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KR102004805B1 - 코일 전자 부품 - Google Patents

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KR102004805B1
KR102004805B1 KR1020170135379A KR20170135379A KR102004805B1 KR 102004805 B1 KR102004805 B1 KR 102004805B1 KR 1020170135379 A KR1020170135379 A KR 1020170135379A KR 20170135379 A KR20170135379 A KR 20170135379A KR 102004805 B1 KR102004805 B1 KR 102004805B1
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KR
South Korea
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insulator
coil
coating layer
aggregate
electronic component
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KR1020170135379A
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KR20190043382A (ko
Inventor
이영일
유한울
권상균
Original Assignee
삼성전기주식회사
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Publication date
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Priority to CN201811112983.2A priority patent/CN109686550B/zh
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Application granted granted Critical
Publication of KR102004805B1 publication Critical patent/KR102004805B1/ko
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Abstract

본 발명의 일 실시 형태에 따른 코일 전자 부품은 코일부가 내설되며 절연체 및 상기 절연체에 응집체의 형태로 분산된 복수의 자성 입자를 갖는 바디와, 상기 응집체의 표면을 따라 절연 물질로 형성된 코팅층 및 상기 코일부와 접속된 외부 전극을 포함한다.

Description

코일 전자 부품{COIL ELECTRONIC COMPONENT}
본 발명은 코일 전자 부품에 관한 것이다.
디지털 TV, 모바일 폰, 노트북 등과 같은 전자 기기의 소형화 및 박형화에 수반하여 이러한 전자 기기에 적용되는 코일 전자 부품에도 소형화 및 박형화가 요구되고 있으며, 이러한 요구에 부합하기 위하여 다양한 형태의 권선 타입 또는 박막 타입의 코일 전자 부품의 연구 개발이 활발하게 진행되고 있다.
코일 전자 부품의 소형화 및 박형화에 따른 주요한 이슈는 이러한 소형화 및 박형화에도 불구하고 기존과 동등한 특성을 구현하는 것이다. 이러한 요구를 만족하기 위해서는 자성물질이 충전되는 코어에서 자성물질의 비율을 증가시켜야 하지만, 인덕터 바디의 강도, 절연성에 따른 주파수 특성 변화 등의 이유로 그 비율을 증가시키는 것에 한계가 있다.
코일 전자 부품을 제조하는 일 예로서, 자성 입자와 수지 등을 혼합한 시트를 코일에 적층한 후 가압하여 바디를 구현하는 방법이 이용되고 있는데, 이러한 자성 입자로서 페라이트나 금속 등을 사용할 수 있다. 금속 자성 입자를 사용하는 경우에는 코일 전자 부품의 투자율 특성 등의 측면에서 입자의 함량을 증가시키는 것이 유리하지만, 이 경우 바디의 절연성이 저하되어 항복 전압(breakdown voltage) 특성이 저하될 수 있다.
본 발명의 여러 목적 중 하나는 바디와 코일 패턴 사이의 전기 절연성이 개선되어 전기적, 자기적 특성이 향상될 수 있는 코일 전자 부품을 제공하는 것이다.
상술한 과제를 해결하기 위한 방법으로, 본 발명은 일 예를 통하여 코일 전자 부품의 신규한 구조를 제안하고자 하며, 구체적으로, 코일부가 내설되며 절연체 및 상기 절연체에 응집체의 형태로 분산된 복수의 자성 입자를 갖는 바디와, 상기 응집체의 표면을 따라 절연 물질로 형성된 코팅층 및 상기 코일부와 접속된 외부 전극을 포함한다.
일 실시 예에서, 상기 응집체는 다공성 구조를 가질 수 있다.
일 실시 예에서, 상기 코팅층은 원자층 증착층일 수 있다.
일 실시 예에서, 상기 코팅층은 1um 이하의 두께를 가질 수 있다.
일 실시 예에서, 상기 코팅층은 알루미나로 이루어질 수 있다.
일 실시 예에서, 상기 절연체와 상기 코팅층은 서로 다른 물질로 이루어질 수 있다.
일 실시 예에서, 상기 절연체는 절연성 수지로 이루어지고, 상기 코팅층은 세라믹으로 이루어질 수 있다.
