KR102309628B1 - Optoelectronic device having protection layer - Google Patents
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Abstract
Description
본 개시는 보호층을 이용한 고효율 고내구성을 갖는 대면적 페로브스카이트 광소자에 관한 것이다.The present disclosure relates to a large-area perovskite optical device having high efficiency and high durability using a protective layer.
기후변화에 대응할 수 있는 환경 친화적이고 지속 가능한 에너지 기술 개발의 필요성이 증가하고 있다. 광소자는 광전변환소자 및 전광변환소자를 모두 포괄하는데, 광전변환소자 중 하나인 태양전지는 지속 가능한 에너지 기술로서 미래의 에너지 수요에 능동적으로 대응할 수 있는 해결책으로 각광받고 있다. 태양전지는 태양광발전의 가장 기본단위이자 태양광에너지를 전기에너지로 변환시켜주는 반도체 소자로서, 광기전력 효과(Photovoltaic Effect)를 이용한다.The need to develop environmentally friendly and sustainable energy technologies that can respond to climate change is increasing. Photoelectric devices include both photoelectric conversion devices and electro-optical conversion devices. One of the photoelectric conversion devices, a solar cell, is a sustainable energy technology and is in the spotlight as a solution that can actively respond to future energy demands. A solar cell is the most basic unit of photovoltaic power generation and a semiconductor device that converts solar energy into electrical energy, and uses the photovoltaic effect.
하지만 오늘날 태양전지 기술은 미래의 에너지 수요를 대체할 정도의 효율을 보이지 못하기 때문에, 현재의 기술 수준을 뛰어넘는 기술 혁신이 필요한 상황이다. 이에 차세대 태양전지로서 염료감응 태양전지, 유기물 태양전지, 양자점 태양전지, 페로브스카이트 태양전지(Perovskite Solar Cell, PSC)와 같은 혁신적 소재를 바탕으로 한 기술들이 개발되어 왔다.However, today's solar cell technology does not show the efficiency enough to replace future energy demand, so technological innovation that goes beyond the current level of technology is needed. Accordingly, technologies based on innovative materials such as dye-sensitized solar cells, organic solar cells, quantum dot solar cells, and perovskite solar cells (PSC) have been developed as next-generation solar cells.
그 중에서도 페로브스카이트 태양전지는 종래 실리콘 태양전지를 대체할 박막 태양전지의 한 축으로 도약하였다. 정공 수송물질, 광흡수물질, 및 전자 수송물질을 포함하는 페로브스카이트 태양전지는 페로브스카이트 물질을 광흡수물질로 이용하여 현저히 높은 광기전 효과를 나타낸다.Among them, perovskite solar cells have taken off as one axis of thin film solar cells to replace conventional silicon solar cells. A perovskite solar cell including a hole transport material, a light absorption material, and an electron transport material exhibits a remarkably high photovoltaic effect by using the perovskite material as a light absorption material.
하지만 페로브스카이트 태양전지의 내구성이 문제되고 있을 뿐만 아니라, 태양전지의 대면적화를 달성하는데 있어서도 어려움을 겪고 있다. 고효율의 페로브스카이트 태양전지는 넓은 면적에서 균일한 페로브스카이트 필름을 얻기 어렵기 때문에 작은 면적에서만 구현되어 왔다. 또한, 페로브스카이트 태양전지가 열, 습도, 광에 대한 내구성이 떨어지는 문제점도 발견되었다. 따라서, 페로브스카이트 태양전지를 대면적으로 제조할 수 있으면서 내구성을 증대시킬 수 있는 새로운 기술이 요구되고 있다.However, the durability of the perovskite solar cell is not only a problem, but it is also difficult to achieve a large area of the solar cell. A high-efficiency perovskite solar cell has been implemented only in a small area because it is difficult to obtain a uniform perovskite film over a large area. In addition, it was also found that the perovskite solar cell has poor durability against heat, humidity, and light. Therefore, there is a demand for a new technology capable of increasing durability while being able to manufacture perovskite solar cells in a large area.
본 명세서에서 개시되는 실시예들은, 고효율성과 고내구성을 가지는 광소자를 제공한다.Embodiments disclosed herein provide an optical device having high efficiency and high durability.
본 명세서에서 개시되는 실시예들은, 대면적화가 가능한 광소자를 제공한다.Embodiments disclosed herein provide an optical device capable of having a large area.
본 명세서에서 개시되는 실시예들은, 전극과 전하수송층이 외부에 노출되지 않는 광소자를 제공한다.Embodiments disclosed herein provide an optical device in which the electrode and the charge transport layer are not exposed to the outside.
본 명세서에서 개시되는 실시예들은, 전극과 전하수송층을 덮는 보호층이 전극과 전하수송층으로부터 박리되지 않는 광소자를 제공한다.Embodiments disclosed herein provide an optical device in which the protective layer covering the electrode and the charge transport layer is not separated from the electrode and the charge transport layer.
본 개시의 일 실시예에 따른 광소자는, 제1 전극, 제1 전극 상에 형성된 제1 전하수송층, 제1 전하수송층 상에 형성되는 페로브스카이트층, 페로브스카이트층 상에 형성된 제2 전하수송층, 제2 전하수송층 상에 형성된 제2 전극, 제2 전하수송층 및 제2 전극을 덮는 제1 보호층, 및 제1 보호층 상에 형성된 제2 보호층을 포함하고, 제1 보호층 및 제2 보호층은 서로 다른 재질을 포함한다.An optical device according to an embodiment of the present disclosure includes a first electrode, a first charge transport layer formed on the first electrode, a perovskite layer formed on the first charge transport layer, and a second charge transport layer formed on the perovskite layer , a second electrode formed on the second charge transport layer, a first passivation layer covering the second charge transport layer and the second electrode, and a second passivation layer formed on the first passivation layer, the first passivation layer and the second The protective layer includes different materials.
본 개시의 일 실시예에 따르면, 제2 전극은 Au를 포함한다.According to an embodiment of the present disclosure, the second electrode includes Au.
본 개시의 일 실시예에 따르면, 제2 전하수송층은 PTAA를 포함한다.According to an embodiment of the present disclosure, the second charge transport layer includes PTAA.
본 개시의 일 실시예에 따르면, 제2 보호층은, FSA을 포함한다.According to an embodiment of the present disclosure, the second protective layer includes FSA.
본 개시의 일 실시예에 따르면, 제1 보호층은 유기물을 포함한다.According to an embodiment of the present disclosure, the first protective layer includes an organic material.
본 개시의 일 실시예에 따르면, 유기물은 TPBi 및 TCTA 중 하나 또는 그 조합을 포함한다.According to an embodiment of the present disclosure, the organic material includes one or a combination of TPBi and TCTA.
본 개시의 일 실시예에 따르면, 유기물은 증착 가능한 유기물에 해당한다.According to an embodiment of the present disclosure, the organic material corresponds to a vapor-depositable organic material.
본 개시의 일 실시예에 따르면, 제1 보호층의 두께는 10 ~ 200nm에 해당한다.According to an embodiment of the present disclosure, the thickness of the first passivation layer corresponds to 10 to 200 nm.
본 개시의 다양한 실시예들에 따르면, 광소자는 고효율성과 고내구성을 동시에 가진다.According to various embodiments of the present disclosure, an optical device has high efficiency and high durability at the same time.
본 개시의 다양한 실시예들에 따르면, 광소자의 대면적화가 가능하다.According to various embodiments of the present disclosure, it is possible to increase the area of the optical device.
본 개시의 다양한 실시예들에 따르면, 광소자의 전극과 전하수송층이 외부로 노출되지 않는다.According to various embodiments of the present disclosure, the electrode and the charge transport layer of the optical device are not exposed to the outside.
본 개시의 다양한 실시예들에 따르면, 광소자의 전극과 전하수송층을 덮는 보호층이 전극과 전하수송층으로부터 박리되지 않는다.According to various embodiments of the present disclosure, the protective layer covering the electrode and the charge transport layer of the optical device is not separated from the electrode and the charge transport layer.
