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KR102194332B1 - Reel to reel reflow apparatus of semiconductor device - Google Patents

Reel to reel reflow apparatus of semiconductor device Download PDF

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Publication number
KR102194332B1
KR102194332B1 KR1020200068070A KR20200068070A KR102194332B1 KR 102194332 B1 KR102194332 B1 KR 102194332B1 KR 1020200068070 A KR1020200068070 A KR 1020200068070A KR 20200068070 A KR20200068070 A KR 20200068070A KR 102194332 B1 KR102194332 B1 KR 102194332B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
hot air
semiconductor device
reflow
reel
supplied
Prior art date
Application number
KR1020200068070A
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Korean (ko)
Inventor
윤영민
Original Assignee
(주)워프비전
윤영민
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Publication date
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Abstract

A disclosed reel-to-reel reflow apparatus of a semiconductor element comprises: an unwind unit to which a flexible circuit board on which a semiconductor element is mounted is supplied; a reflow unit for supplying hot air to the semiconductor element mounted on the supplied flexible circuit board, and performing a reflow process in a manner which supplies hot air in a state in close contact with the size range of the semiconductor element; and a winding unit for recovering the flexible circuit board on which the reflow process has been completed. Accordingly, it is possible to improve the semiconductor yield by preventing chip deformation and damage of the semiconductor element in advance.

Description

반도체소자의 릴 투 릴 리플로우 장치{REEL TO REEL REFLOW APPARATUS OF SEMICONDUCTOR DEVICE}Reel-to-reel reflow device of semiconductor device {REEL TO REEL REFLOW APPARATUS OF SEMICONDUCTOR DEVICE}

본 발명(Disclosure)은, 반도체소자의 릴 투 릴 리플로우 장치에 관한 것으로, 구체적으로, 반도체소자가 실장된 연성회로기판이 공급될 경우 반도체소자의 크기 범위에 대응하여 밀착되는 열풍공급노즐을 통해 열풍을 국부적으로 공급함으로써, 반도체소자의 칩 변형 및 손상을 미연에 방지하여 반도체 수율을 향상시킬 수 있는 반도체소자의 릴 투 릴 리플로우 장치에 관한 것이다.The present invention (Disclosure) relates to a reel-to-reel reflow device for a semiconductor device. Specifically, when a flexible circuit board on which a semiconductor device is mounted is supplied, through a hot air supply nozzle in close contact with the semiconductor device size range. The present invention relates to a reel-to-reel reflow apparatus for a semiconductor device capable of improving semiconductor yield by preventing chip deformation and damage of a semiconductor device in advance by supplying hot air locally.

여기서는, 본 발명에 관한 배경기술이 제공되며, 이들이 반드시 공지기술을 의미하는 것은 아니다(This section provides background information related to the present disclosure which is not necessarily prior art).Here, background technology related to the present invention is provided, and these do not necessarily mean known technology (This section provides background information related to the present disclosure which is not necessarily prior art).

전자 기기의 소형화, 경량화에 따라 최근의 각종 전자 부품은 고도로 집적화되고 있는데, 이에 대응하여 PCB(printed circuit board)에 사용되는 회로 패턴도 고밀도화가 요구되어, 미세한 선폭과 배선 피치로 구성되는 회로 패턴이 제작되고 있다.With the miniaturization and weight reduction of electronic devices, various electronic components are being highly integrated in recent years. In response to this, high density circuit patterns used for printed circuit boards (PCBs) are also required, and circuit patterns composed of fine line widths and wiring pitches are required. It is being produced.

특히, COF(chip on film)는 와이어 본딩(wire bonding)의 대안으로 미국에서 창안된 TAB(Tape Automated Bonding)의 한 종류로 현재까지 지속적으로 발전해 오고 있는데, 칩(chip)과 기판 역할을 하는 필름(film)을 접속시켜 외부의 전자 부품들과 상호 신호를 주고받을 수 있는 역할을 한다.In particular, COF (chip on film) is a type of TAB (Tape Automated Bonding) created in the United States as an alternative to wire bonding and has been continuously developed until now. Films that serve as chips and substrates By connecting (film), it plays a role to exchange signals with external electronic components.

한편, 반도체소자를 기판에 실장시키는 SMT(surface mount technology) 중에서 리플로우 공정이 제안되어 있는데, 이러한 리플로우 공정에서 주로 사용되는 매스 리플로우(mass reflow) 공정은 솔더볼, 솔더패드, 솔더페이스트 등의 솔더 물질이 부착된 다수의 기판을 컨베이어 벨트 상에 안착시키고, 기판이 컨베이어 벨트에 의해 연속적으로 이동하면서 적외선 히터가 구비된 가열 구간을 통과하게 함으로써, 적외선 히터를 통해 기판 상의 솔더 물질에 열을 가하여 반도체소자를 기판에 부착시킬 수 있다.On the other hand, a reflow process has been proposed among surface mount technology (SMT) for mounting a semiconductor device on a substrate, and the mass reflow process mainly used in this reflow process includes solder balls, solder pads, and solder paste. A plurality of substrates with solder material attached are placed on a conveyor belt, and the substrate is continuously moved by the conveyor belt and passed through a heating section equipped with an infrared heater, thereby applying heat to the solder material on the substrate through the infrared heater. Semiconductor devices can be attached to the substrate.

상술한 바와 같은 종래의 적외선 히터를 이용한 리플로우 공정에서는 리플로우 공간 전체에 적외선으로 가열할 경우 COF에 변형이 발생하고, 칩 중 일부가 열충격으로 손상되는 문제가 있다.In the reflow process using the conventional infrared heater as described above, when heating the entire reflow space with infrared rays, there is a problem in that COF is deformed and some of the chips are damaged by thermal shock.