일 실시 예에서, 상기 절연체와 상기 코팅층은 서로 다른 세라믹 물질로 이루어질 수 있다.
일 실시 예에서, 상기 절연체와 상기 코팅층은 서로 동일한 물질로서 일체 구조로 형성될 수 있다.
일 실시 예에서, 상기 절연체와 상기 코팅층은 알루미나로 이루어질 수 있다.
일 실시 예에서, 상기 자성 입자는 도전성을 가질 수 있다.
일 실시 예에서, 상기 자성 입자는 Fe계 합금으로 이루어질 수 있다.
본 발명의 일 예에 따른 코일 전자 부품의 경우, 바디와 코일 패턴 사이의 전기 절연성이 개선되어 전기적, 자기적 특성이 향상될 수 있다.
도 1은 전자 기기에 적용되는 코일 전자 부품의 예를 개략적으로 도시한다.
도 2는 본 발명의 일 실시형태의 코일 전자 부품을 개략적으로 나타낸 단면도이다.
도 3은 도 2의 A 영역을 확대하여 나타낸 것이다.
도 4는 원자층 증착에 의하여 박막이 형성되는 원리를 나타내는 모식도이다.
도 5는 변형 예에 따른 코일 전자 부품에서 바디의 영역을 개략적으로 나타낸 단면도이다.
이하, 구체적인 실시형태 및 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시형태를 설명한다. 그러나, 본 발명의 실시형태는 여러 가지 다른 형태로 변형될 수 있으며, 본 발명의 범위가 이하 설명하는 실시형태로 한정되는 것은 아니다. 또한, 본 발명의 실시형태는 통상의 기술자에게 본 발명을 더욱 완전하게 설명하기 위해서 제공되는 것이다. 따라서, 도면에서의 요소들의 형상 및 크기 등은 보다 명확한 설명을 위해 과장될 수 있으며, 도면상의 동일한 부호로 표시되는 요소는 동일한 요소이다.
전자 기기
도 1은 전자 기기에 적용되는 코일 전자 부품의 예를 개략적으로 도시한다.
도면을 참조하면, 전자 기기에는 다양한 종류의 전자 부품들이 사용되는 것을 알 수 있으며, 예를 들면, Application Processor 를 중심으로, DC/DC, Comm. Processor, WLAN BT / WiFi FM GPS NFC, PMIC, Battery, SMBC, LCD AMOLED, Audio Codec, USB 2.0 / 3.0 HDMI, CAM 등이 사용될 수 있다. 이때, 이러한 전자 부품 사이에는 노이즈 제거 등을 목적으로 다양한 종류의 코일 전자 부품이 그 용도에 따라 적절하게 적용될 수 있는데, 예를 들면, 파워 인덕터(Power Inductor, 1), 고주파 인덕터(HF Inductor, 2), 통상의 비드(General Bead, 3), 고주파용 비드(GHz Bead, 4), 공통 모드 필터(Common Mode Filter, 5) 등을 들 수 있다.
구체적으로, 파워 인덕터(Power Inductor, 1)는 전기를 자기장 형태로 저장하여 출력 전압을 유지하여 전원을 안정시키는 용도 등으로 사용될 수 있다. 또한, 고주파 인덕터(HF Inductor, 2)는 임피던스를 매칭하여 필요한 주파수를 확보하거나, 노이즈 및 교류 성분을 차단하는 등의 용도로 사용될 수 있다. 또한, 통상의 비드(General Bead, 3)는 전원 및 신호 라인의 노이즈를 제거하거나, 고주파 리플을 제거하는 등의 용도로 사용될 수 있다. 또한, 고주파용 비드(GHz Bead, 4)는 오디오와 관련된 신호 라인 및 전원 라인의 고주파 노이즈를 제거하는 등의 용도로 사용될 수 있다. 또한, 공통 모드 필터(Common Mode Filter, 5)는 디퍼런셜 모드에서는 전류를 통과시키고, 공통 모드 노이즈 만을 제거하는 등의 용도로 사용될 수 있다.
