KR102240076B1 - Release composition and release film comprising release layer comprising cured product of the same - Google Patents
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Abstract
본 발명은 이형 조성물 및 이의 경화물을 포함하는 이형층을 포함하는 이형 필름에 관한 것이다.The present invention relates to a release film comprising a release layer including a release composition and a cured product thereof.
Description
본 발명은 이형 조성물 및 이의 경화물을 포함하는 이형층을 포함하는 이형 필름에 관한 것이다.The present invention relates to a release film comprising a release layer including a release composition and a cured product thereof.
이형 필름은 액정 디스플레이, 플라즈마 디스플레이, 개인용 휴대정보 단말기 및 내비게이션, 유기발광다이오드, 고분자발광 다이오드(Polymer Light Emitting Diodes), 편광판 등의 디스플레이 유닛 분야, 코팅 분야, 점착제 분야, 접착제 분야 등의 다향한 분야에서 사용되고 있다. 주로, 이형 필름은 대상 물품의 표면, 점착제의 표면, 접착제의 표면 등을 보호하거나, 대상 물품의 캐리어(carrier) 역할을 수행할 수 있다. 이러한, 이형 필름은 대상 물품 등의 제조 과정, 운반 및 저장 과정에서는 대상 물품에 부착되나, 최종 물품의 제조 시에 제거될 수 있다.Release films are in various fields such as liquid crystal displays, plasma displays, personal digital assistants and navigation, organic light emitting diodes, polymer light emitting diodes, display units such as polarizers, coatings, adhesives, and adhesives. It is being used in. Mainly, the release film may protect the surface of the target article, the surface of the pressure-sensitive adhesive, the surface of the adhesive, or the like, or may serve as a carrier of the target article. The release film is attached to the target article during the manufacturing process, transportation, and storage process of the target article, but may be removed during the manufacture of the final article.
이형 필름은 적용 대상에 따라 요구되는 이형 박리력이 다양하게 요구될 수 있고, 각각의 적용 대상에 적합한 이형 박리력을 가지는 이형층을 별도로 개발하여야 하는 문제점이 있었다.The release film may require a variety of release peeling force required according to the application object, and there is a problem in that a release layer having a release peeling force suitable for each application object must be separately developed.
그러므로, 이형 박리력을 조절할 수 있는 이형필름의 이형층에 대한 연구가 필요한 실정이다.Therefore, there is a need for research on a release layer of a release film capable of controlling the release peeling force.
본 발명은 이형 조성물 및 이의 경화물을 포함하는 이형층을 포함하는 이형 필름을 제공하고자 한다.The present invention is to provide a release film comprising a release layer including a release composition and a cured product thereof.
다만, 본 발명이 해결하고자 하는 과제는 상기 언급한 과제로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 과제들은 하기의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.However, the problem to be solved by the present invention is not limited to the above-mentioned problems, and other problems that are not mentioned will be clearly understood by those skilled in the art from the following description.
본 발명의 일 실시상태는 실리콘 화합물; 경화제; 및 벤조페논계 관능기, 퀴논계 관능기 및 티옥산톤계 관능기 중 적어도 하나의 광중합 관능기를 포함하는 광개시제;를 포함하는 이형 조성물을 제공한다.An exemplary embodiment of the present invention is a silicone compound; Hardener; And a photoinitiator comprising at least one photopolymerization functional group of a benzophenone-based functional group, a quinone-based functional group, and a thioxanthone-based functional group.
본 발명의 다른 실시상태는 상기 이형 조성물의 경화물을 포함하는 이형층을 포함하는 이형 필름을 제공한다.Another exemplary embodiment of the present invention provides a release film including a release layer including a cured product of the release composition.
본 발명의 일 실시상태에 따른 이형 필름은 부착되는 기재에 따라 이형 박리력을 조절할 수 있는 장점이 있다.The release film according to an exemplary embodiment of the present invention has the advantage of being able to adjust the release peeling force according to the attached substrate.
본 발명의 일 실시상태에 따른 이형 필름의 이형층은 추가 경화 가능한 장점이 있다.The release layer of the release film according to an exemplary embodiment of the present invention has an advantage that can be further cured.
본 발명의 일 실시상태에 따른 이형 필름은 전술한 추가 경화에 따라 이형 박리력을 조절할 수 있으므로, 다양한 부재에 적용할 수 있는 장점이 있다.The release film according to an exemplary embodiment of the present invention has an advantage that can be applied to various members since the release peeling force can be adjusted according to the above-described additional curing.
본 명세서에 있어서, 어떤 부분이 어떤 구성요소를 "포함" 한다고 할 때, 이는 특별히 반대되는 기재가 없는 한 다른 구성요소를 제외하는 것이 아니라 다른 구성 요소를 더 포함할 수 있는 것을 의미한다. In the present specification, when a part "includes" a certain component, it means that other components may be further included rather than excluding other components unless otherwise stated.
본 명세서에 있어서, 용어 "단량체 중합 단위"는 그 단량체가 중합 반응을 거쳐서 그 중합체의 골격, 예를 들면, 주쇄 또는 측쇄를 형성하고 있는 형태를 의미할 수 있다.In the present specification, the term "monomer polymerization unit" may refer to a form in which the monomer undergoes a polymerization reaction to form a skeleton, for example, a main chain or a side chain of the polymer.
본 명세서에 있어서, 용어 "(메트)아크릴레이트"는 아크릴레이트 또는 메타크릴레이트를 의미할 수 있다.In the present specification, the term "(meth)acrylate" may mean acrylate or methacrylate.
본 명세서에 있어서, 단위 "중량부"는 각 성분간의 중량의 비율을 의미할 수 있다.In the present specification, the unit "part by weight" may mean a ratio of weight between each component.
본 명세서에서, 실리콘 화합물에 포함되는 불포화 알킬기의 함량은, 실리콘 화합물에 포함되는 불포화 알킬기의 몰수를 실리콘 화합물에 포함되는 불포화 알킬기, 포화 알킬기 및 수소의 총 몰수에 대한 몰 분율을 의미할 수 있다.In the present specification, the content of the unsaturated alkyl group included in the silicone compound may mean a molar fraction of the number of moles of the unsaturated alkyl group included in the silicone compound to the total number of moles of the unsaturated alkyl group, saturated alkyl group, and hydrogen included in the silicone compound.
본 명세서에서, 실리콘 화합물에 포함되는 불포화 알킬기, 포화 알킬기 및 수소의 몰수는 NMR(Nuclear Magnetic Resonance, Oxford 300 NMR, VARIAN 社)을 이용하여 측정된 그래프를 통하여 측정된 수치일 수 있다.In the present specification, the number of moles of unsaturated alkyl group, saturated alkyl group, and hydrogen contained in the silicone compound may be a value measured through a graph measured using NMR (Nuclear Magnetic Resonance, Oxford 300 NMR, VARIAN Corporation).
본 명세서에서, 용어 "관능기(functional group)"는 공통된 화학적 특성을 지니는 한 무리의 유기화합물의 공통된 원자단 또는 결합 양식을 의미할 수 있다.In the present specification, the term "functional group" may refer to a common atomic group or bonding pattern of a group of organic compounds having common chemical properties.
본 명세서에서, 용어 "포화 알킬기"는 사슬형 및/또는 가지형으로 단일 결합된 탄화수소를 포함하는 관능기를 포함할 수 있고, 구체적으로 탄소수 1 내지 20 의 알킬기를 포함하는 관능기를 의미할 수 있다.In the present specification, the term "saturated alkyl group" may include a functional group including a single bonded hydrocarbon in a chain and/or branched form, and specifically may mean a functional group including an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms.
본 명세서에서, 용어 "불포화 알킬기"는 사슬형 및/또는 가지형으로 결합되고, 이중 결합 또는 삼중 결합이 하나 이상 존재하는 탄화수소를 포함하는 관능기를 의미할 수 있으며, 구체적으로 탄소수 1 내지 20 의 알케닐기를 포함하는 관능기를 의미할 수 있다.In the present specification, the term "unsaturated alkyl group" may refer to a functional group including a hydrocarbon having one or more double bonds or triple bonds, and is bonded in a chain and/or branched form, and specifically, an egg having 1 to 20 carbon atoms. It may mean a functional group including a kenyl group.
본 명세서에서, 용어 "고형분"은 고체상의 비휘발성 물질을 의미할 수 있으며, 상기 이형 조성물의 고형분은 상기 이형 조성물을 건조한 후의 잔여물의 함량을 의미할 수 있다.In the present specification, the term "solid content" may mean a solid nonvolatile material, and the solid content of the release composition may mean the content of the residue after drying the release composition.
본 명세서에서, 용어 "점도"는 25 ℃ 온도, 50 RH% 상대습도 및 30 Hz 주파수 조건에서 점도계(DV-II+, PRO Viscometer, Brookfield사제)에 의하여 측정된 값을 의미한다.In the present specification, the term "viscosity" means a value measured by a viscometer (DV-II+, PRO Viscometer, manufactured by Brookfield) at 25° C. temperature, 50 RH% relative humidity, and 30 Hz frequency conditions.
