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KR102343171B1 - Method for manufacturing an image display device and an image display device obtained by the manufacturing method - Google Patents

Method for manufacturing an image display device and an image display device obtained by the manufacturing method Download PDF

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KR102343171B1
KR102343171B1 KR1020197029123A KR20197029123A KR102343171B1 KR 102343171 B1 KR102343171 B1 KR 102343171B1 KR 1020197029123 A KR1020197029123 A KR 1020197029123A KR 20197029123 A KR20197029123 A KR 20197029123A KR 102343171 B1 KR102343171 B1 KR 102343171B1
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KR
South Korea
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polarizing plate
film
display device
manufacturing
Prior art date
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Inventor
슈사쿠 고토
Original Assignee
닛토덴코 가부시키가이샤
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Publication date
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Abstract

가습 환경 하에서도 우수한 광학 특성을 유지할 수 있고, 색빠짐이 방지된 기판 부착 편광판의 간편한 제조 방법이 제공된다. 본 발명의 기판 부착 편광판의 제조 방법은 편광판과 편광판보다 큰 사이즈를 갖는 기판을 준비하는 것; 기판이 편광판의 외주로부터 연장-돌출하도록 하여 기판과 편광판을 적층하는 것; 편광판의 주위 단면을 덮는 봉지부를 형성하는 것; 및 편광판의 주위 가장자리로부터 소정 길이의 연장-돌출 부분을 남기고 기판 및 봉지부를 절단하여, 소정의 사이즈로 하는 것을 포함한다.A simple method for manufacturing a polarizing plate with a substrate capable of maintaining excellent optical properties even in a humidified environment and preventing color fading is provided. The manufacturing method of the polarizing plate with a board|substrate of this invention prepares the board|substrate which has a larger size than a polarizing plate and a polarizing plate; laminating the substrate and the polarizing plate such that the substrate extends-protrudes from the outer periphery of the polarizing plate; forming an encapsulation portion covering the peripheral cross-section of the polarizing plate; and cutting the substrate and the encapsulation portion to a predetermined size leaving a portion extending-projecting a predetermined length from the peripheral edge of the polarizing plate.

Description

화상 표시 장치의 제조 방법 및 해당 제조 방법에 의해 얻어진 화상 표시 장치Method for manufacturing an image display device and an image display device obtained by the manufacturing method

본 발명은 화상 표시 장치의 제조 방법 및 해당 제조 방법에 의해 얻어진 화상 표시 장치에 관한 것이다. The present invention relates to a method for manufacturing an image display device and an image display device obtained by the manufacturing method.

화상 표시 장치(예컨대, 액정 표시 장치, 유기 EL 표시 장치, 양자점 표시 장치)에는 그의 화상 형성 방식에 기인하여, 많은 경우, 표시 셀의 적어도 한쪽 측에 편광판이 배치되어 있다. 그러나 편광판은 실질적으로 편광판의 학 특광성을 지배하는 편광막의 광학 특성이 가습 환경 하에서 저하된다고 하는 내구성의 문제가 있다. 보다 구체적으로는, 편광막은 가습 환경 하에서 단부의 편광 성능이 소실되고, 결과로서 화상 표시 장치에 이른바 색빠짐이라고 하는 현상이 발생하는 경우가 있다.BACKGROUND ART In image display devices (eg, liquid crystal display devices, organic EL display devices, quantum dot display devices), a polarizing plate is disposed on at least one side of a display cell in many cases due to the image formation method thereof. However, the polarizing plate has a problem of durability in that the optical properties of the polarizing film, which substantially dominates the mechanical characteristics of the polarizing plate, are deteriorated in a humidified environment. More specifically, in a polarizing film, the polarization performance of an edge part lose|disappears under a humidified environment, and what is called color loss may generate|occur|produce in an image display apparatus as a result as a result.

일본 공개특허공보 제2000-338329호 Japanese Laid-Open Patent Publication No. 2000-338329

본 발명은 상기 과제를 해결하기 위하여 이루어진 것이고, 그 주된 목적은 가습 환경 하에서도 우수한 광학 특성을 유지할 수 있고, 색빠짐이 방지된 화상 표시 장치 및 그의 간편한 제조 방법을 제공하는 것이다.The present invention has been made to solve the above problems, and its main object is to provide an image display device capable of maintaining excellent optical properties even in a humidified environment and preventing color fading, and a simple manufacturing method thereof.

본 발명의 화상 표시 장치의 제조 방법은 편광판과 해당 편광판보다 큰 사이즈를 갖는 기판을 준비하는 것; 해당 기판이 해당 편광판의 외주로부터 연장-돌출(延出)하도록 하여, 해당 기판과 해당 편광판을 적층하는 것; 해당 편광판의 주위 단면을 덮는 봉지부를 형성하는 것; 및 해당 편광판의 주위 가장자리로부터 소정 길이의 연장-돌출 부분을 남기고 해당 기판 및 해당 봉지부를 절단하여 소정의 사이즈로 하는 것;을 포함한다.The method for manufacturing an image display device of the present invention comprises: preparing a polarizing plate and a substrate having a size larger than that of the polarizing plate; stacking the substrate and the polarizing plate so that the substrate extends and protrudes from the outer periphery of the polarizing plate; forming an encapsulation unit covering the peripheral end face of the polarizing plate; and cutting the substrate and the encapsulation portion to a predetermined size while leaving a portion extending-protruding a predetermined length from the peripheral edge of the polarizing plate.

하나의 실시형태에서는, 상기 기판은 유리판이다. 다른 실시형태에서는 상기 기판은 수지 필름이다.In one embodiment, the substrate is a glass plate. In another embodiment, the substrate is a resin film.

하나의 실시형태에서는, 상기 제조 방법은 상기 기판이 상기 편광판의 외주를 구성하는 4변 모두로부터 연장-돌출하도록 하여, 해당 기판과 해당 편광판을 적층한다.In one embodiment, in the manufacturing method, the substrate and the polarizing plate are laminated such that the substrate extends-protrudes from all four sides constituting the outer periphery of the polarizing plate.

하나의 실시형태에서는, 상기 기판은 액정 표시 장치, 유기 EL 표시 장치 및 양자점 표시 장치로부터 선택되는 화상 표시 장치의 표시 셀 기판이다.In one embodiment, the substrate is a display cell substrate of an image display device selected from a liquid crystal display device, an organic EL display device, and a quantum dot display device.

하나의 실시형태에서는, 상기 절단은 레이저 광을 조사함으로써 수행된다.In one embodiment, the cutting is performed by irradiating laser light.

하나의 실시형태에서는, 상기 절단 후의 상기 봉지부의 연장-돌출 부분의 길이는 10㎛∼500㎛이다.In one embodiment, the length of the extending-projecting portion of the encapsulation portion after the cutting is from 10 μm to 500 μm.

하나의 실시형태에서는, 상기 절단 후의 봉지부의 투습도는 300g/㎡/24hr 이하이다.In one embodiment, the moisture permeability of the sealing part after the said cutting|disconnection is 300 g/m<2>/24hr or less.

본 발명의 다른 측면에 의하면, 화상 표시 장치가 제공된다. 이 화상 표시 장치는 편광판과 해당 편광판의 주위 가장자리로부터 소정 길이의 연장-돌출 부분을 갖는 기판과, 해당 연장-돌출 부분에 형성되어 해당 편광판의 주위 단면을 덮는 봉지부를 갖는다.According to another aspect of the present invention, an image display apparatus is provided. This image display device has a polarizing plate and a substrate having an extending-projecting portion of a predetermined length from the peripheral edge of the polarizing plate, and a sealing portion formed in the extending-projecting portion to cover the peripheral end face of the corresponding polarizing plate.

본 발명에 의하면, 화상 표시 장치의 제조 방법에서, 기판의 편광판으로부터 연장-돌출한 부분에 봉지부를 형성하여 편광판의 주위 단면을 봉지하고, 봉지부 및 대응하는 기판의 연장-돌출 부분을 해당 편광판의 주위 가장자리로부터 소정의 길이를 남기고 절단함으로써 가습 환경 하에서도 우수한 광학 특성을 유지할 수 있어, 색빠짐이 방지된 화상 표시 장치를 간편하게 제조할 수 있다. According to the present invention, in the method for manufacturing an image display device, an encapsulation portion is formed in a portion extending-protruding from the polarizing plate of the substrate to seal the peripheral end face of the polarizing plate, and the encapsulation portion and the extending-projecting portion of the corresponding substrate are separated from the polarizing plate. By cutting while leaving a predetermined length from the peripheral edge, excellent optical properties can be maintained even in a humidified environment, and an image display device in which color fading is prevented can be manufactured simply.

도 1은 본 발명의 하나의 실시형태에 따른 화상 표시 장치의 제조 방법을 설명하기 위한 개략도이다.
도 2는 색빠짐 양의 산출을 설명하기 위한 모식도이다.
도 3은 실시예 1의 화상 표시 장치 대체품으로서의 기판 부착 편광판의 가습 시험 후의 색빠짐 양을 나타내는 화상이다.
도 4는 비교예 1의 화상 표시 장치 대체품으로서의 기판 부착 편광판의 가습 시험 후의 색빠짐 양을 나타내는 화상이다.
BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS It is a schematic for demonstrating the manufacturing method of the image display apparatus which concerns on one Embodiment of this invention.
2 is a schematic diagram for explaining the calculation of the amount of color loss.
It is an image which shows the amount of color loss after the humidification test of the polarizing plate with a board|substrate as an image display device substitute of Example 1. FIG.
It is an image which shows the amount of color loss after the humidification test of the polarizing plate with a board|substrate as an image display device substitute of the comparative example 1. FIG.

이하, 본 발명의 실시형태에 대하여 설명하지만, 본 발명은 이들의 실시형태에는 한정되지 않는다. EMBODIMENT OF THE INVENTION Hereinafter, although embodiment of this invention is described, this invention is not limited to these embodiment.

A. 화상 표시 장치의 제조 방법A. Manufacturing method of image display device

본 발명의 화상 표시 장치의 제조 방법은, 편광판과 해당 편광판보다 큰 사이즈를 갖는 기판을 준비하는 것; 해당 기판이 해당 편광판의 외주로부터 연장-돌출 하도록 하여, 해당 기판과 해당 편광판을 적층하는 것; 해당 편광판의 주위 단면 을 덮는 봉지부를 형성하는 것; 및 해당 편광판의 주위 가장자리로부터 소정 길이의 연장-돌출 부분을 남기고 해당 기판 및 해당 봉지부를 절단하여, 소정의 사이즈로 하는 것을 포함한다.The manufacturing method of the image display apparatus of this invention prepares the board|substrate which has a larger size than a polarizing plate and this polarizing plate; stacking the substrate and the polarizing plate so that the substrate extends from the outer periphery of the polarizing plate and protrudes; forming an encapsulation unit covering the peripheral cross-section of the polarizing plate; and cutting the substrate and the encapsulation portion to a predetermined size while leaving an extension-protruding portion of a predetermined length from the peripheral edge of the polarizing plate.

본 발명은 화상 표시 장치에서의 기판과 편광판과의 임의의 적층 구조에 적용 가능하다. 기판은 대표적으로는 화상 표시 장치의 표시 셀 기판일 수 있다. 화상 표시 장치의 대표예로서는 액정 표시 장치, 유기 EL 표시 장치, 양자점 표시 장치를 들 수 있다. 표시 셀 기판으로서는 예컨대, 액정 셀의 기판, 유기 EL 셀의 기판, 양자점 표시 셀의 기판, 액정 표시 장치에서 컬러 필터를 양면으로부터 봉지하는 기판을 들 수 있다. 본 발명의 제조 방법은 하나의 실시형태에서는, 기판과 편광판을 적층하고, 당해 적층체에 봉지부를 형성하여 기판 부착 편광판을 제작하며, 당해 기판 부착 편광판을 표시 셀 기판으로서 이용함으로써 화상 표시 장치를 얻을 수 있다. 본 발명의 제조 방법은, 다른 실시형태에서는 표시 셀을 제작하고, 당해 표시 셀의 기판에 편광판을 적층하며, 이어서 봉지부를 형성함으로써, 화상 표시 장치 를 얻을 수 있다. 이하, 대표예로서, 기판 부착 편광판을 표시 셀 기판으로서 이용하는 실시형태를 설명한다.The present invention is applicable to any laminated structure of a substrate and a polarizing plate in an image display device. The substrate may typically be a display cell substrate of an image display device. A liquid crystal display device, an organic EL display device, and a quantum dot display device are mentioned as a representative example of an image display device. As a display cell board|substrate, the board|substrate which seals a color filter from both surfaces in the board|substrate of a liquid crystal cell, the board|substrate of an organic electroluminescent cell, the board|substrate of a quantum dot display cell, and a liquid crystal display device is mentioned, for example. In one embodiment of the manufacturing method of the present invention, a substrate and a polarizing plate are laminated, a sealing portion is formed in the laminate to produce a polarizing plate with a substrate, and an image display device is obtained by using the polarizing plate with a substrate as a display cell substrate can In another embodiment, the manufacturing method of this invention can obtain an image display device by producing a display cell, laminating|stacking a polarizing plate on the board|substrate of the said display cell, and then forming a sealing part. Hereinafter, as a representative example, embodiment using a polarizing plate with a board|substrate as a display cell board|substrate is demonstrated.

