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KR102407455B1 - Memory device - Google Patents

Memory device Download PDF

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Publication number
KR102407455B1
KR102407455B1 KR1020180031600A KR20180031600A KR102407455B1 KR 102407455 B1 KR102407455 B1 KR 102407455B1 KR 1020180031600 A KR1020180031600 A KR 1020180031600A KR 20180031600 A KR20180031600 A KR 20180031600A KR 102407455 B1 KR102407455 B1 KR 102407455B1
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KR
South Korea
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current
memory cell
memory
information storage
input
Prior art date
Application number
KR1020180031600A
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Korean (ko)
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KR20190050268A (en
Inventor
임채욱
나태희
선우정
이용준
Original Assignee
삼성전자주식회사
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Publication date
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Priority to DE102018124002.3A priority patent/DE102018124002B4/en
Priority to CN201811239202.6A priority patent/CN109754835B/en
Priority to JP2018199096A priority patent/JP7130523B2/en
Publication of KR20190050268A publication Critical patent/KR20190050268A/en
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  • Semiconductor Memories (AREA)

Abstract

본 발명의 일 실시예에 따른 메모리 장치는, 스위치 소자 및 상기 스위치 소자와 연결되며 상변화 물질을 갖는 정보 저장 소자를 갖는 메모리 셀을 복수 개 포함하는 메모리 셀 어레이, 및 상기 메모리 셀에 동작 전류를 입력하여 상기 메모리 셀에 대한 제어 동작을 실행하며, 상기 동작 전류의 입력 이전 및 이후 중 적어도 하나에 상기 메모리 셀 내에서 상기 정보 저장 소자로부터 상기 스위치 소자로 흐르는 보상 전류를 상기 메모리 셀에 입력하는 메모리 컨트롤러를 포함한다.A memory device according to an embodiment of the present invention provides a memory cell array including a plurality of memory cells including a switch element and a plurality of memory cells connected to the switch element and having an information storage element having a phase change material, and an operating current applied to the memory cells. A memory that performs a control operation on the memory cell by input Includes controller.

Description

메모리 장치{MEMORY DEVICE}memory device {MEMORY DEVICE}

본 발명은 메모리 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a memory device.

저항을 이용한 메모리 장치는 상변화 메모리 장치(PRAM: Phase change Random Access Memory), 저항 메모리 장치(ReRAM: Resistive RAM), 자기 메모리 장치(MRAM: Magnetic RAM) 등을 포함한다. 전하를 충전하거나 방전하는 방식으로 데이터를 기록하는 동적 메모리 장치(DRAM: Dynamic RAM)와 달리, 저항을 이용한 메모리 장치는 저항 변화를 이용하여 데이터를 기록하거나 지울 수 있다.A memory device using a resistor includes a phase change random access memory (PRAM), a resistive memory device (ReRAM), and a magnetic memory device (MRAM: Magnetic RAM). Unlike a dynamic memory device (DRAM), which records data by charging or discharging electric charge, a memory device using a resistor may write or erase data by using a change in resistance.

본 발명의 기술적 사상이 이루고자 하는 과제 중 하나는, 메모리 셀들 각각의 센싱 마진을 증가시킴과 동시에, 동작 중에 메모리 셀에서 발생하는 의도치 않은 문턱 전압 변화를 최소화할 수 있는 메모리 장치를 제공하고자 하는 데에 있다.One of the objects of the technical idea of the present invention is to provide a memory device capable of increasing a sensing margin of each memory cell and at the same time minimizing an unintentional change in threshold voltage occurring in a memory cell during operation. is in

본 발명의 일 실시예에 따른 메모리 장치는, 스위치 소자 및 상기 스위치 소자와 연결되며 상변화 물질을 갖는 정보 저장 소자를 갖는 메모리 셀을 복수 개 포함하는 메모리 셀 어레이, 및 상기 메모리 셀에 동작 전류를 입력하여 상기 메모리 셀에 대한 제어 동작을 실행하며, 상기 동작 전류의 입력 이전 및 이후 중 적어도 하나에 상기 메모리 셀 내에서 상기 정보 저장 소자로부터 상기 스위치 소자로 흐르는 보상 전류를 상기 메모리 셀에 입력하는 메모리 컨트롤러를 포함한다.A memory device according to an embodiment of the present invention provides a memory cell array including a plurality of memory cells including a switch element and a plurality of memory cells connected to the switch element and having an information storage element having a phase change material, and an operating current applied to the memory cells. A memory that performs a control operation on the memory cell by input Includes controller.

본 발명의 일 실시예에 따른 메모리 장치는, 제1 전극, 상기 제1 전극에 연결되는 스위치 소자, 상기 스위치 소자와 연결되는 정보 저장 소자, 및 상기 정보 저장 소자에 연결되는 제2 전극을 갖는 메모리 셀을 복수 개 포함하는 메모리 셀 어레이, 및 상기 메모리 셀에 읽기 전류를 입력하여 상기 메모리 셀에 저장된 데이터를 읽어오며, 상기 읽기 전류의 입력 이전 및 이후 중 적어도 하나에 상기 제2 전극으로 보상 전류를 입력하는 메모리 컨트롤러를 포함한다.A memory device according to an embodiment of the present invention includes a memory having a first electrode, a switch element connected to the first electrode, an information storage element connected to the switch element, and a second electrode connected to the information storage element A memory cell array including a plurality of cells, a read current is input to the memory cell to read data stored in the memory cell, and a compensation current is applied to at least one of before and after the input of the read current to the second electrode Includes input memory controller.

본 발명의 일 실시예에 따른 메모리 장치는, 제1 전극, 상기 제1 전극에 연결되는 스위치 소자, 상기 스위치 소자와 연결되는 정보 저장 소자, 및 상기 정보 저장 소자에 연결되는 제2 전극을 갖는 메모리 셀을 복수 개 포함하는 메모리 셀 어레이, 및 상기 메모리 셀에 프로그램 전류를 입력하여 상기 메모리 셀에 데이터를 저장하며, 상기 프로그램 전류의 입력 이후에 상기 제2 전극으로 보상 전류를 입력하는 메모리 컨트롤러를 포함한다.A memory device according to an embodiment of the present invention includes a memory having a first electrode, a switch element connected to the first electrode, an information storage element connected to the switch element, and a second electrode connected to the information storage element a memory cell array including a plurality of cells, and a memory controller configured to input a program current to the memory cells to store data in the memory cells, and to input a compensation current to the second electrode after the input of the program current do.

본 발명의 일 실시예에 따르면, 메모리 셀로부터 데이터를 읽어오거나 메모리 셀에 데이터를 기록하는 등의 제어 동작을 실행하기 이전 및/또는 이후에 소정의 보상 전류를 입력할 수 있으며, 보상 전류는 메모리 셀 내에서 정보 저장 소자로부터 스위치 소자로 흐를 수 있다. 따라서, 제어 동작이 실행되기 이전 및/또는 이후에 메모리 셀의 센싱 마진을 효과적으로 확보할 수 있으며, 메모리 장치를 안정적으로 동작시킬 수 있다.According to an embodiment of the present invention, a predetermined compensation current may be input before and/or after executing a control operation such as reading data from or writing data to the memory cell, and the compensation current is Information can flow from the storage element to the switch element within the cell. Accordingly, it is possible to effectively secure the sensing margin of the memory cell before and/or after the control operation is executed, and it is possible to stably operate the memory device.

본 발명의 다양하면서도 유익한 장점과 효과는 상술한 내용에 한정되지 않으며, 본 발명의 구체적인 실시 형태를 설명하는 과정에서 보다 쉽게 이해될 수 있을 것이다.Various and advantageous advantages and effects of the present invention are not limited to the above, and will be more easily understood in the course of describing specific embodiments of the present invention.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 메모리 장치를 간단하게 나타낸 블록도이다.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 메모리 장치에 포함되는 메모리 셀 어레이를 간단하게 나타낸 도면이다.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 메모리 장치에 포함되는 메모리 셀의 구조를 간단하게 나타낸 도면이다.
도 4 및 도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 메모리 장치의 동작을 설명하기 위해 제공되는 도면들이다.
도 6은 본 발명의 일 실시예에 따른 메모리 장치의 동작을 설명하기 위해 제공되는 도면이다.
도 7 및 도 8은 본 발명의 일 실시예에 따른 메모리 장치의 읽기 동작을 설명하기 위해 제공되는 도면들이다.
도 9는 본 발명의 일 실시예에 따른 메모리 장치의 읽기 전압 분포를 나타낸 도면이다.
도 10은 본 발명의 일 실시예에 따른 메모리 장치의 읽기 동작을 설명하기 위해 제공되는 도면이다.
도 11은 본 발명의 일 실시예에 따른 메모리 장치의 읽기 전압 분포를 나타낸 도면이다.
도 12는 본 발명의 일 실시예에 따른 메모리 장치의 동작을 설명하기 위해 제공되는 도면이다.
도 13은 본 발명의 일 실시예에 따른 메모리 장치의 프로그램 동작을 설명하기 위해 제공되는 도면이다.
도 14는 본 발명의 일 실시예에 따른 메모리 장치의 읽기 전압 분포를 나타낸 도면이다.
도 15는 본 발명의 일 실시예에 따른 메모리 장치를 포함하는 전자 기기를 간단하게 나타낸 블록도이다.
1 is a schematic block diagram illustrating a memory device according to an embodiment of the present invention.
2 is a diagram schematically illustrating a memory cell array included in a memory device according to an embodiment of the present invention.
3 is a diagram schematically illustrating a structure of a memory cell included in a memory device according to an embodiment of the present invention.
4 and 5 are diagrams provided to explain an operation of a memory device according to an embodiment of the present invention.
6 is a diagram provided to explain an operation of a memory device according to an embodiment of the present invention.
7 and 8 are diagrams provided to explain a read operation of a memory device according to an embodiment of the present invention.
9 is a diagram illustrating a read voltage distribution of a memory device according to an embodiment of the present invention.
10 is a diagram provided to explain a read operation of a memory device according to an embodiment of the present invention.
11 is a diagram illustrating a read voltage distribution of a memory device according to an embodiment of the present invention.
12 is a diagram provided to explain an operation of a memory device according to an embodiment of the present invention.
13 is a diagram provided to explain a program operation of a memory device according to an embodiment of the present invention.
14 is a diagram illustrating a read voltage distribution of a memory device according to an embodiment of the present invention.
15 is a schematic block diagram illustrating an electronic device including a memory device according to an embodiment of the present invention.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시 형태들을 다음과 같이 설명한다.Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 메모리 장치를 간단하게 나타낸 블록도이다. 도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 메모리 장치에 포함되는 메모리 셀 어레이를 간단하게 나타낸 도면이다.1 is a schematic block diagram illustrating a memory device according to an embodiment of the present invention. 2 is a diagram schematically illustrating a memory cell array included in a memory device according to an embodiment of the present invention.

먼저 도 1을 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 메모리 장치(10)는 메모리 컨트롤러(20)와 메모리 셀 어레이(30)를 포함할 수 있다. 메모리 컨트롤러(20)는 컨트롤 로직(21), 로우 드라이버(22) 및 칼럼 드라이버(23) 등을 포함할 수 있다. 메모리 셀 어레이(30)는 복수의 메모리 셀들(MC)을 포함할 수 있다. First, referring to FIG. 1 , a memory device 10 according to an exemplary embodiment may include a memory controller 20 and a memory cell array 30 . The memory controller 20 may include a control logic 21 , a row driver 22 , a column driver 23 , and the like. The memory cell array 30 may include a plurality of memory cells MC.

