method for manufacturing an organic EL display having an optical member forming step of forming an optical film on which liquid crystal molecules are aligned by applying a coating liquid for an optical film containing liquid crystal molecules and a solvent to a substrate on which an organic light emitting diode is previously formed and drying it.

Description

유기 EL 디스플레이의 제조 방법Manufacturing method of organic EL display

본 발명은 유기 EL 디스플레이의 제조 방법에 관한 것이다. The present invention relates to a method for manufacturing an organic EL display.

예컨대 유기 발광 다이오드(OLED : Organic Light Emitting Diode)를 이용한 디스플레이(이하, 「유기 EL(Electro Luminescence) 디스플레이」라고도 함)에는, 외광 반사를 억제하기 위해 원편광판이 이용되고 있다. 원편광판은, 직선 편광판과 파장판(위상차판)을 그 편광축이 45도로 교차하도록 적층하여 제작된다. For example, in a display using an organic light emitting diode (OLED) (hereinafter, also referred to as an "organic electro luminescence (EL) display"), a circular polarizing plate is used to suppress external light reflection. A circularly polarizing plate is produced by laminating a linear polarizing plate and a wave plate (retardation plate) such that their polarization axes intersect at 45 degrees.

또한, 예컨대 파장판만을, 그 편광축이 15도나 75도로 기울도록 형성하는 경우가 있다. 따라서, 편광판이나 파장판을 임의의 각도로 형성할 필요가 있다. 또한, 편광판이나 파장판의 편광축을 임의의 각도로 교차시키기 위해, 이들 편광판이나 파장판을 개별로 형성할 필요도 있다. Further, for example, there are cases in which only the wave plate is formed so that its polarization axis is tilted at 15 degrees or 75 degrees. Therefore, it is necessary to form a polarizing plate or a wave plate at an arbitrary angle. Further, in order to intersect the polarization axes of the polarizers and waveplates at an arbitrary angle, it is also necessary to form these polarizers or waveplates individually.

종래, 이러한 편광판이나 파장판은, 예컨대 연신 필름을 이용하여 제작되고 있다. 연신 필름은, 필름을 한 방향으로 연신시켜 접착함으로써 그 재료 중의 분자를 한 방향으로 배향시킨 것이다. Conventionally, such a polarizing plate or wave plate is produced using, for example, a stretched film. A stretched film is one in which molecules in the material are oriented in one direction by stretching the film in one direction and adhering the film.

그런데, 최근, 유기 EL 디스플레이의 박형화에 따라, 편광판이나 파장판의 박판화도 요구되고 있다. 그러나, 편광판이나 파장판을 제작함에 있어서, 종래와 같이 연신 필름을 이용한 경우, 상기 연신 필름 자체의 막두께를 작게 하는 것에 한계가 있어, 충분한 박판을 얻을 수 없다. By the way, in recent years, thinning of a polarizing plate or a wavelength plate is also requested|required with thinning of an organic electroluminescent display. However, in producing a polarizing plate or a wave plate, when a stretched film is used as in the prior art, there is a limit to reducing the film thickness of the stretched film itself, and a sufficient thin plate cannot be obtained.

따라서, 기판 상에 소정 재료를 갖는 도포액을 도포하고, 필요한 막두께의 편광판이나 파장판을 형성함으로써 박판화가 도모되고 있다. 구체적으로는, 예컨대 소정 재료로서 액정성을 갖는 도포액을 기판에 도포하여 유연·배향시킨다. 액정 분자는 도포액 중에서 초분자 회합체를 형성하고 있고, 전단 응력을 가하면서 도포액을 유동시키면 초분자 회합체의 장축 방향이 유동 방향으로 배향한다. Therefore, thinning is achieved by applying a coating liquid having a predetermined material on a substrate and forming a polarizing plate or a wave plate having a required film thickness. Specifically, for example, a coating liquid having liquid crystal as a predetermined material is applied to the substrate, and cast/orientated. Liquid crystal molecules form supramolecular aggregates in the coating liquid, and when the coating liquid is flowed while applying shear stress, the long axis direction of the supramolecular aggregates is oriented in the flow direction.

이와 같이 기판에 대하여 도포액을 도포할 수 있도록 하기 위해, 종래 여러가지 장치가 제안되어 있다. 예컨대 특허문헌 1에 기재된 편광막 인쇄 장치는, 기판을 유지하기 위한 테이블과, 기판에 잉크액을 토출하는 슬롯 다이를 가진다. 슬롯 다이를 인쇄 방향으로 이동시켜 기판에 잉크액을 도포한다. In order to be able to apply the coating liquid to the substrate in this way, various devices have been conventionally proposed. For example, the polarizing film printing apparatus described in Patent Literature 1 has a table for holding a substrate and a slot die for discharging an ink liquid to the substrate. The ink solution is applied to the substrate by moving the slot die in the printing direction.

일본 특허 공개 제2005-62502호 공보Japanese Unexamined Patent Publication No. 2005-62502

기판 상에 도포액을 도포하여 건조시킴으로써 원편광판 등의 광학 부재를 형성하는 기술이 개발, 검토되고 있다. A technique of forming an optical member such as a circular polarizing plate by applying a coating liquid on a substrate and drying it has been developed and studied.

종래, 광학 부재용의 도포액이 도포되는 기판은, 유기 발광 다이오드가 형성된 기판과는 별도로 준비되어 접합되어 있었다. Conventionally, a substrate to which a coating liquid for an optical member is applied has been prepared and bonded separately from the substrate on which the organic light emitting diode is formed.

그 때문에, 기판이나 접착층 등의 부품수가 많고, 유기 EL 디스플레이의 박형화가 충분하지 않고, 유기 EL 디스플레이의 플렉시블성이 충분하지 않았다. Therefore, the number of parts such as a substrate and an adhesive layer is large, thinning of the organic EL display is not sufficient, and flexibility of the organic EL display is not sufficient.

본 발명은, 상기 과제를 감안하여 이루어진 것으로, 박형화 및 플렉시블성을 향상시킨, 광학 부재를 구비하는 유기 EL 디스플레이의 제공을 주요 목적으로 한다. The present invention has been made in view of the above problems, and has as its main object the provision of an organic EL display having an optical member with improved thinness and flexibility.

상기 과제를 해결하기 위해, 본 발명의 일 양태에 의하면, In order to solve the above problems, according to one aspect of the present invention,

유기 발광 다이오드가 미리 형성된 기판 상에, 액정 분자와 용매를 포함하는 광학막용 도포액을 도포하여 건조시킴으로써, 액정 분자가 배향된 광학막을 형성하는 광학 부재 형성 공정을 갖는 유기 EL 디스플레이의 제조 방법이 제공된다. Provided is a method for manufacturing an organic EL display having an optical member forming step of forming an optical film on which liquid crystal molecules are aligned by applying and drying a coating liquid for an optical film containing liquid crystal molecules and a solvent on a substrate on which an organic light emitting diode is previously formed. do.

본 발명의 일양태에 의하면, 박형화 및 플렉시블성을 향상시킨, 광학 부재를 구비하는 유기 EL 디스플레이가 제공된다. According to one aspect of the present invention, an organic EL display provided with an optical member having improved thinness and flexibility is provided.

도 1은 일 실시형태에 의한 유기 EL 디스플레이를 나타내는 평면도이다.
도 2는 일 실시형태에 의한 유기 EL 디스플레이의 주요부를 나타내는 단면도이다.
도 3은 일 실시형태에 의한 유기 EL 디스플레이의 제조 방법을 나타내는 플로우차트이다.
도 4는 일 실시형태에 의한 터치 센서 형성 공정을 나타내는 플로우차트이다.
도 5는 일 실시형태에 의한 기판 상에 형성된 제1 금속막을 나타내는 단면도이다.
도 6은 일 실시형태에 의한 제1 금속막 상에 형성된 레지스트막을 나타내는 단면도이다.
도 7은 일 실시형태에 의한 노광 및 현상후의 레지스트막을 나타내는 단면도이다.
도 8은 일 실시형태에 의한 에칭후의 제1 금속막을 나타내는 단면도이다.
도 9는 일 실시형태에 의한 레지스트막의 제거후의 제1 금속막을 나타내는 단면도이다.
도 10은 일 실시형태에 의한 제1 금속막 상에 형성된 절연막을 나타내는 단면도이다.
도 11은 일 실시형태에 의한 절연막 상에 형성된 제2 금속막의 일부 제거후의 상태를 나타내는 평면도이다.
도 12는 제1 실시형태에 의한 광학 부재 형성 공정을 나타내는 플로우차트이다.
도 13은 제1 실시형태에 의한 기판 상에 도포된 제1 광학막용 도포액의 액막을 나타내는 측면도이다.
도 14는 제1 실시형태에 의한 제1 광학막용 도포액의 액막의 건조에 의해 형성된 제1 광학막을 나타내는 측면도이다.
도 15는 제1 실시형태에 의한 일부 불용화된 제1 광학막을 나타내는 측면도이다.
도 16은 제1 실시형태에 의한 제1 광학막 상에 도포된 중간막용 도포액의 액막을 나타내는 측면도이다.
도 17은 제1 실시형태에 의한 중간막용 도포액의 액막의 건조에 의해 형성된 중간막을 나타내는 측면도이다.
도 18은 제1 실시형태에 의한 중간막으로 덮이지 않은 부분이 제거된 제1 광학막을 나타내는 측면도이다.
도 19는 제1 실시형태에 의한 중간막 상에 도포된 제2 광학막용 도포액의 액막을 나타내는 측면도이다.
도 20은 제1 실시형태에 의한 제2 광학막용 도포액의 액막의 건조에 의해 형성된 제2 광학막을 나타내는 측면도이다.
도 21은 제1 실시형태에 의한 일부 불용화된 제2 광학막을 나타내는 측면도이다.
도 22는 제1 실시형태에 의한 제2 광학막 상에 도포된 보호막용 도포액의 액막을 나타내는 측면도이다.
도 23은 제1 실시형태에 의한 보호막용 도포액의 액막의 건조에 의해 형성된 보호막을 나타내는 측면도이다.
도 24는 제1 실시형태에 의한 보호막으로 덮이지 않은 부분이 제거된 제2 광학막을 나타내는 측면도이다.
도 25는 제2 실시형태에 의한 광학 부재 형성 공정을 나타내는 플로우차트이다.
도 26은 제2 실시형태에 의한 불용화되지 않은 부분이 제거된 제1 광학막을 나타내는 측면도이다.
도 27은 제2 실시형태에 의한 제1 광학막 상에 도포된 중간막용 도포액의 액막을 나타내는 측면도이다.
도 28은 제2 실시형태에 의한 중간막용 도포액의 액막의 건조에 의해 형성된 중간막을 나타내는 측면도이다.
도 29는 제2 실시형태에 의한 중간막 상에 도포된 제2 광학막용 도포액의 액막을 나타내는 측면도이다.
도 30은 제2 실시형태에 의한 제2 광학막용 도포액의 액막의 건조에 의해 형성된 제2 광학막을 나타내는 측면도이다.
도 31은 제2 실시형태에 의한 일부 불용화된 제2 광학막을 나타내는 측면도이다.
도 32는 제2 실시형태에 의한 불용화되지 않은 부분이 제거된 제2 광학막을 나타내는 측면도이다.
도 33은 제2 실시형태에 의한 제2 광학막 상에 도포된 보호막용 도포액의 액막을 나타내는 측면도이다.
도 34는 제2 실시형태에 의한 보호막용 도포액의 액막의 건조에 의해 형성된 보호막을 나타내는 측면도이다.
1 is a plan view showing an organic EL display according to an embodiment.
2 is a cross-sectional view showing a main part of an organic EL display according to an embodiment.
3 is a flowchart showing a manufacturing method of an organic EL display according to an embodiment.
4 is a flowchart showing a touch sensor forming process according to an embodiment.
5 is a cross-sectional view illustrating a first metal film formed on a substrate according to an embodiment.
6 is a cross-sectional view showing a resist film formed on the first metal film according to an embodiment.
7 is a cross-sectional view showing a resist film after exposure and development according to an embodiment.
8 is a cross-sectional view showing a first metal film after etching according to an embodiment.
9 is a cross-sectional view showing a first metal film after removal of a resist film according to an embodiment.
10 is a cross-sectional view illustrating an insulating film formed on a first metal film according to an embodiment.
11 is a plan view showing a state after partially removing a second metal film formed on an insulating film according to an embodiment.
12 is a flowchart showing the optical member forming process according to the first embodiment.
13 is a side view showing a liquid film of a coating liquid for a first optical film applied on a substrate according to the first embodiment.
14 is a side view showing the first optical film formed by drying the liquid film of the coating liquid for the first optical film according to the first embodiment.
15 is a side view showing a partially insolubilized first optical film according to the first embodiment.
16 is a side view showing a liquid film of a coating liquid for an intermediate film applied on the first optical film according to the first embodiment.
17 is a side view showing an interlayer film formed by drying a liquid film of a coating liquid for an interlayer film according to the first embodiment.
18 is a side view showing the first optical film in which the portion not covered with the intermediate film according to the first embodiment is removed.
19 is a side view showing a liquid film of a coating liquid for a second optical film applied on an intermediate film according to the first embodiment.
20 is a side view showing a second optical film formed by drying a liquid film of a coating liquid for a second optical film according to the first embodiment.
21 is a side view showing a partially insolubilized second optical film according to the first embodiment.
22 is a side view showing a liquid film of a coating liquid for a protective film applied on the second optical film according to the first embodiment.
23 is a side view showing a protective film formed by drying the liquid film of the coating liquid for a protective film according to the first embodiment.
24 is a side view showing the second optical film in which the portion not covered with the protective film is removed according to the first embodiment.
25 is a flowchart showing the optical member forming process according to the second embodiment.
Fig. 26 is a side view showing the first optical film from which non-insolubilized portions are removed according to the second embodiment.
27 is a side view showing a liquid film of a coating liquid for an intermediate film applied on the first optical film according to the second embodiment.
28 is a side view showing an interlayer film formed by drying a liquid film of a coating liquid for an interlayer film according to the second embodiment.
29 is a side view showing a liquid film of a coating liquid for a second optical film applied on an intermediate film according to the second embodiment.
30 is a side view showing a second optical film formed by drying a liquid film of a coating liquid for a second optical film according to the second embodiment.
31 is a side view showing a partially insolubilized second optical film according to the second embodiment.
Fig. 32 is a side view showing a second optical film from which non-insolubilized portions are removed according to the second embodiment.
33 is a side view showing a liquid film of a coating liquid for a protective film applied on the second optical film according to the second embodiment.
34 is a side view showing a protective film formed by drying a liquid film of a coating liquid for a protective film according to the second embodiment.

이하, 본 발명을 실시하기 위한 형태에 관해 도면을 참조하여 설명한다. 각 도면에서, 동일한 또는 대응하는 구성에는, 동일한 또는 대응하는 부호를 붙이고 설명을 생략한다. EMBODIMENT OF THE INVENTION Hereinafter, the form for implementing this invention is demonstrated with reference to drawings. In each figure, the same or corresponding code|symbol is attached|subjected to the same or corresponding structure, and description is abbreviate|omitted.

<유기 EL 디스플레이> <Organic EL display>

도 1은, 일 실시형태에 의한 유기 EL 디스플레이를 나타내는 평면도이다. 도 1에서, 하나의 단위 회로(11)의 회로를 확대하여 나타낸다. 1 is a plan view showing an organic EL display according to an embodiment. In FIG. 1, the circuit of one unit circuit 11 is shown enlarged.

유기 EL 디스플레이(1)는, 기판(10)과, 기판(10) 상에 배열되는 복수의 단위 회로(11)와, 기판(10) 상에 설치되는 주사선 구동 회로(14)와, 기판(10) 상에 설치되는 데이터선 구동 회로(15)를 가진다. 주사선 구동 회로(14)에 접속되는 복수의 주사선(16)과, 데이터선 구동 회로(15)에 접속되는 복수의 데이터선(17)으로 둘러싸인 영역에 단위 회로(11)가 설치된다. 단위 회로(11)는, TFT층(12)과 유기 발광 다이오드(13)를 포함한다. An organic EL display 1 includes a substrate 10, a plurality of unit circuits 11 arranged on the substrate 10, a scan line driving circuit 14 provided on the substrate 10, and a substrate 10 ) has a data line driving circuit 15 installed on it. The unit circuit 11 is provided in an area surrounded by a plurality of scan lines 16 connected to the scan line driver circuit 14 and a plurality of data lines 17 connected to the data line driver circuit 15 . The unit circuit 11 includes a TFT layer 12 and an organic light emitting diode 13 .

TFT층(12)은, 복수의 TFT(Thin Film Transistor)를 가진다. 하나의 TFT는 스위칭 소자로서의 기능을 가지며, 다른 하나의 TFT는 유기 발광 다이오드(13)에 흘리는 전류량을 제어하는 전류 제어용 소자로서의 기능을 가진다. TFT층(12)은, 주사선 구동 회로(14) 및 데이터선 구동 회로(15)에 의해 작동되며, 유기 발광 다이오드(13)에 전류를 공급한다. TFT층(12)은 단위 회로(11)마다 설치되어 있고, 복수의 단위 회로(11)는 독립적으로 제어된다. 또한, TFT층(12)은, 일반적인 구성이면 되며, 도 1에 나타내는 구성에는 한정되지 않는다. The TFT layer 12 has a plurality of thin film transistors (TFTs). One TFT has a function as a switching element, and the other TFT has a function as a current control element for controlling the amount of current flowing through the organic light emitting diode 13 . The TFT layer 12 is operated by the scan line driving circuit 14 and the data line driving circuit 15, and supplies current to the organic light emitting diode 13. The TFT layer 12 is provided for each unit circuit 11, and a plurality of unit circuits 11 are independently controlled. In addition, the TFT layer 12 should just have a general structure, and is not limited to the structure shown in FIG.

또한, 유기 EL 디스플레이(1)의 구동 방식은, 본 실시형태에서는 액티브 매트릭스 방식이지만, 패시브 매트릭스 방식이어도 좋다. Note that the driving system of the organic EL display 1 is an active matrix system in this embodiment, but a passive matrix system may be used.

도 2는, 일 실시형태에 의한 유기 EL 디스플레이의 주요부를 나타내는 단면도이다. 도 2에 나타내는 유기 EL 디스플레이(1)는 탑 에미션 방식이며, 기판(10), 유기 발광 다이오드(13), 밀봉층(30), 터치 센서(40) 및 광학 부재(50)를 이 순으로 가진다. 터치 센서(40)는, 유기 EL 디스플레이(1)가 터치 패널인 경우에, 유기 EL 디스플레이(1)에 삽입된다. Fig. 2 is a cross-sectional view showing a main part of an organic EL display according to an embodiment. The organic EL display 1 shown in FIG. 2 is of a top emission type, and includes a substrate 10, an organic light emitting diode 13, a sealing layer 30, a touch sensor 40, and an optical member 50 in this order. have The touch sensor 40 is incorporated into the organic EL display 1 when the organic EL display 1 is a touch panel.

기판(10)은, 수지 기판, 유리 기판, 반도체 기판, 금속 기판 등의 어느 것이어도 좋으며, 플렉시블성 향상의 관점에서 수지 기판인 것이 바람직하다. 기판(10)은, 플렉시블성 향상과 수분 투과성 저하의 관점에서, 수지 기판과 유리 기판의 적층 기판이어도 좋다. 기판(10) 상에는 TFT층(12)이 형성되어 있다. TFT층(12) 상에는, TFT층(12)에 의해 형성되는 단차를 평탄화하는 평탄화층(18)이 형성되어 있다. The substrate 10 may be any of a resin substrate, a glass substrate, a semiconductor substrate, a metal substrate, and the like, and is preferably a resin substrate from the viewpoint of improving flexibility. The substrate 10 may be a laminated substrate of a resin substrate and a glass substrate from the viewpoint of improving flexibility and reducing water permeability. A TFT layer 12 is formed on the substrate 10 . On the TFT layer 12, a flattening layer 18 for flattening a level difference formed by the TFT layer 12 is formed.

평탄화층(18)은 절연성을 갖고 있다. 평탄화층(18)을 관통하는 컨택트홀에는 컨택트 플러그(19)가 형성되어 있다. 컨택트 플러그(19)는, 평탄화층(18)의 평탄면에 형성되는 화소 전극(21)과, TFT층(12)을 전기적으로 접속한다. 컨택트 플러그(19)는, 화소 전극(21)과 동일한 재료로 동시에 형성되어도 좋다. The planarization layer 18 has insulating properties. A contact plug 19 is formed in the contact hole penetrating the planarization layer 18 . The contact plug 19 electrically connects the pixel electrode 21 formed on the flat surface of the flattening layer 18 and the TFT layer 12 . The contact plug 19 may be formed of the same material as the pixel electrode 21 at the same time.

유기 발광 다이오드(13)는, 평탄화층(18)의 평탄면 상에 형성된다. 유기 발광 다이오드(13)는, 화소 전극(21)과, 화소 전극(21)을 기준으로 기판(10)과는 반대측에 설치되는 대향 전극(22)과, 화소 전극(21)과 대향 전극(22)의 사이에 형성되는 유기층(23)을 가진다. TFT층(12)을 작동시킴으로써, 화소 전극(21)과 대향 전극(22) 사이에 전압이 인가되고, 유기층(23)이 발광한다. The organic light emitting diode 13 is formed on the flat surface of the planarization layer 18 . The organic light emitting diode 13 includes a pixel electrode 21, a counter electrode 22 provided on the opposite side of the substrate 10 with respect to the pixel electrode 21, the pixel electrode 21 and the counter electrode 22 ) has an organic layer 23 formed between them. By operating the TFT layer 12, a voltage is applied between the pixel electrode 21 and the counter electrode 22, and the organic layer 23 emits light.

화소 전극(21)은, 예컨대 음극이며, 알루미늄 등의 금속 재료로 형성되고, 유기층(23)으로부터의 광을 유기층(23)을 향해 반사한다. 화소 전극(21)에서 반사된 광은, 유기층(23)이나 대향 전극(22)을 투과하여, 외부로 취출된다. 화소 전극(21)은 단위 회로(11)마다 설치된다. The pixel electrode 21 is, for example, a cathode and is formed of a metal material such as aluminum, and reflects light from the organic layer 23 toward the organic layer 23 . Light reflected by the pixel electrode 21 passes through the organic layer 23 and the counter electrode 22 and is extracted to the outside. The pixel electrode 21 is provided for each unit circuit 11 .

대향 전극(22)은, 예컨대 양극이며, ITO(Indium Tin Oxide) 등의 투명 재료로 형성되고, 유기층(23)으로부터의 광을 투과한다. 대향 전극(22)을 투과한 광은, 밀봉층(30)이나 터치 센서(40), 광학 부재(50)를 통과하여, 외부로 취출된다. 대향 전극(22)은, 복수의 단위 회로(11)에 공통된 것이다. The counter electrode 22 is, for example, an anode, made of a transparent material such as ITO (Indium Tin Oxide), and transmits light from the organic layer 23 . The light transmitted through the counter electrode 22 passes through the sealing layer 30, the touch sensor 40, and the optical member 50, and is taken out to the outside. The counter electrode 22 is common to a plurality of unit circuits 11 .

유기층(23)은, 예컨대, 음극측으로부터 양극측을 향해, 전자 주입층(24), 전자 수송층(25), 발광층(26), 정공 수송층(27), 정공 주입층(28)을 이 순으로 가진다. 음극과 양극 사이에 전압이 가해지면, 음극으로부터 전자 주입층(24)에 전자가 주입되고, 양극으로부터 정공 주입층(28)에 정공이 주입된다. 전자 주입층(24)에 주입된 전자는, 전자 수송층(25)에 의해 발광층(26)에 수송된다. 또한, 정공 주입층(28)에 주입된 정공은, 정공 수송층(27)에 의해 발광층(26)에 수송된다. 그렇게 하여, 발광층(26) 내에서 정공과 전자가 재결합하여 발광층(26)의 발광 재료가 여기되고, 발광층(26)이 발광한다. 발광층(26)으로는, 예컨대, 적색으로 발광하는 적색 발광층, 녹색으로 발광하는 녹색 발광층 및 청색으로 발광하는 청색 발광층이 형성된다. The organic layer 23 includes, for example, an electron injection layer 24, an electron transport layer 25, a light emitting layer 26, a hole transport layer 27, and a hole injection layer 28 from the cathode side toward the anode side in this order. have When a voltage is applied between the cathode and the anode, electrons are injected into the electron injection layer 24 from the cathode, and holes are injected into the hole injection layer 28 from the anode. Electrons injected into the electron injection layer 24 are transported to the light emitting layer 26 by the electron transport layer 25 . Holes injected into the hole injection layer 28 are transported to the light emitting layer 26 by the hole transport layer 27 . In this way, holes and electrons recombine within the light emitting layer 26, the light emitting material of the light emitting layer 26 is excited, and the light emitting layer 26 emits light. As the light emitting layer 26, for example, a red light emitting layer that emits red light, a green light emitting layer that emits green light, and a blue light emitting layer that emits blue light are formed.