본 발명자들은 종래의 이형 필름은 이형 박리력을 후천적으로 조절할 수 없는 문제점이 있음을 발견하고, 이형 박리력을 후천적으로 조절함으로써, 다양한 부재에 적용될 수 있는 이형 필름용 조성물에 대한 연구를 거듭한 결과, 본 발명에 이르게 되었다.The present inventors found that the conventional release film had a problem that the release peeling force could not be adjusted naturally, and the result of repeated research on the composition for a release film that can be applied to various members by controlling the release peeling force acquired , Came to the present invention.
구체적으로, 본 발명자들은 이형 필름을 제조하기 위한 실리콘계 이형 조성물에 벤조페논계 관능기, 퀴논계 관능기 및 티옥산톤계 관능기 중 적어도 하나의 광중합 관능기를 포함하는 광개시제를 적용하는 경우, 광조사에 의하여 추가 경화가 가능하고, 이형 박리력이 증가하는 것을 확인하고, 본 발명을 완성하기에 이르렀다.Specifically, the present inventors applied a photoinitiator containing at least one photopolymerization functional group among a benzophenone-based functional group, a quinone-based functional group, and a thioxanthone-based functional group to a silicone-based release composition for preparing a release film, further curing by light irradiation. It was possible, and it was confirmed that the release force was increased, and the present invention was completed.
이하, 본 명세서에 대하여 더욱 상세하게 설명한다.Hereinafter, the present specification will be described in more detail.
본 발명의 일 실시상태는 실리콘 화합물; 경화제; 및 벤조페논계 관능기, 퀴논계 관능기 및 티옥산톤계 관능기 중 적어도 하나의 광중합 관능기를 포함하는 광개시제;를 포함하는 이형 조성물을 제공한다.An exemplary embodiment of the present invention is a silicone compound; Hardener; And a photoinitiator comprising at least one photopolymerization functional group of a benzophenone-based functional group, a quinone-based functional group, and a thioxanthone-based functional group.
본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 실리콘 화합물은 상기 이형 조성물의 주재료로서, 상기 이형 조성물을 이용하여 제조된 이형층에 이형 특성을 부여할 수 있는 화합물을 의미할 수 있다.According to an exemplary embodiment of the present invention, the silicone compound is a main material of the release composition, and may mean a compound capable of imparting release properties to a release layer prepared using the release composition.
본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 실리콘 화합물은 실리콘 골격에 불포화 알킬기, 포화 알킬기 및 수소가 결합된 것일 수 있다. 구체적으로, 상기 실리콘 골격은 직쇄 또는 분지쇄의 사슬형일 수 있으며, 상기 실리콘 골격은 실리콘 원자와 산소 원자를 포함할 수 있다.According to an exemplary embodiment of the present invention, the silicone compound may be an unsaturated alkyl group, a saturated alkyl group, and hydrogen bonded to a silicone skeleton. Specifically, the silicon skeleton may be a linear or branched chain, and the silicon skeleton may include a silicon atom and an oxygen atom.
본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 실리콘 화합물은 상기 실리콘 골격에 결합된 불포화 알킬기, 포화 알킬기 및 수소를 포함할 수 있다. 구체적으로, 상기 실리콘 화합물은 실질적으로 실리콘 골격, 불포화 알킬기, 포화 알킬기 및 수소로 이루어질 수 있다.According to an exemplary embodiment of the present invention, the silicone compound may include an unsaturated alkyl group, a saturated alkyl group, and hydrogen bonded to the silicone skeleton. Specifically, the silicone compound may substantially consist of a silicone skeleton, an unsaturated alkyl group, a saturated alkyl group, and hydrogen.
상기 실리콘 화합물이 실질적으로 실리콘 골격, 불포화 알킬기, 포화 알킬기 및 수소로 이루어진다는 것은, 실리콘 골격에 실리콘, 불포화 알킬기, 포화 알킬기 및 수소 이외의 다른 성분이 전혀 결합되어 있지 않거나, 일부 결합되어 있더라도 다른 성분에 비하여 그 함유량이 극히 미미하여 실리콘 화합물의 조성 성분으로는 무시할 수 있을 정도의 양을 포함한 경우 등을 의미할 수 있다.The fact that the silicone compound is substantially composed of a silicone skeleton, an unsaturated alkyl group, a saturated alkyl group, and hydrogen means that other components other than silicone, unsaturated alkyl group, saturated alkyl group and hydrogen are not bonded to the silicone skeleton at all or are partially bonded to other components. Compared to that, the content is very insignificant, and thus it may mean a case including an amount that is negligible as a composition component of the silicone compound.
또한, 상기 불포화 알킬기, 포화 알킬기 및 수소는 상기 실리콘 골격을 구성하는 실리콘 원자와 화학적으로 결합된 것일 수 있다.In addition, the unsaturated alkyl group, saturated alkyl group, and hydrogen may be chemically bonded to a silicon atom constituting the silicon skeleton.
본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 불포화 알킬기는 바이닐(vinyl)기 또는 헥세닐(hexenyl)기일 수 있다. 구체적으로, 상기 실리콘 화합물은 바이닐기 및 헥세닐기 중 적어도 하나를 포함할 수 있다. 불포화 알킬기로 바이닐기 및 헥세닐기 중 적어도 하나를 함유하는 실리콘 화합물을 포함하는 경우, 경화제, 광개시제와 안정적으로 반응할 수 있는 이형 조성물을 제공할 수 있다.According to an exemplary embodiment of the present invention, the unsaturated alkyl group may be a vinyl (vinyl) group or a hexenyl (hexenyl) group. Specifically, the silicone compound may include at least one of a vinyl group and a hexenyl group. In the case of including a silicone compound containing at least one of a vinyl group and a hexenyl group as an unsaturated alkyl group, a release composition capable of stably reacting with a curing agent and a photoinitiator can be provided.
본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 헥세닐기는 1-헥세닐(1-hexenyl), 2-헥세닐(2-hexenyl), 3-헥세닐(3-hexenyl), 4-헥세닐(4-hexenyl) 및 5-헥세닐(5-hexenyl)을 포함할 수 있다.According to an exemplary embodiment of the present invention, the hexenyl group 1-hexenyl (1-hexenyl), 2-hexenyl (2-hexenyl), 3-hexenyl (3-hexenyl), 4-hexenyl (4- hexenyl) and 5-hexenyl.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 상기 포화 알킬기는 탄소수 1 이상 6 이하의 직쇄 또는 분지쇄의 알킬기일 수 있다. 구체적으로, 상기 포화 알킬기는 메틸기일 수 있다.According to an embodiment of the present invention, the saturated alkyl group may be a linear or branched alkyl group having 1 to 6 carbon atoms. Specifically, the saturated alkyl group may be a methyl group.
본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 실리콘 화합물 내의 상기 불포화 알킬기의 함량은 상기 불포화 알킬기, 포화 알킬기 및 수소의 총 몰수에 대하여 2 mol% 이상 5 mol% 이하, 2.5 mol% 이상 4.5 mol% 이하, 3 mol% 이상 4.5 mol% 이하, 3.5 mol% 이상 4 mol% 이하, 2 mol% 이상 3 mol% 이하, 3 mol% 이상 4 mol% 이하, 또는 3.5 mol% 이상 5 mol% 이하일 수 있다.According to an exemplary embodiment of the present invention, the content of the unsaturated alkyl group in the silicone compound is 2 mol% or more and 5 mol% or less, 2.5 mol% or more and 4.5 mol% or less with respect to the total number of moles of the unsaturated alkyl group, saturated alkyl group, and hydrogen, It may be 3 mol% or more and 4.5 mol% or less, 3.5 mol% or more and 4 mol% or less, 2 mol% or more and 3 mol% or less, 3 mol% or more and 4 mol% or less, or 3.5 mol% or more and 5 mol% or less.
상기 불포화 알킬기의 함량이 상기 범위 내인 경우, 상기 실리콘 화합물은 상기 경화제 및/또는 상기 광개시제와 안정적으로 반응할 수 있으며, 상기 이형 조성물을 이용하여 제조된 이형층의 이형 박리력이 적절하게 조절될 수 있다.When the content of the unsaturated alkyl group is within the above range, the silicone compound can stably react with the curing agent and/or the photoinitiator, and the release peel force of the release layer prepared using the release composition can be appropriately adjusted. have.
본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 실리콘 화합물 내의 상기 포화 알킬기의 함량은 상기 불포화 알킬기, 포화 알킬기 및 수소의 총 몰수에 대하여 70 mol% 이상 90 mol% 이하, 70 mol% 이상 86 mol% 이하, 70 mol% 이상 85 mol% 이하, 70 mol% 이상 83 mol% 이하, 75 mol% 이상 90 mol% 이하, 75 mol% 이상 86 mol% 이하, 75 mol mol% 이상 85 mol% 이하, 75 mol% 이상 83 mol% 이하, 80 mol% 이상 90 mol% 이하, 80 mol% 이상 86 mol% 이하, 80 mol% 이상 85 mol% 이하, 80 mol% 이상 83 mol% 이하, 83 mol% 이상 90 mol% 이하, 83 mol% 이상 86 mol% 이하, 또는 83 mol% 이상 85 mol% 이하일 수 있다.According to an exemplary embodiment of the present invention, the content of the saturated alkyl group in the silicone compound is 70 mol% or more and 90 mol% or less, 70 mol% or more and 86 mol% or less with respect to the total number of moles of the unsaturated alkyl group, saturated alkyl group and hydrogen, 70 mol% or more and 85 mol% or less, 70 mol% or more and 83 mol% or less, 75 mol% or more and 90 mol% or less, 75 mol% or more and 86 mol% or less, 75 mol mol% or more and 85 mol% or less, 75 mol% or more 83 mol% or less, 80 mol% or more and 90 mol% or less, 80 mol% or more and 86 mol% or less, 80 mol% or more and 85 mol% or less, 80 mol% or more and 83 mol% or less, 83 mol% or more and 90 mol% or less, It may be 83 mol% or more and 86 mol% or less, or 83 mol% or more and 85 mol% or less.