일 실시예에서, 로우 드라이버(22)는 제1 도전성 라인 라인(CL1)을 통해 메모리 셀들(MC)과 연결될 수 있으며, 칼럼 드라이버(23)는 제2 도전성 라인(CL2)을 통해 메모리 셀들(MC)과 연결될 수 있다. 일 실시예에서, 로우 드라이버(22)는 데이터를 기록하거나 데이터를 읽어올 메모리 셀(MC)을 선택하기 위한 어드레스 디코더 회로를 포함할 수 있으며, 칼럼 드라이버(23)는 메모리 셀(MC)에 데이터를 기록하거나, 메모리 셀(MC)로부터 데이터를 읽어오는 읽기/쓰기 회로를 포함할 수 있다. 로우 드라이버(22)와 칼럼 드라이버(23)의 동작은, 컨트롤 로직(21)에 의해 제어될 수 있다. 로우 드라이버(22)와 칼럼 드라이버(23) 각각은 제1 도전성 라인 라인(CL1)과 제2 도전성 라인(CL2)을 통해 메모리 셀(MC)과 연결될 수 있다. 일례로, 제1 도전성 라인 라인(CL1)과 제2 도전성 라인(CL2) 각각은 워드 라인과 비트 라인에 대응할 수 있다.In an embodiment, the row driver 22 may be connected to the memory cells MC through the first conductive line line CL1 , and the column driver 23 may be connected to the memory cells MC through the second conductive line CL2 . ) can be associated with In an embodiment, the row driver 22 may include an address decoder circuit for selecting a memory cell MC from which data is to be written or data is read, and the column driver 23 may include data to the memory cell MC. It may include a read/write circuit for writing data or reading data from the memory cell MC. Operations of the row driver 22 and the column driver 23 may be controlled by the control logic 21 . Each of the row driver 22 and the column driver 23 may be connected to the memory cell MC through the first conductive line line CL1 and the second conductive line CL2 . For example, each of the first conductive line line CL1 and the second conductive line CL2 may correspond to a word line and a bit line.

도 2를 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 메모리 셀 어레이(30)는 복수의 메모리 셀들(MC)을 포함할 수 있다. 메모리 셀들(MC)은 제1 도전성 라인 라인(CL1)과 제2 도전성 라인(CL2)이 교차하는 지점에 마련될 수 있다. 즉, 메모리 셀들(MC) 각각은 하나의 제1 도전성 라인 라인(CL1)과 하나의 제2 도전성 라인(CL2)에 연결될 수 있다.Referring to FIG. 2 , a memory cell array 30 according to an exemplary embodiment may include a plurality of memory cells MC. The memory cells MC may be provided at intersections of the first conductive line line CL1 and the second conductive line CL2 . That is, each of the memory cells MC may be connected to one first conductive line line CL1 and one second conductive line CL2 .

메모리 셀들(MC) 각각은 스위치 소자(SW)와 정보 저장 소자(VR)를 포함할 수 있다. 일 실시예에서, 스위치 소자(SW)는 PN 접합 다이오드, 쇼트키 다이오드, 및 오보닉 임계 스위치(OTS) 중 적어도 하나를 포함할 수 있다. 한편, 일 실시예에서, 정보 저장 소자(VR)는 칼코케나이드(Chalcogenide) 물질 및 초격자(Super-lattice) 중 어느 하나를 갖는 상변화 물질로 형성될 수 있다. 즉, 정보 저장 소자(VR)는 가열 시간 및 온도 등에 따라 비정질상과 결정질상으로 상전이가 가능한 상변화 물질를 포함할 수 있다. 정보 저장 소자(VR)와 스위치 소자(SW)는 서로 직렬로 연결될 수 있다.Each of the memory cells MC may include a switch element SW and an information storage element VR. In an embodiment, the switch element SW may include at least one of a PN junction diode, a Schottky diode, and an ovonic threshold switch OTS. Meanwhile, in an embodiment, the information storage device VR may be formed of a phase change material having any one of a chalcogenide material and a super-lattice. That is, the information storage device VR may include a phase change material capable of phase transition into an amorphous phase and a crystalline phase depending on heating time and temperature. The information storage element VR and the switch element SW may be connected in series with each other.

메모리 컨트롤러(20)는, 제1 도전성 라인 라인(CL1)과 제2 도전성 라인(CL2)을 통해, 복수의 메모리 셀들(MC) 각각에 포함되는 정보 저장 소자(VR)의 상변화 물질을 비정질상 또는 결정질상으로 상전이시킴으로써, 데이터를 기록하거나 지울 수 있다. 일 실시예에서, 메모리 컨트롤러(20)는 메모리 셀(MC)에 포함되는 정보 저장 소자(VR)의 상변화 물질을 비정질상으로 상전이시킴으로써 정보 저장 소자(VR)의 저항을 증가시키고, 데이터를 기록할 수 있다. 반대로, 메모리 컨트롤러(20)는 메모리 셀(MC)에 포함되는 정보 저장 소자(VR)의 상변화 물질을 결정질상으로 상전이시킴으로써 정보 저장 소자(VR)의 저항을 감소시키고, 데이터를 소거할 수 있다. 메모리 컨트롤러(20)는, 복수의 메모리 셀들(MC) 각각에 포함되는 정보 저장 소자(VR)의 저항 또는 문턱 전압을 검출함으로써 복수의 메모리 셀들(MC) 각각의 데이터를 읽어올 수 있다.The memory controller 20 converts the phase change material of the information storage device VR included in each of the plurality of memory cells MC into an amorphous phase or a second conductive line CL2 through the first conductive line line CL1 and the second conductive line CL2 . By making a phase transition to the crystalline phase, data can be recorded or erased. In an embodiment, the memory controller 20 increases the resistance of the information storage device VR by changing the phase change material of the information storage device VR included in the memory cell MC to an amorphous phase, and writes data. can Conversely, the memory controller 20 may reduce the resistance of the information storage device VR and erase data by changing the phase change material of the information storage device VR included in the memory cell MC to a crystalline phase. . The memory controller 20 may read data of each of the plurality of memory cells MC by detecting a resistance or a threshold voltage of the information storage device VR included in each of the plurality of memory cells MC.

도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 메모리 장치에 포함되는 메모리 셀의 구조를 간단하게 나타낸 도면이다.3 is a diagram schematically illustrating a structure of a memory cell included in a memory device according to an embodiment of the present invention.

도 3을 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 메모리 장치(100)는, 제1 워드 라인(101)과 비트 라인(103) 사이에 마련되는 제1 메모리 셀(MC1) 및 제2 워드 라인(102)과 비트 라인(103) 사이에 마련되는 제2 메모리 셀(MC2)을 포함할 수 있다. 제1 메모리 셀(MC1)과 제2 메모리 셀(MC2)은 각각 독립된 메모리 셀로서 동작할 수 있다.Referring to FIG. 3 , in the memory device 100 according to an embodiment of the present invention, a first memory cell MC1 and a second word line are provided between a first word line 101 and a bit line 103 . A second memory cell MC2 provided between the 102 and the bit line 103 may be included. The first memory cell MC1 and the second memory cell MC2 may each operate as independent memory cells.

제1 메모리 셀(MC1)은 제1 가열 전극(110), 제1 정보 저장 소자(120), 및 제1 스위치 소자(130) 등을 포함할 수 있다. 제1 스위치 소자(130)는 제1 스위치 전극(131)과 제2 스위치 전극(133) 및 그 사이에 배치되는 제1 선택층(133) 등을 포함할 수 있다. 일 실시예에서, 제1 선택층(133)은 오보닉 임계 스위치(Ovonic Threshold Switch, OTS) 물질을 포함할 수 있다. 제1 스위치 전극(131)과 제2 스위치 전극(133) 사이에 문턱 전압보다 큰 전압이 인가되면, 제1 선택층(133)을 통해 전류가 흐를 수 있다.The first memory cell MC1 may include a first heating electrode 110 , a first information storage device 120 , and a first switch device 130 . The first switch element 130 may include a first switch electrode 131 , a second switch electrode 133 , and a first selection layer 133 disposed therebetween. In an embodiment, the first selection layer 133 may include an Ovonic Threshold Switch (OTS) material. When a voltage greater than a threshold voltage is applied between the first switch electrode 131 and the second switch electrode 133 , a current may flow through the first selection layer 133 .

제1 정보 저장 소자(120)는 상변화 물질을 포함할 수 있으며, 일 실시예로 칼코게나이드 물질을 포함할 수 있다. 일례로, 제1 정보 저장 소자(120)는 Ge-Sb-Te(GST)를 포함할 수 있으며, 제1 정보 저장 소자(120)에 포함되는 원소들의 종류 및 그 화학적 조성비에 따라 제1 정보 저장 소자(120)의 결정화 온도, 용융점, 결정화 에너지에 따른 상변화 속도 등이 결정될 수 있다.The first information storage device 120 may include a phase change material, and in an embodiment, may include a chalcogenide material. For example, the first information storage device 120 may include Ge-Sb-Te (GST), and stores the first information according to the types and chemical composition ratios of elements included in the first information storage device 120 . The crystallization temperature, melting point, and phase change rate according to the crystallization energy of the device 120 may be determined.

제2 메모리 셀(MC2)은 제1 메모리 셀(MC1)과 유사한 구조를 가질 수 있다. 도 3을 참조하면, 제2 메모리 셀(MC2)은 제2 가열 전극(140), 제2 정보 저장 소자(150) 및 제2 스위치 소자(160) 등을 포함할 수 있다. 제2 가열 전극(140), 제2 정보 저장 소자(150) 및 제2 스위치 소자(160) 각각의 구조 및 특징은, 제1 가열 전극(110), 제1 정보 저장 소자(120), 및 제1 스위치 소자(130)와 유사할 수 있다. 이하, 제1 메모리 셀(MC1)을 예시로 참조하여, 데이터를 기록하고 소거하는 방법을 설명하기로 한다. The second memory cell MC2 may have a structure similar to that of the first memory cell MC1 . Referring to FIG. 3 , the second memory cell MC2 may include a second heating electrode 140 , a second information storage device 150 , and a second switch device 160 . The structure and characteristics of each of the second heating electrode 140 , the second information storage element 150 and the second switch element 160 , the first heating electrode 110 , the first information storage element 120 , and the second 1 may be similar to the switch element 130 . Hereinafter, a method of writing and erasing data will be described with reference to the first memory cell MC1 as an example.

제1 워드 라인(101)과 비트 라인(103)을 통해 전압이 공급되면, 제1 가열 전극(110)과 제1 정보 저장 소자(120) 사이의 계면에서 상기 전압에 따른 줄 열(Joule Heat)이 발생할 수 있다. 상기 줄 열에 의해 제1 정보 저장 소자(120)를 구성하는 상변화 물질이 비정질상에서 결정질상으로 변하거나, 결정질상에서 비정질상으로 변할 수 있다. 제1 정보 저장 소자(120)는 비정질상에서 높은 저항을 가질 수 있으며, 결정질상에서 낮은 저항을 가질 수 있다. 일 실시예에서, 제1 정보 저장 소자(120)의 저항 값에 따라 데이터 `0` 또는 `1`을 정의할 수 있다.When a voltage is supplied through the first word line 101 and the bit line 103 , at the interface between the first heating electrode 110 and the first information storage element 120 , Joule heat according to the voltage is generated. This can happen. The phase change material constituting the first information storage element 120 may change from an amorphous phase to a crystalline phase or from a crystalline phase to an amorphous phase by the Joule heat. The first information storage device 120 may have a high resistance in an amorphous phase and a low resistance in a crystalline phase. In an embodiment, data '0' or '1' may be defined according to the resistance value of the first information storage element 120 .

제1 메모리 셀(MC1)에 데이터를 기록하기 위해, 제1 워드 라인(101)과 비트 라인(103)을 통해 프로그램 전압을 공급할 수 있다. 상기 프로그램 전압은 제1 스위치 소자(130)에 포함되는 오보닉 임계 스위치 물질의 문턱 전압보다 크며, 따라서 제1 스위치 소자(130)를 통해 전류가 흐를 수 있다. 상기 프로그램 전압에 의해 제1 정보 저장 소자(120)에 포함되는 상변화 물질이 비정질상에서 결정질상으로 변할 수 있으며, 따라서 제1 메모리 영역에 데이터를 기록할 수 있다. 일 실시예에서, 제1 정보 저장 소자(120)에 포함되는 상변화 물질이 결정질상을 갖는 경우를, 셋(set) 상태로 정의할 수 있다.In order to write data to the first memory cell MC1 , a program voltage may be supplied through the first word line 101 and the bit line 103 . The program voltage is greater than the threshold voltage of the ovonic threshold switch material included in the first switch element 130 , and thus a current may flow through the first switch element 130 . The phase change material included in the first information storage device 120 may change from an amorphous phase to a crystalline phase by the program voltage, and thus data may be recorded in the first memory area. In an embodiment, a case in which the phase change material included in the first information storage device 120 has a crystalline phase may be defined as a set state.