A-1. 편광판 및 기판의 준비A-1. Preparation of Polarizer and Substrate

먼저, 도 1(a)에 나타내는 바와 같이, 편광판(10) 및 기판(20)을 준비한다. 이하, 편광판 및 기판에 대하여 구체적으로 설명한다.First, as shown to Fig.1 (a), the polarizing plate 10 and the board|substrate 20 are prepared. Hereinafter, a polarizing plate and a board|substrate are demonstrated in detail.

A-1-1. 편광판A-1-1. Polarizer

편광판은 편광막과 편광막의 적어도 편측에 배치된 보호 필름을 갖는다. 본 발명의 실시형태에서는 편광막은 요오드를 포함하는 폴리비닐알코올계 수지(이하, 'PVA계 수지'라 칭함) 필름으로 구성되어 있다. 편광막이 요오드를 포함하는 경우에, 봉지부를 설치하는 효과가 현저하게 된다. 편광막의 두께는 대표적으로는 8㎛ 이하 이다. 편광막이 요오드를 포함하고, 또한 그 두께가 이와 같이 매우 얇은 경우에는 편광막 중의 요오드 밀도가 높아져 가습에 의한 요오드의 안정성이 저하되기 쉽기 때문에 봉지부를 설치하는 효과가 더욱 현저하게 된다. 보호 필름은 편광막의 편측에 배치되어도 되고, 양측에 배치되어도 된다. 보호 필름이 편광막의 편측에 배치되는 경우, 표시 셀 측에 배치되어도 되고, 표시 셀과 반대측에 배치되어도 된다. 실용적으로는 편광판의 표시 셀 측 최외층으로서 점착제층이 설치되고, 편광판은 당해 점착제층을 개재하여 표시 셀에 첩합(貼合)된다. 또한, 본 명세서에서 간단히 보호 필름이라는 할 때에는 이와 같은 편광막을 보호하는 필름(편광판의 구성 요소)을 의미하고, 상기의 표면 보호 필름(작업 시에 편광판을 일시적으로 보호하는 필름)과는 상이한 것이다.The polarizing plate has a polarizing film and a protective film disposed on at least one side of the polarizing film. In the embodiment of the present invention, the polarizing film is composed of a polyvinyl alcohol-based resin (hereinafter referred to as 'PVA-based resin') film containing iodine. When the polarizing film contains iodine, the effect of providing a sealing part becomes remarkable. The thickness of the polarizing film is typically 8 μm or less. When the polarizing film contains iodine and its thickness is so thin, the iodine density in the polarizing film increases and the stability of iodine due to humidification tends to decrease, so that the effect of providing an encapsulation part becomes more remarkable. A protective film may be arrange|positioned on one side of a polarizing film, and may be arrange|positioned on both sides. When a protective film is arrange|positioned on one side of a polarizing film, it may be arrange|positioned at the display cell side, and may be arrange|positioned on the opposite side to a display cell. Practically, an adhesive layer is provided as the outermost layer on the side of a display cell of a polarizing plate, and a polarizing plate is bonded to a display cell through the said adhesive layer. In addition, when simply referred to as a protective film in this specification, it means a film (a component of a polarizing plate) that protects such a polarizing film, and is different from the above-mentioned surface protection film (a film that temporarily protects the polarizing plate during operation).

A-1-1-1. 편광막A-1-1-1. polarizing film

편광막은 상기한 바와 같이, 요오드를 포함하는 PVA계 수지 필름으로 구성된다. 편광막은 단층의 수지 필름으로 형성되어도 되고, 2층 이상의 적층체로 형성되어도 된다.As described above, the polarizing film is composed of a PVA-based resin film containing iodine. A polarizing film may be formed from the resin film of a single layer, and may be formed from the laminated body of two or more layers.

단층의 수지 필름으로 형성되는 편광막의 구체예로서는, 폴리비닐알코올(PVA)계 필름, 부분 포르말화 PVA계 필름, 에틸렌·초산비닐 공중합체계 부분 비누화 필름 등의 친수성 고분자 필름에 요오드나 이색성 염료 등의 이색성 물질에 의한 염색 처리 및 연신 처리가 실시된 것, PVA의 탈수 처리물이나 폴리 염화 비닐의 탈염산 처리물 등 폴리엔계 배향 필름 등을 들 수 있다. 바람직하게는 광학 특성이 우수한 점에서 PVA계 필름을 요오드로 염색하고 1축 연신하여 얻어진 편광막 이 이용된다. 상기 요오드에 의한 염색은 예컨대, PVA계 필름을 요오드 수용액에 침지함으로써 수행된다. 상기 1축 연신의 연신 배율은 바람직하게는 3∼7배이다. 연신은 염색 처리 후에 수행하여도 되고, 염색하면서 수행하여도 된다. 또한, 연신하고 나서 염색하여도 된다. 필요에 따라서 PVA계 필름에 팽윤 처리, 가교 처리, 세정 처리, 건조 처리 등이 실시된다. 예컨대, 염색 전에 PVA계 필름을 물에 침지하여 수세함으로써 PVA계 필름 표면의 오염이나 블로킹 방지제를 세정할 수 있을 뿐만 아니라, PVA계 필름을 팽윤시켜 염색 얼룩 등을 방지할 수 있다.As a specific example of a polarizing film formed of a single-layer resin film, a hydrophilic polymer film such as a polyvinyl alcohol (PVA)-based film, a partially formalized PVA-based film, or an ethylene/vinyl acetate copolymer-based partially saponified film, iodine or a dichroic dye Polyene-type oriented films, such as a thing to which the dyeing process and extending|stretching process by the dichroic substance were given, and the dehydration-processed material of PVA, and the dehydrochloric acid-treated material of polyvinyl chloride, etc. are mentioned. Preferably, a polarizing film obtained by dyeing a PVA-based film with iodine and uniaxially stretching it is used in view of excellent optical properties. The dyeing with iodine is performed, for example, by immersing the PVA-based film in an aqueous iodine solution. Preferably the draw ratio of the said uniaxial stretching is 3-7 times. Extending|stretching may be performed after dyeing process, and may be performed while dyeing|staining. Moreover, you may dye|stain after extending|stretching. A swelling process, a crosslinking process, a washing process, a drying process, etc. are given to a PVA type film as needed. For example, by immersing the PVA-based film in water and washing with water before dyeing, it is possible not only to wash the surface of the PVA-based film from contamination and blocking agents, but also to swell the PVA-based film to prevent staining of dyeing.

적층체를 이용하여 얻어지는 편광막의 구체예로서는 수지 기재와 당해 수지 기재에 적층된 PVA계 수지층(PVA계 수지 필름)과의 적층체, 또는 수지 기재와 당해 수지 기재에 도포 형성된 PVA계 수지층과의 적층체를 이용하여 얻어지는 편광막을 들 수 있다. 수지 기재와 당해 수지 기재에 도포 형성된 PVA계 수지층과의 적층체를 이용하여 얻어지는 편광막은 예컨대, PVA계 수지 용액을 수지 기재에 도포하고, 건조시켜 수지 기재 상에 PVA계 수지층을 형성하여, 수지 기재와 PVA계 수지층과의 적층체를 얻는 것; 당해 적층체를 연신 및 염색하여 PVA계 수지층을 편광막으로 하는 것에 의해 제작될 수 있다. 본 실시형태에서는, 연신은 대표적으로는 적층체를 붕산 수용액 중에 침지시켜 연신하는 것을 포함한다. 또한, 연신은 필요에 따라 붕산 수용액 중에서의 연신 전에 적층체를 고온(예컨대, 95℃ 이상)에서 공중 연신하는 것을 더 포함할 수 있다. 얻어진 수지 기재/편광막의 적층체는 그대로 이용하여도 되고(즉, 수지 기재를 편광막의 보호 필름으로 하여도 되고), 수지 기재/편광자의 적층체로부터 수지 기재를 박리하고, 당해 박리면에 목적에 따른 임의의 적절한 보호 필름을 적층하여 이용하여도 된다. 이와 같은 편광막의 제조 방법의 상세는 예컨대 일본 공개특허공보 제2012-73580호에 기재되어 있다. 당해 공보는 그의 전체의 기재가 본 명세서에 참고로서 원용된다.As a specific example of a polarizing film obtained using a laminate, a laminate of a resin substrate and a PVA-based resin layer (PVA-based resin film) laminated on the resin substrate, or a resin substrate and a PVA-based resin layer coated on the resin substrate The polarizing film obtained using a laminated body is mentioned. A polarizing film obtained by using a laminate of a resin substrate and a PVA-based resin layer applied and formed on the resin substrate is formed by, for example, applying a PVA-based resin solution to the resin substrate and drying it to form a PVA-based resin layer on the resin substrate, obtaining a laminate of a resin substrate and a PVA-based resin layer; It can be produced by extending|stretching and dyeing the said laminated body, and making a PVA-type resin layer into a polarizing film. In this embodiment, extending|stretching includes extending|stretching by immersing a laminated body in boric-acid aqueous solution typically. In addition, the stretching may further include air stretching the laminate at a high temperature (eg, 95° C. or higher) before stretching in an aqueous boric acid solution, if necessary. The obtained laminate of the resin substrate / polarizing film may be used as it is (that is, the resin substrate may be used as a protective film for the polarizing film), and the resin substrate is peeled from the laminate of the resin substrate / polarizer, Any suitable protective film may be laminated and used. The detail of the manufacturing method of such a polarizing film is described in Unexamined-Japanese-Patent No. 2012-73580, for example. This publication is incorporated herein by reference in its entirety.

상기 PVA계 수지 필름을 형성하는 PVA계 수지로서는 임의의 적절한 수지가 채용될 수 있다. 예컨대, 폴리비닐알코올, 에틸렌-비닐알코올 공중합체를 들 수 있다. 폴리비닐알코올은 폴리초산비닐을 비누화함으로써 얻어진다. 에틸렌-비닐알코올 공중합체는 에틸렌-초산비닐 공중합체를 비누화함으로써 얻어진다. PVA계 수지의 비누화도는 통상적으로 85몰%∼100몰%이고, 바람직하게는 95.0몰%∼99.9몰%, 더욱 바람직하게는 99.0몰%∼99.5몰%이다. 비누화도는 JIS K 6726-1994에 준하여 구할 수 있다. 이와 같은 비누화도의 PVA계 수지를 이용함으로써, 내구성이 우수한 편광막을 얻을 수 있다. 비누화도가 지나치게 높은 경우에는 겔화될 우려가 있다. Any suitable resin may be employed as the PVA-based resin forming the PVA-based resin film. For example, polyvinyl alcohol and an ethylene-vinyl alcohol copolymer are mentioned. Polyvinyl alcohol is obtained by saponifying polyvinyl acetate. An ethylene-vinyl alcohol copolymer is obtained by saponifying an ethylene-vinyl acetate copolymer. The degree of saponification of the PVA-based resin is usually 85 mol% to 100 mol%, preferably 95.0 mol% to 99.9 mol%, more preferably 99.0 mol% to 99.5 mol%. The degree of saponification can be obtained according to JIS K 6726-1994. By using the PVA-type resin of such a saponification degree, the polarizing film excellent in durability can be obtained. When the degree of saponification is too high, there is a risk of gelation.

PVA계 수지의 평균 중합도는 목적에 따라 적절하게 선택될 수 있다. 평균 중합도는 통상적으로 1000∼10000이고, 바람직하게는 1200∼5000, 더욱 바람직하게는 1500∼4500이다. 또한, 평균 중합도는 JIS K 6726-1994에 준하여 구할 수 있다. The average degree of polymerization of the PVA-based resin may be appropriately selected depending on the purpose. The average degree of polymerization is usually from 1000 to 10000, preferably from 1200 to 5000, more preferably from 1500 to 4500. In addition, an average degree of polymerization can be calculated|required according to JISK6726-1994.

상기와 같이, 편광막은 요오드를 포함한다. 편광막은 실질적으로는 요오드가 흡착 배향된 PVA계 수지 필름이다. PVA계 수지 필름 중의 요오드 농도는, 예컨대 5.0중량%∼12.0중량%이다. 또한, PVA계 수지 필름 중의 붕산 농도는, 예컨대 12중량%∼25중량%이다. As described above, the polarizing film contains iodine. The polarizing film is substantially a PVA-based resin film in which iodine is adsorbed and oriented. The iodine concentration in the PVA-based resin film is, for example, 5.0% by weight to 12.0% by weight. In addition, the boric acid density|concentration in a PVA-type resin film is 12 weight% - 25 weight%, for example.

편광막의 두께는 상기와 같이 대표적으로는 8㎛ 이하이고, 바람직하게는 7㎛ 이하, 보다 바람직하게는 6㎛ 이하이다. 한편, PVA계 수지 필름의 두께는 바람직하게는 1.0㎛ 이상, 보다 바람직하게는 2.0㎛ 이상이다. The thickness of the polarizing film is typically 8 µm or less, preferably 7 µm or less, and more preferably 6 µm or less as described above. On the other hand, the thickness of the PVA-based resin film is preferably 1.0 µm or more, and more preferably 2.0 µm or more.