본 개시의 다양한 실시예들에 따르면, 서로 다른 소재의 2 개의 보호층을 이용하여 전극 및 전하수송층을 덮음으로써, 보호층이 전극 및 전하수송층으로부터 유격되는 현상을 방지함으로써, 광소자의 면적이 확대될 때 효율이 급격하게 감소하는 문제를 해결할 수 있다.According to various embodiments of the present disclosure, by covering the electrode and the charge transport layer using two protective layers of different materials, the protective layer prevents the electrode and the charge transport layer from being separated from each other, thereby increasing the area of the optical device. It is possible to solve the problem of a sharp decrease in efficiency when
본 개시의 다양한 실시예들에 따르면, 총 2 개의 보호층만으로도 광소자를 보호할 수 있고, 나아가 보호층이 전극 및 전하수송층으로부터 유격되는 현상을 방지할 수 있다.According to various embodiments of the present disclosure, it is possible to protect an optical device with only two protective layers, and furthermore, it is possible to prevent the protective layer from being separated from the electrode and the charge transport layer.
본 개시의 다양한 실시예들에 따르면, 2 개의 보호층을 형성하는 것만으로도 광소자를 보호할 수 있고, 보호층이 유격되는 현상을 방지할 수 있으므로, 제조 공정을 단순화할 수 있다.According to various embodiments of the present disclosure, an optical device may be protected only by forming two passivation layers, and a phenomenon in which the passivation layer is separated may be prevented, thereby simplifying the manufacturing process.
본 개시의 다양한 실시예들에 따르면, 증착 공정을 이용하여 보호층을 형성할 수 있으므로 제조 공정을 단순화할 수 있다.According to various embodiments of the present disclosure, since the protective layer may be formed using a deposition process, a manufacturing process may be simplified.
본 개시의 효과는 이상에서 언급한 효과로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 다른 효과들은 청구범위의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.The effects of the present disclosure are not limited to the effects mentioned above, and other effects not mentioned will be clearly understood by those skilled in the art from the description of the claims.
본 개시의 실시예들은, 이하 설명하는 첨부 도면들을 참조하여 설명될 것이며, 여기서 유사한 참조 번호는 유사한 요소들을 나타내지만, 이에 한정되지는 않는다.
도 1은 종래 기술에 따른 광소자의 단면도로서, 보호층이 전극 및 전하수송층으로부터 유격되는 현상을 나타내는 도면이다.
도 2는 본 개시의 일 실시예에 따른 페로브스카이트 광소자를 도시하는 도면이다.DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Embodiments of the present disclosure will be described with reference to the accompanying drawings described below, wherein like reference numerals denote like elements, but are not limited thereto.
1 is a cross-sectional view of an optical device according to the prior art, illustrating a phenomenon in which a protective layer is separated from an electrode and a charge transport layer.
2 is a diagram illustrating a perovskite optical device according to an embodiment of the present disclosure.
본 개시에서 사용되는 용어에 대해 간략히 설명하고, 개시된 실시예에 대해 구체적으로 설명하기로 한다. 본 명세서에서 사용되는 용어는 본 개시에서의 기능을 고려하면서 가능한 현재 널리 사용되는 일반적인 용어들을 선택하였으나, 이는 관련 분야에 종사하는 기술자의 의도 또는 판례, 새로운 기술의 출현 등에 따라 달라질 수 있다. 또한, 특정한 경우는 출원인이 임의로 선정한 용어도 있으며, 이 경우 해당되는 발명의 설명 부분에서 상세히 그 의미를 기재할 것이다. 따라서, 본 개시에서 사용되는 용어는 단순한 용어의 명칭이 아닌, 그 용어가 가지는 의미와 본 개시의 전반에 걸친 내용을 토대로 정의되어야 한다.Terms used in the present disclosure will be briefly described, and the disclosed embodiments will be described in detail. The terms used in this specification are selected as currently widely used general terms as possible while considering the functions in the present disclosure, but may vary depending on the intention or precedent of a person skilled in the art, the emergence of new technology, and the like. In addition, in a specific case, there is a term arbitrarily selected by the applicant, and in this case, the meaning will be described in detail in the description of the corresponding invention. Therefore, the terms used in the present disclosure should be defined based on the meaning of the term and the contents of the present disclosure, rather than the simple name of the term.
본 개시에서, 단수의 표현은 문맥상 명백하게 단수인 것으로 특정하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다. 또한, 복수의 표현은 문맥상 명백하게 복수인 것으로 특정하지 않는 한, 단수의 표현을 포함한다.In this disclosure, expressions in the singular include plural expressions unless the context clearly dictates the singular. Also, the plural expression includes the singular expression unless the context clearly dictates the plural.
본 개시에서, 어떤 부분이 어떤 구성요소를 포함한다고 할 때, 이는 특별히 반대되는 기재가 없는 한 다른 구성요소를 제외하는 것이 아니라 다른 구성요소를 더 포함할 수 있음을 의미한다.In the present disclosure, when a part includes a certain component, it means that other components may be further included, rather than excluding other components, unless otherwise stated.
본 개시에서 "A 및/또는 B"의 기재는 A, 또는 B, 또는 A 및 B를 의미한다.Reference to “A and/or B” in this disclosure means A, or B, or A and B.
본 개시에서 사용되는 정도의 용어 "약" 등은 허용오차가 존재할 때 허용오차를 포괄하는 의미로 사용된 것이다.As used in the present disclosure, the term "about" and the like are used to encompass the tolerance when there is a tolerance.
본 개시에서, 마쿠쉬 형식의 표현에 포함된 "적어도 어느 하나"의 용어는 마쿠쉬 형식의 표현에 기재된 구성 요소들로 이루어진 군에서 선택되는 하나 이상을 포함하는 것을 의미한다.In the present disclosure, the term “at least any one” included in the Markush-type expression means to include one or more selected from the group consisting of elements described in the Markush-type expression.
본 개시에서, "페로브스카이트" 또는 "PE"는 페로브스카이트 결정구조를 가지는 물질을 의미하며, ABX3의 결정구조 외에도 다양한 페로브스카이트 결정구조를 가질 수 있다.In the present disclosure, "perovskite" or "PE" means a material having a perovskite crystal structure, and may have various perovskite crystal structures in addition to the crystal structure of ABX 3 .
본 개시에서, "광소자"는 광전변환 소자와 전광변환 소자를 모두 포함하는 의미로 사용된다. 예컨대, 광소자는 태양광 전지(Solar Cell), LED(Light Emitting Diode), 광검출기(Photodetector), X-선 검출기(X-ray detector), 레이저(Laser)를 포함하며, 이에 제한되는 것은 아니다.In the present disclosure, the term “optical device” is used in a sense including both a photoelectric conversion device and an electro-optical conversion device. For example, the optical device includes, but is not limited to, a solar cell, a light emitting diode (LED), a photodetector, an X-ray detector, and a laser.
본 개시에서, 용어 "할라이드", "할로겐", "할로겐화물" 또는 "할로"는 주기율표의 17 족에 속하는 할로겐 원자가 작용기의 형태로 포함되어 있는 재질 또는 조성물을 의미하는 것으로서, 예를 들어, 염소, 브롬, 불소 또는 요오드 화합물을 포함할 수 있다.In the present disclosure, the terms “halide”, “halogen”, “halide” or “halo” refer to a material or composition in which a halogen atom belonging to Group 17 of the periodic table is included in the form of a functional group, for example, chlorine , bromine, fluorine or iodine compounds.
본 개시에서, 용어 "층"은 두께를 가지는 레이어(layer) 형태를 의미한다. 층은 다공성에 해당하거나 비-다공성에 해당할 수 있다. 다공성은 공극률을 가지는 것을 의미한다. 층은 전체적으로 벌크(bulk) 형태를 가지거나 또는 단결정 박막(single crystal thin film)에 해당할 수 있으며, 이에 제한되는 것은 아니다. 또한, 층은 부위에 따라 상이한 두께를 가질 수 있다.In the present disclosure, the term “layer” means a layer having a thickness. The layer may correspond to porous or non-porous. Porosity means having a porosity. The layer may have a bulk (bulk) shape as a whole or may correspond to a single crystal thin film, but is not limited thereto. In addition, the layers may have different thicknesses depending on the site.
