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KR101977386B1 - Apparatus for etching wafer and method for using the same - Google Patents

Apparatus for etching wafer and method for using the same Download PDF

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KR101977386B1
KR101977386B1 KR1020170083475A KR20170083475A KR101977386B1 KR 101977386 B1 KR101977386 B1 KR 101977386B1 KR 1020170083475 A KR1020170083475 A KR 1020170083475A KR 20170083475 A KR20170083475 A KR 20170083475A KR 101977386 B1 KR101977386 B1 KR 101977386B1
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윤병문
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무진전자 주식회사
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Abstract

본 개시는 웨이퍼를 습식 식각하는 웨이퍼 식각 장치에 있어서, 웨이퍼에 빛을 비추는 적어도 하나 이상의 광원; 웨이퍼 하부에 구비되며, 적어도 하나 이상의 광원이 구비된 판; 판 위에 구비되며, 판을 내부공간으로 분할하는 벽;그리고, 웨이퍼를 지지하는 지지대;를 포함하며, 적어도 하나 이상의 광원은 세기가 조절될 수 있는 웨이퍼 식각 장치에 관한 것이다.The present disclosure relates to a wafer etching apparatus for wet etching a wafer, comprising: at least one light source for illuminating a wafer; A plate provided under the wafer and having at least one light source; A wall provided on the plate, the wall dividing the plate into an internal space, and a support for supporting the wafer, wherein at least one light source is adjustable in intensity.

Description

웨이퍼 식각 장치 및 이를 사용하는 방법{APPARATUS FOR ETCHING WAFER AND METHOD FOR USING THE SAME}BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention [0001] The present invention relates to a wafer etching apparatus,

본 개시(Disclosure)는 전체적으로 웨이퍼 식각 장치 및 방법에 관한 것으로, 특히 효율적으로 웨이퍼를 식각하는 웨이퍼 식각 장치 및 방법에 관한 것이다.Disclosure relates generally to a wafer etch apparatus and method, and more particularly to a wafer etch apparatus and method for efficiently etching a wafer.

여기서는, 본 개시에 관한 배경기술이 제공되며, 이들이 반드시 공지기술을 의미하는 것은 아니다(This section provides background information related to the present disclosure which is not necessarily prior art).Herein, the background art relating to the present disclosure is provided, and these are not necessarily meant to be known arts.

도 1은 일본 공개특허공보 제2015-503240호에 제시된 매엽식 웨이퍼 에칭 장치의 일 예를 나타내는 도면이다.1 is a view showing an example of a single wafer type wafer etching apparatus disclosed in Japanese Laid-Open Patent Publication No. 2015-503240.

웨이퍼(1)가 태워지는 회전판(11)과, 회전판(11)을 회전시키는 구동부(20)와 회전판(11)에 실을 수 있는 웨이퍼(1)의 표면에 에칭액을 분사하는 분사 수단(13)과, 회전판(110)을 가열하는 가열 수단(14)과, 회전판(11)을 진동시키는 진동자(15)를 포함한다. 회전판(11)은 원판형이며, 웨이퍼(1)를 진공흡착하기 쉬울 뿐만 아니라 웨이퍼(1) 위에 떨어뜨려진 에칭액이 비산하기 쉬워 회전판(11)의 직경은 웨이퍼(1)의 직경보다 작게 구성된다.A driving unit 20 for rotating the rotating plate 11 and a jetting unit 13 for jetting an etching liquid onto the surface of the wafer 1 which can be loaded on the rotating plate 11, A heating means 14 for heating the rotating plate 110, and a vibrator 15 for vibrating the rotating plate 11. The rotating plate 11 is of a disc shape and is easy to vacuum adsorb the wafer 1 and is easy to scatter the etching solution dropped on the wafer 1 so that the diameter of the rotating plate 11 is smaller than the diameter of the wafer 1 .

분사 수단(13)은 분사노즐(31), 이동 기구(32), 에칭액제공부(33) 및, 가이드(34a, 34b)를 포함한다.The jetting means 13 includes an injection nozzle 31, a moving mechanism 32, an etchant supply unit 33, and guides 34a and 34b.

구동부(20)는 회전판(11)의 하면 중심으로 연결한 회전축(21)과 회전축(21)에 동력을 제공하는 모터(22), 회전축(21), 및 모터(22) 사이에 동력을 전달하는 풀리 및 벨트(23) 등을 포함한다.The driving unit 20 is configured to transmit power between the rotating shaft 21 connected to the lower center of the rotating plate 11 and the motor 22 for providing power to the rotating shaft 21, A pulley and a belt 23, and the like.

가열 수단(14)은 열전달 효율이 높은 전도 방식으로 웨이퍼(1)를 가열하고, 웨이퍼(1)의 영역별에 다른 온도로 가열하여, 웨이퍼(1)가 균일한 온도가 되도록 하고, 열공급기판(14a, 14b, 14c, 14d, 14e), 전선(15a, 15b, 15c, 15d, 15e) 및 전원공급부(15)를 포함한다.The heating means 14 heats the wafer 1 in a conduction manner with a high heat transfer efficiency and heats the wafer 1 to a different temperature for each region of the wafer 1 so that the wafer 1 has a uniform temperature, 14a, 14b, 14c, 14d, 14e, wires 15a, 15b, 15c, 15d, 15e and a power supply 15.

