KR101955005B1 - 터치 스크린 패널에서 사용하기 위한 층 시스템, 터치 스크린 패널에서 사용하기 위한 층 시스템을 제조하기 위한 방법, 및 터치 스크린 패널 - Google Patents
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Abstract
터치 스크린 패널에서 사용하도록 적응된 층 시스템(100)이 제공된다. 층 시스템(100)은 동일한 구조화 프로세스에서 구조화된 3개 또는 그 초과의 층들을 갖는 적어도 하나의 층 스택을 포함한다. 3개 또는 그 초과의 층들은 알루미늄 또는 알루미늄 합금을 포함하는 금속 층(110), 및 2개 또는 그 초과의 추가적인 층들을 포함한다. 2개 또는 그 초과의 추가적인 층들은 인듐 갈륨 아연 산화물(IGZO) 층 또는 인듐 아연 산화물(IZO) 층; 및 몰리브덴 또는 몰리브덴 합금을 포함하는 제 1 층(120)을 포함한다.
Description
[0001] 본 개시내용의 실시예들은 터치 스크린 패널(touch screen panel)에서 사용하도록 적응된 층 시스템(layer system), 터치 스크린 패널에서 사용하도록 적응된 층 시스템을 제조하기 위한 방법, 및 터치 스크린 패널에 관한 것이다.
[0002] 터치 스크린 패널들은 디스플레이 영역 내에서 터치를 검출하고 위치결정할 수 있는 전자 시각 디스플레이의 특정한 종류이다. 터치 스크린 패널들은, 스크린 디바이스 위에 배치되고 터치를 감지하도록 구성된 층 시스템을 포함할 수 있다. 그러한 층 시스템은 실질적으로 투명할 수 있고, 그에 따라, 스크린에 의해 방출된 가시 스펙트럼에서의 광이 그러한 층 시스템을 통해 투과될 수 있다. 적어도 몇몇 알려진 터치 스크린 패널들은 기판 위에 형성된 구조화된 층들을 갖는 층 시스템을 포함한다. 그러한 터치 스크린 패널의 디스플레이 영역 상의 터치는 층 시스템의 구역에서의 캐패시턴스의 측정가능한 변화를 발생시킬 수 있다. 캐패시턴스에서의 변화는 터치의 위치가 결정될 수 있도록 상이한 기술들을 사용하여 측정될 수 있다.
[0003] 터치 스크린 패널과 함께 사용하기 위한 층 시스템은 몇몇 특정한 요건들에 종속된다. 예로서, 광학 특성들, 예컨대 사용자에 대한 외관(appearance)이 터치 스크린 패널들에 대해 고려되어야 한다. 특히, 예컨대 구조화된 전도체와 같은 층 시스템의 층들의 구조들은 사용자에 대해 가시적(visible)이지 않아야 한다. 고려되어야 하는 추가적인 양상은 디스플레이들의 지속적으로 증가되는 사이즈이고, 여기에서, 위에서 설명된 광학 특성들 이외에, 또한, 전기 특성들에 대한 관심이 증가되고 있다. 특히, 구조화된 전도체의 높은 전도율이 큰 터치 패널 사이즈들에 대해 유익한 것으로 고려된다.
[0004] 상기된 바를 고려하면, 통상적인 구조들과 비교하여 향상된 광학 및 전기 성능을 제공하는, 터치 스크린 패널에서 사용하기 위한 층 시스템에 대한 필요성이 존재한다.
[0005] 상기된 바를 고려하면, 터치 스크린 패널에서 사용하도록 적응된 층 시스템, 터치 스크린 패널에서 사용하도록 적응된 층 시스템을 제조하기 위한 방법, 및 터치 스크린 패널이 제공된다. 본 개시내용의 추가적인 양상들, 이익들, 및 특징들은 청구항들, 설명, 및 첨부 도면들로부터 명백하다.
[0006] 본 개시내용의 양상에 따르면, 터치 스크린 패널에서 사용하도록 적응된 층 시스템이 제공된다. 층 시스템은 동일한 구조화 프로세스에서 구조화된 3개 또는 그 초과의 층들을 갖는 적어도 하나의 층 스택(layer stack)을 포함한다. 3개 또는 그 초과의 층들은 알루미늄 또는 알루미늄 합금을 포함하는 금속 층, 및 2개 또는 그 초과의 추가적인 층들을 포함한다. 2개 또는 그 초과의 추가적인 층들은 인듐 갈륨 아연 산화물(IGZO) 층 또는 인듐 아연 산화물(IZO) 층; 및 몰리브덴 또는 몰리브덴 합금을 포함하는 제 1 층을 포함한다.
[0007] 본 개시내용의 다른 양상에 따르면, 터치 스크린 패널이 제공된다. 터치 스크린 패널은 스크린 디바이스, 특히 액정 디스플레이; 및 본원에서 설명되는 바와 같은 층 시스템을 포함한다. 층 시스템은 동일한 구조화 프로세스에서 구조화된 3개 또는 그 초과의 층들을 갖는 적어도 하나의 층 스택을 포함한다. 3개 또는 그 초과의 층들은 알루미늄 또는 알루미늄 합금을 포함하는 금속 층, 및 2개 또는 그 초과의 추가적인 층들을 포함한다. 2개 또는 그 초과의 추가적인 층들은 인듐 갈륨 아연 산화물(IGZO) 층 또는 인듐 아연 산화물(IZO) 층; 및 몰리브덴 또는 몰리브덴 합금을 포함하는 제 1 층을 포함한다.