본 개시에서, 어떤 부재가 다른 부재 "상"에 위치하고 있다고 할 때, 이는 특별히 반대되는 기재가 없는 한 어떤 부재가 다른 부재에 접해 있는 경우 뿐 아니라 두 부재 사이에 또 다른 부재가 존재하는 경우도 포함한다.In the present disclosure, when a member is said to be located "on" another member, this includes not only a case in which a member is in contact with another member but also a case in which another member exists between the two members unless otherwise stated. do.
본 개시에서, 별다른 추가 설명 없이 단순히 효율로만 기재되어 있는 경우, 해당 효율은 전력 변환 효율(Power Conversion Efficiency, PCE)을 의미한다.In the present disclosure, when only efficiency is described without further explanation, the corresponding efficiency means power conversion efficiency (PCE).
이하, 본 개시의 실시를 위한 구체적인 내용을 첨부된 도면을 참조하여 상세히 설명한다. 다만, 이하의 설명에서는 본 개시의 요지를 불필요하게 흐릴 우려가 있는 경우, 널리 알려진 기능이나 구성에 관한 구체적 설명은 생략하기로 한다.Hereinafter, specific contents for carrying out the present disclosure will be described in detail with reference to the accompanying drawings. However, in the following description, if there is a risk of unnecessarily obscuring the subject matter of the present disclosure, detailed descriptions of well-known functions or configurations will be omitted.
개시된 실시예의 이점 및 특징, 그리고 그것들을 달성하는 방법은 첨부되는 도면과 함께 후술되어 있는 실시예들을 참조하면 명확해질 것이다. 그러나, 본 개시는 이하에서 개시되는 실시예들에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 구현될 수 있으며, 단지 본 실시예들은 본 개시가 완전하도록 하고, 본 개시가 통상의 기술자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것일 뿐이다.Advantages and features of the disclosed embodiments, and methods of achieving them, will become apparent with reference to the embodiments described below in conjunction with the accompanying drawings. However, the present disclosure is not limited to the embodiments disclosed below, but may be implemented in various different forms, and only the present embodiments allow the present disclosure to be complete, and the present disclosure provides those skilled in the art with the scope of the invention. It is provided for complete information only.
첨부된 도면에서, 동일하거나 대응하는 구성요소에는 동일한 참조부호가 부여되어 있다. 또한, 이하의 실시예들의 설명에 있어서, 동일하거나 대응되는 구성요소를 중복하여 기술하는 것이 생략될 수 있다. 그러나, 구성요소에 관한 기술이 생략되어도, 그러한 구성요소가 어떤 실시예에 포함되지 않는 것으로 의도되지는 않는다.In the accompanying drawings, identical or corresponding components are assigned the same reference numerals. In addition, in the description of the embodiments below, overlapping description of the same or corresponding components may be omitted. However, even if description regarding components is omitted, it is not intended that such components are not included in any embodiment.
본 개시의 일 실시예에 따르는 광소자는, 제1 전극, 제1 전극 상에 형성된 제1 전하수송층, 제1 전하수송층 상에 형성되는 페로브스카이트층, 페로브스카이트층 상에 형성된 제2 전하수송층, 및 제2 전하수송층 상에 형성된 제2 전극을 포함할 수 있다.An optical device according to an embodiment of the present disclosure includes a first electrode, a first charge transport layer formed on the first electrode, a perovskite layer formed on the first charge transport layer, and a second charge transport layer formed on the perovskite layer , and a second electrode formed on the second charge transport layer.
예컨대, 광소자가 n-i-p 구조의 태양 전지에 사용되는 경우, 해당 광소자는 제1 전극, 전자 수송층, 페로브스카이트층, 정공 수송층 및 제2 전극이 순차적으로 적층된 구조를 가질 수 있다. 또는 광소자가 p-i-n 구조의 태양 전지에 해당하는 경우, 해당 태양 전지는 제1 전극, 정공 수송층, 페로브스카이트 층, 전자 수송층 및 제2 전극이 순차적으로 적층된 구조를 가질 수 있다.For example, when the optical device is used in a solar cell having an n-i-p structure, the optical device may have a structure in which a first electrode, an electron transport layer, a perovskite layer, a hole transport layer, and a second electrode are sequentially stacked. Alternatively, when the optical device corresponds to a solar cell having a p-i-n structure, the solar cell may have a structure in which a first electrode, a hole transport layer, a perovskite layer, an electron transport layer, and a second electrode are sequentially stacked.
예컨대, 광소자는 평판형 구조(Planar Structure)를 가질 수 있고, 또는 Bi-Layer 구조, 또는 Meso-Superstructure 구조를 가질 수 있다. 광소자의 구조에 따라 전극, 전하수송층, 및 페로브스카이트층의 형태가 변형될 수 있다.For example, the optical device may have a planar structure, a Bi-Layer structure, or a Meso-Superstructure structure. The shape of the electrode, the charge transport layer, and the perovskite layer may be changed according to the structure of the optical device.
예컨대, 광소자가 Bi-Layer 구조를 가지는 경우, 페로브스카이트 층은 다공성 TiO2에 페로브스카이트를 채워 넣어 층 형태를 가지도록 형성된 이중층(Bi-layer) 구조를 가질 수 있다. 이중층은, 다공성 TiO2의 기공을 페로브스카이트로 모두 채운 TiO2 : Perovskite 혼합층의 제1 층과 그 위의 순수한 페로브스카이트 층의 제2 층으로 이루어진 구조를 의미할 수 있다.For example, when the optical device has a Bi-Layer structure, the perovskite layer may have a bi-layer structure formed to have a layer shape by filling perovskite in porous TiO 2 . The double layer may refer to a structure consisting of a first layer of a TiO 2 : Perovskite mixed layer in which the pores of porous TiO 2 are all filled with perovskite, and a second layer of a pure perovskite layer thereon.
전극은 제1 전극 및/또는 제2 전극을 포함하고, 애노드 또는 캐소드일 수 있다. 전극은 애노드 또는 캐소드일 수 있다. 제1 전극이 애노드인 경우, 제2 전극은 캐소드일 수 있다. 또는, 제1 전극이 캐소드인 경우, 제2 전극은 애노드일 수 있다. 예컨대, 전극은 인듐주석산화물(indium-tin oxide, ITO) 또는 인듐아연산화물(IZO), 불소함유 산화주석(flourine-doped tin oxide, FTO)등과 같은 전도성 산화물일 수 있다. 또는, 전극은 은(Ag), 금(Au), 마그네슘(Mg), 알루미늄 (Al), 백금(Pt), 텅스텐(W), 구리(Cu), 몰리브덴(Mo), 니켈(Ni), 팔라듐(Pd), 크롬 (Cr), 칼슘(Ca), 사마륨(Sm) 및 리튬 (Li), 및 이들의 조합들로 이루어지는 군으로부터 선택되는 물질을 포함할 수 있다. 또는, 전극은 폴리에틸렌 PET(polyethylene terephthalate), PEN(polyethylene naphthelate), PP(polyperopylene), PI(polyimide), PC(polycarbornate), PS(polystylene), POM(polyoxyethylene) 등과 같이 플라스틱과 같은 유연하고 투명한 물질 위에 도전성을 갖는 물질이 도핑된 것에 해당할 수 있다.The electrode comprises a first electrode and/or a second electrode and may be an anode or a cathode. The electrode may be an anode or a cathode. When the first electrode is an anode, the second electrode may be a cathode. Alternatively, when the first electrode is a cathode, the second electrode may be an anode. For example, the electrode may be a conductive oxide such as indium-tin oxide (ITO) or indium zinc oxide (IZO), fluorine-doped tin oxide (FTO), or the like. Alternatively, the electrode may be silver (Ag), gold (Au), magnesium (Mg), aluminum (Al), platinum (Pt), tungsten (W), copper (Cu), molybdenum (Mo), nickel (Ni), palladium and a material selected from the group consisting of (Pd), chromium (Cr), calcium (Ca), samarium (Sm), and lithium (Li), and combinations thereof. Alternatively, the electrode is a flexible and transparent material such as plastic such as polyethylene terephthalate (PET), polyethylene naphthelate (PEN), polyperopylene (PP), polyimide (PI), polycarbornate (PC), polystylene (PS), and polyoxyethylene (POM). It may correspond to doping a material having conductivity thereon.