또한, 유기층(23)은, 본 실시형태에서는, 음극측으로부터 양극측을 향해, 전자 주입층(24), 전자 수송층(25), 발광층(26), 정공 수송층(27), 정공 주입층(28)을 이 순으로 갖지만, 적어도 발광층(26)을 갖고 있으면 된다. 유기층(23)은, 도 2에 나타내는 구성에는 한정되지 않는다. In the present embodiment, the organic layer 23 includes an electron injection layer 24, an electron transport layer 25, a light emitting layer 26, a hole transport layer 27, and a hole injection layer 28 from the cathode side to the anode side. ) in this order, it is only necessary to have at least the light emitting layer 26. The organic layer 23 is not limited to the configuration shown in FIG. 2 .

밀봉층(30)은, 기판(10)과의 사이에 유기 발광 다이오드(13)를 밀봉한다. 밀봉층(30)으로는, 산화규소층이나 질화규소층 등이 이용되며, 예컨대 성막 온도가 100℃ 이하인 저온 CVD에 의해 형성된다. 혹은, 방습층이 형성된 수지 필름을 접착하여 밀봉층(30)으로 해도 좋다. The sealing layer 30 seals the organic light emitting diode 13 between the substrate 10 and the substrate 10 . As the sealing layer 30, a silicon oxide layer, a silicon nitride layer, or the like is used, and is formed by, for example, low-temperature CVD at a film formation temperature of 100°C or lower. Alternatively, it is good also as the sealing layer 30 by adhering a resin film with a moisture barrier.

터치 센서(40)는, 유기 EL 디스플레이(1)의 화면에 대한 손가락 등의 물체의 접촉 또는 근접을 검출한다. 터치 센서(40)의 검출 방식은 특별히 한정되지 않지만, 예컨대 정전 용량 방식이어도 좋다. 정전 용량 방식으로는, 표면형 정전 용량 방식, 투영형 정전 용량 방식 등이 있다. 투영형 정전 용량 방식으로는, 자기 용량 방식, 상호 용량 방식 등이 있다. 상호 용량 방식을 이용하면, 동시 다점 검출이 가능해지기 때문에 바람직하다. The touch sensor 40 detects contact or proximity of an object such as a finger to the screen of the organic EL display 1 . The detection method of the touch sensor 40 is not particularly limited, but may be, for example, a capacitance method. As the capacitance method, there are a surface capacitance method, a projected capacitance method, and the like. As the projected capacitance method, there are a self-capacitance method, a mutual capacitance method, and the like. The use of the mutual capacitance method is preferable because it enables simultaneous multi-point detection.

터치 센서(40)는, 상세하게는 후술하지만, 유기 발광 다이오드(13)가 미리 형성된 기판(10) 상에 형성된다. 따라서, 종래와 같이 터치 센서(40)가 기판(10)과는 별도의 기판에 형성되어, 기판(10)과 접합되는 경우에 비교하여, 기판이나 접착층 등의 부품수를 삭감할 수 있기 때문에, 유기 EL 디스플레이(1)를 박형화할 수 있고, 유기 EL 디스플레이(1)의 플렉시블성을 향상시킬 수 있다. Although described later in detail, the touch sensor 40 is formed on the substrate 10 on which the organic light emitting diode 13 is formed in advance. Therefore, compared to the case where the touch sensor 40 is formed on a substrate separate from the substrate 10 and bonded to the substrate 10 as in the prior art, since the number of parts such as the substrate or adhesive layer can be reduced, The thickness of the organic EL display 1 can be reduced, and the flexibility of the organic EL display 1 can be improved.

터치 센서(40)는, 유기 발광 다이오드(13)와 광학 부재(50) 사이에 형성된다. 광학 부재(50)가 외광 반사를 억제하는 원편광막인 경우에, 원편광막이 터치 센서(40)보다 광취출측에 배치되기 때문에, 외광 반사의 억제 효율을 향상시킬 수 있다. The touch sensor 40 is formed between the organic light emitting diode 13 and the optical member 50 . In the case where the optical member 50 is a circular polarization film that suppresses reflection of external light, since the circular polarization film is disposed on the light extraction side of the touch sensor 40, the efficiency of suppressing reflection of external light can be improved.

광학 부재(50)는, 예컨대 외광 반사를 억제하는 원편광막이며, 본 실시형태에서는, 제1 광학막으로서 1/4 파장막(λ/4막)을 가지며, 제2 광학막으로서 직선 편광막을 가진다. 1/4 파장막과 직선 편광막은, 그 편광축이 45도로 교차하도록 형성된다. 또한, 광학 부재(50)를 구성하는 광학막의 수는 특별히 한정되지 않는다. The optical member 50 is, for example, a circular polarizing film that suppresses reflection of external light. In this embodiment, it has a 1/4 wavelength film (λ/4 film) as the first optical film and a linear polarizing film as the second optical film. have The 1/4 wavelength film and the linear polarizing film are formed such that their polarization axes intersect at 45 degrees. In addition, the number of optical films constituting the optical member 50 is not particularly limited.

광학 부재(50)는, 자세하게는 후술하지만, 유기 발광 다이오드(13)가 미리 형성된 기판(10) 상에 형성된다. 따라서, 종래와 같이 광학 부재(50)가 기판(10)과는 별도의 기판에 형성되어, 기판(10)과 접합되는 경우에 비교하여, 기판이나 접착층 등의 부품수를 삭감할 수 있기 때문에, 유기 EL 디스플레이(1)를 박형화할 수 있고, 유기 EL 디스플레이(1)의 플렉시블성을 향상시킬 수 있다. Although described later in detail, the optical member 50 is formed on the substrate 10 on which the organic light emitting diode 13 is previously formed. Therefore, compared to the case where the optical member 50 is formed on a substrate separate from the substrate 10 and bonded to the substrate 10 as in the prior art, since the number of components such as the substrate and adhesive layer can be reduced, The thickness of the organic EL display 1 can be reduced, and the flexibility of the organic EL display 1 can be improved.

광학 부재(50)는, 유기층(23)의 자외선에 의한 열화를 억제하기 위해, 자외선 조사를 이용하지 않고 제조된다. 또한, 광학 부재(50)는, 유기층(23)의 열에 의한 열화를 억제하기 위해, 100℃ 이하의 온도에서 제조된다. The optical member 50 is manufactured without using ultraviolet irradiation in order to suppress deterioration of the organic layer 23 by ultraviolet rays. In addition, the optical member 50 is manufactured at a temperature of 100° C. or less in order to suppress deterioration of the organic layer 23 due to heat.

또한, 도 2에 나타내는 유기 EL 디스플레이(1)는, 탑 에미션 방식이지만, 바텀 에미션 방식이어도 좋다. 바텀 에미션 방식의 경우, 발광층(26)으로부터의 광은 화소 전극(21)을 투과하여 기판(10)으로부터 취출되기 때문에, 투명 전극인 양극이 화소 전극(21)으로서 이용되고, 반사 전극인 음극이 대향 전극(22)으로서 이용된다. 즉, 바텀 에미션 방식의 경우, 양극과 음극의 배치가 반대로 된다. 또한, 바텀 에미션 방식의 경우, 기판(10)은 투명 기판이다. 또한, 바텀 에미션 방식의 경우, 터치 센서(40)나 광학 부재(50)는, 기판(10)을 기준으로 하여, 유기 발광 다이오드(13)와는 반대측에 형성된다. In addition, although the organic electroluminescent display 1 shown in FIG. 2 is a top emission system, a bottom emission system may be sufficient as it. In the case of the bottom emission method, since light from the light emitting layer 26 passes through the pixel electrode 21 and is extracted from the substrate 10, an anode as a transparent electrode is used as the pixel electrode 21, and a cathode as a reflective electrode It is used as this counter electrode 22. That is, in the case of the bottom emission method, the arrangement of the anode and the cathode is reversed. In addition, in the case of the bottom emission method, the substrate 10 is a transparent substrate. In addition, in the case of the bottom emission method, the touch sensor 40 or the optical member 50 is formed on the opposite side of the organic light emitting diode 13 with respect to the substrate 10 .

<유기 EL 디스플레이의 제조 방법> <Method of manufacturing organic EL display>

도 3은, 일 실시형태에 의한 유기 EL 디스플레이의 제조 방법을 나타내는 플로우차트이다. 도 3에 나타낸 바와 같이, 유기 EL 디스플레이(1)의 제조 방법은, 터치 센서 형성 공정 S110과, 광학 부재 형성 공정 S120을 가진다. 또한, 터치 센서 형성 공정 S110은, 유기 EL 디스플레이(1)가 터치 패널인 경우에 행해진다. 이하, 각 공정에 관해 설명한다. 3 is a flowchart showing a manufacturing method of an organic EL display according to an embodiment. As shown in FIG. 3, the manufacturing method of the organic electroluminescent display 1 has touch sensor formation process S110 and optical member formation process S120. In addition, touch sensor formation process S110 is performed when the organic EL display 1 is a touch panel. Hereinafter, each process is demonstrated.

<터치 센서 형성 공정> <Touch sensor formation process>

터치 센서 형성 공정 S110은, 광학 부재 형성 공정 S120 이전에, 유기 발광 다이오드(13)가 미리 형성된 기판(10) 상에 터치 센서(40)를 형성한다. 따라서, 종래와 같이 터치 센서(40)가 기판(10)과는 별도의 기판에 형성되어, 기판(10)과 접합되는 경우에 비교하여, 기판이나 접착층 등의 부품수를 삭감할 수 있기 때문에, 유기 EL 디스플레이(1)를 박형화할 수 있고, 유기 EL 디스플레이(1)의 플렉시블성을 향상시킬 수 있다. In the touch sensor forming step S110, before the optical member forming step S120, the touch sensor 40 is formed on the substrate 10 on which the organic light emitting diode 13 is formed in advance. Therefore, compared to the case where the touch sensor 40 is formed on a substrate separate from the substrate 10 and bonded to the substrate 10 as in the prior art, since the number of parts such as the substrate or adhesive layer can be reduced, The thickness of the organic EL display 1 can be reduced, and the flexibility of the organic EL display 1 can be improved.

도 4는, 일 실시형태에 의한 터치 센서 형성 공정을 나타내는 플로우차트이다. 도 5는, 일 실시형태에 의한 기판 상에 형성된 제1 금속막을 나타내는 단면도이다. 도 6은, 일 실시형태에 의한 제1 금속막 상에 형성된 레지스트막을 나타내는 단면도이다. 도 7은, 일 실시형태에 의한 노광 및 현상후의 레지스트막을 나타내는 단면도이다. 도 8은, 일 실시형태에 의한 에칭후의 제1 금속막을 나타내는 단면도이다. 도 9는, 일 실시형태에 의한 레지스트막의 제거후의 제1 금속막을 나타내는 단면도이다. 도 10은, 일 실시형태에 의한 제1 금속막 상에 형성된 절연막을 나타내는 단면도이다. 도 11은, 일 실시형태에 의한 절연막 상에 형성된 제2 금속막의 일부 제거후의 상태를 나타내는 평면도이다. 도 5∼도 10은, 도 11의 A-A선을 따르는 단면도이다. 도 5∼도 11에서, 도 2에 나타내는 유기 발광 다이오드(13)나 밀봉층(30) 등의 도시를 생략한다. 4 is a flowchart showing a touch sensor forming process according to an embodiment. 5 is a cross-sectional view showing a first metal film formed on a substrate according to an embodiment. 6 is a cross-sectional view showing a resist film formed on the first metal film according to an embodiment. 7 is a cross-sectional view showing a resist film after exposure and development according to an embodiment. 8 is a cross-sectional view showing a first metal film after etching according to an embodiment. 9 is a cross-sectional view showing a first metal film after removal of a resist film according to an embodiment. 10 is a cross-sectional view showing an insulating film formed on the first metal film according to an embodiment. 11 is a plan view showing a state after partially removing a second metal film formed on an insulating film according to an embodiment. 5 to 10 are sectional views taken along line A-A in FIG. 11 . In Figs. 5 to 11, illustration of the organic light emitting diode 13, the sealing layer 30, and the like shown in Fig. 2 is omitted.

터치 센서 형성 공정 S110은, 기판(10) 상에 차광성의 제1 금속막(41)을 형성하는 공정 S111과, 포토리소그래피법 및 에칭법에 의해 제1 금속막(41)의 일부를 선택적으로 제거하는 공정 S112를 가진다. 제1 금속막(41)은, 도 5에 나타낸 바와 같이 기판(10) 상(보다 상세하게는 예컨대 밀봉층(30) 상)에 형성된다. 제1 금속막(41) 상에는, 도 6에 나타낸 바와 같이 레지스트막(42)이 형성된다. 레지스트막(42)은, 노광 및 현상에 의해 도 7에 나타낸 바와 같이 패터닝된다. 레지스트막(42)은, 노광된 부분이 현상으로 제거되는 포지티브형이어도 좋고, 노광된 부분이 현상후에 남는 네거티브형이어도 좋다. 노광의 광은 제1 금속막(41)으로 차광되기 때문에, 유기 발광 다이오드(13)를 열화시키지 않는다. 그 후, 패터닝된 레지스트막(42)을 마스크로서 이용하여, 도 8에 나타낸 바와 같이 제1 금속막(41)의 일부가 선택적으로 제거된다. 일부가 선택적으로 제거된 제1 금속막(41)은, 도 11에 파선으로 나타낸 바와 같이 평면에서 볼 때에 줄무늬로 형성된다. 그 후, 제1 금속막(41)의 패터닝에 이용한 레지스트막(42)은, 도 9에 나타낸 바와 같이 제거된다. In the touch sensor forming step S110, a part of the first metal film 41 is selectively formed by a step S111 of forming a light blocking first metal film 41 on the substrate 10, a photolithography method, and an etching method. It has step S112 to remove. As shown in FIG. 5 , the first metal film 41 is formed on the substrate 10 (more specifically, on the sealing layer 30, for example). On the first metal film 41, as shown in FIG. 6, a resist film 42 is formed. The resist film 42 is patterned as shown in FIG. 7 by exposure and development. The resist film 42 may be of a positive type in which exposed portions are removed by development, or may be of a negative type in which exposed portions remain after development. Since the exposure light is blocked by the first metal film 41, the organic light emitting diode 13 is not deteriorated. Then, using the patterned resist film 42 as a mask, a part of the first metal film 41 is selectively removed as shown in FIG. 8 . The first metal film 41, from which a part is selectively removed, is formed in stripes in a plan view, as indicated by a broken line in FIG. 11 . After that, the resist film 42 used for patterning the first metal film 41 is removed as shown in FIG. 9 .

또한, 본 명세서에서, 제1 금속막(41)이 차광성을 가진다는 것은, 제1 금속막(41)의 투과율이 5% 이하인 것을 의미한다. 제1 금속막(41)의 투과율은, 바람직하게는 3% 이하이다. 여기서, 제1 금속막(41)의 투과율은, 제1 금속막(41) 상에 형성되는 레지스트막(42)의 노광의 광(예컨대 파장 365 nm의 광)이 제1 금속막(41)을 투과하는 비율을 말한다. 제1 금속막(41)은, 예컨대 구리로 형성된다. In addition, in this specification, the fact that the first metal film 41 has a light blocking property means that the transmittance of the first metal film 41 is 5% or less. The transmittance of the first metal film 41 is preferably 3% or less. Here, the transmittance of the first metal film 41 is the rate at which the exposure light (for example, light having a wavelength of 365 nm) of the resist film 42 formed on the first metal film 41 penetrates the first metal film 41. refers to the rate of permeation. The first metal film 41 is made of copper, for example.

또한, 터치 센서 형성 공정 S110은, 일부가 선택적으로 제거된 제1 금속막(41) 상에 절연막(43)을 형성하는 공정 S113을 가진다. 절연막(43)은, 제1 금속막(41)과 제2 금속막(45)을 절연시킨다. 절연막(43)으로는, 산화규소막이나 질화규소막 등이 이용되며, 예컨대 성막 온도가 100℃ 이하인 저온 CVD에 의해 형성된다. Further, the touch sensor forming step S110 includes a step S113 of forming an insulating film 43 on the first metal film 41 from which a part has been selectively removed. The insulating film 43 insulates the first metal film 41 and the second metal film 45 . As the insulating film 43, a silicon oxide film, a silicon nitride film, or the like is used, and is formed by, for example, low-temperature CVD at a film formation temperature of 100°C or less.

또한, 터치 센서 형성 공정 S110은, 절연막(43) 상에 차광성의 제2 금속막(45)을 형성하는 공정 S114와, 포토리소그래피법 및 에칭법에 의해 제2 금속막(45)의 일부를 선택적으로 제거하는 공정 S115를 가진다. 제2 금속막(45)의 형성 및 제2 금속막의 일부 제거는, 제1 금속막(41)의 형성 및 제1 금속막(41)의 일부 제거와 동일하게 행해진다. 일부가 선택적으로 제거된 제2 금속막(45)은, 도 11에 나타낸 바와 같이 평면에서 볼 때에 줄무늬로 형성된다. 그 후, 제2 금속막(45)의 패터닝에 이용한 레지스트막은 제거된다. In addition, in the touch sensor forming step S110, a part of the second metal film 45 is formed by a step S114 of forming a light-shielding second metal film 45 on the insulating film 43, a photolithography method, and an etching method. It has step S115 of selectively removing. The formation of the second metal film 45 and the partial removal of the second metal film are performed in the same manner as the formation of the first metal film 41 and the partial removal of the first metal film 41 . As shown in FIG. 11, the second metal film 45 from which a part is selectively removed is formed in stripes in plan view. After that, the resist film used for patterning the second metal film 45 is removed.

또한, 본 명세서에서, 제2 금속막(45)이 차광성을 가진다는 것은, 제2 금속막(45)의 투과율이 5% 이하인 것을 의미한다. 제2 금속막(45)의 투과율은, 바람직하게는 3% 이하이다. 여기서, 제2 금속막(45)의 투과율은, 제2 금속막(45) 상에 형성되는 레지스트막의 노광의 광(예컨대 파장 365 nm의 광)이 제2 금속막(45)을 투과하는 비율을 말한다. 제2 금속막(45)은, 예컨대 구리로 형성된다. In addition, in this specification, that the second metal film 45 has a light blocking property means that the transmittance of the second metal film 45 is 5% or less. The transmittance of the second metal film 45 is preferably 3% or less. Here, the transmittance of the second metal film 45 is the rate at which exposure light (e.g., light having a wavelength of 365 nm) of the resist film formed on the second metal film 45 passes through the second metal film 45. say The second metal film 45 is made of copper, for example.

또한, 터치 센서 형성 공정 S110은, 일부가 선택적으로 제거된 제2 금속막(45) 상에 터치 센서 보호막(47)을 형성하는 공정 S116을 가진다. 터치 센서 보호막(47)은, 절연막(43)과 동일하게 형성된다. 예컨대, 터치 센서 보호막(47)으로는, 산화규소막이나 질화규소막 등이 이용되며, 예컨대 성막 온도가 100℃ 이하인 저온 CVD에 의해 형성된다. In addition, the touch sensor forming step S110 includes a step S116 of forming the touch sensor protective film 47 on the second metal film 45 from which a part has been selectively removed. The touch sensor protective film 47 is formed in the same way as the insulating film 43 . For example, as the touch sensor protective film 47, a silicon oxide film or a silicon nitride film is used, and is formed by, for example, low-temperature CVD with a film formation temperature of 100°C or less.

이와 같이 하여, 제1 금속막(41), 절연막(43), 제2 금속막(45) 및 터치 센서 보호막(47)으로 구성되는 터치 센서(40)가 얻어진다. 와이어형의 제1 금속막(41)이나 와이어형의 제2 금속막(45)은, 평면에서 볼 때에 유기 발광 다이오드(13)의 유기층(23)과 중복되지 않도록, 도 11에 나타낸 바와 같이 사각 격자형으로 형성된다. 즉, 평면에서 볼 때에 사각 격자인 개구부에 유기층(23)이 배치된다. 유기층(23)으로부터의 광을 외부로 취출하기 쉽다. 제1 금속막(41) 및 제2 금속막(45)은, 어느 하나가 구동 전극으로서 이용되고, 나머지 하나가 수신 전극으로서 이용된다. 터치 센서(40)는, 구동 전극과 수신 전극 사이의 용량 변화를 검출함으로써, 유기 EL 디스플레이(1)의 화면에 대한 손가락 등의 물체의 접촉 또는 근접을 검출한다. In this way, the touch sensor 40 composed of the first metal film 41, the insulating film 43, the second metal film 45, and the touch sensor protective film 47 is obtained. The wire-like first metal film 41 and the wire-like second metal film 45 do not overlap with the organic layer 23 of the organic light emitting diode 13 in a plan view, as shown in FIG. formed in a grid pattern. That is, the organic layer 23 is disposed in an opening that is a square lattice in plan view. Light from the organic layer 23 is easily taken out to the outside. As for the first metal film 41 and the second metal film 45, either one is used as a driving electrode and the other one is used as a receiving electrode. The touch sensor 40 detects the contact or proximity of an object such as a finger to the screen of the organic EL display 1 by detecting a change in capacitance between the driving electrode and the receiving electrode.

본 실시형태의 터치 센서 형성 공정 S110에 의하면, 포토리소그래피법의 노광에 의한 유기 발광 다이오드(13)의 유기층(23)의 열화를 억제하면서, 미리 유기 발광 다이오드(13)가 형성된 기판(10) 상에 터치 센서(40)를 형성할 수 있다. 종래와 같이 터치 센서(40)가 기판(10)과는 별도의 기판에 형성되어, 기판(10)과 접합되는 경우에 비교하여, 기판이나 접착층 등의 부품수를 삭감할 수 있기 때문에, 유기 EL 디스플레이(1)를 박형화할 수 있고, 유기 EL 디스플레이(1)의 플렉시블성을 향상시킬 수 있다. According to the touch sensor forming step S110 of the present embodiment, while suppressing deterioration of the organic layer 23 of the organic light emitting diode 13 due to exposure of the photolithography method, the organic light emitting diode 13 is formed on the substrate 10 in advance. The touch sensor 40 can be formed on. Compared to the case where the touch sensor 40 is formed on a substrate separate from the substrate 10 and bonded to the substrate 10 as in the prior art, since the number of components such as the substrate and adhesive layer can be reduced, organic EL The display 1 can be reduced in thickness, and the flexibility of the organic EL display 1 can be improved.

본 실시형태의 터치 센서 형성 공정 S110은, 광학 부재 형성 공정 S120 이전에 행해지기 때문에, 터치 센서(40)는 유기 발광 다이오드(13)와 광학 부재(50) 사이에 형성된다. 광학 부재(50)가 외광 반사를 억제하는 원편광막인 경우에, 원편광막이 터치 센서(40)보다 광취출측에 배치되기 때문에, 외광 반사의 억제 효율을 향상시킬 수 있다. Since touch sensor formation process S110 of this embodiment is performed before optical member formation process S120, the touch sensor 40 is formed between the organic light emitting diode 13 and the optical member 50. In the case where the optical member 50 is a circular polarization film that suppresses reflection of external light, since the circular polarization film is disposed on the light extraction side of the touch sensor 40, the efficiency of suppressing reflection of external light can be improved.