도 2는 한국 등록특허공보 제10-0604035호에 제시된 반도체 웨이퍼의 화학 기계적 평탄화 방법 및 장치의 일 예를 나타내는 도면이다.2 is a view showing an example of a chemical mechanical planarization method and apparatus of a semiconductor wafer disclosed in Korean Patent Publication No. 10-0604035.

화학 기계적 폴리싱 장치는 웨이퍼(W)를 고정시키기 위한 웨이퍼 캐리어(45)를 포함한다. 모터(47)는 캐리어(45)를 회전시키기 위하여 사용된다. 폴리싱 패드(35)를 지지하는 폴리싱 플래튼(30)은 모터(37)에 의해 회전될 수 있다. 폴리싱 슬러리는 도관(40)을 통하여 폴리싱 패드(35)에 제공된다. 웨이퍼(W)는 일정한 압력으로 폴리싱 패드(35) 쪽으로 눌려진다.The chemical mechanical polishing apparatus includes a wafer carrier 45 for holding a wafer W thereon. The motor 47 is used to rotate the carrier 45. The polishing platen 30 supporting the polishing pad 35 can be rotated by the motor 37. [ The polishing slurry is provided to the polishing pad 35 through the conduit 40. The wafer W is pressed toward the polishing pad 35 at a constant pressure.

일단 가열 테이프(48, 49)가 활성화되면, 열은 웨이퍼 캐리어(45)를 통하여 전도되고 차별적인 가열이 웨이퍼(W)에서 발생될 것이다. 그래서, 예를 들어 웨이퍼(W)의 부분(40a)은 가열 테이프(49)에 의해 영향을 받을 인접 부분(40b) 보다 더 차가울 것이다. 유사하게, 웨이퍼(W)의 부분(40b)은 가열 엘리먼트(48, 49) 어느 쪽에 의해 실질적으로 영향을 받지 않는 인접한 부분(40c)과 비교하여 비교적 따뜻할 것이다. 가열 테이프(48)의 효과로 인해, 부분(40d)은 부분(40c 또는 40e)의 어느 쪽 보다 비교적 높은 온도에서 유지될 것이다.Once the heating tapes 48, 49 are activated, the heat will be conducted through the wafer carrier 45 and differential heating will be generated in the wafer W. Thus, for example, the portion 40a of the wafer W will be colder than the adjacent portion 40b that will be affected by the heating tape 49. [ Similarly, portion 40b of wafer W will be relatively warm compared to adjacent portion 40c, which is substantially unaffected by either heating element 48, Due to the effect of the heating tape 48, the portion 40d will be maintained at a relatively higher temperature than either portion 40c or 40e.

일반적으로 도 2의 공정을 화학 기계적 평탄화(CMP:Chemical Mechanical Planarization)공정이라고 한다. 이 방법은 웨이퍼(W)를 고르게 마찰시켜 웨이퍼(W)의 두께를 전체적으로 평탄하게 하는 방법이다. 그러나, 웨이퍼(W)가 비대칭적으로 두께가 고르지 않을 경우에는 화학 기계적 평탄화 공정 이후에도 평탄도 개선에는 한계가 있다.In general, the process of FIG. 2 is referred to as a chemical mechanical planarization (CMP) process. This method is a method in which the thickness of the wafer W is made generally flat by rubbing the wafer W uniformly. However, when the wafer W is asymmetrically uneven in thickness, there is a limit to improvement in flatness even after the chemical mechanical planarization process.

도 1과 도 2의 발명에서는 웨이퍼(W)가 회전하면서 식각 및 연마되는데, 웨이퍼(W)가 비대칭적으로 두께가 다를 때에 도 1과 도 2의 방법을 사용하면, 두께가 얇은 부분도 식각 및 연마 되기 때문에 웨이퍼(W) 두께가 두꺼운 부분만을 선택적으로 더 식각할 수 없다. 따라서, 초점심도(DOF:Depth of focus) 차이를 감소시켜 미세 패턴 형성에 문제점을 유발시키고, 패턴 마스크 로스 차이 유발, 및 폴리머 발생량 차이를 유발하는 문제점이 있다.In the invention of FIGS. 1 and 2, the wafer W is etched and polished while being rotated. When the method of FIGS. 1 and 2 is used when the wafer W is asymmetrically different in thickness, It is not possible to selectively etch only the thicker portion of the wafer W because it is polished. Accordingly, there is a problem that the difference in depth of focus (DOF) is reduced to cause problems in the formation of fine patterns, induce pattern mask loss difference, and cause a difference in amount of generated polymer.

본 개시는 웨이퍼의 두께에 따라서 두께가 두꺼운 부분과 얇은 부분을 각각 다른 온도로 가열하여 웨이퍼의 두께를 평탄하게 하는 웨이퍼 식각 장치를 제공하고자 한다.The present disclosure intends to provide a wafer etching apparatus for heating a thick portion and a thin portion at different temperatures according to the thickness of a wafer to flatten the thickness of the wafer.