전극은 광소자에서 전면전극 또는 후면전극의 전극물질로 통상적으로 사용되는 물질에 해당할 수 있다. 전극은 금, 은, 백금, 팔라듐, 구리, 알루미늄, 탄소, 황화코발트, 황화구리, 산화니켈 및 이들의 복합물에서 하나 이상에서 선택되는 물질일 수 있으나, 이에 한정되지는 않는다. 예컨대, 전극은 불소 함유 산화주석(FTO; Fouorine doped Tin Oxide), 인듐 함유 산화주석(ITO; Indium doped Tin Oxide), ZnO, CNT(카본 나노튜브) 및 그래핀(Graphene) 등에서 선택되는 어느 하나 또는 둘 이상의 무기계 전도성 전극이거나, PEDOT:PSS 등과 같은 유기계 전도성 전극에 해당할 수 있으나, 이에 한정되지는 않는다.The electrode may correspond to a material commonly used as an electrode material for a front electrode or a rear electrode in an optical device. The electrode may be a material selected from one or more of gold, silver, platinum, palladium, copper, aluminum, carbon, cobalt sulfide, copper sulfide, nickel oxide, and a combination thereof, but is not limited thereto. For example, the electrode may be any one selected from fluorine-containing tin oxide (FTO; Fouorine doped tin oxide), indium-containing tin oxide (ITO; Indium doped tin oxide), ZnO, CNT (carbon nanotube), graphene, and the like; It may correspond to two or more inorganic conductive electrodes or organic conductive electrodes such as PEDOT:PSS, but is not limited thereto.
전하수송층으로서, 전자 수송층(Electron Transport Layer, ETL) 또는 정공 수송층(Hole Transport Layer, HTL)이 제1 전극 상에 형성될 수 있다. 제1 전하수송층이 전자 수송층일 경우, 제2 전하수송층은 정공 수송층에 해당할 수 있다. 또는, 제1 전하수송층이 정공 수송층일 경우, 제2 전하수송층은 전자 수송층에 해당할 수 있다.As the charge transport layer, an electron transport layer (ETL) or a hole transport layer (HTL) may be formed on the first electrode. When the first charge transport layer is an electron transport layer, the second charge transport layer may correspond to a hole transport layer. Alternatively, when the first charge transport layer is a hole transport layer, the second charge transport layer may correspond to an electron transport layer.
전자 수송층은 "n형 물질"을 포함하는 반도체에 해당할 수 있다. "n형 물질"은 전자 수송물질을 의미한다. 전자 수송물질은 단일의 전자 수송 화합물 또는 원소 물질, 또는 둘 또는 그 이상의 전자 수송 화합물이나 원소 물질들의 혼합물일 수 있다. 전자 수송 화합물 또는 원소 물질은 도핑되지 않거나 또는 하나 또는 그 이상의 도펀트(dopant) 원소들로 도핑될 수 있다.The electron transport layer may correspond to a semiconductor including an “n-type material”. "n-type material" means an electron transport material. The electron transport material may be a single electron transport compound or elemental material, or a mixture of two or more electron transport compounds or elemental materials. The electron transport compound or elemental material may be undoped or doped with one or more dopant elements.
예컨대, 전자 수송층은 전자 전도성 유기물층 또는 전자 전도성 무기물층일 수 있다. 전자 전도성 유기물은 통상의 유기 태양전지에서, n형 반도체로 사용되는 유기물일 수 있다. 예를 들어, 전자 전도성 유기물은 풀러렌(C60, C70, C74, C76, C78, C82, C95), PCBM([6,6]-phenyl-C61butyric acid methyl ester)). 및 C71-PCBM, C84-PCBM, PC70BM([6,6]-phenyl C70-butyric acid methyl ester)을 포함하는 풀러렌-유도체(Fulleren-derivative), PBI(polybenzimidazole), PTCBI(3,4,9,10-perylenetetracarboxylic bisbenzimidazole), F4-TCNQ(tetra uorotetracyanoquinodimethane) 또는 이들의 혼합물을 포함할 수 있으나, 이에 한정되지 않는다.For example, the electron transport layer may be an electron conductive organic material layer or an electron conductive inorganic material layer. The electron conductive organic material may be an organic material used as an n-type semiconductor in a typical organic solar cell. For example, the electron conductive organic material is fullerene (C60, C70, C74, C76, C78, C82, C95), PCBM ([6,6]-phenyl-C61butyric acid methyl ester). And C71-PCBM, C84-PCBM, PC70BM ([6,6]-phenyl C70-butyric acid methyl ester), including fullerene-derivatives (Fulleren-derivative), PBI (polybenzimidazole), PTCBI (3,4,9, 10-perylenetetracarboxylic bisbenzimidazole), F4-TCNQ (tetra uorotetracyanoquinodimethane), or a mixture thereof, but is not limited thereto.
전자 전도성 무기물은 통상의 양자점 기반 태양전지, 염료 감응형 태양전지 또는 페로브스카이트계 태양전지에서, 전자 전달을 위해 사용되는 전자전도성 금속산화물일 수 있다. 일 실시예에서, 전자전도성 금속산화물은 n형 금속산화물 반도체일 수 있다. 예를 들어, n-형 금속산화물 반도체는 Ti산화물, Zn산화물, In산화물, Sn산화물, W산화물, Nb산화물, Mo산화물, Mg산화물, Ba산화물, Zr산화물, Sr산화물, Yr산화물, La산화물, V산화물, Al산화물, Y산화물, Sc산화물, Sm산화물, Ga산화물, In산화물 및 SrTi산화물에서 하나 또는 둘 이상 선택된 물질, 이들의 혼합물 또는 이들의 복합체(composite)일 수 있으나, 이에 한정되지 않는다.The electron-conducting inorganic material may be an electron-conducting metal oxide used for electron transfer in a conventional quantum dot-based solar cell, a dye-sensitized solar cell, or a perovskite-based solar cell. In one embodiment, the electron conductive metal oxide may be an n-type metal oxide semiconductor. For example, n-type metal oxide semiconductors include Ti oxide, Zn oxide, In oxide, Sn oxide, W oxide, Nb oxide, Mo oxide, Mg oxide, Ba oxide, Zr oxide, Sr oxide, Yr oxide, La oxide, It may be one or more materials selected from V oxide, Al oxide, Y oxide, Sc oxide, Sm oxide, Ga oxide, In oxide and SrTi oxide, a mixture thereof, or a composite thereof, but is not limited thereto.
전자 수송층은 치밀층(치밀막) 또는 다공층(다공막)일 수 있다. 치밀한 전자 수송층은 상술한 전자 전도성 유기물의 막 또는 전자 전도성 무기물의 치밀막일 수 있다. 다공막의 전자 수송층은 상술한 전자 전도성 무기물의 입자들로 이루어진 다공막일 수 있다.The electron transport layer may be a dense layer (dense film) or a porous layer (porous film). The dense electron transport layer may be the above-described electron conductive organic material or the electron conductive inorganic material dense film. The electron transport layer of the porous film may be a porous film made of particles of the above-described electron conductive inorganic material.
정공 수송층은 "p형 물질"을 포함하는 반도체에 해당할 수 있다. "p형 물질"은 정공 수송(hole transporting) 물질을 의미한다. 정공 수송물질은 단일의 정공 수송 화합물 또는 원소 물질, 또는 둘 또는 그 이상의 정공 수송 화합물이나 원소 물질들의 혼합물일 수 있다. 정공 수송 화합물 또는 원소 물질은 도핑되지 않거나 또는 하나 또는 그 이상의 도펀트 원소들로 도핑될 수 있다. 정공 수송물질은, 유기 정공 수송물질, 무기 정공 수송물질 또는 이들의 조합일 수 있다.The hole transport layer may correspond to a semiconductor including a “p-type material”. By "p-type material" is meant a hole transporting material. The hole transport material may be a single hole transport compound or elemental material, or a mixture of two or more hole transport compounds or elemental materials. The hole transport compound or elemental material may be undoped or doped with one or more dopant elements. The hole transport material may be an organic hole transport material, an inorganic hole transport material, or a combination thereof.