1. 한국공개특허공보 제10-2011-0026671호(2011.03.16.공개)1. Korean Patent Application Publication No. 10-2011-0026671 (published on March 16, 2011)

본 발명(Disclosure)은, 반도체소자가 실장된 연성회로기판이 공급될 경우 반도체소자의 크기 범위에 대응하여 밀착되는 열풍공급노즐을 통해 열풍을 국부적으로 공급함으로써, 반도체소자의 칩 변형 및 손상을 미연에 방지하여 반도체 수율을 향상시킬 수 있는 반도체소자의 릴 투 릴 리플로우 장치의 제공을 일 목적으로 한다.In the present invention (Disclosure), when a flexible circuit board on which a semiconductor device is mounted is supplied, hot air is locally supplied through a hot air supply nozzle in close contact with the size range of the semiconductor device, thereby preventing chip deformation and damage of the semiconductor device. It is an object of the present invention to provide a reel-to-reel reflow device for a semiconductor device capable of improving the semiconductor yield by preventing the problem.

그리고, 본 발명(Disclosure)은, 열풍공급노즐을 통해 반도체소자에 열풍을 공급하되, 공급되는 열풍을 순환시켜 재공급함으로써, 리플로우 효율을 향상시킬 수 있는 반도체소자의 릴 투 릴 리플로우 장치의 제공을 일 목적으로 한다.In addition, the present invention (Disclosure) is to supply hot air to the semiconductor device through the hot air supply nozzle, but by circulating and resupplying the supplied hot air, the reel-to-reel reflow device of a semiconductor device capable of improving reflow efficiency. Provides for the purpose of work.

또한, 본 발명(Disclosure)은, 연성회로기판에 실장된 반도체소자의 크기 범위 내에서 열풍공급노줄이 이동하면서 열풍을 공급하고, 복수의 반도체소자에 대응하는 복수의 열풍공급노즐을 통해 동시에 리플로우 공정을 수행함으로써, 리플로우 효율을 더욱 더 향상시킬 수 있는 반도체소자의 릴 투 릴 리플로우 장치의 제공을 일 목적으로 한다.In addition, the present invention (Disclosure) supplies hot air while moving the hot air supply nozzle within the size range of the semiconductor device mounted on the flexible circuit board, and simultaneously reflows through a plurality of hot air supply nozzles corresponding to a plurality of semiconductor devices. An object of the present invention is to provide a reel-to-reel reflow device for a semiconductor device capable of further improving reflow efficiency by performing a process.

여기서는, 본 발명의 전체적인 요약(Summary)이 제공되며, 이것이 본 발명의 외연을 제한하는 것으로 이해되어서는 아니 된다(This section provides a general summary of the disclosure and is not a comprehensive disclosure of its full scope or all of its features).Here, a summary of the present invention is provided, and this section provides a general summary of the disclosure and is not a comprehensive disclosure of its full scope or all of its features).

상기한 과제의 해결을 위해, 본 발명을 기술하는 여러 관점들 중 어느 일 관점(aspect)에 따른 반도체소자의 릴 투 릴 리플로우 장치는, 반도체소자가 실장된 연성회로기판이 공급되는 언와인드부; 상기 공급되는 연성회로기판에 실장된 상기 반도체소자에 열풍을 공급하되, 상기 반도체소자의 크기 범위에 대응하여 밀착된 상태로 상기 열풍을 공급하는 방식으로 리플로우 공정을 수행하는 리플로우부; 및 상기 리플로우 공정이 완료된 상기 연성회로기판을 회수하는 와인드부;를 포함한다.In order to solve the above problems, the reel-to-reel reflow apparatus of a semiconductor device according to any one of the various aspects describing the present invention is an unwind unit to which a flexible circuit board on which a semiconductor device is mounted is supplied. ; A reflow unit for supplying hot air to the semiconductor device mounted on the supplied flexible circuit board, and performing a reflow process in a manner that supplies the hot air in a state in close contact with the size range of the semiconductor device; And a winding unit for recovering the flexible circuit board on which the reflow process has been completed.

발명의 일 관점(aspect)에 따른 반도체소자의 릴 투 릴 리플로우 장치에서, 상기 리플로우부는, 열풍공급영역 이외의 열풍미공급영역에 대한 상기 열풍의 영향을 차단하기 위해 상기 열풍미공급영역을 커버하기 위한 열차단막;을 포함할 수 있다.In the reel-to-reel reflow apparatus of a semiconductor device according to an aspect of the present invention, the reflow unit comprises: the hot flavor supply region to block the influence of the hot air on the hot flavor supply region other than the hot air supply region. It may include a heat shield for covering;

발명의 일 관점(aspect)에 따른 반도체소자의 릴 투 릴 리플로우 장치에서, 상기 리플로우부는, 상기 열풍을 공급한 후에, 공급되는 상기 열풍을 순환시켜 재공급하되, 상기 열풍이 상기 반도체소자에 공급되는 열풍공급로와 상기 열풍이 순환되는 열풍순환로가 각각 구비되는 열풍공급노즐; 상기 복수의 열풍공급노즐에 공기를 공급하는 에어펌프; 상기 공급된 공기에 열을 가하는 히터; 및 상기 열풍순환로에 구비되어 상기 열풍을 순환시키는 순환팬;을 더 포함할 수 있다.In the reel-to-reel reflow apparatus of a semiconductor device according to an aspect of the invention, the reflow unit supplies the hot air and then circulates and resupplies the supplied hot air, and the hot air is supplied to the semiconductor device. A hot air supply nozzle having a supplied hot air supply path and a hot air circulation path through which the hot air is circulated; An air pump supplying air to the plurality of hot air supply nozzles; A heater that applies heat to the supplied air; And a circulation fan provided in the hot air circulation path to circulate the hot air.