<광학 부재 형성 공정> <Optical member formation process>

광학 부재 형성 공정 S120은, 유기 발광 다이오드(13)가 미리 형성된 기판(10) 상에, 액정 분자와 용매를 포함하는 광학막용 도포액을 도포하여 건조시킴으로써, 액정 분자가 배향된 광학막을 형성한다. 광학막 등으로 광학 부재(50)가 구성된다. In the optical member forming step S120, an optical film in which liquid crystal molecules are aligned is formed by applying a coating liquid for an optical film containing liquid crystal molecules and a solvent onto the substrate 10 on which the organic light emitting diode 13 is formed in advance, and drying. The optical member 50 is composed of an optical film or the like.

광학 부재(50)는, 예컨대 제1 광학막과 제2 광학막을 가진다. 제1 광학막 및 제2 광학막은, 어느 하나가 위상차막이고, 나머지 하나가 편광막이다. The optical member 50 has, for example, a first optical film and a second optical film. One of the first optical film and the second optical film is a retardation film, and the other is a polarizing film.

광학 부재(50)는, 예컨대 외광 반사를 억제하는 원편광막이며, 본 실시형태에서는, 제1 광학막으로서 1/4 파장막(λ/4막)을 가지며, 제2 광학막으로서 직선 편광막을 가진다. 1/4 파장막과 직선 편광막은, 그 편광축이 45도로 교차하도록 형성된다. 또한, 광학 부재(50)를 구성하는 광학막의 수는 특별히 한정되지 않는다. The optical member 50 is, for example, a circular polarizing film that suppresses reflection of external light. In this embodiment, it has a 1/4 wavelength film (λ/4 film) as the first optical film and a linear polarizing film as the second optical film. have The 1/4 wavelength film and the linear polarizing film are formed such that their polarization axes intersect at 45 degrees. In addition, the number of optical films constituting the optical member 50 is not particularly limited.

본 실시형태의 광학 부재 형성 공정 S120에 의하면, 광학 부재(50)는, 유기 발광 다이오드(13)가 미리 형성된 기판(10) 상에 형성된다. 따라서, 종래와 같이 광학 부재(50)가 기판(10)과는 별도의 기판에 형성되어, 기판(10)과 접합되는 경우에 비교하여, 기판이나 접착층 등의 부품수를 삭감할 수 있기 때문에, 유기 EL 디스플레이(1)를 박형화할 수 있고, 유기 EL 디스플레이(1)의 플렉시블성을 향상시킬 수 있다. According to the optical member forming step S120 of the present embodiment, the optical member 50 is formed on the substrate 10 on which the organic light emitting diode 13 is formed in advance. Therefore, compared to the case where the optical member 50 is formed on a substrate separate from the substrate 10 and bonded to the substrate 10 as in the prior art, since the number of components such as the substrate and adhesive layer can be reduced, The thickness of the organic EL display 1 can be reduced, and the flexibility of the organic EL display 1 can be improved.

본 실시형태의 광학 부재 형성 공정 S120에 의하면, 광학 부재(50)는, 유기층(23)의 자외선에 의한 열화를 억제하기 위해, 자외선 조사를 이용하지 않고 제조된다. 또한, 광학 부재(50)는, 유기층(23)의 열에 의한 열화를 억제하기 위해, 100℃ 이하의 온도에서 제조된다. According to the optical member formation step S120 of the present embodiment, the optical member 50 is manufactured without using ultraviolet irradiation in order to suppress deterioration of the organic layer 23 by ultraviolet rays. In addition, the optical member 50 is manufactured at a temperature of 100° C. or less in order to suppress deterioration of the organic layer 23 due to heat.

<제1 실시형태의 광학 부재 형성 공정> <Optical member formation step of the first embodiment>

도 12는, 제1 실시형태에 의한 광학 부재 형성 공정을 나타내는 플로우차트이다. 광학 부재 형성 공정 S120은, 도 12에 나타낸 바와 같이, 제1 광학막 형성 공정 S121과, 중간막 형성 공정 S122와, 제1 광학막 패터닝 공정 S123과, 제2 광학막 형성 공정 S124와, 보호막 형성 공정 S125와, 제2 광학막 패터닝 공정 S126을 이 순으로 가진다. 이하, 각 공정에 관해 설명한다. 12 is a flowchart showing the optical member forming process according to the first embodiment. As shown in FIG. 12, the optical member forming step S120 includes the first optical film forming step S121, the intermediate film forming step S122, the first optical film patterning step S123, the second optical film forming step S124, and the protective film forming step. It has S125 and the 2nd optical film patterning process S126 in this order. Hereinafter, each process is demonstrated.

또한, 도 12에 나타내는 모든 공정이 행해지지 않아도 좋다. 예컨대 자세하게는 후술하지만, 제1 광학막 패터닝 공정 S123이나 제2 광학막 패터닝 공정 S126은, 광학 부재(50)를 기판(10) 상에 간격을 두고 복수 개 형성하는 경우에는 유효하지만, 광학 부재(50)를 기판(10) 상에 하나만 형성하는 경우에는 생략해도 좋다. 후술하는 일부 불용화의 처리에 관해 동일하다. In addition, all the steps shown in Fig. 12 may not be performed. For example, as described later in detail, the first optical film patterning step S123 and the second optical film patterning step S126 are effective when forming a plurality of optical members 50 at intervals on the substrate 10, but the optical member ( 50) may be omitted when only one is formed on the substrate 10. The same applies to the treatment of partial insolubilization described later.

또한, 도 12에 나타내는 공정 이외의 공정이 행해져도 좋다. 예컨대, 제1 광학막 형성 공정 S121 이전에, 기판(10)에 대한 제1 광학막의 밀착성을 개선하기 위해, 기판(10)의 제1 광학막이 형성되는 면(보다 구체적으로는 밀봉층(30) 또는 터치 센서 보호막(47))을 표면 개질하는 공정이 행해져도 좋다. 표면 개질막으로서, 실란커플링제 등의 유기막, 또는 질화규소 등의 무기막이 형성되어도 좋다. Further, steps other than the steps shown in FIG. 12 may be performed. For example, before the first optical film forming step S121, in order to improve the adhesion of the first optical film to the substrate 10, the surface of the substrate 10 on which the first optical film is formed (more specifically, the sealing layer 30) Alternatively, a process of surface-reforming the touch sensor protective film 47 may be performed. As the surface modification film, an organic film such as a silane coupling agent or an inorganic film such as silicon nitride may be formed.

<제1 실시형태의 제1 광학막 형성 공정> <1st Optical Film Forming Step of 1st Embodiment>

도 12의 제1 광학막 형성 공정 S121에서는, 도 13∼도 15에 나타낸 바와 같이, 액정 분자와 용매를 포함하는 제1 광학막용 도포액(61)을 기판(10) 상에 도포하여 건조시킴으로써 제1 광학막(62)을 형성한다. 제1 광학막(62)은, 예컨대 1/4 파장막이다. In the first optical film forming step S121 of FIG. 12, as shown in FIGS. 13 to 15, the first optical film coating liquid 61 containing liquid crystal molecules and a solvent is coated on the substrate 10 and dried. 1 The optical film 62 is formed. The first optical film 62 is, for example, a 1/4 wavelength film.

도 13은, 제1 실시형태에 의한 기판 상에 도포된 제1 광학막용 도포액의 액막을 나타내는 측면도이다. 도 14는, 제1 실시형태에 의한 제1 광학막용 도포액의 액막의 건조에 의해 형성된 제1 광학막을 나타내는 측면도이다. 도 15는, 제1 실시형태에 의한 일부 불용화된 제1 광학막을 나타내는 측면도이다. Fig. 13 is a side view showing a liquid film of a coating liquid for the first optical film applied on the substrate according to the first embodiment. 14 is a side view showing the first optical film formed by drying the liquid film of the coating liquid for the first optical film according to the first embodiment. 15 is a side view showing a partially insolubilized first optical film according to the first embodiment.

도 13∼도 15에서, 도 2에 나타내는 유기 발광 다이오드(13)나 밀봉층(30) 등의 도시를 생략한다. 또한, 도 16∼도 24에서, 마찬가지로 도 2에 나타내는 유기 발광 다이오드(13)나 밀봉층(30) 등의 도시를 생략한다. In Figs. 13 to 15, illustration of the organic light emitting diode 13, the sealing layer 30, and the like shown in Fig. 2 is omitted. In addition, in FIGS. 16-24, illustration of the organic light emitting diode 13, the sealing layer 30, etc. likewise shown in FIG. 2 is abbreviate|omitted.

도 13에 나타낸 바와 같이, 제1 광학막 형성 공정 S121에서는, 기판(10) 상에 도포 노즐(60)로부터 제1 광학막용 도포액(61)을 도포한다. 도포 노즐(60)은, 예컨대 하면에 슬릿형의 토출구를 갖는 슬릿 코터이다. As shown in FIG. 13, in 1st optical film formation process S121, the coating liquid 61 for 1st optical films is apply|coated from the application|coating nozzle 60 on the board|substrate 10. The coating nozzle 60 is, for example, a slit coater having a slit-shaped discharge port on the lower surface.

제1 광학막용 도포액(61)은, 리오트로픽 액정 분자나 서모트로픽 액정 분자 등의 액정 분자와, 액정 분자를 녹이는 용매를 포함한다. 용매로는, 예컨대 물 등이 이용된다. 또한, 용매로서 유기 용매가 이용되어도 좋다. The coating liquid 61 for the first optical film contains liquid crystal molecules such as lyotropic liquid crystal molecules and thermotropic liquid crystal molecules, and a solvent that dissolves the liquid crystal molecules. As a solvent, water etc. are used, for example. Also, an organic solvent may be used as the solvent.

도포 노즐(60)과 기판(10)을 상대적으로 한 방향으로 이동시키는 것에 의해, 기판(10)에 도포되는 제1 광학막용 도포액(61)에 전단 응력을 가할 수 있다. 전단 응력의 작용 방향은, 도포 노즐(60)과 기판(10)의 상대적인 이동 방향과 일치한다. 전단 응력의 작용 방향을 제어함으로써, 액정 분자의 배향 방향을 제어할 수 있다. By moving the coating nozzle 60 and the substrate 10 relatively in one direction, shear stress can be applied to the coating liquid 61 for the first optical film applied to the substrate 10 . The direction of application of the shear stress coincides with the direction of relative movement of the application nozzle 60 and the substrate 10 . By controlling the direction of application of the shear stress, the alignment direction of the liquid crystal molecules can be controlled.

또한, 본 실시형태에서는 제1 광학막용 도포액(61)의 도포에 슬릿 코터가 이용되지만, 딥 코터 등이 이용되어도 좋다. 제1 광학막용 도포액(61)에 전단 응력을 가할 수 있고, 그 전단 응력의 작용 방향을 제어할 수 있으면 된다. In this embodiment, a slit coater is used for application of the coating liquid 61 for the first optical film, but a dip coater or the like may be used. What is necessary is just to be able to apply shear stress to the coating liquid 61 for 1st optical films, and to be able to control the action direction of the shear stress.

도 14에 나타낸 바와 같이, 제1 광학막 형성 공정 S121에서는, 기판(10) 상에 도포된 제1 광학막용 도포액(61)의 액막(도 13 참조)을 건조시켜, 제1 광학막(62)을 형성한다. 제1 광학막용 도포액(61)의 액막으로부터 용매가 제거되고, 액정 분자의 배향이 적절하게 유지된다. 제1 광학막(62)은, 예컨대 1/4 파장막이다. As shown in FIG. 14 , in the first optical film forming step S121, the liquid film (see FIG. 13 ) of the coating liquid 61 for the first optical film applied on the substrate 10 is dried, and the first optical film 62 ) to form The solvent is removed from the liquid film of the coating liquid 61 for the first optical film, and the alignment of the liquid crystal molecules is properly maintained. The first optical film 62 is, for example, a 1/4 wavelength film.

제1 광학막용 도포액(61)의 액막의 건조에는, 감압 건조, 자연 건조, 가열 건조, 바람 건조 등이 이용된다. 감압 건조는, 자연 건조보다 처리 시간을 단축할 수 있다. 또한, 감압 건조는, 가열 건조나 바람 건조에 비하여, 액막의 대류를 억제할 수 있고, 액정 분자의 배향의 혼란을 억제할 수 있다. 감압 건조에서 용매가 잔류하고 있는 경우, 가열 건조가 더 행해져도 좋다. For drying the liquid film of the coating liquid 61 for the first optical film, vacuum drying, natural drying, heat drying, wind drying, or the like is used. Drying under reduced pressure can shorten the treatment time compared to natural drying. In addition, compared to heat drying or wind drying, reduced pressure drying can suppress convection of the liquid film and suppress disorder of orientation of liquid crystal molecules. When the solvent remains in the drying under reduced pressure, heat drying may be further performed.

도 15에 나타낸 바와 같이, 제1 광학막 형성 공정 S121에서는, 제1 광학막(62)의 일부(63)만을 제1 광학막 패터닝 공정 S123에서 이용되는 세정액에 대하여 불용화해도 좋다. 이 일부 불용화는, 필요에 따라서 행해진다. As shown in FIG. 15 , in the first optical film forming step S121, only a part 63 of the first optical film 62 may be insolubilized with respect to the cleaning liquid used in the first optical film patterning step S123. This partial insolubilization is performed as needed.

또한, 제1 광학막 패터닝 공정 S123에서 이용되는 세정액으로는, 제1 광학막용 도포액(61)의 용매와 동일한 것이 이용되어도 좋으며, 예컨대 물이 이용되어도 좋다. 이 경우, 물에 대한 불용화가 행해진다. In addition, as the cleaning liquid used in the first optical film patterning step S123, the same solvent as that of the coating liquid 61 for the first optical film may be used, for example, water may be used. In this case, insolubilization to water is performed.

제1 광학막(62)의 일부(63)를 불용화하는 정착액(110)은, 예컨대 잉크젯 방식의 도포 노즐(111)로부터 토출된다. 도포 노즐(111)은, 하면에 정착액(110)의 액적을 토출하는 토출 노즐을 복수 개 가진다. The fixer 110 that insolubilizes a part 63 of the first optical film 62 is ejected from an inkjet coating nozzle 111, for example. The application nozzle 111 has a plurality of discharge nozzles for discharging droplets of the fixer 110 on the lower surface.

도포 노즐(111)과 기판(10)을 상대적으로 이동시키면서, 도포 노즐(111)로부터 정착액(110)의 액적을 토출함으로써, 제1 광학막(62)의 일부(63)에 정착액(110)을 선택적으로 도포한다. 이것에 의해, 제1 광학막(62)의 일부(63)가 불용화된다. While moving the coating nozzle 111 and the substrate 10 relatively, liquid droplets of the fixer 110 are discharged from the coating nozzle 111 to apply the fixer 110 to a part 63 of the first optical film 62. applied selectively. As a result, a part 63 of the first optical film 62 is insolubilized.

정착액(110)은, 예컨대, 제1 광학막(62)의 말단의 작용기(예컨대 OH기 등의 수용성의 작용기)를 별도의 작용기로 치환함으로써, 제1 광학막(62)의 일부(63)를 불용화한다. 또한, 정착액(110)은, 축합 반응(예컨대 OH기 등의 탈수 축합 반응)에 의해 고분자화시킴으로써, 제1 광학막(62)의 일부(63)를 불용화해도 좋다. 후자의 경우, 전자의 경우에 비교하여, 고분자화가 진행되기 때문에 불용화가 진행되기 쉽다. The fixer 110 fixes a part 63 of the first optical film 62 by substituting a functional group at the end of the first optical film 62 (eg, a water-soluble functional group such as an OH group) with another functional group. make it insoluble Further, the fixer 110 may insolubilize a part 63 of the first optical film 62 by polymerizing the fixer 110 through a condensation reaction (for example, a dehydration condensation reaction of OH groups). In the case of the latter, compared to the case of the former, since polymerization proceeds, insolubilization tends to proceed.

정착액(110)은, 제1 광학막(62)의 일부(63)를 불용화한 후 제거된다. 정착액(110)은, 물을 포함해도 좋고 유기 용매를 포함해도 좋다. The fixer 110 is removed after insolubilizing a part 63 of the first optical film 62 . The fixer 110 may contain water or an organic solvent.

정착액(110)이 도포되는 영역은, 예컨대, OLED 등의 화소가 복수 개 형성되는 영역(이하, 「화소 영역」이라고도 함)이어도 좋다. The area where the fixer 110 is applied may be, for example, an area in which a plurality of pixels such as an OLED are formed (hereinafter also referred to as a “pixel area”).

또한, 본 실시형태에서는, 제1 광학막(62)의 일부(63)에만 정착액(110)을 도포하기 위해, 잉크젯 방식의 도포 노즐(111)을 이용하지만, 본 발명은 이것에 한정되지 않는다. 예컨대, 제1 광학막(62)의 잔부만을 마스크로 덮고, 그 후, 기판(10) 전체를 정착액(110)에 침지함으로써, 제1 광학막(62)의 일부(63)에만 정착액을 도포해도 좋다. In addition, in this embodiment, an inkjet type application nozzle 111 is used to apply the fixer 110 only to a part 63 of the first optical film 62, but the present invention is not limited to this. For example, the fixer may be applied only to a part 63 of the first optical film 62 by covering only the remainder of the first optical film 62 with a mask and then immersing the entire substrate 10 in the fixer 110. good night.

<제1 실시형태의 중간막 형성 공정> <Intermediate film forming step of the first embodiment>

도 12의 중간막 형성 공정 S122에서는, 도 16∼도 17에 나타낸 바와 같이, 제1 광학막용 도포액(61)과는 상이한 중간막용 도포액(71)을 제1 광학막(62) 상에 도포하여 건조시킴으로써 중간막(72)을 형성한다. In the intermediate film forming step S122 of FIG. 12, as shown in FIGS. 16 and 17, a coating liquid 71 for an intermediate film different from the coating liquid 61 for the first optical film is applied on the first optical film 62, An intermediate film 72 is formed by drying.

도 16은, 제1 실시형태에 의한 제1 광학막 상에 도포된 중간막용 도포액의 액막을 나타내는 측면도이다. 도 17은, 제1 실시형태에 의한 중간막용 도포액의 액막의 건조에 의해 형성된 중간막을 나타내는 측면도이다. 16 is a side view showing a liquid film of a coating liquid for an intermediate film applied on the first optical film according to the first embodiment. Fig. 17 is a side view showing an interlayer film formed by drying a liquid film of a coating liquid for an interlayer film according to the first embodiment.

도 16에 나타낸 바와 같이, 중간막 형성 공정 S122에서는, 제1 광학막(62)이 형성된 기판(10) 상에 도포 노즐(70)로부터 중간막용 도포액(71)을 도포한다. 도포 노즐(70)은, 잉크젯 방식이어도 좋으며, 하면에 중간막용 도포액(71)의 액적을 토출하는 토출 노즐을 복수 개 가진다. As shown in Fig. 16, in the intermediate film forming step S122, the coating liquid 71 for an intermediate film is applied from the application nozzle 70 onto the substrate 10 on which the first optical film 62 is formed. The coating nozzle 70 may be of an inkjet method, and has a plurality of discharge nozzles for discharging droplets of the coating liquid 71 for an interlayer film on the lower surface.

도포 노즐(70)과 기판(10)을 상대적으로 이동시키면서, 도포 노즐(70)로부터 중간막용 도포액(71)의 액적을 토출함으로써, 제1 광학막(62)의 일부(63)에 중간막용 도포액(71)을 선택적으로 도포한다. While the coating nozzle 70 and the substrate 10 are relatively moved, droplets of the coating liquid 71 for an intermediate film are discharged from the coating nozzle 70 to a part 63 of the first optical film 62 for an intermediate film. The coating liquid 71 is selectively applied.

중간막용 도포액(71)은 제1 광학막(62) 상에 도포된다. 그 때문에, 제1 광학막(62)을 형성하는 액정 분자는, 중간막용 도포액(71)의 용매에 대하여 불용성을 가져도 좋다. 중간막용 도포액(71)의 도포에 의해 제1 광학막(62)이 녹는 것을 방지할 수 있다. The coating liquid 71 for the intermediate film is applied on the first optical film 62 . Therefore, the liquid crystal molecules forming the first optical film 62 may have insolubility with respect to the solvent of the coating liquid 71 for an interlayer film. Melting of the first optical film 62 can be prevented by application of the coating liquid 71 for an intermediate film.

중간막용 도포액(71)은, 중간막(72)을 형성하는 유기 재료와, 그 유기 재료를 녹이는 용매를 포함한다. 중간막(72)을 형성하는 유기 재료는, 제1 광학막 패터닝 공정 S123에서 이용되는 세정액에 대하여 불용성의 고분자 등을 포함한다. The coating liquid 71 for an interlayer film contains an organic material forming the interlayer film 72 and a solvent dissolving the organic material. The organic material forming the intermediate film 72 includes a polymer or the like that is insoluble in the cleaning liquid used in the first optical film patterning step S123.

중간막용 도포액(71)으로는, 예컨대, 열경화형의 투명 도료, 화학 반응형의 투명 도료, 건조 경화형의 투명 도료 등이 이용된다. 구체적으로는, 유성 에나멜 도료, 프탈산 수지 도료 등이 이용된다. As the coating liquid 71 for an interlayer film, for example, a thermosetting type transparent paint, a chemical reaction type transparent paint, a dry curing type transparent paint or the like is used. Specifically, oil-based enamel paints, phthalic acid resin paints, and the like are used.

열경화형의 투명 도료, 화학 반응형의 투명 도료, 건조 경화형의 투명 도료 등은, 열경화나 화학 반응 또는 건조 경화에 의해 고분자화되기 때문에, 치밀한 중간막(72)을 형성할 수 있다. 따라서, 중간막(72)의 제1 광학막 패터닝 공정 S123에서 이용되는 세정액에 대한 불용성을 향상시킬 수 있다. Since thermosetting transparent paint, chemical reaction transparent paint, dry curing transparent paint, etc. are polymerized by thermal curing, chemical reaction, or dry curing, a dense interlayer 72 can be formed. Accordingly, the insolubility of the intermediate film 72 in the cleaning liquid used in the first optical film patterning process S123 may be improved.

중간막용 도포액(71)은, 정착액(110)과 동일한 기능을 가져도 좋다. 제1 광학막(62)의 일부 불용화를 촉진할 수 있다. 또한, 중간막용 도포액(71)에 의해 제1 광학막(62)의 일부 불용화를 행하는 경우, 상기 제1 광학막 형성 공정 S121에서 제1 광학막(62)의 일부 불용화를 행하지 않아도 좋다. The coating liquid 71 for an interlayer film may have the same function as the fixer 110 . Partial insolubilization of the first optical film 62 may be promoted. In addition, when performing partial insolubilization of the 1st optical film 62 with the coating liquid 71 for intermediate films, it is not necessary to perform partial insolubilization of the 1st optical film 62 in the said 1st optical film formation process S121. .

예컨대, 중간막용 도포액(71)은, 제1 광학막(62)의 말단의 작용기(예컨대 OH기 등의 수용성의 작용기)를 별도의 작용기로 치환함으로써, 제1 광학막(62)의 일부(63)를 불용화해도 좋다. 또한, 중간막용 도포액(71)은, 축합 반응(예컨대 OH기 등의 탈수 축합 반응)에 의해 고분자화시킴으로써, 제1 광학막(62)의 일부(63)를 불용화해도 좋다. 후자의 경우, 전자의 경우에 비교하여, 고분자화가 진행되기 때문에 불용화가 진행되기 쉽다. For example, the coating liquid 71 for an intermediate film may be partially ( 63) may be insolubilized. In addition, a part 63 of the 1st optical film 62 may be made insolubilized by polymerizing the coating liquid 71 for interlayer films by a condensation reaction (for example, dehydration condensation reaction of OH groups etc.). In the case of the latter, compared to the case of the former, since polymerization proceeds, insolubilization tends to proceed.

중간막용 도포액(71)이 도포되는 영역은, 정착액(110)이 도포되는 영역과 일치해도 좋다. 예컨대, 중간막용 도포액(71)이 도포되는 영역은, 기판(10) 상의 화소 영역이어도 좋다. The area where the interlayer coating liquid 71 is applied may coincide with the area where the fixer 110 is applied. For example, the area where the coating liquid 71 for an interlayer film is applied may be a pixel area on the substrate 10 .