상기 포화 알킬기의 함량이 상기 범위 내인 경우, 상기 실리콘 화합물은 상기 경화제 및/또는 상기 광개시제와 안정적으로 반응할 수 있으며, 상기 이형 조성물을 이용하여 제조된 이형층의 이형 박리력이 적절하게 조절될 수 있다.When the content of the saturated alkyl group is within the above range, the silicone compound can stably react with the curing agent and/or the photoinitiator, and the release peeling force of the release layer prepared using the release composition can be appropriately adjusted. have.
본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 실리콘 화합물 내의 상기 수소의 함량은 상기 불포화 알킬기, 포화 알킬기 및 수소의 총 몰수에 대하여, 5 mol% 이상 25 mol% 이하, 5 mol% 이상 20 mol%, 5 mol% 이상 18 mol%, 5 mol% 이상 15 mol% 이하, 8 mol% 이상 25 mol% 이하, 8 mol% 이상 20 mol% 이하, 8 mol% 이상 18 mol% 이하, 8 mol% 이상 15 mol% 이하, 10 mol% 이상 25 mol% 이하, 10 mol% 이상 20 mol% 이하, 10 mol% 이상 18 mol% 이하, 10 mol% 이상 15 mol% 이하, 15 mol% 이상 25 mol% 이하, 15 mol% 이상 20 mol% 이하, 또는 15 mol% 이상 18 mol% 이하일 수 있다.According to an exemplary embodiment of the present invention, the content of hydrogen in the silicone compound is 5 mol% or more and 25 mol% or less, 5 mol% or more and 20 mol%, 5 mol% with respect to the total number of moles of the unsaturated alkyl group, saturated alkyl group, and hydrogen. mol% or more 18 mol%, 5 mol% or more and 15 mol% or less, 8 mol% or more and 25 mol% or less, 8 mol% or more and 20 mol% or less, 8 mol% or more and 18 mol% or less, 8 mol% or more and 15 mol% Below, 10 mol% or more and 25 mol% or less, 10 mol% or more and 20 mol% or less, 10 mol% or more and 18 mol% or less, 10 mol% or more and 15 mol% or less, 15 mol% or more and 25 mol% or less, 15 mol% It may be greater than or equal to 20 mol%, or greater than or equal to 15 mol% and less than or equal to 18 mol%.
상기 수소의 함량이 상기 범위 내인 경우, 상기 실리콘 화합물은 상기 경화제 및/또는 상기 광개시제와 안정적으로 반응할 수 있으며, 상기 이형 조성물을 이용하여 제조된 이형층의 이형 박리력이 적절하게 조절될 수 있다.When the content of hydrogen is within the above range, the silicone compound may stably react with the curing agent and/or the photoinitiator, and the release peeling force of the release layer prepared using the release composition may be appropriately adjusted. .
본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 실리콘 화합물의 점도는 온도 25 ℃, 습도 50 RH% 및 주파수 30 Hz 에서, 5,000 cPs 이상 8,000 cPs 이하, 5,000 cPs 이상 7,500 cPs 이하, 5,000 cPs 이상 7,000 cPs 이하, 5,000 cPs 이상 6,800 cPs 이하, 5,500 cPs 이상 8,000 cPs 이하, 5,5000 cPs 이상 7,500 cPs 이하, 5,500 cPs 이상 7,000 cPs 이하, 5,500 cPs 이상 6,800 cPs 이하, 6,000 cPs 이상 8,000 cPs 이하, 6,000 cPs 이상 7,500 cPs 이하, 6,000 cPs 이상 7,000 cPs 이하, 6,000 cPs 이상 6,800 cPs 이하, 6,500 cPs 이상 8,000 cPs 이하, 6,500 cPs 이상 7,500 cPs 이하, 6,500 cPs 이상 7,000 cPs 이하, 6,500 cPs 이상 6,800 cPs 이하일 수 있다.According to an exemplary embodiment of the present invention, the viscosity of the silicone compound is 5,000 cPs or more and 8,000 cPs or less, 5,000 cPs or more and 7,500 cPs or less, 5,000 cPs or more and 7,000 cPs or less, at a temperature of 25° C., a humidity of 50 RH% and a frequency of 30 Hz, 5,000 cPs or more 6,800 cPs or less, 5,500 cPs or more 8,000 cPs or less, 5,5000 cPs or more 7,500 cPs or less, 5,500 cPs or more 7,000 cPs or less, 5,500 cPs or more 6,800 cPs or less, 6,000 cPs or more 8,000 cPs or less, 6,000 cPs or more 7,500 cPs or less , 6,000 cPs or more and 7,000 cPs or less, 6,000 cPs or more and 6,800 cPs or less, 6,500 cPs or more and 8,000 cPs or less, 6,500 cPs or more and 7,500 cPs or less, 6,500 cPs or more and 7,000 cPs or less, 6,500 cPs or more and 6,800 cPs or less.
상기 실리콘 화합물의 점도가 상기 범위 내인 경우, 상기 실리콘 화합물을 포함하는 이형 조성물은 이형층의 형성 시 핸들링이 용이하며, 제조된 이형층의 표면 평탄도가 매우 우수하게 조절될 수 있다.When the viscosity of the silicone compound is within the above range, the release composition including the silicone compound can be easily handled when the release layer is formed, and the surface flatness of the prepared release layer can be very excellently controlled.
본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 경화제는 상기 이형 조성물을 이용하여 제조되는 이형 필름의 접촉각 및 표면에너지를 제어하여 이형층의 적절한 이형 박리력 구현이 가능하게 할 수 있다.According to an exemplary embodiment of the present invention, the curing agent may control a contact angle and surface energy of a release film prepared using the release composition to enable proper release peeling force of the release layer.
본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 경화제는 주석계 경화제, 백금계 경화제, 세륨계 경화제 및 티타늄계 경화제 중 적어도 하나를 포함할 수 있다. 다만 이에 제한되는 것은 아니며, 필요 물성의 달성을 위하여 공지된 경화제가 적용될 수 있다.According to an exemplary embodiment of the present invention, the curing agent may include at least one of a tin-based curing agent, a platinum-based curing agent, a cerium-based curing agent, and a titanium-based curing agent. However, the present invention is not limited thereto, and a known curing agent may be applied to achieve the required physical properties.
본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 경화제의 함량은 상기 실리콘 화합물 100 중량부에 대하여 1 중량부 이상 10 중량부 이하, 1 중량부 이상 7 중량부 이하, 1 중량부 이상 6 중량부 이하, 3 중량부 이상 10 중량부 이하, 3 중량부 이상 7 중량부 이하, 3 중량부 이상 6 중량부 이하, 4 중량부 이상 10 중량부 이하, 4 중량부 이상 7 중량부 이하, 또는 4 중량부 이상 6 중량부 이하일 수 있다.According to an exemplary embodiment of the present invention, the content of the curing agent is 1 part by weight or more and 10 parts by weight or less, 1 part by weight or more and 7 parts by weight or less, 1 part by weight or more and 6 parts by weight or less, 3 Parts by weight or more 10 parts by weight or less, 3 parts by weight or more and 7 parts by weight or less, 3 parts by weight or more and 6 parts by weight or less, 4 parts by weight or more and 10 parts by weight or less, 4 parts by weight or more and 7 parts by weight or less, or 4 parts by weight or more 6 It may be less than or equal to parts by weight.
상기 경화제의 함량이 상기 범위 내인 경우, 상기 경화제를 포함하는 이형 조성물의 경화가 충분히 가능하면서도, 과경화, 속경화 또는 경시변화 등의 문제점 발생을 방지할 수 있다.When the content of the curing agent is within the above range, it is possible to sufficiently cure the release composition including the curing agent, while preventing the occurrence of problems such as overcuring, rapid curing, or change with time.
본 발명의 일 실시상태에 따르면 상기 광개시제는 벤조페논계 관능기, 퀴논계 관능기 및 티옥산톤계 관능기 중 적어도 하나의 광중합 관능기를 포함할 수 있다.According to an exemplary embodiment of the present invention, the photoinitiator may include at least one photopolymerization functional group of a benzophenone-based functional group, a quinone-based functional group, and a thioxanthone-based functional group.
