[go: up one dir, main page]
More Web Proxy on the site http://driver.im/

KR102509012B1 - Gas diffuser in the water for plasma type water treatment device and the like - Google Patents

Gas diffuser in the water for plasma type water treatment device and the like Download PDF

Info

Publication number
KR102509012B1
KR102509012B1 KR1020200104887A KR20200104887A KR102509012B1 KR 102509012 B1 KR102509012 B1 KR 102509012B1 KR 1020200104887 A KR1020200104887 A KR 1020200104887A KR 20200104887 A KR20200104887 A KR 20200104887A KR 102509012 B1 KR102509012 B1 KR 102509012B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
gas
water
treated
mixing pipe
groove
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
KR1020200104887A
Other languages
Korean (ko)
Other versions
KR20220023247A (en
Inventor
김찬모
김선호
장동화
윤석현
윤근희
Original Assignee
주식회사 플라즈마홀딩스
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 주식회사 플라즈마홀딩스 filed Critical 주식회사 플라즈마홀딩스
Priority to KR1020200104887A priority Critical patent/KR102509012B1/en
Publication of KR20220023247A publication Critical patent/KR20220023247A/en
Application granted granted Critical
Publication of KR102509012B1 publication Critical patent/KR102509012B1/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01FMIXING, e.g. DISSOLVING, EMULSIFYING OR DISPERSING
    • B01F23/00Mixing according to the phases to be mixed, e.g. dispersing or emulsifying
    • B01F23/20Mixing gases with liquids
    • B01F23/23Mixing gases with liquids by introducing gases into liquid media, e.g. for producing aerated liquids
    • B01F23/231Mixing gases with liquids by introducing gases into liquid media, e.g. for producing aerated liquids by bubbling
    • B01F23/23105Arrangement or manipulation of the gas bubbling devices
    • B01F23/2312Diffusers
    • B01F23/23121Diffusers having injection means, e.g. nozzles with circumferential outlet
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01FMIXING, e.g. DISSOLVING, EMULSIFYING OR DISPERSING
    • B01F25/00Flow mixers; Mixers for falling materials, e.g. solid particles
    • B01F25/10Mixing by creating a vortex flow, e.g. by tangential introduction of flow components
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01FMIXING, e.g. DISSOLVING, EMULSIFYING OR DISPERSING
    • B01F25/00Flow mixers; Mixers for falling materials, e.g. solid particles
    • B01F25/30Injector mixers
    • B01F25/31Injector mixers in conduits or tubes through which the main component flows
    • B01F25/312Injector mixers in conduits or tubes through which the main component flows with Venturi elements; Details thereof
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C02TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02FTREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F1/00Treatment of water, waste water, or sewage
    • C02F1/24Treatment of water, waste water, or sewage by flotation
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C02TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02FTREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F1/00Treatment of water, waste water, or sewage
    • C02F1/40Devices for separating or removing fatty or oily substances or similar floating material
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C02TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02FTREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F1/00Treatment of water, waste water, or sewage
    • C02F1/46Treatment of water, waste water, or sewage by electrochemical methods
    • C02F1/4608Treatment of water, waste water, or sewage by electrochemical methods using electrical discharges
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C02TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02FTREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F1/00Treatment of water, waste water, or sewage
    • C02F1/72Treatment of water, waste water, or sewage by oxidation
    • C02F1/78Treatment of water, waste water, or sewage by oxidation with ozone
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05HPLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
    • H05H1/00Generating plasma; Handling plasma
    • H05H1/24Generating plasma
    • H05H1/2406Generating plasma using dielectric barrier discharges, i.e. with a dielectric interposed between the electrodes
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01FMIXING, e.g. DISSOLVING, EMULSIFYING OR DISPERSING
    • B01F2101/00Mixing characterised by the nature of the mixed materials or by the application field
    • B01F2101/305Treatment of water, waste water or sewage
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C02TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02FTREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F2303/00Specific treatment goals
    • C02F2303/26Reducing the size of particles, liquid droplets or bubbles, e.g. by crushing, grinding, spraying, creation of microbubbles or nanobubbles
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02WCLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES RELATED TO WASTEWATER TREATMENT OR WASTE MANAGEMENT
    • Y02W10/00Technologies for wastewater treatment
    • Y02W10/10Biological treatment of water, waste water, or sewage

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Water Supply & Treatment (AREA)
  • Hydrology & Water Resources (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Environmental & Geological Engineering (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Electrochemistry (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Treatment Of Water By Oxidation Or Reduction (AREA)

Abstract

본 발명은 기체혼합관의 둘레에 다수의 기체가 흡입되는 통로가 분산되어 제작되는 과정이 보다 용이하게 이루어질 수 있고, 그에 따른 기체의 확산이 수중에서 보다 원활히 이루어질 수 있는 구조의 수중 기체확산기를 제공한다. 본 발명은, 기체혼합관의 일단부에, 상기 기체혼합관의 외면에서부터 고랑형상으로 내부의 통로까지 연결된 기체흡입홈이 형성되고, 기체혼합관의 일단부가 일측결합부재의 결합홈에 삽입되어 일측결합부재가 기체흡입홈을 외측에서 덮음으로써, 기체가 외부에서 내부로 흡입되는 통로를 형성한다.The present invention provides an underwater gas diffuser having a structure in which a passage through which a plurality of gases is sucked is dispersed around a gas mixing pipe so that the manufacturing process can be more easily performed, and the gas can be diffused more smoothly in the water accordingly. do. In the present invention, at one end of the gas mixing pipe, a gas intake groove connected to the inner passage in a furrow shape from the outer surface of the gas mixing pipe is formed, and one end of the gas mixing pipe is inserted into the coupling groove of the one-side coupling member, By covering the gas intake groove from the outside, the coupling member forms a passage through which gas is sucked from the outside to the inside.

Description

플라즈마 수처리장치 등에 사용되는 수중 기체확산기{GAS DIFFUSER IN THE WATER FOR PLASMA TYPE WATER TREATMENT DEVICE AND THE LIKE}Underwater gas diffuser used in plasma water treatment devices {GAS DIFFUSER IN THE WATER FOR PLASMA TYPE WATER TREATMENT DEVICE AND THE LIKE}

본 발명은 플라즈마 수처리장치 등에 사용되는 수중 기체확산기에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 플라즈마 처리하여 오존, 라디칼 물질 등이 포함된 기체를 오염수의 수중에 확산시켜 오염물질을 산화 및 분해시키는 플라즈마 수처리장치, 그러한 기체를 물에 포함시켜 살균력을 가진 살균수를 제조하는 살균수 제조장치, 공기기포를 수중에 확산시켜 수중의 오염물질을 부유시킴으로써 제거하는 하수처리시설 등, 수중에 기체를 확산시키는 작용이 필요한 장치에 사용될 수 있는 수중 기체확산기에 관한 것이다.The present invention relates to an underwater gas diffuser used in a plasma water treatment device, etc., and more particularly, a plasma water treatment device that oxidizes and decomposes contaminants by diffusing gas containing ozone, radical substances, etc. into contaminated water through plasma treatment. , a sterilizing water manufacturing device that produces sterilizing water with sterilizing power by including such a gas in water, a sewage treatment facility that diffuses air bubbles into water to float and removes pollutants in water, etc. It relates to an underwater gas diffuser that can be used in necessary devices.

공업폐수 등 오염수를 효율적으로 정화하고, 박테리아 등의 미생물을 제거하기 위한 수처리방법으로써, 공기를 플라즈마처리하여 오존, 라디칼 물질 등을 포함시킨 기체를 미세기포형태로 수중에 확산시킴으로써, 오염수를 정화하는 방법이 알려져 있다.As a water treatment method for efficiently purifying contaminated water such as industrial wastewater and removing microorganisms such as bacteria, plasma treatment of air and diffusion of gas containing ozone and radical substances into the water in the form of fine bubbles is used to treat contaminated water. Methods of purification are known.

도 1은 그와 같이 수처리가 이루어지는 장치에 관한 것으로서, 한국등록특허공보 제10-1882424호에 기재된 것이다.1 relates to a device for treating water as described above, and is described in Korean Patent Registration No. 10-1882424.

