KR102073733B1 - 증발원 및 증착장치 - Google Patents
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Abstract
Description
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 증발원의 일부를 도시한 분해 사시도.
도 3은 본 발명의 다른 실시예에 따른 증착장치의 구성을 설명하기 위한 도면.
16: 노즐관로 18: 절연체
20: 전극 22: 공급관
24: 회전스크류 26: 히터부
28: 호퍼부 30: 혼합스크류
32: 투입구 34: 모터
36: 진공챔버 38: 기판안착부
40: 기판
Claims (12)
- 분말 형태의 증발물질이 일단에서 타단 방향으로 이동하는 통로를 제공하는 공급관을 포함하고, 상기 증발물질을 일단에서 타단 방향으로 연속적으로 공급하는 공급관부와;
상기 공급관부의 타단이 결합되며, 상기 공급관부과 연통되어 상기 분말 형태의 증발물질이 분기되어 진입되는 다수의 노즐관로가 형성되고, 상기 노즐관로를 관통하는 과정에서 상기 분말 형태의 증발물질을 가열하여 기화시키는 히팅노즐부를 포함하는, 증발원.
- 제1항에 있어서,
상기 히팅노즐부는 발열 저항체로 이루어지며,
상기 발열 저항체에는 전극이 연결되는 것을 특징으로 하는, 증발원.
- 제2항에 있어서,
상기 발열 저항체의 전기가 상기 공급관부로 전달되지 않도록 상기 공급관부의 타단과 상기 발열 저항체 사이에는 절연체가 개재되는 것을 특징으로 하는, 증발원.
- 제1항에 있어서,
상기 공급관부를 가열하는 히터부를 더 포함하는, 증발원.
- 제1항에 있어서,
상기 공급관부는,
상기 공급관의 내부에 배치되며, 회전에 따라 상기 증발물질을 상기 공급관의 타단으로 전진시키는 회전스크류를 포함하는 것을 특징으로 하는, 증발원.
- 제5항에 있어서,
상기 공급관과 연통되며, 상기 공급관에 상기 증발물질을 공급하는 호퍼부와;
상기 호퍼부의 내부에 마련되며, 회전에 따라 상기 증발물질을 혼합하는 혼합스크류를 더 포함하는, 증발원.
- 분말 형태의 증발물질을 증발시켜 기판에 박막을 형성하는 증착장치로서,
상기 기판이 내부에 안착되는 진공챔버와;
분말 형태의 증발물질이 일단에서 타단 방향으로 이동하는 통로를 제공하는 공급관을 포함하고, 상기 증발물질을 일단에서 타단 방향으로 연속적으로 공급하는 공급관부와;
상기 공급관부의 타단이 결합되며, 상기 공급관부과 연통되어 상기 분말 형태의 증발물질이 분기되어 진입되는 다수의 노즐관로가 형성되고, 상기 노즐관로를 관통하는 과정에서 상기 분말 형태의 증발물질을 가열하여 기화시키는 히팅노즐부를 포함하는, 증착장치.
- 제7항에 있어서,
상기 히팅노즐부는 발열 저항체로 이루어지며,
상기 발열 저항체에는 전극이 연결되는 것을 특징으로 하는, 증착장치.
- 제8항에 있어서,
상기 발열 저항체의 전기가 상기 공급관부로 전달되지 않도록 상기 공급관부의 타단과 상기 발열 저항체 사이에는 절연체가 개재되는 것을 특징으로 하는, 증착장치.
- 제7항에 있어서,
상기 공급관부를 가열하는 히터부를 더 포함하는, 증착장치.
- 제7항에 있어서,
상기 공급관부는,
상기 공급관의 내부에 배치되며, 회전에 따라 상기 증발물질을 상기 공급관의 타단으로 전진시키는 회전스크류를 포함하는 것을 특징으로 하는, 증착장치.
- 제11항에 있어서,
상기 공급관과 연통되며, 상기 공급관에 상기 증발물질을 공급하는 호퍼부와;
상기 호퍼부의 내부에 마련되며, 회전에 따라 상기 증발물질을 혼합하는 혼합스크류를 더 포함하는, 증착장치.
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WO2021112294A1 (ko) * | 2019-12-05 | 2021-06-10 | 김태윤 | 원료물질의 증발량 및 증발속도가 조절되는 나노분말 연속제조장치 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR200356423Y1 (ko) | 2004-04-29 | 2004-07-15 | 현대엘씨디주식회사 | 유기물 자동공급장치 |
JP2005002450A (ja) * | 2003-06-13 | 2005-01-06 | Pioneer Electronic Corp | 蒸着方法、蒸着ヘッド、及び有機エレクトロルミネッセンス表示パネルの製造装置 |
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---|---|---|---|---|
JP2005002450A (ja) * | 2003-06-13 | 2005-01-06 | Pioneer Electronic Corp | 蒸着方法、蒸着ヘッド、及び有機エレクトロルミネッセンス表示パネルの製造装置 |
KR200356423Y1 (ko) | 2004-04-29 | 2004-07-15 | 현대엘씨디주식회사 | 유기물 자동공급장치 |
KR100767296B1 (ko) | 2006-01-16 | 2007-10-17 | 주식회사 테라세미콘 | 화학기상증착장치의 소스파우더 공급장치 |
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