[0008] 본 개시내용의 또 다른 양상에 따르면, 터치 스크린 패널에서 사용하도록 적응된 층 시스템을 제조하기 위한 방법이 제공된다. 방법은, 기판 위에 알루미늄 또는 알루미늄 합금을 포함하는 금속 층을 제공하는 단계; 금속 층 위에 제 1 층을 제공하는 단계 ― 제 1 층은 몰리브덴 또는 몰리브덴 합금을 포함함 ―; 제 1 층 위에 인듐 갈륨 아연 산화물(IGZO) 층 또는 인듐 아연 산화물(IZO) 층을 제공하는 단계; 및 금속 층, 제 1 층, 및 IGZO 층 또는 IZO 층을 구조화하는 단계를 포함한다.
[0009] 실시예들은 또한, 개시되는 방법들을 수행하기 위한 장치들에 관한 것이고, 각각의 설명되는 방법 양상을 수행하기 위한 장치 부분들을 포함한다. 그러한 방법 양상들은 하드웨어 컴포넌트들, 적절한 소프트웨어에 의해 프로그래밍된 컴퓨터, 이들 둘의 조합, 또는 임의의 다른 방식에 의해 수행될 수 있다. 게다가, 본 개시내용에 따른 실시예들은 또한, 설명되는 장치를 동작시키기 위한 방법들에 관한 것이다. 이는 장치의 모든 각각의 기능을 수행하기 위한 방법 양상들을 포함한다.
[0010] 본 개시내용의 상기 열거된 특징들이 상세히 이해될 수 있는 방식으로, 앞서 간략히 요약된 본 개시내용의 보다 구체적인 설명이 실시예들을 참조로 하여 이루어질 수 있다. 첨부 도면들은 본 개시내용의 실시예들과 관련되고, 다음에서 설명된다.
도 1은 본원에서 설명되는 실시예들에 따른, 터치 스크린 패널에서 사용하도록 적응된 층 시스템의 개략적인 단면도를 도시한다.
도 2a는 본원에서 설명되는 추가적인 실시예들에 따른, 터치 스크린 패널에서 사용하도록 적응된 층 시스템의 개략적인 단면도를 도시한다.
도 2b는 커버 렌즈를 갖는 도 2a의 층 시스템의 개략적인 단면도를 도시한다.
도 2c는 도 2a 및 도 2b의 층 시스템들의 반사율을 예시하는 그래프를 도시한다.
도 3a는 본원에서 설명되는 또한 추가적인 실시예들에 따른, 터치 스크린 패널에서 사용하도록 적응된 층 시스템의 개략적인 단면도를 도시한다.
도 3b는 커버 렌즈를 갖는 도 3a의 층 시스템의 개략적인 단면도를 도시한다.
도 3c는 도 3a 및 도 3b의 층 시스템들의 반사율을 예시하는 그래프를 도시한다.
도 4는 본원에서 설명되는 실시예들에 따른 층 시스템을 갖는 터치 스크린 패널의 개략도를 도시한다.
도 5는 본원에서 설명되는 추가적인 실시예들에 따른 층 시스템을 갖는 터치 스크린 패널의 개략도를 도시한다.
도 6은 본원에서 설명되는 또한 추가적인 실시예들에 따른 층 시스템을 갖는 터치 스크린 패널의 개략도를 도시한다.
도 7은 본원에서 설명되는 실시예들에 따른 층 시스템을 제조하기 위한 증착 장치의 개략도를 도시한다.
도 8은 본원에서 설명되는 실시예들에 따른, 터치 스크린 패널에서 사용하도록 적응된 층 시스템을 제조하기 위한 방법의 흐름도를 도시한다.
도 1은 본원에서 설명되는 실시예들에 따른, 터치 스크린 패널에서 사용하도록 적응된 층 시스템의 개략적인 단면도를 도시한다.
도 2a는 본원에서 설명되는 추가적인 실시예들에 따른, 터치 스크린 패널에서 사용하도록 적응된 층 시스템의 개략적인 단면도를 도시한다.
도 2b는 커버 렌즈를 갖는 도 2a의 층 시스템의 개략적인 단면도를 도시한다.
도 2c는 도 2a 및 도 2b의 층 시스템들의 반사율을 예시하는 그래프를 도시한다.
도 3a는 본원에서 설명되는 또한 추가적인 실시예들에 따른, 터치 스크린 패널에서 사용하도록 적응된 층 시스템의 개략적인 단면도를 도시한다.
도 3b는 커버 렌즈를 갖는 도 3a의 층 시스템의 개략적인 단면도를 도시한다.
도 3c는 도 3a 및 도 3b의 층 시스템들의 반사율을 예시하는 그래프를 도시한다.
도 4는 본원에서 설명되는 실시예들에 따른 층 시스템을 갖는 터치 스크린 패널의 개략도를 도시한다.
도 5는 본원에서 설명되는 추가적인 실시예들에 따른 층 시스템을 갖는 터치 스크린 패널의 개략도를 도시한다.
도 6은 본원에서 설명되는 또한 추가적인 실시예들에 따른 층 시스템을 갖는 터치 스크린 패널의 개략도를 도시한다.
도 7은 본원에서 설명되는 실시예들에 따른 층 시스템을 제조하기 위한 증착 장치의 개략도를 도시한다.
도 8은 본원에서 설명되는 실시예들에 따른, 터치 스크린 패널에서 사용하도록 적응된 층 시스템을 제조하기 위한 방법의 흐름도를 도시한다.