상기 편광막은 바람직하게는 파장 380nm∼780nm 중 어느 파장에서 흡수 이색성(二色性)을 나타낸다. 편광막의 단체 투과율은 바람직하게는 40.0%∼46.0%이고, 보다 바람직하게는 41.0%∼45.0%이다. 편광막의 편광도는 바람직하게는 99.9% 이상이고, 보다 바람직하게는 99.95% 이상이며, 더욱 바람직하게는 99.98% 이상이다. 편광판이 반사형 액정 표시 장치 또는 유기 EL 표시 장치에 적용되는 경우에는 편광막의 편광도는 바람직하게는 90% 이상이고, 보다 바람직하게는 93% 이상이며, 더욱 바람직하게는 95% 이상이다. 후술하는 바와 같이, 편광막을 포함하는 화상 표시 패널의 주위 단면을 덮는 봉지부를 설치함으로써, 이와 같은 우수한 광학 특성(단체 투과율 및 편광도의 균형이 우수한 것)과 우수한 내구성(가습 환경 하에서도 이와 같은 우수한 광학 특성을 유지할 수 있는 것)을 양립할 수 있다. The polarizing film preferably exhibits absorption dichroism at any wavelength of 380 nm to 780 nm. The single transmittance of the polarizing film is preferably 40.0% to 46.0%, more preferably 41.0% to 45.0%. The polarization degree of the polarizing film is preferably 99.9% or more, more preferably 99.95% or more, and still more preferably 99.98% or more. When the polarizing plate is applied to a reflective liquid crystal display device or an organic EL display device, the polarization degree of the polarizing film is preferably 90% or more, more preferably 93% or more, and still more preferably 95% or more. As will be described later, by providing an encapsulant that covers the peripheral end face of an image display panel including a polarizing film, such excellent optical properties (excellent balance of single transmittance and polarization degree) and excellent durability (such excellent optical properties even in humidified environments) properties that can be maintained) are compatible.

A-1-1-2. 보호 필름 A-1-1-2. protective film

보호 필름은 편광막의 보호 필름으로서 사용할 수 있는 임의의 적절한 필름으로 구성된다. 당해 필름의 주성분이 되는 재료의 구체예로서는 트리아세틸셀룰로오스(TAC) 등의 셀룰로오스계 수지나 폴리에스테르계, 폴리비닐알코올계, 폴리카보네이트계, 폴리아미드계, 폴리이미드계, 폴리에테르설폰계, 폴리설폰계, 폴리스티렌계, 폴리노보넨계, 폴리올레핀계, (메트)아크릴계, 아세테이트계 등의 투명 수지 등을 들 수 있다. 또한, (메트)아크릴계, 우레탄계, (메트)아크릴우레탄계, 에폭시계, 실리콘계 등의 열 경화형 수지 또는 자외선 경화형 수지 등도 들 수 있다. 이 외에도, 예컨대, 실록산계 폴리머 등의 유리질계 폴리머도 들 수 있다. 또한, 일본 공개특허공보 제2001-343529호(WO01/37007)에 기재된 폴리머 필름도 사용할 수 있다. 이 필름의 재료로서는 예컨대, 측쇄에 치환 또는 비치환의 이미드기를 갖는 열가소성 수지와, 측쇄에 치환 또는 비치환의 페닐기 및 니트릴기를 갖는 열가소성 수지를 함유하는 수지 조성물이 사용될 수 있고, 예컨대, 이소부텐과 N-메틸말레이미드로 이루어지는 교호 공중합체와, 아크릴로니트릴·스티렌 공중합체를 갖는 수지 조성물을 들 수 있다. 당해 폴리머 필름은 예컨대, 상기 수지 조성물의 압출 성형물일 수 있다.The protective film is composed of any suitable film that can be used as a protective film for the polarizing film. Specific examples of the material used as the main component of the film include cellulose resins such as triacetyl cellulose (TAC), polyester, polyvinyl alcohol, polycarbonate, polyamide, polyimide, polyethersulfone, and polysulfone. Transparent resins, such as a phone type, polystyrene type, polynorbornene type, polyolefin type, (meth)acrylic type, acetate type, etc. are mentioned. Moreover, thermosetting resins, such as (meth)acrylic type, a urethane type, a (meth)acryl urethane type, an epoxy type, a silicone type, or ultraviolet curable resin, etc. are mentioned. In addition to this, for example, glassy polymers, such as a siloxane type polymer, are also mentioned. Moreover, the polymer film described in Unexamined-Japanese-Patent No. 2001-343529 (WO01/37007) can also be used. As a material of this film, for example, a resin composition containing a thermoplastic resin having a substituted or unsubstituted imide group in a side chain and a thermoplastic resin having a substituted or unsubstituted phenyl group and a nitrile group in a side chain can be used, for example, isobutene and N - A resin composition having an alternating copolymer composed of -methylmaleimide and an acrylonitrile-styrene copolymer is mentioned. The polymer film may be, for example, an extrusion molding of the resin composition.

본 발명의 실시형태에서는 상기한 바와 같이, 편광판의 제조에 이용되는 수지 기재를 그대로 보호 필름으로서 이용하여도 된다. In embodiment of this invention, as above-mentioned, you may use the resin base material used for manufacture of a polarizing plate as a protective film as it is.

시인측(視認側)에 배치되는 편광판에 있어서 보호 필름이 편광막의 시인측에 배치되는 경우에는 보호 필름에는 필요에 따라 하드 코트 처리, 반사 방지 처리, 스티킹 방지 처리, 안티글레어 처리 등의 표면 처리가 실시되어 있어도 된다.In a polarizing plate disposed on the viewing side, when the protective film is disposed on the viewing side of the polarizing film, the protective film may be subjected to surface treatment such as hard coat treatment, antireflection treatment, anti-sticking treatment, anti-glare treatment, etc. if necessary. may be performed.

보호 필름의 두께는 본 발명의 효과가 얻어지는 한에서, 임의의 적절한 두께가 채용될 수 있다. 보호 필름의 두께는 예컨대 10㎛∼40㎛이고, 바람직하게는 10㎛∼30㎛이다. 또한, 표면 처리가 실시되어 있는 경우, 보호 필름의 두께는 표면 처리층의 두께를 포함한 두께이다.As for the thickness of the protective film, any suitable thickness may be employed as long as the effect of the present invention is obtained. The thickness of the protective film is, for example, 10 µm to 40 µm, preferably 10 µm to 30 µm. In addition, when surface treatment is performed, the thickness of a protective film is the thickness including the thickness of a surface treatment layer.

편광막의 표시 셀 측에 보호 필름(내측 보호 필름)을 배치하는 경우, 하나의 실시형태에서는 당해 내측 보호 필름은 광학적으로 등방성인 것이 바람직하다. 본 명세서에 있어서 '광학적으로 등방성인'이란, 면내 위상차 Re(550)이 0nm∼10nm이고, 두께 방향의 위상차 Rth(550)이 -10nm∼+10nm인 것을 말한다. 내측 보호 필름의 Re(550)은 바람직하게는 0nm∼8nm이고, 보다 바람직하게는 0nm∼6nm이며, 더욱 바람직하게는 0nm∼3nm이다. 내측 보호 필름의 Rth(550)은 바람직하게는 -8nm∼+8nm이고, 보다 바람직하게는 -6nm∼+6nm이며, 더욱 바람직하게는 -3nm∼+3nm이다. 또한 'Re(550)'은 23℃에서의 파장 550nm의 광으로 측정한 면내 위상차이다. Re(550)은 층(필름)의 두께를 d(nm)로 하였을 때, 식: Re=(nx-ny)×d에 의해 구할 수 있다. 또한 'Rth(550)'은, 23℃에서의 파장 550nm의 광으로 측정한 두께 방향의 위상차이다. Rth(λ)는 층(필름)의 두께를 d(nm)로 하였을 때, 식:Rth=(nx-nz)×d에 의해 구할 수 있다. When disposing a protective film (inner protective film) on the display cell side of the polarizing film, in one embodiment, it is preferable that the said inner protective film is optically isotropic. In this specification, "optically isotropic" means that the in-plane retardation Re (550) is 0 nm to 10 nm, and the retardation Rth (550) in the thickness direction is -10 nm to +10 nm. Re(550) of the inner protective film is preferably 0 nm to 8 nm, more preferably 0 nm to 6 nm, still more preferably 0 nm to 3 nm. Rth (550) of the inner protective film is preferably -8 nm to +8 nm, more preferably -6 nm to +6 nm, and still more preferably -3 nm to +3 nm. In addition, 'Re(550)' is an in-plane retardation measured with light having a wavelength of 550 nm at 23°C. Re(550) can be obtained by the formula: Re=(nx-ny)×d when the thickness of the layer (film) is d(nm). In addition, 'Rth(550)' is the phase difference in the thickness direction measured with light of wavelength 550nm at 23 degreeC. Rth(λ) can be obtained by the formula: Rth=(nx-nz)×d when the thickness of the layer (film) is d(nm).

다른 실시형태에서는, 내측 보호 필름은 소위 λ/4판으로서 기능할 수 있는 Re(550)을 가지고 있어도 된다. 이와 같은 실시형태는 예컨대, 편광판이 원편광판으로서 기능하고 반사형 액정 표시 장치 또는 유기 EL 표시 장치의 반사 방지 필름으로서 이용되는 경우에 적용될 수 있다. 이 경우, Re(550)은 바람직하게는 120nm∼160nm이고, 보다 바람직하게는 약 140nm이다. 이 경우, 내측 보호 필름은 그의 지상축(遲相軸)이 편광막의 흡수축에 대하여 바람직하게는 40°∼50°, 보다 바람직하게는 약 45°의 각도를 이루도록 하여 배치될 수 있다.In another embodiment, the inner protective film may have Re (550) capable of functioning as a so-called λ/4 plate. Such an embodiment can be applied, for example, when the polarizing plate functions as a circularly polarizing plate and is used as an antireflection film of a reflective liquid crystal display device or an organic EL display device. In this case, Re(550) is preferably 120 nm to 160 nm, more preferably about 140 nm. In this case, the inner protective film may be disposed such that its slow axis forms an angle of preferably 40° to 50°, more preferably about 45° with respect to the absorption axis of the polarizing film.

A-1-2. 기판A-1-2. Board

기판으로서는 임의의 적절한 구성이 채용될 수 있다. 예컨대, 기판은 유리판이어도 되고, 수지 필름이어도 된다. 기판은 편광판보다도 큰 사이즈를 갖는다. 기판은 편광판과 적층한 경우에 바람직하게는 편광판의 외주로부터 소정의 길이로 연장-돌출하는 사이즈를 갖고, 보다 바람직하게는 편광판의 외주를 구성하는 4변 모두로부터 소정의 길이로 연장-돌출하는 사이즈를 갖는다.Any suitable configuration may be employed as the substrate. For example, a glass plate may be sufficient as a board|substrate, and a resin film may be sufficient as it. The substrate has a size larger than that of the polarizing plate. When the substrate is laminated with a polarizing plate, it preferably has a size that extends from the outer periphery of the polarizing plate to a predetermined length, and more preferably extends and protrudes by a predetermined length from all four sides constituting the outer periphery of the polarizing plate. has

유리판으로서는 임의의 적절한 유리판이 채용될 수 있다. 유리판을 구성하는 유리는 조성에 따른 분류에 의하면, 예컨대, 소다 석회 유리, 붕산 유리, 알루미노 규산 유리, 석영 유리를 들 수 있다. 또한, 알칼리 성분에 따른 분류에 의하면, 무알칼리 유리, 저알칼리 유리를 들 수 있다. 유리의 알칼리 금속 성분(예컨대, Na2O, K2O, Li2O)의 함유량은 바람직하게는 15중량% 이하이고, 더욱 바람직하게는 10중량% 이하이다.Any suitable glass plate may be employed as the glass plate. According to classification according to a composition, glass which comprises a glass plate is mentioned, for example, soda-lime glass, boric-acid glass, aluminosilicate glass, and quartz glass. Moreover, according to classification according to an alkali component, an alkali free glass and low alkali glass are mentioned. The content of the alkali metal component of the glass (eg, Na 2 O, K 2 O, Li 2 O) is preferably 15% by weight or less, and more preferably 10% by weight or less.

유리판의 파장 550nm에서의 광 투과율은 바람직하게는 85% 이상이다. 유리판의 파장 550nm에서의 굴절률은 바람직하게는 1.4∼1.65이다. 유리판의 밀도는 바람직하게는 2.3g/cm3∼3.0g/cm3이고, 더욱 바람직하게는 2.3g/cm3∼2.7g/cm3이다. The light transmittance at a wavelength of 550 nm of the glass plate is preferably 85% or more. Preferably the refractive index in wavelength 550nm of a glass plate is 1.4-1.65. The density of the glass sheet is preferably from 2.3g / cm 3 ~3.0g / cm 3 , more preferably from 2.3g / cm 3 ~2.7g / cm 3 .