발명의 일 관점(aspect)에 따른 반도체소자의 릴 투 릴 리플로우 장치에서, 상기 리플로우부는, 상기 열풍순환로가 외부와 연통되도록 개방되어 상기 열풍을 배출시키는 개폐밸브;를 더 포함할 수 있다.In the reel-to-reel reflow apparatus of a semiconductor device according to an aspect of the present invention, the reflow unit may further include an opening/closing valve for discharging the hot air by opening the hot air circulation path to communicate with the outside.

발명의 일 관점(aspect)에 따른 반도체소자의 릴 투 릴 리플로우 장치에서, 상기 열풍공급노즐은, 상기 반도체소자의 크기 범위 내에서 기 설정된 경로에 따라 이동하면서 상기 열풍을 상기 반도체소자에 공급할 수 있다.In the reel-to-reel reflow apparatus of a semiconductor device according to an aspect of the invention, the hot air supply nozzle may supply the hot air to the semiconductor device while moving according to a preset path within the size range of the semiconductor device. have.

발명의 일 관점(aspect)에 따른 반도체소자의 릴 투 릴 리플로우 장치에서, 상기 열풍공급노즐은, 상기 리플로우 공정의 대상인 상기 반도체소자가 복수개인 경우 복수개가 구비되어 상기 반도체소자에 상기 열풍을 각각 공급할 수 있다.In the reel-to-reel reflow apparatus of a semiconductor device according to an aspect of the invention, the hot air supply nozzle is provided with a plurality of the semiconductor devices to be subjected to the reflow process to transmit the hot air to the semiconductor device. Each can be supplied.

발명의 일 관점(aspect)에 따른 반도체소자의 릴 투 릴 리플로우 장치에서, 상기 리플로우부의 후단에 구비되어 상기 리플로우 공정을 수행한 상태를 검사하는 리플로우검사부;를 더 포함할 수 있다.In the reel-to-reel reflow apparatus of a semiconductor device according to an aspect of the present invention, a reflow inspection unit provided at a rear end of the reflow unit to inspect a state in which the reflow process has been performed; may further include.

본 발명에 따르면, 반도체소자가 실장된 연성회로기판이 공급될 경우 반도체소자의 크기 범위에 대응하여 밀착되는 열풍공급노즐을 통해 열풍을 국부적으로 공급함으로써, 반도체소자의 칩 변형 및 손상을 미연에 방지하여 반도체 수율을 향상시킬 수 있다.According to the present invention, when a flexible circuit board on which a semiconductor device is mounted is supplied, hot air is locally supplied through a hot air supply nozzle that is in close contact with the size range of the semiconductor device, thereby preventing chip deformation and damage of the semiconductor device in advance. Thus, it is possible to improve the semiconductor yield.

그리고, 본 발명에 따르면, 열풍공급노즐을 통해 반도체소자에 열풍을 공급하되, 공급되는 열풍을 순환시켜 재공급함으로써, 리플로우 효율을 향상시킬 수 있다.Further, according to the present invention, the hot air is supplied to the semiconductor device through the hot air supply nozzle, and reflow efficiency can be improved by circulating and resupplying the supplied hot air.

또한, 본 발명에 따르면, 연성회로기판에 실장된 반도체소자의 크기 범위 내에서열풍공급노줄이 이동하면서 열풍을 공급하고, 복수의 반도체소자에 대응하는 복수의 열풍공급노즐을 통해 동시에 리플로우 공정을 수행함으로써, 리플로우 효율을 더욱 더 향상시킬 수 있다.In addition, according to the present invention, the hot air supply nozzle moves within the size range of the semiconductor device mounted on the flexible circuit board to supply hot air, and the reflow process is simultaneously performed through a plurality of hot air supply nozzles corresponding to the plurality of semiconductor devices. By performing, the reflow efficiency can be further improved.

도 1은 본 발명의 실시예에 따른 반도체소자의 릴 투 릴 리플로우 장치를 예시한 도면이고,
도 2는 본 발명의 실시예에 따라 반도체소자의 표면 열풍 공급 및 이면 열풍 공급을 설명하기 위한 도면이며,
도 3 및 도 4는 본 발명의 실시예에 따른 리플로우부에 구비된 열풍공급노즐을 예시한 도면이고,
도 5는 본 발명의 실시예에 따라 열풍미공급영역에 구비되는 열차단막을 설명하기 위한 도면이며,
도 6 및 도 7은 본 발명의 실시예에 따라 리플로우 공정을 설명하기 위한 도면이다.
1 is a diagram illustrating a reel-to-reel reflow apparatus of a semiconductor device according to an embodiment of the present invention,
2 is a view for explaining supply of hot air to the surface and supply of hot air to the back of a semiconductor device according to an embodiment of the present invention,
3 and 4 are views illustrating a hot air supply nozzle provided in a reflow unit according to an embodiment of the present invention,
5 is a view for explaining a heat shield provided in the hot flavor supply region according to an embodiment of the present invention,
6 and 7 are diagrams for explaining a reflow process according to an embodiment of the present invention.

이하, 본 발명에 따른 반도체소자의 릴 투 릴 리플로우 장치를 구현한 실시형태를 도면을 참조하여 자세히 설명한다.Hereinafter, an embodiment implementing the reel-to-reel reflow apparatus of a semiconductor device according to the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

다만, 본 발명의 본질적인(intrinsic) 기술적 사상은 이하에서 설명되는 실시형태에 의해 그 실시 가능 형태가 제한된다고 할 수는 없고, 본 발명의 본질적인(intrinsic) 기술적 사상에 기초하여 통상의 기술자에 의해 이하에서 설명되는 실시형태를 치환 또는 변경의 방법으로 용이하게 제안될 수 있는 범위를 포섭함을 밝힌다. However, the intrinsic technical idea of the present invention cannot be said to be limited by the embodiments to be described below, and the intrinsic technical idea of the present invention is given below by a person skilled in the art. It turns out to cover the range that can be easily proposed by a method of substitution or change of the embodiment described in FIG.