전자 기기는 대표적으로 스마트 폰(Smart Phone)일 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니며, 예를 들면, 개인용 정보 단말기(personal digital assistant), 디지털 비디오 카메라(digital video camera), 디지털 스틸 카메라(digital still camera), 네트워크 시스템(network system), 컴퓨터(computer), 모니터(monitor), 텔레비전(television), 비디오 게임(video game), 스마트 워치(smart watch) 등일 수도 있다. 이들 외에도 통상의 기술자에게 잘 알려진 다른 다양한 전자 기기 등일 수도 있음은 물론이다.
코일 전자 부품
이하에서는 본 개시의 코일 전자 부품을 설명하되, 편의상 인덕터(Inductor)의 구조를 예를 들어 설명하지만, 상술한 바와 같이 다른 다양한 용도의 코일 전자 부품에도 본 실시 형태에서 제안하는 코일 전자 부품이 적용될 수 있음은 물론이다.
도 2는 본 발명의 일 실시형태의 코일 전자 부품을 개략적으로 나타낸 단면도이다. 도 3은 도 2의 A 영역을 확대하여 나타낸 것이다. 도 4는 원자층 증착에 의하여 박막이 형성되는 원리를 나타내는 모식도이다.
본 발명의 일 실시형태에 따른 코일 전자 부품(100)은 바디(101), 코일부(103) 및 외부 전극(105, 106)을 주요 구성 요소로서 포함하며, 코일부(103)의 표면에는 코일부(103)를 절연시키기 위한 절연층(104)이 형성될 수 있다. 코일부(103)는 바디(101) 내에 매설되며, 이 경우, 바디(101) 내에는 코일부(103)를 지지하는 지지부재(102)가 배치될 수 있다.
코일부(103)는 코일 전자 부품(100)의 코일로부터 발현되는 특성을 통하여 전자 기기 내에서 다양한 기능을 수행하는 역할을 한다. 예를 들면, 코일 전자 부품(100)은 파워 인덕터일 수 있으며, 이 경우 코일부(103)는 전기를 자기장 형태로 저장하여 출력 전압을 유지하여 전원을 안정시키는 역할 등을 수행할 수 있다. 이 경우, 코일부(103)를 이루는 코일 패턴은 지지부재(102)의 양면 상에 각각 적층된 형태일 수 있으며, 지지부재(102)를 관통하는 도전성 비아를 통하여 전기적으로 연결될 수 있다. 코일부(103)는 나선(spiral) 형상으로 형성될 수 있는데, 이러한 나선 형상의 최외곽에는 외부 전극(105, 106)과의 전기적인 연결을 위하여 바디(101)의 외부로 노출되는 인출부를 포함할 수 있다.
한편, 코일부(103)를 이루는 코일 패턴의 경우, 당 기술 분야에서 사용되는 도금 공정, 예컨대, 패턴 도금, 이방 도금, 등방 도금 등의 방법을 사용하여 형성될 수 있으며, 이들 공정 중 복수의 공정을 이용하여 다층 구조로 형성될 수도 있다.
코일부(103)를 지지하는 지지부재(102)의 경우, 폴리프로필렌글리콜(PPG) 기판, 페라이트 기판 또는 금속계 연자성 기판 등으로 형성될 수 있다. 그리고 코일부(103)의 표면을 따라 형성된 절연층(104)은 코일부(103)를 바디(101) 내부의 자성 입자(112) 등과 전기적으로 분리하기 위하여 채용될 수 있으며, 산화막이나 고분자 물질 등으로 형성될 수 있고 원자층 증착층도 사용될 수 있다.
외부 전극(105, 106)은 바디(101)의 외부에 형성되어 코일부(103)와 접속되며, 구체적으로, 코일부(103)의 인출부(T)와 접속될 수 있다. 외부 전극(105, 106)은 전기 전도성이 뛰어난 금속을 포함하는 페이스트를 사용하여 형성할 수 있으며, 예를 들어, 니켈(Ni), 구리(Cu), 주석(Sn) 또는 은(Ag) 등의 단독 또는 이들의 합금 등을 포함하는 전도성 페이스트일 수 있다. 또한, 외부 전극(105, 106) 상에 도금층(미 도시)을 더 형성할 수 있다. 이 경우, 상기 도금층은 니켈(Ni), 구리(Cu) 및 주석(Sn)으로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나 이상을 포함할 수 있으며, 예를 들어, 니켈(Ni)층과 주석(Sn)층이 순차로 형성될 수 있다.