[0011] 이제, 본 개시내용의 다양한 실시예들이 상세히 참조될 것이고, 그러한 다양한 실시예들의 하나 또는 그 초과의 예들이 도면들에서 예시된다. 도면들의 다음의 설명 내에서, 동일한 참조 번호들은 동일한 컴포넌트들을 지칭한다. 일반적으로, 개별적인 실시예들에 대한 차이들만이 설명된다. 각각의 예는 본 개시내용의 설명을 통해 제공되고, 본 개시내용의 제한으로서 의도되지 않는다. 추가로, 일 실시예의 부분으로서 예시 또는 설명되는 특징들이, 또한 추가적인 실시예를 산출하기 위해, 다른 실시예들에 대해 또는 다른 실시예들과 함께 사용될 수 있다. 설명은 그러한 변형들 및 변동들을 포함하도록 의도된다.
[0012] 본원에서 사용되는 바와 같은 "기판"이라는 용어는 글라스 또는 플라스틱 기판들과 같은 디스플레이 제조를 위해 사용될 수 있는 기판들을 포함할 것이다. 예컨대, 본원에서 설명되는 바와 같은 기판들은 LCD(액정 디스플레이), PDP(플라즈마 디스플레이 패널), OLED 디스플레이 등을 위해 사용될 수 있는 기판들을 포함할 것이다. 설명에서 다르게 명시적으로 특정되지 않는 한, "기판"이라는 용어는 본원에서 특정되는 바와 같이 "대면적 기판"으로서 이해되어야 한다. 본 개시내용에 따르면, 대면적 기판들은 적어도 0.174 m2의 사이즈를 가질 수 있다. 예로서, 사이즈는 약 1.4 m2 내지 약 8 m2, 그리고 구체적으로는 약 2 m2 내지 약 9 m2 또는 심지어 최대 12 m2일 수 있다. 그러나, 본 개시내용은 이에 제한되지 않고, "기판"이라는 용어는 또한, 웹 또는 포일과 같은 가요성 기판들을 포함할 수 있다.
[0013] 본원에서 사용되는 바와 같은 "투명한"이라는 용어는 특히, 비교적 낮은 스캐터링으로 광을 투과시키는 구조의 능력을 포함할 것이고, 그에 따라, 예컨대, 그러한 구조를 통해 투과된 광은 실질적으로 투명한 방식으로 보여질 수 있다. 예로서, 기판은 글라스 또는 폴리에틸렌 테레프탈레이트(PET)를 포함한다. PET는 약 90 %의 투과율을 가질 수 있다.
[0014] 도 1은 본원에서 설명되는 실시예들에 따른 터치 스크린 패널에서 사용하도록 적응된 층 시스템(100)의 개략적인 단면도를 도시한다.
[0015] 층 시스템(100)은, 예컨대 에칭 프로세스와 같은 동일한 구조화 프로세스에서 구조화된 3개 또는 그 초과의 층들을 갖는 적어도 하나의 층 스택을 포함한다. 3개 또는 그 초과의 층들은 알루미늄 또는 알루미늄 합금을 포함하는 금속 층(110), 및 2개 또는 그 초과의 추가적인 층들을 포함한다. 2개 또는 그 초과의 추가적인 층들은 인듐 갈륨 아연 산화물(IGZO) 층 또는 인듐 아연 산화물(IZO) 층; 및 몰리브덴 또는 몰리브덴 합금을 포함하는 제 1 층(120)을 포함한다. 몇몇 구현들에서, 층 시스템(100)은 터치 검출을 위해 구성된다. 다음에서, "IGZO 층 또는 IZO 층"이라는 용어는 또한, "IGZO 또는 IZO 층(130)"으로서 표현된다.
[0016] 몇몇 구현들에서, 알루미늄 합금은 AlNd일 수 있다.
[0017] 본원에서 설명되는 다른 실시예들과 조합될 수 있는 몇몇 실시예들에 따르면, 층 시스템(100)은 제 1 기판(10)과 같은 적어도 하나의 기판을 포함한다. 도 1의 예에서 도시된 바와 같이, 금속 층(110) 및 2개 또는 그 초과의 추가적인 층들은 제 1 기판(10) 위에 배치될 수 있다.
[0018] 본원에서 설명되는 다른 실시예들과 조합될 수 있는 몇몇 실시예들에 따르면, 2개 또는 그 초과의 추가적인 층들은, 금속 층(110)의 구조가 인간의 눈에 대해 실질적으로 비가시적(invisible)이도록, 금속 층(110)을 흑화(blacken)시키도록 구성된다. 본원에서 이해되는 바와 같은 "흑화"라는 용어는, 특히 가시 파장 범위(예컨대, 약 350 내지 약 800 nm)에서의 층 시스템(100)의 낮은 표면 반사율을 지칭할 수 있다. 낮은 표면 반사율은 IGZO 또는 IZO 층(130)과 제 1 층(120)의 조합으로부터 기인할 수 있다. 본 개시내용의 층 시스템의 표면 반사율은 가시 파장 범위의 적어도 일부에 걸쳐 20 % 미만, 구체적으로는 10 % 미만, 그리고 더 구체적으로는 5 % 미만일 수 있다. 몇몇 실시예들에 따른 층 시스템의 표면 반사율의 예들은 도 2c 및 도 3c를 참조하여 주어진다.
[0019] 본 개시내용의 층 시스템(100)은 향상된 광학 특성들, 예컨대 사용자에 대한 외관을 갖는다. 특히, 층들, 예컨대 금속 층(110)의 구조들은 사용자에 대해 가시적이지 않다. 층 시스템(100)은 추가로, 개선된 전기 특성들을 제공한다. 특히, 터치 검출을 위한 구조화된 전도체는 높은 전도율을 갖는 Al 합금 또는 Al을 포함하는 금속 층(110)이다. 이는 큰 터치 패널 사이즈들에 대해 특히 유익하다. 이를 고려하면, 본 개시내용은 통상적인 구조들과 비교하여 향상된 광학 및 전기 성능을 제공하는, 터치 스크린 패널에서 사용하기 위한 층 시스템을 제공한다. 하나의 단일 구조화 프로세스에서 층들을 구조화함으로써, 층 시스템은 감소된 노력 및 비용들로 제조될 수 있다.