정공 수송층은 용액 공정으로 제조 가능할 수 있다. 정공 수송층은 유기 정공 수송물질의 박막일 수 있다. 정공 수송층 박막의 두께는 10 nm 내지 500 nm일 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.The hole transport layer may be manufactured by a solution process. The hole transport layer may be a thin film of an organic hole transport material. The thickness of the hole transport layer thin film may be 10 nm to 500 nm, but is not limited thereto.
정공 수송물질은 유기 정공 수송물질, 구체적으로 단분자 내지 고분자 유기 정공 수송물질(정공전도성 유기물)에 해당할 수 있다. 고분자 유기 정공 수송물질로, 티오펜계, 파라페닐렌비닐렌계, 카바졸계 및 트리페닐아민계에서 하나 또는 둘 이상 선택된 물질을 포함할 수 있다. The hole transport material may correspond to an organic hole transport material, specifically, a single molecule to a high molecular organic hole transport material (hole conductive organic material). The polymer organic hole transport material may include one or two or more selected from thiophene-based, para-phenylenevinylene-based, carbazole-based and triphenylamine-based materials.
단분자 내지 저분자 유기 정공 수송물질은, 펜타센(pentacene), 쿠마린 6(coumarin 6, 3- (2-benzothiazolyl)-7-(diethylamino)coumarin), ZnPC(zinc phthalocyanine), CuPC(copper phthalocyanine), TiOPC(titanium oxide phthalocyanine), Spiro-MeOTAD(2,2',7,7'-tetrakis(N,N-p-dimethoxyphenylamino)- 9,9'-spirobifluorene), F16CuPC(copper(II) 1,2,3,4,8,9,10,11,15,16,17,18,22,23,24,25-hexadecafluoro29H,31H-phthalocyanine), SubPc(boron subphthalocyanine chloride) 및 N3(cis-di(thiocyanato)-bis(2,2'- bipyridyl-4,4'-dicarboxylic acid)-ruthenium(II)) 중에서 하나 또는 둘 이상 선택되는 물질을 포함할 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.Mono- to low-molecular organic hole transport materials include pentacene, coumarin 6, 3- (2-benzothiazolyl)-7- (diethylamino) coumarin), ZnPC (zinc phthalocyanine), CuPC (copper phthalocyanine), TiOPC(titanium oxide phthalocyanine), Spiro-MeOTAD(2,2',7,7'-tetrakis(N,Np-dimethoxyphenylamino)-9,9'-spirobifluorene), F16CuPC(copper(II) 1,2,3, 4,8,9,10,11,15,16,17,18,22,23,24,25-hexadecafluoro29H,31H-phthalocyanine), SubPc (boron subphthalocyanine chloride) and N3 (cis-di(thiocyanato)-bis (2,2'-bipyridyl-4,4'-dicarboxylic acid)-ruthenium (II)) may include, but is not limited to, one or two or more materials selected from the group consisting of.
고분자 유기 정공 수송물질은, P3HT(poly[3-hexylthiophene]), MDMO-PPV(poly[2-methoxy-5-(3',7'- dimethyloctyloxyl)]-1,4-phenylene vinylene), MEH-PPV(poly[2-methoxy -5-(2''-ethylhexyloxy)-p-phenylene vinylene]), P3OT(poly(3-octyl thiophene)), POT( poly(octyl thiophene)), P3DT(poly(3-decyl thiophene)), P3DDT(poly(3-dodecyl thiophene), PPV(poly(p-phenylene vinylene)), TFB(poly(9,9'-dioctylfluorene-co-N-(4-butylphenyl)diphenyl amine), Polyaniline, SpiroMeOTAD ([2,22′,7,77′-tetrkis (N,N-di-p-methoxyphenyl amine)-9,9,9′-spirobi fluorine]), PCPDTBT(Poly[2,1,3-benzothiadiazole- 4,7-diyl[4,4-bis(2-ethylhexyl-4H- cyclopenta [2,1-b:3,4- b']dithiophene-2,6-diyl]], Si-PCPDTBT(poly[(4,4′-bis(2-ethylhexyl)dithieno[3,2-b:2′,3′-d]silole)- 2,6-diyl-alt-(2,1,3-benzothiadiazole)-4,7-diyl]), PBDTTPD(poly((4,8-diethylhexyloxyl) benzo([1,2- b:4,5-b']dithiophene)-2,6-diyl)-alt-((5-octylthieno[3,4-c]pyrrole-4,6-dione)-1,3-diyl)), PFDTBT(poly[2,7-(9-(2-ethylhexyl)-9-hexyl-fluorene)-alt-5,5-(4', 7, -di-2-thienyl-2',1', 3'- benzothiadiazole)]), PFO-DBT(poly[2,7-.9,9-(dioctyl-fluorene)-alt-5,5-(4',7'-di-2-.thienyl-2', 1', 3'- benzothiadiazole)]), PSiFDTBT(poly[(2,7-dioctylsilafluorene)-2,7-diyl-alt-(4,7-bis(2-thienyl)-2,1,3- benzothiadiazole)-5,5′-diyl]), PSBTBT(poly[(4,4′-bis(2-ethylhexyl)dithieno[3,2-b:2′,3′-d]silole)- 2,6-diyl-alt-(2,1,3-benzothiadiazole)-4,7-diyl]), PCDTBT(Poly [[9-(1-octylnonyl)-9H-carbazole-2,7- diyl] -2,5-thiophenediyl -2,1,3-benzothiadiazole-4,7-diyl-2,5-thiophenediyl]), PFB(poly(9,9′- dioctylfluorene-co-bis(N,N′-(4,butylphenyl))bis(N,N′-phenyl-1,4-phenylene)diamine), F8BT(poly(9,9′- dioctylfluorene-co-benzothiadiazole), PEDOT (poly(3,4-ethylenedioxythiophene)), PEDOT:PSS (poly(3,4- ethylenedioxythiophene) poly(styrenesulfonate)), PTAA (poly(triarylamine)), Poly(4-butylphenyldiphenyl-amine) 및 이들의 공중합체에서 하나 또는 둘 이상 선택된 물질을 포함할 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.Polymer organic hole transporting material is P3HT (poly[3-hexylthiophene]), MDMO-PPV (poly[2-methoxy-5-(3',7'-dimethyloctyloxyl)]-1,4-phenylene vinylene), MEH- PPV(poly[2-methoxy-5-(2''-ethylhexyloxy)-p-phenylene vinylene]), P3OT(poly(3-octyl thiophene)), POT( poly(octyl thiophene)), P3DT(poly(3 -decyl thiophene)), P3DDT(poly(3-dodecyl thiophene), PPV(poly(p-phenylene vinylene)), TFB(poly(9,9'-dioctylfluorene-co-N-(4-butylphenyl)diphenyl amine) , Polyaniline, SpiroMeOTAD ([2,22′,7,77′-tetrkis (N,N-di-p-methoxyphenyl amine)-9,9,9′-spirobi fluorine]), PCPDTBT(Poly[2,1, 3-benzothiadiazole-4,7-diyl[4,4-bis(2-ethylhexyl-4H-cyclopenta [2,1-b:3,4- b']dithiophene-2,6-diyl]], Si-PCPDTBT (poly[(4,4′-bis(2-ethylhexyl)dithieno[3,2-b:2′,3′-d]silole)-2,6-diyl-alt-(2,1,3-benzothiadiazole) )-4,7-diyl]), PBDTTPD(poly((4,8-diethylhexyloxyl)benzo([1,2-b:4,5-b']dithiophene)-2,6-diyl)-alt-( (5-octylthieno[3,4-c]pyrrole-4,6-dione)-1,3-diyl)), PFDTBT(poly[2,7-(9-(2-ethylhexyl)-9-hexyl-fluorene) )-alt-5,5-(4', 7, -di-2-thienyl-2',1', 3'- ben zothiadiazole)]), PFO-DBT (poly[2,7-.9,9-(dioctyl-fluorene)-alt-5,5-(4',7'-di-2-.thienyl-2', 1) ', 3'-benzothiadiazole)]), PSiFDTBT (poly[(2,7-dioctylsilafluorene)-2,7-diyl-alt-(4,7-bis(2-thienyl)-2,1,3-benzothiadiazole) -5,5′-diyl]), PSBTBT(poly[(4,4′-bis(2-ethylhexyl)dithieno[3,2-b:2′,3′-d]silole)-2,6-diyl -alt-(2,1,3-benzothiadiazole)-4,7-diyl]), PCDTBT(Poly [[9-(1-octylnonyl)-9H-carbazole-2,7-diyl] -2,5-thiophenediyl -2,1,3-benzothiadiazole-4,7-diyl-2,5-thiophenediyl]), PFB(poly(9,9′-dioctylfluorene-co-bis(N,N′-(4,butylphenyl))bis (N,N′-phenyl-1,4-phenylene)diamine), F8BT(poly(9,9′-dioctylfluorene-co-benzothiadiazole), PEDOT (poly(3,4-ethylenedioxythiophene)), PEDOT:PSS (poly (3,4-ethylenedioxythiophene) poly(styrenesulfonate)), PTAA (poly(triarylamine)), Poly(4-butylphenyldiphenyl-amine) and copolymers thereof may include one or two or more materials selected from, but are limited thereto it is not
전자 수송층 또는 정공 수송층은 버퍼층에 해당할 수 있거나, 버퍼층을 포함할 수 있다. 전자 수송층 또는 정공 수송층은 도핑을 이용하여 표면이 개질될 수 있다. 전자 수송층 또는 정공 수송층은 스핀 코팅, 딥 코팅, 잉크젯 프린팅, 그라비아 프린팅, 스프레이 코팅, 바 코팅, 그라비아 코팅, 브러쉬 페인팅, 열증착, 스퍼터링, E-Beam, 스크린 프린팅, 블레이드 공정 등을 통해 전극의 일면에 도포되거나 필름 형태로 코팅됨으로써 형성될 수 있다.The electron transport layer or the hole transport layer may correspond to a buffer layer, or may include a buffer layer. The surface of the electron transport layer or the hole transport layer may be modified using doping. The electron transport layer or hole transport layer is formed on one side of the electrode through spin coating, dip coating, inkjet printing, gravure printing, spray coating, bar coating, gravure coating, brush painting, thermal evaporation, sputtering, E-Beam, screen printing, blade process, etc. It may be formed by being applied to or coated in the form of a film.