또한, 이하에서 사용되는 용어는 설명의 편의를 위하여 선택한 것이므로, 본 발명의 본질적인(intrinsic) 기술적 사상을 파악하는 데 있어서, 사전적 의미에 제한되지 않고 본 발명의 기술적 사상에 부합되는 의미로 적절히 해석되어야 할 것이다. In addition, since the terms used below are selected for convenience of description, in grasping the intrinsic technical idea of the present invention, it is not limited to the dictionary meaning and is appropriately interpreted as a meaning consistent with the technical idea of the present invention. Should be.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예를 상세히 설명하기로 한다.Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 1은 본 발명의 실시예에 따른 반도체소자의 릴 투 릴 리플로우 장치를 예시한 도면이고, 도 2는 본 발명의 실시예에 따라 반도체소자의 표면 열풍 공급 및 이면 열풍 공급을 설명하기 위한 도면이며, 도 3 및 도 4는 본 발명의 실시예에 따른 리플로우부에 구비된 열풍공급노즐을 예시한 도면이고, 도 5는 본 발명의 실시예에 따라 열풍미공급영역에 구비되는 열차단막을 설명하기 위한 도면이며, 도 6 및 도 7은 본 발명의 실시예에 따라 리플로우 공정을 설명하기 위한 도면이다.1 is a diagram illustrating a reel-to-reel reflow device of a semiconductor device according to an embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a view for explaining supplying hot air to the surface and supplying hot air to the back surface of a semiconductor device according to an embodiment of the present invention 3 and 4 are views illustrating a hot air supply nozzle provided in the reflow unit according to an embodiment of the present invention, and FIG. 5 is a heat shield provided in the hot flavor supply region according to an embodiment of the present invention. 6 and 7 are diagrams for describing a reflow process according to an embodiment of the present invention.

도 1 내지 도 7을 참조하면, 본 발명의 실시예에 따른 반도체소자의 릴 투 릴 리플로우 장치는 언와인드부(unwind, 110), 리플로우부(reflow, 120), 리플로우검사부(inspection, 130), 와인드부(wind, 140) 등을 포함할 수 있다.1 to 7, a reel-to-reel reflow apparatus of a semiconductor device according to an embodiment of the present invention includes an unwind unit 110, a reflow unit 120, and a reflow inspection unit. 130), may include a wind unit (wind 140), and the like.

언와인드부(110)는 반도체소자(20)가 실장된 연성회로기판(10)이 공급되는 것으로, 연성회로기판(10)은 플렉서블(flexible)한 성질을 가지며, 폴리이미드(PI; polyimide), 폴리에틸렌 테레프탈레이트(PET; polyethylene terephthalate), 폴리카보네이트(PC; polycarbonate), 폴리에틸렌 나프탈레이트(PEN; polyethylenenaphtalate), 폴리아릴레이트(PAR; polyarylate), 폴리에테르이미드(PEI;polyetherimide) 및 폴리에테르 술폰(PES; polyether Sulphone) 중에서 선택된 적어도 하나의 물질을 포함할 수 있고, 대표적으로 COF(chip on film) 등이 사용될 수 있다.The unwind part 110 is supplied with the flexible circuit board 10 on which the semiconductor device 20 is mounted, and the flexible circuit board 10 has a flexible property, and is polyimide (PI), Polyethylene terephthalate (PET), polycarbonate (PC; polycarbonate), polyethylene naphtalate (PEN), polyarylate (PAR), polyetherimide (PEI), and polyether sulfone (PES). ; polyether Sulphone) may include at least one material selected from, and representatively, a chip on film (COF) or the like may be used.

이러한 언와인드부(110)에는 연성회로기판(10)이 감겨있는 공급롤(111)과 공급롤(111)에서 풀려 공급되는 연성회로기판(10)의 텐션을 유지하기 위한 댄서롤(dancer roll, 113)이 구비될 수 있다.The unwind part 110 includes a supply roll 111 on which the flexible circuit board 10 is wound and a dancer roll for maintaining the tension of the flexible circuit board 10 supplied by being unwound from the supply roll 111. 113) may be provided.

또한, 언와인드부(110), 리플로우부(120), 검사부(130), 및 와인드부(140)에는 연성회로기판(10)의 이송을 유도하는 다수의 이송롤(R)이 구비될 수 있다.In addition, the unwind unit 110, the reflow unit 120, the inspection unit 130, and the winding unit 140 may be provided with a plurality of transfer rolls R for inducing the transfer of the flexible circuit board 10. have.

리플로우부(120)는 공급되는 연성회로기판(10)에 실장된 반도체소자(20)에 열풍을 공급하되, 반도체소자(20)의 크기 범위에 대응하여 밀착된 상태로 열풍을 공급하는 방식으로 리플로우 공정을 수행하는 것으로, 도 2에 도시한 바와 같이 연성회로기판(10)에 부착될 반도체소자(20)의 표면에 열풍을 공급하거나, 혹은 연성회로기판(10)에 부착될 반조체소자(20)의 이면에 열풍을 공급할 수 있다.The reflow unit 120 supplies hot air to the semiconductor device 20 mounted on the supplied flexible circuit board 10, but supplies hot air in close contact with the size range of the semiconductor device 20. By performing a reflow process, as shown in FIG. 2, hot air is supplied to the surface of the semiconductor device 20 to be attached to the flexible circuit board 10, or a semi-structure device to be attached to the flexible circuit board 10 Hot air can be supplied to the back of (20).