[0020] 본원에서 설명되는 다른 실시예들과 조합될 수 있는 몇몇 실시예들에 따르면, 금속 층(110)은 500 마이크로 미터 미만, 구체적으로는 300 마이크로 미터 미만의 두께를 갖고, 더 구체적으로는, 약 200 마이크로 미터의 두께를 갖는다. 몇몇 구현들에서, 금속 층(110)은 적어도 2*107 S*m, 그리고 구체적으로는 약 3.5*107 S*m의 전도율을 갖는다. 몇몇 실시예들에서, 금속 층(110)은 5*10-8 옴*m, 그리고 구체적으로는 약 3*10-8 옴*m 또는 2.8*10-8 옴*m의 전기 저항률을 갖는다.
[0021] 몇몇 구현들에서, 금속 층(110)은 하나 또는 그 초과의 라인들을 갖는 라인 패턴을 제공한다. 라인들은 평행한 라인들, 예컨대 수평 라인들 또는 수직 라인들일 수 있다. 예로서, 라인 패턴은, 특히 다른 라인 패턴과 조합되어, 터치 검출을 위해 구성될 수 있다. 라인 패턴들 양자 모두는 절연성 층에 의해 분리될 수 있다. 라인 패턴들 양자 모두의 라인들은 매트릭스(matrix)를 형성하도록 실질적으로 수직인 방향들로 연장될 수 있다. 매트릭스는, 예컨대, 2개의 라인 패턴들 사이의 캐패시턴스에서의 변화를 검출함으로써, 터치 검출을 위해 구성될 수 있다.
[0022] 몇몇 실시예들에 따르면, 라인들은 10 마이크로 미터 미만, 구체적으로는 5 마이크로 미터 미만의 폭을 가질 수 있고, 더 구체적으로는 약 2 마이크로 미터 내지 약 3 마이크로 미터의 범위에서의 폭을 가질 수 있다. IGZO 또는 IZO 층(130)과 제 1 층(120)의 조합은, 라인들이 인간의 눈에 대해 실질적으로 비가시적이도록, 라인들을 흑화시킬 수 있다(예컨대, 라인들을 블랙(black)이 되게 할 수 있다).
[0023] 몇몇 구현들에서, 제 1 층(120)은 금속 층(110) 상에 또는 위에 제공되고, 그리고/또는 IGZO 또는 IZO 층(130)은 제 1 층(120) 상에 또는 위에 제공된다. 즉, 금속 층(110), 제 1 층(120), 및 IGZO 또는 IZO 층(130)이, 이러한 순서로, 특히 제 1 기판(10) 상에 또는 위에 배열된다. 금속 층(110)과 제 1 층(120) 및/또는 제 1 층(120)과 IGZO 또는 IZO 층(130)이 서로 상에 직접적으로 배치될 수 있다. 대안적으로, 적어도 하나의 부가적인 층이 금속 층(110)과 제 1 층(120) 사이에 그리고/또는 제 1 층(120)과 IGZO 또는 IZO 층(130) 사이에 제공될 수 있다.
[0024] "상" 또는 "위"라는 용어들이 언급되는 경우에, 즉, 하나의 층이 다른 층 상에 또는 위에 있는 경우에, 예컨대, 제 1 기판(10)으로부터 시작하여, 하나의 층이 제 1 기판(10) 상에 또는 위에 증착되고, 그러한 하나의 층 후에 증착되는 다른 층은 그에 따라 그러한 하나의 층 상에 또는 위에 있고, 제 1 기판(10) 위에 있는 것으로 이해된다. 즉, "상" 또는 "위"라는 용어들은 시작 포인트가 제 1 기판(10)일 수 있는 층들, 층 스택들, 및/또는 막들의 순서를 정의하기 위해 사용된다. 이는 층 시스템이 뒤집혀서 도시되거나 또는 그렇지 않거나 무관하다. 추가로, "위"라는 용어는 하나 또는 그 초과의 부가적인 층들이 하나의 층과 다른 층 사이에 제공되는 실시예들을 포함해야 한다. "상"이라는 용어는 부가적인 층들이 하나의 층과 다른 층 사이에 제공되지 않는 실시예들, 즉, 하나의 층과 다른 층이 서로 상에 직접적으로 배치되거나, 또는 즉, 서로 접촉하는 실시예들을 포함해야 한다.
[0025] 몇몇 실시예들에서, 제 1 층(120)은 MoOx 층, (Mo-합금)Ox 층, MoOxNx 층, (Mo-합금)OxNx 층, MoNbOx 층, 및 MoNb 층을 포함하는 그룹으로부터 선택된다. IGZO 또는 IZO 층(130)과 제 1 층(120)의 조합은 금속 층(110)의 흑화 효과를 제공한다. 즉, 금속 층(110)의 구조는 블랙이 되고, 따라서, 사용자에 대해 가시적이지 않다.
[0026] 인듐 주석 산화물(ITO)이 터치 패널 애플리케이션들을 위한 전도성 층(전극)으로서 사용될 수 있다. 그러나, ITO 층의 저항률은 제한되고, (예컨대, 증착 또는 포스트 어닐링 프로세스 동안의) 기판 온도에 따라 좌우된다. 더 높은 전도율은 더 큰 터치 패널 사이즈들(예컨대, 노트북들 및 TV)에 대해 유익하고, 온 셀/인 셀 터치 패널 솔루션들은 저온 증착을 사용할 수 있다. 본 개시내용의 금속 층은 제한된 기판 온도에서의 층 증착으로 높은 전도율을 제공하여 그러한 양상들을 충족시킬 수 있다.