한편, 제1 메모리 셀(MC1)에 기록된 데이터를 소거하기 위해, 제1 정보 저장 소자(120)에 포함되는 상변화 물질을 결정질상에서 비정질상으로 되돌릴 수 있다. 일례로, 제1 워드 라인(101)과 비트 라인(103)을 통해 소정의 소거 전압을 공급할 수 있다. 상기 소거 전압에 의해, 제1 정보 저장 소자(120)에 포함되는 상변화 물질이 결정질상에서 비정질상으로 변할 수 있다. 일례로, 상기 소거 전압의 최대값은 상기 프로그램 전압의 최대값보다 클 수 있으며, 상기 소거 전압이 공급되는 시간은 상기 프로그램 전압이 공급되는 시간보다 짧을 수 있다.Meanwhile, in order to erase data written in the first memory cell MC1 , the phase change material included in the first information storage device 120 may return from a crystalline phase to an amorphous phase. For example, a predetermined erase voltage may be supplied through the first word line 101 and the bit line 103 . The phase change material included in the first information storage device 120 may change from a crystalline phase to an amorphous phase by the erase voltage. For example, the maximum value of the erase voltage may be greater than the maximum value of the program voltage, and the period during which the erase voltage is supplied may be shorter than the period during which the program voltage is supplied.

앞서 설명한 바와 같이, 정보 저장 소자들(120, 150)에 포함되는 상변화 물질의 상태에 따라 정보 저장 소자들(120, 150)의 저항 값이 바뀔 수 있으며, 메모리 컨트롤러는 정보 저장 소자들(120, 150)의 저항으로부터 데이터 `0`과 `1`을 구분할 수 있다. 따라서, 정보 저장 소자들(120, 150)에 포함되는 상변화 물질의 상태에 따라 나타나는 정보 저장 소자들(120, 150)의 저항 차이가 클수록, 메모리 컨트롤러가 데이터를 정확히 기록하거나 판독할 수 있다. As described above, the resistance values of the information storage elements 120 and 150 may change according to the state of the phase change material included in the information storage elements 120 and 150 , and the memory controller controls the information storage elements 120 . , 150) can distinguish between data ‘0’ and ‘1’. Accordingly, as the resistance difference between the information storage elements 120 and 150 that appears according to the state of the phase change material included in the information storage elements 120 and 150 increases, the memory controller can accurately write or read data.

도 4 및 도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 메모리 장치의 동작을 설명하기 위해 제공되는 도면들이다.4 and 5 are diagrams provided to explain an operation of a memory device according to an embodiment of the present invention.

본 발명의 일 실시예에 따른 메모리 장치는, 메모리 컨트롤러(220)가 메모리 셀(210)에 공급하는 전원에 의해 동작할 수 있다. 도 4 및 도 5를 참조하면, 메모리 컨트롤러(220)는 제1 방향으로 흐르는 제1 전류(I1)와, 제2 방향으로 흐르는 제2 전류(I2)를 중 적어도 하나를 메모리 셀(210)에 입력할 수 있다. 일 실시예에서, 제1 방향과 제2 방향은 서로 반대 방향일 수 있다.The memory device according to an embodiment of the present invention may operate by power supplied from the memory controller 220 to the memory cell 210 . 4 and 5 , the memory controller 220 applies at least one of a first current I1 flowing in a first direction and a second current I2 flowing in a second direction to the memory cell 210 . can be entered. In an embodiment, the first direction and the second direction may be opposite to each other.

메모리 셀(210)은 하부 전극(211), 가열 전극(212), 정보 저장 소자(214), 스위치 소자(215) 및 상부 전극(216) 등을 포함할 수 있다. 하부 전극(211)과 상부 전극(216)은 워드 라인 또는 비트 라인 등을 통해 메모리 컨트롤러(220)가 출력하는 전압을 공급받을 수 있다. 가열 전극(212)의 주변에는 절연층(213)이 마련될 수 있으며, 가열 전극(212)과 인접하는 정보 저장 소자(214)의 일부 영역(214a)에서, 제1 전류(I1) 또는 제2 전류(I2)에 의한 상변화가 발생할 수 있다.The memory cell 210 may include a lower electrode 211 , a heating electrode 212 , an information storage element 214 , a switch element 215 , and an upper electrode 216 . The lower electrode 211 and the upper electrode 216 may receive a voltage output from the memory controller 220 through a word line or a bit line. An insulating layer 213 may be provided around the heating electrode 212 , and in a partial region 214a of the information storage element 214 adjacent to the heating electrode 212 , the first current I1 or the second A phase change may occur due to the current I2.

도 4를 참조하면, 메모리 컨트롤러(220)에 의해 제1 방향으로 공급되는 제1 전류(I1)는 메모리 셀(210) 내에서 스위치 소자(215)로부터 정보 저장 소자(214)로 흐를 수 있다. 반대로, 도 5를 참조하면, 제2 방향으로 공급되는 제2 전류(I2)는 메모리 셀(210) 내에서 정보 저장 소자(214)로부터 스위치 소자(215)로 흐를 수 있다. 따라서, 펠티어 효과(Peltier Effect)에 의해, 가열 전극(212)에서 발생하는 열에 의한 영향은, 제2 전류(I2)를 공급할 때가 제1 전류(I1)를 공급할 때보다 적을 수 있다.Referring to FIG. 4 , the first current I1 supplied in the first direction by the memory controller 220 may flow from the switch element 215 to the information storage element 214 in the memory cell 210 . Conversely, referring to FIG. 5 , the second current I2 supplied in the second direction may flow from the information storage element 214 to the switch element 215 in the memory cell 210 . Accordingly, due to the Peltier effect, the effect of heat generated from the heating electrode 212 may be less when the second current I2 is supplied than when the first current I1 is supplied.

일 실시예에서, 데이터를 기록하기 위한 프로그램(program) 동작은 제1 방향으로 프로그램 전류를 입력함으로써 실행될 수 있다. 일 실시예로, 프로그램 전류에 의해 정보 저장 소자(214)가 결정질상에서 비정질상으로 변할 수 있다. 메모리 컨트롤러(220)는, 메모리 셀(210)의 저항이 클 경우, 메모리 셀(210)이 프로그램되어 있는 것으로 판단할 수 있다.In an embodiment, a program operation for writing data may be executed by inputting a program current in the first direction. In an embodiment, the information storage device 214 may change from a crystalline phase to an amorphous phase by the program current. When the resistance of the memory cell 210 is high, the memory controller 220 may determine that the memory cell 210 is programmed.

한편, 메모리 셀(210)의 데이터를 판별하기 위한 읽기(read) 동작은 제1 방향 또는 제2 방향으로 읽기 전류를 입력함으로써 실행될 수 있다. 읽기 동작에 의해 메모리 셀(210)에서 의도치 않은 정보 저장 소자(214)의 상태 변화가 발생하는 것을 방지하기 위하여, 읽기 전류는 프로그램 전류에 비해 작은 크기를 가질 수 있다. 메모리 컨트롤러(220)는 읽기 전류를 메모리 셀(210)에 공급하여 메모리 셀(210)의 저항 값을 측정할 수 있으며, 상기 저항 값의 크기에 따라 메모리 셀(210)에 데이터가 기록되어 있는지 여부를 판단할 수 있다.Meanwhile, a read operation for determining data of the memory cell 210 may be performed by inputting a read current in the first direction or the second direction. In order to prevent an unintentional state change of the information storage device 214 in the memory cell 210 due to a read operation, the read current may have a smaller magnitude than the program current. The memory controller 220 may measure the resistance value of the memory cell 210 by supplying a read current to the memory cell 210 , and whether data is written to the memory cell 210 according to the size of the resistance value. can be judged

본 발명의 일 실시예에 따른 메모리 장치에서는, 메모리 셀(210)에 포함되는 정보 저장 소자(214)의 상변화 현상을 이용하여 데이터를 기록하거나 소거할 수 있다. 일례로, 정보 저장 소자(214)가 결정질상을 가져 상대적으로 낮은 저항값을 가질 때와, 정보 저장 소자(214)가 비정질상을 가져 상대적으로 높은 저항값을 가질 때를 구분하여 데이터 `0`과 `1`을 프로그램하고 읽어올 수 있다. 따라서, 정보 저장 소자(214)의 상태에 따라 메모리 셀(210)로부터 검출되는 전압의 차이가 클수록, 메모리 컨트롤러(220)가 메모리 셀(210)에 기록된 데이터를 정확히 읽어올 수 있다.In the memory device according to an embodiment of the present invention, data may be written or erased using a phase change phenomenon of the information storage element 214 included in the memory cell 210 . For example, when the information storage element 214 has a crystalline phase and has a relatively low resistance value and when the information storage element 214 has an amorphous phase and has a relatively high resistance value, data '0' and You can program and read `1'. Accordingly, as the voltage difference detected from the memory cell 210 increases according to the state of the information storage device 214 , the memory controller 220 may accurately read data written to the memory cell 210 .

한편 스위치 소자(215)에서는 드리프트(drift) 현상이 발생할 수 있으며, 드리프트 현상에 의해 정보 저장 소자(214)의 상태에 따라 메모리 셀(210)에서 검출되는 전압의 차이가 감소할 수 있다. 일례로, 스위치 소자(215)에서 발생하는 드리프트 현상에 의해, 정보 저장 소자(214)가 결정질상을 갖는 메모리 셀(210)의 전체 저항이 증가할 수 있으며, 결과적으로 정보 저장 소자(214)의 상태에 따른 메모리 셀(210)의 전압 차이가 감소할 수 있다. 따라서, 드리프트 현상에 의해 메모리 셀(210)에 저장된 데이터를 정확히 읽어오지 못하는 문제가 발생할 수 있다.Meanwhile, a drift phenomenon may occur in the switch element 215 , and a difference in voltage detected by the memory cell 210 may decrease according to the state of the information storage element 214 due to the drift phenomenon. For example, due to the drift phenomenon occurring in the switch element 215 , the total resistance of the memory cell 210 in which the information storage element 214 has a crystalline phase may increase, and as a result, the information storage element 214 may have a crystalline phase. The voltage difference of the memory cell 210 according to the state may decrease. Accordingly, there may be a problem in that data stored in the memory cell 210 cannot be accurately read due to the drift phenomenon.

본 발명의 일 실시예에서는, 메모리 컨트롤러(220)가 메모리 셀(210)에 기록된 데이터를 읽어오기 이전에, 보상 전류를 메모리 셀(210)에 입력하여 드리프트 현상에 의한 문제를 해결할 수 있다. 일 실시예에서 메모리 컨트롤러(220)는 제2 전류(I2)와 같은 제2 방향으로 보상 전류를 입력할 수 있으며, 정보 저장 소자(214)에 미치는 영향을 최소화하면서 보상 전류로 스위치 소자(215)만을 턴-온시킬 수 있다. 따라서, 스위치 소자(215)에서 발생하는 드리프트 현상에 의해 결정질상의 정보 저장 소자(214)를 갖는 메모리 셀(210)의 저항이 증가하는 것을 보상할 수 있다.In an embodiment of the present invention, before the memory controller 220 reads data written to the memory cell 210 , a compensation current may be input to the memory cell 210 to solve the problem caused by the drift phenomenon. In an embodiment, the memory controller 220 may input the compensation current in the same second direction as the second current I2 , and use the compensation current to the switch device 215 while minimizing the effect on the information storage device 214 . can only be turned on. Accordingly, it is possible to compensate for an increase in resistance of the memory cell 210 having the crystalline information storage element 214 due to a drift phenomenon occurring in the switch element 215 .