페로브스카이트층은 전극에 직접 접하도록 형성될 수 있다. 대체하여, 페로브스카이트층은 전자 수송층 또는 정공 수송층에 직접 접하도록 형성될 수 있다. 페로브스카이트층은 페로브스카이트를 포함한다.The perovskite layer may be formed to directly contact the electrode. Alternatively, the perovskite layer may be formed in direct contact with the electron transport layer or the hole transport layer. The perovskite layer includes perovskite.
페로브스카이트층은 기상 증착 공정 또는 용액 공정 등을 포함한 다양한 공정을 통해 형성될 수 있다. 페로브스카이트층은 기상 증착 공정을 이용하여 형성될 수 있다. 기상 증착 공정은 진공 챔버 내로 물질을 증기화된 상태 또는 플라즈마 상태로 공급하여, 타겟 물체 표면(예컨대, 기판) 상에 해당 물질을 증착시키는 공정에 해당할 수 있다. 페로브스카이트층은 용액 공정 중 코팅 공정을 통해 형성될 수 있다. 코팅 공정은 스핀 코팅, 바코팅, 노즐 프린팅, 스프레이 코팅, 슬롯다이코팅, 그라비아 프린팅, 잉크젯 프린팅, 스크린 프린팅, 전기수력학적 젯 프린팅(electrohydrodynamic jet printing), 전기분무(electrospray), 및 이들의 조합들로 이루어진 군으로부터 선택되어 이루어지는 것일 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다.The perovskite layer may be formed through various processes including a vapor deposition process or a solution process. The perovskite layer may be formed using a vapor deposition process. The vapor deposition process may correspond to a process of depositing a material on a surface (eg, a substrate) of a target object by supplying a material in a vaporized state or a plasma state into a vacuum chamber. The perovskite layer may be formed through a coating process during a solution process. The coating process includes spin coating, bar coating, nozzle printing, spray coating, slot die coating, gravure printing, inkjet printing, screen printing, electrohydrodynamic jet printing, electrospray, and combinations thereof. It may be selected from the group consisting of, but is not limited thereto.
예를 들어, 페로브스카이트는 1가의 유기 양이온, 2가의 금속 양이온 및 할로겐 음이온을 함유할 수 있다. 일 실시예에서, 본 발명의 페로브스카이트는 하기 화학식을 만족할 수 있다.For example, a perovskite may contain a monovalent organic cation, a divalent metal cation and a halogen anion. In one embodiment, the perovskite of the present invention may satisfy the following chemical formula.
[화학식 1][Formula 1]
AMX3 AMX 3
화학식 1에서, A는 1가의 양이온으로, 유기 암모늄 이온, 아미디니움계(amidinium group) 이온, 또는 유기 암모늄 이온 및 아미디니움계 이온의 조합에 해당할 수 있다.In Formula 1, A is a monovalent cation, and may correspond to an organic ammonium ion, an amidinium group ion, or a combination of an organic ammonium ion and an amidinium ion.
예컨대, A로서 유기 양이온은 화학식 (R1R2R3R4N)+을 가질 수 있다. 이 경우, R1~R4는 수소, 치환되지 않거나 치환된 C1-C20 알킬(alkyl), 또는 치환되지 않거나 치환된 아릴(aryl)에 해당할 수 있다.For example, an organic cation as A may have the formula (R 1 R 2 R 3 R 4 N) + . In this case, R 1 to R 4 may correspond to hydrogen, unsubstituted or substituted C1-C20 alkyl, or unsubstituted or substituted aryl.
예컨대, A로서 유기 양이온은 화학식 (R5NH3)+을 가질 수 있으며, 이 때 R5는 수소, 또는 치환된 또는 치환되지 않은 C1-C20 알킬에 해당할 수 있다.For example, the organic cation as A may have the formula (R 5 NH 3 ) + , where R 5 may correspond to hydrogen or substituted or unsubstituted C1-C20 alkyl.
예컨대, A로서 유기 양이온은 화학식 (R6R7N=CH-NR8R9)+을 가지며, 이 경우에 R6~R9는 수소, 메틸, 또는 에틸에 해당할 수 있다.For example, as A, the organic cation has the formula (R 6 R 7 N=CH-NR 8 R 9 ) + , in which case R 6 to R 9 may correspond to hydrogen, methyl, or ethyl.
M은 2가의 금속 이온일 수 있다. 예컨대, M은 Cu2+, Ni2+, Co2+, Fe2+, Mn2+, Cr2+, Pd2+, Cd2+, Ge2+, Sn2+, Pb2+ 및 Yb2+에서 및 이들의 조합들로 이루어진 군으로부터 선택되는 금속 양이온을 포함하는 것이나, 이에 제한되는 것은 아니다.M may be a divalent metal ion. For example, M is Cu 2+ , Ni 2+ , Co 2+ , Fe 2+ , Mn 2+ , Cr 2+ , Pd 2+ , Cd 2+ , Ge 2+ , Sn 2+ , Pb 2+ and Yb 2 It includes, but is not limited to, a metal cation selected from the group consisting of + and combinations thereof.
X는 할로겐 이온에 해당할 수 있다. 예컨대, 할로겐 이온은 I-, Br-, F-, Cl- 및 이들의 조합들로 이루어진 군으로부터 선택되는 할로겐 이온을 포함하는 것이나, 이에 제한되는 것은 아니다.X may correspond to a halogen ion. For example, halogen ions include, but are not limited to, halogen ions selected from the group consisting of I - , Br - , F - , Cl - and combinations thereof.
예컨대, 페로브스카이트는 CH3NH3PbI3(methylammonium lead iodide, MAPbI3) 및 CH(NH2)2PbI3(formamidinium lead iodide, FAPbI3)에서 선택되는 어느 하나 또는 둘 이상의 혼합물일 수 있다.For example, the perovskite may be any one or a mixture of two or more selected from CH 3 NH 3 PbI 3 (methylammonium lead iodide, MAPbI 3 ) and CH(NH 2 ) 2 PbI 3 (formamidinium lead iodide, FAPbI 3 ).