도 1을 참고하면, 플라즈마를 발생시키고 공기를 통과시켜 처리하는 플라즈마처리기(1)와, 그 플라즈마처리기(1)에서 처리되어 생성된 기체를 수중에 확산시키는 기체확산기(6)를 포함한다.Referring to FIG. 1, it includes a plasma processor 1 that generates plasma and passes air through the plasma processor 1, and a gas diffuser 6 that diffuses the gas generated in the plasma processor 1 into water.

플라즈마처리기(1)에서는 유전체관(2)의 주위에 감긴 코일형상의 방전극(3)에서 플라즈마방전이 발생하고, 흡입구(5)를 통해 흡입되는 공기가 코일형상의 방전극(3)의 주위를 통과하면서 플라즈마처리가 이루어지며, 그에 따라 오존, 라디칼물질 등이 포함된 기체가 생성된다.In the plasma processor 1, a plasma discharge is generated in the coil-shaped discharge electrode 3 wound around the dielectric tube 2, and air sucked through the suction port 5 passes around the coil-shaped discharge electrode 3. While plasma treatment is performed, gas containing ozone, radical substances, etc. is generated accordingly.

생성된 기체는 연결관(9)을 통해 기체확산기(6)로 유입되어, 유동하는 오염수의 수중에서 확산될 수 있고, 수중에 확산된 기체는 오염수의 오염물질과 접촉하여 산화, 분해시킴으로써, 정화작용이 이루어질 수 있다.The generated gas flows into the gas diffuser 6 through the connecting pipe 9 and can be diffused in the flowing contaminated water, and the gas diffused in the water comes into contact with pollutants in the contaminated water to oxidize and decompose them. , purification can take place.

도 2는 상기 기체확산기(6)의 구성을 보다 상세히 도시하고 있다.2 shows the configuration of the gas diffuser 6 in more detail.

상기 기체확산기(6)는, 유동하는 단면적이 감소하여 좁아진 유로(7a)를 가진 기체혼합관(7)에서, 오염수의 유동속도가 현저히 증가함에 의해 압력강하가 동반되고, 그 압력강하는 기체흡입공(8)을 통하여 기체가 수중으로 자연흡입되도록 한다.In the gas diffuser 6, in the gas mixing pipe 7 having the flow path 7a narrowed due to the decrease in the cross-sectional area of the flow, a pressure drop is accompanied by a significant increase in the flow rate of the contaminated water, and the pressure drop is accompanied by a gas Through the suction hole 8, the gas is naturally sucked into the water.

기체흡입공(8)을 통하여 자연흡입된 기체는 오염수로 이동하는 시점에서 미세버블의 형태로 수중에 혼합되어 오염수와 함께 유동하면서 확산이 이루어진다.The gas naturally sucked through the gas suction hole 8 is mixed in the water in the form of fine bubbles at the time of moving to the contaminated water, and diffusion occurs while flowing with the contaminated water.

위의 구성을 살펴보면, 처리대상수인 오염수가 통과하고 다수의 기체흡입공(8)이 형성된 기체혼합관(7)은, 곡면인 외주면 둘레를 따라 미세하게 관통된 다수의 기체흡입공(8)으로 인해 그 제작이 매우 까다로운 문제가 있다.Looking at the above configuration, the gas mixing pipe 7 through which contaminated water, which is the water to be treated, and formed with a plurality of gas suction holes 8, has a plurality of gas suction holes 8 finely penetrated along the outer circumference of the curved surface. Due to this, there is a very difficult problem in its production.

즉, 관체 형상으로서 곡면인 기체혼합관(7)의 둘레에 다수의 기체흡입공(8)을 미세한 직경으로 각각 드릴링 등으로 가공하고 다수의 지점에 분산시켜야 하므로, 통상의 공작기계에서 가공이 까다롭고 제작의 효율도 저하하는 문제가 있다.That is, since a plurality of gas intake holes 8 with a fine diameter are processed by drilling or the like and dispersed at multiple points around the gas mixing pipe 7, which is a tubular shape and has a curved surface, it is difficult to process in a normal machine tool. There is a problem that the production efficiency is also reduced.

본 발명은 상기와 같은 관점에서 안출된 것으로, 본 발명의 목적은 기체혼합관의 둘레에 다수의 기체가 흡입되는 통로가 분산되어 제작되는 과정이 보다 용이하게 이루어질 수 있고, 그에 따른 기체의 확산이 수중에서 보다 원활히 이루어질 수 있는 구조의 수중 기체확산기를 제공하는 것이다.The present invention has been made in view of the above, and an object of the present invention is to make the process of distributing a plurality of passages through which a plurality of gases are sucked around the gas mixing pipe can be made more easily, and the diffusion of the gas accordingly It is to provide an underwater gas diffuser having a structure that can be performed more smoothly underwater.

이에 따라, 본 발명에 따른 수중 기체확산기는, 내부에 처리대상수통로가 형성된 관상의 기체혼합관과, 상기 기체혼합관의 일단부가 삽입되는 결합홈이 형성되고 내부에 상기 결합홈에 연결된 처리대상수유로가 형성되며, 상기 기체혼합관의 일단부가 상기 결합홈에 삽입된 상태에서 상기 처리대상수통로와 상기 처리대상수유로를 연통시켜 처리대상수를 유동시키는 일측결합부재를 포함하되, 상기 기체혼합관의 일단부에는, 상기 기체혼합관의 외면에서부터 고랑형상으로 상기 처리대상수통로까지 연결된 기체흡입홈이 형성되고, 상기 기체혼합관의 일단부가 상기 결합홈에 삽입되어 상기 일측결합부재가 상기 기체흡입홈을 덮음으로써, 상기 처리대상수통로 및 처리대상수유로를 통한 처리대상수의 연속적 유동 시, 상기 기체혼합관의 외부에서 기체가 상기 기체흡입홈을 통해 흡입되어 처리대상수에 혼합되는 것을 특징으로 한다.Accordingly, the underwater gas diffuser according to the present invention has a tubular gas mixture pipe having a water passage to be treated therein, a coupling groove into which one end of the gas mixture pipe is inserted, and a treatment target connected to the coupling groove inside. A water flow path is formed, and a one-side coupling member for flowing the water to be treated by communicating the water flow path to be treated with the water flow path to be treated in a state in which one end of the gas mixing pipe is inserted into the coupling groove; At one end of the mixing pipe, a gas suction groove connected from an outer surface of the gas mixing pipe to the water passage to be treated in a furrow shape is formed, and one end of the gas mixing pipe is inserted into the coupling groove so that the one-side coupling member is formed. By covering the gas suction groove, when the water to be treated continuously flows through the passage of the water to be treated and the water to be treated, the gas is sucked from the outside of the gas mixing pipe through the gas suction groove and mixed with the water to be treated. characterized by

또한, 본 발명에 따른 수중 기체확산기는, 상기 기체흡입홈이, 상기 기체혼합관의 일단부 중, 외주면에 상기 기체혼합관의 길이방향으로 형성된 외측홈부와, 전면에 상기 외측홈부와 연속되도록 경로가 꺾여 형성됨으로써 상기 처리대상수통로와 연통되는 내측홈부를 포함하는 것을 다른 특징으로 한다.In addition, the underwater gas diffuser according to the present invention has a path such that the gas intake groove is continuous with the outer groove formed in the longitudinal direction of the gas mixing pipe on the outer circumferential surface of one end of the gas mixing pipe and the outer groove on the front surface. It is formed by being bent to include an inner groove communicating with the passage of the water to be treated.

또한, 본 발명에 따른 수중 기체확산기는, 상기 기체흡입홈이, 상기 처리대상수통로의 둘레를 따라 일정간격으로 복수개가 설치되고, 복수개의 상기 기체흡입홈은, 상기 처리대상수통로의 단면을 기준으로 볼 때, 하나의 회전방향을 따라 편향된 상태로 상기 처리대상수통로에 연결됨으로써, 기체가 소용돌이 형상으로 처리대상수에 진입하는 것을 또 다른 특징으로 한다.In addition, in the underwater gas diffuser according to the present invention, a plurality of gas suction grooves are installed at regular intervals along the circumference of the water passage to be treated, and the plurality of gas suction grooves form a cross section of the water passage to be treated. As a standard, another feature is that gas enters the water to be treated in a spiral shape by being connected to the passage of the water to be treated in a biased state along one rotational direction.