유리판의 두께는 바람직하게는 0.1mm∼1.0mm이고, 보다 바람직하게는 0.2mm∼0.6mm이다.The thickness of a glass plate becomes like this. Preferably they are 0.1 mm - 1.0 mm, More preferably, they are 0.2 mm - 0.6 mm.

유리판은 시판의 유리판을 그대로 이용하여도 되고, 시판의 유리판을 소망하는 두께가 되도록 연마하여 이용하여도 된다. 시판의 유리판으로서는 예컨대 코닝 사 제조의 '7059', '1737' 또는 'EAGLE2000', 아사히글라스사 제조의 'AN100', NH 테크노글라스사 제조의 'NA-35', 일본 전기 초자사 제조의 'OA-10', 쇼트사 제조의'D263' 또는 'AF45'를 들 수 있다.As a glass plate, a commercially available glass plate may be used as it is, and a commercially available glass plate may be grind|polished so that it may become a desired thickness and may be used. Commercially available glass plates include, for example, '7059', '1737' or 'EAGLE2000' manufactured by Corning, 'AN100' manufactured by Asahi Glass, 'NA-35' manufactured by NH Techno Glass, 'OA' manufactured by Nippon Electric Corporation -10', 'D263' manufactured by SCHOTT, or 'AF45' can be mentioned.

수지 필름으로서는 임의의 적절한 수지 필름이 채용될 수 있다. 수지 필름 은 대표적으로 투명 수지 필름이다. 수지 필름을 구성하는 재료로서는 예컨대, 폴리이미드, 폴리아미드이미드를 들 수 있다. 이들은 단독으로 이용하여도 되고, 조합하여 이용하여도 된다.Any suitable resin film may be employed as the resin film. The resin film is typically a transparent resin film. Examples of the material constituting the resin film include polyimide and polyamideimide. These may be used independently and may be used in combination.

수지 필름의 두께는 바람직하게는 10㎛∼200㎛이고, 더욱 바람직하게는 20㎛∼100㎛이다. The thickness of the resin film is preferably 10 µm to 200 µm, more preferably 20 µm to 100 µm.

A-2. 편광판과 기판과의 적층A-2. Lamination of polarizing plate and substrate

다음으로, 도 1(a)에 나타내는 바와 같이, 편광판(10)과 기판(20)을 적층한다. 편광판(10)과 기판(20)은 대표적으로는 임의의 적절한 점착제층(도시하지 않음)을 개재하여 적층될 수 있다. 적층은 도 1(a)에 나타내는 바와 같이 기판이 편광판의 외주로부터 연장-돌출하도록 하여 수행되고, 바람직하게는 기판이 편광판의 외주를 구성하는 4변 모두로부터 연장-돌출하도록 하여 수행된다.Next, as shown to Fig.1 (a), the polarizing plate 10 and the board|substrate 20 are laminated|stacked. The polarizing plate 10 and the substrate 20 may be typically laminated with any suitable pressure-sensitive adhesive layer (not shown) interposed therebetween. The lamination is performed so that the substrate extends-protrudes from the outer periphery of the polarizing plate as shown in FIG.

필요에 따라 편광판(10)의 기판(20)과 반대측의 표면에 표면 보호 필름(도시하지 않음)이 가착(假着)되어도 된다. 이에 따라 후술하는 봉지부의 형성 및 당해 봉지부와 기판의 절단에 있어서, 편광판이 적절하게 보호될 수 있다. 표면 보호 필름은 기판 부착 편광판(실질적으로는 화상 표시 장치)의 최종적인 사용 시에는 박리 제거된다. 표면 보호 필름의 박리 제거는 봉지부의 형성 및 봉지부와 기판의 절단 후의 임의의 적절한 타이밍에 수행될 수 있다.If necessary, a surface protection film (not shown) may be temporarily attached to the surface of the polarizing plate 10 on the opposite side to the substrate 20 . Accordingly, the polarizing plate can be properly protected in the formation of the encapsulation unit described later and the cutting of the encapsulation unit and the substrate. The surface protection film is peeled off at the time of final use of a polarizing plate with a board|substrate (substantially an image display apparatus). The peeling removal of the surface protection film may be performed at any suitable timing after the formation of the encapsulation portion and the cutting of the encapsulation portion and the substrate.

A-3. 봉지부 형성A-3. Encapsulation Formation

다음으로, 도 1(b)에 나타내는 바와 같이, 편광판(10)의 주위 단면을 덮는 봉지부(30)를 형성한다. 봉지부로 편광판의 주위 단면을 덮음으로써 가습 환경 하에서도 편광판(편광막)의 광학 특성을 유지하고 결과로서, 화상 표시 장치의 내구성을 향상시킬 수 있다. 따라서, 봉지부는 배리어 기능을 갖는 것이 바람직하다. 본 명세서에 있어서, '배리어 기능을 갖는'이란 편광막에 침입하는 산소 및/또는 수증기의 투과량을 제어하여 편광막을 이들로부터 실질적으로 차단하는 것을 의미한다.Next, as shown in FIG.1(b), the sealing part 30 which covers the peripheral end surface of the polarizing plate 10 is formed. By covering the peripheral end face of the polarizing plate with the encapsulation portion, it is possible to maintain the optical properties of the polarizing plate (polarizing film) even under a humidified environment and, as a result, to improve the durability of the image display device. Therefore, it is preferable that the sealing part has a barrier function. As used herein, the term 'having a barrier function' means controlling the amount of oxygen and/or water vapor penetrating into the polarizing film to substantially block the polarizing film from them.

봉지부는 대표적으로는 점착제 조성물을 편광판의 주위 단면을 덮도록 배치함으로써 형성된다. 하나의 실시형태에서는, 봉지부는 점착제 조성물을 기판의 연장-돌출 부분에 배치(예컨대, 도포, 시트상 점착제의 배치)하여 형성될 수 있다. 봉지부는 편광판의 주위 단면을 덮고, 당해 주위 단면이 밀봉되어 있으면 되고, 당해 주위 단면에 밀착되어 있을 필요는 없다. 또한 봉지부는 편광판의 주위 단면을 덮고 있으면 되고, 따라서 주위 단면과 함께 주위 단면 이외의 부분을 덮고 있어도 된다. 예컨대, 봉지부는 주위 단면과 함께 편광판의 기판으로부터 떨어진 측의 면(도면에서는 상면)을 덮고 있어도 된다. 이 경우, 당해 면은 전체가 덮여 있어도 되고, 소정의 부분만이 덮여 있어도 된다.The encapsulation portion is typically formed by disposing the pressure-sensitive adhesive composition so as to cover the peripheral end face of the polarizing plate. In one embodiment, the encapsulation portion may be formed by disposing (eg, applying, disposing of a sheet-like pressure-sensitive adhesive) the pressure-sensitive adhesive composition on the extended-projecting portion of the substrate. The sealing part covers the peripheral end surface of a polarizing plate, the said peripheral end surface should just be sealed, and it does not need to be closely_contact|adhered to the said peripheral end surface. Moreover, the sealing part should just cover the peripheral end surface of a polarizing plate, Therefore, you may cover parts other than a peripheral end surface with a peripheral end surface. For example, the sealing part may cover the surface (upper surface in the figure) of the side away from the board|substrate of a polarizing plate together with a peripheral end surface. In this case, the whole may be covered with the said surface, and only a predetermined|prescribed part may be covered.

점착제 조성물로서는 예컨대 고무계 폴리머를 베이스 폴리머로 하는 고무계 점착제 조성물을 들 수 있다.As an adhesive composition, the rubber-type adhesive composition which uses a rubber-type polymer as a base polymer is mentioned, for example.

고무계 폴리머로서는 예컨대, 1종의 공역 디엔(conjugated diene) 화합물을 중합함으로써 얻어지는 공역 디엔계 중합체, 2종 이상의 공역 디엔 화합물을 중합함으로써 얻어지는 공역 디엔계 공중합체, 공역 디엔 화합물과 방향족 비닐 화합물을 공중합함으로써 얻어지는 공역 디엔계 공중합체 및 이들의 수첨물을 들 수 있다.As the rubber-based polymer, for example, a conjugated diene-based polymer obtained by polymerizing one type of conjugated diene compound, a conjugated diene-based copolymer obtained by polymerizing two or more types of conjugated diene compound, and a conjugated diene compound and an aromatic vinyl compound. Conjugated diene copolymers obtained and their hydrogenated products are mentioned.

공역 디엔 화합물로서는 중합 가능한 공역 디엔을 갖는 단량체이면 특별히 한정되지 않는다. 공역 디엔 화합물의 구체예로서는, 1,3-부타디엔, 이소프렌, 2,3-디메틸-1,3-부타디엔, 1,3-펜타디엔, 3-메틸-1,3-펜타디엔, 1,3-헵타디엔, 1,3-헥사디엔을 들 수 있다. 이들 중에서도, 공업적 입수의 용이성의 관점에서, 1,3-부타디엔, 이소프렌이 바람직하다. 공역 디엔 화합물은 단독으로 이용하여도 되고, 조합하여 이용하여도 된다.The conjugated diene compound is not particularly limited as long as it is a monomer having a polymerizable conjugated diene. Specific examples of the conjugated diene compound include 1,3-butadiene, isoprene, 2,3-dimethyl-1,3-butadiene, 1,3-pentadiene, 3-methyl-1,3-pentadiene, and 1,3-hepta. diene and 1,3-hexadiene. Among them, 1,3-butadiene and isoprene are preferable from the viewpoint of industrial availability. A conjugated diene compound may be used independently and may be used in combination.

방향족 비닐 화합물로서는 공역 디엔 화합물과 공중합 가능한 방향족 비닐 구조를 갖는 단량체이면 특별히 한정되지 않는다. 방향족 비닐 화합물의 구체예로서는 스티렌, p-메틸스티렌, α-메틸스티렌, 비닐에틸벤젠, 비닐크실렌, 비닐나프탈렌, 디페닐에틸렌 등을 들 수 있다. 이들 중에서도, 공업적 입수의 용이성의 관점에서 스티렌이 바람직하다. 방향족 비닐 화합물은 단독으로 이용하여도 되고, 조합하여 이용하여도 된다.As an aromatic vinyl compound, if it is a monomer which has an aromatic vinyl structure copolymerizable with a conjugated diene compound, it will not specifically limit. Specific examples of the aromatic vinyl compound include styrene, p-methylstyrene, α-methylstyrene, vinylethylbenzene, vinylxylene, vinylnaphthalene, and diphenylethylene. Among these, the viewpoint of industrial availability to styrene is preferable. An aromatic vinyl compound may be used independently and may be used in combination.

디엔계 공중합체는 랜덤 공중합체이어도 블록 공중합체이어도 된다. 또한, 공역 디엔 화합물, 방향족 비닐 화합물 이외의 화합물을 공중합하여, 디엔계 공중합체를 얻어도 된다.The diene copolymer may be a random copolymer or a block copolymer. Moreover, you may copolymerize compounds other than a conjugated diene compound and an aromatic vinyl compound, and you may obtain a diene type copolymer.

공역 디엔 화합물과 방향족 비닐 화합물을 공중합함으로써 얻어지는 공역 디엔계 공중합체는 공역 디엔 화합물과 방향족 비닐 화합물의 몰비가 공역 디엔 화합물/방향족 비닐 화합물=10/90∼90/10(몰%)인 것이 바람직하다.In the conjugated diene-based copolymer obtained by copolymerizing the conjugated diene compound and the aromatic vinyl compound, the molar ratio of the conjugated diene compound and the aromatic vinyl compound is preferably conjugated diene compound/aromatic vinyl compound = 10/90 to 90/10 (mol%). .

이와 같은 공역 디엔계 (공)중합체의 구체예로서는, 부타디엔 고무(BR), 이소프렌 고무(IR), 스티렌-부타디엔 공중합체(SBR), 부타디엔-이소프렌-스티렌 랜덤 공중합체, 이소프렌-스티렌 랜덤 공중합체, 스티렌-이소프렌 블록 공중합체(SIS), 부타디엔-스티렌 공중합체, 스티렌-에틸렌-부타디엔 블록 공중합체(SEBS), 아크릴로니트릴-부타디엔 고무(NBR)를 들 수 있다. 이들은 단독으로 이용하여도 되고, 조합하여 이용하여도 된다. 이들 중에서도, 이소프렌-스티렌 공중합체가 바람직하다. 또한, 이들의 수첨물도 바람직하게 이용할 수 있다.Specific examples of such a conjugated diene-based (co)polymer include butadiene rubber (BR), isoprene rubber (IR), styrene-butadiene copolymer (SBR), butadiene-isoprene-styrene random copolymer, isoprene-styrene random copolymer, and styrene-isoprene block copolymer (SIS), butadiene-styrene copolymer, styrene-ethylene-butadiene block copolymer (SEBS), and acrylonitrile-butadiene rubber (NBR). These may be used independently and may be used in combination. Among these, an isoprene-styrene copolymer is preferable. Moreover, these hydrogenated substances can also be used preferably.