이에 대하여 '발명의 실시를 위한 구체적인 내용'의 후단에 기술한다.This will be described later in the Specification for Implementation of the Invention.

여기서는, 본 개시의 전체적인 요약(Summary)이 제공되며, 이것이 본 개시의 외연을 제한하는 것으로 이해되어서는 아니된다(This section provides a general summary of the disclosure and is not a comprehensive disclosure of its full scope or all of its features).SUMMARY OF THE INVENTION Herein, a general summary of the present disclosure is provided, which should not be construed as limiting the scope of the present disclosure. of its features).

본 개시에 따른 일 태양에 의하면(According to one aspect of the present disclosure), 본 개시에 따른 일 태양에 의하면(According to one aspect of the present disclosure), 웨이퍼를 습식 식각하는 웨이퍼 식각 장치에 있어서, 웨이퍼에 빛을 비추는 적어도 하나 이상의 광원; 웨이퍼 하부에 구비되며, 적어도 하나 이상의 광원이 구비된 판; 판 위에 구비되며, 판을 내부공간으로 분할하는 벽;그리고, 웨이퍼를 지지하는 지지대;를 포함하며,적어도 하나 이상의 광원은 세기가 조절될 수 있는 웨이퍼 식각 장치가 제공된다.According to one aspect of the present disclosure, in a wafer etch apparatus for wet etching a wafer according to one aspect of the disclosure, At least one light source for illuminating the light source; A plate provided under the wafer and having at least one light source; A wafer etch device is provided that is provided on a plate, includes a wall dividing the plate into an inner space, and a support for supporting the wafer, wherein at least one of the light sources is adjustable in intensity.

이에 대하여 '발명의 실시를 위한 구체적인 내용'의 후단에 기술한다.This will be described later in the Specification for Implementation of the Invention.

도 1은 일본 공개특허공보 제2015-503240호에 제시된 매엽식 웨이퍼 에칭 장치의 일 예를 나타내는 도면,
도 2는 한국 등록특허공보 제10-0604035호에 제시된 반도체 웨이퍼의 화학 기계적 평탄화 방법 및 장치의 일 예를 나타내는 도면,
도 3은 본 개시에 따른 웨이퍼 식각 장치의 일 예를 나타내는 도면,
도 4는 본 개시에 따른 웨이퍼 식각 장치의 다른 예를 나타내는 도면,
도 5는 본 개시에 따른 웨이퍼 식각 장치의 또 다른 예를 나타내는 도면,
도 6은 본 개시에 따른 웨이퍼 식각 장치를 사용하는 방법을 나타내는 순서도,
도 7 내지 도 8은 본 개시에 따른 웨이퍼 식각 장치를 사용하는 방법의 일 예를 나타내는 도면.1 is a view showing an example of a single wafer type etching apparatus disclosed in Japanese Laid-Open Patent Publication No. 2015-503240,
2 is a view showing an example of a chemical mechanical planarization method and apparatus of a semiconductor wafer disclosed in Korean Patent Publication No. 10-0604035,
3 is a view showing an example of a wafer etching apparatus according to the present disclosure,
4 is a view showing another example of the wafer etching apparatus according to the present disclosure,
5 is a view showing another example of the wafer etching apparatus according to the present disclosure,
6 is a flow diagram illustrating a method of using a wafer etch apparatus in accordance with the present disclosure;
Figures 7 to 8 illustrate an example of a method of using a wafer etch device in accordance with the present disclosure;

이하, 본 개시를 첨부된 도면을 참고로 하여 자세하게 설명한다(The present disclosure will now be described in detail with reference to the accompanying drawing(s)). The present disclosure will now be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 3은 본 개시에 따른 웨이퍼 식각 장치의 일 예를 나타내는 도면이다.3 is a view showing an example of a wafer etching apparatus according to the present disclosure.

웨이퍼(W)를 습식 식각하는 웨이퍼 식각 장치(100)에 있어서, 웨이퍼 식각 장치(100)는 적어도 하나 이상의 광원(110), 판(120), 벽(130) 및 지지대(140)를 포함한다. 적어도 하나 이상의 광원(110)은 웨이퍼(W)에 빛을 비춘다. 판(120)은 웨이퍼(W) 하부에 구비되며, 적어도 하나 이상의 광원(110)이 구비된다. 적어도 하나 이상의 광원(110)은 직진성이 뛰어난 것이 바람직하다. 예를 들면, 램프, LED(light emitting diode), LD(laser diode:레이저 다이오드) 등 일 수 있다. 또한, 광원(110)은 광원(110)으로부터 나가는 빛의 세기가 여러 단계로 조절될 수 있다. 또한, 광원(110)은 적외선 파장으로 빛이 나갈 수 있다.In the wafer etching apparatus 100 for wet etching the wafer W, the wafer etching apparatus 100 includes at least one light source 110, a plate 120, a wall 130 and a support 140. At least one light source (110) illuminates the wafer (W). The plate 120 is provided under the wafer W, and at least one light source 110 is provided. At least one light source 110 preferably has excellent linearity. For example, a lamp, a light emitting diode (LED), a laser diode (LD), or the like. In addition, the intensity of light emitted from the light source 110 can be adjusted in several steps. In addition, the light source 110 may emit light at an infrared wavelength.