본 발명자들이 연구한 결과, 광개시제로서 아세트페논류, 벤조인류, 아실포시핀옥사이드류 등의 제1 형 광개시제를 포함하는 경우, 광조사에 의한 이형 필름의 추가 경화가 가능할 수는 있으나, 추가 경화에 따른 이형 필름의 이형 박리력을 조절하기 곤란하였다.As a result of research by the present inventors, when a type 1 photoinitiator such as acetphenones, benzoin, acylfosypin oxides, etc. is included as a photoinitiator, it may be possible to further cure the release film by light irradiation. It was difficult to control the release peeling force of the release film accordingly.
이에 본 발명자들은 제2 형 광개시제, 바람직하게는 전술한 광중합 관능기를 포함하는 광개시제를 이용하는 경우, 광조사에 의한 이형 필름의 추가 경화가 가능할 수 있고, 상기 추가 경화에 따라 이형 필름의 이형 박리력이 증가하므로, 추가 경화에 따라 이형 박리력이 조절할 수 있음을 확인하고 본 발명에 이르게 되었다.Accordingly, the present inventors believe that when using a second type photoinitiator, preferably a photoinitiator including the above-described photopolymerization functional group, additional curing of the release film by light irradiation may be possible, and the release peeling force of the release film according to the additional curing Therefore, it was confirmed that the release peeling force could be adjusted according to the additional hardening, and the present invention was reached.
본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 광중합 관능기는 수소 탈환형일 수 있다. 구체적으로, 상기 광중합 관능기는 에스테르 결합(-CO-)을 포함할 수 있으며, 상기 에스테르 결합은 상기 이형 조성물의 경화시 산소 라디칼 및 탄소 라디칼로 분해될 수 있다.According to an exemplary embodiment of the present invention, the photopolymerization functional group may be a hydrogen-recycling type. Specifically, the photopolymerization functional group may include an ester bond (-CO-), and the ester bond may be decomposed into oxygen radicals and carbon radicals upon curing of the release composition.
보다 구체적으로, 상기 산소 라디칼은 실리콘 화합물 일측의 실리콘과 수소의 결합을 분해하여 실리콘 화합물의 수소 라디칼을 탈착시킬 수 있다.More specifically, the oxygen radical may decompose the hydrogen radical of the silicon compound by decomposing a bond between silicon and hydrogen on one side of the silicon compound.
또한, 상기 광중합 관능기의 산소 라디칼은 상기 실리콘 화합물에서 탈착된 수소 라디칼과 결합하여 히드록시기를 형성할 수 있다. 그리고, 상기 이형 조성물의 경화시 상기 광중합 관능기의 탄소 라디칼이 상기 실리콘 화합물의 실리콘과 단일 결합을 형성할 수 있다.In addition, the oxygen radical of the photopolymerization functional group may be combined with the hydrogen radical desorbed from the silicon compound to form a hydroxy group. In addition, when the release composition is cured, the carbon radical of the photopolymerization functional group may form a single bond with the silicone of the silicone compound.
본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 벤조페논계 관능기는 벤조페논, 벤조일벤조익에시드, 벤조일벤조익에시드메틸에테르, 4-페닐벤조페논, 히드록시벤조페논, 4-벤졸-4'-메틸디페닐설파이드 및 3,3'-메틸-4-메톡시벤조페논으로 이루어진 군에서 선택되는 적어도 하나의 화합물로부터 유래된 관능기일 수 있다.According to an exemplary embodiment of the present invention, the benzophenone-based functional group is benzophenone, benzoyl benzoic acid, benzoyl benzoic acid methyl ether, 4-phenylbenzophenone, hydroxybenzophenone, 4-benzoyl-4'-methyldi It may be a functional group derived from at least one compound selected from the group consisting of phenyl sulfide and 3,3'-methyl-4-methoxybenzophenone.
본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 퀴논계 관능기는 퀴논, 안트라퀴논, 2-메틸 안트라퀴논, 2-에틸 안트라퀴논, t-부틸 안트라퀴논, 및 2,6-디클로로-9,10- 안트라퀴논으로 이루어진 군에서 선택되는 적어도 하나의 화합물로부터 유래된 관능기일 수 있다.According to an exemplary embodiment of the present invention, the quinone-based functional group is quinone, anthraquinone, 2-methyl anthraquinone, 2-ethyl anthraquinone, t-butyl anthraquinone, and 2,6-dichloro-9,10-anthraquinone. It may be a functional group derived from at least one compound selected from the group consisting of.
본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 티옥산톤계 관능기는 티옥산톤, 2-클로로티옥산톤, 2-메틸티옥산톤, 2,4-디메틸티옥산톤 및 이소프로필티옥산톤으로 이루어진 군에서 선택되는 적어도 하나의 화합물로부터 유래된 관능기일 수 있다.According to an exemplary embodiment of the present invention, the thioxanthone-based functional group is a group consisting of thioxanthone, 2-chloro thioxanthone, 2-methyl thioxanthone, 2,4-dimethyl thioxanthone, and isopropyl thioxanthone It may be a functional group derived from at least one compound selected from.
본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 광개시제는 벤조페논 (메트)아크릴레이트일 수 있다.According to an exemplary embodiment of the present invention, the photoinitiator may be benzophenone (meth)acrylate.
본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 광개시제는 하기 화학식 1 및 화학식 2 로 표시되는 화합물 중 적어도 1 종을 포함할 수 있다.According to an exemplary embodiment of the present invention, the photoinitiator may include at least one of the compounds represented by the following Chemical Formulas 1 and 2.
[화학식 1][Formula 1]
상기 화학식 1 에서,In Formula 1,
n 은 2 내지 12 중 어느 하나의 정수이고, 바람직하게는 2 내지 8 중 어느 하나의 정수이고,n is an integer from 2 to 12, preferably an integer from 2 to 8,
R1 내지 R20 은 각각 독립적으로, 수소; 또는 탄소수 1 내지 15 의 직쇄 또는 분지쇄의 알킬기이며,R 1 to R 20 are each independently hydrogen; Or a straight or branched alkyl group having 1 to 15 carbon atoms,
[화학식 2][Formula 2]
상기 화학식 2 에서, In Formula 2,
R21 내지 R23 은 각각 독립적으로, 수소; 또는 탄소수 1 내지 15 의 직쇄 또는 분지쇄의 알킬기이고,R 21 to R 23 are each independently hydrogen; Or a linear or branched alkyl group having 1 to 15 carbon atoms,
A1 내지 A3 은 각각 독립적으로, 하기 화학식 3 으로 표시되는 치환기이며,A 1 to A 3 are each independently a substituent represented by the following formula (3),
[화학식 3][Formula 3]
상기 화학식 3 에서,In Chemical Formula 3,
m 은 2 내지 12 중 어느 하나의 정수이고, 바람직하게는 2 내지 8 중 어느 하나의 정수이고,m is an integer of 2 to 12, preferably an integer of 2 to 8,
* 은 상기 화학식 2 의 A1 내지 A2 중 어느 하나의 위치에 결합되는 위치이며,* Is a position bonded to any one of A 1 to A 2 of Formula 2,
R24 내지 R34 는 각각 독립적으로, 수소; 또는 탄소수 1 내지 15 의 직쇄 또는 분지쇄의 알킬기이다.R 24 to R 34 are each independently hydrogen; Or it is a C1-C15 linear or branched alkyl group.
본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 화학식 1 로 표시되는 화합물은 하기 화학식 1-1 로 표시되는 화합물일 수 있다:According to an exemplary embodiment of the present invention, the compound represented by Formula 1 may be a compound represented by the following Formula 1-1:
[화학식 1-1][Formula 1-1]
본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 화학식 2 로 표시되는 화합물은 하기 화학식 2-1 로 표시되는 화합물일 수 있다:According to an exemplary embodiment of the present invention, the compound represented by Formula 2 may be a compound represented by the following Formula 2-1:
[화학식 2-1][Formula 2-1]
상기 화학식 2-1 의 A 는 하기 화학식 3-1 로 표시되는 치환기이다:A in Formula 2-1 is a substituent represented by Formula 3-1:
[화학식 3-1][Chemical Formula 3-1]
상기 화학식 3-1 에서In the above formula 3-1
* 는 상기 화학식 2-1 의 A 의 위치에 결합되는 위치이다.* Is a position bonded to the position of A in Formula 2-1.
본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 광개시제의 함량은 상기 실리콘 화합물 100 중량부에 대하여 0.5 중량부 이상 50 중량부 이하, 0.5 중량부 이상 30 중량부 이하, 1 중량부 이상 50 중량부 이하, 또는 1 중량부 이상 30 중량부일 수 있다.According to an exemplary embodiment of the present invention, the content of the photoinitiator is 0.5 parts by weight or more and 50 parts by weight or less, 0.5 parts by weight or more and 30 parts by weight or less, 1 part by weight or more and 50 parts by weight or less, or It may be 1 part by weight or more and 30 parts by weight.
상기 광개시제의 함량이 상기 범위 내인 경우, 상기 이형 조성물을 이용하여 제조된 이형층의 추가 경화시 이형 박리력이 조절될 수 있다.When the content of the photoinitiator is within the above range, the release peel force may be adjusted when the release layer prepared using the release composition is further cured.