도 3에 도시된 형태와 같이, 본 실시 형태의 경우, 바디(101)는 절연체(111) 및 이에 응집체(S) 형태로 분산된 복수의 자성 입자(112)를 포함한다. 그리고 코팅층(113)이 응집체(S)의 표면을 따라 절연 물질로 형성된다. 절연체(111)의 경우, 에폭시 수지 등과 같은 절연성 수지를 이용할 수 있다. 수지 외에 다른 물질을 이용할 수도 있으며 예컨대 절연체(111)는 알루미나, 실리카 등과 같은 세라믹으로 형성될 수도 있다.
자성 입자(112)는 자성을 띠는 도전성 물질, 예컨대, 금속으로 형성될 수 있으며, 이러한 물질로서 Fe계 합금을 예로 들 수 있다. 구체적으로, 자성 입자(112)는 Fe-Si-B-Nb-Cr 조성의 나노결정립계 합금, Fe-Ni계 합금 등으로 형성될 수 있다. 이와 같이 Fe계 합금으로 자성 입자(112)를 구현할 경우 투자율 등의 자기적 특성이 우수하지만 ESD (Electrostatic Discharge)에 취약하기 때문에 자성 입자(112) 사이 또는 자성 입자(112)와 코일부(103) 사이에 적절한 절연 구조가 필요하다. 즉, 자성 입자(112)의 절연성이 저하되는 경우 항복 전압(breakdown voltage) 특성이 저하되어 자성 입자(112) 사이 또는 자성 입자(112)와 코일부(103) 간에 통전 경로가 형성되어 인덕터의 용량 감소 등과 같은 특성의 저하가 일어날 수 있다.
본 실시 형태의 경우, 도 3에 도시된 형태와 같이 자성 입자(112)를 응집체(S)의 형태로 구현하고 이러한 응집체(S)의 표면에 절연성 코팅층(113)을 형성함으로써 자성 입자(112)가 효과적으로 절연될 수 있도록 하였다. 다수 입자가 응집되어 얻어진 응집체(S)는 다공성 구조를 가질 수 있으며, 자성 입자(112)들을 약하게 소결하거나 소량의 바인더 성분을 이용하여 자성 입자(112) 간에 넥킹(necking) 발생을 유도함으로써 형성될 수 있다.
응집체(S)의 표면을 커버하는 절연성 코팅층(113)은 원자층 증착층(Atomic Layer Deposition, ALD)으로 형성되어 자성 입자(112)의 효과적인 절연 구조를 제공한다. 도 4에 도시된 예와 같이 원자층 증착은 반응물의 주기적 공급과 배출 과정 중 표면 화학 반응에 의해 대상 물체(P) 표면에 원자층(A1, A2) 수준으로 매우 균일하게 코팅할 수 있는 공정이며, 이에 의하여 얻어진 원자층 증착층은 두께가 얇으면서도 절연성이 우수하다. 또한, 원자층 증착층은 두께 균일성이 우수하며, 내열성과 열팽창 특성 면에서도 개선된 효과를 갖는다. 원자층 증착 공정을 이용함으로써 응집체(S)의 미세한 공공에 코팅층(113)이 효과적으로 형성될 수 있으며 바디(101) 전체적으로 균일한 절연 특성을 제공할 수 있다. 이 경우, 원자층 증착에 의하여 형성된 코팅층(113)은 세라믹으로 이루어질 수 있으며, 예컨대, 알루미나(Al2O3), 실리카(SiO2) 등으로 이루어질 수 있다. 코팅층(113)의 두께(t)는 약 1um 이하, 더욱 바람직하게는 100nm 이하일 수 있다.
코팅층(113)과 절연체(111)는 서로 다른 물질로 이루어질 수 있는데, 이러한 예로서 상술한 바와 같이 절연체(111)가 절연성 수지로 이루어지고, 코팅층(113)은 세라믹으로 이루어진 경우를 들 수 있다. 또한, 절연체(111)와 코팅층(113)은 서로 다른 세라믹 물질로 이루어질 수도 있으며, 이 경우, 코팅층(113)은 원자층 증착 공정으로, 절연체(111)는 원자층 증착 공정과 이 외에도 화학 기상 증착 등과 같은 다른 공정을 이용하여 형성될 수 있을 것이다. 절연체(111)와 코팅층(113)이 모두 세라믹으로 형성되는 경우 자성 물질의 증가로 인하여 바디(101)의 자기적 특성이 향상될 수 있다.