본 개시의 일 실시예에 따르면, 전극 및/또는 전하수송층을 덮는 제1 보호층이 형성되고, 제1 보호층 상에 제2 보호층이 형성된다. 제1 보호층 및 제2 보호층은 서로 다른 재질을 포함할 수 있다.According to an embodiment of the present disclosure, a first passivation layer covering the electrode and/or the charge transport layer is formed, and a second passivation layer is formed on the first passivation layer. The first passivation layer and the second passivation layer may include different materials.
예컨대, 도 2에 도시된 바와 같이, 본 개시의 일 실시예에 따르는 광소자는, 제2 전하수송층 및 제2 전극을 덮는 제1 보호층 및 제1 보호층 상에 형성된 제2 보호층을 추가로 포함할 수 있다. 제1 보호층 및 제2 보호층을 이용함으로써, 제2 전극과 보호층 간의 계면 부착력이 향상되고, 그로 인해 보호층이 전극으로부터 이격되는 현상을 방지할 수 있다.For example, as shown in FIG. 2 , the optical device according to an embodiment of the present disclosure further includes a first protective layer covering the second charge transport layer and the second electrode, and a second protective layer formed on the first protective layer. may include By using the first passivation layer and the second passivation layer, interfacial adhesion between the second electrode and the passivation layer is improved, thereby preventing the passivation layer from being separated from the electrode.
본 발명의 일 실시예에 따른 광소자는, 제1 전극, 제1 전극 상에 형성된 제1 전하수송층, 제1 전하수송층 상에 형성된 페로브스카이트층, 페로브스카이트층 상에 형성된 제2 전하수송층, 제2 전하수송층 상에 형성된 제2 전극, 제2 전하수송층 및 제2 전극을 덮는 제1 보호층, 및 제1 보호층 상에 형성된 제2 보호층을 포함한다. 제1 보호층 및 제2 보호층은 서로 다른 재질을 포함한다.An optical device according to an embodiment of the present invention includes a first electrode, a first charge transport layer formed on the first electrode, a perovskite layer formed on the first charge transport layer, a second charge transport layer formed on the perovskite layer, A second electrode formed on the second charge transport layer, the second charge transport layer and a first passivation layer covering the second electrode, and a second passivation layer formed on the first passivation layer. The first passivation layer and the second passivation layer include different materials.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 제1 보호층은, 전극 및/또는 전하수송층을 직접 덮을 수 있다. 일 실시예에 따르면, 제1 보호층은 전극 및 전하수송층의 적어도 일부를 직접 동시에 덮을 수 있다. 제2 보호층은 제1 보호층을 직접 덮도록 형성될 수 있다.According to an embodiment of the present invention, the first protective layer may directly cover the electrode and/or the charge transport layer. According to an embodiment, the first protective layer may directly and simultaneously cover at least a portion of the electrode and the charge transport layer. The second passivation layer may be formed to directly cover the first passivation layer.
종래에는, 1 개의 보호층(예컨대, PSA)만이 이 전극 및 전하수송층을 동시에 덮도록 형성되었다(도 1 참고). 이러한 경우, 전극 및 전하수송층의 소재가 서로 상이하기 때문에, 소자의 외부 환경 노출로 인한 변형이 발생하는 경우, 전극 및 전하수송층이 각각 변형하는 정도가 상이할 수 있다. 그로 인해, 전극 및 전하수송층을 직접 덮고 있는 보호층이 전극 및/또는 전하수송층으로부터 이격되는 현상이 발생한다.Conventionally, only one protective layer (eg, PSA) is formed to cover the electrode and the charge transport layer at the same time (see FIG. 1 ). In this case, since the materials of the electrode and the charge transport layer are different from each other, when deformation occurs due to exposure of the device to the external environment, the degree of deformation of the electrode and the charge transport layer may be different. As a result, the protective layer directly covering the electrode and the charge transport layer is separated from the electrode and/or the charge transport layer.
이러한 문제점을 해결하기 위해, 본 발명의 일 실시예에 따르면, 전하수송층 및 제2 전극을 동시에 덮는 제1 보호층, 및 제1 보호층 상에 형성된 제2 보호층을 이용한다. 제1 보호층 및 제2 보호층은 서로 다른 재질을 포함할 수 있다.In order to solve this problem, according to an embodiment of the present invention, a first passivation layer covering the charge transport layer and the second electrode at the same time, and a second passivation layer formed on the first passivation layer are used. The first passivation layer and the second passivation layer may include different materials.
제1 보호층은 유기물로 구성될 수 있다.The first passivation layer may be made of an organic material.
제1 보호층을 구성하는 유기물은 탄소, 수소, 질소, 산소, 및 황이 하나 또는 둘 이상의 조합으로 이루어진 물질에 해당할 수 있다. 본 개시의 일 실시예에 따르면, 유기물은 TPBi(C45H30N6) 및 TCTA(C54H36N4) 중 어느 하나 또는 그 조합을 포함할 수 있으나,이에 한정되지 않는다.The organic material constituting the first passivation layer may correspond to a material composed of one or a combination of two or more of carbon, hydrogen, nitrogen, oxygen, and sulfur. According to an embodiment of the present disclosure, the organic material may include any one or a combination of TPBi (C 45 H 30 N 6 ) and TCTA (C 54 H 36 N 4 ), but is not limited thereto.
제1 보호층을 구성하는 유기물은 증착 가능한 유기물에 해당할 수 있다. 제1 보호층은 증착 공정을 이용하여 형성될 수 있다. 따라서, 증착 가능한 유기물이 제1 보호층을 형성하는데 이용될 수 있다. 증착 가능한 유기물을 이용할 경우, 타 층(예컨대, 제2 보호층)에서 사용된 증착 공정을 활용해서 제1 보호층까지 형성할 수 있어 공정을 단순화할 수 있다.The organic material constituting the first passivation layer may correspond to a vapor-depositable organic material. The first passivation layer may be formed using a deposition process. Accordingly, a vapor-depositable organic material may be used to form the first passivation layer. When a vapor-depositable organic material is used, the first passivation layer may be formed by utilizing the deposition process used in the other layer (eg, the second passivation layer), thereby simplifying the process.
제2 보호층은, 제1 보호층 상에 직접 접하도록 형성될 수 있다. 제2 보호층은 페로브스카이트 광소자를 봉지화하는 봉지필름층에 해당할 수 있다. 예를 들어, 제2 보호층은 (2-(4-(3-fluoro)stilbenyl)ethanammonium), 이브이에이(EVA, ethylene vinyl acetate copolymer), 페녹시수지일 수 있으나, 이에 한정되지 않는다. 예를 들어, 제2 보호층은 FSA(face seal adhesive)에 해당하는 물질에 의해 형성될 수 있다.The second passivation layer may be formed in direct contact with the first passivation layer. The second protective layer may correspond to an encapsulation film layer for encapsulating the perovskite optical device. For example, the second passivation layer may be (2-(4-(3-fluoro)stilbenyl)ethanammonium), ethylene vinyl acetate copolymer (EVA), or phenoxy resin, but is not limited thereto. For example, the second protective layer may be formed of a material corresponding to face seal adhesive (FSA).
본 개시의 일 실시예에 따르면, 제1 보호층의 두께는 10 ~ 200nm에 해당할 수 있다. 이와 같은 두께로 제1 보호층을 형성할 경우, 총 2 개의 보호층(즉, 제1 보호층 및 제2 보호층)만으로도 전극 및 전하수송층으로부터 보호층이 유격되는 현상을 방지할 수 있다. 나아가, 2 개의 보호층을 형성하는 것만으로도 보호층이 유격되는 현상을 방지할 수 있으므로, 제조 공정을 단순화할 수 있다. 또한, 제1 보호층을 증착 가능한 유기물로 형성할 경우, 제1 보호층 및 제2 보호층을 모두 증착 공정에 의해 형성할 수 있어 공정을 단순화할 수 있다.According to an embodiment of the present disclosure, the thickness of the first passivation layer may correspond to 10 to 200 nm. When the first passivation layer is formed with such a thickness, a phenomenon in which the passivation layer is separated from the electrode and the charge transport layer can be prevented with only two passivation layers (ie, the first passivation layer and the second passivation layer). Furthermore, since it is possible to prevent the protective layer from being spaced only by forming two protective layers, the manufacturing process can be simplified. In addition, when the first passivation layer is formed of a vapor-depositable organic material, both the first passivation layer and the second passivation layer may be formed by a vapor deposition process, thereby simplifying the process.