구체적으로, 상기 광개시제의 함량이 상기 범위를 초과하는 경우 상기 이형층이 과경화되어 오히려 박리력이 감소하는 문제점이 발생할 수 있고, 상기 광개시제의 함량이 범위에 미달되는 경우 추가 경화가 충분히 진행되지 못하는 문제점이 발생할 수 있다.Specifically, when the content of the photoinitiator exceeds the above range, the release layer may be overcured, resulting in a problem in that the peeling force is rather reduced, and when the content of the photoinitiator is less than the range, additional curing may not proceed sufficiently. Problems can arise.
본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 이형 조성물은 유기 용매를 더 포함할 수 있다.According to an exemplary embodiment of the present invention, the release composition may further include an organic solvent.
본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 유기 용매는 톨루엔, 헥산, 헵탄 메틸에틸케톤(Methyl Ethyl Ketone; MEK) 및 에틸아세테이트 중 적어도 하나를 포함할 수 있다. 다만, 이에 한정되는 것은 아니고, 당업계에서 일반적으로 알려진 유기 용매 중에서 자유롭게 선택되는 것일 수 있다.According to an exemplary embodiment of the present invention, the organic solvent may include at least one of toluene, hexane, heptane methyl ethyl ketone (MEK), and ethyl acetate. However, the present invention is not limited thereto, and may be freely selected from organic solvents generally known in the art.
본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 유기 용매의 함량은 상기 실리콘 화합물 100 중량부에 대하여, 250 중량부 이상 700 중량부 이하, 400 중량부 이상 600 중량부 이하, 200 중량부 이상 300 중량부 이하, 350 중량부 이상 500 중량부 이하, 또는 550 중량부 이상 700 중량부 이하일 수 있다. 상기 유기 용매의 함량이 상기 범위 내인 경우, 상기 이형 조성물의 고형분 함량을 3 % 이상 10 % 이하로 제어할 수 있다.According to an exemplary embodiment of the present invention, the content of the organic solvent is 250 parts by weight or more and 700 parts by weight or less, 400 parts by weight or more and 600 parts by weight or less, 200 parts by weight or more and 300 parts by weight or less, based on 100 parts by weight of the silicone compound. , 350 parts by weight or more and 500 parts by weight or less, or 550 parts by weight or more and 700 parts by weight or less. When the content of the organic solvent is within the above range, the solid content of the release composition may be controlled to 3% or more and 10% or less.
본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 이형 조성물의 고형분 함량은 3 % 이상 10 % 이하, 4.5 % 이상 9 % 이하, 6 % 이상 8 % 이하, 4 % 이상 6 % 이하, 5 % 이상 7.5 % 이하, 또는 8 % 이상 10 % 이하일 수 있다.According to an exemplary embodiment of the present invention, the solid content of the release composition is 3% or more and 10% or less, 4.5% or more and 9% or less, 6% or more and 8% or less, 4% or more and 6% or less, 5% or more and 7.5% or less. , Or 8% or more and 10% or less.
상기 고형분 함량이 상기 범위 내인 경우, 상기 이형 조성물을 용이하게 도포할 수 있다. 또한, 이형 조성물의 경화시에 점도가 급격하게 증가하는 것을 방지하여 이형층의 습윤성이 떨어지는 것을 방지할 수 있다. When the solid content is within the above range, the release composition can be easily applied. In addition, it is possible to prevent the wettability of the release layer from deteriorating by preventing the viscosity from rapidly increasing during curing of the release composition.
구체적으로 상기 이형 조성물에 포함되는 고형분의 함량이 상기 범위에 미달되는 경우, 상기 이형 조성물의 흐름성이 지나치게 되어 도포시 핸들링이 용이하지 않을 수 있으며, 실리콘 화합물의 양이 부족하게 되어 이형 필름의 내구성이 저하되는 문제가 발생될 수 있다.Specifically, when the content of the solid content contained in the release composition is less than the above range, the flowability of the release composition may be excessive and handling may not be easy during application, and the durability of the release film due to insufficient amount of the silicone compound. This deterioration problem may occur.
또한, 상기 이형 조성물에 포함되는 고형분의 함량이 상기 범위를 초과하는 경우, 이형층 제조를 위한 상기 이형 조성물의 경화시 점도가 급격하게 상승하여, 이형층의 표면 평탄성이 저하되는 문제가 발생할 수 있다.In addition, when the content of the solid content contained in the release composition exceeds the above range, the viscosity rapidly increases during curing of the release composition for preparing the release layer, resulting in a problem of lowering the surface flatness of the release layer. .
본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 이형 조성물은 가교제를 더 포함할 수 있다. 상기 이형 조성물이 가교제를 더 포함함에 따라, 상기 이형 조성물을 이용하여 제조되는 이형층의 내구성을 확보할 수 있다.According to an exemplary embodiment of the present invention, the release composition may further include a crosslinking agent. As the release composition further includes a crosslinking agent, durability of a release layer prepared using the release composition may be ensured.
상기 가교제는 에폭시계 가교제, 에폭시계 가교제, 실리콘계 가교제, 우레탄계 가교제, 아크릴계 가교제 및 아마이드계 가교제 중 적어도 하나를 포함할 수 있고, 바람직하게는 실리콘계 가교제를 포함할 수 있다.The crosslinking agent may include at least one of an epoxy crosslinking agent, an epoxy crosslinking agent, a silicone crosslinking agent, a urethane crosslinking agent, an acrylic crosslinking agent, and an amide crosslinking agent, and preferably a silicone crosslinking agent.
본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 가교제의 함량은 상기 실리콘 화합물 100 중량부에 대하여 0.1 중량부 이상 20 중량부 이하, 0.1 중량부 이상 5 중량부 이하, 1 중량부 이상 20 중량부 이하, 또는 1 중량부 이상 5 중량부 이하일 수 있다.According to an exemplary embodiment of the present invention, the content of the crosslinking agent is 0.1 parts by weight or more and 20 parts by weight or less, 0.1 parts by weight or more and 5 parts by weight or less, 1 part by weight or more and 20 parts by weight or less, or It may be 1 part by weight or more and 5 parts by weight or less.
상기 가교제의 함량이 상기 범위 내인 경우, 상기 이형 조성물을 이용하여 제조되는 이형층의 내구성을 충분히 확보할 수 있다. 구체적으로, 상기 범위에 미달되는 경우 상기 이형 조성물 내의 구성 성분 간의 가교 반응이 충분히 유도되지 않아 이형층 형성이 제대로 이루어지지 못할 수 있다.When the content of the crosslinking agent is within the above range, durability of the release layer prepared using the release composition may be sufficiently secured. Specifically, if it is less than the above range, the crosslinking reaction between the constituents in the release composition may not be sufficiently induced, and thus the release layer may not be properly formed.
또한, 상기 범위를 초과하는 경우 상기 이형 조성물 내에 포함된 성분 사이의 가교반응이 과도하게 진행되어, 이후 이형 필름의 추가 경화가 더 이상 진행되지 못하고, 이형 박리력을 조절하지 못하는 문제점이 발생할 수 있다.In addition, if it exceeds the above range, the crosslinking reaction between the components included in the release composition proceeds excessively, and thereafter, further curing of the release film may no longer proceed, and there may be a problem in that the release peeling force cannot be controlled. .
본 발명의 다른 실시상태는 상기 이형 조성물의 경화물을 포함하는 이형층을 포함하는 이형 필름을 제공한다.Another exemplary embodiment of the present invention provides a release film including a release layer including a cured product of the release composition.
본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 이형 필름은 기재 및 상기 기재 상에 구비된 상기 이형층을 포함할 수 있다.According to an exemplary embodiment of the present invention, the release film may include a substrate and the release layer provided on the substrate.
상기 이형 필름은 당업계에서 일반적으로 지칭되는 이형 라이너일 수 있다.The release film may be a release liner commonly referred to in the art.
또한, 상기 기재는 종이, 플라스틱 필름 등, 이형 라이너의 기재로 사용되는 것이라면 자유롭게 적용될 수 있다.In addition, the substrate may be freely applied as long as it is used as a substrate for a release liner, such as paper or plastic film.
본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 이형층은 상기 이형 조성물을 이용하여 제조되는 것일 수 있다. 구체적으로, 상기 이형층은 상기 이형 조성물을 경화하여 제조되는 것일 수 있다.According to an exemplary embodiment of the present invention, the release layer may be prepared using the release composition. Specifically, the release layer may be prepared by curing the release composition.
본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 이형층은 상기 이형 조성물의 1 차 경화 후 추가 경화를 통하여, 상기 1 차 경화시의 Tesa7475 표준 점착 테이프에 대한 이형 박리력에 대하여 1.5 배 내지 10 배로 이형 박리력이 조절되는 것일 수 있다.According to an exemplary embodiment of the present invention, the release layer is subjected to additional curing after the first curing of the release composition, and the release peeling is 1.5 to 10 times the release peeling force of the Tesa7475 standard adhesive tape at the time of the first curing. It may be that the force is regulated.