고무계 폴리머로서, 공역 디엔계 (공)중합체 외에도, 이소부틸렌(IB), 스티렌-이소부틸렌-스티렌 블록 공중합체(SIBS), 스티렌-에틸렌프로필렌 공중합체-스티렌 블록 공중합체 등도 이용할 수 있다. 고무계 폴리머는 단독으로 이용하여도 되고, 조합하여 이용하여도 된다.As the rubber-based polymer, in addition to the conjugated diene-based (co)polymer, isobutylene (IB), styrene-isobutylene-styrene block copolymer (SIBS), styrene-ethylenepropylene copolymer-styrene block copolymer, and the like can also be used. A rubber-type polymer may be used independently and may be used in combination.

본 발명에 이용될 수 있는 고무계 폴리머는 고무계 폴리머 전체 중에 상기 공역 디엔계 (공)중합체를 바람직하게는 50중량% 이상, 보다 바람직하게는 70중량% 이상, 더욱 바람직하게는 80중량% 이상, 특히 바람직하게는 90중량% 이상 포함한다. 공역 디엔계 (공)중합체의 함유량의 상한은 특별히 한정되는 것은 아니고, 100중량%(즉, 공역 디엔계 (공)중합체만으로 이루어지는 고무계 폴리머)이어도 된다.The rubber-based polymer that can be used in the present invention is preferably 50% by weight or more, more preferably 70% by weight or more, even more preferably 80% by weight or more, of the conjugated diene-based (co)polymer in the entire rubber-based polymer. Preferably it contains 90 wt% or more. The upper limit of the content of the conjugated diene-based (co)polymer is not particularly limited, and may be 100% by weight (ie, a rubber-based polymer comprising only the conjugated diene-based (co)polymer).

상기한 바와 같이, 점착제 조성물은 고무계 폴리머를 베이스 폴리머로서 포함한다. 점착제 조성물에서의 고무계 폴리머의 함유량은 바람직하게는 40중량% 이상, 보다 바람직하게는 50중량% 이상, 더욱 바람직하게는 60중량% 이상이다. 고무계 폴리머의 함유량의 상한은 특별히 한정되지 않고, 예컨대 90중량% 이하이다.As described above, the pressure-sensitive adhesive composition includes a rubber-based polymer as a base polymer. The content of the rubber polymer in the pressure-sensitive adhesive composition is preferably 40% by weight or more, more preferably 50% by weight or more, still more preferably 60% by weight or more. The upper limit of the content of the rubber-based polymer is not particularly limited, and is, for example, 90% by weight or less.

점착제 조성물은 고무계 폴리머에 더하여, 임의의 적절한 첨가제를 더 포함하고 있어도 된다. 첨가제의 구체예로서는, 가교제(예컨대, 폴리이소시아네이트, 에폭시 화합물, 알킬에테르화 멜라민 화합물 등), 점착 부여제(예컨대, 로진 유도체 수지, 폴리테르펜 수지, 석유 수지, 지용성 페놀 수지, 비닐톨루엔 수지 등), 가소제, 충전제(예컨대, 층상 실리케이트, 클레이 재료 등), 노화 방지제를 들 수 있다. 점착제 조성물에 첨가되는 첨가제의 종류, 조합, 첨가량 등은 목적에 따라 적절하게 설정될 수 있다. 점착제 조성물에서의 첨가제의 함유량(총량)은 바람직하게는 60중량% 이하, 보다 바람직하게는 50중량% 이하, 더욱 바람직하게는 40중량% 이하이다.In addition to the rubber-based polymer, the pressure-sensitive adhesive composition may further contain any appropriate additives. Specific examples of the additive include a crosslinking agent (eg, polyisocyanate, epoxy compound, alkyl etherified melamine compound, etc.), tackifier (eg, rosin derivative resin, polyterpene resin, petroleum resin, oil-soluble phenol resin, vinyltoluene resin, etc.); plasticizers, fillers (eg, layered silicates, clay materials, etc.), and antioxidants. The type, combination, and amount of additives added to the pressure-sensitive adhesive composition may be appropriately set according to the purpose. Content (total amount) of the additive in an adhesive composition becomes like this. Preferably it is 60 weight% or less, More preferably, it is 50 weight% or less, More preferably, it is 40 weight% or less.

이와 같이 하여 형성되는 봉지부(30)의 두께는 바람직하게는 30㎛∼1000㎛이고, 보다 바람직하게는 50㎛∼500㎛이다. 본 명세서에 있어서 '봉지부의 두께'란 특별히 명기하지 않는 한, 편광판의 주위 단면으로부터 외측으로 연장하는 방향의 두께이다(즉, 봉지부의 두께는 기판의 연장-돌출 부분의 길이에 대응한다). The thickness of the sealing part 30 formed in this way becomes like this. Preferably it is 30 micrometers - 1000 micrometers, More preferably, they are 50 micrometers - 500 micrometers. In the present specification, unless otherwise specified, the 'thickness of the encapsulation portion' is the thickness in the direction extending outward from the peripheral end face of the polarizing plate (that is, the thickness of the encapsulation portion corresponds to the length of the extended-projection portion of the substrate).

A-4. 봉지부 및 기판의 절단A-4. Cutting of encapsulation and substrate

다음으로, 도 1(c)에 나타내는 바와 같이, 편광판의 주위 가장자리로부터 소정 길이의 연장-돌출 부분을 남기고 봉지부(30) 및 기판(20)을 절단한다. 그 결과, 도 1(d)에 나타내는 바와 같이, 소정의 두께를 갖는 봉지부(40)가 형성된다. 절단 후의 봉지부(40)의 두께는 바람직하게는 10㎛∼500㎛이고, 보다 바람직하게는 20㎛∼300㎛이다.Next, as shown in FIG. 1(c) , the encapsulation portion 30 and the substrate 20 are cut leaving a portion extending-protruding a predetermined length from the peripheral edge of the polarizing plate. As a result, as shown in FIG.1(d), the sealing part 40 which has a predetermined thickness is formed. The thickness of the sealing part 40 after cutting becomes like this. Preferably it is 10 micrometers - 500 micrometers, More preferably, they are 20 micrometers - 300 micrometers.

절단은 기계적으로 수행하여도 되고, 레이저 광을 조사함으로써 수행하여도 된다.Cutting may be performed mechanically, and may be performed by irradiating a laser beam.

기계적인 절단으로는 프라이스 가공, 엔드밀 가공을 들 수 있다.Mechanical cutting includes price processing and end milling.

레이저 광은 바람직하게는 적어도 1500nm 이하의 파장의 광을 포함한다. 레이저 광은 더욱 바람직하게는 100pm∼1000nm의 파장의 광을 포함하고, 더욱 바람직하게는 400nm∼900nm의 파장의 광을 포함하며, 특히 바람직하게는 420nm∼680nm의 파장의 광을 포함한다. 하나의 실시형태에서는, 레이저 광은 상기와 같은 범위에 피크 파장을 갖는다. 이와 같은 파장을 포함하는 레이저 광에 의하면, 봉지부의 상하의 두께 방향에 걸쳐 양호하게 절단할 수 있다.The laser light preferably comprises light of a wavelength of at least 1500 nm or less. The laser light more preferably includes light having a wavelength of 100 pm to 1000 nm, further preferably includes light having a wavelength of 400 nm to 900 nm, and particularly preferably includes light having a wavelength of 420 nm to 680 nm. In one embodiment, the laser light has a peak wavelength in the above range. According to the laser beam containing such a wavelength, it can cut|disconnect favorably over the thickness direction of the upper and lower sides of a sealing part.

레이저로서는 예컨대, YAG 레이저, YLF 레이저, YVO4 레이저, 티타늄사파이어 레이저 등의 고체 레이저, 아르곤 이온 레이저, 크립톤 이온 레이저를 포함하는 가스 레이저, 파이버 레이저, 반도체 레이저, 색소 레이저를 들 수 있다. 바람직하게는 고체 레이저가 이용된다.Examples of the laser include solid lasers such as YAG laser, YLF laser, YVO4 laser and titanium sapphire laser, argon ion laser, gas laser including krypton ion laser, fiber laser, semiconductor laser, and dye laser. A solid-state laser is preferably used.

상기 레이저로서는 바람직하게는 단 펄스 레이저(1나노초 이하의 펄스 폭을 갖는 광을 조사하는 레이저, 예컨대, 피코초 레이저 또는 펨토초 레이저 등)가 이용된다. 봉지부로의 열 손상을 억제하는 목적으로는 500피코초 이하(예컨대, 10피코초∼50피코초)의 펄스 폭이 특히 바람직하다. 열 손상을 억제함으로써 아름답고 균일하며 평활한 절단면을 얻을 수 있다.A short pulse laser (a laser irradiating light having a pulse width of 1 nanosecond or less, for example, a picosecond laser or a femtosecond laser, etc.) is preferably used as the laser. For the purpose of suppressing thermal damage to the encapsulation, a pulse width of 500 picoseconds or less (eg, 10 picoseconds to 50 picoseconds) is particularly preferred. By suppressing thermal damage, a beautiful, uniform and smooth cut surface can be obtained.

레이저 광의 조사 조건은 임의의 적절한 조건으로 설정될 수 있다. 예컨대, 고체 레이저(YVO4 레이저)를 이용하는 경우, 펄스 에너지는 바람직하게는 10μJ∼150μJ, 보다 바람직하게는 25μJ∼71μJ이다. 스캔 속도는 바람직하게는 10mm/초∼10000mm/초이고, 보다 바람직하게는 100mm/초∼1000mm/초이다. 반복 주파수는 예컨대 100Hz∼12480Hz이다. 스캔 피치는 바람직하게는 10㎛∼50㎛이다. 레이저 광의 조사 위치에서의 빔 형상은 목적에 따라 적절하게 설정될 수 있다. 당해 빔 형상은 예컨대 원형이어도 되고, 라인상이어도 된다. 빔 형상을 소정의 형상으로 하는 수단으로서는 임의의 적절한 수단이 채용될 수 있다. 예컨대, 소정의 개구부를 갖는 마스크를 개재하여 레이저 조사하여도 되고, 회절 광학 소자 등을 이용하여 빔 정형하여도 된다. 예컨대, 빔 형상이 원형인 경우에는 초점경(스폿경)은 바람직하게는 50㎛∼60㎛이다. 또한, 펄스 레이저의 투입 에너지는 바람직하게는 20000μJ/m㎡∼100000μJ/m㎡이고, 보다 바람직하게는 25000μJ/m㎡∼75000μJ/m㎡이다. 또한, 투입 에너지 E(μJ/m㎡)는 다음의 식으로 구할 수 있다.The laser light irradiation condition can be set to any suitable condition. For example, when a solid-state laser (YVO4 laser) is used, the pulse energy is preferably 10 µJ to 150 µJ, more preferably 25 µJ to 71 µJ. The scanning speed is preferably 10 mm/sec to 10000 mm/sec, more preferably 100 mm/sec to 1000 mm/sec. The repetition frequency is, for example, 100 Hz to 12480 Hz. The scan pitch is preferably 10 µm to 50 µm. The beam shape at the irradiation position of the laser light can be appropriately set according to the purpose. The shape of the beam may be, for example, a circular shape or a line shape. Any suitable means may be employed as means for forming the beam shape into a predetermined shape. For example, laser irradiation may be carried out through a mask having a predetermined opening, or beam shaping may be performed using a diffractive optical element or the like. For example, when the beam shape is circular, the focal diameter (spot diameter) is preferably 50 µm to 60 µm. In addition, the input energy of the pulse laser is preferably 20000 μJ/m 2 to 100000 μJ/m 2 , more preferably 25000 μJ/m 2 to 75000 μJ/m m 2 . In addition, the input energy E (microJ/mm<2>) can be calculated|required by the following formula.

E=(e×M)/(V×p)E=(e×M)/(V×p)

e: 펄스 에너지(J) e: pulse energy (J)

M: 반복 주파수(Hz) M: repetition frequency (Hz)

V: 스캔 속도(mm/초) V: Scan speed (mm/sec)

p: 스캔 피치(mm) p: scan pitch (mm)

레이저 광의 조사 형태(주사 양식)는 목적에 따라 적절하게 설정될 수 있다. 레이저 광은 예컨대, 직선상으로 주사되어도 되고, S자상으로 주사되어도 되며, 소용돌이상으로 주사 되어도 되고, 이들을 조합하여도 된다.The irradiation form (scanning mode) of the laser light can be appropriately set according to the purpose. The laser beam may be scanned, for example, in a linear shape, in an S-shape, or in a vortex shape, or a combination thereof.