도 17에 나타낸 바와 같이, 중간막 형성 공정 S122에서는, 기판(10) 상에 도포된 중간막용 도포액(71)의 액막(도 16 참조)을 건조시켜, 중간막(72)을 형성한다. 중간막용 도포액(71)의 액막으로부터 용매가 제거되고, 중간막(72)이 형성된다. As shown in Fig. 17, in the intermediate film forming step S122, the liquid film of the coating liquid 71 for an intermediate film applied on the substrate 10 (see Fig. 16) is dried to form the intermediate film 72. The solvent is removed from the liquid film of the coating liquid 71 for the interlayer film, and the interlayer film 72 is formed.

중간막용 도포액(71)의 액막의 건조에는, 감압 건조, 자연 건조, 가열 건조, 바람 건조 등이 이용된다. 감압 건조는, 자연 건조보다 처리 시간을 단축할 수 있다. 감압 건조에서 용매가 잔류하고 있는 경우, 가열 건조가 더 행해져도 좋다. For drying the liquid film of the coating liquid 71 for an interlayer film, vacuum drying, natural drying, heat drying, air drying, or the like is used. Drying under reduced pressure can shorten the treatment time compared to natural drying. When the solvent remains in the drying under reduced pressure, heat drying may be further performed.

중간막(72)은, 제1 광학막 패터닝 공정 S123에서 이용되는 세정액에 대하여 불용성을 가진다. 중간막(72)은, 제1 광학막(62)과는 달리 등방적인 광학 특성을 가진다. 중간막(72)의 가시광 투과율은 95% 이상인 것이 바람직하다. 또한, 중간막(72)의 막두께는 10 ㎛ 이하인 것이 바람직하다. 또한, 중간막(72)의 잔류 응력은, 광학 부재의 변형을 억제하기 위해, 작을수록 바람직하다. The intermediate film 72 is insoluble in the cleaning liquid used in the first optical film patterning step S123. Unlike the first optical film 62, the intermediate film 72 has isotropic optical characteristics. The visible light transmittance of the intermediate film 72 is preferably 95% or more. Also, the film thickness of the intermediate film 72 is preferably 10 μm or less. In addition, the residual stress of the intermediate film 72 is preferably as small as possible in order to suppress deformation of the optical member.

중간막(72)은, 제1 광학막(62)의 일부(63)의 주표면을 덮는다. 중간막(72)은, 제1 광학막(62)의 일부(63)에 손상이나 이물질 등이 생기지 않도록, 제1 광학막(62)의 일부(63)를 보호하는 역할도 한다. 중간막(72)의 연필 경도는 2H 이상인 것이 바람직하다. 광학 부재의 제조가 도중에 일시적으로 중단되어 재개까지 시간이 걸리는 경우, 손상이나 이물질이 생길 리스크가 높기 때문에 특히 유효하다. The intermediate film 72 covers the main surface of a part 63 of the first optical film 62 . The intermediate film 72 also serves to protect the part 63 of the first optical film 62 so that damage or foreign matter does not occur on the part 63 of the first optical film 62 . It is preferable that the pencil hardness of the intermediate film 72 is 2H or more. This is particularly effective when the production of an optical member is temporarily stopped midway and it takes time to resume, since there is a high risk of damage or foreign matter.

또한, 제1 광학막(62)의 잔부는, 제1 광학막 패터닝 공정 S123에서 제거되기 때문에, 손상이나 이물질이 생기는 것은 문제가 되지 않는다. 또한, 중간막(72)에 생긴 이물질은 세정으로 제거할 수 있고, 그 세정에 의해 제1 광학막(62)의 일부(63)가 손상되지는 않는다.In addition, since the remaining part of the 1st optical film 62 is removed in 1st optical film patterning process S123, the occurrence of damage or foreign matter is not a problem. In addition, foreign matter formed on the intermediate film 72 can be removed by cleaning, and a part 63 of the first optical film 62 is not damaged by the cleaning.

<제1 실시형태의 제1 광학막 패터닝 공정> <First Optical Film Patterning Step of First Embodiment>

도 12의 제1 광학막 패터닝 공정 S123에서는, 중간막 형성 공정 S122 이후이자 제2 광학막 형성 공정 S124 이전에, 제1 광학막(62)의 일부(63)(도 17 참조)만을 덮는 중간막(72)을 마스크로서 이용하여, 도 18에 나타낸 바와 같이 제1 광학막(62)의 잔부를 제거한다. In the first optical film patterning step S123 of FIG. 12 , after the intermediate film forming step S122 and before the second optical film forming step S124, the intermediate film 72 covering only a part 63 (see FIG. 17) of the first optical film 62 ) as a mask, the remainder of the first optical film 62 is removed as shown in FIG. 18 .

도 18은, 제1 실시형태에 의한 중간막으로 덮이지 않은 부분이 제거된 제1 광학막을 나타내는 측면도이다. 제1 광학막 패터닝 공정 S123의 동안, 제1 광학막(62)의 일부(63)를 중간막(72)으로 보호할 수 있고, 제1 광학막(62)의 일부(63)의 형상 붕괴를 억제할 수 있다. 따라서, 광학 부재의 품질을 향상시킬 수 있다. Fig. 18 is a side view showing the first optical film in which the portion not covered with the intermediate film according to the first embodiment is removed. During the first optical film patterning step S123, the part 63 of the first optical film 62 can be protected with the intermediate film 72, and the shape collapse of the part 63 of the first optical film 62 can be suppressed. can do. Therefore, the quality of the optical member can be improved.

예컨대, 제1 광학막 패터닝 공정 S123에서는, 제1 광학막(62)을 녹이는 세정액을 이용한다. 세정액은, 예컨대 스핀척으로 기판(10)을 회전시키면서 기판(10)에 공급된다. 기판(10)에 공급된 세정액은, 원심력에 의해 기판(10) 전체에 퍼지고, 기판(10)의 외주 가장자리로부터 털어낸다. For example, in the first optical film patterning step S123, a cleaning liquid that dissolves the first optical film 62 is used. The cleaning liquid is supplied to the substrate 10 while rotating the substrate 10 with, for example, a spin chuck. The cleaning liquid supplied to the substrate 10 spreads over the entire substrate 10 by centrifugal force and is brushed off from the outer periphery of the substrate 10 .

제1 광학막(62)의 일부(63)는 중간막(72)으로 덮여 있기 때문에, 세정액과 접촉하지 않고, 세정액에 의해 형상 붕괴가 일어나지 않는다. 한편, 제1 광학막(62)의 잔부는 세정액과 접촉하기 때문에, 세정액에 의해 녹아서 제거된다. Since the part 63 of the first optical film 62 is covered with the intermediate film 72, it does not come into contact with the cleaning liquid and the cleaning liquid does not cause shape collapse. On the other hand, since the remainder of the first optical film 62 comes into contact with the cleaning liquid, it is melted and removed by the cleaning liquid.

또한, 세정액은 세정조에 저류되고, 세정조의 세정액에 기판(10)을 침지함으로써, 제1 광학막(62)의 일부(63)를 남기면서, 제1 광학막(62)의 잔부를 녹여 제거해도 좋다. 세정조의 세정액은, 교반 날개 등으로 교반되어도 좋다. In addition, the cleaning liquid is stored in the cleaning tank, and by immersing the substrate 10 in the cleaning liquid of the cleaning tank, the remainder of the first optical film 62 may be melted and removed while leaving a part 63 of the first optical film 62. good night. The washing liquid in the washing tank may be stirred with a stirring blade or the like.

제1 광학막(62)의 일부(63)가 확실하게 남도록, 상기 제1 광학막 형성 공정 S121이나 상기 중간막 형성 공정 S122에서, 제1 광학막(62)의 일부(63)를 세정액에 대하여 불용화하는 것은 유효하다. 세정액이 들어가는 것에 의해 과잉으로 제거되는 것을 방지할 수 있어, 제1 광학막(62)의 일부(63)를 확실하게 남길 수 있다. In the first optical film forming step S121 or the intermediate film forming step S122, the part 63 of the first optical film 62 is insoluble in the cleaning liquid so that the part 63 of the first optical film 62 remains reliably. Anger is valid. Excessive removal can be prevented by entering the cleaning liquid, and a part 63 of the first optical film 62 can be reliably left.

또한, 중간막(72)은 세정액에 대한 불용성을 갖기 때문에, 상기 제1 광학막 형성 공정 S121이나 상기 중간막 형성 공정 S122에서, 제1 광학막(62)의 일부 불용화를 행하지 않더라도, 제1 광학막(62)의 패터닝은 가능하다. 이 경우, 공정수를 삭감할 수 있다.In addition, since the intermediate film 72 is insoluble in the cleaning liquid, even if the first optical film 62 is not partially insolubilized in the first optical film forming step S121 or the intermediate film forming step S122, the first optical film 72 is insolubilized. Patterning of (62) is possible. In this case, the number of steps can be reduced.

상기 제1 광학막 형성 공정 S121에서는, 전단 응력을 가하면서 제1 광학막용 도포액(61)을 도포하기 때문에, 화소 영역에만 제1 광학막용 도포액(61)을 도포하는 것은 어렵다. 따라서, 제1 광학막 패터닝 공정 S123을 행하는 것은 유효하다. In the first optical film forming step S121, since the coating liquid 61 for the first optical film is applied while applying shear stress, it is difficult to apply the coating liquid 61 for the first optical film only to the pixel region. Therefore, it is effective to perform the first optical film patterning step S123.

또한, 본 실시형태에서는 세정액을 이용하여 제1 광학막(62)의 잔부를 제거하지만, 제1 광학막(62)의 잔부의 제거 방법은 특별히 한정되지 않는다. 예컨대, 에칭법이 이용되어도 좋다. 에칭은, 웨트 에칭, 드라이 에칭의 어느 것이어도 좋다. In this embodiment, the remaining portion of the first optical film 62 is removed using a cleaning solution, but the method for removing the remaining portion of the first optical film 62 is not particularly limited. For example, an etching method may be used. Etching may be either wet etching or dry etching.

이하, 제1 광학막 패터닝 공정 S123에서 남는 제1 광학막(62)의 일부(63)를 「제1 광학막(63)」이라고도 칭한다. Hereinafter, a part 63 of the first optical film 62 remaining in the first optical film patterning step S123 is also referred to as "the first optical film 63".

<제1 실시형태의 제2 광학막 형성 공정> <Second optical film forming step of the first embodiment>

도 12의 제2 광학막 형성 공정 S124에서는, 도 19∼도 21에 나타낸 바와 같이, 액정 분자와 용매를 포함하는 제2 광학막용 도포액(81)을 중간막(72) 상에 도포하여 건조시킴으로써 제2 광학막(82)을 형성한다. 제2 광학막(82)은, 예컨대 직선 편광막이다. In the second optical film forming step S124 of FIG. 12, as shown in FIGS. 19 to 21, a second optical film coating liquid 81 containing liquid crystal molecules and a solvent is applied onto the intermediate film 72 and dried. 2 The optical film 82 is formed. The second optical film 82 is, for example, a linear polarizing film.

도 19∼도 21은, 제1 실시형태에 의한 제2 광학막 형성 공정의 설명 측면도이다. 도 19는, 제1 실시형태에 의한 중간막 상에 도포된 제2 광학막용 도포액의 액막을 나타내는 측면도이다. 도 20은, 제1 실시형태에 의한 제2 광학막용 도포액의 액막의 건조에 의해 형성된 제2 광학막을 나타내는 측면도이다. 도 21은, 제1 실시형태에 의한 일부 불용화된 제2 광학막을 나타내는 측면도이다. 19-21 are explanatory side views of the 2nd optical film formation process by 1st Embodiment. Fig. 19 is a side view showing a liquid film of a coating liquid for a second optical film applied on the intermediate film according to the first embodiment. 20 is a side view showing the second optical film formed by drying the liquid film of the coating liquid for the second optical film according to the first embodiment. Fig. 21 is a side view showing a partially insolubilized second optical film according to the first embodiment.

도 19에 나타낸 바와 같이, 제2 광학막 형성 공정 S124에서는, 기판(10) 상에 도포 노즐(80)로부터 제2 광학막용 도포액(81)을 도포한다. 도포 노즐(80)은, 예컨대 하면에 슬릿형의 토출구를 갖는 슬릿 코터이다. As shown in FIG. 19, in 2nd optical film formation process S124, the coating liquid 81 for 2nd optical films is apply|coated from the application|coating nozzle 80 on the board|substrate 10. The coating nozzle 80 is, for example, a slit coater having a slit-shaped discharge port on the lower surface.

제2 광학막용 도포액(81)은 중간막(72) 상에 도포된다. 그 때문에, 중간막(72)을 형성하는 유기 재료는, 제2 광학막용 도포액(81)의 용매에 대하여 불용성을 가져도 좋다. 제2 광학막용 도포액(81)의 도포에 의해 중간막(72)이 녹는 것을 방지할 수 있다. The coating liquid 81 for the second optical film is applied on the intermediate film 72 . Therefore, the organic material forming the intermediate film 72 may have insolubility with respect to the solvent of the coating liquid 81 for the second optical film. The melting of the intermediate film 72 can be prevented by the application of the coating liquid 81 for the second optical film.

제2 광학막용 도포액(81)은, 리오트로픽 액정 분자나 서모트로픽 액정 분자 등의 액정 분자와, 액정 분자를 녹이는 용매를 포함한다. 용매로는, 예컨대 물 등이 이용된다. 또한, 용매로서 유기 용매가 이용되어도 좋다. The coating liquid 81 for the second optical film contains liquid crystal molecules such as lyotropic liquid crystal molecules and thermotropic liquid crystal molecules, and a solvent that dissolves the liquid crystal molecules. As a solvent, water etc. are used, for example. Also, an organic solvent may be used as the solvent.

도포 노즐(80)과 기판(10)을 상대적으로 한 방향으로 이동시키는 것에 의해, 기판(10)에 도포되는 제2 광학막용 도포액(81)에 전단 응력을 가할 수 있다. 전단 응력의 작용 방향은, 도포 노즐(80)과 기판(10)의 상대적인 이동 방향과 일치한다. 전단 응력의 작용 방향을 제어함으로써, 액정 분자의 배향 방향을 제어할 수 있다. By moving the coating nozzle 80 and the substrate 10 relatively in one direction, shear stress can be applied to the coating liquid 81 for the second optical film applied to the substrate 10 . The direction of application of the shear stress coincides with the direction of relative movement of the application nozzle 80 and the substrate 10 . By controlling the direction of application of the shear stress, the alignment direction of the liquid crystal molecules can be controlled.

제2 광학막 형성 공정 S124에서의 전단 응력의 작용 방향은, 제1 광학막 형성 공정 S121에서의 전단 응력의 작용 방향에 대하여 경사 45°로 교차하는 방향이 된다. 이것에 의해, 1/4 파장막과 직선 편광막은, 그 편광축이 45도로 교차하도록 형성된다. The direction of action of the shear stress in the second optical film forming step S124 is a direction that intersects the direction of action of the shear stress in the first optical film forming step S121 at an angle of 45°. As a result, the 1/4 wavelength film and the linear polarizing film are formed such that their polarization axes intersect at 45 degrees.

또한, 본 실시형태에서는 제2 광학막용 도포액(81)의 도포에 슬릿 코터가 이용되지만, 딥 코터 등이 이용되어도 좋다. 제2 광학막용 도포액(81)에 전단 응력을 가할 수 있고, 그 전단 응력의 작용 방향을 제어할 수 있으면 된다. In this embodiment, a slit coater is used for application of the coating liquid 81 for the second optical film, but a dip coater or the like may be used. What is necessary is just to be able to apply shear stress to the coating liquid 81 for 2nd optical films, and to be able to control the action direction of the shear stress.

도 20에 나타낸 바와 같이, 제2 광학막 형성 공정 S124에서는, 기판(10) 상에 도포된 제2 광학막용 도포액(81)의 액막(도 19 참조)을 건조시켜, 제2 광학막(82)을 형성한다. 제2 광학막용 도포액(81)의 액막으로부터 용매가 제거되고, 액정 분자의 배향이 적절하게 유지된다. 제2 광학막(82)은, 예컨대 직선 편광막이다. As shown in FIG. 20, in the second optical film forming step S124, the liquid film (see FIG. 19) of the coating liquid 81 for the second optical film applied on the substrate 10 is dried, and the second optical film 82 ) to form The solvent is removed from the liquid film of the coating liquid for the second optical film 81, and the alignment of the liquid crystal molecules is properly maintained. The second optical film 82 is, for example, a linear polarizing film.

제2 광학막용 도포액(81)의 액막의 건조에는, 감압 건조, 자연 건조, 가열 건조, 바람 건조 등이 이용된다. 감압 건조는, 자연 건조보다 처리 시간을 단축할 수 있다. 또한, 감압 건조는, 가열 건조나 바람 건조에 비교하여, 액막의 대류를 억제할 수 있고, 액정 분자의 배향의 혼란을 억제할 수 있다. 감압 건조에서 용매가 잔류하고 있는 경우, 가열 건조가 더 행해져도 좋다. For drying the liquid film of the coating liquid 81 for the second optical film, vacuum drying, natural drying, heat drying, air drying, or the like is used. Drying under reduced pressure can shorten the treatment time compared to natural drying. In addition, compared to heat drying or air drying, reduced pressure drying can suppress convection of the liquid film and suppress disorder in the alignment of liquid crystal molecules. When the solvent remains in the drying under reduced pressure, heat drying may be further performed.

도 21에 나타낸 바와 같이, 제2 광학막 형성 공정 S124에서는, 제2 광학막(82)의 일부(83)만을 제2 광학막 패터닝 공정 S126에서 이용되는 세정액에 대하여 불용화해도 좋다. 이 일부 불용화는, 필요에 따라서 행해진다. As shown in FIG. 21 , in the second optical film forming step S124, only a part 83 of the second optical film 82 may be insolubilized with respect to the cleaning liquid used in the second optical film patterning step S126. This partial insolubilization is performed as needed.

또한, 제2 광학막 패터닝 공정 S126에서 이용되는 세정액으로는, 제2 광학막용 도포액(81)의 용매와 동일한 것이 이용되어도 좋으며, 예컨대 물이 이용되어도 좋다. 이 경우, 물에 대한 불용화가 행해진다. In addition, as the cleaning liquid used in the second optical film patterning step S126, the same solvent as that of the coating liquid 81 for the second optical film may be used, for example, water may be used. In this case, insolubilization to water is performed.

제2 광학막(82)의 일부(83)를 불용화하는 정착액(120)은, 예컨대 잉크젯 방식의 도포 노즐(121)로부터 토출된다. 도포 노즐(121)은, 하면에 정착액(120)의 액적을 토출하는 토출 노즐을 복수 개 가진다. The fixer 120 that insolubilizes the part 83 of the second optical film 82 is ejected from the application nozzle 121 of the inkjet method, for example. The application nozzle 121 has a plurality of discharge nozzles for discharging droplets of the fixer 120 on the lower surface.

도포 노즐(121)과 기판(10)을 상대적으로 이동시키면서, 도포 노즐(121)로부터 정착액(120)의 액적을 토출함으로써, 제2 광학막(82)의 일부(83)에 정착액(120)을 선택적으로 도포한다. 이것에 의해, 제2 광학막(82)의 일부(83)가 불용화된다. While moving the coating nozzle 121 and the substrate 10 relatively, liquid droplets of the fixer 120 are discharged from the coating nozzle 121 to apply the fixer 120 to the part 83 of the second optical film 82. applied selectively. As a result, a part 83 of the second optical film 82 is insolubilized.

정착액(120)은, 예컨대, 제2 광학막(82)의 말단의 작용기(예컨대 OH기 등의 수용성의 작용기)를 별도의 작용기로 치환함으로써, 제2 광학막(82)의 일부(83)를 불용화한다. 또한, 정착액(120)은, 축합 반응(예컨대 OH기 등의 탈수 축합 반응)에 의해 고분자화시킴으로써, 제2 광학막(82)의 일부(83)를 불용화해도 좋다. 후자의 경우, 전자의 경우에 비교하여, 고분자화가 진행되기 때문에 불용화가 진행되기 쉽다. The fixer 120 fixes a part 83 of the second optical film 82 by substituting a functional group at the end of the second optical film 82 (eg, a water-soluble functional group such as an OH group) with another functional group. make it insoluble Further, the fixer 120 may insolubilize a part 83 of the second optical film 82 by polymerizing the fixer 120 through a condensation reaction (for example, a dehydration condensation reaction of OH groups). In the case of the latter, compared to the case of the former, since polymerization proceeds, insolubilization tends to proceed.

정착액(120)은, 제2 광학막(82)의 일부(83)를 불용화한 후 제거된다. 정착액(120)은, 물을 포함해도 좋고 유기 용매를 포함해도 좋다. The fixer 120 is removed after insolubilizing a part 83 of the second optical film 82 . The fixer 120 may contain water or an organic solvent.

정착액(120)이 도포되는 영역은, 예컨대 화소 영역이어도 좋다. The area where the fixer 120 is applied may be, for example, a pixel area.

또한, 본 실시형태에서는, 제2 광학막(82)의 일부(83)에만 정착액(120)을 도포하기 위해, 잉크젯 방식의 도포 노즐(121)을 이용하지만, 본 발명은 이것에 한정되지 않는다. 예컨대, 제2 광학막(82)의 잔부만을 마스크로 덮고, 그 후, 기판(10) 전체를 정착액(120)에 침지함으로써, 제2 광학막(82)의 일부(83)에만 정착액을 도포해도 좋다. In addition, in this embodiment, the inkjet type application nozzle 121 is used to apply the fixer 120 only to a part 83 of the second optical film 82, but the present invention is not limited to this. For example, even if the fixer is applied only to a part 83 of the second optical film 82 by covering only the remainder of the second optical film 82 with a mask and then immersing the entire substrate 10 in the fixer 120. good night.

<제1 실시형태의 보호막 형성 공정> <Protective film forming step of the first embodiment>

도 12의 보호막 형성 공정 S125에서는, 도 22∼도 23에 나타낸 바와 같이, 제2 광학막용 도포액(81)과는 상이한 보호막용 도포액(91)을 제2 광학막(82) 상에 도포하여 건조시킴으로써 보호막(92)을 형성한다. In the protective film formation step S125 of FIG. 12, as shown in FIGS. 22 to 23, a coating liquid 91 for a protective film different from the coating liquid 81 for a second optical film is applied on the second optical film 82, By drying, the protective film 92 is formed.

도 22는, 제1 실시형태에 의한 제2 광학막 상에 도포된 보호막용 도포액의 액막을 나타내는 측면도이다. 도 23은, 제1 실시형태에 의한 보호막용 도포액의 액막의 건조에 의해 형성된 보호막을 나타내는 측면도이다. 22 is a side view showing a liquid film of a coating liquid for a protective film applied on the second optical film according to the first embodiment. 23 is a side view showing a protective film formed by drying the liquid film of the coating liquid for a protective film according to the first embodiment.

도 22에 나타낸 바와 같이, 보호막 형성 공정 S125에서는, 제2 광학막(82)이 형성된 기판(10) 상에 도포 노즐(90)로부터 보호막용 도포액(91)을 도포한다. 도포 노즐(90)은, 잉크젯 방식이어도 좋으며, 하면에 보호막용 도포액(91)의 액적을 토출하는 토출 노즐을 복수 개 가진다. As shown in FIG. 22, in protective film formation process S125, the coating liquid 91 for protective films is applied from the application nozzle 90 on the board|substrate 10 on which the 2nd optical film 82 was formed. The coating nozzle 90 may be of an inkjet method, and has a plurality of discharge nozzles for discharging droplets of the coating liquid 91 for a protective film on the lower surface.

도포 노즐(90)과 기판(10)을 상대적으로 이동시키면서, 도포 노즐(90)로부터 보호막용 도포액(91)의 액적을 토출함으로써, 제2 광학막(82)의 일부(83)에 보호막용 도포액(91)을 선택적으로 도포한다. While the coating nozzle 90 and the substrate 10 are relatively moved, droplets of the coating liquid 91 for a protective film are discharged from the coating nozzle 90, so that a part 83 of the second optical film 82 is used for a protective film. The coating liquid 91 is selectively applied.