여기에서, DDI(display driver IC)는 디스플레이를 구성하는 수많은 화소들을 조정하여 다양한 색을 구현하도록 하는 디스플레이 구동칩으로, 전달받은 디지털 신호를 RGB 아날로그값으로 전환하여 스마트폰, 태블릿PC, TV용 디스플레이 패널에 전달하여 영상을 구현하는 소자이다.Here, the DDI (display driver IC) is a display driving chip that adjusts a number of pixels constituting the display to realize various colors. It converts the received digital signal into an RGB analog value to display a smartphone, tablet PC, or TV. It is a device that delivers an image to a panel to realize an image.

상술한 바와 같은 리플로우부(120)는 진공챔버(C) 내부에 구비되는 열풍공급노즐(121), 열풍공급로(122), 열풍순환로(123), 에어펌프(124), 히터(125), 순환팬(126), 개폐밸브(127), 열차단막(128) 등을 포함할 수 있다.The reflow unit 120 as described above includes a hot air supply nozzle 121, a hot air supply path 122, a hot air circulation path 123, an air pump 124, and a heater 125 provided inside the vacuum chamber C. , A circulation fan 126, an on/off valve 127, a heat shield 128, and the like.

여기에서, 열풍공급노즐(121)은 연성회로기판(10)에 실장된 반도체소자(20)에 열풍을 공급한 후에, 공급되는 열풍을 순환시켜 재공급하되, 열풍이 반도체소자(20)에 공급되는 열풍공급로(122)와 열풍이 순환되는 열풍순환로(123)가 각각 구비될 수 있으며, 단면이 원형, 다각형 등 다양한 형태로 제공될 수 있다.Here, the hot air supply nozzle 121 supplies hot air to the semiconductor device 20 mounted on the flexible circuit board 10, and then circulates and resupplies the supplied hot air, but the hot air is supplied to the semiconductor device 20 A hot air supply path 122 and a hot air circulation path 123 through which hot air is circulated may be provided, respectively, and may be provided in various shapes such as a circular shape or a polygonal cross section.

이러한 열풍공급노즐(121)에서는 열풍공급로(122)를 통과하여 공급되는 열풍이 열풍순환로(123)를 통해 다시 순환될 수 있도록 열풍공급로(122)와 열풍순환로(123)이 서로 인접하여 쌍으로 하여 구비될 수 있으며, 열풍공급로(122)와 열풍순환로(123)의 외측벽(w1)보다 이들을 구획하는 구획벽(w2)의 길이가 상대적으로 더 작게 형성됨으로써, 열풍공급로(122)를 통해 공급된 열풍이 반도체소자(20)의 표면 또는 이면에 공급된 후 순환팬(126)의 동작에 따라 열풍순환로(123)를 통해 회수되어 순환될 수 있다.In this hot air supply nozzle 121, the hot air supply path 122 and the hot air circulation path 123 are adjacent to each other so that the hot air supplied through the hot air supply path 122 can be circulated again through the hot air circulation path 123. It may be provided as, and the length of the partition wall (w2) partitioning them is formed relatively smaller than the outer wall (w1) of the hot air supply path 122 and the hot air circulation path 123, the hot air supply path 122 After the hot air supplied through the semiconductor device 20 is supplied to the front or rear surface of the semiconductor device 20, it may be recovered and circulated through the hot air circulation path 123 according to the operation of the circulation fan 126.

상술한 바와 같은 열풍공급노즐(121)은 도 3에 도시한 바와 같이 열풍공급로(122)와 열풍순환로(123)이 하나씩 구비된 형태로 제공되거나, 혹은 도 4에 도시한 바와 같이 열풍공급로(122)와 열풍순환로(123)의 쌍이 복수개 구비된 형태로 제공될 수 있다.The hot air supply nozzle 121 as described above is provided in the form of a hot air supply path 122 and a hot air circulation path 123 as shown in FIG. 3, or a hot air supply path as shown in FIG. A plurality of pairs of 122 and the hot air circulation path 123 may be provided.

그리고, 에어펌프(124)는 열풍공급노즐(121)에 공기를 공급하는데, 열풍공급로(122)로 공기를 펌핑하여 공급할 수 있고, 히터(125)는 공급된 공기에 열을 가하는데, 열선 등을 포함하여 열풍공급로(122) 상에 구비되어 공급되는 공기에 열을 가하여 기 설정된 온도 범위 내의 열풍을 반도체소자(20)에 공급할 수 있다. 이러한 에어펌프(124)와 열풍공급로(122)의 사이에는 공급밸브(124a)가 구비되어 공기를 공급 또는 차단할 수 있음은 물론이다.In addition, the air pump 124 supplies air to the hot air supply nozzle 121, which can be supplied by pumping air to the hot air supply path 122, and the heater 125 applies heat to the supplied air. The hot air within a preset temperature range may be supplied to the semiconductor device 20 by applying heat to the air provided on the hot air supply path 122 including, etc. It goes without saying that a supply valve 124a is provided between the air pump 124 and the hot air supply path 122 to supply or block air.

또한, 순환팬(126)은 열풍순환로(123)에 구비되어 열풍을 순환시킬 수 있는데, 열풍공급로(122)를 통해 공급된 열풍은 열풍공급로(122)에 근접된 열풍순환로(123) 내부에 구비된 순환팬(126)을 통해 다시 히터(125)의 전단으로 순화시킬 수 있으며, 이에 따라 열풍은 다시 열풍공급로(122)를 따라 반도체소자(20)로 다시 공급될 수 있다.In addition, the circulation fan 126 is provided in the hot air circulation path 123 to circulate hot air, and the hot air supplied through the hot air supply path 122 is inside the hot air circulation path 123 adjacent to the hot air supply path 122 Through the circulation fan 126 provided in, it can be purified to the front end of the heater 125 again, and accordingly, the hot air can be supplied back to the semiconductor device 20 along the hot air supply path 122.