한편, 다른 관점에서 본 발명에 따른 수중 기체확산기는, 내부에 처리대상수통로가 형성된 관상의 기체혼합관과, 상기 처리대상수통로와 연결되는 처리대상수유로와 상기 기체혼합관의 일단부가 삽입되도록 상기 처리대상수유로의 단부에 형성된 결합홈이 형성된 일측결합부재와, 상기 기체혼합관을 감싸고 상기 기체혼합관과의 사이의 공간에 기체를 공급하기 위한 기체공급공이 형성된 커버부재를 포함하되, 상기 기체혼합관의 일단부에는, 고랑형상이 외면에서부터 전면을 통해 상기 처리대상수통로까지 연결된 기체흡입홈이 형성되고, 상기 기체혼합관의 일단부가 상기 결합홈에 삽입되어 상기 일측결합부재가 상기 기체흡입홈을 덮음으로써, 상기 기체혼합관의 외부의 기체를 내부로 흡입하는 통로가 형성되는 것을 특징으로 한다.On the other hand, from another point of view, the underwater gas diffuser according to the present invention includes a tubular gas mixture pipe having a water passage to be treated therein, a water passage to be treated connected to the water passage to be treated, and one end of the gas mixture pipe being inserted. Preferably, one side coupling member having a coupling groove formed at an end of the water passage to be treated, and a cover member having a gas supply hole for surrounding the gas mixing pipe and supplying gas to a space between the gas mixing pipe, At one end of the gas mixing pipe, a gas suction groove connected to the water passage to be treated is formed in a groove shape from an outer surface through a front surface, and one end of the gas mixing pipe is inserted into the coupling groove so that the one side coupling member is formed. By covering the gas intake groove, it is characterized in that a passage for sucking gas from the outside of the gas mixing tube into the inside is formed.

또한, 본 발명에 따른 수중 기체확산기는, 상기 기체혼합관의 일단부에 상기 기체혼합관의 중간부보다 외경이 큰 머리부가 형성되고, 상기 기체흡입홈은, 상기 머리부의 외주면에서 상기 기체혼합관의 길이방향을 따라 상기 머리부를 통과하도록 형성된 외측홈부와, 상기 외측홈부와 연속되도록 경로가 꺾여 상기 머리부의 전면에 형성됨으로써 상기 처리대상수통로와 연통되는 내측홈부를 포함하며, 상기 머리부는 상기 결합홈의 내주면에 밀착하는 것을 다른 특징으로 한다.In addition, in the underwater gas diffuser according to the present invention, a head having a larger outer diameter than a middle portion of the gas mixing pipe is formed at one end of the gas mixing pipe, and the gas intake groove is formed on the outer circumferential surface of the head. An outer groove formed to pass through the head along the longitudinal direction of the head, and an inner groove that is formed on the front surface of the head by being bent so that the path continues with the outer groove and communicates with the water passage to be treated. Another feature is that it adheres to the inner circumferential surface of the groove.

한편, 또 다른 관점에서 본 발명에 따른 수중 기체확산기는, 내부에 처리대상수통로가 형성된 관상의 기체혼합관과, 상기 기체혼합관의 일단부가 삽입되는 결합홈이 형성되고 내부에 상기 결합홈에 연결된 처리대상수유로가 형성되며, 상기 기체혼합관의 일단부가 상기 결합홈에 삽입된 상태에서 상기 처리대상수통로와 상기 처리대상수유로를 연통시켜 처리대상수를 유동시키는 일측결합부재를 포함하되, 상기 일측결합부재에는, 상기 일측결합부재의 외면에서부터 고랑형상으로 상기 처리대상수유로까지 연결된 기체흡입홈이 형성되고, 상기 기체혼합관의 일단부가 상기 결합홈에 삽입되어 상기 기체혼합관의 일단부가 상기 기체흡입홈을 덮음으로써, 상기 처리대상수통로 및 처리대상수유로를 통한 처리대상수의 연속적 유동 시, 상기 기체혼합관의 외부에서 기체가 상기 기체흡입홈을 통해 흡입되어 처리대상수에 혼합되는 것을 특징으로 한다.On the other hand, in another aspect, the underwater gas diffuser according to the present invention has a tubular gas mixing pipe having a passage for the water to be treated therein, and a coupling groove into which one end of the gas mixing pipe is inserted, and is formed inside the coupling groove. A connected water passage to be treated is formed, and one side coupling member for flowing the water to be treated by communicating the water passage to be treated with the water passage to be treated in a state in which one end of the gas mixing pipe is inserted into the coupling groove, , In the one side coupling member, a gas suction groove connected to the target water passage in a furrow shape from an outer surface of the one side coupling member is formed, and one end of the gas mixing pipe is inserted into the coupling groove so that one end of the gas mixing pipe By covering the gas inlet groove, gas is sucked from the outside of the gas mixing pipe through the gas inlet groove to enter the water to be treated when the water to be treated continuously flows through the passage of the water to be treated and the water to be treated. characterized by mixing.

또한, 전술한 수중 기체확산기는, 상기 기체공급공에 위치하고 상기 기체혼합관의 외면에 접촉하는 유전체볼과, 상기 기체공급공에 결합되어 내부통로를 통해 상기 유전체볼 주위로 기체가 공급되도록 하는 기체공급관과, 상기 기체공급관의 내부통로에 위치하는 것으로서 상기 기체혼합관이 위치하는 측의 반대측에서 상기 유전체볼과 접촉하는 방전극과, 상기 방전극과 상기 기체혼합관에 각각 연결되어 상기 방전극과 상기 기체혼합관 사이에 플라즈마를 발생시키는 전원을 포함함으로써, 상기 방전극에서 발생한 플라즈마가 상기 유전체볼의 표면을 타고 분산된 상태로 발생하도록 한 것을 또 다른 특징으로 한다.In addition, the above-described underwater gas diffuser, a dielectric ball located in the gas supply hole and in contact with the outer surface of the gas mixing pipe, and a gas coupled to the gas supply hole so that gas is supplied around the dielectric ball through an internal passage A supply pipe, a discharge electrode located in the inner passage of the gas supply pipe and contacting the dielectric ball on the side opposite to the side where the gas mixture pipe is located, and connected to the discharge electrode and the gas mixture pipe, respectively, to mix the discharge electrode and the gas mixture Another feature is that by including a power source for generating plasma between the tubes, the plasma generated from the discharge electrode is generated in a dispersed state along the surface of the dielectric ball.

본 발명에 따른 수중 기체확산기는, 기체혼합관의 일단부에 기체혼합관의 외면에서부터 고랑형상으로 처리대상수통로까지 연결된 기체흡입홈이 형성되고, 기체혼합관의 일단부가 결합홈에 삽입되어 일측결합부재가 기체흡입홈을 외측에서 덮어 기체가 흡입되는 통로를 형성하고 있다.In the underwater gas diffuser according to the present invention, a gas suction groove is formed at one end of the gas mixing pipe from the outer surface of the gas mixing pipe to the water passage to be treated in a furrow shape, and one end of the gas mixing pipe is inserted into the coupling groove to The coupling member covers the gas intake groove from the outside to form a passage through which the gas is sucked.

이러한 구성은, 기체혼합관의 둘레에 다수의 미세한 구멍을 각각 드릴링에 의해 별도 가공하거나 전용 가공기계를 제작할 필요가 없이, 기체혼합관의 일단부의 외면에 손쉬운 가공인 고랑형상을 형성하는 방식으로 제작이 가능하므로, 기체혼합관의 둘레에 다수의 기체가 흡입되는 통로가 분산되어 제작되는 과정이 보다 용이하게 이루어질 수 있다. 즉, 표면에 고랑형상을 형성하는 가공은 그 가공부위가 미세할지라도 비교적 용이하고 신속히 가공이 가능하다.This configuration is manufactured by forming a furrow shape, which is an easy process, on the outer surface of one end of the gas mixing pipe without the need to separately process a plurality of fine holes around the gas mixing pipe by drilling or to manufacture a dedicated processing machine. Since this is possible, a process of distributing and manufacturing a passage through which a plurality of gases are sucked around the gas mixing pipe can be more easily performed. That is, the process of forming a furrow shape on the surface can be processed relatively easily and quickly even if the processed part is fine.