일 실시예에서 보상 전류는, 읽기 동작이 완료된 이후에 입력될 수도 있다. 읽기 동작이 완료된 이후에 입력되는 보상 전류는 스위치 소자(215)의 드리프트 현상에 따른 메모리 셀(210)의 저항 증가를 보상하거나, 또는 읽기 전류에 의해 증가한 메모리 셀(210)의 저항을 보상할 수 있다. 또는 일 실시예에서, 보상 전류를 읽기 동작의 이전 및 이후에 모두 입력할 수도 있다.In an embodiment, the compensation current may be input after the read operation is completed. The compensation current input after the read operation is completed may compensate for the increase in the resistance of the memory cell 210 due to the drift phenomenon of the switch element 215 or compensate for the increase in the resistance of the memory cell 210 due to the read current. have. Alternatively, according to an embodiment, the compensation current may be input both before and after the read operation.

또한, 본 발명의 일 실시예에서는, 메모리 컨트롤러(220)가 메모리 셀(210)에 프로그램 전압을 공급한 후, 정보 저장 소자(214)를 빠르게 안정화시키기 위한 목적으로 보상 전류를 메모리 셀(210)에 입력하여 프로그램 동작을 완료할 수 있다. 프로그램 동작에서 메모리 셀(210)에 입력되는 보상 전류는, 프로그램 전압에 의해 비정질상으로 상변화된 정보 저장 소자(214) 내에서 드리프트 현상을 일으키는 에너지를 공급하기 위한 전압일 수 있다. 보상 전류에 의해 정보 저장 소자(214)가 비정질상에서 빠르게 안정화될 수 있으며, 결과적으로 정보 저장 소자(214)의 저항값이 빠르게 증가할 수 있다. 따라서, 정보 저장 소자(214)의 상변화에 따른 메모리 셀(210)의 저항 차이를 증가시킬 수 있으며, 메모리 컨트롤러(220)가 메모리 셀(210)에 기록된 데이터를 정확히 읽어올 수 있다. 프로그램 동작 이후 입력되는 보상 전류는, 메모리 셀(210)에 미치는 영향을 최소화할 수 있도록 제2 전류(I2)와 같은 제2 방향으로 입력될 수 있다.In addition, in one embodiment of the present invention, after the memory controller 220 supplies a program voltage to the memory cell 210 , a compensation current is applied to the memory cell 210 for the purpose of quickly stabilizing the information storage device 214 . You can complete the program operation by entering The compensation current input to the memory cell 210 in the program operation may be a voltage for supplying energy that causes a drift phenomenon in the information storage device 214 whose phase is changed to an amorphous phase by the program voltage. By the compensation current, the information storage element 214 may be rapidly stabilized in the amorphous phase, and as a result, the resistance value of the information storage element 214 may rapidly increase. Accordingly, the resistance difference of the memory cell 210 according to the phase change of the information storage element 214 may be increased, and the memory controller 220 may accurately read data written to the memory cell 210 . The compensation current input after the program operation may be input in the same second direction as the second current I2 to minimize the effect on the memory cell 210 .

도 6은 본 발명의 일 실시예에 따른 메모리 장치의 동작을 설명하기 위해 제공되는 도면이다.6 is a diagram provided to explain an operation of a memory device according to an embodiment of the present invention.

우선 도 6(a)를 참조하면, 셋 상태(set state)를 갖는 메모리 셀들에 읽기 전류를 입력할 때 검출되는 셋 읽기 전압 분포(300)와, 리셋 상태(reset state)를 갖는 메모리 셀들에 읽기 전류를 입력할 때 검출되는 리셋 읽기 전압 분포(400)가 도시되어 있다. 일 실시예에서 셋 상태는 정보 저장 소자가 결정질상을 갖는 상태일 수 있으며, 리셋 상태는 정보 저장 소자가 비정질상을 갖는 상태일 수 있다. 셋 상태에서 정보 저장 소자가 상대적으로 더 낮은 저항을 가지므로, 셋 읽기 전압 분포(300)가 리셋 읽기 전압 분포(400)보다 작을 수 있다.First, referring to FIG. 6A , a set read voltage distribution 300 detected when a read current is input to memory cells having a set state, and a read in memory cells having a reset state A reset read voltage distribution 400 detected when a current is input is shown. In an embodiment, the set state may be a state in which the information storage element has a crystalline phase, and the reset state may be a state in which the information storage element has an amorphous phase. Since the information storage element has a relatively lower resistance in the set state, the set read voltage distribution 300 may be smaller than the reset read voltage distribution 400 .

도 6(a)에 도시한 일 실시예는 스위치 소자 등에서 드리프트 현상 등이 발생하지 않는 이상적인 경우로서, 셋 읽기 전압 분포(300)는 제1 셋 분포(301)를 가질 수 있으며, 리셋 읽기 전압 분포(400)는 제1 리셋 분포(401)를 가질 수 있다. 도 6(a)를 참조하면, 제1 셋 분포(301)와 제1 리셋 분포(401) 사이에 소정의 센싱 마진(SM)이 존재할 수 있다. 메모리 컨트롤러는 메모리 셀들에서 검출한 읽기 전압을, 센싱 마진(SM) 내에 위치하는 기준 전압(VREF)과 비교함으로써 메모리 셀의 상태를 셋 상태와 리셋 상태 중 하나로 결정할 수 있다.The exemplary embodiment shown in FIG. 6( a ) is an ideal case in which a drift phenomenon does not occur in a switch element, etc., and the set read voltage distribution 300 may have the first set distribution 301 , and the reset read voltage distribution 400 may have a first reset distribution 401 . Referring to FIG. 6A , a predetermined sensing margin SM may exist between the first set distribution 301 and the first reset distribution 401 . The memory controller may determine the state of the memory cell as one of a set state and a reset state by comparing the read voltage detected from the memory cells with the reference voltage V REF positioned within the sensing margin SM.

다음으로 도 6(b)에 도시한 실시예는, 셋 상태를 갖는 메모리 셀의 스위치 소자에서 드리프트 현상이 발생하는 경우에 해당할 수 있다. 도 6(b)를 참조하면, 메모리 셀의 스위치 소자에서 발생하는 드리프트 현상에 의해 셋 읽기 전압 분포(300)가 제1 셋 분포(301)에서 제2 셋 분포(302)로 증가할 수 있다. 도 6(b)에 도시한 실시예를 도 6(a)에 도시한 실시예와 비교하면, 셋 읽기 전압 분포(300)가 제2 셋 분포(302)로 증가함에 따라 센싱 마진(SM)이 감소할 수 있다. 제1 셋 분포(301)와 제2 셋 분포(302)의 차이가 크면, 제2 셋 분포(302)의 일부가 기준 전압(VREF)과 중첩될 수도 있으며, 메모리 컨트롤러가 메모리 셀로부터 데이터를 읽어오는 읽기 동작에서 오류가 발생할 수 있다.Next, the embodiment shown in FIG. 6(b) may correspond to a case in which a drift phenomenon occurs in a switch element of a memory cell having a set state. Referring to FIG. 6B , the set read voltage distribution 300 may increase from the first set distribution 301 to the second set distribution 302 due to a drift phenomenon occurring in the switch element of the memory cell. Comparing the embodiment shown in FIG. 6(b) with the embodiment shown in FIG. 6(a), as the set read voltage distribution 300 increases to the second set distribution 302, the sensing margin SM increases. can decrease. If the difference between the first set distribution 301 and the second set distribution 302 is large, a portion of the second set distribution 302 may overlap the reference voltage V REF , and the memory controller receives data from the memory cell. An error may occur during a read operation.

도 7 및 도 8은 본 발명의 일 실시예에 따른 메모리 장치의 읽기 동작을 설명하기 위해 제공되는 도면들이다.7 and 8 are diagrams provided to explain a read operation of a memory device according to an embodiment of the present invention.

먼저 도 7을 참조하면, 본 발명의 일 실시예에서는 읽기 전류(IRD)를 입력한 이후에 보상 전류(ICP)를 입력할 수 있다. 도 7(a)를 참조하면, 보상 전류(ICP)는 읽기 전류(IRD)와 반대 방향으로 입력될 수 있다. 일례로, 읽기 전류(IRD)는 메모리 셀 내에서 스위치 소자로부터 정보 저장 소자로 흐르도록 입력될 수 있으며, 보상 전류(ICP)는 메모리 셀 내에서 정보 저장 소자로부터 스위치 소자로 흐르도록 입력될 수 있다. 따라서, 보상 전류(ICP)는 정보 저장 소자에 미치는 영향을 최소화하면서 스위치 소자를 턴-온시킬 수 있으며, 스위치 소자에서 발생하는 드리프트 현상을 제거할 수 있다.First, referring to FIG. 7 , in an embodiment of the present invention, after inputting the read current I RD , the compensation current I CP may be input. Referring to FIG. 7A , the compensation current I CP may be input in the opposite direction to the read current I RD . For example, the read current I RD may be input to flow from the switch element to the information storage element in the memory cell, and the compensation current I CP may be input to flow from the information storage element to the switch element in the memory cell. can Accordingly, the compensation current I CP may turn on the switch element while minimizing the effect on the information storage element, and may eliminate a drift phenomenon occurring in the switch element.

다음으로 도 7(b)를 참조하면, 보상 전류(ICP)와 읽기 전류(IRD)가 같은 방향으로 입력될 수도 있다. 도 7(b)에 도시한 일 실시예에서, 보상 전류(ICP)와 읽기 전류(IRD)는 모두 메모리 셀 내에서 정보 저장 소자로부터 스위치 소자로 흐르드록 입력될 수 있다. 따라서, 읽기 전류(IRD)에 의해 메모리 셀의 히터에서 발생하는 열이 최소화될 수 있으며, 정보 저장 소자에서 나타날 수 있는 상변화 현상을 효과적으로 억제할 수 있다. 또한, 보상 전류(ICP)를 이용하여 스위치 소자에서 발생하는 드리프트 현상을 제거할 수 있다. Next, referring to FIG. 7B , the compensation current I CP and the read current I RD may be input in the same direction. In the exemplary embodiment illustrated in FIG. 7B , both the compensation current I CP and the read current I RD may be input to flow from the information storage device to the switch device in the memory cell. Accordingly, heat generated in the heater of the memory cell by the read current I RD may be minimized, and a phase change phenomenon that may occur in the information storage device may be effectively suppressed. In addition, a drift phenomenon occurring in the switch element may be eliminated by using the compensation current I CP .

한편 도 8에 도시한 일 실시예에서는 읽기 전류(IRD)를 입력하기 이전에 보상 전류(ICP)를 입력할 수 있다. 도 8(a)를 참조하면, 보상 전류(ICP)는 읽기 전류(IRD)와 반대 방향으로 입력될 수 있다. 일례로, 읽기 전류(IRD)는 메모리 셀 내에서 스위치 소자로부터 정보 저장 소자로 흐르도록 입력될 수 있으며, 보상 전류(ICP)는 메모리 셀 내에서 정보 저장 소자로부터 스위치 소자로 흐르도록 입력될 수 있다. 따라서, 보상 전류(ICP)는 정보 저장 소자에 미치는 영향을 최소화하면서 스위치 소자를 턴-온시킬 수 있으며, 스위치 소자에서 발생하는 드리프트 현상을 제거할 수 있다.Meanwhile, in the exemplary embodiment illustrated in FIG. 8 , the compensation current I CP may be input before the read current I RD is input. Referring to FIG. 8A , the compensation current I CP may be input in the opposite direction to the read current I RD . For example, the read current I RD may be input to flow from the switch element to the information storage element in the memory cell, and the compensation current I CP may be input to flow from the information storage element to the switch element in the memory cell. can Accordingly, the compensation current I CP may turn on the switch element while minimizing the effect on the information storage element, and may eliminate a drift phenomenon occurring in the switch element.