실시예: FTO(TEC8) / mp-TiOExample: FTO (TEC8) / mp-TiO 2 2 / Perovskite / PTAA / Au / Organic(제1 보호층) / FSA(제2 보호층)/ Perovskite / PTAA / Au / Organic (first protective layer) / FSA (second protective layer)
본 개시의 일 실시예에 따른 광소자는, Bi-Layer 구조를 가진다. 구체적으로, 광소자는 FTO(TEC8) / mp-TiO2 / Perovskite / PTAA / Au / 유기물(제1 보호층) / FSA(제2 보호층)를 포함한다. 제1 보호층은 10 ~ 200nm 사이의 두께를 가지도록 진공 증착될 수 있다. 그 후, FSA를 50℃ 이상에서 접착시켜 봉지화가 진행될 수 있다.An optical device according to an embodiment of the present disclosure has a Bi-Layer structure. Specifically, the optical device includes FTO (TEC8) / mp-TiO 2 / Perovskite / PTAA / Au / organic material (first protective layer) / FSA (second protective layer). The first passivation layer may be vacuum deposited to have a thickness between 10 and 200 nm. Thereafter, encapsulation may be performed by bonding the FSA at 50° C. or higher.
비교예: FTO(TEC8) / mp-TiOComparative Example: FTO (TEC8) / mp-TiO 22 / Perovskite / PTAA / Au / FSA / Perovskite / PTAA / Au / FSA
비교예에 따른 광소자는, Bi-Layer 구조를 가진다. 구체적으로는, 광소자는 FTO(TEC8) / mp-TiO2 / Perovskite / PTAA / Au / FSA를 포함한다.The optical device according to the comparative example has a Bi-Layer structure. Specifically, the optical device includes FTO (TEC8) / mp-TiO 2 / Perovskite / PTAA / Au / FSA.
성능 비교Performance Comparison
상기 실시예 및 비교예를 통해 제조된 페로브스카이트 광소자를 이용하여 하기 방법을 통해 광소자의 성능을 평가하였으며, 그 결과를 하기 표 1 및 표 2에 표기하였다.The performance of the optical device was evaluated by the following method using the perovskite optical device prepared in Examples and Comparative Examples, and the results are shown in Tables 1 and 2 below.
1) 전류-전압 특성: 인공태양장치(ORIEL class A solar simulator, Newport, model 91195A)와 소스-미터(source-meter, Kethley, model 2420)를 사용하여, 개방전압(VOC), 단락전류 밀도(JSC) 및 필 팩터(fill factor, FF)를 측정하였다. 1) Current-voltage characteristics: Open-circuit voltage (V OC ), short-circuit current density using an artificial solar device (ORIEL class A solar simulator, Newport, model 91195A) and a source-meter (Kethley, model 2420) (J SC ) and fill factor (FF) were measured.
2) 광전변환효율(power conversion efficiency, PCE): 1,000 W/㎡의 일조 강도와 온도 85℃ 및 습도 85%의 항온 항습 조건에서 실시예 및 비교예를 통해 제조된 페로브스카이트 광소자를 280 내지 2500 ㎚ 파장의 광원에 노출시켜 PCE 값을 측정하였다.2) photoelectric conversion efficiency (PCE): 280 to 280 to perovskite optical devices manufactured in Examples and Comparative Examples under a constant temperature and constant humidity condition of a sunlight intensity of 1,000 W/m 2 and a temperature of 85° C. and a humidity of 85% The PCE value was measured by exposure to a light source having a wavelength of 2500 nm.
3) 안정성: 측정된 PCE 값을 하기 계산식에 대입하여 안정성을 평가하였다.3) Stability: The measured PCE value was substituted into the following formula to evaluate stability.
계산식 = (η1/η0) x 100Formula = (η 1 /η 0 ) x 100
계산식에서 η0는 안정성 시험을 시작한 직후의 페로브스카이트 광소자의 초기 광전변환효율을 의미하며, η1은 동일 페로브스카이트 태양전지를 85℃, 85% 조건에서 100시간 노출한 후의 광전변환효율을 의미한다.In the formula, η 0 means the initial photoelectric conversion efficiency of the perovskite optical device immediately after starting the stability test, and η 1 is the photoelectric conversion after exposing the same perovskite solar cell to 85°C and 85% conditions for 100 hours. means efficiency.
표 1에 따르면, 실시예에 따른 광전변환소자가 비교예보다 높은 전력 변환 효율을 나타내고 있다.According to Table 1, the photoelectric conversion device according to the embodiment exhibits higher power conversion efficiency than the comparative example.
표 2에 따르면, 실시예에 따른 광전변환소자가 비교예보다 현저하게 향상된 소자 안정성을 가진다는 것을 확인할 수 있다.According to Table 2, it can be confirmed that the photoelectric conversion device according to the embodiment has significantly improved device stability than the comparative example.
상기한 본 발명의 바람직한 실시예는 예시의 목적으로 개시된 것이고, 본 발명에 대해 통상의 지식을 가진 당업자라면 본 발명의 사상과 범위 안에서 다양한 수정, 변경 및 부가가 가능할 것이며, 이러한 수정, 변경 및 부가는 특허청구 범위에 속하는 것으로 보아야 할 것이다.The above-described preferred embodiments of the present invention have been disclosed for the purpose of illustration, and various modifications, changes and additions will be possible within the spirit and scope of the present invention by those skilled in the art with respect to the present invention, and such modifications, changes and additions should be considered to be within the scope of the claims.
본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자라면, 본 발명의 기술적 사상을 벗어나지 않는 범위 내에서, 여러 가지 치환, 변형 및 변경이 가능하므로, 본 발명은 전술한 실시예 및 첨부된 도면에 의해 한정되는 것이 아니다.Those of ordinary skill in the art to which the present invention pertains, within the scope of not departing from the technical spirit of the present invention, various substitutions, modifications and changes are possible, so the present invention is described in the above-described embodiments and the accompanying drawings. not limited by
Claims (9)
상기 제1 전극 상에 형성된 제1 전하수송층;
상기 제1 전하수송층 상에 형성되는 페로브스카이트층;
상기 페로브스카이트층 상에 형성된 제2 전하수송층;
상기 제2 전하수송층 상에 형성된 제2 전극;
상기 제2 전하수송층 및 상기 제2 전극을 직접 덮는 제1 보호층; 및
상기 제1 보호층 상에 형성된 제2 보호층
을 포함하고,
상기 제1 보호층 및 상기 제2 보호층은 서로 다른 재질을 포함하고,
상기 제1 보호층은 증착 가능한 유기물을 포함하며, 상기 제1 보호층의 두께는 10 ~ 200nm에 해당하고,
상기 제2 보호층은 증착 가능한 FSA를 포함하는, 광소자.
a first electrode;
a first charge transport layer formed on the first electrode;
a perovskite layer formed on the first charge transport layer;
a second charge transport layer formed on the perovskite layer;
a second electrode formed on the second charge transport layer;
a first protective layer directly covering the second charge transport layer and the second electrode; and
a second passivation layer formed on the first passivation layer
including,
The first protective layer and the second protective layer include different materials,
The first protective layer includes a vapor-depositable organic material, the thickness of the first protective layer corresponds to 10 ~ 200nm,
and the second protective layer comprises a depositable FSA.
상기 제2 전극은 Au를 포함하는, 광소자.
According to claim 1,
The second electrode comprises Au, an optical device.
상기 제2 전하수송층은 PTAA를 포함하는, 광소자.
3. The method of claim 2,
The second charge transport layer comprises PTAA, an optical device.
상기 유기물은 TPBi 및 TCTA 중 하나 또는 그 조합을 포함하는, 광소자.According to claim 1,
The organic material comprises one or a combination of TPBi and TCTA, an optical device.
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Patent Citations (2)
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