판(120)의 크기는 웨이퍼(W) 크기와 같거나 웨이퍼(W) 크기보다 큰 것이 바람직하다. 판(120)은 웨이퍼(W)와 평행하게 구비되는 것이 바람직하다. 웨이퍼(W)와 평행해야 판(120)의 적어도 하나 이상의 광원(110)으로부터 나간 빛이 웨이퍼(W)에 일정한 시간에 입사될 수 있다. 벽(130)은 판(120) 위에 구비되며, 벽(130)은 판(120)을 격자형식으로 분할한다. 이때, 벽(130)은 내부공간(170)으로 나눠진다. 내부공간(170)은 벽(130)과 판(120)으로 둘러싸인다. 내부공간(170)은 복수개 구비될 수 있다. 내부공간(170) 내부에 각각 적어도 하나 이상의 광원(110)이 들어갈 수 있도록 한다. 내부공간(170)의 크기가 작을수록 세분화하여 웨이퍼(W)를 차등하게 부분 가열하여 웨이퍼(W)의 두께가 평평해지도록 조정할 수 있다. 벽(130)은 일 예로 단열재질로 형성될 수 있다. 단열재질의 예로는 피크, 테프론 등 100℃ 이내에서 단열특성을 보이는 재료를 포함할 수 있다.The size of the plate 120 is preferably equal to or larger than the size of the wafer W. [ The plate 120 is preferably provided in parallel with the wafer W. [ The light emitted from the at least one light source 110 of the plate 120 may be incident on the wafer W for a predetermined period of time. The wall 130 is provided on the plate 120, and the wall 130 divides the plate 120 in a lattice form. At this time, the wall 130 is divided into the inner space 170. The inner space 170 is surrounded by the wall 130 and the plate 120. A plurality of internal spaces 170 may be provided. At least one light source 110 can be inserted into the inner space 170, respectively. As the size of the internal space 170 becomes smaller, the size of the wafer W becomes finer The thickness of the wafer W can be adjusted to be flat by partial heating. The wall 130 may be formed, for example, as a heat insulating material. Examples of the heat insulating material include a material having an adiabatic characteristic within 100 占 폚 such as a peak, Teflon, and the like.

적어도 하나 이상의 광원(110)에서 나오는 빛으로 인해 웨이퍼(W)만 가열되고 벽(130)은 가열되지 않는 것이 바람직하다. 벽(130)이 가열되면 열이 벽(130)으로 전달되어 벽(130) 위의 웨이퍼(W)가 가열되어 사용자가 가열되기 원하지 않는 웨이퍼(W)의 두께가 얇은 곳이 가열될 수 있기 때문이다. 지지대(140)는 웨이퍼(W)를 지지하고, 웨이퍼(W)가 움직이지 않도록 고정한다. 지지대(140)는 일 예로 웨이퍼 척일 수 있다. 판(120)의 위치는 지지대(140)와 웨이퍼(W) 사이, 지지대(140)의 하부, 지지대(140)와 일체인 것일 수 있다. 도 3의 판(120)은 지지대(140)와 웨이퍼(W) 사이에 구비되는 것을 나타낸다. 또한, 도시되지 않았지만, 판(120)이 지지대(140)와 일체인 것 일 수 있고, 지지대(140)가 벽(130)을 형성하고, 광원(110)이 지지대(140)에 구비될 수 있다.It is preferable that only the wafer W is heated and the wall 130 is not heated due to light emitted from at least one light source 110. [ When the wall 130 is heated, the heat is transferred to the wall 130 so that the wafer W on the wall 130 is heated so that a thinner portion of the wafer W that is not desired to be heated by the user can be heated to be. The support table 140 supports the wafer W and fixes the wafer W so as not to move. The support 140 may be a wafer chuck, for example. The position of the plate 120 may be one between the support 140 and the wafer W, the lower part of the support 140, and the support 140. The plate 120 shown in FIG. 3 is provided between the support table 140 and the wafer W. FIG. Also, though not shown, the plate 120 may be integral with the support 140, the support 140 may form the wall 130, and the light source 110 may be provided on the support 140 .

도 3(b)는 웨이퍼(W), 판(120), 벽(130) 및 광원(110)을 위에서 내려다본 도면이다. 웨이퍼(W)와 내부공간(170)간의 위치를 설명하기 위해서 웨이퍼(W)를 점선으로 표시하였다. 웨이퍼(W)의 크기는 판(120)의 크기와 같거나 판(120)의 크기보다 웨이퍼(W)가 작게 형성될 수 있다. 3 (b) is a plan view of the wafer W, the plate 120, the wall 130, and the light source 110 from above. In order to explain the position between the wafer W and the inner space 170, the wafer W is indicated by a dotted line. The size of the wafer W may be the same as the size of the plate 120 or the wafer W may be formed smaller than the size of the plate 120. [