또한, 그러한 구조에 따른 기체의 확산이 수중에서 매우 원활히 이루어질 수 있다.In addition, diffusion of gas according to such a structure can be made very smoothly in water.

또한, 본 발명에 따른 수중 기체확산기는, 기체흡입홈이 처리대상수통로의 둘레를 따라 일정간격으로 복수개가 설치되고, 기체흡입홈이 처리대상수통로의 단면을 기준으로 볼 때, 하나의 회전방향을 따라 편향된 상태로 처리대상수통로에 연결됨으로써, 기체가 소용돌이 형상으로 처리대상수에 진입하도록 구성하고 있다.In addition, in the underwater gas diffuser according to the present invention, a plurality of gas suction grooves are installed at regular intervals along the circumference of the water passage to be treated, and when the gas suction grooves are viewed from the cross section of the water passage to be treated as a standard, one rotation By being connected to the passage of the water to be treated in a deflected state along the direction, the gas enters the water to be treated in a spiral shape.

이러한 구성은, 처리대상수가 유동해 가는 과정에서 미세기포형태의 기체와 처리대상수가 함께 회전하면서 전체적으로 고른 혼합이 이루어지도록 유도할 수 있는 바, 처리대상수 중의 오염물질과 오존, 라디칼물질 등의 접촉을 촉진하거나, 처리대상수의 수중에 미세기포형태의 기체가 고르게 혼합되어 분포하도록 유도할 수 있다. This configuration can lead to even mixing as a whole while the gas in the form of fine bubbles and the water to be treated rotate together in the process of flowing the water to be treated, so that the contact of pollutants in the water to be treated with ozone, radical substances, etc. can be promoted, or the gas in the form of fine bubbles can be evenly mixed and distributed in the water of the treated water.

또한, 본 발명에 따른 수중 기체확산기는, 커버부재의 기체공급공에 유전체볼이 위치하고 방전극을 설치하여 플라즈마방전시킴으로써, 기체공급공으로 유입되는 기체를 플라즈마처리하도록 구성하고 있다.In addition, the underwater gas diffuser according to the present invention is configured to plasma-treat the gas flowing into the gas supply hole by placing a dielectric ball in the gas supply hole of the cover member and installing a discharge electrode to discharge plasma.

이러한 구성은, 방전극에서 발생한 플라즈마가 유전체볼의 표면을 타고 분산된 상태로 발생하는 것이므로, 유전체볼 주위를 통과하는 기체가 플라즈마와 넓은 면적에서 접촉하여 높은 플라즈마처리효율을 가질 수 있다.In this configuration, since the plasma generated at the discharge electrode is generated in a dispersed state along the surface of the dielectric ball, the gas passing around the dielectric ball contacts the plasma in a large area, so that high plasma treatment efficiency can be obtained.

도 1 및 도 2는 종래 플라즈마처리된 기체를 미세기포형태로 수중에 확산시키는 수처리장치의 구성설명도
도 3은 본 발명의 실시예에 따른 수중 기체확산기의 구성을 도시하는 분해사시도
도 4는 본 발명의 실시예에 따른 수중 기체확산기의 구성을 도시하는 단면구성도
도 5의 (a) 및 (b)는 본 발명의 실시예에 따른 수중 기체확산기에서 기체흡입홈이 설치된 부분의 구성을 도시하는 단면구성도
도 6은 본 발명의 실시예에 따른 수중 기체확산기에서 기체흡입홈이 일 회전방향으로 편향되게 설치되어 소용돌이 형상으로 기체가 유입되는 작용을 설명하는 구성 및 작용설명도
도 7은 본 발명의 다른 실시예에 따른 수중 기체확산기로서, 기체혼합관의 일단부에만 기체흡입홈이 설치된 구성을 도시하는 단면구성도
도 8은 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 수중 기체확산기로서, 일측결합부재에 기체흡입홈이 설치된 구성을 도시하는 사시구성도
도 9는 도 8의 수중 기체확산기의 단면구성을 도시하는 단면구성도
도 10은 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 수중 기체확산기로서, 커버부재의 기체공급공에 유전체볼이 위치하고 방전극을 설치하여 플라즈마방전시키는 구성을 도시하는 단면구성도
도 11은 도 10에서 유전체볼 및 방전극이 설치된 부분 및 플라즈마가 발생하는 작용을 설명하는 구성 및 작용설명도
도 12는 도 11에서 유전체볼이 구비되지 않은 구성 및 작용을 설명하는 설명도
1 and 2 are configuration explanatory diagrams of a water treatment device for diffusing conventional plasma-treated gas into water in the form of fine bubbles.
Figure 3 is an exploded perspective view showing the configuration of an underwater gas diffuser according to an embodiment of the present invention
Figure 4 is a cross-sectional view showing the configuration of an underwater gas diffuser according to an embodiment of the present invention
Figure 5 (a) and (b) is a cross-sectional view showing the configuration of the portion in which the gas suction groove is installed in the underwater gas diffuser according to an embodiment of the present invention
Figure 6 is a configuration and operation explanatory diagram explaining the action in which the gas is introduced in a spiral shape in the underwater gas diffuser according to an embodiment of the present invention, in which the gas suction groove is installed to be biased in one rotational direction
7 is an underwater gas diffuser according to another embodiment of the present invention, a cross-sectional view showing a configuration in which a gas intake groove is installed only at one end of a gas mixing pipe;
8 is an underwater gas diffuser according to another embodiment of the present invention, a perspective view showing a configuration in which a gas intake groove is installed on one side coupling member
Figure 9 is a cross-sectional view showing the cross-sectional configuration of the underwater gas diffuser of Figure 8
10 is an underwater gas diffuser according to another embodiment of the present invention, a cross-sectional view showing a configuration in which a dielectric ball is located in a gas supply hole of a cover member and a discharge electrode is installed to discharge plasma.
Figure 11 is a configuration and operation explanatory diagram explaining the action of generating plasma and the portion where the dielectric ball and discharge electrode are installed in FIG. 10
Figure 12 is an explanatory view explaining the configuration and operation of the dielectric ball is not provided in Figure 11

이하, 본 발명의 실시예를 도면을 참고하여 상세히 설명한다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

도 3 내지 도 5를 참조하면, 본 발명의 실시예에 따른 수중 기체확산기는, 내부에 처리대상수통로(15)가 형성된 관상의 기체혼합관(10)과, 상기 처리대상수통로(15)와 연결되는 처리대상수유로(23)와 기체혼합관(10)의 일단부가 삽입되도록 처리대상수유로(23)의 단부에 형성된 결합홈(21)이 형성된 일측결합부재(20)와, 상기 기체혼합관(10)을 감싸고 기체혼합관(10)과의 사이의 공간(33)에 기체를 공급하기 위한 기체공급공(32)이 형성된 커버부재(30)를 포함한다.3 to 5, the underwater gas diffuser according to an embodiment of the present invention includes a tubular gas mixing pipe 10 having a water passage 15 therein, and a water passage 15 to be treated. One side coupling member 20 having a coupling groove 21 formed at the end of the water flow path 23 to be treated so that one end of the water flow path 23 and the gas mixing pipe 10 connected to the water flow path 23 to be treated is inserted, and the gas A cover member 30 having a gas supply hole 32 for supplying gas to the space 33 between the gas mixing pipe 10 and the gas mixing pipe 10 is formed.

상기 기체혼합관(10)은 내부에 처리대상수통로(15)가 형성된 관상의 부재로서, 처리대상수통로(15)를 통과하는 처리대상수에 기체를 공급하여 처리대상수와 혼합시키기 위한 기체흡입홈(12)이 형성되어 있다.The gas mixing pipe 10 is a tubular member having a passage for the water to be treated 15 formed therein, and gas is supplied to the water to be treated passing through the passage for the water to be treated 15 and mixed with the water to be treated. A suction groove 12 is formed.