도 8(b)에 도시한 일 실시예에서는, 보상 전류(ICP)와 읽기 전류(IRD)가 같은 방향으로 입력될 수 있다. 도 8(b)에 도시한 일 실시예에서, 보상 전류(ICP)와 읽기 전류(IRD)는 모두 메모리 셀 내에서 정보 저장 소자로부터 스위치 소자로 흐르드록 입력될 수 있다. 따라서, 읽기 전류(IRD)에 의해 메모리 셀의 히터에서 발생하는 열이 최소화될 수 있으며, 정보 저장 소자에서 나타날 수 있는 상변화 현상을 효과적으로 억제할 수 있다. 또한, 보상 전류(ICP)를 이용하여 스위치 소자에서 발생하는 드리프트 현상을 제거할 수 있다. In the exemplary embodiment illustrated in FIG. 8B , the compensation current I CP and the read current I RD may be input in the same direction. In the exemplary embodiment illustrated in FIG. 8B , both the compensation current I CP and the read current I RD may be input to flow from the information storage device to the switch device in the memory cell. Accordingly, heat generated in the heater of the memory cell by the read current I RD may be minimized, and a phase change phenomenon that may occur in the information storage device may be effectively suppressed. In addition, a drift phenomenon occurring in the switch element may be eliminated by using the compensation current I CP .

도 7 및 도 8을 참조하여 설명한 실시예들에서 보상 전류(ICP)의 크기는 읽기 전류(IRD)의 크기보다 클 수 있으며, 보상 전류(ICP)의 입력 시간은 읽기 전류(IRD)의 입력 시간보다 짧을 수 있다. 일례로, 읽기 전류(IRD)는 정보 저장 소자에서 상변화가 나타날 수 있는 크기를 갖는 제1 임계 전류보다 작은 반면, 보상 전류(ICP)는 상기 제1 임계 전류보다 클 수 있다. 다만, 본 발명의 다양한 실시예들에 따라, 보상 전류(ICP)의 크기 및 입력 시간은 다양하게 변형될 수 있다. 일 실시예에서, 도 7 및 도 8에 도시한 실시예들과 달리 보상 전류(ICP)는 복수 회에 걸쳐서 발생하는 펄스에 의해 메모리 셀들에 입력될 수도 있다.In the embodiments described with reference to FIGS. 7 and 8 , the magnitude of the compensation current I CP may be greater than the magnitude of the read current I RD , and the input time of the compensation current I CP is the read current I RD ) may be shorter than the input time. For example, the read current I RD may be smaller than the first threshold current having a magnitude at which a phase change may occur in the information storage device, whereas the compensation current I CP may be greater than the first threshold current. However, according to various embodiments of the present disclosure, the magnitude and input time of the compensation current I CP may be variously modified. In an embodiment, unlike the embodiments shown in FIGS. 7 and 8 , the compensation current I CP may be input to the memory cells by pulses generated multiple times.

도 9는 본 발명의 일 실시예에 따른 메모리 장치의 읽기 전압 분포를 나타낸 도면이다.9 is a diagram illustrating a read voltage distribution of a memory device according to an embodiment of the present invention.

일례로 도 9은 메모리 셀들에서 검출되는 셋 읽기 전압 분포(300)와 리셋 읽기 전압 분포(400)를 나타낸 도면일 수 있다. 먼저 도 9(a)를 참조하면, 셋 상태를 갖는 메모리 셀들의 제1 셋 분포(301)와 리셋 상태를 갖는 메모리 셀들의 제1 리셋 분포(401) 사이에 소정의 센싱 마진(SM)이 존재할 수 있다. 메모리 컨트롤러는, 메모리 셀들에 읽기 전류(IRD)를 입력하여 획득한 읽기 전압을, 센싱 마진(SM) 내에 존재하는 기준 전압(VREF)과 비교하여 메모리 셀들의 데이터를 판독할 수 있다. As an example, FIG. 9 may be a diagram illustrating a set read voltage distribution 300 and a reset read voltage distribution 400 detected in memory cells. First, referring to FIG. 9A , a predetermined sensing margin SM exists between a first set distribution 301 of memory cells having a set state and a first reset distribution 401 of memory cells having a reset state. can The memory controller may read data of the memory cells by comparing a read voltage obtained by inputting a read current I RD to the memory cells with a reference voltage V REF existing within the sensing margin SM.

본 발명의 일 실시예에서는, 다양한 요인에 의해 도 9(b)에 도시한 바와 같이 셋 읽기 전압 분포(300)가 제2 셋 분포(302)로 증가할 수 있다. 일 실시예에서, 셋 읽기 전압 분포(300)는 스위치 소자에서 발생하는 드리프트 현상 또는 읽기 전류(IRD)에 의해 정보 저장 소자에서 약한 상변화가 발생하는 소프트 프로그램 현상 등에 의해 증가할 수 있다. 셋 읽기 전압 분포(300)가 증가하여 센싱 마진(SM)이 감소하면, 읽기 동작의 정확도에 문제가 발생할 수 있다. 본 발명의 일 실시예에서는, 읽기 전류(IRD)를 입력하기 이전 또는 이후에, 메모리 셀들에 보상 전류(ICP)를 입력함으로써 상기와 같은 문제를 해결할 수 있다.According to an embodiment of the present invention, the set read voltage distribution 300 may increase to the second set distribution 302 as shown in FIG. 9B due to various factors. In an embodiment, the set read voltage distribution 300 may increase due to a drift phenomenon occurring in the switch element or a soft program phenomenon in which a weak phase change occurs in the information storage element due to the read current I RD . If the sensing margin SM decreases as the set read voltage distribution 300 increases, a problem may occur in the accuracy of the read operation. In an embodiment of the present invention, the above problem may be solved by inputting the compensation current I CP to the memory cells before or after inputting the read current I RD .

도 9(c)은 보상 전류(ICP)를 입력함으로써 나타나는 메모리 셀들의 읽기 전압 분포를 나타낸 도면일 수 있다. 도 9(c)를 참조하면, 읽기 전류(IRD)를 입력하기 이전 또는 이후에 입력된 보상 전류(ICP)에 의해 스위치 소자의 드리프트 현상 등이 제거될 수 있으며, 셋 읽기 전압 분포(300)가 제2 셋 분포(302)에서 제3 셋 분포(303)로 감소할 수 있다. 따라서, 셋 읽기 전압 분포(300)와 리셋 읽기 전압 분포(400) 사이의 센싱 마진(SM)이 증가할 수 있으며, 읽기 동작의 정확도를 개선할 수 있다. 9( c ) may be a diagram illustrating a read voltage distribution of memory cells displayed by inputting a compensation current I CP . Referring to FIG. 9(c) , the drift phenomenon of the switch element may be removed by the compensation current I CP input before or after the read current I RD is input, and the set read voltage distribution 300 ) may decrease from the second set distribution 302 to the third set distribution 303 . Accordingly, the sensing margin SM between the set read voltage distribution 300 and the reset read voltage distribution 400 may increase, and the accuracy of the read operation may be improved.

도 10은 본 발명의 일 실시예에 따른 메모리 장치의 읽기 동작을 설명하기 위해 제공되는 도면이다.10 is a diagram provided to explain a read operation of a memory device according to an embodiment of the present invention.

먼저 도 10을 참조하면, 본 발명의 일 실시예에서는 읽기 전류(IRD)의 입력 전후에 제1 및 제2 보상 전류(ICP1, ICP2)를 입력할 수 있다. 도 10(a)에 도시한 일 실시예에서, 제1 및 제2 보상 전류(ICP1, ICP2)는 읽기 전류(IRD)와 반대 방향으로 입력될 수 있다. 일례로, 읽기 전류(IRD)는 메모리 셀 내에서 스위치 소자로부터 정보 저장 소자로 흐르도록 입력되는 반면, 제1 및 제2 보상 전류(ICP1, ICP2)는 메모리 셀 내에서 정보 저장 소자로부터 스위치 소자로 흐르도록 입력될 수 있다. 따라서, 제1 및 제2 보상 전류(ICP1, ICP2)는 정보 저장 소자에 미치는 영향을 최소화하면서 스위치 소자를 턴-온시킬 수 있으며, 스위치 소자에서 발생하는 드리프트 현상을 제거할 수 있다.First, referring to FIG. 10 , in an embodiment of the present invention, first and second compensation currents I CP1 and I CP2 may be input before and after input of the read current I RD . 10A , the first and second compensation currents I CP1 and I CP2 may be input in opposite directions to the read current I RD . For example, the read current I RD is input to flow from the switch element to the information storage element in the memory cell, while the first and second compensation currents I CP1 and I CP2 are supplied from the information storage element in the memory cell. It can be input to flow to the switch element. Accordingly, the first and second compensation currents I CP1 and I CP2 may turn on the switch element while minimizing the effect on the information storage element, and may eliminate a drift phenomenon occurring in the switch element.

다음으로 도 10(b)를 참조하면, 제1 및 제2 보상 전류(ICP1, ICP2)와 읽기 전류(IRD)가 같은 방향으로 입력될 수도 있다. 도 10(b)에 도시한 일 실시예에서, 제1 및 제2 보상 전류(ICP1, ICP2)와 읽기 전류(IRD)는 모두 메모리 셀 내에서 정보 저장 소자로부터 스위치 소자로 흐르도록 입력될 수 있다. 따라서, 읽기 전류(IRD)에 의해 메모리 셀의 히터에서 발생하는 열이 최소화될 수 있으며, 정보 저장 소자에서 나타날 수 있는 상변화 현상을 효과적으로 억제할 수 있다. 또한, 제1 및 제2 보상 전류(ICP1, ICP2)를 이용하여 스위치 소자에서 발생하는 드리프트 현상을 제거할 수 있다. Next, referring to FIG. 10B , the first and second compensation currents I CP1 and I CP2 and the read current I RD may be input in the same direction. In the embodiment shown in FIG. 10( b ), the first and second compensation currents I CP1 , I CP2 and the read current I RD are both input to flow from the information storage element to the switch element in the memory cell. can be Accordingly, heat generated in the heater of the memory cell by the read current I RD may be minimized, and a phase change phenomenon that may occur in the information storage device may be effectively suppressed. In addition, a drift phenomenon occurring in the switch element may be eliminated by using the first and second compensation currents I CP1 and I CP2 .

도 10에는 제1 보상 전류(ICP1)가 제2 보상 전류(ICP2)보다 작은 크기를 갖는 것으로 도시되었으나, 반드시 이러한 형태로 한정되는 것은 아니다. 실시예들에 따라 제1 보상 전류(ICP1)와 제2 보상 전류(ICP2)는 서로 같은 크기를 갖거나, 또는 제1 보상 전류(ICP1)가 제2 보상 전류(ICP2)보다 작을 수 있다. 한편, 제1 보상 전류(ICP1)와 제2 보상 전류(ICP2) 각각의 입력 시간 역시, 다양하게 선택될 수 있다.Although it is illustrated in FIG. 10 that the first compensation current I CP1 has a smaller magnitude than the second compensation current I CP2 , the present invention is not limited thereto. In some embodiments, the first compensation current I CP1 and the second compensation current I CP2 have the same magnitude or the first compensation current I CP1 is smaller than the second compensation current I CP2 . can Meanwhile, the input time of each of the first compensation current I CP1 and the second compensation current I CP2 may also be variously selected.

도 11은 본 발명의 일 실시예에 따른 메모리 장치의 읽기 전압 분포를 나타낸 도면이다.11 is a diagram illustrating a read voltage distribution of a memory device according to an embodiment of the present invention.

일례로 도 11은, 도 10에 도시한 바와 같이, 메모리 셀들에 읽기 전류(IRD)를 입력하기 이전과 이후에 제1 및 제2 보상 전류(ICP1, ICP2)를 각각 입력하는 경우에 나타나는 읽기 전압의 분포를 도시한 도면일 수 있다. 도 11을 참조하면, 메모리 셀들의 셋 읽기 전압 분포(310)와 리셋 읽기 전압 분포(410) 사이에 센싱 마진(SM)이 존재할 수 있다.As an example, in FIG. 11 , when the first and second compensation currents I CP1 and I CP2 are input before and after inputting the read current I RD to the memory cells, respectively, as shown in FIG. 10 . It may be a diagram showing the distribution of the displayed read voltage. Referring to FIG. 11 , a sensing margin SM may exist between the set read voltage distribution 310 and the reset read voltage distribution 410 of the memory cells.