보호막용 도포액(91)은 제2 광학막(82) 상에 도포된다. 그 때문에, 제2 광학막(82)을 형성하는 액정 분자는, 보호막용 도포액(91)의 용매에 대하여 불용성을 가져도 좋다. 보호막용 도포액(91)의 도포에 의해 제2 광학막(82)이 녹는 것을 방지할 수 있다. The coating liquid 91 for the protective film is applied on the second optical film 82 . Therefore, the liquid crystal molecules forming the second optical film 82 may have insolubility with respect to the solvent of the coating liquid 91 for a protective film. It is possible to prevent the second optical film 82 from melting by application of the coating liquid 91 for a protective film.

보호막용 도포액(91)은, 보호막(92)을 형성하는 유기 재료와, 그 유기 재료를 녹이는 용매를 포함한다. 보호막(92)을 형성하는 유기 재료는, 제2 광학막 패터닝 공정 S126에서 이용되는 세정액에 대하여 불용성의 고분자 등을 포함한다. The coating liquid 91 for a protective film contains the organic material which forms the protective film 92, and the solvent which dissolves the organic material. The organic material forming the protective film 92 includes a polymer or the like that is insoluble in the cleaning liquid used in the second optical film patterning step S126.

보호막용 도포액(91)으로는, 예컨대, 열경화형의 투명 도료, 화학 반응형의 투명 도료, 건조 경화형의 투명 도료 등이 이용된다. 구체적으로는, 유성 에나멜 도료, 프탈산 수지 도료 등이 이용된다. As the coating liquid 91 for a protective film, a thermosetting transparent paint, a chemical reaction transparent paint, a dry curing transparent paint, etc. are used, for example. Specifically, oil-based enamel paints, phthalic acid resin paints, and the like are used.

열경화형의 투명 도료, 화학 반응형의 투명 도료, 건조 경화형의 투명 도료 등은, 열경화나 화학 반응 또는 건조 경화에 의해 고분자화되기 때문에, 치밀한 보호막(92)을 형성할 수 있다. 따라서, 보호막(92)의 제2 광학막 패터닝 공정 S126에서 이용되는 세정액에 대한 불용성을 향상시킬 수 있다. Thermosetting transparent paint, chemical reaction transparent paint, dry curing transparent paint, etc. are polymerized by thermal curing, chemical reaction, or dry curing, so that a dense protective film 92 can be formed. Accordingly, the insolubility of the protective film 92 in the cleaning liquid used in the second optical film patterning process S126 may be improved.

보호막용 도포액(91)은, 정착액(120)과 동일한 기능을 가져도 좋다. 제2 광학막(82)의 일부 불용화를 촉진할 수 있다. 또한, 보호막용 도포액(91)에 의해 제2 광학막(82)의 일부 불용화를 행하는 경우, 상기 제2 광학막 형성 공정 S124에서 제2 광학막(82)의 일부 불용화를 행하지 않아도 좋다. The protective film coating liquid 91 may have the same function as the fixer 120 . Partial insolubilization of the second optical film 82 may be promoted. In addition, when partially insolubilizing the 2nd optical film 82 with the coating liquid 91 for protective films, it is not necessary to partially insolubilize the 2nd optical film 82 in the said 2nd optical film formation process S124. .

예컨대, 보호막용 도포액(91)은, 제2 광학막(82)의 말단의 작용기(예컨대 OH기 등의 수용성의 작용기)를 별도의 작용기로 치환함으로써, 제2 광학막(82)의 일부(83)를 불용화해도 좋다. 또한, 보호막용 도포액(91)은, 축합 반응(예컨대 OH기 등의 탈수 축합 반응)에 의해 고분자화시킴으로써, 제2 광학막(82)의 일부(83)를 불용화해도 좋다. 후자의 경우, 전자의 경우에 비교하여, 고분자화가 진행되기 때문에 불용화가 진행되기 쉽다. For example, the coating liquid 91 for the protective film may be partially ( 83) may be insolubilized. In addition, the coating liquid 91 for protective films may make a part 83 of the 2nd optical film 82 insolubilize by making it polymerize by a condensation reaction (for example, dehydration condensation reaction of OH groups etc.). In the case of the latter, compared to the case of the former, since polymerization proceeds, insolubilization tends to proceed.

보호막용 도포액(91)이 도포되는 영역은, 정착액(120)이 도포되는 영역과 일치해도 좋다. 예컨대, 보호막용 도포액(91)이 도포되는 영역은, 기판(10) 상의 화소 영역이어도 좋다. The area where the protective film coating liquid 91 is applied may coincide with the area where the fixer 120 is applied. For example, the area where the coating liquid 91 for a protective film is applied may be a pixel area on the substrate 10 .

도 23에 나타낸 바와 같이, 보호막 형성 공정 S125에서는, 기판(10) 상에 도포된 보호막용 도포액(91)의 액막(도 22 참조)을 건조시켜, 보호막(92)을 형성한다. 보호막용 도포액(91)의 액막으로부터 용매가 제거되고, 보호막(92)이 형성된다. As shown in Fig. 23, in the protective film forming step S125, the liquid film (see Fig. 22) of the coating liquid 91 for a protective film applied on the substrate 10 is dried to form the protective film 92. The solvent is removed from the liquid film of the coating liquid 91 for a protective film, and the protective film 92 is formed.

보호막용 도포액(91)의 액막의 건조에는, 감압 건조, 자연 건조, 가열 건조, 바람 건조 등이 이용된다. 감압 건조는, 자연 건조보다 처리 시간을 단축할 수 있다. 감압 건조에서 용매가 잔류하고 있는 경우, 가열 건조가 더 행해져도 좋다. For drying the liquid film of the coating liquid 91 for a protective film, vacuum drying, natural drying, heat drying, air drying, or the like is used. Drying under reduced pressure can shorten the treatment time compared to natural drying. When the solvent remains in the drying under reduced pressure, heat drying may be further performed.

보호막(92)은, 제2 광학막 패터닝 공정 S126에서 이용되는 세정액에 대하여 불용성을 가진다. 보호막(92)은, 제2 광학막(82)과는 달리 등방적인 광학 특성을 가진다. 보호막(92)의 가시광 투과율은 95% 이상인 것이 바람직하다. 또한, 보호막(92)의 막두께는 10 ㎛ 이하인 것이 바람직하다. 또한, 보호막(92)의 잔류 응력은, 광학 부재의 변형을 억제하기 위해, 작을수록 바람직하다. The protective film 92 is insoluble in the cleaning liquid used in the second optical film patterning step S126. Unlike the second optical film 82, the protective film 92 has isotropic optical characteristics. The visible light transmittance of the protective film 92 is preferably 95% or more. In addition, it is preferable that the film thickness of the protective film 92 is 10 micrometers or less. In addition, the residual stress of the protective film 92 is preferably as small as possible in order to suppress deformation of the optical member.

보호막(92)은, 제2 광학막(82)의 일부(83)의 주표면을 덮는다. 보호막(92)은, 제2 광학막(82)의 일부(83)에 손상이나 이물질 등이 생기지 않도록, 제2 광학막(82)의 일부(83)를 보호하는 역할도 한다. 중간막(72)의 연필 경도는 2H 이상인 것이 바람직하다. The protective film 92 covers the main surface of a part 83 of the second optical film 82 . The protective film 92 also serves to protect the part 83 of the second optical film 82 so that damage or foreign matter does not occur on the part 83 of the second optical film 82 . It is preferable that the pencil hardness of the intermediate film 72 is 2H or more.

또한, 제2 광학막(82)의 잔부는, 제2 광학막 패터닝 공정 S126에서 제거되기 때문에, 손상이나 이물질이 생기는 것은 문제가 되지 않는다. 또한, 보호막(92)에 생긴 이물질은 세정으로 제거할 수 있고, 그 세정에 의해 제2 광학막(82)의 일부(83)가 손상되지는 않는다. In addition, since the remainder of the second optical film 82 is removed in the second optical film patterning step S126, it is not a problem that damage or foreign matter is generated. In addition, foreign matter formed on the protective film 92 can be removed by cleaning, and a part 83 of the second optical film 82 is not damaged by the cleaning.

또한, 본 실시형태의 보호막(92)은, 보호막용 도포액(91)을 제2 광학막(82) 상에 도포하여 건조시킴으로써 형성하지만, 필름의 형태로 제2 광학막(82)에 접착되어도 좋다. In addition, although the protective film 92 of this embodiment is formed by applying the coating liquid 91 for a protective film onto the second optical film 82 and drying it, even if it is adhered to the second optical film 82 in the form of a film good night.

<제1 실시형태의 제2 광학막 패터닝 공정> <Second Optical Film Patterning Step of the First Embodiment>

도 12의 제2 광학막 패터닝 공정 S126에서는, 보호막 형성 공정 S125 이후에, 제2 광학막(82)의 일부(83)만을 덮는 보호막(92)(도 23 참조)을 마스크로서 이용하여, 도 24에 나타낸 바와 같이 제2 광학막(82)의 잔부를 제거한다. In the second optical film patterning step S126 of FIG. 12 , after the protective film forming step S125, the protective film 92 (see FIG. 23 ) covering only a part 83 of the second optical film 82 is used as a mask, and FIG. As shown in , the remainder of the second optical film 82 is removed.

도 24는, 제1 실시형태에 의한 보호막으로 덮이지 않은 부분이 제거된 제2 광학막을 나타내는 측면도이다. 제2 광학막 패터닝 공정 S126의 동안, 제2 광학막(82)의 일부(83)를 보호막(92)으로 보호할 수 있고, 제2 광학막(82)의 일부(83)의 형상 붕괴를 억제할 수 있다. 따라서, 광학 부재의 품질을 향상시킬 수 있다. Fig. 24 is a side view showing the second optical film in which the portion not covered with the protective film according to the first embodiment is removed. During the second optical film patterning step S126, the part 83 of the second optical film 82 can be protected with the protective film 92, and the shape collapse of the part 83 of the second optical film 82 is suppressed. can do. Therefore, the quality of the optical member can be improved.

예컨대, 제2 광학막 패터닝 공정 S126에서는, 제2 광학막(82)을 녹이는 세정액을 이용한다. 세정액은, 예컨대 스핀척으로 기판(10)을 회전시키면서 기판(10)에 공급된다. 기판(10)에 공급된 세정액은, 원심력에 의해 기판(10) 전체에 퍼지고, 기판(10)의 외주 가장자리로부터 털어낸다. For example, in the second optical film patterning step S126, a cleaning solution that dissolves the second optical film 82 is used. The cleaning liquid is supplied to the substrate 10 while rotating the substrate 10 with, for example, a spin chuck. The cleaning liquid supplied to the substrate 10 spreads over the entire substrate 10 by centrifugal force and is brushed off from the outer periphery of the substrate 10 .

제2 광학막(82)의 일부(83)는 보호막(92)으로 덮여 있기 때문에, 세정액과 접촉하지 않고, 세정액에 의해 형상 붕괴가 일어나지 않는다. 한편, 제2 광학막(82)의 잔부는 세정액과 접촉하기 때문에, 세정액에 의해 녹아서 제거된다. Since the part 83 of the second optical film 82 is covered with the protective film 92, it does not come into contact with the cleaning liquid and the cleaning liquid does not cause shape collapse. On the other hand, since the remainder of the second optical film 82 comes into contact with the cleaning liquid, it is melted and removed by the cleaning liquid.

또한, 세정액은 세정조에 저류되고, 세정조의 세정액에 기판(10)을 침지함으로써, 제2 광학막(82)의 일부(83)를 남기면서, 제2 광학막(82)의 잔부를 녹여 제거해도 좋다. 세정조의 세정액은, 교반 날개 등으로 교반되어도 좋다. In addition, the cleaning liquid is stored in the cleaning tank, and by immersing the substrate 10 in the cleaning liquid of the cleaning tank, the remainder of the second optical film 82 may be melted and removed while leaving a part 83 of the second optical film 82. good night. The washing liquid in the washing tank may be stirred with a stirring blade or the like.

제2 광학막(82)의 일부(83)가 확실하게 남도록, 상기 제2 광학막 형성 공정 S124나 상기 보호막 형성 공정 S125에서, 제2 광학막(82)의 일부(83)를 세정액에 대하여 불용화하는 것은 유효하다. 세정액이 들어가는 것에 의해 과잉으로 제거되는 것을 방지할 수 있어, 제2 광학막(82)의 일부(83)를 확실하게 남길 수 있다. In the second optical film forming step S124 or the protective film forming step S125, the part 83 of the second optical film 82 is insoluble in the cleaning liquid so that the part 83 of the second optical film 82 remains reliably. Anger is valid. Excessive removal can be prevented by the entry of the cleaning liquid, and a part 83 of the second optical film 82 can be reliably left.

또한, 보호막(92)은 세정액에 대한 불용성을 갖기 때문에, 상기 제2 광학막 형성 공정 S124나 상기 보호막 형성 공정 S125에서, 제2 광학막(82)의 일부 불용화를 행하지 않더라도, 제2 광학막(82)의 패터닝은 가능하다. 이 경우, 공정수를 삭감할 수 있다. In addition, since the protective film 92 is insoluble in the cleaning liquid, even if the second optical film 82 is not partially insolubilized in the second optical film forming step S124 or the protective film forming step S125, the second optical film 92 is insoluble. Patterning of (82) is possible. In this case, the number of steps can be reduced.

상기 제2 광학막 형성 공정 S124에서는, 전단 응력을 가하면서 제2 광학막용 도포액(81)을 도포하기 때문에, 화소 영역에만 제2 광학막용 도포액(81)을 도포하는 것은 어렵다. 따라서, 제2 광학막 패터닝 공정 S126을 행하는 것은 유효하다. In the second optical film forming step S124, since the coating liquid 81 for the second optical film is applied while applying shear stress, it is difficult to apply the coating liquid 81 for the second optical film only to the pixel region. Therefore, it is effective to perform the second optical film patterning step S126.

또한, 본 실시형태에서는 세정액을 이용하여 제2 광학막(82)의 잔부를 제거하지만, 제2 광학막(82)의 잔부의 제거 방법은 특별히 한정되지 않는다. 예컨대, 에칭법이 이용되어도 좋다. 에칭은, 웨트 에칭, 드라이 에칭의 어느 것이어도 좋다. Further, in this embodiment, the remaining portion of the second optical film 82 is removed using a cleaning liquid, but the method for removing the remaining portion of the second optical film 82 is not particularly limited. For example, an etching method may be used. Etching may be either wet etching or dry etching.

이하, 제2 광학막 패터닝 공정 S126에서 남는 제2 광학막(82)의 일부(83)를 「제2 광학막(83)」이라고도 칭한다. Hereinafter, a part 83 of the second optical film 82 remaining in the second optical film patterning step S126 is also referred to as "the second optical film 83".

본 실시형태에 의하면, 도 24에 나타낸 바와 같이, 제1 광학막(63), 중간막(72), 제2 광학막(83) 및 보호막(92)으로 구성되는 광학 부재(50)가, 기판(10) 상에 간격을 두고 복수 개 형성된다. 따라서, 광학 부재(50)의 다면취가 가능하고, 유기 EL 디스플레이(1)의 다면취가 가능하다. 또한, 광학 부재(50)는 화소 영역에 선택적으로 형성되기 때문에, 화소 영역의 주위에 설치된 단자가 적절하게 기능할 수 있다. According to this embodiment, as shown in FIG. 24, the optical member 50 composed of the first optical film 63, the intermediate film 72, the second optical film 83 and the protective film 92 is a substrate ( 10) A plurality of layers are formed at intervals on the top. Therefore, the optical member 50 can be multi-faceted, and the organic EL display 1 can be multi-faceted. Further, since the optical member 50 is selectively formed in the pixel area, terminals provided around the pixel area can function appropriately.

<제1 실시형태의 광학 부재 형성 공정의 정리> <Summary of optical member formation process of 1st Embodiment>

이상 설명한 바와 같이, 본 실시형태에 의하면, 제1 광학막 형성 공정 S121과, 중간막 형성 공정 S122와, 제2 광학막 형성 공정 S124가 이 순으로 행해진다. 제1 광학막(63)과 제2 광학막(83) 사이에 중간막(72)이 형성된다. 중간막(72)은, 제1 광학막(63)에 손상이나 이물질 등이 생기지 않도록, 제1 광학막(63)을 보호할 수 있다. 따라서, 광학 부재(50)의 품질을 향상시킬 수 있다. 광학 부재(50)의 제조가 도중에 일시적으로 중단되어 재개까지 시간이 걸리는 경우, 손상이나 이물질이 생길 리스크가 높기 때문에 특히 유효하다. As explained above, according to this embodiment, 1st optical film formation process S121, intermediate film formation process S122, and 2nd optical film formation process S124 are performed in this order. An intermediate film 72 is formed between the first optical film 63 and the second optical film 83 . The intermediate film 72 can protect the first optical film 63 so that damage or foreign substances do not occur in the first optical film 63 . Therefore, the quality of the optical member 50 can be improved. This is especially effective when the production of the optical member 50 is temporarily stopped midway and it takes time to resume, since there is a high risk of damage or foreign matter.

본 실시형태에 의하면, 중간막 형성 공정 S122 이후이자 제2 광학막 형성 공정 S124 이전에, 제1 광학막(62)의 일부(63)만을 덮는 중간막(72)을 마스크로서 이용하여, 제1 광학막(62)의 잔부를 제거하는 제1 광학막 패터닝 공정 S123이 행해진다. 제1 광학막 패터닝 공정 S123의 동안, 제1 광학막(62)의 일부(63)를 중간막(72)으로 보호할 수 있고, 제1 광학막(62)의 일부(63)의 형상 붕괴를 억제할 수 있다. 따라서, 광학 부재(50)의 품질을 향상시킬 수 있다. According to the present embodiment, after the intermediate film forming step S122 and before the second optical film forming step S124, the intermediate film 72 covering only a part 63 of the first optical film 62 is used as a mask, and the first optical film 1st optical film patterning process S123 which removes the remainder of (62) is performed. During the first optical film patterning step S123, the part 63 of the first optical film 62 can be protected with the intermediate film 72, and the shape collapse of the part 63 of the first optical film 62 can be suppressed. can do. Therefore, the quality of the optical member 50 can be improved.

본 실시형태에 의하면, 제1 광학막 패터닝 공정 S123에서는, 제1 광학막(62)을 녹이는 세정액을 이용한다. 제1 광학막(62)의 일부(63)는 중간막(72)으로 덮여 있기 때문에, 세정액과 접촉하지 않고, 세정액에 의해 형상 붕괴가 일어나지 않는다. 한편, 제1 광학막(62)의 잔부는 세정액과 접촉하기 때문에, 세정액에 의해 녹아서 제거된다. According to this embodiment, in the 1st optical film patterning process S123, the cleaning liquid which melt|dissolves the 1st optical film 62 is used. Since the part 63 of the first optical film 62 is covered with the intermediate film 72, it does not come into contact with the cleaning liquid and the cleaning liquid does not cause shape collapse. On the other hand, since the remainder of the first optical film 62 comes into contact with the cleaning liquid, it is melted and removed by the cleaning liquid.

본 실시형태에 의하면, 제1 광학막 형성 공정 S121에서는, 제1 광학막(62)의 일부(63)만을 제1 광학막 패터닝 공정 S123에서 이용되는 세정액에 대하여 불용화한다. 따라서, 제1 광학막 패터닝 공정 S123에서, 세정액이 들어가는 것에 의해 과잉으로 제거되는 것을 방지할 수 있어, 제1 광학막(62)의 일부(63)를 확실하게 남길 수 있다. According to the present embodiment, in the first optical film forming step S121, only a part 63 of the first optical film 62 is insolubilized with respect to the cleaning liquid used in the first optical film patterning step S123. Therefore, in the first optical film patterning step S123, it is possible to prevent excessive removal of the cleaning liquid by entering, and a part 63 of the first optical film 62 can be left without fail.

본 실시형태에 의하면, 중간막 형성 공정 S122에서는, 제1 광학막(62)의 일부(63)에만 중간막용 도포액(71)을 도포함으로써, 제1 광학막(62)의 일부(63)만을 제1 광학막 패터닝 공정 S123에서 이용되는 세정액에 대하여 불용화한다. 따라서, 제1 광학막 패터닝 공정 S123에서, 세정액이 들어가는 것에 의해 과잉으로 제거되는 것을 방지할 수 있어, 제1 광학막(62)의 일부(63)를 확실하게 남길 수 있다. According to this embodiment, in the intermediate film forming step S122, only a part 63 of the first optical film 62 is removed by applying the coating liquid 71 for an intermediate film only to a part 63 of the first optical film 62. It is insolubilized with respect to the washing|cleaning liquid used in 1st optical film patterning process S123. Therefore, in the first optical film patterning step S123, it is possible to prevent excessive removal of the cleaning liquid by entering, and a part 63 of the first optical film 62 can be left without fail.

본 실시형태에 의하면, 제2 광학막(83)을 보호하는 보호막(92)을 형성하는 보호막 형성 공정 S125가 행해진다. 보호막(92)은, 광학 부재(50)의 제조후에, 제2 광학막(83)에 손상이나 이물질 등이 생기지 않도록, 제2 광학막(83)을 보호할 수 있다. 따라서, 광학 부재(50)의 품질을 향상시킬 수 있다. According to this embodiment, the protective film formation process S125 of forming the protective film 92 which protects the 2nd optical film 83 is performed. The protective film 92 can protect the second optical film 83 so that damage or foreign matter does not occur in the second optical film 83 after the optical member 50 is manufactured. Therefore, the quality of the optical member 50 can be improved.

본 실시형태에 의하면, 보호막 형성 공정 S125 이후이자, 제2 광학막(82)의 일부(83)만을 덮는 보호막(92)을 마스크로서 이용하여, 제2 광학막(82)의 잔부를 제거하는 제2 광학막 패터닝 공정 S126이 행해진다. 제2 광학막 패터닝 공정 S126의 동안, 제2 광학막(82)의 일부(83)를 보호막(92)으로 보호할 수 있고, 제2 광학막(82)의 일부(83)의 형상 붕괴를 억제할 수 있다. 따라서, 광학 부재(50)의 품질을 향상시킬 수 있다. According to the present embodiment, after the protective film forming step S125, the protective film 92 covering only a part 83 of the second optical film 82 is used as a mask to remove the remainder of the second optical film 82. 2 Optical film patterning process S126 is performed. During the second optical film patterning step S126, the part 83 of the second optical film 82 can be protected with the protective film 92, and the shape collapse of the part 83 of the second optical film 82 is suppressed. can do. Therefore, the quality of the optical member 50 can be improved.

본 실시형태에 의하면, 제2 광학막 패터닝 공정 S126에서는, 제2 광학막(82)을 녹이는 세정액을 이용한다. 제2 광학막(82)의 일부(83)는 보호막(92)으로 덮여 있기 때문에, 세정액과 접촉하지 않고, 세정액에 의해 형상 붕괴가 일어나지 않는다. 한편, 제2 광학막(82)의 잔부는 세정액과 접촉하기 때문에, 세정액에 의해 녹아서 제거된다. According to this embodiment, in the second optical film patterning step S126, a cleaning solution that dissolves the second optical film 82 is used. Since the part 83 of the second optical film 82 is covered with the protective film 92, it does not come into contact with the cleaning liquid and the cleaning liquid does not cause shape collapse. On the other hand, since the remainder of the second optical film 82 comes into contact with the cleaning liquid, it is melted and removed by the cleaning liquid.

본 실시형태에 의하면, 제2 광학막 형성 공정 S124에서는, 제2 광학막(82)의 일부(83)만을 제2 광학막 패터닝 공정 S126에서 이용되는 세정액에 대하여 불용화한다. 따라서, 제2 광학막 패터닝 공정 S126에서, 세정액이 들어가는 것에 의해 과잉으로 제거되는 것을 방지할 수 있어, 제2 광학막(82)의 일부(83)를 확실하게 남길 수 있다. According to the present embodiment, in the second optical film forming step S124, only a part 83 of the second optical film 82 is insolubilized with respect to the cleaning liquid used in the second optical film patterning step S126. Therefore, in the second optical film patterning step S126, it is possible to prevent the cleaning solution from being excessively removed by entering, and a part 83 of the second optical film 82 can be left without fail.