즉, 열풍공급로(122)를 통해 공급되는 열풍은 다시 열풍순환로(123)를 통해 순환되어 반도체소자(20)에 공급됨으로써, 열풍을 이용한 반도체소자(20) 부착 효율을 향상시킬 수 있을 뿐만 아니라 리플로우 공정 시간을 단축시킬 수 있다.That is, the hot air supplied through the hot air supply path 122 is circulated through the hot air circulation path 123 again and supplied to the semiconductor device 20, thereby improving the attachment efficiency of the semiconductor device 20 using the hot air. Reflow process time can be shortened.

그리고, 개폐밸브(127)는 개방될 경우 열풍순환로(123)가 외부와 연통되도록 열풍공급노즐(121)에 구비되는데, 이를 통해 반도체소자(20)에 열풍 공급을 중단시킬 경우 열풍공급로(122)와 열풍순환로(123) 내부에 순환되는 열풍을 개폐밸브(127) 개방을 통해 열풍공급노즐(121)의 후단으로 배출시킴으로써, 반도체소자(20)에 대한 추가적인 열풍 공급을 차단하여 반도체소자(20) 손상을 미연에 방지할 수 있다.In addition, the opening/closing valve 127 is provided in the hot air supply nozzle 121 so that the hot air circulation path 123 communicates with the outside when it is opened. When stopping the supply of hot air to the semiconductor device 20 through this, the hot air supply path 122 ) And the hot air circulating inside the hot air circulation path 123 is discharged to the rear end of the hot air supply nozzle 121 through the opening of the on-off valve 127, thereby blocking the supply of additional hot air to the semiconductor device 20 ) Damage can be prevented in advance.

한편, 리플로우부(120)에는 열풍공급영역(HA : heating area) 이외의 열풍미공급영역(NHA : no heating area)에 대한 열풍의 영향을 차단하기 위해 열풍미공급영역(NHA)을 커버하기 위한 열차단막(128)을 더 포함할 수 있는데, 열전도를 차단하기 위한 SUS(Steel Use Stainless), 단열재, 세라믹 등의 재질로 구비될 수 있으며, 0.1-10mm의 두께 범위로 구비될 수 있다.On the other hand, the reflow unit 120 covers the hot flavor supply area (NHA) in order to block the influence of the hot air on the hot flavor supply area (NHA: no heating area) other than the hot air supply area (HA heating area). It may further include a heat shield 128 for blocking heat conduction, and may be provided with a material such as SUS (Steel Use Stainless), an insulating material, ceramic, etc. to block heat conduction, and may be provided in a thickness range of 0.1-10mm.

예를 들면, 열차단막(128)은 도 2에 도시한 바와 같이 반도체소자(20)가 배치되는 열풍공급영역(HA) 이외의 영역인 열풍미공급영역(NHA)을 커버하기 위해 반도체소자(20)의 경계부분에 인접하여 구비됨으로써, 반도체소자(20) 주변의 각종 소자에 대한 열손상을 방지할 수 있다. 이 때, 반도체소자(20)의 가장자리 선단과 열차단막(128)의 끝선단은 0.9-1.1mm만큼의 이격거리(G)를 가짐으로써, 반도체소자(20)에 공급되는 열풍으로부터 주변 소자에 대한 열손상을 최대한 방지할 수 있다.For example, the heat shielding film 128 is a semiconductor device 20 to cover a hot flavor supply region NHA, which is a region other than the hot air supply region HA in which the semiconductor device 20 is disposed, as shown in FIG. 2. ), it is possible to prevent thermal damage to various devices around the semiconductor device 20. At this time, by having a separation distance (G) of 0.9-1.1mm between the edge tip of the semiconductor device 20 and the tip tip of the heat shielding film 128, the hot air supplied to the semiconductor device 20 Heat damage can be prevented as much as possible.

또한, 열차단막(128)은 도 5의 왼쪽에 도시한 바와 같이 열풍을 공급하는 반도체소자(20)의 경계부분에 인접하여 직사각형 형상으로 구비될 수 있고, 도 5의 오른쪽에 도시한 바와 같이 열풍을 공급하는 반도체소자(20)의 형상(즉, 직사각형 형상)에 따라 열풍공급영역(HA)만이 오픈된 형상으로 구비될 수 있는데, 이러한 형태는 필요에 따라(즉, 열풍을 공급하는 반도체소자(20)의 형상에 따라) 다양하게 형성될 수 있음은 물론이다.In addition, the heat shield 128 may be provided in a rectangular shape adjacent to the boundary portion of the semiconductor device 20 supplying hot air as shown on the left side of FIG. 5, and as shown in the right side of FIG. Only the hot air supply area HA may be provided in an open shape according to the shape (ie, a rectangular shape) of the semiconductor device 20 for supplying the hot air, and such a shape may be provided as necessary (ie, a semiconductor device supplying hot air ( Of course, it can be formed in various ways depending on the shape of 20).