한편, 도 5의 변형 예와 같이, 절연체와 코팅층은 서로 동일한 물질로서 일체 구조로 형성될 수 있으며, 일체 구조인바 이들을 모두 코팅층(113`)으로 칭할 수 있을 것이다. 일체 구조의 절연체 및 코팅층(113`)은 알루미나 등과 같은 세라믹 물질로 형성될 수 있다. 이 경우, 절연체와 코팅층(113`)은 동일한 공정으로 형성될 수 있지만, 서로 다른 공정에 의해 얻어질 수도 있다. 코팅층(113)은 원자층 증착 공정으로, 절연체(111)는 원자층 증착 공정과 이 외에도 화상 기상 증착 등과 같은 다른 공정을 이용하여 형성될 수 있을 것이다. 구체적으로, 응집체(S)의 표면을 코팅하는 코팅층은 원자층 증착 공정으로, 이를 커버하는 절연체 영역은 상대적으로 부피가 큰 것을 고려하여 화학 기상 증착 등과 같은 공정을 이용하여 형성될 수 있을 것이다
본 발명은 상술한 실시형태 및 첨부된 도면에 의해 한정되는 것이 아니며, 첨부된 청구범위에 의해 한정하고자 한다. 따라서, 청구범위에 기재된 본 발명의 기술적 사상을 벗어나지 않는 범위 내에서 당 기술분야의 통상의 지식을 가진 자에 의해 다양한 형태의 치환, 변형 및 변경이 가능할 것이며, 이 또한 본 발명의 범위에 속한다고 할 것이다.
1: 파워 인덕터
2: 고주파 인덕터
3: 통상의 비드
4: 고주파용 비드
5: 공통 모드 필터
100: 코일 전자 부품
101: 바디
102: 지지부재
103: 코일부
104: 절연층
105, 106: 외부전극
111: 절연체
112: 자성 입자
113, 113`: 코팅층
S: 응집체
P: 대상 물체
A1, A2: 원자층

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  1. 삭제
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  8. 코일부가 내설되며 절연체 및 상기 절연체에 응집체의 형태로 분산된 복수의 자성 입자를 갖는 바디;
    상기 응집체의 표면을 따라 절연 물질로 형성된 코팅층; 및
    상기 코일부와 접속된 외부 전극;을 포함하며,
    상기 절연체와 상기 코팅층은 서로 다른 세라믹 물질로 이루어진 코일 전자 부품.
  9. 코일부가 내설되며 절연체 및 상기 절연체에 응집체의 형태로 분산된 복수의 자성 입자를 갖는 바디;
    상기 응집체의 표면을 따라 절연 물질로 형성된 코팅층; 및
    상기 코일부와 접속된 외부 전극;을 포함하며,
    상기 절연체와 상기 코팅층은 서로 동일한 물질로서 일체 구조로 형성된 코일 전자 부품.
  10. 제9항에 있어서,
    상기 절연체와 상기 코팅층은 알루미나로 이루어진 코일 전자 부품.
  11. 삭제
  12. 삭제
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Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102021202630A1 (de) * 2021-03-18 2022-09-22 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung eingetragener Verein Vorrichtung mit einem porösen Körper zum Aufnehmen einer Wärmemenge und Verfahren zum Bereitstellen einer Vorrichtung

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007149757A (ja) * 2005-11-24 2007-06-14 Tdk Corp 複合電子部品及びその製造方法

Family Cites Families (58)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3541934A (en) * 1968-06-20 1970-11-24 Ind Asphalt Inc Shoulder building apparatus
US6372338B1 (en) * 1997-12-12 2002-04-16 Eastman Kodak Company Spherical magnetic particles for magnetic recording media
JP3617426B2 (ja) * 1999-09-16 2005-02-02 株式会社村田製作所 インダクタ及びその製造方法
JP2001338813A (ja) * 2000-05-29 2001-12-07 Tdk Corp 電子部品
JP2001313208A (ja) * 2000-04-27 2001-11-09 Tdk Corp 複合磁性材料とこれを用いた磁性成形材料、圧粉磁性粉末成形材料、磁性塗料、プリプレグおよび磁性基板
US6849186B2 (en) * 2001-05-02 2005-02-01 Phillips Plastic Corporation Composite particles
KR20040097676A (ko) * 2003-05-12 2004-11-18 대한민국(공주대학교총장) 원자층 증착법을 이용한 전이금속-유기라디칼 분자자석박막제조 및 그로부터 제조된 분자자석 박막.