상기와 같이 하여 형성된 봉지부(40)는 배리어성을 갖고, 대표적으로는 수분 및 가스(예컨대, 산소)에 대한 배리어성을 갖는다. 봉지부(40)의 40℃, 90% RH 조건 하에서의 수증기 투과율(투습도)은 바람직하게는 300g/㎡/24hr 이하이고, 보다 바람직하게는 100g/㎡/24hr 이하이며, 더욱 바람직하게는 50g/㎡/24hr 이하이고, 특히 바람직하게는 25g/㎡/24hr 이하이다. 투습도의 하한은, 예컨대 0.01g/㎡/24hr이고, 바람직하게는 검출 한계 미만이다. 봉지부(40)의 투습도가 이와 같은 범위이면, 화상 표시 패널을 공기 중의 수분 및 산소로부터 양호하게 보호할 수 있다. 또한, 투습도는 JIS Z0208에 준하여 측정될 수 있다.The encapsulation unit 40 formed as described above has a barrier property, and typically has a barrier property against moisture and gas (eg, oxygen). The water vapor transmission rate (water vapor transmission rate) of the sealing part 40 under the conditions of 40 ° C. and 90% RH is preferably 300 g/m 2 /24 hr or less, more preferably 100 g/m 2 /24 hr or less, and still more preferably 50 g/m 2 /24 hr or less, particularly preferably 25 g/m 2 /24 hr or less. The lower limit of the water vapor transmission rate is, for example, 0.01 g/m 2 /24 hr, preferably less than the detection limit. If the moisture permeability of the encapsulation unit 40 is within such a range, the image display panel can be favorably protected from moisture and oxygen in the air. In addition, the water vapor transmission rate can be measured according to JIS Z0208.

이상과 같이 하여, 도 1(d)에 나타내는 바와 같이, 소정의 사이즈를 갖는 기판 부착 편광판(100)이 제작될 수 있다.As described above, as shown in Fig. 1(d) , the polarizing plate 100 with a substrate having a predetermined size can be produced.

A-5. 화상 표시 장치의 제작 A-5. Fabrication of an image display device

본 실시형태에서는, 상기와 같이 하여 얻어진 기판 부착 편광판을 표시 셀 기판으로서 이용함으로써, 화상 표시 장치를 얻을 수 있다. 액정 표시 장치를 제작 하는 경우에는 일례로서 이하와 같은 순서를 채용할 수 있다: (1) 한 쌍의 기판 부착 편광판을 준비하고; (2) 한쪽의 기판 부착 편광판의 기판 표면에 스위칭 소자(예컨대, TFT)를 설치하고, 다른 쪽의 기판 부착 편광판의 기판 표면에 컬러 필터 를 설치하며; (3) 각각의 기판 표면에 배향막을 형성하여 당해 배향막에 배향 처리를 실시하고; (4) 각각의 기판이 대향하도록 하여(편광판이 외측에 배치되도록 하여) 스페이서를 개재하여 기판 부착 편광판을 첩합하고; (5) 액정을 기판 사이에 봉입한다. 이와 같이 하여 화상 표시 장치가 제작될 수 있다.In this embodiment, an image display apparatus can be obtained by using the polarizing plate with a board|substrate obtained as mentioned above as a display cell board|substrate. In the case of manufacturing a liquid crystal display device, as an example, the following procedure can be employed: (1) preparing a pair of polarizing plates with a substrate; (2) a switching element (eg, TFT) is provided on the substrate surface of one polarizing plate with a substrate, and a color filter is provided on the substrate surface of the other polarizing plate with a substrate; (3) forming an alignment film on the surface of each substrate and subjecting the alignment film to an alignment treatment; (4) bonding the polarizing plates with a substrate through a spacer so that each board|substrate opposes (a polarizing plate is arrange|positioned on the outside); (5) The liquid crystal is sealed between the substrates. In this way, the image display apparatus can be manufactured.

A-6. 다른 실시형태A-6. another embodiment

여기까지 기판 부착 편광판을 표시 셀 기판으로서 이용하는 실시형태에 대하여 설명해 왔지만, 상기한 바와 같이, 본 발명의 제조 방법은 표시 셀을 제작하고 당해 표시 셀의 기판에 편광판을 적층하며, 이어서, 봉지부를 형성함으로써 화상 표시 장치를 얻을 수 있다. 본 실시형태에서는, 일례로서 이하와 같은 순서를 채용할 수 있다:Although the embodiment using a polarizing plate with a board|substrate as a display cell board|substrate was demonstrated so far, as above-mentioned, the manufacturing method of this invention produces a display cell, laminates|stacks a polarizing plate on the board|substrate of the said display cell, and, then, forms a sealing part By doing so, an image display device can be obtained. In this embodiment, as an example, the following sequence may be employed:

(a-1) 한 쌍의 기판을 준비하고; (a-2) 한쪽의 기판 표면에 스위칭 소자(예컨대, TFT)를 설치하고, 다른 쪽의 기판 표면에 컬러 필터를 설치하며; (a-3) 각각의 기판 표면에 배향막을 형성하여 당해 배향막에 배향 처리를 실시하고; (a-4) 스페이서를 개재하여 기판을 첩합하고; (a-5) 액정을 기판 사이에 봉입하여 표시 셀 을 제작하고;(a-1) preparing a pair of substrates; (a-2) providing a switching element (eg, TFT) on one substrate surface and providing a color filter on the other substrate surface; (a-3) forming an alignment film on the surface of each substrate and subjecting the alignment film to an alignment treatment; (a-4) bonding a board|substrate through a spacer; (a-5) manufacturing a display cell by encapsulating a liquid crystal between substrates;

(b) 표시 셀이 편광판의 외주로부터 연장-돌출하도록 하여(바람직하게는 표시 셀이 편광판의 외주를 구성하는 4변 모두로부터 연장-돌출하도록 하여), 표시 셀의 각각의 기판의 외측에 편광판을 적층하고;(b) so that the display cell extends and protrudes from the outer periphery of the polarizing plate (preferably so that the display cell extends and protrudes from all four sides constituting the outer periphery of the polarizing plate), and a polarizing plate is placed on the outside of each substrate of the display cell laminated;

(c) 편광판의 주위 단면을 덮는 봉지부를 형성하고; (c) forming an encapsulation portion covering the peripheral cross-section of the polarizing plate;

(d) 편광판의 주위 가장자리로부터 소정 길이의 연장-돌출 부분을 남기고 봉지부 및 표시 셀 테두리부를 절단한다. (d) The encapsulation part and the display cell edge part are cut off, leaving the extension-protruding part of a predetermined length from the peripheral edge of the polarizing plate.

이와 같이 하여 화상 표시 장치가 제작될 수 있다. 또한, 공정 (b)∼(d)의 상세한 내용은 상기 A-2 항목∼A-4 항목에 기재한 바와 같다. 또한, 표시 셀 테두리부는 절단에 의한 악영향이 없도록 절단용 마진이 확보되어 있다.In this way, the image display apparatus can be manufactured. In addition, the details of steps (b) to (d) are the same as described in items A-2 to A-4 above. In addition, a margin for cutting is secured so that the edge of the display cell does not have an adverse effect due to cutting.

상기에서 설명한 실시형태 이외에도, 본 발명이 화상 표시 장치에서의 기판과 편광판과의 임의의 적층 구조에 적용 가능하다는 것은 당업자에게 자명하다. 본 명세서를 읽으면, 당업자는 기판과 편광판과의 적층, 봉지부의 형성, 및 봉지부와 기판의 절단을, 화상 표시 장치에서의 기판과 편광판과의 임의의 적층 구조에 적용할 수 있다.It is apparent to those skilled in the art that the present invention is applicable to any laminated structure of a substrate and a polarizing plate in an image display device other than the embodiments described above. After reading this specification, those skilled in the art can apply lamination of a substrate and a polarizing plate, formation of an encapsulation portion, and cutting of the encapsulation portion and a substrate to any laminated structure of a substrate and a polarizing plate in an image display device.

B. 화상 표시 장치B. Image display device

본 발명의 화상 표시 장치는 상기 A 항목에 기재된 제조 방법에 의해 얻어진다. 따라서, 화상 표시 장치는 대표적으로는 도 1(d)에 나타내는 바와 같은 구조를 포함한다. 구체적으로는, 화상 표시 장치는 편광판과 해당 편광판의 주위 가장자리로부터 소정 길이의 연장-돌출 부분을 갖는 기판과, 해당 연장-돌출 부분에 형성되고 해당 편광판의 주위 단면을 덮는 봉지부를 갖는다.The image display apparatus of this invention is obtained by the manufacturing method as described in said A item. Accordingly, the image display device typically has a structure as shown in Fig. 1(d). Specifically, the image display device has a polarizing plate and a substrate having an extending-projecting portion of a predetermined length from the peripheral edge of the polarizing plate, and an encapsulation portion formed in the extending-projecting portion and covering the peripheral end face of the corresponding polarizing plate.

화상 표시 장치는 85℃ 및 85% RH 환경 하에서 120시간 유지한 후의 색빠짐 양이 바람직하게는 100㎛ 이하이고, 보다 바람직하게는 50㎛ 이하이며, 더욱 바람직하게는 30㎛ 이하이고, 특히 바람직하게는 25㎛ 이하이다. 색빠짐 양의 하한은 바람직하게는 0이고, 하나의 실시형태에서는 5㎛이다. 색빠짐 양은 화상 표시 장치 대체품(실질적으로는 기판 부착 편광판)을 85℃ 및 85% RH의 오븐 내에서 120시간 방치하여 가습한 후, 표준 편광판과 크로스 니콜의 상태로 배치하였을 때의 단부의 색빠짐 상태를 현미경으로 조사한다. 구체적으로는 편광판 또는 편광막 단부로부터의 색빠짐의 크기(색빠짐 양: ㎛)를 측정한다. 도 2에 나타내는 바와 같이, 연신 방향의 단부로부터의 색빠짐 양(a) 및 연신 방향과 직교하는 방향의 단부로부터의 색빠짐 양(b) 중, 큰 쪽을 색빠짐 양으로 한다. 또한, 색빠짐된 영역은 편광 특성이 현저하게 낮고, 편광판으로서의 기능을 실질적으로 다하지 않는다. 따라서 색빠짐 양은 작으면 작을수록 바람직하다.The image display device preferably loses color after holding for 120 hours under 85°C and 85% RH environment, preferably 100 µm or less, more preferably 50 µm or less, still more preferably 30 µm or less, particularly preferably is 25 μm or less. The lower limit of the amount of discoloration is preferably 0, and in one embodiment is 5 μm. The amount of color loss is the amount of color loss at the end when an image display device replacement product (actually a polarizing plate with a substrate) is left in an oven at 85°C and 85% RH for 120 hours to humidify, and then placed in the state of a standard polarizing plate and cross nicol The condition is examined under a microscope. Specifically, the size (amount of color loss: μm) of color loss from the end of the polarizing plate or polarizing film is measured. As shown in Fig. 2 , the larger one is set as the color loss amount among the color loss amount (a) from the end portion in the stretching direction and the color loss amount (b) from the end portion in the direction orthogonal to the stretching direction. In addition, the color-fading region has remarkably low polarization characteristics, and does not substantially function as a polarizing plate. Therefore, the smaller the amount of color loss, the more preferable.

[실시예][Example]

이하, 실시예에 의해 본 발명을 구체적으로 설명하지만, 본 발명은 이들 실시예에 의해 한정되는 것은 아니다. 또한 각 특성의 측정 방법은 이하와 같다. Hereinafter, although an Example demonstrates this invention concretely, this invention is not limited by these Examples. In addition, the measuring method of each characteristic is as follows.

(1) 두께(1) thickness

디지털 마이크로미터(안리츠사 제조의 KC-351C)를 이용하여 측정하였다.Measurement was made using a digital micrometer (KC-351C manufactured by Anritsu Corporation).

(2) 투습도(2) moisture permeability

실시예 및 비교예에서 조제한 점착제 조성물을 이용하여 박리 라이너/점착 제층(실시예 또는 비교예의 두께를 갖음)/박리 라이너의 구성을 갖는 점착 시트를 형성하였다. 점착 시트의 한쪽의 박리 라이너를 박리하여 점착면을 노출시켜, 해당 점착면을 개재하여 점착 시트를 트리아세틸셀룰로오스 필름(TAC 필름, 두께: 25㎛, 코니카미놀타(주) 제조)에 첩합하여, 10cmΦ의 원상으로 절취하였다. 마지막으로, 다른 한쪽의 박리 라이너를 박리하여 측정용 샘플을 얻었다. 얻어진 측정용 샘플에 대하여 투습도 시험 방법(컵법, JIS Z 0208에 준함)에 의해 투습도(수증기 투과율)를 측정하였다. 또한, 측정 조건은 이하와 같았다. 또한, 측정 시에는 항온 항습조를 사용하였다.By using the pressure-sensitive adhesive compositions prepared in Examples and Comparative Examples, pressure-sensitive adhesive sheets having the structure of release liner/adhesive layer (having the thickness of Example or Comparative Example)/release liner were formed. One side of the release liner of the pressure-sensitive adhesive sheet was peeled to expose the pressure-sensitive adhesive surface, and the pressure-sensitive adhesive sheet was bonded to a triacetyl cellulose film (TAC film, thickness: 25 µm, manufactured by Konica Minolta Co., Ltd.) with the pressure-sensitive adhesive surface interposed therebetween, and 10 cm Φ was cut to the original shape of Finally, the other release liner was peeled off to obtain a measurement sample. With respect to the obtained sample for measurement, the water vapor transmission rate (water vapor transmittance) was measured by the water vapor transmission rate test method (cup method, according to JIS Z 0208). In addition, the measurement conditions were as follows. In addition, at the time of measurement, a thermo-hygrostat was used.