먼저 도 11(a)를 참조하면, 셋 상태를 갖는 메모리 셀들의 읽기 전압은 제1 셋 분포(311)를 가질 수 있으며, 리셋 상태를 갖는 메모리 셀들의 읽기 전압은 제1 리셋 분포(411)를 가질 수 있다. 메모리 셀들로부터 검출되는 읽기 전압의 분포가 도 10(a)와 같을 경우, 메모리 컨트롤러는 메모리 셀들에 읽기 전류(IRD)를 입력하여 읽기 전압을 획득하고, 상기 읽기 전압을 기준 전압(VREF)과 비교하여 메모리 셀들의 데이터를 읽어올 수 있다. 상기 기준 전압(VREF)은 센싱 마진(SM)내에 포함되는 전압일 수 있다.First, referring to FIG. 11A , read voltages of memory cells having a set state may have a first set distribution 311 , and read voltages of memory cells having a reset state may have a first reset distribution 411 . can have When the distribution of read voltages detected from the memory cells is the same as in FIG. 10A , the memory controller obtains a read voltage by inputting a read current I RD to the memory cells, and sets the read voltage to a reference voltage V REF . In comparison with , data of memory cells may be read. The reference voltage V REF may be a voltage included in the sensing margin SM.

다만 본 발명의 일 실시예에서는, 다양한 요인에 의해 도 11(b)에 도시한 바와 같이 셋 읽기 전압 분포(310)가 변할 수 있다. 일 실시예에서, 셋 읽기 전압 분포(310)는 스위치 소자에서 발생하는 드리프트 현상, 및/또는 읽기 전류(IRD)에 의해 정보 저장 소자에서 약한 상변화가 발생하는 소프트 프로그램 현상 등에 의해 제2 셋 분포(312)로 증가할 수 있다. 셋 읽기 전압 분포(310)가 제2 셋 분포(312)로 증가하여 센싱 마진(SM)이 감소하면, 읽기 동작의 정확도에 문제가 발생할 수 있다. 본 발명의 일 실시예에서는, 읽기 전류(IRD)를 입력하기 이전 및 이후에, 메모리 셀들에 제1 및 제2 보상 전류(ICP1, ICP2)를 입력함으로써 상기와 같은 문제를 해결할 수 있다.However, in an embodiment of the present invention, the set read voltage distribution 310 may be changed as shown in FIG. 11( b ) due to various factors. In one embodiment, the set read voltage distribution 310 is the second set by a drift phenomenon occurring in the switch element, and/or a soft program phenomenon in which a weak phase change occurs in the information storage element by the read current I RD , etc. distribution 312 may increase. When the sensing margin SM decreases as the set read voltage distribution 310 increases to the second set distribution 312 , a problem may occur in the accuracy of the read operation. In an embodiment of the present invention, before and after inputting the read current I RD , the first and second compensation currents I CP1 and I CP2 are input to the memory cells to solve the above problem. .

도 11(c)은 제1 보상 전류(ICP1)를 입력한 이후에 나타나는 메모리 셀들의 읽기 전압 분포를 나타낸 도면일 수 있다. 도 11(c)를 참조하면, 읽기 전류(IRD)를 입력하기 이전에 입력되는 제1 보상 전류(ICP1)에 의해 스위치 소자의 드리프트 현상 등이 제거될 수 있으며, 셋 읽기 전압 분포(310)가 제2 셋 분포(312)에서 제3 셋 분포(313)로 감소할 수 있다. 따라서, 셋 읽기 전압 분포(310)와 리셋 읽기 전압 분포(410) 사이의 센싱 마진(SM)이 증가할 수 있으며, 읽기 동작의 정확도를 개선할 수 있다.11C may be a diagram illustrating a read voltage distribution of memory cells that appear after the first compensation current I CP1 is input. Referring to FIG. 11(c) , the drift phenomenon of the switch element may be removed by the first compensation current I CP1 input before the read current I RD is input, and the set read voltage distribution 310 ) may decrease from the second set distribution 312 to the third set distribution 313 . Accordingly, the sensing margin SM between the set read voltage distribution 310 and the reset read voltage distribution 410 may increase, and the accuracy of the read operation may be improved.

다음으로 도 11(d)를 참조하면, 읽기 전류(IRD)에 의해 메모리 셀의 정보 저장 소자에서 약한 상변화가 발생할 수 있으며, 그에 따라 셋 읽기 전압 분포(310)가 제3 셋 분포(313)에서 제4 셋 분포(314)로 증가할 수 있다. 이와 같은 읽기 전류(IRD)에 의한 소프트 프로그램 현상에 의해, 센싱 마진(SM)이 감소할 수 있으며, 이는 다음에 실행되는 읽기 동작의 정확도를 저하시키는 원인이 될 수 있다.Next, referring to FIG. 11(d) , a weak phase change may occur in the information storage device of the memory cell due to the read current I RD , and accordingly, the set read voltage distribution 310 changes to the third set distribution 313 . ) to the fourth set distribution 314 . Due to the soft programming phenomenon by the read current I RD , the sensing margin SM may decrease, which may cause deterioration of the accuracy of the next read operation.

본 발명에서는, 읽기 전류(IRD)를 입력하여 메모리 셀들의 데이터를 읽어온 후에 제2 보상 전류(ICP2)를 입력하여 상기와 같은 센싱 마진(SM) 감소를 보상할 수 있다. 도 11(e)를 참조하면, 제2 보상 전류(ICP2)에 의해 셋 읽기 전압 분포(310)가 제5 셋 분포(305)로 감소할 수 있으며, 그로부터 센싱 마진(SM)이 증가할 수 있다. 따라서, 이후에 실행되는 읽기 동작에서 충분한 센싱 마진(SM)을 확보할 수 있고, 읽기 동작의 에러율을 최소화할 수 있다.In the present invention, after reading the data of the memory cells by inputting the read current I RD , the second compensation current I CP2 may be input to compensate for the decrease in the sensing margin SM as described above. Referring to FIG. 11(e) , the set read voltage distribution 310 may decrease to the fifth set distribution 305 by the second compensation current I CP2 , and the sensing margin SM may increase therefrom. have. Accordingly, it is possible to secure a sufficient sensing margin SM in a read operation to be executed later, and to minimize an error rate in the read operation.

도 12는 본 발명의 일 실시예에 따른 메모리 장치의 동작을 설명하기 위해 제공되는 도면이다.12 is a diagram provided to explain an operation of a memory device according to an embodiment of the present invention.

도 12를 참조하면, 셋 상태를 갖는 메모리 셀들에서 검출되는 셋 읽기 전압 분포(500)와, 리셋 상태를 갖는 메모리 셀들에서 검출되는 리셋 읽기 전압 분포(600)가 도시되어 있다. 셋 읽기 전압과 리셋 읽기 전압은, 셋 상태를 갖는 메모리 셀들과 리셋 상태를 갖는 메모리 셀들 각각에 소정의 읽기 전류를 입력하여 검출하는 전압일 수 있다. 앞서 설명한 바와 같이, 셋 상태의 메모리 셀들이 리셋 상태의 메모리 셀들보다 상대적으로 더 낮은 저항을 가지므로, 셋 읽기 전압 분포(500)는 리셋 읽기 전압 분포(600)보다 작을 수 있다.12 , a set read voltage distribution 500 detected in memory cells having a set state and a reset read voltage distribution 600 detected in memory cells having a reset state are illustrated. The set read voltage and reset read voltage may be voltages detected by inputting a predetermined read current to each of the memory cells having the set state and the memory cells having the reset state. As described above, since the memory cells in the set state have a relatively lower resistance than the memory cells in the reset state, the set read voltage distribution 500 may be smaller than the reset read voltage distribution 600 .

도 12(a)는 메모리 장치에 포함되는 메모리 셀들이 프로그램되지 않은 상태를 나타낸 그래프일 수 있다. 즉, 도 12(a)는 모든 메모리 셀들이 셋 상태를 갖는 상태에 대응할 수 있으며, 따라서 셋 읽기 전압 분포(500)만이 나타날 수 있다.12A may be a graph illustrating a state in which memory cells included in a memory device are not programmed. That is, FIG. 12A may correspond to a state in which all memory cells have a set state, and thus only the set read voltage distribution 500 may appear.

도 12(b)는 메모리 장치에 포함되는 메모리 셀들 중 일부가 프로그램되어 리셋 상태로 전환된 상태를 나타낸 그래프일 수 있다. 도 12(b)를 참조하면 셋 읽기 전압 분포(500)와 함께 리셋 읽기 전압 분포(600)가 나타나며, 셋 읽기 전압 분포(500)는 제1 셋 분포(501)를 갖고, 리셋 읽기 전압 분포(600)는 제1 리셋 분포(601)를 가질 수 있다. 제1 셋 분포(501)와 제1 리셋 분포(601) 사이에는 센싱 마진(SM)이 존재할 수 있다. 메모리 장치는 메모리 셀들 각각으로부터 검출한 읽기 전압을 센싱 마진(SM)에 포함되는 소정의 기준 전압(VREF)과 비교함으로써, 메모리 셀들 각각에 프로그램된 데이터를 읽어오는 읽기 동작을 수행할 수 있다.12B may be a graph illustrating a state in which some of memory cells included in the memory device are programmed and switched to a reset state. Referring to FIG. 12( b ), a reset read voltage distribution 600 is shown together with the set read voltage distribution 500 , and the set read voltage distribution 500 has a first set distribution 501 , and a reset read voltage distribution ( 600 may have a first reset distribution 601 . A sensing margin SM may exist between the first set distribution 501 and the first reset distribution 601 . The memory device may perform a read operation of reading data programmed into each of the memory cells by comparing the read voltage detected from each of the memory cells with a predetermined reference voltage V REF included in the sensing margin SM.

셋 읽기 전압 분포(500)와 리셋 읽기 전압 분포(600) 사이의 센싱 마진(SM)이 클수록 읽기 동작의 에러율을 낮출 수 있다. 본 발명의 일 실시예에 따른 메모리 장치에서는, 메모리 셀에 데이터를 기록하는 프로그램 동작에 의해, 메모리 셀에 포함되는 정보 저장 소자가 결정질상에서 비정질상으로 변할 수 있다. 다만, 정보 저장 소자가 비정질상에서 안정화되어 메모리 셀의 저항이 증가할 때까지 시간이 더 필요할 수 있으며, 따라서 프로그램 동작 직후에는 도 12(b)와 같이 센싱 마진(SM)이 충분히 확보되지 않을 수 있다.As the sensing margin SM between the set read voltage distribution 500 and the reset read voltage distribution 600 increases, the error rate of the read operation may be reduced. In the memory device according to an embodiment of the present invention, an information storage element included in the memory cell may change from a crystalline phase to an amorphous phase by a program operation for writing data to the memory cell. However, more time may be required until the information storage device is stabilized in the amorphous phase and the resistance of the memory cell is increased. Therefore, the sensing margin SM may not be sufficiently secured as shown in FIG. .

도 12(c)는 프로그램 동작이 종료되고 시간이 경과한 후의 셋 읽기 전압 분포(500)와 리셋 읽기 전압 분포(600)를 나타낸 그래프일 수 있다. 앞서 설명한 바와 같이, 프로그램 동작이 종료되고 시간이 경과함에 따라 리셋 상태로 전환된 메모리 셀들의 정보 저장 소자가 비정질상에서 안정화될 수 있다. 따라서, 도 12(c)에 도시한 바와 같이 리셋 읽기 전압 분포(600)가 제1 리셋 분포(601)에서 제2 리셋 분포(602)로 증가할 수 있다.12( c ) may be a graph illustrating the set read voltage distribution 500 and the reset read voltage distribution 600 after the program operation is terminated and time elapses. As described above, the information storage element of the memory cells switched to the reset state as time elapses after the end of the program operation may be stabilized in the amorphous phase. Accordingly, as shown in FIG. 12C , the reset read voltage distribution 600 may increase from the first reset distribution 601 to the second reset distribution 602 .