JP2005079511A (ja) * 2003-09-03 2005-03-24 Sumitomo Electric Ind Ltd 軟磁性材料およびその製造方法
JP2004173308A (ja) * 2004-01-30 2004-06-17 Tdk Corp アンテナ
JP4613622B2 (ja) 2005-01-20 2011-01-19 住友電気工業株式会社 軟磁性材料および圧粉磁心
US8273407B2 (en) * 2006-01-30 2012-09-25 Bergendahl Albert S Systems and methods for forming magnetic nanocomposite materials
JP4917355B2 (ja) 2006-05-30 2012-04-18 住友電気工業株式会社 圧粉磁心
JP4585493B2 (ja) * 2006-08-07 2010-11-24 株式会社東芝 絶縁性磁性材料の製造方法
DE112008000368T5 (de) 2007-02-12 2009-12-24 Lotus Applied Technology, LLC, Beaverton Herstellung von Verbundmaterialien unter Verwendung von Atomschichtabscheidung
WO2009028486A1 (ja) * 2007-08-30 2009-03-05 Sumitomo Electric Industries, Ltd. 軟磁性材料、圧粉磁心、軟磁性材料の製造方法および圧粉磁心の製造方法
JP5227756B2 (ja) * 2008-01-31 2013-07-03 本田技研工業株式会社 軟磁性材料の製造方法
DE112009000919T5 (de) * 2008-04-15 2011-03-03 Toho Zinc Co., Ltd Verfahren zum Herstellen eines magnetischen Verbundmaterials und magnetisches Verbundmaterial
EP2277181B1 (en) * 2008-04-16 2017-08-30 StemCell Technologies Inc. Magnetic particles
JP5368281B2 (ja) * 2009-03-27 2013-12-18 株式会社東芝 コアシェル型磁性材料、コアシェル型磁性材料の製造方法、デバイス装置、およびアンテナ装置
JP5229095B2 (ja) 2009-05-07 2013-07-03 株式会社村田製作所 電子部品及びその製造方法
JP5650928B2 (ja) * 2009-06-30 2015-01-07 住友電気工業株式会社 軟磁性材料、成形体、圧粉磁心、電磁部品、軟磁性材料の製造方法および圧粉磁心の製造方法
JP2012077316A (ja) * 2010-09-30 2012-04-19 Sumitomo Osaka Cement Co Ltd 磁性金属粒子の製造方法および複合磁性材料の製造方法
JP5728987B2 (ja) * 2010-09-30 2015-06-03 Tdk株式会社 圧粉磁心
JP5927641B2 (ja) * 2010-12-13 2016-06-01 アルプス・グリーンデバイス株式会社 インダクタンス素子
US8362866B2 (en) * 2011-01-20 2013-01-29 Taiyo Yuden Co., Ltd. Coil component
JP4906972B1 (ja) * 2011-04-27 2012-03-28 太陽誘電株式会社 磁性材料およびそれを用いたコイル部品
JP2012238841A (ja) 2011-04-27 2012-12-06 Taiyo Yuden Co Ltd 磁性材料及びコイル部品
JP5032711B1 (ja) * 2011-07-05 2012-09-26 太陽誘電株式会社 磁性材料およびそれを用いたコイル部品
EP2548841B1 (de) 2011-07-19 2016-01-06 LITRONIK Batterietechnologie GmbH Aktivmaterial für eine Elektrode eines galvanischen Elements
JP5710427B2 (ja) * 2011-08-31 2015-04-30 株式会社東芝 磁性材料、磁性材料の製造方法および磁性材料を用いたインダクタ素子
CN104115242B (zh) * 2012-02-17 2017-05-24 Tdk株式会社 软磁性压粉磁芯
KR20130101849A (ko) 2012-03-06 2013-09-16 삼성전기주식회사 박막형 공통 모드 필터
KR20140003056A (ko) 2012-06-29 2014-01-09 삼성전기주식회사 파워 인덕터 및 그 제조방법