본 실시형태에 의하면, 보호막 형성 공정 S125에서는, 제2 광학막(82)의 일부(83)에만 보호막용 도포액(91)을 도포함으로써, 제2 광학막(82)의 일부(83)만을 제2 광학막 패터닝 공정 S126에서 이용되는 세정액에 대하여 불용화한다. 따라서, 제2 광학막 패터닝 공정 S126에서, 세정액이 들어가는 것에 의해 과잉으로 제거되는 것을 방지할 수 있어, 제2 광학막(82)의 일부(83)를 확실하게 남길 수 있다. According to the present embodiment, in the protective film forming step S125, only a part 83 of the second optical film 82 is removed by applying the coating liquid 91 for a protective film only to a part 83 of the second optical film 82. 2 It is insolubilized with respect to the washing|cleaning liquid used in optical film patterning process S126. Therefore, in the second optical film patterning step S126, it is possible to prevent the cleaning solution from being excessively removed by entering, and a part 83 of the second optical film 82 can be left without fail.

<제2 실시형태의 광학 부재 형성 공정> <Optical member forming step of the second embodiment>

상기 제1 실시형태에서는 중간막 형성 공정 S122 이후에 제1 광학막 패터닝 공정 S123이 행해지는 것 비해, 본 실시형태에서는 제1 광학막 패터닝 공정 S123 이후에 중간막 형성 공정 S122가 행해지는 점에서 상이하다. In the first embodiment, the first optical film patterning step S123 is performed after the intermediate film forming step S122, but in the present embodiment, the intermediate film forming step S122 is performed after the first optical film patterning step S123. It is different in that.

그 때문에, 본 실시형태의 중간막(72)은, 상기 제1 실시형태와 달리, 제1 광학막(62)의 일부(63)를 남기고 제1 광학막(62)의 잔부를 제거하기 위한 마스크의 역할을 하지 않는다. 본 실시형태의 중간막(72)은, 제1 광학막(62)의 일부(63)에 손상이나 이물질 등이 생기지 않도록 제1 광학막(62)의 일부(63)를 보호하는 역할을 한다. Therefore, unlike the first embodiment, the intermediate film 72 of the present embodiment is a mask for removing the remainder of the first optical film 62 while leaving a part 63 of the first optical film 62. does not play a role The intermediate film 72 of the present embodiment serves to protect the part 63 of the first optical film 62 so that damage or foreign matter does not occur on the part 63 of the first optical film 62 .

또한, 상기 제1 실시형태에서는 보호막 형성 공정 S125 이후에 제2 광학막 패터닝 공정 S126이 행해지는 데 비해, 본 실시형태에서는 제2 광학막 패터닝 공정 S126 이후에 보호막 형성 공정 S125가 행해지는 점에서 상이하다. In addition, while the second optical film patterning process S126 is performed after the protective film forming process S125 in the first embodiment, the present embodiment differs in that the protective film forming process S125 is performed after the second optical film patterning process S126. do.

그 때문에, 본 실시형태의 보호막(92)은, 상기 제1 실시형태와 달리, 제2 광학막(82)의 일부(83)를 남기고 제2 광학막(82)의 잔부를 제거하기 위한 마스크의 역할을 하지 않는다. 본 실시형태의 보호막(92)은, 제2 광학막(82)의 일부(83)에 손상이나 이물질이 생기지 않도록 제2 광학막(82)의 일부(83)를 보호하는 역할을 한다. Therefore, unlike the first embodiment, the protective film 92 of the present embodiment is a mask for removing the remainder of the second optical film 82 while leaving a part 83 of the second optical film 82. does not play a role The protective film 92 of this embodiment serves to protect the part 83 of the second optical film 82 so that damage or foreign matter does not occur in the part 83 of the second optical film 82 .

이하, 도 25 등을 참조하여 상이점에 관해 주로 설명한다. 도 25는, 제2 실시형태에 의한 광학 부재 형성 공정을 나타내는 플로우차트이다. 도 25에 나타낸 바와 같이, 광학 부재 형성 공정 S120은, 제1 광학막 형성 공정 S121과, 제1 광학막 패터닝 공정 S123과, 중간막 형성 공정 S122와, 제2 광학막 형성 공정 S124와, 제2 광학막 패터닝 공정 S126과, 보호막 형성 공정 S125를 이 순으로 가진다. Hereinafter, the differences will be mainly described with reference to FIG. 25 and the like. 25 is a flowchart showing the optical member forming process according to the second embodiment. 25 , the optical member forming step S120 includes the first optical film forming step S121, the first optical film patterning step S123, the intermediate film forming step S122, the second optical film forming step S124, and the second optical film forming step S124. A film patterning step S126 and a protective film forming step S125 are performed in this order.

또한, 도 25에 나타내는 모든 공정이 행해지지 않아도 좋다. 예컨대 자세하게는 후술하지만, 제1 광학막 패터닝 공정 S123이나 제2 광학막 패터닝 공정 S126은, 광학 부재(50)를 기판(10) 상에 간격을 두고 복수 개 형성하는 경우에는 유효하지만, 광학 부재(50)를 기판(10) 상에 하나만 형성하는 경우에는 생략해도 좋다. 후술하는 일부 불용화의 처리에 관해 동일하다. In addition, all the steps shown in FIG. 25 may not be performed. For example, as described later in detail, the first optical film patterning step S123 and the second optical film patterning step S126 are effective when forming a plurality of optical members 50 at intervals on the substrate 10, but the optical member ( 50) may be omitted when only one is formed on the substrate 10. The same applies to the treatment of partial insolubilization described later.

또한, 도 25에 나타내는 공정 이외의 공정이 행해져도 좋다. 예컨대, 제1 광학막 형성 공정 S121 이전에, 기판에 대한 제1 광학막의 밀착성을 개선하기 위해, 기판의 제1 광학막이 형성되는 면을 표면 개질하는 공정이 행해져도 좋다. 표면 개질막으로서, 실란커플링제 등의 유기막, 또는 질화규소 등의 무기막이 형성되어도 좋다. Further, steps other than the steps shown in FIG. 25 may be performed. For example, before the first optical film forming step S121, a process of surface-reforming the surface of the substrate on which the first optical film is formed may be performed in order to improve the adhesion of the first optical film to the substrate. As the surface modification film, an organic film such as a silane coupling agent or an inorganic film such as silicon nitride may be formed.

또한, 도 25에 나타내는 제1 광학막 형성 공정 S121, 제1 광학막 패터닝 공정 S123 및 중간막 형성 공정 S122, 및 도 12에 나타내는 제2 광학막 형성 공정 S124, 보호막 형성 공정 S125 및 제2 광학막 패터닝 공정 S126이, 이 순으로 행해져도 좋다. In addition, 1st optical film formation process S121 shown in FIG. 25, 1st optical film patterning process S123, and intermediate film formation process S122, and 2nd optical film formation process S124 shown in FIG. 12, protective film formation process S125, and 2nd optical film patterning Step S126 may be performed in this order.

또한, 도 12에 나타내는 제1 광학막 형성 공정 S121, 중간막 형성 공정 S122 및 제1 광학막 패터닝 공정 S123, 및 도 25에 나타내는 제2 광학막 형성 공정 S124, 제2 광학막 패터닝 공정 S126 및 보호막 형성 공정 S125가, 이 순으로 행해져도 좋다. In addition, 1st optical film formation process S121 shown in FIG. 12, intermediate film formation process S122, and 1st optical film patterning process S123, and 2nd optical film formation process S124 shown in FIG. 25, 2nd optical film patterning process S126, and protective film formation Step S125 may be performed in this order.

<제2 실시형태의 제1 광학막 형성 공정> <First optical film forming step of the second embodiment>

도 25의 제1 광학막 형성 공정 S121에서는, 도 13∼도 14에 나타낸 바와 같이, 액정 분자와 용매를 포함하는 제1 광학막용 도포액(61)을 기판(10) 상에 도포하여 건조시킴으로써 제1 광학막(62)을 형성한다. 제1 광학막(62)은, 예컨대 1/4 파장막이다. In the first optical film forming step S121 of FIG. 25, as shown in FIGS. 13 and 14, the first optical film coating liquid 61 containing liquid crystal molecules and a solvent is coated on the substrate 10 and dried. 1 The optical film 62 is formed. The first optical film 62 is, for example, a 1/4 wavelength film.

본 실시형태의 제1 광학막 형성 공정 S121에서는, 도 15에 나타내는 제1 광학막(62)의 일부(63)를 불용화하는 처리는 행해지지 않는다. 이 처리는, 제1 광학막 패터닝 공정 S123에서 행해진다. In 1st optical film formation process S121 of this embodiment, the process which insolubilizes some 63 of the 1st optical film 62 shown in FIG. 15 is not performed. This process is performed in 1st optical film patterning process S123.

<제2 실시형태의 제1 광학막 패터닝 공정> <First Optical Film Patterning Step of Second Embodiment>

도 25의 제1 광학막 패터닝 공정 S123에서는, 제1 광학막 형성 공정 S121 이후이자 중간막 형성 공정 S122 이전에, 제1 광학막(62)의 일부(63)를 남기고 제1 광학막(62)의 잔부를 제거한다. In the first optical film patterning step S123 of FIG. 25 , after the first optical film forming step S121 and before the intermediate film forming step S122, a part 63 of the first optical film 62 is left and the first optical film 62 is formed. remove the remainder

예컨대, 제1 광학막 패터닝 공정 S123에서는, 도 15에 나타낸 바와 같이 제1 광학막(62)의 일부(63)만을 세정액에 대하여 불용화하고, 그 후, 도 26에 나타낸 바와 같이 제1 광학막(62)의 잔부를 세정액으로 녹인다. 도 26은, 제2 실시형태에 의한 불용화되지 않은 부분이 제거된 제1 광학막을 나타내는 측면도이다. For example, in the first optical film patterning step S123, as shown in FIG. 15, only a part 63 of the first optical film 62 is insolubilized in the cleaning liquid, and thereafter, as shown in FIG. 26, the first optical film The remainder of (62) is dissolved in a cleaning solution. Fig. 26 is a side view showing the first optical film from which the non-insolubilized portion is removed according to the second embodiment.

세정액은, 예컨대 스핀척으로 기판(10)을 회전시키면서 기판(10)에 공급된다. 기판(10)에 공급된 세정액은, 원심력에 의해 기판(10) 전체에 퍼지고, 기판(10)의 외주 가장자리로부터 털어낸다. The cleaning liquid is supplied to the substrate 10 while rotating the substrate 10 with, for example, a spin chuck. The cleaning liquid supplied to the substrate 10 spreads over the entire substrate 10 by centrifugal force and is brushed off from the outer periphery of the substrate 10 .

제1 광학막(62)의 일부(63)는, 세정액에 대하여 불용화되어 있기 때문에, 세정액에 의해 형상 붕괴가 일어나지 않는다. 한편, 제1 광학막(62)의 잔부는, 세정액에 대하여 불용화되어 있지 않기 때문에, 세정액에 의해 녹아서 제거된다. Since the part 63 of the first optical film 62 is insolubilized in the cleaning solution, shape collapse does not occur due to the cleaning solution. On the other hand, since the remainder of the first optical film 62 is not insolubilized in the washing liquid, it is dissolved and removed by the washing liquid.

또한, 세정액은 세정조에 저류되고, 세정조의 세정액에 기판(10)을 침지함으로써, 제1 광학막(62)의 일부(63)를 남기면서, 제1 광학막(62)의 잔부를 녹여 제거해도 좋다. 세정조의 세정액은, 교반 날개 등으로 교반되어도 좋다. In addition, the cleaning liquid is stored in the cleaning tank, and by immersing the substrate 10 in the cleaning liquid of the cleaning tank, the remainder of the first optical film 62 may be melted and removed while leaving a part 63 of the first optical film 62. good night. The washing liquid in the washing tank may be stirred with a stirring blade or the like.

도 26에 나타낸 바와 같이, 본 실시형태에서는, 중간막(72)(도 28 참조)이 형성되기 전에, 제1 광학막(62)의 일부(63)를 남기고 제1 광학막(62)의 잔부가 제거되어, 제1 광학막(62)이 패터닝된다. As shown in FIG. 26, in this embodiment, before the intermediate film 72 (see FIG. 28) is formed, the remainder of the first optical film 62 is left leaving a part 63 of the first optical film 62. Removed, the first optical film 62 is patterned.

상기 제1 광학막 형성 공정 S121에서는, 전단 응력을 가하면서 제1 광학막용 도포액(61)을 도포하기 때문에, 화소 영역에만 제1 광학막용 도포액(61)을 도포하는 것은 어렵다. 따라서, 제1 광학막 패터닝 공정 S123을 행하는 것은 유효하다. In the first optical film forming step S121, since the coating liquid 61 for the first optical film is applied while applying shear stress, it is difficult to apply the coating liquid 61 for the first optical film only to the pixel region. Therefore, it is effective to perform the first optical film patterning step S123.

이하, 제1 광학막 패터닝 공정 S123에서 남는 제1 광학막(62)의 일부(63)를 「제1 광학막(63)」이라고도 칭한다. Hereinafter, a part 63 of the first optical film 62 remaining in the first optical film patterning step S123 is also referred to as "the first optical film 63".

<제2 실시형태의 중간막 형성 공정> <Intermediate film formation step of the second embodiment>

도 25의 중간막 형성 공정 S122에서는, 도 27∼도 28에 나타낸 바와 같이, 제1 광학막용 도포액(61)과는 상이한 중간막용 도포액(71)을 제1 광학막(63) 상에 도포하여 건조시킴으로써 중간막(72)을 형성한다. In the intermediate film forming step S122 of FIG. 25, as shown in FIGS. 27 to 28, a coating liquid 71 for an intermediate film different from the coating liquid 61 for the first optical film is applied on the first optical film 63, An intermediate film 72 is formed by drying.

도 27은, 제2 실시형태에 의한 제1 광학막 상에 도포된 중간막용 도포액의 액막을 나타내는 도면이다. 도 28은, 제2 실시형태에 의한 중간막용 도포액의 액막의 건조에 의해 형성된 중간막을 나타내는 도면이다. 27 is a diagram showing a liquid film of a coating liquid for an intermediate film applied on the first optical film according to the second embodiment. 28 is a diagram showing an interlayer film formed by drying a liquid film of a coating liquid for an interlayer film according to the second embodiment.

도 27에 나타낸 바와 같이, 중간막 형성 공정 S122에서는, 제1 광학막(63)이 형성된 기판(10) 상에 도포 노즐(70)로부터 중간막용 도포액(71)을 도포한다. 도포 노즐(70)은, 잉크젯 방식이어도 좋으며, 하면에 중간막용 도포액(71)의 액적을 토출하는 토출 노즐을 복수 개 가진다. 27, in the intermediate film forming step S122, the coating liquid 71 for an intermediate film is applied from the application nozzle 70 onto the substrate 10 on which the first optical film 63 is formed. The coating nozzle 70 may be of an inkjet method, and has a plurality of discharge nozzles for discharging droplets of the coating liquid 71 for an interlayer film on the lower surface.

도포 노즐(70)과 기판(10)을 상대적으로 이동시키면서, 도포 노즐(70)로부터 중간막용 도포액(71)의 액적을 토출함으로써, 제1 광학막(63) 및 그 근방에만(예컨대 화소 영역 및 그 근방에만) 중간막용 도포액(71)을 선택적으로 도포한다. While the coating nozzle 70 and the substrate 10 are relatively moved, droplets of the coating liquid 71 for an intermediate film are discharged from the coating nozzle 70 only to the first optical film 63 and its vicinity (for example, the pixel area). and only in its vicinity) the coating liquid 71 for an interlayer film is selectively applied.

중간막용 도포액(71)은 제1 광학막(63) 상에 도포된다. 그 때문에, 제1 광학막(63)을 형성하는 액정 분자는, 중간막용 도포액(71)의 용매에 대하여 불용성을 가져도 좋다. 중간막용 도포액(71)의 도포에 의해 제1 광학막(63)이 녹는 것을 방지할 수 있다. The coating liquid 71 for an intermediate film is applied on the first optical film 63 . Therefore, the liquid crystal molecules forming the first optical film 63 may have insolubility with respect to the solvent of the coating liquid 71 for an interlayer film. Melting of the first optical film 63 can be prevented by application of the coating liquid 71 for an intermediate film.

중간막용 도포액(71)은, 중간막(72)을 형성하는 유기 재료와, 그 유기 재료를 녹이는 용매를 포함한다. 중간막(72)을 형성하는 유기 재료는, 중간막(72) 상에 도포되는 제2 광학막용 도포액(81)(도 29 참조)의 용매에 대하여 불용성의 고분자 등을 포함한다. The coating liquid 71 for an interlayer film contains an organic material forming the interlayer film 72 and a solvent dissolving the organic material. The organic material forming the intermediate film 72 includes a polymer or the like that is insoluble in the solvent of the second optical film coating liquid 81 (see FIG. 29 ) applied on the intermediate film 72 .

중간막용 도포액(71)으로는, 예컨대, 열경화형의 투명 도료, 화학 반응형의 투명 도료, 건조 경화형의 투명 도료 등이 이용된다. 구체적으로는, 유성 에나멜 도료, 프탈산 수지 도료 등이 이용된다. As the coating liquid 71 for an interlayer film, for example, a thermosetting type transparent paint, a chemical reaction type transparent paint, a dry curing type transparent paint or the like is used. Specifically, oil-based enamel paints, phthalic acid resin paints, and the like are used.

열경화형의 투명 도료, 화학 반응형의 투명 도료, 건조 경화형의 투명 도료 등은, 열경화나 화학 반응 또는 건조 경화에 의해 고분자화되기 때문에, 치밀한 중간막(72)을 형성할 수 있다. Since thermosetting transparent paint, chemical reaction transparent paint, dry curing transparent paint, etc. are polymerized by thermal curing, chemical reaction, or dry curing, a dense interlayer 72 can be formed.

중간막용 도포액(71)은, 도 27에 나타낸 바와 같이, 제1 광학막(63)의 주표면뿐만 아니라, 제1 광학막(63)의 단부면을 덮도록 도포되어도 좋다. 제1 광학막(63)의 주표면뿐만 아니라, 제1 광학막(63)의 단부면에 손상이나 이물질이 생기지 않도록, 제1 광학막(63)을 중간막(72)으로 보호할 수 있다. As shown in FIG. 27 , the coating liquid 71 for an intermediate film may be applied so as to cover not only the main surface of the first optical film 63 but also the end surface of the first optical film 63 . The first optical film 63 may be protected with the intermediate film 72 to prevent damage or foreign substances from occurring on the main surface of the first optical film 63 as well as the end surface of the first optical film 63 .

중간막용 도포액(71)이 도포되는 영역은, 기판(10) 상의 화소 영역 및 그 근방에 한정되어도 좋다. The area where the coating liquid 71 for an interlayer film is applied may be limited to the pixel area on the substrate 10 and its vicinity.

또한, 중간막용 도포액(71)이 도포되는 영역을 한정하기 위해, 기판(10) 상에 필름 등의 마스크를 접착해도 좋다. 이 마스크는, 나중에 박리될 때 제1 광학막(63)을 손상하지 않도록, 제1 광학막(63)과의 사이에 간극을 형성해도 좋다. In addition, a mask such as a film may be adhered on the substrate 10 in order to limit the area to which the coating liquid 71 for an interlayer film is applied. This mask may form a gap between the first optical film 63 and the first optical film 63 so as not to damage the first optical film 63 when peeling later.

도 28에 나타낸 바와 같이, 중간막 형성 공정 S122에서는, 기판(10) 상에 도포된 중간막용 도포액(71)의 액막(도 27 참조)을 건조시켜, 중간막(72)을 형성한다. 중간막용 도포액(71)의 액막으로부터 용매가 제거되고, 중간막(72)이 형성된다. As shown in Fig. 28, in the intermediate film forming step S122, the liquid film of the coating liquid 71 for an intermediate film applied on the substrate 10 (see Fig. 27) is dried to form the intermediate film 72. The solvent is removed from the liquid film of the coating liquid 71 for the interlayer film, and the interlayer film 72 is formed.

중간막(72)은, 제1 광학막(63)과는 달리 등방적인 광학 특성을 가진다. 중간막(72)의 가시광 투과율은 95% 이상인 것이 바람직하다. 또한, 중간막(72)의 막두께는 10 ㎛ 이하인 것이 바람직하다. 또한, 중간막(72)의 잔류 응력은, 광학 부재의 변형을 억제하기 위해, 작을수록 바람직하다. Unlike the first optical film 63, the intermediate film 72 has isotropic optical characteristics. The visible light transmittance of the intermediate film 72 is preferably 95% or more. Also, the film thickness of the intermediate film 72 is preferably 10 μm or less. In addition, the residual stress of the intermediate film 72 is preferably as small as possible in order to suppress deformation of the optical member.

중간막(72)은, 제1 광학막(63)의 주표면뿐만 아니라 제1 광학막(63)의 단부면을 덮는다. 중간막(72)은, 제1 광학막(63)에 손상이나 이물질 등이 생기지 않도록, 제1 광학막(63)을 보호하는 역할을 한다. 중간막(72)의 연필 경도는 2H 이상인 것이 바람직하다. 광학 부재의 제조가 도중에 일시적으로 중단되어 재개까지 시간이 걸리는 경우, 손상이나 이물질이 생길 리스크가 높기 때문에 특히 유효하다. The intermediate film 72 covers not only the main surface of the first optical film 63 but also the end surface of the first optical film 63 . The intermediate film 72 serves to protect the first optical film 63 so that damage or foreign substances do not occur on the first optical film 63 . It is preferable that the pencil hardness of the intermediate film 72 is 2H or more. This is particularly effective when the production of an optical member is temporarily stopped midway and it takes time to resume, since there is a high risk of damage or foreign matter.

중간막(72)은, 기판(10) 상의 화소 영역 및 그 근방에만 형성되며, 기판(10) 상에 간격을 두고 복수 개 형성된다. 또한, 화소 영역의 주변에 설치된 단자의 취출이 불필요한 경우, 기판(10)의 대략 전체에 중간막(72)이 형성되어도 좋다. 중간막(72) 상에 제2 광학막용 도포액(81)을 도포할 때에, 제2 광학막용 도포액(81)의 액정 분자의 배향 제어성이 좋다. The intermediate film 72 is formed only on and near the pixel region on the substrate 10, and is formed in plurality on the substrate 10 at intervals. Further, when it is unnecessary to take out terminals provided around the pixel area, the intermediate film 72 may be formed over substantially the entire substrate 10 . When applying the coating liquid 81 for a second optical film onto the intermediate film 72, the orientation controllability of the liquid crystal molecules of the coating liquid 81 for a second optical film is good.

<제2 실시형태의 제2 광학막 형성 공정> <Second Optical Film Forming Step of the Second Embodiment>

도 25의 제2 광학막 형성 공정 S124에서는, 도 29∼도 30에 나타낸 바와 같이, 액정 분자와 용매를 포함하는 제2 광학막용 도포액(81)을 중간막(72) 상에 도포하여 건조시킴으로써 제2 광학막(82)을 형성한다. 제2 광학막(82)은, 예컨대 직선 편광막이다. In the second optical film forming step S124 of FIG. 25, as shown in FIGS. 29 to 30, the second optical film coating liquid 81 containing liquid crystal molecules and a solvent is applied onto the intermediate film 72 and dried. 2 The optical film 82 is formed. The second optical film 82 is, for example, a linear polarizing film.

도 29는, 제2 실시형태에 의한 중간막 상에 도포된 제2 광학막용 도포액의 액막을 나타내는 측면도이다. 도 30은, 제2 실시형태에 의한 제2 광학막용 도포액의 액막의 건조에 의해 형성된 제2 광학막을 나타내는 측면도이다. Fig. 29 is a side view showing a liquid film of a coating liquid for the second optical film applied on the intermediate film according to the second embodiment. 30 is a side view showing a second optical film formed by drying a liquid film of a coating liquid for a second optical film according to a second embodiment.