내부공간(170) 내부에는 광원(110)이 구비되어 웨이퍼(W)에 빛을 비추는데, 웨이퍼(W)에 비춰지는 빛의 면적은 내부공간(170) 크기만큼이다. 이것은 웨이퍼(W)를 나누어 가열하기 위한 것이다. 예를 들면, 내부공간(170)는 제1 내부공간(171), 제2 내부공간(172)을 포함한다. 제1 내부공간(171)에 대응되는 웨이퍼(W)가 사용자가 원하는 두께보다 두꺼운 경우, 웨이퍼(W) 두께에 따라서 제1 내부공간(171)에서 나오는 제1 광원(111)의 세기가 조절된다. 이때에는 사용자가 원하는 두께보다 두껍기 때문에 광원(111)이 켜져서(ON) 제1 내부공간(171)에 대응되는 웨이퍼(W)가 가열되도록 하는 것이 바람직하다. 제2 내부공간(172)에 대응되는 웨이퍼(W)가 사용자가 원하는 두께인 경우, 웨이퍼(W) 두께에 따라서 제2 내부공간에서 나오는 제2 광원(112)의 세기가 조절된다. 이때에는 사용자가 원하는 두께이기 때문에 더 가열할 필요가 없으므로, 제2 광원(112)은 꺼짐(OFF) 상태인 것이 바람직할 것이다.A light source 110 is provided inside the inner space 170 to illuminate the wafer W. The area of the light reflected by the wafer W is the same as that of the inner space 170. [ This is for heating the wafer W separately. For example, the inner space 170 includes a first inner space 171 and a second inner space 172. The intensity of the first light source 111 emitted from the first inner space 171 is adjusted according to the thickness of the wafer W when the wafer W corresponding to the first inner space 171 is thicker than the thickness desired by the user . At this time, it is preferable that the light source 111 is turned ON so that the wafer W corresponding to the first internal space 171 is heated because it is thicker than the thickness desired by the user. The intensity of the second light source 112 emitted from the second inner space is adjusted according to the thickness of the wafer W when the wafer W corresponding to the second inner space 172 is the thickness desired by the user. At this time, it is preferable that the second light source 112 is in the OFF state since it is not necessary to further heat the thickness because the thickness is desired by the user.

본 예에서 내부공간(170)은 사각형이다. 그러나 내부공간(170)은 사각형에 한정되지 않는다.In this example, the inner space 170 is rectangular. However, the inner space 170 is not limited to a square.

도 4는 본 개시에 따른 웨이퍼 식각 장치의 다른 예를 나타내는 도면이다.4 is a view showing another example of the wafer etching apparatus according to the present disclosure.

지지대(140) 하부에 판(120)이 구비된다. 이때의 지지대(140)는 빛이 투광하도록 형성된다. 지지대(140)는 광원(110)에서 나온 빛이 투광하는 투광재료로 형성되며, 빛이 퍼지지 않고 직진할 수 있는 재료인 것이 바람직하다. A plate 120 is provided under the support platform 140. At this time, the support 140 is formed so that light is emitted. It is preferable that the support member 140 is made of a light-transmissive material that transmits light emitted from the light source 110, and can be straightened without spreading light.

도 5는 본 개시에 따른 웨이퍼 식각 장치의 또 다른 예를 나타내는 도면이다.5 is a view showing another example of the wafer etching apparatus according to the present disclosure.

벽(130) 위에 투광판(150)이 구비된다. 빛이 퍼지지 않고 직진할 수 있는 재료인 것이 바람직하다. 투광판(150)으로 인해 내부공간(170)이 밀봉되어 외부의 수분, 먼지 등으로부터 적어도 하나 이상의 광원(110)과 벽(130)이 보호될 수 있다. A translucent plate 150 is provided on the wall 130. It is preferable that the material is a material that can go straight without spreading light. The inner space 170 may be sealed by the translucent plate 150 so that at least one of the light sources 110 and the wall 130 may be protected from external moisture, dust, and the like.

도 6은 본 개시에 따른 웨이퍼 식각 장치를 사용하는 방법을 나타내는 순서도이다.6 is a flow chart illustrating a method of using a wafer etch apparatus in accordance with the present disclosure.

웨이퍼 식각 장치를 사용하는 방법에 있어서, 먼저, 웨이퍼(W)를 준비한다(S1). 이후, 웨이퍼(W) 두께를 측정한다(S2). 이후, 웨이퍼(W)에 식각액을 도포한다(S3). 이후, 웨이퍼(W)의 두께에 따라 웨이퍼 하부에 광원의 세기가 조절된다(S4).In the method of using the wafer etching apparatus, first, a wafer W is prepared (S1). Then, the thickness of the wafer W is measured (S2). Thereafter, the etching solution is applied to the wafer W (S3). Then, the intensity of the light source is adjusted to the lower portion of the wafer according to the thickness of the wafer W (S4).

도 7 내지 도 8은 본 개시에 따른 웨이퍼 식각 장치를 사용하는 방법의 일 예를 나타내는 도면이다.7 to 8 are views showing an example of a method of using the wafer etching apparatus according to the present disclosure.