상술한 바와 같은 열풍공급노즐(121)은 도 3에 도시한 바와 같이 열풍공급로(122)와 열풍순환로(123)이 하나씩 구비된 형태로 제공되거나, 혹은 도 4에 도시한 바와 같이 열풍공급로(122)와 열풍순환로(123)의 쌍이 복수개 구비된 형태로 제공됨으로써, 다양한 크기의 반도체소자(20)에 열풍을 효율적으로 공급하여 부착시킬 수 있다.The hot air supply nozzle 121 as described above is provided in the form of a hot air supply path 122 and a hot air circulation path 123 as shown in FIG. 3, or a hot air supply path as shown in FIG. Since a plurality of pairs of 122 and the hot air circulation path 123 are provided, it is possible to efficiently supply and attach hot air to the semiconductor devices 20 of various sizes.

한편, 상술한 바와 같은 열풍공급노즐(121)은 반도체소자(20)의 크기 범위 내에서 기 설정된 경로에 따라 이동하면서 열풍을 반도체소자(20)에 공급할 수 있는데, 도 6에 도시한 바와 같이 반도체소자(20)의 크기 범위에 따라 a→b→c의 방향으로 이동하면서 열풍을 공급함으로써, 다른 소자의 손상 및 변형을 방지할 수 있다. 여기에서, 열풍공급노즐(121)의 이동수단은 종래에 다양하게 제시되어 있으므로 그 구체적인 설명은 생략하기로 한다.Meanwhile, the hot air supply nozzle 121 as described above can supply hot air to the semiconductor device 20 while moving according to a preset path within the size range of the semiconductor device 20. As shown in FIG. By supplying hot air while moving in the direction a→b→c according to the size range of the device 20, damage and deformation of other devices can be prevented. Here, since the moving means of the hot air supply nozzle 121 has been presented in various ways in the related art, a detailed description thereof will be omitted.

또한, 열풍공급노즐(121)은 리플로우 공정의 대상인 반도체소자(20)가 복수개인 경우 복수개가 구비되어 반도체소자(20)에 열풍을 각각 공급할 수 있으며, 이 경우에도 도 7에 도시한 바와 같이 반도체소자(20) 각각에 대해 a'→b'→c'의 방향으로 이동하면서 열풍을 공급함으로써, 인접하는 다른 반도체소자(20)의 손상 및 변형을 방지할 수 있다.In addition, the hot air supply nozzle 121 may be provided with a plurality of semiconductor devices 20, which are the targets of the reflow process, to supply hot air to the semiconductor devices 20, respectively, and even in this case, as shown in FIG. By supplying hot air while moving in the direction a'→b'→c' to each of the semiconductor devices 20, damage and deformation of the other adjacent semiconductor devices 20 can be prevented.

한편, 종래의 레이저빔을 이용한 리플로우 공정의 경우 레이저빔 출력세기가 상대적으로 매우 강하기 때문에, 레이저빔이 솔더물질을 조사하여 가열할 경우 그 출력세기로 인해 솔더물질의 멜팅(melting) 정도가 필요로 하는 기준보다 더 많이 멜팅되어 솔더물질이 퍼지게 되는 문제가 있는데, 상술한 바와 같은 본 발명의 실시예에 따른 리플로우부(120)에서는 열풍 공급을 조절하여 필요한 기준만큼의 멜팅 정도를 가지면서 반도체소자(20)을 부착시킬 수 있도록 열풍공급영역(HA)에만 열풍을 공급하도록 할 수 있어 반도체제품 수율을 향상시킬 수 있다.On the other hand, in the case of a conventional reflow process using a laser beam, since the laser beam output strength is relatively strong, when the laser beam irradiates and heats the solder material, the degree of melting of the solder material is required due to the output strength. There is a problem in that the solder material is spread by melting more than the standard as described above. In the reflow unit 120 according to the embodiment of the present invention as described above, the semiconductor device has a melting degree as much as a required standard by controlling the supply of hot air. Since the hot air can be supplied only to the hot air supply area HA so that the device 20 can be attached, the semiconductor product yield can be improved.

리플로우검사부(130)는 리플로우부(120)의 후단에 구비되어 리플로우 공정을 수행한 상태를 검사하는 것으로, 예를 들어 비전카메라 등을 포함하여 리플로우 공정을 통해 솔더 물질의 단부 형상인 2차원 형태를 검사하거나, 솔더 물질의 단부로부터 솔더 물질의 윤곽을 파악한 후 솔더 물질 높이를 측정하여 솔더 물질의 3차원 형태를 검사하는 방식으로 리플로우 불량 여부를 검사할 수 있다.The reflow inspection unit 130 is provided at the rear end of the reflow unit 120 to inspect the state in which the reflow process has been performed. For example, the shape of the end of the solder material through a reflow process including a vision camera Reflow defects may be inspected by inspecting the two-dimensional shape or by measuring the height of the solder material after determining the contour of the solder material from the end of the solder material to inspect the three-dimensional shape of the solder material.

이러한 리플로우검사부(130)는 리플로우부(120)가 구비된 진공챔버(C) 내부에 구비될 수 있다.The reflow inspection unit 130 may be provided inside the vacuum chamber C in which the reflow unit 120 is provided.

와인드부(140)는 리플로우 공정이 완료된 연성회로기판(10)을 회수하는 것으로, 연성회로기판(10)을 회수하는 회수롤(141)과 회수롤(141)로 회수되는 연성회로기판(10)의 텐션을 유지하기 위한 댄서롤(143)이 구비될 수 있다.The winding unit 140 recovers the flexible circuit board 10 on which the reflow process has been completed, and the recovery roll 141 recovers the flexible circuit board 10 and the flexible circuit board 10 recovered by the recovery roll 141 ) May be provided with a dancer roll 143 for maintaining the tension.