도 29에 나타낸 바와 같이, 제2 광학막 형성 공정 S124에서는, 기판(10) 상에 도포 노즐(80)로부터 제2 광학막용 도포액(81)을 도포한다. 도포 노즐(80)은, 예컨대 하면에 슬릿형의 토출구를 갖는 슬릿 코터이다. As shown in FIG. 29, in 2nd optical film formation process S124, the coating liquid 81 for 2nd optical films is apply|coated from the application|coating nozzle 80 on the board|substrate 10. The coating nozzle 80 is, for example, a slit coater having a slit-shaped discharge port on the lower surface.

제2 광학막용 도포액(81)은 중간막(72) 상에 도포된다. 그 때문에, 중간막(72)을 형성하는 유기 재료는, 제2 광학막용 도포액(81)의 용매에 대하여 불용성을 가져도 좋다. 제2 광학막용 도포액(81)의 도포에 의해 중간막(72)이 녹는 것을 방지할 수 있다. The coating liquid 81 for the second optical film is applied on the intermediate film 72 . Therefore, the organic material forming the intermediate film 72 may have insolubility with respect to the solvent of the coating liquid 81 for the second optical film. The melting of the intermediate film 72 can be prevented by the application of the coating liquid 81 for the second optical film.

또한, 본 실시형태에서는 제2 광학막용 도포액(81)의 도포에 슬릿 코터가 이용되지만, 딥 코터 등이 이용되어도 좋다. 제2 광학막용 도포액(81)에 전단 응력을 가할 수 있고, 그 전단 응력의 작용 방향을 제어할 수 있으면 된다. In this embodiment, a slit coater is used for application of the coating liquid 81 for the second optical film, but a dip coater or the like may be used. What is necessary is just to be able to apply shear stress to the coating liquid 81 for 2nd optical films, and to be able to control the action direction of the shear stress.

도 30에 나타낸 바와 같이, 제2 광학막 형성 공정 S124에서는, 기판(10) 상에 도포된 제2 광학막용 도포액(81)의 액막(도 29 참조)을 건조시켜, 제2 광학막(82)을 형성한다. 제2 광학막용 도포액(81)의 액막으로부터 용매가 제거되고, 액정 분자의 배향이 적절하게 유지된다. 제2 광학막(82)은, 예컨대 직선 편광막이다. As shown in FIG. 30, in the second optical film forming step S124, the liquid film (see FIG. 29) of the coating liquid 81 for the second optical film applied on the substrate 10 is dried, and the second optical film 82 ) to form The solvent is removed from the liquid film of the coating liquid for the second optical film 81, and the alignment of the liquid crystal molecules is properly maintained. The second optical film 82 is, for example, a linear polarizing film.

<제2 실시형태의 제2 광학막 패터닝 공정> <Second Optical Film Patterning Step of the Second Embodiment>

도 25의 제2 광학막 패터닝 공정 S126에서는, 제2 광학막 형성 공정 S124 이후이자 보호막 형성 공정 S125 이전에, 제2 광학막(82)의 일부(83)를 남기고 제2 광학막(82)의 잔부를 제거한다. In the second optical film patterning step S126 of FIG. 25 , after the second optical film forming step S124 and before the protective film forming step S125, the second optical film 82 is formed leaving a part 83 of the second optical film 82. remove the remainder

예컨대, 제2 광학막 패터닝 공정 S126에서는, 도 31에 나타낸 바와 같이 제2 광학막(82)의 일부(83)만을 세정액에 대하여 불용화하고, 그 후, 도 32에 나타낸 바와 같이 제2 광학막(82)의 잔부를 세정액으로 녹인다. For example, in the second optical film patterning step S126, as shown in FIG. 31, only a part 83 of the second optical film 82 is insolubilized in the cleaning liquid, and thereafter, as shown in FIG. 32, the second optical film The remainder of (82) is dissolved in a cleaning solution.

도 31은, 제2 실시형태에 의한 일부 불용화된 제2 광학막을 나타내는 측면도이다. 도 32는, 제2 실시형태에 의한 불용화되지 않은 부분이 제거된 제2 광학막을 나타내는 측면도이다. Fig. 31 is a side view showing a partially insolubilized second optical film according to the second embodiment. Fig. 32 is a side view showing the second optical film from which the non-insolubilized portion is removed according to the second embodiment.

도 31에 나타낸 바와 같이, 제2 광학막 패터닝 공정 S126에서는, 제2 광학막(82)의 일부(83)만을 세정액에 대하여 불용화한다. 세정액으로는, 제2 광학막용 도포액(81)의 용매와 동일한 것이 이용되어도 좋으며, 예컨대 물이 이용되어도 좋다. 이 경우, 물에 대한 불용화가 행해진다. As shown in Fig. 31, in the second optical film patterning step S126, only a part 83 of the second optical film 82 is insolubilized with respect to the cleaning liquid. As the cleaning liquid, the same solvent as the solvent of the coating liquid 81 for the second optical film may be used, for example, water may be used. In this case, insolubilization to water is performed.

제2 광학막(82)의 일부(83)를 불용화하는 정착액(120)은, 예컨대 잉크젯 방식의 도포 노즐(121)로부터 토출된다. 도포 노즐(121)은, 하면에 정착액(120)의 액적을 토출하는 토출 노즐을 복수 개 가진다. The fixer 120 that insolubilizes the part 83 of the second optical film 82 is ejected from the application nozzle 121 of the inkjet method, for example. The application nozzle 121 has a plurality of discharge nozzles for discharging droplets of the fixer 120 on the lower surface.

도포 노즐(121)과 기판(10)을 상대적으로 이동시키면서, 도포 노즐(121)로부터 정착액(120)의 액적을 토출함으로써, 제2 광학막(82)의 일부(83)에 정착액(120)을 선택적으로 도포한다. 이것에 의해, 제2 광학막(82)의 일부(83)가 불용화된다. While moving the coating nozzle 121 and the substrate 10 relatively, liquid droplets of the fixer 120 are discharged from the coating nozzle 121 to apply the fixer 120 to the part 83 of the second optical film 82. applied selectively. As a result, a part 83 of the second optical film 82 is insolubilized.

정착액(120)이 도포되는 영역은, 예컨대 화소 영역이어도 좋다. The area where the fixer 120 is applied may be, for example, a pixel area.

도 32에 나타낸 바와 같이, 제2 광학막 패터닝 공정 S126에서는, 제2 광학막(82)의 일부(83)만을 남기고 제2 광학막(82)의 잔부를 제거한다. 제2 광학막(82)의 잔부의 제거에는, 예컨대 세정액이 이용된다. As shown in FIG. 32 , in the second optical film patterning step S126, the remainder of the second optical film 82 is removed leaving only a part 83 of the second optical film 82. For the removal of the remainder of the second optical film 82, a cleaning liquid is used, for example.

세정액은, 예컨대 스핀척으로 기판(10)을 회전시키면서 기판(10)에 공급된다. 기판(10)에 공급된 세정액은, 원심력에 의해 기판(10) 전체에 퍼지고, 기판(10)의 외주 가장자리로부터 털어낸다. The cleaning liquid is supplied to the substrate 10 while rotating the substrate 10 with, for example, a spin chuck. The cleaning liquid supplied to the substrate 10 spreads over the entire substrate 10 by centrifugal force and is brushed off from the outer periphery of the substrate 10 .

제2 광학막(82)의 일부(83)는, 세정액에 대하여 불용화되어 있기 때문에, 세정액에 의해 형상 붕괴가 일어나지 않는다. 한편, 제2 광학막(82)의 잔부는, 세정액에 대하여 불용화되어 있지 않기 때문에, 세정액에 의해 녹아서 제거된다. Since the part 83 of the second optical film 82 is insolubilized in the washing liquid, shape collapse does not occur due to the washing liquid. On the other hand, since the remainder of the second optical film 82 is not insolubilized in the washing liquid, it is dissolved and removed by the washing liquid.

또한, 세정액은 세정조에 저류되고, 세정조의 세정액에 기판(10)을 침지함으로써, 제2 광학막(82)의 일부(83)를 남기면서, 제2 광학막(82)의 잔부를 녹여 제거해도 좋다. 세정조의 세정액은, 교반 날개 등으로 교반되어도 좋다. In addition, the cleaning liquid is stored in the cleaning tank, and by immersing the substrate 10 in the cleaning liquid of the cleaning tank, the remainder of the second optical film 82 may be melted and removed while leaving a part 83 of the second optical film 82. good night. The washing liquid in the washing tank may be stirred with a stirring blade or the like.

도 32에 나타낸 바와 같이, 본 실시형태에서는 보호막(92)(도 34 참조)이 형성되기 전에, 제2 광학막(82)의 일부(83)를 남기고 제2 광학막(82)의 잔부가 제거되어, 제2 광학막(82)이 패터닝된다. As shown in FIG. 32, in this embodiment, before the protective film 92 (see FIG. 34) is formed, the remainder of the second optical film 82 is removed leaving a part 83 of the second optical film 82. Then, the second optical film 82 is patterned.

상기 제2 광학막 형성 공정 S124에서는, 전단 응력을 가하면서 제2 광학막용 도포액(81)을 도포하기 때문에, 화소 영역에만 제2 광학막용 도포액(81)을 도포하는 것은 어렵다. 따라서, 제2 광학막 패터닝 공정 S126을 행하는 것은 유효하다. In the second optical film forming step S124, since the coating liquid 81 for the second optical film is applied while applying shear stress, it is difficult to apply the coating liquid 81 for the second optical film only to the pixel region. Therefore, it is effective to perform the second optical film patterning step S126.

이하, 제2 광학막 패터닝 공정 S126에서 남는 제2 광학막(82)의 일부(83)를 「제2 광학막(83)」이라고도 칭한다. Hereinafter, a part 83 of the second optical film 82 remaining in the second optical film patterning step S126 is also referred to as "the second optical film 83".

<제2 실시형태의 보호막 형성 공정> <Protective film forming step of the second embodiment>

도 25의 보호막 형성 공정 S125에서는, 도 33∼도 34에 나타낸 바와 같이, 제2 광학막용 도포액(81)과는 상이한 보호막용 도포액(91)을 제2 광학막(83) 상에 도포하여 건조시킴으로써 보호막(92)을 형성한다. In the protective film formation step S125 of FIG. 25, as shown in FIGS. 33 to 34, a coating liquid 91 for a protective film different from the coating liquid 81 for a second optical film is applied on the second optical film 83, By drying, the protective film 92 is formed.

도 33은, 제2 실시형태에 의한 제2 광학막 상에 도포된 보호막용 도포액의 액막을 나타내는 측면도이다. 도 34는, 제2 실시형태에 의한 보호막용 도포액의 액막의 건조에 의해 형성된 보호막을 나타내는 측면도이다. 33 is a side view showing a liquid film of a coating liquid for a protective film applied on the second optical film according to the second embodiment. 34 is a side view showing a protective film formed by drying the liquid film of the coating liquid for a protective film according to the second embodiment.

도 33에 나타낸 바와 같이, 보호막 형성 공정 S125에서는, 제2 광학막(83)이 형성된 기판(10) 상에 도포 노즐(90)로부터 보호막용 도포액(91)을 도포한다. 도포 노즐(90)은, 잉크젯 방식이어도 좋으며, 하면에 보호막용 도포액(91)의 액적을 토출하는 토출 노즐을 복수 개 가진다. As shown in FIG. 33 , in the protective film forming step S125, the coating liquid 91 for a protective film is applied from the application nozzle 90 onto the substrate 10 on which the second optical film 83 is formed. The coating nozzle 90 may be of an inkjet method, and has a plurality of discharge nozzles for discharging droplets of the coating liquid 91 for a protective film on the lower surface.

도포 노즐(90)과 기판(10)을 상대적으로 이동시키면서, 도포 노즐(90)로부터 보호막용 도포액(91)의 액적을 토출함으로써, 제2 광학막(83) 및 그 근방에만(예컨대 화소 영역 및 그 근방에만) 보호막용 도포액(91)을 선택적으로 도포한다. By discharging droplets of the coating liquid 91 for a protective film from the coating nozzle 90 while relatively moving the coating nozzle 90 and the substrate 10, only the second optical film 83 and its vicinity (for example, the pixel area) and only in its vicinity) the coating liquid 91 for a protective film is selectively applied.

보호막용 도포액(91)은 제2 광학막(83) 상에 도포된다. 그 때문에, 제2 광학막(83)을 형성하는 액정 분자는, 보호막용 도포액(91)의 용매에 대하여 불용성을 가져도 좋다. 보호막용 도포액(91)의 도포에 의해 제2 광학막(83)이 녹는 것을 방지할 수 있다. The coating liquid 91 for the protective film is applied on the second optical film 83 . Therefore, the liquid crystal molecules forming the second optical film 83 may have insolubility with respect to the solvent of the coating liquid 91 for a protective film. Application of the coating liquid 91 for a protective film can prevent the second optical film 83 from melting.

보호막용 도포액(91)은, 보호막(92)을 형성하는 유기 재료와, 그 유기 재료를 녹이는 용매를 포함한다. The coating liquid 91 for a protective film contains the organic material which forms the protective film 92, and the solvent which dissolves the organic material.

보호막용 도포액(91)으로는, 예컨대, 열경화형의 투명 도료, 화학 반응형의 투명 도료, 건조 경화형의 투명 도료 등이 이용된다. 구체적으로는, 유성 에나멜 도료, 프탈산 수지 도료 등이 이용된다. As the coating liquid 91 for a protective film, a thermosetting transparent paint, a chemical reaction transparent paint, a dry curing transparent paint, etc. are used, for example. Specifically, oil-based enamel paints, phthalic acid resin paints, and the like are used.

열경화형의 투명 도료, 화학 반응형의 투명 도료, 건조 경화형의 투명 도료 등은, 열경화나 화학 반응 또는 건조 경화에 의해 고분자화되기 때문에, 치밀한 보호막(92)을 형성할 수 있다. Thermosetting transparent paint, chemical reaction transparent paint, dry curing transparent paint, etc. are polymerized by thermal curing, chemical reaction, or dry curing, so that a dense protective film 92 can be formed.

보호막용 도포액(91)은, 도 33에 나타낸 바와 같이, 제2 광학막(83)의 주표면뿐만이 아니라, 제2 광학막(83)의 단부면을 덮도록 도포되어도 좋다. 제2 광학막(83)의 주표면뿐만 아니라, 제2 광학막(83)의 단부면에 손상이나 이물질이 생기지 않도록, 제2 광학막(83)을 보호막(92)으로 보호할 수 있다. As shown in FIG. 33 , the coating liquid 91 for a protective film may be applied so as to cover not only the main surface of the second optical film 83 but also the end surface of the second optical film 83 . The second optical film 83 may be protected with the protective film 92 so that not only the main surface of the second optical film 83 but also the end surface of the second optical film 83 may be damaged or foreign matter may not occur.

또한, 보호막용 도포액(91)은, 도 33에서는 중간막(72)의 단부면을 덮고 있지 않지만, 중간막(72)의 단부면을 덮도록 도포되어도 좋다. In addition, although the coating liquid 91 for protective films does not cover the end surface of the intermediate film 72 in FIG. 33, it may be applied so that the end surface of the intermediate film 72 may be covered.

보호막용 도포액(91)이 도포되는 영역은, 기판(10) 상의 화소 영역 및 그 근방에 한정되어도 좋다. The area to which the coating liquid 91 for a protective film is applied may be limited to the pixel area on the substrate 10 and its vicinity.

또한, 보호막용 도포액(91)이 도포되는 영역을 한정하기 위해, 기판(10) 상에 필름 등의 마스크를 접착해도 좋다. 이 마스크는, 나중에 박리될 때에 제2 광학막(83)을 손상하지 않도록, 제2 광학막(83)과의 사이에 간극을 형성해도 좋다. In addition, a mask such as a film may be adhered on the substrate 10 in order to limit the area to which the coating liquid 91 for a protective film is applied. This mask may form a gap between the 2nd optical film 83 so that it may not damage the 2nd optical film 83 when peeling later.

도 34에 나타낸 바와 같이, 보호막 형성 공정 S125에서는, 기판(10) 상에 도포된 보호막용 도포액(91)의 액막(도 33 참조)을 건조시켜, 보호막(92)을 형성한다. 보호막용 도포액(91)의 액막으로부터 용매가 제거되고, 보호막(92)이 형성된다. As shown in Fig. 34, in the protective film forming step S125, the liquid film (see Fig. 33) of the coating liquid 91 for a protective film applied on the substrate 10 is dried to form the protective film 92. The solvent is removed from the liquid film of the coating liquid 91 for a protective film, and the protective film 92 is formed.

보호막(92)은, 제2 광학막(83)과는 달리 등방적인 광학 특성을 가진다. 보호막(92)의 가시광 투과율은 95% 이상인 것이 바람직하다. 또한, 보호막(92)의 막두께는 10 ㎛ 이하인 것이 바람직하다. 또한, 보호막(92)의 잔류 응력은, 광학 부재의 변형을 억제하기 위해, 작을수록 바람직하다. Unlike the second optical film 83, the protective film 92 has isotropic optical characteristics. The visible light transmittance of the protective film 92 is preferably 95% or more. In addition, it is preferable that the film thickness of the protective film 92 is 10 micrometers or less. In addition, the residual stress of the protective film 92 is preferably as small as possible in order to suppress deformation of the optical member.

보호막(92)은, 제2 광학막(83)의 주표면뿐만 아니라 제2 광학막(83)의 단부면을 덮는다. 보호막(92)은, 제2 광학막(83)에 손상이나 이물질 등이 생기지 않도록, 제2 광학막(83)을 보호하는 역할을 한다. 보호막(92)의 연필 경도는 2H 이상인 것이 바람직하다. The protective film 92 covers not only the main surface of the second optical film 83 but also the end surface of the second optical film 83 . The protective film 92 serves to protect the second optical film 83 so that damage or foreign matter does not occur in the second optical film 83 . It is preferable that the pencil hardness of the protective film 92 is 2H or more.

보호막(92)은, 기판(10) 상의 화소 영역 및 그 근방에만 형성되며, 기판(10) 상에 간격을 두고 복수 개 형성된다. 또한, 화소 영역의 주변에 설치된 단자의 취출이 불필요한 경우, 기판(10)의 대략 전체에 보호막(92)이 형성되어도 좋다. The protective film 92 is formed only on and near the pixel region on the substrate 10, and is formed in plurality on the substrate 10 at intervals. Further, when it is unnecessary to take out terminals provided around the pixel region, the protective film 92 may be formed over substantially the entire substrate 10 .

또한, 본 실시형태의 보호막(92)은, 보호막용 도포액(91)을 제2 광학막(83) 상에 도포하여 건조시킴으로써 형성하지만, 필름의 형태로 제2 광학막(83)에 접착되어도 좋다. In addition, although the protective film 92 of this embodiment is formed by applying the coating liquid 91 for a protective film onto the second optical film 83 and drying it, even if it is adhered to the second optical film 83 in the form of a film good night.

본 실시형태에 의하면, 도 34에 나타낸 바와 같이, 제1 광학막(63), 중간막(72), 제2 광학막(83) 및 보호막(92)으로 구성되는 광학 부재(50)가, 기판(10) 상에 간격을 두고 복수 개 형성된다. 따라서, 광학 부재(50)의 다면취가 가능하고, 유기 EL 디스플레이(1)의 다면취가 가능하다. 또한, 광학 부재(50)는 화소 영역 및 그 근방에 선택적으로 형성되기 때문에, 화소 영역의 주위에 설치된 단자가 적절하게 기능할 수 있다. According to this embodiment, as shown in FIG. 34, the optical member 50 composed of the first optical film 63, the intermediate film 72, the second optical film 83 and the protective film 92 is a substrate ( 10) A plurality of layers are formed at intervals on the top. Therefore, the optical member 50 can be multi-faceted, and the organic EL display 1 can be multi-faceted. Further, since the optical member 50 is selectively formed in and around the pixel area, terminals provided around the pixel area can function appropriately.

<제2 실시형태의 광학 부재 형성 공정의 정리> <Summary of the optical member forming process of the second embodiment>

이상 설명한 바와 같이, 본 실시형태에 의하면, 제1 광학막 형성 공정 S121과, 중간막 형성 공정 S122와, 제2 광학막 형성 공정 S124가 이 순으로 행해진다. 제1 광학막(63)과 제2 광학막(83) 사이에 중간막(72)이 형성된다. 중간막(72)은, 제1 광학막(63)에 손상이나 이물질 등이 생기지 않도록, 제1 광학막(63)을 보호할 수 있다. 따라서, 광학 부재(50)의 품질을 향상시킬 수 있다. 광학 부재(50)의 제조가 도중에 일시적으로 중단되어 재개까지 시간이 걸리는 경우, 손상이나 이물질이 생길 리스크가 높기 때문에 특히 유효하다. As explained above, according to this embodiment, 1st optical film formation process S121, intermediate film formation process S122, and 2nd optical film formation process S124 are performed in this order. An intermediate film 72 is formed between the first optical film 63 and the second optical film 83 . The intermediate film 72 can protect the first optical film 63 so that damage or foreign substances do not occur in the first optical film 63 . Therefore, the quality of the optical member 50 can be improved. This is especially effective when the production of the optical member 50 is temporarily stopped midway and it takes time to resume, since there is a high risk of damage or foreign matter.

본 실시형태에 의하면, 제1 광학막 형성 공정 S121 이후이자 중간막 형성 공정 S122 이전에, 제1 광학막(62)의 일부(63)를 남기고 제1 광학막(62)의 잔부를 제거하는 제1 광학막 패터닝 공정 S123이 행해진다. 따라서, 제1 광학막 패터닝 공정 S123 이후에 남는 제1 광학막(63)의 주표면뿐만 아니라 제1 광학막(63)의 단부면을 중간막(72)으로 덮는 것이 가능해진다. According to the present embodiment, after the first optical film forming step S121 and before the intermediate film forming step S122, the first step of removing the remainder of the first optical film 62 while leaving a part 63 of the first optical film 62 An optical film patterning step S123 is performed. Therefore, it becomes possible to cover the end surfaces of the first optical film 63 as well as the main surface of the first optical film 63 remaining after the first optical film patterning step S123 with the intermediate film 72 .

본 실시형태에 의하면, 제1 광학막 패터닝 공정 S123에서는, 제1 광학막(62)을 녹이는 세정액에 대하여 제1 광학막(62)의 일부(63)만을 불용화하고, 그 후, 제1 광학막(62)의 잔부를 세정액으로 녹인다. 제1 광학막(62)의 일부(63)는, 세정액에 대하여 불용화되어 있기 때문에, 세정액에 의해 형상 붕괴가 일어나지 않는다. 한편, 제1 광학막(62)의 잔부는, 세정액에 대하여 불용화되어 있지 않기 때문에, 세정액에 의해 녹아서 제거된다. According to the present embodiment, in the first optical film patterning step S123, only a part 63 of the first optical film 62 is insolubilized with respect to the cleaning liquid for dissolving the first optical film 62, and thereafter, the first optical film 62 is insolubilized. The remainder of the film 62 is dissolved with the washing liquid. Since the part 63 of the first optical film 62 is insolubilized in the cleaning solution, shape collapse does not occur due to the cleaning solution. On the other hand, since the remainder of the first optical film 62 is not insolubilized in the washing liquid, it is dissolved and removed by the washing liquid.

본 실시형태에 의하면, 중간막 형성 공정 S122에서는, 제1 광학막(63)의 주표면 및 제1 광학막(63)의 단부면을 덮도록 중간막(72)을 형성한다. 중간막(72)은, 제1 광학막(63)의 주표면뿐만 아니라 제1 광학막(63)의 단부면에 손상이나 이물질 등이 생기지 않도록, 제1 광학막(63)을 보호할 수 있다. 따라서, 광학 부재(50)의 품질을 향상시킬 수 있다. 광학 부재(50)의 제조가 도중에 일시적으로 중단되어 재개까지 시간이 걸리는 경우, 손상이나 이물질이 생길 리스크가 높기 때문에 특히 유효하다. According to this embodiment, in intermediate film formation process S122, the intermediate film 72 is formed so that the main surface of the 1st optical film 63 and the end surface of the 1st optical film 63 may be covered. The intermediate film 72 can protect the first optical film 63 so as not to cause damage or foreign substances to the end surface of the first optical film 63 as well as the main surface of the first optical film 63 . Therefore, the quality of the optical member 50 can be improved. This is especially effective when the production of the optical member 50 is temporarily stopped midway and it takes time to resume, since there is a high risk of damage or foreign matter.