측정 온도: 40℃Measuring temperature: 40℃

상대 습도: 92%Relative Humidity: 92%

측정 시간: 24시간Measurement time: 24 hours

(3) 색빠짐 양(3) Amount of color loss

실시예 및 비교예에서 얻어진 기판 부착 편광판을 화상 표시 장치 대체품으로서 85℃ 및 85% RH의 오븐 내에서 120시간 방치하여 가습한 후, 표준 편광판과 크로스 니콜의 상태로 배치했을 때의, 편광막의 단부의 색빠짐 상태를 현미경으로 조사하였다. 구체적으로는, 편광막 단부로부터의 색빠짐의 크기(색빠짐 양: ㎛)를 측정하였다. 현미경으로 Olympus사 제조의 MX61L을 이용하고, 배율 10배로 촬영한 화상에서 색빠짐 양을 측정하였다. 도 2에 나타내는 바와 같이, 연신 방향의 단부로부터의 색빠짐 양(a) 및 연신 방향과 직교하는 방향의 단부로부터의 색빠짐 양(b) 중, 큰 쪽을 색빠짐 양으로 하였다. The end of the polarizing film when the polarizing plate with a substrate obtained in Examples and Comparative Examples was left in an oven at 85° C. and 85% RH for 120 hours to be humidified as a replacement for an image display device, and then placed in a state of cross nicol with a standard polarizing plate was investigated under a microscope. Specifically, the size of color loss from the end of the polarizing film (amount of color loss: μm) was measured. MX61L manufactured by Olympus was used as a microscope, and the amount of color loss was measured in an image photographed at a magnification of 10 times. As shown in FIG. 2, the larger one was made into the color loss amount among the color loss amount (a) from the edge part in an extending|stretching direction and the color loss amount (b) from the edge part in a direction orthogonal to an extending|stretching direction.

[실시예 1][Example 1]

수지 기재로서 두께 100㎛, Tg 75℃의 이소프탈산 유닛을 7몰% 갖는 비정질(amorphous)의 폴리에틸렌테레프탈레이트(IPA 공중합 PET) 필름을 준비하였다. 이 필름의 표면에 코로나 처리(55W/m2/min)를 실시하였다.As a resin substrate, an amorphous polyethylene terephthalate (IPA copolymerized PET) film having a thickness of 100 μm and a Tg of 75° C. of 7 mol% of isophthalic acid units was prepared. Corona treatment (55 W/m 2 /min) was applied to the surface of this film.

아세토아세틸 변성 PVA(일본합성화학공업사 제조, 상품명: 고세파이머(등록상표) Z200)와, PVA(평균 중합도: 4200, 비누화도: 99.2몰%)를 1:9의 비율로 포함하는 PVA계 수지를 준비하고, 해당 PVA계 수지 100중량부에 대하여 요오드화 칼륨 13중량부를 첨가하여 PVA계 수지 수용액을 조제하였다(PVA계 수지 농도: 5.5 중량%). 이 수용액을 건조 후의 막 두께가 13㎛가 되도록 수지 기재의 코로나 처리면에 도포하고, 60℃의 분위기 하에서 열풍 건조에 의해 10분간 건조하여, 수지 기재 상에 두께 9㎛의 PVA계 수지층을 형성하였다. 이와 같이 하여 적층체를 제작하였다.A PVA-based resin comprising acetoacetyl-modified PVA (manufactured by Nippon Synthetic Chemical Industries, Ltd., trade name: Gosepimer (registered trademark) Z200) and PVA (average degree of polymerization: 4200, degree of saponification: 99.2 mol%) in a ratio of 1:9 was prepared, and 13 parts by weight of potassium iodide was added with respect to 100 parts by weight of the PVA-based resin to prepare an aqueous PVA-based resin solution (PVA-based resin concentration: 5.5% by weight). This aqueous solution is applied to the corona-treated surface of the resin substrate so that the film thickness after drying is 13 µm, dried by hot air drying in an atmosphere of 60°C for 10 minutes, and a PVA-based resin layer having a thickness of 9 µm is formed on the resin substrate did In this way, a laminate was produced.

얻어진 적층체를 공기 중 120℃에서 2.4배로 연신하였다(공중 보조 연신).The resulting laminate was stretched 2.4 times in air at 120°C (air-assisted stretching).

이어서, 적층체를 액체 온도 40℃의 붕산 수용액에 30초간 침지하여 PVA계 수지층을 불용화시켰다. 본 공정의 붕산 수용액은 붕산 함유량을 물 100중량부에 대하여 4중량부로 하였다.Next, the laminate was immersed in a boric acid aqueous solution having a liquid temperature of 40°C for 30 seconds to insolubilize the PVA-based resin layer. The boric acid aqueous solution of this process made the boric acid content 4 weight part with respect to 100 weight part of water.

이어서, 적층체를 액체 온도 30℃의 요오드 및 요오드화 칼륨을 포함하는 염색액에, 얻어지는 편광막의 단체 투과율이 42∼45% 정도가 되도록 임의의 시간, 침지하고 염색하였다. 염색액은 물을 용매로 하고, 요오드 농도를 0.1∼0.4중량%의 범위 내로 하고, 요오드화 칼륨 농도를 0.7∼2.8중량%의 범위 내로 하고, 요오드와 요오드화 칼륨의 농도의 비는 1:7로 하였다.Next, the laminate was immersed and dyed in a dye solution containing iodine and potassium iodide having a liquid temperature of 30°C for an arbitrary time so that the single transmittance of the resulting polarizing film was about 42 to 45%. In the dyeing solution, water was used as a solvent, the iodine concentration was within the range of 0.1 to 0.4% by weight, the potassium iodide concentration was within the range of 0.7 to 2.8% by weight, and the ratio of the concentration of iodine to potassium iodide was 1:7. .

이어서, 적층체를 40℃의 붕산 수용액에 60초간 침지하여, 요오드를 흡착시킨 PVA 수지층에 가교 처리를 실시하였다. 본 공정의 붕산 수용액은 붕산 함유량을 물 100중량부에 대하여 5중량부로 하고, 요오드화 칼륨 함유량을 물 100중량부에 대하여 3중량부로 하였다.Next, the laminated body was immersed in 40 degreeC boric-acid aqueous solution for 60 second, and the PVA resin layer to which iodine was adsorbed was crosslinked. In the aqueous boric acid solution in this step, the boric acid content was 5 parts by weight based on 100 parts by weight of water, and the potassium iodide content was 3 parts by weight based on 100 parts by weight of water.

또한, 적층체를 붕산 수용액 중에서 연신 온도 70℃로 하여, 앞의 공중 보조 연신과 동일한 방향으로 2.3배로 연신하였다(최종적인 연신 배율 5.50배). 본 공정의 붕산 수용액은 붕산 함유량을 물 100중량부에 대하여 3.5중량부로 하고, 요오드화 칼륨 함유량을 물 100중량부에 대하여 5중량부로 하였다.Further, the laminate was stretched at a stretching temperature of 70°C in an aqueous boric acid solution, and stretched 2.3 times in the same direction as the previous aerial auxiliary stretching (final draw ratio 5.50 times). In the aqueous boric acid solution in this step, the boric acid content was 3.5 parts by weight based on 100 parts by weight of water, and the potassium iodide content was 5 parts by weight based on 100 parts by weight of water.

다음으로, 요오드화 칼륨 함유량이 물 100중량부에 대하여 4중량부로 한 수용액으로 적층체를 세정하고, 60℃의 온풍으로 건조하여, 수지 기재 상에 두께 5㎛의 편광막을 얻었다.Next, the layered product was washed with an aqueous solution having a potassium iodide content of 4 parts by weight with respect to 100 parts by weight of water, dried with warm air at 60° C., and a polarizing film having a thickness of 5 μm was obtained on the resin substrate.

얻어진 편광막의 표면(수지 기재와는 반대측의 면)에, UV 경화형 접착제를 개재하여 시클로올레핀계 필름(니폰제온사 제조, ZF-12, 23㎛)을 첩합하였다. 구체적으로는, 편광막 및 시클로올레핀계 필름의 각각에, UV 경화형 접착제를 총 두께 1.0㎛가 되도록 도공하고, 롤기를 사용하여 첩합하였다. 그 후, 자외선을 시클로올레핀계 필름 측으로부터 조사하여 경화형 접착제를 경화시켰다. 이어서, 수지 기재를 박리하여, 당해 박리면에 경화형 접착제를 개재하여 시클로올레핀계 필름의 λ/4판(니폰제온사 제조, ZD-12, 두께 23㎛, Re(550)=140nm)을 첩합하고, 시클로올레핀계 필름 ZD-12(보호 필름)/편광막/시클로올레핀계 필름 ZF-12(보호 필름)의 구성을 갖는 편광판을 얻었다. 또한, ZD-12 필름은 그의 지상축이 편광막의 흡수축에 대하여 45°의 각도를 이루도록 하여 첩합하였다. 이 편광판은 예컨대, 반사형 액정 표시 장치 또는 유기 EL 표시 장치의 시인측 편광판(반사 방지 필름)으로서 이용 될 수 있다.On the surface (surface on the opposite side to the resin substrate) of the obtained polarizing film, a cycloolefin-type film (the Nippon Zeon company make, ZF-12, 23 micrometers) was pasted through UV curable adhesive agent. Specifically, a UV curable adhesive was coated on each of a polarizing film and a cycloolefin type film so that it might become 1.0 micrometer in total thickness, and it was bonded together using the roll machine. Thereafter, ultraviolet rays were irradiated from the cycloolefin-based film side to cure the curable adhesive. Next, the resin substrate is peeled off, and the λ/4 plate (Nippon Zeon Co., Ltd., ZD-12, thickness 23 µm, Re (550) = 140 nm) of the cycloolefin film is bonded to the release surface via a curable adhesive. The polarizing plate which has the structure of , cycloolefin type film ZD-12 (protective film) / polarizing film / cycloolefin type film ZF-12 (protective film) was obtained. Further, the ZD-12 film was bonded so that its slow axis formed an angle of 45° with respect to the absorption axis of the polarizing film. This polarizing plate can be used, for example, as a viewing-side polarizing plate (anti-reflection film) of a reflection type liquid crystal display device or an organic EL display device.

상기에서 얻어진 편광판을 편광막의 흡수축 방향이 장변 방향이 되도록 하여 90mm×40mm 사이즈로 절취하였다. 한편, 기판으로서 시판의 유리판(마츠나미 글라스사 제조, 두께 0.4mm)을 110mm×60mm 사이즈로 절취하였다. 절취한 편광판과 절취한 기판을 아크릴계 점착제를 개재하여 적층하였다. 여기서, 편광판과 기판은, 편광판의 ZD-12 필름(λ/4판)이 기판측에 배치되도록 하여 적층하였다. 또한, 편광판과 기판은 편광판의 외주를 구성하는 4변 모두로부터 기판이 연장-돌출하도록 하여 적층하였다. 기판의 4개의 연장-돌출 부분의 길이는 각각 10mm이었다.The polarizing plate obtained above was cut to a size of 90 mm x 40 mm such that the absorption axis direction of the polarizing film was the long side direction. On the other hand, as a substrate, a commercially available glass plate (manufactured by Matsunami Glass Co., Ltd., thickness 0.4 mm) was cut out to a size of 110 mm x 60 mm. The cut-out polarizing plate and the cut-out board|substrate were laminated|stacked through the acrylic adhesive. Here, the polarizing plate and the substrate were laminated so that the ZD-12 film (λ/4 plate) of the polarizing plate was disposed on the substrate side. In addition, the polarizing plate and the substrate were laminated so that the substrate extends and protrudes from all four sides constituting the outer periphery of the polarizing plate. The length of the four elongated-projecting portions of the substrate was 10 mm each.

상기 연장-돌출 부분에 점착제를 배치하고, 편광판의 주위 단면을 밀봉하였다. 이와 같이 하여 편광판의 주위 단면을 덮는 봉지부를 형성하였다. 또한, 봉지부를 구성하는 점착제는 스티렌·에틸렌프로필렌 공중합체·스티렌의 블록 코폴리머(쿠라레사 제조, 상품명 '셉톤 2063', 스티렌 함유량: 13중량%) 100중량부에 대하여 폴리부텐(JX닛코닛세키 에너지사 제조, 상품명 '닛세키 폴리부텐 HV-300') 10중량부, 테르펜페놀 점착 부여제(야스하라케미컬사 제조, 상품명 'YS 폴리스타 TH130') 40중량부 및 방향족 점착 부여제(이스트만 케미컬사 제조, 상품명 '피콜라스틱A5')를 배합하여 제작하였다.An adhesive was placed on the extended-projection portion, and the peripheral end face of the polarizing plate was sealed. In this way, the sealing part which covers the peripheral end surface of a polarizing plate was formed. In addition, the pressure-sensitive adhesive constituting the sealing part is polybutene (JX Nikko Niseki) based on 100 parts by weight of a block copolymer of styrene/ethylene propylene copolymer/styrene (manufactured by Kuraray, trade name 'Septon 2063', styrene content: 13 wt%) Energy Co., Ltd., trade name 'Niseki Polybutene HV-300') 10 parts by weight, terpene phenol tackifier (Yasuhara Chemical Co., Ltd. trade name 'YS Polystar TH130') 40 parts by weight and aromatic tackifier (Eastman Chemical) manufactured by Co., Ltd., trade name 'Picolastic A5').