여기서, 기체는 수중에 혼합시켜 분산시키고자 하는 것으로서 기체를 수중에 분산시키는 목적에 따라 플라즈마처리된 공기가 될 수 있고, 단순히 대기 중에서 흡입한 공기일 수도 있다.Here, the gas is to be mixed and dispersed in water, and may be plasma-treated air depending on the purpose of dispersing the gas in water, or simply air inhaled from the atmosphere.

상기 기체혼합관(10)의 일단부에는 일측결합부재(20)가 결합되고, 기체혼합관(10)의 타단부에는 타측결합부재(40)가 결합된다.One side coupling member 20 is coupled to one end of the gas mixing pipe 10, and the other side coupling member 40 is coupled to the other end of the gas mixing pipe 10.

이에 따라, 타측결합부재(40)의 처리대상수유로(43)와 기체혼합관(10)의 처리대상수통로(15) 및 일측결합부재(20)의 처리대상수유로(23)가 순차로 연결되어 연통됨으로써 처리대상수가 연속적으로 유동할 수 있다.Accordingly, the treatment target water passage 43 of the other coupling member 40, the treatment target water passage 15 of the gas mixing pipe 10, and the treatment target water passage 23 of the one side coupling member 20 are sequentially By being connected and communicated with each other, the number of objects to be treated can continuously flow.

상기 일측결합부재(20)는 처리대상수통로(15)와 연결되는 처리대상수유로(23)와, 기체혼합관(10)의 일단부가 삽입되도록 처리대상수유로(23)의 단부에 형성된 결합홈(21)이 형성되어 있다.The one-side coupling member 20 is coupled to the treatment target water passage 23 connected to the treatment target water passage 15 and formed at the end of the treatment target water passage 23 so that one end of the gas mixing pipe 10 is inserted. A groove 21 is formed.

상기 결합홈(21)은 처리대상수유로(23)의 단부에서 처리대상수유로(23)보다 큰 직경이 되는 홈을 가공한 부분으로서, 처리대상수유로(23)가 중심에 위치하도록 형성되어 처리대상수유로(23)와 결합홈(21)은 연결되어 있다.The coupling groove 21 is a part obtained by processing a groove having a larger diameter than the target water channel 23 at the end of the target water channel 23 to be treated, and is formed so that the target water channel 23 is located in the center. The processing target water passage 23 and the coupling groove 21 are connected.

기체혼합관(10)의 일단부가 결합홈(21)에 삽입되면, 처리대상수유로(23)와 처리대상수통로(15)가 서로 연결되는 결합이 이루어진다.When one end of the gas mixing pipe 10 is inserted into the coupling groove 21, a coupling in which the water passage 23 to be treated and the water passage 15 to be treated are connected to each other is made.

참고로, 본 명세서에서 기체혼합관(10)의 일단부는, 도면에서 좌측단부로 예시되어 있을 뿐이고 도면에서 도시된 좌측단부를 반드시 의미하는 것은 아니므로, 도면에 도시된 우측단부를 일단부로 볼 수도 있음은 물론이다.For reference, one end of the gas mixing pipe 10 in this specification is only illustrated as the left end in the drawings and does not necessarily mean the left end shown in the drawings, so the right end shown in the drawings may be regarded as one end. Of course there is.

상기 기체혼합관(10)의 일단부에는, 고랑형상 또는 골(골짜기)형상이 외면에서부터 전면을 통해 상기 처리대상수통로(15)까지 연결된 기체흡입홈(12)이 형성되고, 기체혼합관(10)의 일단부가 결합홈(21)에 삽입되어 일측결합부재(20)가 기체흡입홈(12)을 외측에서 덮음으로써, 상기 기체혼합관(10)의 외부의 기체를 내부로 흡입하는 통로가 형성된다.At one end of the gas mixing pipe 10, a gas suction groove 12 connected to the water passage 15 to be treated is formed in a groove shape or valley (valley) shape from the outer surface through the front surface, and the gas mixing pipe ( One end of 10) is inserted into the coupling groove 21 and the one side coupling member 20 covers the gas intake groove 12 from the outside, so that the passage for sucking the gas from the outside of the gas mixing pipe 10 into the inside is formed

도 3의 확대된 부분을 참고하면, 기체혼합관(10)의 일단부에는, 기체혼합관(10)의 중간부보다 외경이 큰 머리부(11)가 형성되어 포함되어 있는 것이 바람직하고, 머리부(11)의 외주면 및 전면에 기체흡입홈(12)이 형성된다.Referring to the enlarged portion of FIG. 3, it is preferable that one end of the gas mixing pipe 10 includes a head portion 11 having a larger outer diameter than the middle portion of the gas mixing pipe 10. Gas intake grooves 12 are formed on the outer circumferential surface and the front surface of the portion 11.

즉, 기체흡입홈(12)은 머리부(11)의 외주면에서 기체혼합관(10)의 길이방향을 따라 머리부(11)를 통과하도록 형성된 외측홈부(12a)와, 상기 외측홈부(12a)와 연속되도록 경로가 꺾여 상기 머리부(11)의 전면에 형성됨으로써 처리대상수통로(15)와 연통되는 내측홈부(12b)를 포함하여, 기체혼합관(10)의 외면에서부터 처리대상수통로(15)까지 연결된다.That is, the gas intake groove 12 includes an outer groove portion 12a formed to pass through the head portion 11 along the longitudinal direction of the gas mixing pipe 10 on the outer circumferential surface of the head portion 11, and the outer groove portion 12a The passage is formed on the front surface of the head portion 11 so as to be continuous with the inner groove 12b communicating with the water passage 15 to be treated from the outer surface of the gas mixture pipe 10 15) is connected.

또한, 기체혼합관(10)의 일단부는 일측결합부재(20)의 결합홈(21)에 끼워진 상태에서 머리부(11)가 결합홈(21)의 내주면에 밀착하여, 일측결합부재(20)가 기체흡입홈(12)을 외측에서 덮은 상태가 될 수 있다.In addition, in a state where one end of the gas mixing pipe 10 is fitted into the coupling groove 21 of the one side coupling member 20, the head 11 is in close contact with the inner circumferential surface of the coupling groove 21, and the one side coupling member 20 The gas intake groove 12 may be covered from the outside.

이에 따라, 기체흡입홈(12)이 전체적으로 외측을 향하는 면이 개방된 고랑형상의 구조에서, 일측결합부재(20)가 외측을 덮어 기체혼합관(10)의 내외부를 연결하는 동굴과 같은 통로의 구조로 전환될 수 있다.Accordingly, in the furrow-shaped structure in which the surface of the gas intake groove 12 is opened to the outside as a whole, one side coupling member 20 covers the outside of the passage such as a cave connecting the inside and outside of the gas mixing pipe 10. structure can be converted.

이에 따라, 상기 처리대상수통로(15) 및 처리대상수유로(23)를 통한 처리대상수의 연속적 유동 시, 그 유동속도로 인한 압력강하로 기체혼합관(10)의 외부에서 기체가 기체흡입홈(12)을 통해 흡입되어 처리대상수에 혼합될 수 있다.Accordingly, when the water to be treated continuously flows through the passage for water to be treated 15 and the water flow passage 23 to be treated, gas is sucked from the outside of the gas mixing pipe 10 due to a pressure drop due to the flow rate. It can be sucked through the groove 12 and mixed with the water to be treated.

처리대상수의 압력강하를 보다 크게 하여 기체의 흡입량을 보다 높이기 위해, 처리대상수통로(15)를 통과하는 처리대상수의 속도를 높일 필요가 있고, 이를 위해 타측결합부재(40)의 처리대상수유로(43)를 처리대상수통로(15)보다 큰 직경에서부터 접근할수록 점차 직경이 작아지는 테이퍼(taper) 형상으로 형성할 수 있다.In order to increase the gas intake by increasing the pressure drop of the water to be treated, it is necessary to increase the speed of the water to be treated through the passage of the water to be treated. The water supply passage 43 may be formed in a taper shape in which the diameter gradually decreases as it approaches from a larger diameter than the treatment target water passage 15 .