[0027] 금속 층의 (비활성) 높은 반사율은 터치 패널 구조들이 인간의 눈들에 대해 가시적이 되게 할 수 있다. 층 시스템의 2개 또는 그 초과의 추가적인 층들은 알루미늄 및/또는 알루미늄 합금 금속 층의 표면 반사와 비교하여 층 시스템의 표면 반사를 감소시킨다. 2개 또는 그 초과의 추가적인 층들은 전도성 및/또는 광학 활성 층들일 수 있고, 최종 사용자에 대해 수용가능한 레벨로 구조화된 알루미늄 및/또는 알루미늄 합금 층의 가시성을 감소시킬 수 있다. 2개 또는 그 초과의 추가적인 층들은 하나의 프로세스 블록에서 완전한 블랙 금속 층 구조의 습식 에칭을 가능하게 하도록 선택될 수 있다. 그러한 블랙 금속 층 구조는, 예컨대, 컬러 필터 글라스(color filter glass) 또는 커버 렌즈(cover lens) 상에 배치될 수 있고, 터치 패널 구조의 비가시성(invisibility)이 달성될 수 있다.
[0028] 도 2a는 본원에서 설명되는 추가적인 실시예들에 따른, 터치 스크린 패널에서 사용하도록 적응된 층 시스템(200)의 개략적인 단면도를 도시한다.
[0029] 본원에서 설명되는 다른 실시예들과 조합될 수 있는 몇몇 실시예들에 따르면, 층 시스템(200), 그리고 특히 2개 또는 그 초과의 추가적인 층들은 몰리브덴 또는 몰리브덴 합금을 포함하는 제 2 층(240)을 포함한다. 예로서, 제 2 층(240)은 Mo 층 또는 MoNb 층일 수 있다. 몇몇 실시예들에 따르면, 몰리브덴 또는 몰리브덴 합금을 포함하는 제 2 층(240)은, 예컨대, 제 1 기판(10)과 같은 기판과 금속 층(110) 사이의 접착성 층으로서 구성될 수 있다.
[0030] 몇몇 구현들에서, 제 2 층(240)은 금속 층(110) 상에 또는 위에 제공된다. 제 2 층(240)은 제 1 층(120)이 제공되는 측 반대편의 금속 층(110)의 측 상에 제공될 수 있다. 예로서, 제 2 층(240)은 예컨대 제 1 기판(10)과 같은 적어도 하나의 기판과 금속 층(110) 사이에 제공된다.
[0031] 도 2b는 커버 렌즈(20)를 갖는 도 2a의 층 시스템의 개략적인 단면도를 도시한다.
[0032] 본원에서 설명되는 다른 실시예들과 조합될 수 있는 몇몇 실시예들에 따르면, 층 시스템은 커버 렌즈(20)를 더 포함한다. 커버 렌즈(20)는 IGZO 또는 IZO 층(130) 상에 또는 위에 제공될 수 있다. 예로서, 예컨대 광학적으로 투명한 접착제(OCA)를 포함하는 투명한 접착성 층(15)이 IGZO 또는 IZO 층(130)에 커버 렌즈(20)를 부착하기 위해 커버 렌즈(20)와 IGZO 또는 IZO 층(130) 사이에 제공될 수 있다. 몇몇 구현들에서, "커버 렌즈"라는 용어는 터치 스크린 패널의 최상단 글라스를 지칭할 수 있다. 커버 렌즈(20)는 0.1 mm 또는 그 초과, 예컨대 약 0.5 mm, 0.7 mm, 0.9 mm, 또는 1 mm의 두께를 갖는 글라스로 제조될 수 있다.
[0033] 도 2c는 도 2a 및 도 2b의 층 시스템들의 반사율(R)을 예시하는 그래프를 도시한다.
[0034] 그래프의 x-축은 나노 미터의 단위로 파장을 표시하고, y-축은 반사율(R)을 표시한다. 제 1 커브(250)는 도 2a의 IGZO 층 상에서 직접적으로 측정된 반사율을 표시한다. 제 2 커브(260)는 도 2b의 커버 렌즈(20) 상에서 측정된 반사율을 표시한다. 층 시스템은, 특히 가시 파장 범위(예컨대, 약 350 내지 약 800 nm)에서 낮은 표면 반사율을 제공한다. 낮은 표면 반사율은 IGZO 또는 IZO 층(130)과 제 1 층(120)의 조합, 및 제 2 층(240)과 같은 선택적인 부가적인 층들로부터 기인할 수 있다.
[0035] 도 3a는 본원에서 설명되는 또한 추가적인 실시예들에 따른, 터치 스크린 패널에서 사용하도록 적응된 층 시스템(30)의 개략적인 단면도를 도시한다.
[0036] 본원에서 설명되는 다른 실시예들과 조합될 수 있는 몇몇 실시예들에 따르면, 층 시스템(300), 그리고 특히 2개 또는 그 초과의 추가적인 층들은 몰리브덴 또는 몰리브덴 합금을 포함하는 제 3 층(350)을 포함하고, 특히 여기에서, 제 3 층(350)은 Mo 층 또는 MoNb 층이다. 몇몇 구현들에서, 제 3 층(350)은 금속 층(110) 상에 또는 위에 제공된다. 예로서, 제 3 층(350)은 금속 층(110)과 제 1 층(120) 사이에 제공될 수 있다.
[0037] 제 1 층(120), IGZO 또는 IZO 층(130), 제 2 층(240), 및 제 3 층(350)의 조합은 표면 반사율을 더 감소시킬 수 있고, 층 시스템(300)의 광학 특성들이 더 개선된다.
[0038] 도 3b는 커버 렌즈(20)를 갖는 도 3a의 층 시스템의 개략적인 단면도를 도시한다.