다만, 리셋 상태로 프로그램된 메모리 셀들이 안정화되어 리셋 읽기 전압 분포(600)가 증가할 때까지 시간이 필요하므로 프로그램 동작 직후에는 센싱 마진(SM)을 효과적으로 확보할 수 없다. 또한, 프로그램 동작이 종료되고 시간이 경과함에 따라, 메모리 셀들의 스위치 소자에서 발생하는 드리프트 현상으로 인해, 메모리 셀들의 저항이 증가할 수 있다. 특히, 셋 상태를 갖는 메모리 셀들에서 발생하는 드리프트 현상에 의해 셋 상태의 메모리 셀들의 저항이 증가할 수 있다. 따라서 도 12(c)에 도시한 바와 같이 셋 읽기 전압 분포(500)가 제1 셋 분포(501)에서 제2 셋 분포(502)로 증가할 수 있으며, 센싱 마진(SM)이 프로그램 동작 직후에 비하여 크게 증가하지 않을 수 있다.However, since it takes time until the memory cells programmed in the reset state are stabilized and the reset read voltage distribution 600 increases, the sensing margin SM cannot be effectively secured immediately after the program operation. In addition, as time elapses after the program operation is terminated, the resistance of the memory cells may increase due to a drift phenomenon occurring in the switch element of the memory cells. In particular, resistance of the memory cells in the set state may increase due to a drift phenomenon occurring in the memory cells in the set state. Therefore, as shown in FIG. 12(c) , the set read voltage distribution 500 may increase from the first set distribution 501 to the second set distribution 502 , and the sensing margin SM increases immediately after the program operation. may not increase significantly.

본 발명에서는 메모리 셀들에 데이터를 기록하기 위한 프로그램 전류를 입력한 후, 소정의 보상 전류를 메모리 셀들에 입력함으로써 상기와 같은 문제를 해결할 수 있다. 이하, 도 13 및 도 14를 참조하여 설명하기로 한다.In the present invention, the above problem can be solved by inputting a program current for writing data to the memory cells and then inputting a predetermined compensation current to the memory cells. Hereinafter, it will be described with reference to FIGS. 13 and 14 .

도 13은 본 발명의 일 실시예에 따른 메모리 장치의 프로그램 동작을 설명하기 위해 제공되는 도면이며, 도 14는 본 발명의 일 실시예에 따른 메모리 장치의 읽기 전압 분포를 나타낸 도면이다.13 is a diagram provided to explain a program operation of a memory device according to an embodiment of the present invention, and FIG. 14 is a diagram illustrating a read voltage distribution of a memory device according to an embodiment of the present invention.

먼저 도 13을 참조하면, 본 발명의 일 실시예에서는 프로그램 전류(IPGM)를 입력한 이후에 보상 전류(ICP)를 입력할 수 있다. 보상 전류(ICP)는 프로그램 전류(IPGM)와 반대 방향으로 입력될 수 있다. 일례로, 프로그램 전류(IPGM)는 메모리 셀 내에서 스위치 소자로부터 정보 저장 소자로 흐르도록 입력될 수 있으며, 보상 전류(ICP)는 메모리 셀 내에서 정보 저장 소자로부터 스위치 소자로 흐르도록 입력될 수 있다. First, referring to FIG. 13 , in an embodiment of the present invention, after inputting the program current I PGM , the compensation current I CP may be input. The compensation current I CP may be input in a direction opposite to the program current I PGM . For example, the program current I PGM may be input to flow from the switch element to the information storage element in the memory cell, and the compensation current I CP may be input to flow from the information storage element to the switch element in the memory cell. can

일 실시예에서, 보상 전류(ICP)는 프로그램 전류(IPGM)에 의해 정보 저장 소자가 비정질상으로 전이된 리셋 상태의 메모리 셀들에 입력될 수 있다. 보상 전류(ICP)에 의해, 리셋 상태의 메모리 셀들에 포함된 정보 저장 소자가, 비정질상에서 빠르게 안정화될 수 있으며, 따라서 리셋 상태의 메모리 셀들의 저항이 빠르게 증가할 수 있다. 따라서, 프로그램 동작 이후 빠르게 센싱 마진을 확보할 수 있으며, 메모리 장치를 정확히 동작시킬 수 있다.In an embodiment, the compensation current I CP may be input to the memory cells in the reset state in which the information storage device is transitioned to the amorphous phase by the program current I PGM . By the compensation current I CP , the information storage element included in the memory cells in the reset state may be rapidly stabilized in the amorphous phase, and thus the resistance of the memory cells in the reset state may be rapidly increased. Accordingly, it is possible to quickly secure a sensing margin after the program operation, and to operate the memory device accurately.

또한 일 실시예에서, 보상 전류(ICP)는 리셋 상태의 메모리 셀들 외에, 프로그램 전류(IPGM)가 입력되지 않은 셋 상태의 메모리 셀들에도 입력될 수 있다. 셋 상태의 메모리 셀들에 입력되는 보상 전류(ICP)는 스위치 소자에서 발생하는 드리프트 현상을 제거할 수 있다. 따라서, 보상 전류(ICP) 셋 상태의 메모리 셀들의 저항이 증가하는 것을 방지할 수 있으며, 결과적으로 셋 상태의 메모리 셀들과 리셋 상태의 메모리 셀들 사이의 센싱 마진을 증가시킬 수 있다.Also, in an embodiment, the compensation current I CP may be input to memory cells in a set state to which the program current I PGM is not input in addition to the memory cells in the reset state. The compensation current I CP input to the memory cells in the set state may remove a drift phenomenon occurring in the switch element. Accordingly, it is possible to prevent the resistance of the memory cells in the set state of the compensation current I CP from increasing, and as a result, a sensing margin between the memory cells in the set state and the memory cells in the reset state may be increased.

보상 전류(ICP)의 크기와 입력 시간은 다양하게 결정될 수 있다. 일례로, 보상 전류(ICP)의 크기 및 입력 시간은 프로그램 전류(IPGM)의 크기 및 입력 시간과 각각 비슷할 수 있다. 프로그램 전류(IPGM)와 보상 전류(ICP)는 정보 저장 소자에서 상변화를 일으킬 수 있는 크기를 갖는 제1 임계 전류보다 클 수 있다.The magnitude and input time of the compensation current I CP may be variously determined. For example, the magnitude and input time of the compensation current I CP may be similar to the magnitude and input time of the program current I PGM , respectively. The program current I PGM and the compensation current I CP may be greater than the first threshold current having a magnitude capable of causing a phase change in the information storage device.

도 14는 메모리 셀들에 소정의 읽기 전류를 입력하여 검출한 읽기 전압의 분포를 나타낸 도면일 수 있다. 먼저 도 14(a)를 참조하면, 프로그램 동작이 실행되기 전에 셋 읽기 전압 분포(500)만이 나타날 수 있다. 프로그램 전류(IPGM)가 일부의 메모리 셀들에 입력되면, 도 14(b)에 도시한 바와 같이 셋 읽기 전압 분포(500)와 함께 리셋 읽기 전압 분포(600)를 획득할 수 있다. 셋 읽기 전압 분포(500)는 제1 셋 분포(501)를 가질 수 있고, 리셋 읽기 전압 분포(600)는 제1 리셋 분포(601)를 가질 수 있으며, 제1 셋 분포(501)와 제1 리셋 분포(601) 사이에는 센싱 마진(SM)이 존재할 수 있다.14 may be a diagram illustrating a distribution of read voltages detected by inputting a predetermined read current to memory cells. First, referring to FIG. 14A , only the set read voltage distribution 500 may appear before the program operation is executed. When the program current I PGM is input to some of the memory cells, the reset read voltage distribution 600 may be obtained together with the set read voltage distribution 500 as shown in FIG. 14B . The set read voltage distribution 500 may have a first set distribution 501 , the reset read voltage distribution 600 may have a first reset distribution 601 , and the first set distribution 501 and the first A sensing margin SM may exist between the reset distributions 601 .

본 발명의 일 실시예에서는, 프로그램 전류(IPGM)가 입력된 이후, 보상 전류(ICP)를 메모리 셀들에 입력할 수 있다. 앞서 설명한 바와 같이, 보상 전류(ICP)는 리셋 상태의 메모리 셀들에만 입력되거나, 또는 리셋 상태의 메모리 셀들과 셋 상태의 메모리 셀들에 모두 입력될 수 있다. In an embodiment of the present invention, after the program current I PGM is input, the compensation current I CP may be input to the memory cells. As described above, the compensation current I CP may be input only to the memory cells in the reset state, or may be input to both the memory cells in the reset state and the memory cells in the set state.

리셋 상태의 메모리 셀들에 입력되는 보상 전류(ICP)는 리셋 상태를 갖는 메모리 셀들의 정보 저장 소자를 비정질상에서 빠르게 안정화시킬 수 있다. 따라서, 도 14(c)에 도시한 바와 같이, 보상 전류(ICP)에 의해 리셋 읽기 전압 분포(600)가 제2 리셋 분포(602)까지 빠르게 증가하여 안정화될 수 있다.The compensation current I CP input to the memory cells in the reset state may rapidly stabilize the information storage device of the memory cells in the reset state in the amorphous phase. Accordingly, as shown in FIG. 14(c) , the reset read voltage distribution 600 rapidly increases up to the second reset distribution 602 by the compensation current I CP and may be stabilized.

또한 본 발명의 일 실시예에서는, 셋 상태의 메모리 셀들에도 프로그램 동작 이후에 보상 전류(ICP)가 입력될 수 있다. 셋 상태의 메모리 셀들에 입력되는 보상 전류(ICP)는 셋 상태를 갖는 메모리 셀들의 스위치 소자에서 발생하는 드리프트 현상을 제거할 수 있다. 드리프트 현상은 메모리 셀들의 저항을 증가시키는 요인이 될 수 있으므로, 보상 전류(ICP)는 셋 읽기 전압 분포(500)가 제1 셋 분포(501)로부터 증가하는 것을 최소화할 수 있다. Also, according to an embodiment of the present invention, the compensation current I CP may be input to the memory cells in the set state after the program operation. The compensation current I CP input to the memory cells in the set state may remove a drift phenomenon occurring in the switch element of the memory cells in the set state. Since the drift phenomenon may be a factor to increase the resistance of the memory cells, the compensation current I CP may minimize the increase in the set read voltage distribution 500 from the first set distribution 501 .

요약하면, 보상 전류(ICP)에 의해 셋 읽기 전압 분포(500)의 증가를 최소화하고, 리셋 읽기 전압 분포(600)를 빠르게 증가 및 안정화시킬 수 있다. 따라서, 도 14(c)에 도시한 바와 같이 센싱 마진(SM)을 증가시킬 수 있으며, 결과적으로 메모리 장치의 읽기 동작의 정확도를 개선할 수 있다.In summary, an increase in the set read voltage distribution 500 may be minimized by the compensation current I CP , and the reset read voltage distribution 600 may be rapidly increased and stabilized. Accordingly, as shown in FIG. 14C , the sensing margin SM may be increased, and as a result, the accuracy of the read operation of the memory device may be improved.

본 발명의 다양한 실시예들에서는, 메모리 셀들에 동작 전류를 입력하기 이전 및/또는 이후에, 메모리 셀들에 보상 전류를 입력하여 다양한 효과를 얻을 수 있다. 일 실시예에서 동작 전류는, 메모리 셀들로부터 데이터를 읽어오기 위한 읽기 전류, 또는 메모리 셀들에 데이터를 기록하기 위한 프로그램 전류일 수 있다. 보상 전류의 크기 및 입력 시간은, 동작 전류의 크기 및 입력 시간 등을 고려하여 다양하게 선택될 수 있다.In various embodiments of the present disclosure, various effects may be obtained by inputting a compensation current to the memory cells before and/or after inputting the operating current to the memory cells. In an embodiment, the operating current may be a read current for reading data from the memory cells or a program current for writing data to the memory cells. The magnitude and input time of the compensation current may be variously selected in consideration of the magnitude and input time of the operating current.

보상 전류는 메모리 셀 내에서 정보 저장 소자로부터 스위치 소자로 흐르도록, 메모리 셀에 입력될 수 있다. 실시예들에 따라, 보상 전류가 흐르는 방향은 동작 전류가 흐르는 방향과 같거나 다를 수 있다. 동작 전류가 프로그램 전류인 경우, 보상 전류는 동작 전류와 반대 방향으로 흐를 수 있다. 동작 전류가 읽기 전류인 경우, 동작 전류와 보상 전류는 같은 방향으로 흐르거나 다른 방향으로도 흐를 수 있다.A compensation current may be input to the memory cell to flow from the information storage element to the switch element in the memory cell. According to embodiments, the direction in which the compensation current flows may be the same as or different from the direction in which the operating current flows. When the operating current is the program current, the compensation current may flow in a direction opposite to the operating current. When the operating current is a read current, the operating current and the compensation current may flow in the same direction or in different directions.