웨이퍼 식각 장치(100)를 사용하는 방법에 있어서, 먼저, 도 7(a)와 같이 웨이퍼(W)를 준비한다. 웨이퍼(W)는 화학 기계적 평탄화 공정을 거치지 않은 웨이퍼(W)일 수 있다. 비대칭적으로 일정하지 않은 두께(160)를 가지는 웨이퍼(W)가 구비되는 것이 바람직하다.In the method using the wafer etching apparatus 100, first, a wafer W is prepared as shown in Fig. 7 (a). The wafer W may be a wafer W not subjected to a chemical mechanical planarization process. It is preferable that a wafer W having asymmetrically unequal thickness 160 is provided.

이후, 도 7(b)와 같이 웨이퍼(W) 두께를 측정한다. 웨이퍼(W)의 위치에 따른 웨이퍼(W)의 두께(d)를 측정한다. 웨이퍼(W)의 두께(d)는 각각 다르게 형성될 수 있다. 웨이퍼(W) 하부에는 도 8(b)와 같이 벽(130)이 구비된다. 벽(130)은 판(120)을 복수의 내부공간(170)으로 나누며, 복수의 내부공간(170)의 위치는 웨이퍼(W) 위치별 두께와 연동된다. Thereafter, the thickness of the wafer W is measured as shown in FIG. 7 (b). The thickness d of the wafer W corresponding to the position of the wafer W is measured. The thicknesses d of the wafers W may be formed differently. A wall 130 is provided under the wafer W as shown in FIG. 8 (b). The wall 130 divides the plate 120 into a plurality of inner spaces 170 and positions of the plurality of inner spaces 170 are interlocked with thicknesses of the wafers W. [

복수의 내부공간(170)에는 적어도 하나의 광원(110)이 구비된다. 내부공간(170)의 크기가 작을수록 미세하게 웨이퍼(W)를 가열할 수 있기 때문에 내부공간(170)의 크기는 작은 것이 바람직하다. At least one light source 110 is provided in the plurality of inner spaces 170. It is preferable that the size of the internal space 170 is small because the wafer W can be finely heated as the size of the internal space 170 is small.

예를 들면, 웨이퍼(W)의 두께(d) 중 사용자가 원하는 두께(d3)보다 두꺼운 제1 두께(d1) 부분, 제1 두께(d1)보다 얇은 제2 두께(d2) 부분이 웨이퍼(W) 상에 비대칭적으로 형성될 수 있다. 이를 웨이퍼(W) 전체를 사용자가 원하는 두께(d3)로 평탄하게 만들기 위해 제1 두께(d1) 부분을 가장 세게 가열하고, 제2 두께(d2) 부분을 제1 두께(d1) 부분보다 약하게 가열할 수 있다. 이때, 사용자가 원하는 두께(d3) 부분에는 가열하지 않는다. For example, the first thickness d1 portion of the thickness d of the wafer W that is thicker than the thickness d3 desired by the user and the second thickness d2 portion that is thinner than the first thickness d1 are formed on the wafer W As shown in FIG. The first thickness d1 portion is heated to the highest degree and the second thickness d2 portion is heated to be lower than the first thickness d1 portion in order to flatten the entire wafer W to a thickness d3 desired by the user can do. At this time, the portion of thickness d3 desired by the user is not heated.

이후, 도 8(a)와 같이 웨이퍼(W)에 식각액(180)을 도포한다. 웨이퍼(W) 위에 식각액(180)이 일정한 양이 도포된다. 식각액(180)은 각각의 같은 크기의 웨이퍼(W)에는 일정한 양이 도포되는 것이 바람직하다. 식각액(180)의 종류나 양에 따라서 웨이퍼(W)가 식각되는 양이 달라질 수 있기 때문이다.Thereafter, the etching solution 180 is applied to the wafer W as shown in Fig. 8 (a). A certain amount of etchant 180 is applied to the wafer W. It is preferable that a certain amount of the etchant 180 is applied to each of the wafers W of the same size. This is because the amount of etching of the wafer W may vary depending on the type and amount of the etching liquid 180.