[0039] 본원에서 설명되는 다른 실시예들과 조합될 수 있는 몇몇 실시예들에 따르면, 층 시스템은 커버 렌즈(20)를 더 포함한다. 커버 렌즈(20)는 IGZO 또는 IZO 층(130) 상에 또는 위에 제공될 수 있다. 예로서, 예컨대 광학적으로 투명한 접착제(OCA)를 포함하는 투명한 접착성 층(15)이 IGZO 또는 IZO 층(130)에 커버 렌즈(20)를 부착하기 위해 커버 렌즈(20)와 IGZO 또는 IZO 층(130) 사이에 제공될 수 있다. 몇몇 구현들에서, "커버 렌즈"라는 용어는 터치 스크린 패널의 최상단 글라스를 지칭할 수 있다. 커버 렌즈(20)는 0.1 mm 또는 그 초과, 예컨대 약 0.5 mm, 0.7 mm, 0.9 mm, 또는 1 mm의 두께를 갖는 글라스로 제조될 수 있다.
[0040] 도 3c는 도 3a 및 도 3b의 층 시스템들의 반사율을 예시하는 그래프를 도시한다.
[0041] 그래프의 x-축은 나노 미터의 단위로 파장을 표시하고, y-축은 반사율을 표시한다. 제 1 커브(351)는 도 3a의 IGZO 층 상에서 직접적으로 측정된 반사율(R)을 표시한다. 제 2 커브(360)는 도 3b의 커버 렌즈(20) 상에서 측정된 반사율(R)을 표시한다. 층 시스템은, 특히 가시 파장 범위(예컨대, 약 350 내지 약 800 nm)에서 낮은 표면 반사율을 제공한다. 낮은 표면 반사율은 IGZO 또는 IZO 층(130)과 제 1 층(120)의 조합, 및 제 2 층(240) 및 제 3 층(350)과 같은 선택적인 층들로부터 기인할 수 있다.
[0042] 도 4 내지 도 6에서 도시된 실시예들의 다음의 설명들은 적어도 하나의 층 스택이 제 1 기판, 제 2 기판(예컨대, 컬러 필터 기판 또는 컬러 필터 글라스), 및 제 3 기판(예컨대, TFT 기판 또는 TFT 글라스)과 같은 하나 또는 그 초과의 상이한 기판들 상에 또는 위에 배치되는 예들을 예시한다.
[0043] 도 4는 본원에서 설명되는 실시예들에 따른 층 시스템을 갖는 터치 스크린 패널(400)의 개략도를 도시한다.
[0044] 본 개시내용의 양상에 따르면, 터치 스크린 패널(400)은 스크린 디바이스 및 본원에서 설명되는 바와 같은 층 시스템을 포함한다. 예로서, 도 4 내지 도 6의 예들에서 예시되는 바와 같이, 스크린 디바이스는 액정 디스플레이(LCD)일 수 있다. 그러나, 본 개시내용은 LCD들로 제한되지 않고, 예컨대 OLED 디스플레이들과 같은 다른 스크린 기술들이 본 개시내용의 층 시스템과 조합되어 채용될 수 있다.
[0045] 본원에서 설명되는 다른 실시예들과 조합될 수 있는 몇몇 실시예들에 따르면, 층 시스템은 하나 또는 그 초과의 제 1 라인들을 갖는 제 1 라인 패턴(430), 및 하나 또는 그 초과의 제 2 라인들을 갖는 제 2 라인 패턴(440)을 포함하고, 여기에서, 제 1 라인 패턴(430)과 제 2 라인 패턴(440)은 절연성 층(435)에 의해 분리된다. 제 1 라인 패턴(430) 및 제 2 라인 패턴(440)은 터치 검출을 위해 구성될 수 있다.
[0046] 제 1 라인 패턴(430)의 하나 또는 그 초과의 제 1 라인들 및/또는 제 2 라인 패턴(440)의 하나 또는 그 초과의 제 2 라인들은 평행한 라인들, 예컨대 수평 라인들 또는 수직 라인들일 수 있다. 제 1 라인 패턴(430)의 하나 또는 그 초과의 제 1 라인들 및 제 2 라인 패턴(440)의 하나 또는 그 초과의 제 2 라인들은 매트릭스를 형성하도록 실질적으로 수직인 방향들로 연장될 수 있다. 예로서, 제 1 라인 패턴(430)의 하나 또는 그 초과의 제 1 라인들은 제 1 방향, 예컨대 x-방향으로 연장될 수 있다. 제 2 라인 패턴(440)의 하나 또는 그 초과의 제 2 라인들은 제 2 방향, 예컨대 y-방향으로 연장될 수 있다. 제 1 방향과 제 2 방향은 실질적으로 수직일 수 있다. 매트릭스는, 예컨대 제 1 라인 패턴(430)과 제 2 라인 패턴(440) 사이의 캐패시턴스에서의 변화를 검출함으로써, 터치 검출을 위해 구성될 수 있다.
[0047] "실질적으로 수직"이라는 용어는, 예컨대 제 1 라인 패턴(430)의 하나 또는 그 초과의 제 1 라인들과 제 2 라인 패턴(440)의 하나 또는 그 초과의 제 2 라인들의 실질적으로 수직인 배향(orientation)과 관련되고, 여기에서, 정확한 수직 배향으로부터의 수 도, 예컨대, 최대 10° 또는 심지어 최대 15°의 편차가 여전히 "실질적으로 수직"으로 고려된다.