이는 처리대상수가 직경이 점차 감소하는 유로를 통과하면서 동일한 유량이 통과하여야 하므로 그 통과속도는 점차 증가하도록 한 것이다.This is so that the passage speed is gradually increased because the same flow rate must pass through the passage whose diameter is gradually reduced.

또한, 도 3 및 도 6을 참조하면, 상기 기체흡입홈(12)은, 처리대상수통로(15)의 둘레를 따라 일정간격으로 복수개가 설치되고, 상기 내측홈부(12b)는, 처리대상수통로(15)의 단면을 기준으로 볼 때, 하나의 회전방향을 따라 편향된 상태로 처리대상수통로(15)에 연결된다.In addition, referring to FIGS. 3 and 6 , a plurality of gas suction grooves 12 are installed at regular intervals along the circumference of the water passage 15 to be treated, and the inner groove portion 12b is disposed along the circumference of the water to be treated passage 15. When viewing the cross section of the furnace 15 as a reference, it is connected to the treatment target water passage 15 in a deflected state along one rotational direction.

이에 따라, 기체흡입홈(12)을 통해 흡입되는 기체가 처리대상수에 혼합되도록 유입될 때, 소용돌이 형상으로 유입되면서 그 유입되는 속도에 의해 처리대상수를 일방향으로 회전시킬 수 있고, 처리대상수가 유동해 가는 과정에서 미세기포형태의 기체와 처리대상수가 함께 회전하면서 전체적으로 고른 혼합이 이루어질 수 있다.Accordingly, when the gas sucked through the gas suction groove 12 flows in to be mixed with the water to be treated, the water to be treated can be rotated in one direction by the inflow speed while flowing in a spiral shape, and the water to be treated can be rotated in one direction. In the process of flowing, the gas in the form of fine bubbles and the water to be treated rotate together, and even mixing can be achieved as a whole.

특히, 상기 기체가 플라즈마처리되어 오존, 라디칼물질 등을 포함하는 것이고, 처리대상수 중의 오염물질과 접촉하면서 정화처리하는 경우, 기체와 처리대상수가 함께 회전하면서 유동해가는 작용은 기체와 오염물질의 폭넓은 접촉을 유도하므로, 정화처리의 효율을 높일 수 있다.In particular, when the gas is plasma-treated and contains ozone, radical substances, etc., and is purified while contacting the contaminants in the water to be treated, the action of the gas and the water to be treated as they rotate together while flowing is the separation of the gas and the pollutants. Since wide contact is induced, the efficiency of purification treatment can be increased.

또한, 상기 정화처리의 목적이 아니더라도 위와 같은 작용은, 처리대상수의 수중에 미세기포형태의 기체가 단시간에 고르게 혼합되어 분포하도록 유도할 수 있다. In addition, even if it is not the purpose of the purification treatment, the above action can lead to evenly mixing and distributing the gas in the form of fine bubbles in the water of the water to be treated in a short time.

한편, 상기 커버부재(30)는 기체혼합관(10)을 감싸는 관상의 부재이고, 양단이 각각 일측결합부재(20)와 타측결합부재(40)에 각각 나선결합되어, 기체혼합관(10)과의 사이의 공간(33)을 형성한다.On the other hand, the cover member 30 is a tubular member surrounding the gas mixing pipe 10, and both ends are spirally coupled to one side coupling member 20 and the other side coupling member 40, respectively, so that the gas mixing pipe 10 It forms the space 33 between them.

또한, 플라즈마처리된 기체를 공급받기 위한 기체공급공(32)이 내외부를 연결하도록 관통형성되어 연결구(35)가 결합됨으로써 상기 공간에 플라즈마처리된 기체가 공급될 수 있다.In addition, the gas supply hole 32 for receiving the plasma-processed gas is formed through to connect the inside and the outside, and the connection hole 35 is coupled so that the plasma-treated gas can be supplied to the space.

본 실시예에서 상기 기체흡입홈(12)은 기체혼합관(10)의 일단부뿐 아니라 타단부에도 동일하게 형성되고, 기체혼합관(10)의 타단부가 삽입되는 결합홈(41)이 타측결합부재(40)에도 형성되어 기체혼합관(10)과 타측결합부재(40)가 서로 결합되도록 구성하고 있다.In this embodiment, the gas intake groove 12 is equally formed on one end as well as the other end of the gas mixing pipe 10, and the coupling groove 41 into which the other end of the gas mixing pipe 10 is inserted is the other side. It is also formed on the coupling member 40 so that the gas mixing pipe 10 and the other side coupling member 40 are coupled to each other.

이에 따라, 기체혼합관(10)과 커버부재(30) 사이의 공간(33)으로 공급된 기체는 기체혼합관(10)의 일단부 및 타단부의 각 기체흡입홈(12)을 통해 각각 처리대상수에 흡입되어 혼합될 수 있는 바, 많은 양의 기체의 혼합이 가능한 구조이다.Accordingly, the gas supplied to the space 33 between the gas mixing pipe 10 and the cover member 30 is processed through the gas suction grooves 12 at one end and the other end of the gas mixing pipe 10, respectively. Since it can be sucked into and mixed with target water, it is a structure capable of mixing a large amount of gas.

한편, 도 7은 본 발명의 다른 실시예에 따른 구성을 도시하는 것으로서, 기체혼합관(10)의 일단부에만 기체흡입홈(12)이 형성되도록 구성할 수 있다.Meanwhile, FIG. 7 shows a configuration according to another embodiment of the present invention, and the gas intake groove 12 may be formed only at one end of the gas mixing pipe 10.

도 7을 참고하면, 기체혼합관(10)은 전술한 실시예의 기체혼합관(10)과 타측결합부재(40)가 일체화되어 기체혼합관(10)을 형성하는 구조로서, 기체혼합관(10)의 일단부에 머리부(11)가 형성되고 기체흡입홈(12)을 동일하게 형성하고 있다.Referring to FIG. 7, the gas mixing pipe 10 has a structure in which the gas mixing pipe 10 of the above-described embodiment and the other coupling member 40 are integrated to form the gas mixing pipe 10, and the gas mixing pipe 10 ) The head portion 11 is formed at one end and the gas intake groove 12 is formed in the same way.

또한, 도 7과 같이, 처리대상수가 처리대상수통로(15)를 통과하는 방향을 기준으로, 처리대상수가 기체흡입홈(12)을 통과하기 직전의 유로의 직경이 통과한 직후의 유로의 직경보다 작도록 직경의 차이(d1)가 발생하는 것이 바람직하다.In addition, as shown in FIG. 7, based on the direction in which the water to be treated passes through the water passage 15, the diameter of the flow path immediately before the water to be treated passes through the gas suction groove 12 is the diameter of the flow path immediately after passing the water to be treated. It is preferable that the difference d1 in the diameter is made smaller.

이는 처리대상수가 기체흡입홈(12)이 형성된 부분을 통과하면서 기체흡입홈(12)을 통한 압력강하 및 흡입작용이 보다 원활히 이루어질 수 있도록 한 것으로서, 전술한 실시예에도 적용가능하다.This allows the water to be treated to pass through the portion where the gas suction groove 12 is formed so that the pressure drop and suction action through the gas suction groove 12 can be performed more smoothly, and is applicable to the above-described embodiment.

한편, 도 8 및 도 9는 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 수중 기체확산기의 구성을 도시하는 것으로서, 일측결합부재(20)의 결합홈(21)의 내면에 기체흡입홈(22)이 형성되도록 형성위치를 변경하고, 기체흡입홈(22)이 일측결합부재(20)의 단부의 외면에서부터 고랑형상으로 처리대상수유로(23)까지 연결되도록 한다.On the other hand, Figures 8 and 9 show the configuration of the underwater gas diffuser according to another embodiment of the present invention, the gas intake groove 22 is formed on the inner surface of the coupling groove 21 of the one side coupling member 20 The formation position is changed as much as possible, and the gas suction groove 22 is connected from the outer surface of the end of the one-side coupling member 20 to the water flow path 23 to be treated in a furrow shape.