이후, 도 8(b)와 같이 웨이퍼(W)의 두께에 따라 웨이퍼(W) 하부에 광원(110)의 세기가 조절된다. 예를 들면, 웨이퍼(W)의 두께(d) 중 두꺼운 두께의 부분(d1), 중간 두께의 부분(d2), 두껍지 않은 부분(d3)이 있을 때, 두꺼운 두께와 중각 두께의 부분(d1, d2) 하부에 구비된 광원(110)은 웨이퍼(W)를 가열한다. 이때, 두꺼운 두께의 부분(d1)과 중간 두께의 부분(d2)의 하부에서 켜지는 광원(110)의 세기(화살표의 길이)는 다르고, 두꺼운 두께의 부분(d1)의 광원(110)의 세기가 중간 두께의 부분(d2)보다 더 세다. 그리고, 두껍지 않은 부분(d3)은 식각되지 않아도 되기 때문에 하부의 광원(110)은 켜지지 않는다. 웨이퍼(W) 하부의 적어도 하나 이상의 광원(110)이 웨이퍼(W)의 두꺼운 두께의 부분(d1)을 가열하면 가열된 부분의 웨이퍼(W)와 에칭액이 빠르게 반응하여 가열된 부분이 식각이 빠르게 된다. 이때, 웨이퍼(W)의 두께(d)를 정확하게 파악하여 웨이퍼(W)를 정확하게 가열하는 것이 가능하기 때문에 웨이퍼(W)는 정지하고 있는 것이 바람직하다.8 (b), the intensity of the light source 110 is adjusted under the wafer W according to the thickness of the wafer W. For example, when there is a thick portion d1, a middle thickness portion d2, and a non-thick portion d3 in the thickness d of the wafer W, the portions d1, The light source 110 provided at the lower part heats the wafer W. At this time, the intensity (arrow length) of the light source 110 turned on at the bottom of the thick portion d1 and the middle thickness portion d2 is different, and the intensity of the light source 110 of the thick portion d1 is different Is larger than the intermediate thickness portion d2. Since the non-thick portion d3 does not need to be etched, the lower light source 110 is not turned on. When the at least one light source 110 under the wafer W heats a thick portion d1 of the wafer W, the heated portion of the wafer W and the etchant react quickly, do. At this time, since it is possible to precisely grasp the thickness d of the wafer W and accurately heat the wafer W, it is preferable that the wafer W is stopped.

이하 본 개시의 다양한 실시 형태에 대하여 설명한다.Various embodiments of the present disclosure will be described below.

(1) 웨이퍼를 습식 식각하는 웨이퍼 식각 장치에 있어서, 웨이퍼에 빛을 비추는 적어도 하나 이상의 광원; 웨이퍼 하부에 구비되며, 적어도 하나 이상의 광원이 구비된 판; 판 위에 구비되며, 판을 내부공간으로 분할하는 벽;그리고, 웨이퍼를 지지하는 지지대;를 포함하며, 적어도 하나 이상의 광원은 세기가 조절될 수 있는 웨이퍼 식각 장치.(1) A wafer etching apparatus for wet etching a wafer, comprising: at least one light source for illuminating a wafer; A plate provided under the wafer and having at least one light source; And a support for supporting the wafer, wherein at least one of the light sources is adjustable in intensity.

(2) 벽은 단열재질인 웨이퍼 식각 장치.(2) The wafer etching apparatus in which the wall is an insulating material.

(3) 내부공간은 복수개 구비되는 웨이퍼 식각 장치.(3) A wafer etching apparatus comprising a plurality of internal spaces.

(4) 지지대와 웨이퍼 사이에 판이 구비되는 웨이퍼 식각 장치.(4) A wafer etcher having a plate between the support and the wafer.

(5) 지지대와 판이 일체형인 웨이퍼 식각 장치.(5) A wafer etching apparatus in which the support and the plate are integrated.

(6) 지지대 하부에 판이 구비되는 웨이퍼 식각 장치.(6) A wafer etching apparatus having a plate under the support.

(7) 지지대는 빛이 투광하는 웨이퍼 식각 장치.(7) Wafer etching apparatus in which light is projected on a support.

(8) 웨이퍼 식각 장치를 사용하는 방법에 있어서, 웨이퍼를 준비하는 단계; 웨이퍼 두께를 측정하는 단계; 웨이퍼에 식각액을 도포하는 단계;그리고, 웨이퍼의 두께에 따라 웨이퍼 하부에 광원의 세기가 조절되는 단계;를 포함하는 웨이퍼 식각 장치를 사용하는 방법.(8) A method of using a wafer etching apparatus, comprising: preparing a wafer; Measuring wafer thickness; Applying an etchant to the wafer, and adjusting the intensity of the light source below the wafer according to the thickness of the wafer.

(9) 웨이퍼의 두께에 따라 웨이퍼 하부에 광원의 세기가 조절되는 단계에서, 웨이퍼의 두께가 두꺼운 부분에서 웨이퍼의 두께가 얇은 부분보다 광원의 세기가 강한 웨이퍼 식각 장치를 사용하는 방법.(9) A method of using a wafer etching apparatus in which a light source is stronger than a thinner portion of the wafer in a thicker portion of the wafer in the step of controlling the intensity of the light source under the wafer according to the thickness of the wafer.

(10) 웨이퍼 두께를 측정하는 단계;에서, 웨이퍼의 위치에 따른 두께가 측정되는 웨이퍼 식각 장치를 사용하는 방법.(10) measuring the thickness of the wafer, wherein the thickness of the wafer is measured according to the position of the wafer.

(11) 웨이퍼의 두께에 따라 웨이퍼 하부에 광원의 세기가 조절되는 단계에서, 웨이퍼는 정지한 상태인 웨이퍼 식각 장치를 사용하는 방법.(11) A method of using a wafer etching apparatus wherein the wafer is in a stationary state at a stage where intensity of a light source is adjusted to a lower portion of the wafer according to a thickness of the wafer.

본 개시에 의하면, 효율적으로 웨이퍼의 두께를 평탄화하는 웨이퍼 식각 장치 및 이를 이용한 웨이퍼 식각 장치를 사용하는 방법을 제공한다.According to the present disclosure, there is provided a wafer etching apparatus for efficiently flattening the thickness of a wafer and a method of using the wafer etching apparatus using the same.