따라서, 본 발명은 반도체소자가 실장된 연성회로기판이 공급될 경우 반도체소자의 크기 범위에 대응하여 밀착되는 열풍공급노즐을 통해 열풍을 국부적으로 공급함으로써, 반도체소자의 칩 변형 및 손상을 미연에 방지하여 반도체 수율을 향상시킬 수 있다.Accordingly, the present invention prevents chip deformation and damage of the semiconductor device in advance by locally supplying hot air through a hot air supply nozzle that is in close contact with the size range of the semiconductor device when the flexible circuit board on which the semiconductor device is mounted is supplied. Thus, it is possible to improve the semiconductor yield.

그리고, 본 발명은 열풍공급노즐을 통해 반도체소자에 열풍을 공급하되, 공급되는 열풍을 순환시켜 재공급함으로써, 리플로우 효율을 향상시킬 수 있다.In the present invention, the hot air is supplied to the semiconductor device through the hot air supply nozzle, and reflow efficiency can be improved by circulating and resupplying the supplied hot air.

또한, 본 발명은 연성회로기판에 실장된 반도체소자의 크기 범위 내에서 열풍공급노줄이 이동하면서 열풍을 공급하고, 복수의 반도체소자에 대응하는 복수의 열풍공급노즐을 통해 동시에 리플로우 공정을 수행함으로써, 리플로우 효율을 더욱 더 향상시킬 수 있다.In addition, the present invention supplies hot air while moving the hot air supply nozzle within the size range of the semiconductor device mounted on the flexible circuit board, and simultaneously performing a reflow process through a plurality of hot air supply nozzles corresponding to a plurality of semiconductor devices. , The reflow efficiency can be further improved.

Claims (7)

반도체소자가 실장된 연성회로기판이 공급되는 언와인드부;
상기 공급되는 연성회로기판에 실장된 상기 반도체소자에 열풍을 공급하되, 상기 반도체소자의 크기 범위에 대응하여 밀착된 상태로 상기 열풍을 공급하는 방식으로 리플로우 공정을 수행하는 리플로우부; 및
상기 리플로우 공정이 완료된 상기 연성회로기판을 회수하는 와인드부;를 포함하며,
상기 리플로우부는,
SUS(Steel Use Stainless), 단열재 및 세라믹 중에서 선택된 재질 및 0.1-10mm의 두께 범위로 구비되며, 열풍공급영역 이외의 열풍미공급영역에 대한 상기 열풍의 영향을 차단하기 위해 상기 열풍미공급영역을 커버하되, 끝선단이 상기 반도체소자의 가장자리 선단과 0.9-1.1mm만큼의 이격거리를 갖는 열차단막;
상기 열풍을 공급한 후에, 공급되는 상기 열풍을 순환하여 재공급하되, 상기 열풍이 상기 반도체소자에 공급되는 열풍공급로와 상기 열풍이 순환되는 열풍순환로가 각각 구비되는 열풍공급노즐;
상기 열풍공급노즐에 공기를 공급하는 에어펌프;
상기 공급된 공기에 열을 가하는 히터;
상기 열풍순환로에 구비되어 상기 열풍을 순환시키는 순환팬; 및
상기 열풍순환로가 외부와 연통되도록 개방되어 상기 열풍을 배출시키는 개폐밸브;를 포함하고,
상기 열풍공급노즐은, 상기 반도체소자의 크기 범위 내에서 기 설정된 경로에 따라 이동하면서 상기 열풍을 상기 반도체소자에 공급하는 반도체소자의 릴 투 릴 리플로우 장치.
An unwind unit to which a flexible circuit board on which a semiconductor device is mounted is supplied;
A reflow unit for supplying hot air to the semiconductor device mounted on the supplied flexible circuit board, and performing a reflow process in a manner that supplies the hot air in a state in close contact with the size range of the semiconductor device; And
Includes; a winding unit for recovering the flexible circuit board in which the reflow process is completed,
The reflow unit,
It is provided in a material selected from SUS (Steel Use Stainless), insulation and ceramic, and a thickness range of 0.1-10mm, and covers the hot flavor supply area to block the influence of the hot air on the hot flavor supply area other than the hot air supply area. However, a heat shield having an end of the semiconductor device with a separation distance of 0.9-1.1 mm from the edge of the semiconductor device;
A hot air supply nozzle having a hot air supply path through which the hot air is supplied to the semiconductor device and a hot air circulation path through which the hot air is circulated;
An air pump supplying air to the hot air supply nozzle;
A heater that applies heat to the supplied air;
A circulation fan provided in the hot air circulation path to circulate the hot air; And
Including; an opening and closing valve for discharging the hot air by opening the hot air circulation path to communicate with the outside,
The hot air supply nozzle is a reel-to-reel reflow device of a semiconductor device for supplying the hot air to the semiconductor device while moving according to a preset path within a size range of the semiconductor device.
삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 청구항 1에 있어서,
상기 열풍공급노즐은, 상기 리플로우 공정의 대상인 상기 반도체소자가 복수개인 경우 복수개가 구비되어 상기 반도체소자에 상기 열풍을 각각 공급하는 반도체소자의 릴 투 릴 리플로우 장치.
The method according to claim 1,
A reel-to-reel reflow device of a semiconductor device, wherein a plurality of hot air supply nozzles are provided when there are a plurality of semiconductor devices to be subjected to the reflow process to respectively supply the hot air to the semiconductor devices.
청구항 1 또는 청구항 6에 있어서,
상기 반도체소자의 릴 투 릴 리플로우 장치는,
상기 리플로우부의 후단에 구비되어 상기 리플로우 공정을 수행한 상태를 검사하는 리플로우검사부;를 더 포함하는 반도체소자의 릴 투 릴 리플로우 장치.
The method according to claim 1 or 6,
The reel-to-reel reflow device of the semiconductor device,
A reflow inspection unit provided at a rear end of the reflow unit to inspect a state in which the reflow process has been performed.
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