상기 기체혼합관(10)의 일단부가 일측결합부재(20)의 결합홈(21)에 삽입되어 그 삽입되는 결합에 의해 기체혼합관(10)의 일단부가 기체흡입홈(22)을 덮어, 외부의 기체를 내부로 흡입하는 동굴과 같은 통로가 형성되도록 한다.One end of the gas mixing pipe 10 is inserted into the coupling groove 21 of the one-side coupling member 20, and one end of the gas mixing pipe 10 covers the gas suction groove 22 by the inserted coupling, A passage like a cave is formed to suck the gas into the inside.

이에 따라, 처리대상수통로(15) 및 처리대상수유로(23)를 통한 처리대상수의 연속적 유동 시, 일측결합부재(20)의 외부에서 기체가 기체흡입홈(22)을 통해 흡입되어 처리대상수에 혼합될 수 있다.Accordingly, when the water to be treated continuously flows through the passage for the water to be treated 15 and the water flow path 23 to be treated, the gas is sucked from the outside of the one-side coupling member 20 through the gas suction groove 22 for treatment. It can be mixed with target water.

한편, 도 10 및 도 11은 본 발명의 또 다른 실시예에 따라, 커버부재(30)의 기체공급공(32)에 유전체볼(51)이 위치하고 방전극(52)을 설치하여 플라즈마(61)를 발생시킴으로써, 기체공급공(32)으로 유입되는 기체를 플라즈마 처리하도록 구성한 것이다.Meanwhile, FIGS. 10 and 11 show, according to another embodiment of the present invention, a dielectric ball 51 is located in the gas supply hole 32 of the cover member 30 and a discharge electrode 52 is installed to generate plasma 61. By generating, it is configured to plasma-process the gas flowing into the gas supply hole 32.

즉, 상기 기체가 외부공기인 경우, 기체흡입홈(12)으로 유동하는 중에 플라즈마 처리되어 오존, 라디칼물질이 포함된 기체로 생성되어 유동하게 할 수 있고, 상기 기체가 플라즈마처리기에 의해 플라즈마 처리되어 유입되는 것인 경우, 기체흡입홈(12)에서 재차 플라즈마처리함으로써 기체에 포함된 오존, 라디칼물질의 농도와 활성도를 보다 높일 수 있다.That is, when the gas is outside air, it is plasma-treated while flowing into the gas intake groove 12 to generate and flow into a gas containing ozone and radical substances, and the gas is plasma-treated by the plasma processor In the case of inflow, the concentration and activity of ozone and radical substances contained in the gas can be further increased by performing plasma treatment again in the gas intake groove 12.

도 10 및 도 11을 참조하면, 위 구성은 기체공급공(32)에 위치하고 기체혼합관(10)의 외면에 접촉하는 유전체볼(51)과, 상기 기체공급공(32)에 결합되어 내부통로를 통해 유전체볼(51) 주위로 기체가 공급되도록 하는 기체공급관(53)과, 상기 기체공급관(53)의 내부통로에 위치하는 것으로서 기체혼합관(10)이 위치하는 측의 반대측에서 유전체볼(51)과 접촉하는 방전극(52)과, 상기 방전극(52)과 기체혼합관(10)에 각각 연결되어 방전극(52)과 기체혼합관(10) 사이에 플라즈마(61)를 발생시키는 전원을 포함한다.10 and 11, the above configuration is a dielectric ball 51 located in the gas supply hole 32 and in contact with the outer surface of the gas mixing pipe 10, and coupled to the gas supply hole 32 to pass through the inner passage A gas supply pipe 53 through which gas is supplied around the dielectric ball 51, and a dielectric ball ( 51) and a power source connected to the discharge electrode 52 and the gas mixture tube 10 to generate plasma 61 between the discharge electrode 52 and the gas mixture tube 10. do.

상기 유전체볼(51)은 세라믹 재질 또는 석영재질이 될 수 있고, 반드시 구의 형상일 필요는 없으며, 다면 또는 비정형의 블록의 형상이 될 수도 있다. The dielectric ball 51 may be made of a ceramic material or a quartz material, and does not necessarily have to be a sphere shape, but may be a multi-faceted or irregular block shape.

상기 전원에 의해 유전체볼(51)의 상면의 방전극(52)에서 플라즈마(61) 방전이 이루어지면, 플라즈마(61)는 유전체볼(51)의 표면을 타고 기체혼합관(10)을 향해 흘러내리면서 연면방전의 형태로 방전영역을 형성하게 된다.When the plasma 61 is discharged from the discharge electrode 52 on the upper surface of the dielectric ball 51 by the power source, the plasma 61 flows down toward the gas mixture pipe 10 along the surface of the dielectric ball 51. while forming a discharge area in the form of creepage discharge.

이는 유전체볼(51)의 표면에 플라즈마(61)가 퍼진 상태로 발생하게 되어 기체공급관(53)의 내부통로를 통해 공급되는 기체가 유전체볼(51)의 주위를 지나 커버부재(30)와 기체혼합관(10)과의 사이의 공간(33)으로 진입 시, 유전체볼(51) 표면의 넓은 범위에서 플라즈마(61)와 접촉하여 플라즈마처리될 수 있다.This occurs in a state in which the plasma 61 spreads on the surface of the dielectric ball 51, so that the gas supplied through the inner passage of the gas supply pipe 53 passes around the dielectric ball 51 and the cover member 30 and the gas When entering the space 33 between the mixing pipe 10 and the surface of the dielectric ball 51, a wide area of the surface of the dielectric ball 51 may be contacted with the plasma 61 to be plasma treated.

만일, 상기 유전체볼(51)이 존재하지 않는 경우, 도 12와 같이, 방전극(52)의 일 지점에서 기체혼합관(10)을 향해 단일 선형의 아크방전 또는 불꽃방전에 의한 플라즈마(61)가 발생하게 되므로, 통과하는 기체가 플라즈마(61)와 극히 작은 영역에서만 접촉하여, 플라즈마처리효율이 매우 낮게 된다.If the dielectric ball 51 does not exist, as shown in FIG. 12, the plasma 61 by a single linear arc discharge or spark discharge toward the gas mixture tube 10 at one point of the discharge electrode 52 Therefore, the passing gas contacts the plasma 61 only in a very small area, and the plasma processing efficiency is very low.

그러나, 본 실시예의 구성에서는 방전극(52)에서 발생한 플라즈마(61)가 유전체볼(51)의 표면을 타고 분산된 상태로 발생한 것이므로, 유전체볼(51)의 주위를 통과하는 기체가 플라즈마(61)와 넓은 면적에서 접촉하여 높은 플라즈마처리효율을 가질 수 있다.However, in the configuration of this embodiment, since the plasma 61 generated from the discharge electrode 52 is generated in a dispersed state along the surface of the dielectric ball 51, the gas passing around the dielectric ball 51 is the plasma 61 It can have high plasma treatment efficiency by contacting with a large area.

이상에서 본 발명의 바람직한 실시예를 설명하였으나, 상기의 실시예는 본 발명의 기술적 사상의 범위 내에 있는 일 실시예에 불과하며, 동업계의 통상의 기술자에 있어서는, 본 발명의 기술적인 사상 내에서 다른 변형된 실시가 가능함은 물론이다.Although preferred embodiments of the present invention have been described above, the above embodiments are only one embodiment within the scope of the technical idea of the present invention, and for those skilled in the art, within the technical idea of the present invention Of course, other modified implementations are possible.