또 다른 본 개시에 의하면, 비대칭적인 두께를 가진 웨이퍼를 평탄화하는 웨이퍼 식각 장치 및 이를 이용한 웨이퍼 식각 장치를 사용하는 방법을 제공한다.According to another aspect of the present disclosure, there is provided a wafer etching apparatus for planarizing a wafer having an asymmetric thickness and a method for using the wafer etching apparatus using the same.

W:웨이퍼 100:웨이퍼 식각 장치 110:적어도 하나 이상의 광원
120:판 130:벽 140:지지대 150:투광판 170:내부공간W: wafer 100: wafer etching apparatus 110: at least one light source
120: plate 130: wall 140: support 150: translucent plate 170: inner space

Claims (11)

웨이퍼를 식각액으로 식각하는 웨이퍼 식각 장치에 있어서,
웨이퍼에 빛을 비추는 적어도 하나 이상의 광원;
웨이퍼 하부에 구비되며, 적어도 하나 이상의 광원이 구비된 판;
판 위에 구비되며, 판이 복수의 내부공간을 가지도록 분할하며, 격자를 형성하는 벽;그리고,
웨이퍼를 지지하는 지지대;를 포함하며,
적어도 하나 이상의 광원은 웨이퍼의 두께에 따라서 세기가 조절될 수 있는 웨이퍼 식각 장치.1. A wafer etching apparatus for etching a wafer with an etching solution,
At least one light source for illuminating the wafer;
A plate provided under the wafer and having at least one light source;
A wall provided on the plate, the plate dividing the plate into a plurality of internal spaces, forming a grid,
A support for supporting the wafer,
Wherein the at least one light source is adjustable in intensity according to the thickness of the wafer. 청구항 1에 있어서,
벽은 단열재질인 웨이퍼 식각 장치.The method according to claim 1,
A wafer etching apparatus wherein the wall is an insulating material. 청구항 1에 있어서,
내부공간은 복수개 구비되는 웨이퍼 식각 장치.The method according to claim 1,
Wherein a plurality of internal spaces are provided. 청구항 1에 있어서,
지지대와 웨이퍼 사이에 판이 구비되는 웨이퍼 식각 장치.The method according to claim 1,
A wafer etcher having a plate between a support and a wafer. 청구항 4에 있어서,
지지대와 판이 일체형인 웨이퍼 식각 장치.The method of claim 4,
A wafer etching apparatus in which a support base and a plate are integrated. 청구항 1에 있어서,
지지대 하부에 판이 구비되는 웨이퍼 식각 장치.The method according to claim 1,
A wafer etcher having a plate under the support. 청구항 5에 있어서,
지지대는 빛이 투광하는 웨이퍼 식각 장치.The method of claim 5,
A wafer etch device where the support is illuminated by light. 웨이퍼 식각 장치를 사용하는 방법에 있어서,
웨이퍼를 준비하는 단계;
식각 전 웨이퍼의 두께를 측정하는 단계;
웨이퍼에 식각액을 도포하는 단계;그리고,
웨이퍼의 온도가 불균일하게 가열되도록 웨이퍼의 두께에 따라 웨이퍼 하부에 광원의 세기가 조절되는 단계;로서, 격자구조를 통해 불균일하게 광원의 세기가 조절되는 단계;를 포함하는 웨이퍼 식각 장치를 사용하는 방법.A method of using a wafer etch apparatus,
Preparing a wafer;
Measuring a thickness of the wafer before etching;
Applying an etchant to the wafer,
Adjusting the intensity of the light source under the wafer according to the thickness of the wafer so that the temperature of the wafer is heated non-uniformly, wherein the intensity of the light source is unevenly controlled through the lattice structure; . 청구항 8에 있어서,
웨이퍼의 두께에 따라 웨이퍼 하부에 광원의 세기가 조절되는 단계에서,
웨이퍼의 두께가 두꺼운 부분에서 웨이퍼의 두께가 얇은 부분보다 광원의 세기가 강한 웨이퍼 식각 장치를 사용하는 방법.The method of claim 8,
In the stage where the intensity of the light source is adjusted under the wafer according to the thickness of the wafer,
A method of using a wafer etching apparatus in which the intensity of a light source is higher than a thinner portion of the wafer in a thicker portion of the wafer. 청구항 8에 있어서,
식각 전 웨이퍼 두께를 측정하는 단계;에서,
웨이퍼의 위치에 따른 두께가 측정되는 웨이퍼 식각 장치를 사용하는 방법.The method of claim 8,
Measuring a pre-etch wafer thickness,
Wherein a thickness of the wafer is measured according to the position of the wafer. 청구항 8에 있어서,
웨이퍼의 두께에 따라 웨이퍼 하부에 광원의 세기가 조절되는 단계에서,
웨이퍼는 정지한 상태인 웨이퍼 식각 장치를 사용하는 방법.The method of claim 8,
In the stage where the intensity of the light source is adjusted under the wafer according to the thickness of the wafer,
Wherein the wafer is in a stationary state.
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