JP2014086624A (ja) * 2012-10-25 2014-05-12 Kyocera Corp 磁性複合材料の製造方法
KR20140061036A (ko) 2012-11-13 2014-05-21 삼성전기주식회사 칩 부품 및 이의 제조방법
JP2014120678A (ja) * 2012-12-18 2014-06-30 Sumitomo Electric Ind Ltd 圧粉成形体、及び圧粉成形体の製造方法
JP2014207288A (ja) * 2013-04-11 2014-10-30 株式会社デンソー 磁心用軟磁性材料、圧粉磁心およびコイル部材
JP2015026812A (ja) 2013-07-29 2015-02-05 サムソン エレクトロ−メカニックス カンパニーリミテッド. チップ電子部品及びその製造方法
JP6352731B2 (ja) * 2013-09-20 2018-07-04 株式会社東芝 磁性金属粒子集合体及び電波吸収体
KR101525698B1 (ko) * 2013-12-05 2015-06-03 삼성전기주식회사 적층형 전자부품 및 그 제조방법
EP3118865B1 (en) * 2014-03-10 2020-04-29 Hitachi Metals, Ltd. Magnetic core, coil component and magnetic core manufacturing method
JP6243298B2 (ja) * 2014-06-13 2017-12-06 株式会社豊田中央研究所 圧粉磁心およびリアクトル
JP6230513B2 (ja) * 2014-09-19 2017-11-15 株式会社東芝 複合磁性材料の製造方法
JP6215163B2 (ja) * 2014-09-19 2017-10-18 株式会社東芝 複合磁性材料の製造方法
JP2016063170A (ja) 2014-09-22 2016-04-25 株式会社東芝 磁性部材、磁性部材の製造方法およびインダクタ素子
DE102014226138A1 (de) * 2014-12-16 2016-06-16 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. Verfahren zum Herstellen einer Vorrichtung mit einer dreidimensionalen magnetischen Struktur
JP6478149B2 (ja) * 2015-01-13 2019-03-06 株式会社オートネットワーク技術研究所 コア部品、コア部品の製造方法、およびリアクトル
JP6075481B2 (ja) * 2015-02-10 2017-02-08 Tdk株式会社 ガラスセラミックス組成物およびコイル電子部品
JP6457838B2 (ja) * 2015-02-27 2019-01-23 太陽誘電株式会社 磁性体及びそれを含む電子部品
US10875095B2 (en) * 2015-03-19 2020-12-29 Murata Manufacturing Co., Ltd. Electronic component comprising magnetic metal powder
KR102118493B1 (ko) 2015-03-19 2020-06-03 삼성전기주식회사 자성 분말, 그 제조방법 및 이를 포함하는 코일 전자부품
JP6502189B2 (ja) * 2015-06-18 2019-04-17 アルプスアルパイン株式会社 インダクタンス素子および電子・電気機器
JP6378156B2 (ja) * 2015-10-14 2018-08-22 トヨタ自動車株式会社 圧粉磁心、圧粉磁心用粉末、および圧粉磁心の製造方法
KR101832564B1 (ko) * 2015-10-27 2018-02-26 삼성전기주식회사 코일 부품
KR101883043B1 (ko) 2016-02-19 2018-07-27 삼성전기주식회사 코일 부품
CN105761880B (zh) 2016-04-20 2017-12-29 华为技术有限公司 一种薄膜电感和电源转换电路
US10622129B2 (en) * 2016-06-30 2020-04-14 Taiyo Yuden Co., Ltd. Magnetic material and electronic component
CN106910602B (zh) 2017-01-24 2019-05-10 华为机器有限公司 一种薄膜电感和电源转换电路

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007149757A (ja) * 2005-11-24 2007-06-14 Tdk Corp 複合電子部品及びその製造方法

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