즉, 상기 이형층은 1 차 경화 후 추가 경화가 가능하고, 상기 추가 경화를 통하여 상기 1 차 경화시의 Tesa 7475 표준 점착 테이프에 대한 이형 박리력 대비 1.5 내지 10 배로 상기 이형 필름의 이형 박리력을 조절할 수 있다.That is, the release layer can be further cured after the first curing, and through the additional curing, the release peeling force of the release film is 1.5 to 10 times the release peeling force of the Tesa 7475 standard adhesive tape at the time of the first curing. Can be adjusted.
또한, 상기 Tesa 7475 는 표준 점착 테이프의 하나의 예시일 뿐이며, 이형 박리력 측정을 위하여 사용되는 표준 점착 테이프를 이용하여 이형 박리력을 측정할 수도 있다.In addition, the Tesa 7475 is only one example of a standard adhesive tape, and the release peel force may be measured using a standard adhesive tape used for measuring the release peel force.
본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 1 차 경화는 상기 이형 조성물을 130 ℃ 이상 170 ℃ 이하, 또는 140 ℃ 이상 160 ℃ 이하의 온도에서 0.5 분 내지 5 분의 시간 동안 열경화하는 것일 수 있다.According to an exemplary embodiment of the present invention, the first curing may be thermal curing of the release composition at a temperature of 130° C. or more and 170° C. or less, or 140° C. or more and 160° C. or less for a time of 0.5 to 5 minutes.
본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 추가 경화는 상기 이형 조성물의 1 차 경화 후, 1 J/cm2 내지 5 J/cm2 의 광량을 갖는 자외선을 조사하여 광경화하는 것일 수 있다.According to an exemplary embodiment of the present invention, the additional curing may be photocuring by irradiating ultraviolet rays having a light amount of 1 J/cm 2 to 5 J/cm 2 after the first curing of the release composition.
본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 자외선의 광원은 메탈할라이드, 고압 수은 또는 UV LED 등을 이용할 수 있으나, 전술한 광량의 자외선을 조사할 수 있는 것이면, 당업계에서 일반적으로 알려진 광원 중에서 자유롭게 선택되는 것일 수 있다.According to an exemplary embodiment of the present invention, the light source of the ultraviolet light may use a metal halide, a high pressure mercury, or a UV LED, but if it is capable of irradiating the aforementioned amount of ultraviolet light, freely selectable from light sources generally known in the art. It can be.
본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 이형층의 1차 경화시의 표준 점착 테이프에 대한 이형 박리력은 25 ℃ 및 50 RH% 에서 15 gf/in 이상, 구체적으로 15.8 gf/in 이상일 수 있다.According to an exemplary embodiment of the present invention, the release peel force of the release layer to the standard adhesive tape during the first curing may be 15 gf/in or more, specifically 15.8 gf/in or more at 25° C. and 50 RH%.
본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 이형층의 추가 경화시의 표준 점착 테이프에 대한 이형 박리력은 25 ℃ 및 50 RH% 에서 40 gf/in, 구체적으로 45.5 gf/in 이상일 수 있다.According to an exemplary embodiment of the present invention, the release peel force with respect to the standard adhesive tape when the release layer is further cured may be 40 gf/in, specifically 45.5 gf/in or more at 25°C and 50 RH%.
상기 이형층의 이형 박리력은 상기 이형 필름의 노출된 이형층에 대한 이형 박리력일 수 있다.The release peeling force of the release layer may be a release peeling force of the release film to the exposed release layer.
본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 이형층은 하기 식 1 를 만족하는 것일 수 있다:According to an exemplary embodiment of the present invention, the release layer may be one that satisfies Equation 1 below:
[식 1][Equation 1]
15≤{(Y-X)/X}×100≤80015≤{(Y-X)/X}×100≤800
상기 식 1 에서,In Equation 1 above,
X 는 상기 이형층의 1차 경화시의 Tesa7475 표준 점착 테이프에 대한 이형 박리력을 의미할 수 있고,X may mean a release peeling force with respect to the Tesa7475 standard adhesive tape at the time of the first curing of the release layer,
Y 는 상기 이형층의 추가 경화시의 Tesa7475 표준 점착 테이프에 대한 이형 박리력을 의미할 수 있다.Y may mean a release peeling force with respect to the Tesa7475 standard adhesive tape when the release layer is further cured.
본 명세서에서, 용어 "이형층의 1차 경화시의 Tesa7475 표준 점착 테이프에 대한 이형 박리력"은 제조된 이형층을 50 ℃ 에서 24 시간 동안 숙성한 후, Tesa 7475 표준 점착 테이프를 이형층에 접하도록 부착하고, 25 ℃ 에서 24 시간 동안 보관한 후, 25 ℃ 에서 측정기기(AR-1000, 켐인스트루먼트 社)를 이용하여 300 mm/min 의 박리 속도 및 180 ° 의 박리 각도에서 측정한 박리력을 의미할 수 있다.In the present specification, the term "releasing peeling force against the Tesa7475 standard adhesive tape at the time of the first curing of the release layer" refers to the prepared release layer being aged at 50° C. for 24 hours, and then the Tesa 7475 standard adhesive tape is brought into contact with the release layer. And then stored at 25°C for 24 hours, using a measuring device (AR-1000, Chem Instruments) at 25°C, the peeling force measured at a peeling rate of 300 mm/min and a peeling angle of 180° is measured. It can mean.
본 명세서에서, 용어 "이형층의 추가 경화시의 Tesa7475 표준 점착 테이프에 대한 이형 박리력"은 제조된 이형층을 50 ℃ 에서 24 시간 동안 숙성한 후, Tesa 7475 표준 점착 테이프를 이형층에 접하도록 부착하고, 25 ℃ 에서 24 시간 동안 보관한 다음, 자외선을 조사하여 경화한 후 25 ℃ 에서 측정기기(AR-1000, 켐인스트루먼트 社)를 이용하여 300 mm/min 의 박리 속도 및 180 ° 의 박리 각도에서 측정한 박리력을 의미할 수 있다.In the present specification, the term "releasing peel force against the Tesa7475 standard adhesive tape upon further curing of the release layer" refers to the prepared release layer being aged at 50° C. for 24 hours, and then bringing the Tesa 7475 standard adhesive tape into contact with the release layer. Attached, stored for 24 hours at 25°C, cured by irradiation with ultraviolet rays, and then cured at 25°C using a measuring device (AR-1000, Chem Instruments) with a peeling rate of 300 mm/min and a peeling angle of 180° It may mean the peeling force measured in.
즉, 상기 이형 조성물은 1차 경화 후 추가 경화가 가능하고, 상기 추가 경화에 따라 제조되는 이형층은 상기 1차 경화에 따라 제조되는 이형층 보다 높은 이형 박리력을 가질 수 있다. 그러므로, 상기 이형층은 추가 경화, 구체적으로 추가 광경화를 통하여 이형 박리력을 증가시킬 수 있다.That is, the release composition may be further cured after the first curing, and the release layer prepared through the additional curing may have a higher release peeling force than the release layer prepared through the first curing. Therefore, the release layer may increase the release peeling force through additional curing, specifically, additional photocuring.
본 발명의 일 실시상태에 따른 이형 필름은 피착체의 성질에 따라 자유롭게 이형 박리력을 조절할 수 있으므로, 다양한 부재에 적용될 수 있다. The release film according to an exemplary embodiment of the present invention can be applied to various members because the release force can be freely adjusted according to the properties of the adherend.
본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 이형 필름의 두께는 10 ㎛ 이상 250 ㎛ 이하, 10 ㎛ 이상 200 ㎛ 이하, 10 ㎛ 이상 150 ㎛ 이하, 20 ㎛ 이상 250 ㎛ 이하, 20 ㎛ 이상 200 ㎛ 이하, 20 ㎛ 이상 150 ㎛ 이하, 50 ㎛ 이상 250 ㎛ 이하, 50 ㎛ 이상 200 ㎛ 이하, 또는 50 ㎛ 이상 150 ㎛ 이하일 수 있다. 다만, 이에 제한되는 것은 아니고, 부착 대상 기재의 종류 및 두께에 따라 자유롭게 조절될 수 있다.According to an exemplary embodiment of the present invention, the thickness of the release film is 10 µm or more and 250 µm or less, 10 µm or more and 200 µm or less, 10 µm or more and 150 µm or less, 20 µm or more and 250 µm or less, 20 µm or more and 200 µm or less, It may be 20 µm or more and 150 µm or less, 50 µm or more and 250 µm or less, 50 µm or more and 200 µm or less, or 50 µm or more and 150 µm or less. However, it is not limited thereto, and may be freely adjusted according to the type and thickness of the substrate to be attached.
이하, 본 발명을 구체적으로 설명하기 위해 실시예를 들어 상세하게 설명하기로 한다. 그러나, 본 발명에 따른 실시예들은 여러 가지 다른 형태로 변형될 수 있으며, 본 발명의 범위가 아래에서 기술하는 실시예들에 한정되는 것으로 해석되지 않는다. 본 명세서의 실시예들은 당업계에서 평균적인 지식을 가진 자에게 본 발명을 보다 완전하게 설명하기 위해 제공되는 것이다.Hereinafter, examples will be described in detail in order to describe the present invention in detail. However, the embodiments according to the present invention may be modified in various forms, and the scope of the present invention is not construed as being limited to the embodiments described below. The embodiments of the present specification are provided to more completely describe the present invention to those of ordinary skill in the art.