이어서, 당해 점착제 및 기판에 레이저 광을 조사하고, 편광판의 주위 가장자리에서 100㎛을 남기도록 하여 당해 점착제를 절단하여 최종적인 봉지부를 형성하였다. 얻어진 봉지부의 투습도는 12g/㎡/24hr이었다. 레이저 광의 조사는 GCC사 제조의 'LaserPro Spirit'을 이용하여 수행하였다.Next, the pressure-sensitive adhesive and the substrate were irradiated with laser light, leaving 100 µm at the peripheral edge of the polarizing plate, and the pressure-sensitive adhesive was cut to form a final sealing portion. The water vapor transmission rate of the obtained sealing part was 12 g/m<2>/24hr. Laser light irradiation was performed using 'LaserPro Spirit' manufactured by GCC.

이상과 같이 하여 기판 부착 편광판을 제작하였다. 얻어진 기판 부착 편광판 을 상기 (3)에 기재된 색빠짐의 평가에 제공하였다. 결과를 표 1에 나타낸다. 또한, 색빠짐의 상태를 도 3에 나타낸다. A polarizing plate with a substrate was produced as described above. The obtained polarizing plate with a board|substrate was used for evaluation of color loss as described in said (3). A result is shown in Table 1. In addition, the state of color loss is shown in FIG.

[실시예 2][Example 2]

실시예 1과 동일하게 하여 얻어진 수지 기재/편광막의 적층체의 편광막 표면에 실시예 1과 동일하게 하여 시클로올레핀계 필름(니폰제온사 제조, ZF-12, 13㎛)을 첩합하였다. 이어서, 수지 기재를 박리하여 당해 박리면에 점착제(12㎛)를 개재하여 반사형 편광자(3M사 제조, APF-V3)를 첩합하고, 시클로올레핀계 필름 ZF-12(보호 필름)/편광막/반사형 편광자의 구성을 갖는 편광판을 얻었다. 또한, 반사 형 편광자는 그의 투과축과 편광막의 투과축이 0°의 각도를 이루도록 하여 첩합하였다. 이 편광판은 예컨대 배면측 편광판으로서 이용될 수 있다.A cycloolefin-based film (manufactured by Nippon Zeon, ZF-12, 13 µm) was pasted together in the same manner as in Example 1 on the surface of the polarizing film of the laminate of the resin substrate/polarizing film obtained in the same manner as in Example 1. Next, the resin substrate is peeled, and a reflective polarizer (manufactured by 3M, APF-V3) is bonded to the peeling surface via an adhesive (12 µm), and a cycloolefin-based film ZF-12 (protective film)/polarizing film/ A polarizing plate having a configuration of a reflection type polarizer was obtained. Further, the reflective polarizer was bonded so that the transmission axis thereof and the transmission axis of the polarizing film formed an angle of 0°. This polarizing plate can be used, for example, as a back-side polarizing plate.

이하의 순서는 실시예 1과 동일하게 하여 기판 부착 편광판을 제작하였다. 또한, 편광판과 기판은 편광판의 ZF-12 필름(보호 필름)이 기판측에 배치되도록 하여 적층하였다. 얻어진 기판 부착 편광판을 실시예 1과 동일한 평가에 제공하였다. 결과를 표 1에 나타낸다. The following procedure carried out similarly to Example 1, and produced the polarizing plate with a board|substrate. In addition, the polarizing plate and the substrate were laminated so that the ZF-12 film (protective film) of the polarizing plate was disposed on the substrate side. The obtained polarizing plate with a board|substrate was used for evaluation similar to Example 1. A result is shown in Table 1.

[실시예 3][Example 3]

실시예 1과 동일하게 하여 얻어진 수지 기재/편광막의 적층체의 편광막 표면에 실시예 1과 동일하게 하여 시클로올레핀계 필름(니폰제온사 제조, ZF-12, 13㎛)을 첩합하였다. 이어서, 수지 기재를 박리하여 시클로올레핀계 필름 ZF-12(보호 필름)/편광막의 구성을 갖는 편광판을 얻었다. 이하의 순서는 실시예 1과 동일하게 하여 기판 부착 편광판을 제작하였다. 또한, 편광판과 기판은 편광막이 기판측에 배치되도록 하여 적층하였다. 얻어진 기판 부착 편광판을 실시예 1과 동일한 평가에 제공하였다. 결과를 표 1에 나타낸다.A cycloolefin-based film (manufactured by Nippon Zeon, ZF-12, 13 µm) was pasted together in the same manner as in Example 1 on the surface of the polarizing film of the laminate of the resin substrate/polarizing film obtained in the same manner as in Example 1. Next, the resin base material was peeled, and the polarizing plate which has the structure of cycloolefin type film ZF-12 (protective film)/polarizing film was obtained. The following procedure carried out similarly to Example 1, and produced the polarizing plate with a board|substrate. In addition, the polarizing plate and the substrate were laminated so that the polarizing film was disposed on the substrate side. The obtained polarizing plate with a board|substrate was used for evaluation similar to Example 1. A result is shown in Table 1.

[실시예 4][Example 4]

투습도가 24g/m2/24hr인 봉지부(두께 50㎛)를 형성한 것 이외에는 실시예 1과 동일하게 하여 기판 부착 편광판을 제작하였다. 얻어진 기판 부착 편광판을 실시 예 1과 동일한 평가에 제공하였다. 결과를 표 1에 나타낸다. A polarizing plate with a substrate was produced in the same manner as in Example 1 except that a sealing portion (thickness of 50 µm) having a water vapor transmission rate of 24 g/m 2 /24hr was formed. The obtained polarizing plate with a board|substrate was used for evaluation similar to Example 1. A result is shown in Table 1.

[실시예 5][Example 5]

투습도가 24g/m2/24hr인 봉지부(두께 50㎛)를 형성한 것 이외에는 실시예 2와 동일하게 하여 기판 부착 편광판을 제작하였다. 얻어진 기판 부착 편광판을 실시예 1과 동일한 평가에 제공하였다. 결과를 표 1에 나타낸다. A polarizing plate with a substrate was produced in the same manner as in Example 2 except that a sealing portion (thickness of 50 µm) having a water vapor transmission rate of 24 g/m 2 /24hr was formed. The obtained polarizing plate with a board|substrate was used for evaluation similar to Example 1. A result is shown in Table 1.

[실시예 6][Example 6]

투습도가 24g/m2/24hr인 봉지부(두께 50㎛)를 형성한 것 이외에는 실시예 3과 동일하게 하여 기판 부착 편광판을 제작하였다. 얻어진 기판 부착 편광판을 실시예 1과 동일한 평가에 제공하였다. 결과를 표 1에 나타낸다. A polarizing plate with a substrate was produced in the same manner as in Example 3 except that a sealing portion (thickness of 50 µm) having a water vapor transmission rate of 24 g/m 2 /24hr was formed. The obtained polarizing plate with a board|substrate was used for evaluation similar to Example 1. A result is shown in Table 1.

[비교예 1][Comparative Example 1]

봉지부를 형성하지 않은 것 이외에는 실시예 1과 동일하게 하여 기판 부착 편광판을 제작하였다. 얻어진 기판 부착 편광판을 실시예 1과 동일한 평가에 제공하였다. 결과를 표 1에 나타낸다. 또한, 색빠짐의 상태를 도 4에 나타낸다. Except not having formed the sealing part, it carried out similarly to Example 1, and produced the polarizing plate with a board|substrate. The obtained polarizing plate with a board|substrate was used for evaluation similar to Example 1. A result is shown in Table 1. In addition, the state of color loss is shown in FIG.

[비교예 2] [Comparative Example 2]

통상적인 아크릴계 점착제를 이용한 것 이외에는 실시예 1과 동일하게 하여 봉지부(투습도: 1000g/m2/24hr를 초과, 두께: 25㎛)를 형성하고, 기판 부착 편광판을 제작하였다. 얻어진 기판 부착 편광판을 실시예 1과 동일한 평가에 제공하였다. 결과를 표 1에 나타낸다. A sealing portion (water vapor transmission rate: more than 1000 g/m 2 /24 hr, thickness: 25 μm) was formed in the same manner as in Example 1 except that a conventional acrylic pressure-sensitive adhesive was used, and a polarizing plate with a substrate was produced. The obtained polarizing plate with a board|substrate was used for evaluation similar to Example 1. A result is shown in Table 1.

[표 1][Table 1]

Figure 112019101069810-pct00001
Figure 112019101069810-pct00001

표 1로부터 분명한 바와 같이, 소정의 투습도를 갖는 봉지부를 편광판의 외주 단면에 형성함으로써 가습 환경 하에서도 우수한 광학 특성을 유지할 수 있는 기판 부착 편광판(최종적으로 화상 표시 장치)이 얻어지는 것을 알 수 있다. As is clear from Table 1, it can be seen that a polarizing plate with a substrate (finally an image display device) capable of maintaining excellent optical properties even in a humidified environment is obtained by forming a sealing portion having a predetermined moisture permeability on the outer peripheral end face of the polarizing plate.

본 발명의 제조 방법에 의해 얻어지는 화상 표시 장치는 TV, 디스플레이, 휴대 전화, 휴대 정보 단말기, 디지털 카메라, 캠코더, 휴대용 게임기, 자동차 네비게이션, 복사기, 프린터, 팩스, 시계, 전자 레인지 등이 바람직하게 이용된다.For the image display device obtained by the manufacturing method of the present invention, a TV, a display, a mobile phone, a portable information terminal, a digital camera, a camcorder, a portable game machine, a car navigation system, a copier, a printer, a fax machine, a watch, a microwave oven, etc. are preferably used. .

10 편광판
20 기판
30 봉지부
40 봉지부(최종)
100 기판 부착 편광판
10 Polarizer
20 board
30 bags
40 encapsulation (final)
100 Polarizing plate with substrate

Claims (9)

편광판과 상기 편광판보다 큰 사이즈를 갖는 기판을 준비하는 것,
상기 기판이 상기 편광판의 외주로부터 연장-돌출하도록 하여 상기 기판과 상기 편광판을 적층하는 것,
상기 편광판의 주위 단면을 덮는 봉지부를 형성하는 것, 및
상기 편광판의 주위 가장자리로부터 소정 길이의 연장-돌출 부분을 남기고 상기 기판 및 상기 봉지부를 절단하여, 소정의 사이즈로 하는 것
을 포함하고,
상기 기판이 액정 표시 장치, 유기 EL 표시 장치 및 양자점 표시 장치로부터 선택되는 화상 표시 장치의 표시 셀 기판인
화상 표시 장치의 제조 방법.
Preparing a polarizing plate and a substrate having a larger size than the polarizing plate,
stacking the substrate and the polarizing plate so that the substrate extends from the outer periphery of the polarizing plate and protrudes;
forming an encapsulation unit covering the peripheral cross-section of the polarizing plate; and
Cutting the substrate and the encapsulation portion to a predetermined size leaving a portion extending-protruding a predetermined length from the peripheral edge of the polarizing plate
including,
wherein the substrate is a display cell substrate of an image display device selected from a liquid crystal display device, an organic EL display device, and a quantum dot display device
A method of manufacturing an image display device.
제1항에 있어서,
상기 기판이 유리판인, 제조 방법.
According to claim 1,
The manufacturing method, wherein the substrate is a glass plate.
제1항에 있어서,
상기 기판이 수지 필름인, 제조 방법.
According to claim 1,
The manufacturing method, wherein the substrate is a resin film.
제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 기판이 상기 편광판의 외주를 구성하는 4변 모두로부터 연장-돌출하도록하여, 상기 기판과 상기 편광판을 적층하는, 제조 방법.
4. The method according to any one of claims 1 to 3,
A manufacturing method in which the substrate and the polarizing plate are laminated such that the substrate extends and protrudes from all four sides constituting the outer periphery of the polarizing plate.
제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 절단이 레이저 광을 조사함으로써 수행되는, 제조 방법.
4. The method according to any one of claims 1 to 3,
wherein the cutting is performed by irradiating laser light.
제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 절단 후의 상기 봉지부의 연장-돌출 부분의 길이가 10㎛∼500㎛인, 제조 방법.
4. The method according to any one of claims 1 to 3,
The manufacturing method of claim 1, wherein the length of the extended-projecting portion of the encapsulation portion after the cutting is 10 μm to 500 μm.
제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 절단 후의 봉지부의 투습도가 300g/m2/24hr 이하인, 제조 방법.
4. The method according to any one of claims 1 to 3,
The moisture permeability of the sealing part after the cutting is 300g/m 2 /24hr or less, the manufacturing method.
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