[0048] 몇몇 구현들에서, 제 1 라인 패턴(430)의 하나 또는 그 초과의 제 1 라인들은 투명한 전도성 산화물, 특히 인듐 주석 산화물(ITO)에 의해 제공되고, 제 2 라인 패턴(440)의 하나 또는 그 초과의 제 2 라인들은 층 시스템의 적어도 하나의 층 스택에 의해 제공된다. 다른 구현들에서, 제 2 라인 패턴(440)의 하나 또는 그 초과의 제 2 라인들은 투명한 전도성 산화물, 특히 인듐 주석 산화물에 의해 제공되고, 제 1 라인 패턴(430)의 하나 또는 그 초과의 제 1 라인들은 층 시스템의 적어도 하나의 층 스택에 의해 제공된다.
[0049] 층 시스템의 적어도 하나의 층 스택에 의해 제공되는 라인 패턴, 예컨대 제 2 라인 패턴(440)은 본원에서 설명되는 실시예들에 따라 구성될 수 있다. 예로서, 제 2 라인 패턴(440)(또는 제 1 라인 패턴(430))은 제 1 기판(10), 금속 층(110), 및 2개 또는 그 초과의 추가적인 층들을 포함할 수 있다. 2개 또는 그 초과의 추가적인 층들은 IGZO 층 또는 IZO 층, 및 제 1 층(참조 번호(470)로 표시됨), 그리고 선택적으로 제 2 층(참조 번호(460)로 표시됨)을 포함할 수 있다.
[0050] 본원에서 설명되는 다른 실시예들과 조합될 수 있는 몇몇 실시예들에 따르면, 투명한 전도성 산화물은 인듐 주석 산화물(ITO) 층, 도핑된 ITO 층, 불순물-도핑된 ZnO, In2O3, SnO2 및 CdO, ITO(In2O3:Sn), AZO(ZnO:Al), IZO(ZnO:In), GZO(ZnO:Ga), ZnO, In2O3 및 SnO2의 조합들을 포함하거나 또는 그러한 조합들로 구성된 다-성분 산화물들, 예컨대 ITO/금속/ITO-스택 또는 금속/ITO/금속-스택과 같은 적어도 ITO 층과 금속 층으로부터의 층 스택일 수 있다.
[0051] LCD에서, 액정들의 층이 2개의 전극들 사이에서 정렬되고, 2개의 편광 층들 또는 편광 필터들(예컨대, 평행 및 수직)(이들의 투과의 축들은 서로에 대해 수직임)이 제공된다. 액정들의 배향에 따라, 하나의 편광 필터를 통과하는 광은 다른 편광 필터에 의해 차단되거나 또는 차단되지 않는다. 몇몇 실시예들에서, 층 시스템은 편광 층(450)을 포함하고, 여기에서, 제 1 라인 패턴(430)의 제 1 라인들 또는 제 2 라인 패턴(440)의 제 2 라인들이 편광 층(450)에 매립된다(embedded).
[0052] 몇몇 실시예들에 따르면, 층 시스템은 제 2 기판(425)과 같은 적어도 하나의 기판을 포함한다. 제 2 기판(425)은 스크린 디바이스의 컬러 필터 매트릭스(420)가 위에 배치된 기판일 수 있다. 제 2 기판(425)은 "컬러 필터 기판" 또는 "컬러 필터(CF) 글라스"라고 지칭될 수 있다. 제 2 기판(425)은 제 1 측 및 제 2 측을 가질 수 있다. 제 1 라인 패턴(430), 절연성 층(435), 제 2 라인 패턴(440), 편광 층(450), 그리고 선택적으로 접착성 층(15) 및 커버 렌즈(20)가 제 2 기판(425)의 제 1 측 상에 또는 위에 배열될 수 있다. 컬러 필터 매트릭스(420)(또는 컬러 필터 층)가 제 2 기판(425)의 제 2 측 상에 또는 위에 배열될 수 있다. 제 2 기판(425)의 제 1 측은 제 2 기판(425)의 제 2 측의 반대편에 있을 수 있다.
[0053] 몇몇 구현들에서, 터치 스크린 패널(400)은 스크린 디바이스를 포함한다. 스크린 디바이스는 예컨대 글라스 기판("TFT-글라스")과 같은 제 3 기판(405)을 포함할 수 있다. 박막 트랜지스터들(TFT들)의 어레이 또는 층(410)이 제 3 기판(405) 상에 또는 위에 배열될 수 있고, 액정 층(415)이 박막 트랜지스터들(TFT들)의 어레이 또는 층(410) 상에 또는 위에 배열될 수 있다. TFT들의 어레이 또는 층(410)은 스크린 디바이스의 픽셀들을 구동시키도록 구성될 수 있다. 스크린 디바이스는 백라이트를 더 포함할 수 있다. 컬러 필터 매트릭스(420)는 액정 층(415) 상에 또는 위에 배열될 수 있다.
[0054] 도 5는 본원에서 설명되는 추가적인 실시예들에 따른 층 시스템을 갖는 터치 스크린 패널(500)의 개략도를 도시한다. 도 5의 실시예는 도 4의 실시예와 유사하고, 유사한 또는 동일한 엘리먼트들의 설명들은 생략되었다. 도 5의 실시예는 제 1 라인 패턴의 구성에서 도 4의 실시예와 상이하다. 도 5에서의 제 1 라인 패턴(530)은 투명한 전도성 산화물을 포함하지 않지만, 본 개시내용의 층 시스템의 층 스택을 포함한다.
[0055] 본원에서 설명되는 다른 실시예들과 조합될 수 있는 몇몇 실시예들에 따르면, 적어도 하나의 층 스택은 제 1 층 스택 및 제 2 층 스택을 포함하고, 여기에서, 제 1 라인 패턴(530)의 하나 또는 그 초과의 제 1 라인들은 제 1 층 스택에 의해 제공되고, 제 2 라인 패턴(440)의 하나 또는 그 초과의 제 2 라인들은 제 2 층 스택에 의해 제공된다.