[[ 실시예Example 1] One]
실리콘 골격에 결합된 불포화 알킬기, 포화 알킬기 및 수소의 함량이 각각, 불포화 알킬기, 포화 알킬기 및 수소의 총 몰수에 대하여, 3.5 mol%, 11 mol% 및 85.5 mol%인 실리콘 화합물을 준비하였다. 실리콘 골격에 결합된 불포화 알킬기는 바이닐기이고, 포화 알킬기는 메틸기이었다. Silicone compounds having an unsaturated alkyl group, a saturated alkyl group, and a hydrogen content bonded to the silicone skeleton with respect to the total number of moles of the unsaturated alkyl group, saturated alkyl group, and hydrogen, respectively, were prepared in 3.5 mol%, 11 mol%, and 85.5 mol%. The unsaturated alkyl group bonded to the silicone skeleton was a vinyl group, and the saturated alkyl group was a methyl group.
점도계(DV-Ⅱ+ PRO Viscometer, Brookfield社)를 사용하여, 온도 25 ℃, 습도 50 RH% 및 주파수 30 Hz의 조건에서 측정한 실리콘 화합물의 점도는 5,000 내지 8,000 cPs 이었다.Using a viscometer (DV-II + PRO Viscometer, Brookfield Co.), the viscosity of the silicone compound was 5,000 to 8,000 cPs measured under the conditions of a temperature of 25° C., a humidity of 50 RH%, and a frequency of 30 Hz.
준비된 실리콘 화합물 100 중량부에 대하여, 유기용제로 톨루엔 500 중량부, 경화제로 백금계 경화제(PL-50T, 신에츠실리콘 社)을 5 중량부, 가교제(X-92-122, 신에츠실리콘 社) 5 중량부 및 광개시제로 벤조페논 메타크릴레이트를 1 중량부를 첨가하여 이형 조성물을 제조하였다. 상기 이형 조성물의 고형분 함량은 5 % 이었다.With respect to 100 parts by weight of the prepared silicone compound, 500 parts by weight of toluene as an organic solvent, 5 parts by weight of a platinum-based curing agent (PL-50T, Shin-Etsu Silicone) as a curing agent, and 5 parts by weight of a crosslinking agent (X-92-122, Shin-Etsu Silicon) A release composition was prepared by adding parts and 1 part by weight of benzophenone methacrylate as a photoinitiator. The solid content of the release composition was 5%.
제조된 이형 조성물을 메이어바 #8을 이용하여, 두께 50 ㎛ 인 폴리에틸렌테레프탈레이트(Polyethylene Terephthalate; PET) 기재 상에 약 2.5 g/m2 로 도포하였다. 이후, 기재 상에 도포된 이형 조성물을 150 ℃에서 1 분간 경화하여 이형 필름을 제조하였다. The prepared release composition was applied at about 2.5 g/m 2 on a polyethylene terephthalate (PET) substrate having a thickness of 50 μm using Mayer Bar #8. Thereafter, the release composition applied on the substrate was cured at 150° C. for 1 minute to prepare a release film.
[[ 실시예Example 2] 2]
벤조페논 메타크릴레이트를 5 중량부 첨가한 것을 제외하고는 실시예 1 과 동일한 방법으로 이형 필름을 제조하였다.A release film was prepared in the same manner as in Example 1, except that 5 parts by weight of benzophenone methacrylate was added.
[[ 실시예Example 3] 3]
벤조페논 메타크릴레이트를 10 중량부 첨가한 것을 제외하고는 실시예 1 과 동일한 방법으로 이형 필름을 제조하였다.A release film was prepared in the same manner as in Example 1, except that 10 parts by weight of benzophenone methacrylate was added.
[[ 실시예Example 4] 4]
벤조페논 메타크릴레이트를 30 중량부 첨가한 것을 제외하고는 실시예 1 과 동일한 방법으로 이형 필름을 제조하였다.A release film was prepared in the same manner as in Example 1, except that 30 parts by weight of benzophenone methacrylate was added.
[[ 실시예Example 5] 5]
광개시제로 벤조페논 메타크릴레이트 대신 상기 화학식 2-1 로 나타내는 화합물을 1 중량부 첨가한 것을 제외하고는 실시예 1 과 동일한 방법으로 이형 필름을 제조하였다.A release film was prepared in the same manner as in Example 1, except that 1 part by weight of the compound represented by Formula 2-1 was added instead of benzophenone methacrylate as a photoinitiator.
[[ 실시예Example 6] 6]
상기 화학식 2-1 로 나타내는 화합물을 5 중량부 첨가한 것을 제외하고는 실시예 5 와 동일한 방법으로 이형 필름을 제조하였다.A release film was prepared in the same manner as in Example 5, except that 5 parts by weight of the compound represented by Formula 2-1 was added.
[[ 실시예Example 7] 7]
상기 화학식 2-1 로 나타내는 화합물을 10 중량부 첨가한 것을 제외하고는 실시예 5 와 동일한 방법으로 이형 필름을 제조하였다.A release film was prepared in the same manner as in Example 5, except that 10 parts by weight of the compound represented by Formula 2-1 was added.
[[ 실시예Example 8] 8]
상기 화학식 2-1 로 나타내는 화합물을 30 중량부 첨가한 것을 제외하고는 실시예 5 와 동일한 방법으로 이형 필름을 제조하였다.A release film was prepared in the same manner as in Example 5, except that 30 parts by weight of the compound represented by Formula 2-1 was added.
[[ 비교예Comparative example 1] One]
광개시제를 첨가하지 않은 것을 제외하고는 실시예 1 과 동일한 방법으로 이형 필름을 제조하였다.A release film was prepared in the same manner as in Example 1, except that a photoinitiator was not added.
[[ 비교예Comparative example 2] 2]
광개시제로 안트라센(anthracene, 엘지화학) 1 중량부를 첨가한 것을 제외하고는 실시예 1 과 동일한 방법으로 이형 필름을 제조하였다.A release film was prepared in the same manner as in Example 1, except that 1 part by weight of anthracene (LG Chemical) was added as a photoinitiator.
[[ 비교예Comparative example 3] 3]
광개시제로 안트라센(anthracene, 엘지화학) 5 중량부 첨가한 것을 제외하고는 비교예 2 와 동일한 방법으로 이형 필름을 제조하였다.A release film was prepared in the same manner as in Comparative Example 2, except that 5 parts by weight of anthracene (LG Chemical) was added as a photoinitiator.
[[ 비교예Comparative example 4] 4]
광개시제로 안트라센(anthracene, 엘지화학) 10 중량부 첨가한 것을 제외하고는 비교예 2 와 동일한 방법으로 이형 필름을 제조하였다.A release film was prepared in the same manner as in Comparative Example 2, except that 10 parts by weight of anthracene (LG Chemical) was added as a photoinitiator.
[[ 비교예Comparative example 5] 5]
광개시제로 안트라센(anthracene, 엘지화학) 30 중량부 첨가한 것을 제외하고는 비교예 2 와 동일한 방법으로 이형 필름을 제조하였다.A release film was prepared in the same manner as in Comparative Example 2, except that 30 parts by weight of anthracene (LG Chemical) was added as a photoinitiator.
전술한 이형 박리력의 측정 방법에 따라 측정된 상기 실시예 1 내지 실시예 8 및 비교예 1 내지 비교예 5 의 1 차 경화시의 Tesa 7475 표준 점착 테이프에 대한 이형 박리력을 하기 표 1 에 나타내었다.The release peel force of the Tesa 7475 standard adhesive tape at the time of primary curing of Examples 1 to 8 and Comparative Examples 1 to 5 measured according to the above-described method of measuring the release peel force is shown in Table 1 below. I got it.
또한, 실시예 1 내지 실시예 8 및 비교예 1 내지 비교예 5 에 따라 제조된 이형 필름에 5 J/cm2 의 광량을 가지는 자외선(광원: 메탈할라이드)을 조사하여 추가 경화하였다.In addition, the release films prepared according to Examples 1 to 8 and Comparative Examples 1 to 5 were further cured by irradiation with ultraviolet rays (light source: metal halide) having a light amount of 5 J/cm 2.
상기 추가 경화시의 이형층의 표준 점착 테이프에 대한 이형 박리력 및 상기 식 1 로 나타낼 수 있는 이형력 변화율을 측정하여 하기 표 2 에 나타내었다.The release peeling force of the release layer at the time of the additional curing and the change rate of the release force that can be represented by Equation 1 were measured and shown in Table 2 below.
표 1 에 따르면, 실시예 및 비교예에 따른 이형 조성물은 1 차 경화시에는 이형 박리력에 큰 차이를 나타내지 않는 것을 확인할 수 있었다.According to Table 1, it was confirmed that the release compositions according to Examples and Comparative Examples did not show a significant difference in release peeling force during the first curing.
다만, 표 2 에 따르면, 실시예 1 내지 실시예 8 에 따라 추가 경화된 이형 필름의 이형력 변화율이 비교예 1 내지 비교예 5 따라 추가 경화된 이형 필름의 이형력 변화율보다 훨씬 큰 것을 확인할 수 있었다.However, according to Table 2, it was confirmed that the rate of change of the release force of the release films additionally cured according to Examples 1 to 8 was much greater than the rate of change of the release force of the release films additionally cured according to Comparative Examples 1 to 5 .