일례로, 읽기 전류 이전 및/또는 이후에 입력되는 보상 전류는 셋 상태를 갖는 메모리 셀에서 발생하는 드리프트 현상, 및 읽기 전류에 의해 스위치 소자가 턴-온되어 정보 저장 소자의 일부가 비정질상으로 전이되는 소프트 프로그램 현상 등을 보상할 수 있다. 한편, 프로그램 전류 이후에 공급되는 보상 전류는 리셋 상태의 메모리 셀에서 정보 저장 소자를 빠르게 안정화시켜 센싱 마진을 확보하는 데에 기여할 수 있다.For example, the compensation current input before and/or after the read current is a drift phenomenon that occurs in a memory cell having a set state, and a switch element is turned on by the read current so that a part of the information storage element is transitioned to an amorphous phase. Soft program phenomenon and the like can be compensated. Meanwhile, the compensation current supplied after the program current may contribute to securing a sensing margin by rapidly stabilizing the information storage device in the reset state memory cell.

도 15는 본 발명의 일 실시예에 따른 메모리 장치를 포함하는 전자 기기를 간단하게 나타낸 블록도이다.15 is a schematic block diagram illustrating an electronic device including a memory device according to an embodiment of the present invention.

도 15에 도시한 실시예에 따른 전자 기기(1000)는 디스플레이(1010), 입출력부(1020), 메모리(1030), 프로세서(1040), 및 포트(1050) 등을 포함할 수 있다. 디스플레이(1010), 입출력부(1020), 메모리(1030), 프로세서(1040), 및 포트(1050) 등의 구성 요소들은 버스(1060)를 통해 서로 통신할 수 있다. 상기 도시한 구성 요소들 외에, 전자 기기(1000)는 전원 장치, 통신부, 센서부 등을 더 포함할 수 있다. The electronic device 1000 according to the embodiment shown in FIG. 15 may include a display 1010 , an input/output unit 1020 , a memory 1030 , a processor 1040 , and a port 1050 . Components such as the display 1010 , the input/output unit 1020 , the memory 1030 , the processor 1040 , and the port 1050 may communicate with each other through the bus 1060 . In addition to the components shown above, the electronic device 1000 may further include a power supply unit, a communication unit, a sensor unit, and the like.

프로세서(1040)는 특정 연산이나 명령어 및 태스크 등을 수행할 수 있다. 프로세서(1040)는 중앙 처리 장치(CPU), 마이크로프로세서 유닛(MCU), 또는 애플리케이션 프로세서(AP) 등일 수 있으며, 버스(1060)를 통해 디스플레이(1010), 입출력부(1020), 메모리(1030), 포트(1050) 등의 다른 구성 요소들과 통신할 수 있다. The processor 1040 may perform a specific operation, an instruction, a task, or the like. The processor 1040 may be a central processing unit (CPU), a microprocessor unit (MCU), an application processor (AP), or the like, and a display 1010 , an input/output unit 1020 , a memory 1030 through a bus 1060 . , port 1050, and other components.

도 15에 도시한 전자 기기(1000)가 포함하는 메모리(1030)는, 본 발명의 다양한 실시예들에 따른 메모리 장치를 포함할 수 있다. 일례로, 메모리(1030)는 도 1 내지 도 14를 참조하여 설명한 다양한 실시예들에 따른 메모리 장치로 구현될 수 있다. 메모리(1030)는 복수의 메모리 셀들을 포함할 수 있으며, 읽기/프로그램 등의 제어 동작을 실행하기 위한 동작 전류의 입력 이전 및/또는 이후에, 소정의 보상 전류를 메모리 셀들에 입력할 수 있다. 보상 전류는 메모리 셀들에서 발생하는 드리프트 현상, 소프트 프로그램 현상 등을 보상하거나, 또는 리셋 상태로 프로그램된 메모리 셀들을 빠르게 안정화시켜 읽기 동작에 필요한 센싱 마진을 확보하는 데에 기여할 수 있다.The memory 1030 included in the electronic device 1000 illustrated in FIG. 15 may include memory devices according to various embodiments of the present disclosure. For example, the memory 1030 may be implemented as a memory device according to various embodiments described with reference to FIGS. 1 to 14 . The memory 1030 may include a plurality of memory cells, and a predetermined compensation current may be input to the memory cells before and/or after input of an operating current for executing a control operation such as read/program. The compensation current may contribute to securing a sensing margin necessary for a read operation by compensating for a drift phenomenon, a soft programming phenomenon, etc. occurring in the memory cells or by rapidly stabilizing memory cells programmed in a reset state.

본 발명은 상술한 실시형태 및 첨부된 도면에 의해 한정되는 것이 아니며 첨부된 청구범위에 의해 한정하고자 한다. 따라서, 청구범위에 기재된 본 발명의 기술적 사상을 벗어나지 않는 범위 내에서 당 기술분야의 통상의 지식을 가진 자에 의해 다양한 형태의 치환, 변형 및 변경이 가능할 것이며, 이 또한 본 발명의 범위에 속한다고 할 것이다.The present invention is not limited by the above-described embodiments and the accompanying drawings, but is intended to be limited by the appended claims. Therefore, various types of substitution, modification and change will be possible by those skilled in the art within the scope not departing from the technical spirit of the present invention described in the claims, and it is also said that it falls within the scope of the present invention. something to do.

10: 메모리 장치
20: 메모리 컨트롤러
30: 메모리 셀 어레이
100, 210: 메모리 셀
220: 메모리 컨트롤러
300, 500: 셋 읽기 전압 분포
400, 600: 리셋 읽기 전압 분포
10: memory device
20: memory controller
30: memory cell array
100, 210: memory cell
220: memory controller
300, 500: set read voltage distribution
400, 600: reset read voltage distribution

Claims (20)

스위치 소자 및 상기 스위치 소자와 연결되며 상변화 물질을 갖는 정보 저장 소자를 갖는 메모리 셀을 복수 개 포함하는 메모리 셀 어레이; 및
상기 메모리 셀에 동작 전류를 입력하여 상기 메모리 셀에 대한 제어 동작을 실행하며, 상기 동작 전류의 입력 이전 및 이후 중 적어도 하나에 상기 메모리 셀 내에서 상기 정보 저장 소자로부터 상기 스위치 소자로 흐르는 보상 전류를 상기 메모리 셀에 입력하는 메모리 컨트롤러; 를 포함하며,
상기 보상 전류가 흐르는 방향과 상기 동작 전류가 흐르는 방향은 서로 반대인, 메모리 장치.
a memory cell array including a plurality of memory cells having a switch element and an information storage element connected to the switch element and having a phase change material; and
A control operation is performed on the memory cell by inputting an operating current into the memory cell, and a compensating current flowing from the information storage element to the switch element in the memory cell at least one before and after the input of the operating current is applied. a memory controller inputting to the memory cell; includes,
A direction in which the compensation current flows and a direction in which the operating current flows are opposite to each other.
제1항에 있어서,
상기 제어 동작이 프로그램 동작이면, 상기 메모리 컨트롤러는 상기 동작 전류의 입력 이후에 상기 보상 전류를 상기 메모리 셀에 입력하는 메모리 장치.
According to claim 1,
When the control operation is a program operation, the memory controller inputs the compensation current to the memory cell after the operation current is input.
삭제delete 제2항에 있어서,
상기 메모리 컨트롤러는, 리셋 상태를 갖는 상기 메모리 셀에만 상기 보상 전류를 입력하는 메모리 장치.
3. The method of claim 2,
The memory controller is configured to input the compensation current only to the memory cell having a reset state.
제1항에 있어서,
상기 제어 동작이 읽기 동작이면, 상기 메모리 컨트롤러는 상기 동작 전류의 입력 이전 또는 이후에 상기 보상 전류를 상기 메모리 셀에 입력하는 메모리 장치.
The method of claim 1,
When the control operation is a read operation, the memory controller inputs the compensation current to the memory cell before or after the input of the operation current.
삭제delete 제5항에 있어서,
상기 보상 전류의 크기는 상기 동작 전류의 크기보다 큰 메모리 장치.
6. The method of claim 5,
The magnitude of the compensation current is greater than the magnitude of the operating current.
제5항에 있어서,
상기 메모리 컨트롤러는, 셋 상태를 갖는 상기 메모리 셀에만 상기 보상 전류를 입력하는 메모리 장치.
6. The method of claim 5,
The memory controller is configured to input the compensation current only to the memory cell having a set state.
제1 전극, 상기 제1 전극에 연결되는 스위치 소자, 상기 스위치 소자와 연결되는 정보 저장 소자, 및 상기 정보 저장 소자에 연결되는 제2 전극을 갖는 메모리 셀을 복수 개 포함하는 메모리 셀 어레이; 및
상기 메모리 셀의 상기 제1 전극으로 읽기 전류를 입력하여 상기 메모리 셀에 저장된 데이터를 읽어오며, 상기 읽기 전류의 입력 이전 및 이후 중 적어도 하나에 상기 제2 전극으로 보상 전류를 입력하는 메모리 컨트롤러; 를 포함하며,
상기 읽기 전류는 상기 제1 전극으로 입력되어 상기 스위치 소자로부터 상기 정보 저장 소자로 흐르고, 상기 보상 전류는 상기 제2 전극으로 입력되어 상기 정보 저장 소자로부터 상기 스위치 소자로 흐르는, 메모리 장치.
a memory cell array including a plurality of memory cells each having a first electrode, a switch element connected to the first electrode, an information storage element connected to the switch element, and a second electrode connected to the information storage element; and
a memory controller configured to input a read current to the first electrode of the memory cell to read data stored in the memory cell, and to input a compensation current to the second electrode before and after the input of the read current; includes,
The read current is input to the first electrode and flows from the switch element to the information storage element, and the compensation current is input to the second electrode and flows from the information storage element to the switch element.
제1 전극, 상기 제1 전극에 연결되는 스위치 소자, 상기 스위치 소자와 연결되는 정보 저장 소자, 및 상기 정보 저장 소자에 연결되는 제2 전극을 갖는 메모리 셀을 복수 개 포함하는 메모리 셀 어레이; 및
상기 메모리 셀의 상기 제1 전극으로 프로그램 전류를 입력하여 상기 메모리 셀에 데이터를 저장하며, 상기 프로그램 전류의 입력 이후에 상기 제2 전극으로 보상 전류를 입력하는 메모리 컨트롤러; 를 포함하며,
상기 프로그램 전류는 상기 제1 전극으로 입력되어 상기 스위치 소자로부터 상기 정보 저장 소자로 흐르고, 상기 보상 전류는 상기 제2 전극으로 입력되어 상기 정보 저장 소자로부터 상기 스위치 소자로 흐르는, 메모리 장치.
a memory cell array including a plurality of memory cells each having a first electrode, a switch element connected to the first electrode, an information storage element connected to the switch element, and a second electrode connected to the information storage element; and
a memory controller that inputs a program current to the first electrode of the memory cell, stores data in the memory cell, and inputs a compensation current to the second electrode after the input of the program current; includes,
The program current is input to the first electrode and flows from the switch element to the information storage element, and the compensation current is input to the second electrode and flows from the information storage element to the switch element.
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Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20080266942A1 (en) * 2007-04-30 2008-10-30 Samsung Electronics Co., Ltd. Multiple level cell phase-change memory device having pre-reading operation resistance drift recovery, memory systems employing such devices and methods of reading memory devices

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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US9230646B2 (en) * 2013-04-25 2016-01-05 Kabushiki Kaisha Toshiba Nonvolatile semiconductor memory device and control method thereof

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20080266942A1 (en) * 2007-04-30 2008-10-30 Samsung Electronics Co., Ltd. Multiple level cell phase-change memory device having pre-reading operation resistance drift recovery, memory systems employing such devices and methods of reading memory devices

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