10; 기체혼합관 11; 머리부
12; 기체흡입홈 12a; 측홈부
12b; 내측홈부 15; 처리대상수통로
20; 일측결합부재 21; 결합홈
22; 기체흡입홈 23; 처리대상수유로
30; 커버부재 32; 기체공급공
33; 공간 35; 연결구
40; 타측결합부재 51; 유전체볼
52; 방전극 53; 기체공급관
10; Gas mixing pipe 11; head
12; Gas intake groove 12a; side groove
12b; Inner groove 15; Treatment target water passage
20; One side coupling member 21; bonding groove
22; Gas intake groove 23; Treatment target feeding route
30; cover member 32; gas supply
33; space 35; connector
40; The other coupling member 51; dielectric ball
52; discharge electrode 53; gas supply pipe

Claims (7)

내부에 처리대상수통로가 형성된 관상의 기체혼합관과,
상기 처리대상수통로와 연결되는 처리대상수유로와 상기 기체혼합관의 일단부가 삽입되도록 상기 처리대상수유로의 단부에 형성된 결합홈을 포함하는 일측결합부재와,
상기 기체혼합관을 감싸고 상기 기체혼합관과의 사이의 공간에 기체를 공급하기 위한 기체공급공이 형성된 커버부재를 포함하되,
상기 기체혼합관의 일단부에는, 고랑형상으로 외면에서부터 전면을 통해 상기 처리대상수통로까지 연결된 기체흡입홈이 형성되고,
상기 기체혼합관의 일단부가 상기 결합홈에 삽입되어 상기 일측결합부재가 상기 기체흡입홈을 덮음으로써, 상기 기체혼합관의 외부의 기체를 내부로 흡입하는 통로가 형성되며,
상기 기체공급공에 위치하고 상기 기체혼합관의 외면에 접촉하는 유전체볼과,
상기 기체공급공에 결합되어 내부통로를 통해 상기 유전체볼 주위로 기체가 공급되도록 하는 기체공급관과,
상기 기체공급관의 내부통로에 위치하는 것으로서 상기 기체혼합관이 위치하는 측의 반대측에서 상기 유전체볼과 접촉하는 방전극과,
상기 방전극과 상기 기체혼합관에 각각 연결되어 상기 방전극과 상기 기체혼합관 사이에 플라즈마를 발생시키는 전원을 포함함으로써,
상기 방전극에서 발생한 플라즈마가 상기 유전체볼의 표면을 타고 분산된 상태로 발생하도록 한 것을 특징으로 하는 수중 기체확산기
A tubular gas mixture pipe having a passage for the water to be treated therein,
a one-side coupling member including a coupling groove formed at an end of the water flow path to be treated so that one end of the gas mixture pipe is inserted into the water flow path to be treated connected to the water flow path to be treated;
A cover member having a gas supply hole formed therein for supplying gas to a space between the gas mixing pipe and the gas mixing pipe,
At one end of the gas mixing pipe, a gas suction groove connected to the water passage to be treated is formed in a furrow shape from the outer surface through the front surface,
One end of the gas mixing pipe is inserted into the coupling groove and the one side coupling member covers the gas suction groove, thereby forming a passage for sucking gas from the outside of the gas mixing pipe into the inside,
A dielectric ball located in the gas supply hole and contacting the outer surface of the gas mixing pipe;
A gas supply pipe coupled to the gas supply hole to supply gas around the dielectric ball through an internal passage;
A discharge electrode located in the inner passage of the gas supply pipe and contacting the dielectric ball on the opposite side to the side where the gas mixture pipe is located;
By including a power source connected to the discharge electrode and the gas mixture tube to generate plasma between the discharge electrode and the gas mixture tube,
Underwater gas diffuser, characterized in that the plasma generated from the discharge electrode is generated in a dispersed state along the surface of the dielectric ball
제1항에 있어서,
상기 기체혼합관의 일단부에는 상기 기체혼합관의 중간부보다 외경이 큰 머리부가 형성되고,
상기 기체흡입홈은, 상기 머리부의 외주면에서 상기 기체혼합관의 길이방향을 따라 상기 머리부를 통과하도록 형성된 외측홈부와, 상기 외측홈부와 연속되도록 경로가 꺾여 상기 머리부의 전면에 형성됨으로써 상기 처리대상수통로와 연통되는 내측홈부를 포함하며,
상기 머리부는 상기 결합홈의 내주면에 밀착하는 것을 특징으로 하는 수중 기체확산기
According to claim 1,
A head having a larger outer diameter than a middle portion of the gas mixing pipe is formed at one end of the gas mixing pipe,
The gas intake groove is formed on the front surface of the head by bending an outer groove formed to pass through the head along the longitudinal direction of the gas mixing pipe on the outer circumferential surface of the head and a path that is continuous with the outer groove, thereby reducing the number of objects to be treated Including an inner groove in communication with the passage,
The head part is an underwater gas diffuser, characterized in that in close contact with the inner circumferential surface of the coupling groove
삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete
KR1020200104887A 2020-08-20 2020-08-20 Gas diffuser in the water for plasma type water treatment device and the like Active KR102509012B1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020200104887A KR102509012B1 (en) 2020-08-20 2020-08-20 Gas diffuser in the water for plasma type water treatment device and the like

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020200104887A KR102509012B1 (en) 2020-08-20 2020-08-20 Gas diffuser in the water for plasma type water treatment device and the like

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20220023247A KR20220023247A (en) 2022-03-02
KR102509012B1 true KR102509012B1 (en) 2023-03-10

Family

ID=80815403

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020200104887A Active KR102509012B1 (en) 2020-08-20 2020-08-20 Gas diffuser in the water for plasma type water treatment device and the like

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR102509012B1 (en)

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001205278A (en) * 2000-01-24 2001-07-31 Takashi Yamamoto Sewage cleaning treatment apparatus
JP2018122294A (en) * 2017-02-03 2018-08-09 トスレック株式会社 Bubble generation nozzle and bubble-containing liquid production system comprising the same

Family Cites Families (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101119211B1 (en) * 2009-09-21 2012-03-21 최장수 Apparatus Generating Minute Particles And Micro/Nano Bubbles And System Using The Same

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001205278A (en) * 2000-01-24 2001-07-31 Takashi Yamamoto Sewage cleaning treatment apparatus
JP2018122294A (en) * 2017-02-03 2018-08-09 トスレック株式会社 Bubble generation nozzle and bubble-containing liquid production system comprising the same

Also Published As

Publication number Publication date
KR20220023247A (en) 2022-03-02

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101882424B1 (en) Water treatment device using plasma
US7063794B2 (en) Water treatment apparatus
JP4495263B2 (en) Plasma gas treatment
EP0402567A2 (en) A system and a method for removing dissolved gases and volatile organic chemicals from a liquid
JP2009156265A (en) Exhaust gas recirculating device
JP2009163950A (en) Static eliminator, and discharge electrode unit incorporated therein
KR102509012B1 (en) Gas diffuser in the water for plasma type water treatment device and the like
KR102177129B1 (en) Apparatus for treating waste gas
KR102162219B1 (en) Plasma generating device having double structure of dielectric pipe
US6534023B1 (en) Fluid dynamic ozone generating assembly
KR102026185B1 (en) Plasma type water treatment device with improved treatment efficiency by micro bubble
KR100484256B1 (en) Gas and liquid mixing apparatus using jet loop reaction
JP7675300B2 (en) Method and apparatus for ozone-free separation of components in a corona discharge zone
JP6305499B2 (en) Photo-oxidation reactor
KR20190055929A (en) High capacity waste purifying apparatus for using plasma
RU2164499C2 (en) Installation for treating water with electric current discharges
KR102340857B1 (en) Plasma water treatmemt apparatus using bubbles in water
CN203474455U (en) Ozone generator
RU2177456C2 (en) Apparatus for ozonizing water
KR20210033675A (en) Plasma Torch for Treating Harmful Gas
RU2576513C2 (en) Method of ionising air and apparatus therefor
CN110836379A (en) Exhaust gas introduction device
FI20020102A0 (en) Method and apparatus for purifying the liquid
KR20240062937A (en) Fluid treatment apparatus
KR100381272B1 (en) Ozone Generator with Multi-Channel

Legal Events

Date Code Title Description
PA0109 Patent application

Patent event code: PA01091R01D

Comment text: Patent Application

Patent event date: 20200820

PA0201 Request for examination
PG1501 Laying open of application
E902 Notification of reason for refusal
PE0902 Notice of grounds for rejection

Comment text: Notification of reason for refusal

Patent event date: 20220811

Patent event code: PE09021S01D

E701 Decision to grant or registration of patent right
PE0701 Decision of registration

Patent event code: PE07011S01D

Comment text: Decision to Grant Registration

Patent event date: 20230209

GRNT Written decision to grant
PR0701 Registration of establishment

Comment text: Registration of Establishment

Patent event date: 20230307

Patent event code: PR07011E01D

PR1002 Payment of registration fee

Payment date: 20230307

End annual number: 3

Start annual number: 1

PG1601 Publication of registration