구체적으로, 광개시제를 첨가하지 않은 비교예 1 의 경우 광조사에 의하여도 이형 박리력이 거의 증가하지 않는 것을 확인할 수 있었다. 즉, 비교예 1 의 경우 추가 경화가 거의 일어나지 않는 것을 확인할 수 있었다. 이를 통하여, 추가 경화가 가능하기 위해서는 이형 조성물에 광개시제를 더 첨가하여야 하는 것을 확인할 수 있다.Specifically, it was confirmed that in the case of Comparative Example 1 in which the photoinitiator was not added, the release peeling force hardly increased even by light irradiation. That is, in the case of Comparative Example 1, it was confirmed that hardly any additional hardening occurred. Through this, it can be seen that in order to enable additional curing, a photoinitiator should be further added to the release composition.
또한, 본 발명의 일 실시상태에 따른 광중합 관능기에 해당하지 않는 광중합 관능기를 포함하는 광개시제인 안트라센을 포함하는 비교예 2 내지 비교예 5 의 경우, 실시예 1 내지 실시예 8 보다 이형력 변화율이 크지 않은 것을 확인할 수 있고, 안트라센의 함량을 증가시키더라도 이형 박리력이 크게 증가하지 않는 것을 확인할 수 있었다. In addition, in the case of Comparative Examples 2 to 5 containing anthracene, a photoinitiator containing a photoinitiator that does not correspond to a photopolymerization functional group according to an exemplary embodiment of the present invention, the release force change rate is not greater than that of Examples 1 to 8. It was confirmed that the release force did not increase significantly even when the anthracene content was increased.
실시예 1 내지 8 의 이형 필름이 추가 경화를 통하여 이형 필름의 표준 점착 테이프에 대한 이형 박리력이 증가되는 것을 통하여, 본 발명의 일 실시상태에 따른 종류의 광개시제를 포함하여야 이형 박리력이 조절될 수 있음을 알 수 있었다.The release peeling force of the release film of Examples 1 to 8 to the standard adhesive tape of the release film is increased through additional curing, so that the release peeling force must be included in the form of a photoinitiator according to an exemplary embodiment of the present invention. I could see that I could.
상기 내용을 종합하여 보면, 이형 박리력 조절이 가능하고, 적용될 수 있는 부재의 종류가 제한적이지 않은 이형 필름을 제조하기 위해서는 이형 조성물이 본 발명의 일 실시상태에 따른 종류의 광개시제를 반드시 포함하여야 하는 것을 확인할 수 있었다.In summary, in order to manufacture a release film in which release peeling force can be adjusted and the type of member that can be applied is not limited, the release composition must contain a photoinitiator of the kind according to an exemplary embodiment of the present invention. I could confirm that.
Claims (13)
경화제; 및
벤조페논계 관능기, 퀴논계 관능기 및 티옥산톤계 관능기 중 적어도 하나의 광중합 관능기를 포함하는 광개시제;를 포함하며,
상기 광개시제의 함량은 상기 실리콘 화합물 100 중량부에 대하여 1 중량부 이상 30 중량부 이하인 것인 이형 조성물.Silicone compounds;
Hardener; And
Including; a photoinitiator containing at least one photopolymerization functional group of a benzophenone-based functional group, a quinone-based functional group, and a thioxanthone-based functional group,
The content of the photoinitiator is 1 part by weight or more and 30 parts by weight or less based on 100 parts by weight of the silicone compound.
상기 광개시제는 하기 화학식 1 및 화학식 2 로 표시되는 화합물 중 적어도 1 종을 포함하는 것인 이형 조성물:
[화학식 1]
상기 화학식 1 에서,
n 은 2 내지 12 중 어느 하나의 정수이고,
R1 내지 R20 은 각각 독립적으로, 수소; 또는 탄소수 1 내지 15 의 직쇄 또는 분지쇄의 알킬기이며,
[화학식 2]
상기 화학식 2 에서,
R21 내지 R23 은 각각 독립적으로, 수소; 또는 탄소수 1 내지 15 의 직쇄 또는 분지쇄의 알킬기이고,
A1 내지 A3 은 각각 독립적으로, 하기 화학식 3 으로 표시되는 치환기이며,
[화학식 3]
상기 화학식 3 에서,
m 은 2 내지 12 중 어느 하나의 정수이고,
* 는 상기 화학식 2 의 A1 내지 A3 중 어느 하나의 위치에 결합되는 위치이며,
R24 내지 R34 는 각각 독립적으로, 수소; 또는 탄소수 1 내지 15 의 직쇄 또는 분지쇄의 알킬기이다.The method according to claim 1,
The photoinitiator is a release composition comprising at least one of the compounds represented by the following formulas 1 and 2:
[Formula 1]
In Formula 1,
n is an integer from 2 to 12,
R 1 to R 20 are each independently hydrogen; Or a straight or branched alkyl group having 1 to 15 carbon atoms,
[Formula 2]
In Formula 2,
R 21 to R 23 are each independently hydrogen; Or a linear or branched alkyl group having 1 to 15 carbon atoms,
A 1 to A 3 are each independently a substituent represented by the following formula (3),
[Formula 3]
In Chemical Formula 3,
m is an integer of any one of 2 to 12,
* Is a position bonded to any one of A 1 to A 3 of Formula 2,
R 24 to R 34 are each independently hydrogen; Or it is a C1-C15 linear or branched alkyl group.
상기 경화제는 주석계 경화제, 백금계 경화제, 세륨계 경화제 및 티타늄계 경화제 중 적어도 하나를 포함하는 것인 이형 조성물.The method according to claim 1,
The release composition of the curing agent comprises at least one of a tin-based curing agent, a platinum-based curing agent, a cerium-based curing agent, and a titanium-based curing agent.
상기 경화제의 함량은 상기 실리콘 화합물 100 중량부에 대하여 1 중량부 이상 10 중량부 이하인 것인 이형 조성물.The method according to claim 1,
The content of the curing agent is 1 part by weight or more and 10 parts by weight or less based on 100 parts by weight of the silicone compound.
상기 실리콘 화합물의 점도는 온도 25 ℃, 습도 50 RH% 및 주파수 30 Hz 에서, 5,000 cPs 이상 8,000 cPs 이하인 것인 이형 조성물.The method according to claim 1,
The silicone compound has a viscosity of 5,000 cPs or more and 8,000 cPs or less at a temperature of 25° C., a humidity of 50 RH%, and a frequency of 30 Hz.
상기 실리콘 화합물은 실리콘 골격에 불포화 알킬기, 포화 알킬기 및 수소가 결합된 것인 이형 조성물.The method according to claim 1,
The silicone compound is a release composition in which an unsaturated alkyl group, a saturated alkyl group, and hydrogen are bonded to the silicone skeleton.
상기 실리콘 화합물 내의 상기 불포화 알킬기의 함량은, 상기 불포화 알킬기, 포화 알킬기 및 수소의 총 몰수에 대하여 2 mol% 이상 5 mol% 이하인 것인 이형 조성물.The method of claim 7,
The content of the unsaturated alkyl group in the silicone compound is 2 mol% or more and 5 mol% or less with respect to the total number of moles of the unsaturated alkyl group, saturated alkyl group, and hydrogen.
상기 실리콘 화합물 내의 상기 포화 알킬기의 함량은 상기 불포화 알킬기, 포화 알킬기 및 수소의 총 몰수에 대하여 70 mol% 이상 90 mol% 이하인 것인 이형 조성물.The method of claim 7,
The content of the saturated alkyl group in the silicone compound is 70 mol% or more and 90 mol% or less with respect to the total number of moles of the unsaturated alkyl group, saturated alkyl group, and hydrogen.
상기 실리콘 화합물 내의 상기 수소의 함량은 상기 불포화 알킬기, 포화 알킬기 및 수소의 총 몰수에 대하여 5 mol% 이상 25 mol% 이하인 것인 이형 조성물.The method of claim 7,
The content of the hydrogen in the silicone compound is 5 mol% or more and 25 mol% or less with respect to the total number of moles of the unsaturated alkyl group, saturated alkyl group, and hydrogen.
상기 이형층은 상기 이형 조성물의 1 차 경화 후 추가 경화를 통하여, 상기 1 차 경화시의 Tesa7475 표준 점착 테이프에 대한 이형 박리력에 대하여 1.5 배 내지 10 배로 이형 박리력이 조절되는 것인 이형 필름.The method of claim 11,
The release layer is a release film in which the release peeling force is adjusted 1.5 to 10 times with respect to the release peeling force of the Tesa7475 standard adhesive tape at the time of the first curing through additional curing after the first curing of the release composition.
상기 이형층의 1 차 경화시의 Tesa7475 표준 점착 테이프에 대한 이형 박리력은 25 ℃ 및 50 RH% 에서 15 gf/in 이상인 것인 이형 필름.The method of claim 11,
The release film of the release layer at the time of the first curing of the Tesa7475 standard adhesive tape is 15 gf/in or more at 25° C. and 50 RH%.
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