본 실시형태에 의하면, 제2 광학막(83)을 보호하는 보호막(92)을 형성하는 보호막 형성 공정 S125가 행해진다. 보호막(92)은, 광학 부재(50)의 제조후에, 제2 광학막(83)에 손상이나 이물질 등이 생기지 않도록, 제2 광학막(83)을 보호할 수 있다. 따라서, 광학 부재(50)의 품질을 향상시킬 수 있다. According to this embodiment, the protective film formation process S125 of forming the protective film 92 which protects the 2nd optical film 83 is performed. The protective film 92 can protect the second optical film 83 so that damage or foreign matter does not occur in the second optical film 83 after the optical member 50 is manufactured. Therefore, the quality of the optical member 50 can be improved.

본 실시형태에 의하면, 제2 광학막 형성 공정 S124 이후이자 보호막 형성 공정 S125 이전에, 제2 광학막(82)의 일부(83)를 남기고 제2 광학막(82)의 잔부를 제거하는 제2 광학막 패터닝 공정 S126이 행해진다. 따라서, 제2 광학막 패터닝 공정 S126 이후에 남는 제2 광학막(83)의 주표면뿐만 아니라 제2 광학막(83)의 단부면을 보호막(92)으로 덮는 것이 가능해진다. According to the present embodiment, after the second optical film forming step S124 and before the protective film forming step S125, the second optical film 82 is removed leaving a part 83 of the second optical film 82. An optical film patterning step S126 is performed. Therefore, it becomes possible to cover the end surface of the second optical film 83 as well as the main surface of the second optical film 83 remaining after the second optical film patterning step S126 with the protective film 92 .

본 실시형태에 의하면, 제2 광학막 패터닝 공정 S126에서는, 제2 광학막(82)을 녹이는 세정액에 대하여 제2 광학막(82)의 일부(83)만을 불용화하고, 그 후, 제2 광학막(82)의 잔부를 세정액으로 녹인다. 제2 광학막(82)의 일부(83)는, 세정액에 대하여 불용화되어 있기 때문에, 세정액에 의해 형상 붕괴가 일어나지 않는다. 한편, 제2 광학막(82)의 잔부는, 세정액에 대하여 불용화되어 있지 않기 때문에, 세정액에 의해 녹아서 제거된다. According to the present embodiment, in the second optical film patterning step S126, only a part 83 of the second optical film 82 is insolubilized with respect to the cleaning solution that dissolves the second optical film 82, and thereafter, the second optical film 82 is insolubilized. The remainder of the film 82 is dissolved with the washing liquid. Since the part 83 of the second optical film 82 is insolubilized in the washing liquid, shape collapse does not occur due to the washing liquid. On the other hand, since the remainder of the second optical film 82 is not insolubilized in the washing liquid, it is dissolved and removed by the washing liquid.

본 실시형태에 의하면, 보호막 형성 공정 S125에서는, 제2 광학막(83)의 주표면 및 제2 광학막(83)의 단부면을 덮도록 보호막(92)을 형성한다. 보호막(92)은, 제2 광학막(83)의 주표면뿐만 아니라 제2 광학막(83)의 단부면에 손상이나 이물질 등이 생기지 않도록, 제2 광학막(83)을 보호할 수 있다. 따라서, 광학 부재(50)의 품질을 향상시킬 수 있다. 광학 부재(50)의 제조가 도중에 일시적으로 중단되어 재개까지 시간이 걸리는 경우, 손상이나 이물질이 생길 리스크가 높기 때문에 특히 유효하다. According to this embodiment, in protective film formation process S125, the protective film 92 is formed so that the main surface of the 2nd optical film 83 and the end surface of the 2nd optical film 83 may be covered. The protective film 92 can protect the second optical film 83 from not only the main surface of the second optical film 83 but also the end surface of the second optical film 83 from being damaged or foreign matter. Therefore, the quality of the optical member 50 can be improved. This is especially effective when the production of the optical member 50 is temporarily stopped midway and it takes time to resume, since there is a high risk of damage or foreign matter.

<변형, 개량> <Transformation, Improvement>

이상, 유기 EL 디스플레이의 제조 방법의 실시형태에 관해 설명했지만, 본 발명은 상기 실시형태 등에 한정되지 않고, 청구범위에 기재된 본 발명의 요지의 범위 내에서 여러가지 변형, 개량이 가능하다. As mentioned above, although the embodiment of the manufacturing method of organic electroluminescent display was described, this invention is not limited to the said embodiment etc., Various deformation|transformation and improvement are possible within the scope of the subject matter of this invention described in the claim.

예컨대, 광학 부재(50)는, 상기 실시형태에서는 제1 광학막(63), 중간막(72), 제2 광학막(83) 및 보호막(92)을 포함하지만, 본 발명은 이것에 한정되지 않는다. 광학 부재(50)는 액정 분자가 배향된 광학막을 포함하고 있으면 되며, 광학막의 수도 한정되지 않는다. For example, the optical member 50 includes the first optical film 63, the intermediate film 72, the second optical film 83 and the protective film 92 in the above embodiment, but the present invention is not limited thereto. . The optical member 50 only needs to include an optical film in which liquid crystal molecules are aligned, and the number of optical films is not limited.

본 출원은, 2017년 5월 1일에 일본 특허청에 출원된 일본 특허 출원 2017-091471호에 기초하는 우선권을 주장하는 것이며, 일본 특허 출원 2017-091471호의 모든 내용을 본 출원에 원용한다. This application claims priority based on Japanese Patent Application No. 2017-091471 for which it applied to the Japan Patent Office on May 1, 2017, and uses all the contents of Japanese Patent Application No. 2017-091471 for this application.

10 : 기판
13 : 유기 발광 다이오드
30 : 밀봉층
40 : 터치 센서
41 : 제1 금속막
43 : 절연막
45 : 제2 금속막
47 : 터치 센서 보호막
50 : 광학 부재
61 : 제1 광학막용 도포액
62 : 제1 광학막
63 : 제1 광학막
71 : 중간막용 도포액
72 : 중간막
81 : 제2 광학막용 도포액
82 : 제2 광학막
83 : 제2 광학막
91 : 보호막용 도포액
92 : 보호막
10: Substrate
13: organic light emitting diode
30: sealing layer
40: touch sensor
41: first metal film
43: insulating film
45: second metal film
47: touch sensor shield
50: optical member
61: coating liquid for the first optical film
62: first optical film
63: first optical film
71: coating liquid for interlayer
72: interlayer
81: coating liquid for second optical film
82: second optical film
83: second optical film
91: coating liquid for protective film
92: shield

Claims (19)

유기 발광 다이오드가 미리 형성된 기판 상에, 액정 분자와 용매를 포함하는 광학막용 도포액을 도포하여 건조시킴으로써, 액정 분자가 배향된 광학막을 형성하는 광학 부재 형성 공정을 갖고,
상기 광학 부재 형성 공정은,
상기 유기 발광 다이오드가 미리 형성된 상기 기판 상에, 액정 분자와 용매를 포함하는 제1 광학막용 도포액을 도포하여 건조시킴으로써, 위상차막 및 편광막 중 어느 하나로서의 제1 광학막을 형성하는 제1 광학막 형성 공정과,
상기 제1 광학막 형성 공정 이후에, 액정 분자와 용매를 포함하는 제2 광학막용 도포액을 상기 제1 광학막 상에 도포하여 건조시킴으로써, 상기 위상차막 및 상기 편광막 중 나머지 하나로서의 제2 광학막을 형성하는 제2 광학막 형성 공정과,
상기 제1 광학막 형성 공정 이후에 그리고 상기 제2 광학막 형성 공정 이전에, 상기 제1 광학막용 도포액과는 상이한 중간막용 도포액을 상기 제1 광학막 상에 도포하여 건조시킴으로써 중간막을 형성하는 중간막 형성 공정과,
상기 중간막 형성 공정 이후에 그리고 상기 제2 광학막 형성 공정 이전에, 상기 제1 광학막의 일부만을 덮는 상기 중간막을 마스크로서 이용하여, 상기 제1 광학막의 잔부를 제거하는 제1 광학막 패터닝 공정을 갖는, 유기 EL 디스플레이의 제조 방법.
An optical member forming step of forming an optical film in which liquid crystal molecules are aligned by applying and drying a coating liquid for an optical film containing liquid crystal molecules and a solvent on a substrate on which an organic light emitting diode is previously formed, and
The optical member forming process,
A first optical film forming a first optical film as any one of a retardation film and a polarizing film by applying a coating liquid for a first optical film containing liquid crystal molecules and a solvent onto the substrate on which the organic light emitting diode is formed in advance and drying the coating liquid. forming process;
After the first optical film forming process, a coating liquid for a second optical film containing liquid crystal molecules and a solvent is coated on the first optical film and dried, thereby forming a second optical film as the other of the retardation film and the polarizing film. A second optical film forming step of forming a film;
Forming an intermediate film by applying a coating liquid for an intermediate film different from the coating liquid for the first optical film on the first optical film and drying it after the first optical film forming process and before the second optical film forming process. An intermediate film forming process;
After the intermediate film forming process and before the second optical film forming process, a first optical film patterning process of removing the remainder of the first optical film by using the intermediate film covering only a part of the first optical film as a mask; , Method for manufacturing an organic EL display.
제1항에 있어서, 상기 제1 광학막 패터닝 공정에서는, 상기 제1 광학막을 녹이는 세정액을 이용하는, 유기 EL 디스플레이의 제조 방법.The method of manufacturing an organic EL display according to claim 1, wherein, in the first optical film patterning process, a cleaning solution that dissolves the first optical film is used. 제2항에 있어서, 상기 제1 광학막 형성 공정에서는, 상기 제1 광학막의 상기 일부만을 상기 제1 광학막 패터닝 공정에서 이용되는 상기 세정액에 대하여 불용화하는, 유기 EL 디스플레이의 제조 방법.The method of manufacturing an organic EL display according to claim 2, wherein in the first optical film forming step, only the part of the first optical film is insolubilized with respect to the cleaning liquid used in the first optical film patterning step. 제2항에 있어서, 상기 중간막 형성 공정에서는, 상기 제1 광학막의 상기 일부에만 상기 중간막용 도포액을 도포함으로써, 상기 제1 광학막의 상기 일부만을 상기 제1 광학막 패터닝 공정에서 이용되는 상기 세정액에 대하여 불용화하는, 유기 EL 디스플레이의 제조 방법.The method of claim 2, wherein in the intermediate film forming step, the coating liquid for the intermediate film is applied to only the part of the first optical film, so that only the part of the first optical film is applied to the cleaning liquid used in the first optical film patterning process. A method for producing an organic EL display that is insolubilized against water. 유기 발광 다이오드가 미리 형성된 기판 상에, 액정 분자와 용매를 포함하는 광학막용 도포액을 도포하여 건조시킴으로써, 액정 분자가 배향된 광학막을 형성하는 광학 부재 형성 공정을 갖고,
상기 광학 부재 형성 공정은,
상기 유기 발광 다이오드가 미리 형성된 상기 기판 상에, 액정 분자와 용매를 포함하는 제1 광학막용 도포액을 도포하여 건조시킴으로써, 위상차막 및 편광막 중 어느 하나로서의 제1 광학막을 형성하는 제1 광학막 형성 공정과,
상기 제1 광학막 형성 공정 이후에, 액정 분자와 용매를 포함하는 제2 광학막용 도포액을 상기 제1 광학막 상에 도포하여 건조시킴으로써, 상기 위상차막 및 상기 편광막 중 나머지 하나로서의 제2 광학막을 형성하는 제2 광학막 형성 공정과,
상기 제1 광학막 형성 공정 이후에 그리고 상기 제2 광학막 형성 공정 이전에, 상기 제1 광학막용 도포액과는 상이한 중간막용 도포액을 상기 제1 광학막 상에 도포하여 건조시킴으로써 중간막을 형성하는 중간막 형성 공정과,
상기 제1 광학막 형성 공정 이후에 그리고 상기 중간막 형성 공정 이전에, 상기 제1 광학막의 일부를 남기고 상기 제1 광학막의 잔부를 제거하는 제1 광학막 패터닝 공정을 갖는, 유기 EL 디스플레이의 제조 방법.
An optical member forming step of forming an optical film in which liquid crystal molecules are aligned by applying and drying a coating liquid for an optical film containing liquid crystal molecules and a solvent on a substrate on which an organic light emitting diode is previously formed, and
The optical member forming process,
A first optical film forming a first optical film as any one of a retardation film and a polarizing film by applying a coating liquid for a first optical film containing liquid crystal molecules and a solvent onto the substrate on which the organic light emitting diode is formed in advance and drying the coating liquid. forming process;
After the first optical film forming process, a coating liquid for a second optical film containing liquid crystal molecules and a solvent is coated on the first optical film and dried, thereby forming a second optical film as the other of the retardation film and the polarizing film. A second optical film forming step of forming a film;
Forming an intermediate film by applying a coating liquid for an intermediate film different from the coating liquid for the first optical film on the first optical film and drying it after the first optical film forming process and before the second optical film forming process. An intermediate film forming process;
After the first optical film forming process and before the intermediate film forming process, having a first optical film patterning process of leaving a portion of the first optical film and removing the remainder of the first optical film, the manufacturing method of the organic EL display.
제5항에 있어서, 상기 제1 광학막 패터닝 공정에서는, 상기 제1 광학막을 녹이는 세정액에 대하여 상기 제1 광학막의 상기 일부만을 불용화하고, 그 후, 상기 제1 광학막의 상기 잔부를 상기 세정액으로 녹이는, 유기 EL 디스플레이의 제조 방법.6. The method of claim 5 , wherein in the step of patterning the first optical film, only the part of the first optical film is insolubilized with the washing liquid for dissolving the first optical film, and thereafter, the remainder of the first optical film is treated with the washing liquid. Dissolving, a manufacturing method of an organic EL display. 제5항에 있어서, 상기 중간막 형성 공정에서는, 상기 제1 광학막의 주표면 및 상기 제1 광학막의 단부면을 덮도록 상기 중간막을 형성하는, 유기 EL 디스플레이의 제조 방법.The method of manufacturing an organic EL display according to claim 5, wherein, in the intermediate film forming step, the intermediate film is formed to cover a main surface of the first optical film and an end surface of the first optical film. 유기 발광 다이오드가 미리 형성된 기판 상에, 액정 분자와 용매를 포함하는 광학막용 도포액을 도포하여 건조시킴으로써, 액정 분자가 배향된 광학막을 형성하는 광학 부재 형성 공정을 갖고,
상기 광학 부재 형성 공정은,
상기 유기 발광 다이오드가 미리 형성된 상기 기판 상에, 액정 분자와 용매를 포함하는 제1 광학막용 도포액을 도포하여 건조시킴으로써, 위상차막 및 편광막 중 어느 하나로서의 제1 광학막을 형성하는 제1 광학막 형성 공정과,
상기 제1 광학막 형성 공정 이후에, 액정 분자와 용매를 포함하는 제2 광학막용 도포액을 상기 제1 광학막 상에 도포하여 건조시킴으로써, 상기 위상차막 및 상기 편광막 중 나머지 하나로서의 제2 광학막을 형성하는 제2 광학막 형성 공정과,
상기 제1 광학막 형성 공정 이후에 그리고 상기 제2 광학막 형성 공정 이전에, 상기 제1 광학막용 도포액과는 상이한 중간막용 도포액을 상기 제1 광학막 상에 도포하여 건조시킴으로써 중간막을 형성하는 중간막 형성 공정과,
상기 제2 광학막 형성 공정 이후에, 상기 제2 광학막용 도포액과는 상이한 보호막용 도포액을 상기 제2 광학막 상에 도포하여 건조시킴으로써 상기 제2 광학막을 보호하는 보호막을 형성하는 보호막 형성 공정과,
상기 보호막 형성 공정 이후에, 상기 제2 광학막의 일부만을 덮는 상기 보호막을 마스크로서 이용하여, 상기 제2 광학막의 잔부를 제거하는 제2 광학막 패터닝 공정을 갖는, 유기 EL 디스플레이의 제조 방법.
An optical member forming step of forming an optical film in which liquid crystal molecules are aligned by applying and drying a coating liquid for an optical film containing liquid crystal molecules and a solvent on a substrate on which an organic light emitting diode is previously formed, and
The optical member forming process,
A first optical film forming a first optical film as any one of a retardation film and a polarizing film by applying a coating liquid for a first optical film containing liquid crystal molecules and a solvent onto the substrate on which the organic light emitting diode is formed in advance and drying the coating liquid. forming process;
After the first optical film forming process, a coating liquid for a second optical film containing liquid crystal molecules and a solvent is coated on the first optical film and dried, thereby forming a second optical film as the other of the retardation film and the polarizing film. A second optical film forming step of forming a film;
Forming an intermediate film by applying a coating liquid for an intermediate film different from the coating liquid for the first optical film on the first optical film and drying it after the first optical film forming process and before the second optical film forming process. An intermediate film forming process;
After the second optical film forming process, a protective film forming process of forming a protective film for protecting the second optical film by applying a coating liquid for a protective film different from the coating liquid for the second optical film onto the second optical film and drying the coating liquid. class,
After the protective film forming step, a second optical film patterning step of removing a remainder of the second optical film by using the protective film covering only a part of the second optical film as a mask.
제8항에 있어서, 상기 제2 광학막 패터닝 공정에서는, 상기 제2 광학막을 녹이는 세정액을 이용하는, 유기 EL 디스플레이의 제조 방법.The method of manufacturing an organic EL display according to claim 8 , wherein in the patterning of the second optical film, a cleaning solution for dissolving the second optical film is used. 제9항에 있어서, 상기 제2 광학막 형성 공정에서는, 상기 제2 광학막의 상기 일부만을 상기 제2 광학막 패터닝 공정에서 이용되는 상기 세정액에 대하여 불용화하는, 유기 EL 디스플레이의 제조 방법.The method of manufacturing an organic EL display according to claim 9, wherein in the second optical film forming step, only the part of the second optical film is insolubilized with respect to the cleaning liquid used in the second optical film patterning step. 제9항에 있어서, 상기 보호막 형성 공정에서는, 상기 제2 광학막의 상기 일부에만 상기 보호막용 도포액을 도포함으로써, 상기 제2 광학막의 상기 일부만을 상기 제2 광학막 패터닝 공정에서 이용되는 상기 세정액에 대하여 불용화하는, 유기 EL 디스플레이의 제조 방법.10. The method of claim 9, wherein in the protective film forming step, the coating liquid for the protective film is applied only to the part of the second optical film, so that only the part of the second optical film is applied to the washing liquid used in the second optical film patterning process. A method for producing an organic EL display that is insolubilized against water. 유기 발광 다이오드가 미리 형성된 기판 상에, 액정 분자와 용매를 포함하는 광학막용 도포액을 도포하여 건조시킴으로써, 액정 분자가 배향된 광학막을 형성하는 광학 부재 형성 공정을 갖고,
상기 광학 부재 형성 공정은,
상기 유기 발광 다이오드가 미리 형성된 상기 기판 상에, 액정 분자와 용매를 포함하는 제1 광학막용 도포액을 도포하여 건조시킴으로써, 위상차막 및 편광막 중 어느 하나로서의 제1 광학막을 형성하는 제1 광학막 형성 공정과,
상기 제1 광학막 형성 공정 이후에, 액정 분자와 용매를 포함하는 제2 광학막용 도포액을 상기 제1 광학막 상에 도포하여 건조시킴으로써, 상기 위상차막 및 상기 편광막 중 나머지 하나로서의 제2 광학막을 형성하는 제2 광학막 형성 공정과,
상기 제1 광학막 형성 공정 이후에 그리고 상기 제2 광학막 형성 공정 이전에, 상기 제1 광학막용 도포액과는 상이한 중간막용 도포액을 상기 제1 광학막 상에 도포하여 건조시킴으로써 중간막을 형성하는 중간막 형성 공정과,
상기 제2 광학막 형성 공정 이후에, 상기 제2 광학막용 도포액과는 상이한 보호막용 도포액을 상기 제2 광학막 상에 도포하여 건조시킴으로써 상기 제2 광학막을 보호하는 보호막을 형성하는 보호막 형성 공정과,
상기 제2 광학막 형성 공정 이후에 그리고 상기 보호막 형성 공정 이전에, 상기 제2 광학막의 일부를 남기고 상기 제2 광학막의 잔부를 제거하는 제2 광학막 패터닝 공정을 갖는, 유기 EL 디스플레이의 제조 방법.
An optical member forming step of forming an optical film in which liquid crystal molecules are aligned by applying and drying a coating liquid for an optical film containing liquid crystal molecules and a solvent on a substrate on which an organic light emitting diode is previously formed, and
The optical member forming process,
A first optical film forming a first optical film as any one of a retardation film and a polarizing film by applying a coating liquid for a first optical film containing liquid crystal molecules and a solvent onto the substrate on which the organic light emitting diode is formed in advance and drying the coating liquid. forming process;
After the first optical film forming process, a coating liquid for a second optical film containing liquid crystal molecules and a solvent is coated on the first optical film and dried, thereby forming a second optical film as the other of the retardation film and the polarizing film. A second optical film forming step of forming a film;
Forming an intermediate film by applying a coating liquid for an intermediate film different from the coating liquid for the first optical film on the first optical film and drying it after the first optical film forming process and before the second optical film forming process. An intermediate film forming process;
After the second optical film forming process, a protective film forming process of forming a protective film for protecting the second optical film by applying a coating liquid for a protective film different from the coating liquid for the second optical film onto the second optical film and drying the coating liquid. class,
After the second optical film forming process and before the protective film forming process, having a second optical film patterning process of leaving a part of the second optical film and removing the remainder of the second optical film, the manufacturing method of the organic EL display.
제12항에 있어서, 상기 제2 광학막 패터닝 공정에서는, 상기 제2 광학막을 녹이는 세정액에 대하여 상기 제2 광학막의 상기 일부만을 불용화하고, 그 후, 상기 제2 광학막의 상기 잔부를 상기 세정액으로 녹이는, 유기 EL 디스플레이의 제조 방법.13. The method of claim 12, wherein in the step of patterning the second optical film, only the part of the second optical film is insolubilized with the washing liquid for dissolving the second optical film, and thereafter, the remaining part of the second optical film is treated with the washing liquid. Dissolving, a manufacturing method of an organic EL display. 제12항에 있어서, 상기 보호막 형성 공정에서는, 상기 제2 광학막의 주표면 및 상기 제2 광학막의 단부면을 덮도록 상기 보호막을 형성하는, 유기 EL 디스플레이의 제조 방법.13. The manufacturing method of an organic EL display according to claim 12, wherein in the protective film forming step, the protective film is formed to cover a main surface of the second optical film and an end surface of the second optical film. 제1항 내지 제14항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 광학 부재 형성 공정 이전에, 상기 유기 발광 다이오드가 미리 형성된 상기 기판 상에, 터치 센서를 형성하는 터치 센서 형성 공정을 가지며,
상기 터치 센서 형성 공정은,
상기 유기 발광 다이오드가 미리 형성된 상기 기판 상에, 차광성의 제1 금속막을 형성하는 공정과,
포토리소그래피법 및 에칭법에 의해 상기 제1 금속막의 일부를 선택적으로 제거하는 공정과,
일부가 선택적으로 제거된 상기 제1 금속막 상에 절연막을 형성하는 공정과,
상기 절연막 상에, 차광성의 제2 금속막을 형성하는 공정과,
포토리소그래피법 및 에칭법에 의해 상기 제2 금속막의 일부를 선택적으로 제거하는 공정을 갖는, 유기 EL 디스플레이의 제조 방법.
The method according to any one of claims 1 to 14, before the optical member forming step, a touch sensor forming step of forming a touch sensor on the substrate on which the organic light emitting diode is previously formed,
The touch sensor forming process,
forming a light-shielding first metal film on the substrate on which the organic light emitting diode is formed in advance;
a step of selectively removing a part of the first metal film by a photolithography method and an etching method;
forming an insulating film on the first metal film from which a portion is selectively removed;
forming a light-shielding second metal film on the insulating film;
A method for manufacturing an organic EL display comprising a step of selectively removing a part of the second metal film by a photolithography method and an etching method.
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