[0056] 제 1 라인 패턴(530) 및/또는 제 2 라인 패턴(440)은 본원에서 설명되는 실시예들에 따른 층 시스템, 예컨대, 도 4에서 참조 번호(440)로 표시된 층 시스템을 포함할 수 있다. 본 개시내용의 층 시스템의 층 스택을 갖는 제 2 라인 패턴(440) 및 제 1 라인 패턴(430)은 라인 패턴들 양자 모두에서 높은 전도율을 제공하여, 터치 검출 기능의 개선된 성능을 발생시킨다.
[0057] 몇몇 구현들에서, 층 시스템은 제 2 기판(425)과 같은 적어도 하나의 기판을 포함한다. 적어도 하나의 기판은 제 1 측 및 제 2 측을 가질 수 있고, 여기에서, 제 1 층 스택 및 제 2 층 스택이 (양자 모두) 제 1 측 위에 제공된다. 제 1 층은, 예컨대, 터치 검출을 위한 층들, 편광 층(들), 및/또는 커버 렌즈(20)가 제공되는, 제 2 기판(425)의 측일 수 있다. 제 2 기판(425)의 제 2 측은 스크린 디바이스가 제공되는, 제 2 기판(425)의 측일 수 있다. 스크린 디바이스는, 예컨대 글라스 기판("TFT-글라스")과 같은 제 3 기판(405), 박막 트랜지스터들(TFT들)의 어레이 또는 층(410), 및 액정 층(415)을 포함할 수 있다.
[0058] 도 6은 본원에서 설명되는 또한 추가적인 실시예들에 따른 층 시스템을 갖는 터치 스크린 패널(600)의 개략도를 도시한다. 도 6의 실시예는 도 4 및 도 5의 실시예들과 유사하고, 유사한 또는 동일한 엘리먼트들의 설명은 생략된다. 도 6의 실시예는 제 2 라인 패턴의 구성에서 도 4 및 도 5의 실시예들과 상이하다. 도 6에서의 제 2 라인 패턴(640)은 컬러 필터 매트릭스(420)에 매립된다.
[0059] 몇몇 구현들에서, 층 시스템은 제 2 기판(425)과 같은 적어도 하나의 기판을 포함한다. 적어도 하나의 기판은 제 1 측 및 제 2 측을 가질 수 있고, 여기에서, 제 1 층 스택이 제 1 측 위에 제공되고, 제 2 층 스택이 제 2 측 위에 제공된다. 몇몇 실시예들에 따르면, 층 시스템은 컬러 필터 매트릭스(420)를 포함할 수 있고, 여기에서, 제 1 라인 패턴(530)의 하나 또는 그 초과의 제 1 라인들 또는 제 2 라인 패턴(640)의 하나 또는 그 초과의 제 2 라인들이 컬러 필터 매트릭스(420)에 매립된다. 도 6의 예에서, 제 2 라인 패턴(640)이 컬러 필터 매트릭스(420)에 매립된다.
[0060] 본원에서 설명되는 다른 실시예들과 조합될 수 있는 몇몇 실시예들에 따르면, 컬러 필터 매트릭스(420)에 매립된 제 2 라인 패턴(640)의 하나 또는 그 초과의 제 2 라인들 또는 제 1 라인 패턴(530)의 하나 또는 그 초과의 제 1 라인들은 블랙 매트릭스로서 구성된다. 블랙 매트릭스는 적색(R), 녹색(G), 및 청색(B) 컬러들 또는 세그먼트들과 같은, 컬러 필터 매트릭스의 개별적인 컬러들 또는 세그먼트들을 공간적으로 분리시키도록 구성될 수 있다. 제 1 라인 패턴(530)의 하나 또는 그 초과의 제 1 라인들, 또는 제 2 라인 패턴(640)의 하나 또는 그 초과의 제 2 라인들을 블랙 매트릭스로서 제공함으로써, 별개의 블랙 매트릭스를 형성하기 위한 프로세스 단계가 생략될 수 있고, 제조 복잡성 및 비용들이 감소될 수 있다.
[0061] 도 4 내지 도 6의 위의 예들에서, 제 1 라인 패턴 및 제 2 라인 패턴이 터치 검출을 위해 매트릭스(x-y 패턴)를 정의할 수 있지만, 하나의 라인 패턴, 예컨대 제 1 라인 패턴 또는 제 2 라인 패턴이 제공될 수 있고, 터치 검출을 위해 구성될 수 있다는 것이 이해되어야 한다. 그러한 경우에서, 라인 패턴들의 매트릭스가 존재하지 않을 수 있지만, 하나의 라인 패턴만이 존재할 수 있다. 예로서, 하나의 라인 패턴은 본 개시내용의 층 스택을 포함할 수 있다. 하나의 라인 패턴의 하나 또는 그 초과의 라인들은, 예컨대, 콘택 라인들일 수 있다. 특히 x-y 패턴이 존재하지 않기 때문에, 제조 프로세스가 용이하게 될 수 있다.
[0062] 도 7은 본원에서 설명되는 실시예들에 따른 층 시스템을 제조하기 위한 증착 장치(700)의 개략도를 도시한다.
[0063] 예시적으로, 내부에서의 층들의 증착을 위한 진공 챔버(702)가 도시된다. 도 7에서 표시된 바와 같이, 추가적인 챔버들이 진공 챔버(702) 근처에 제공될 수 있다. 진공 챔버(702)는 밸브 하우징(704) 및 밸브 유닛(705)을 갖는 밸브에 의해, 인접한 챔버들로부터 분리될 수 있다. 기판(701)을 위에 갖는 캐리어(714)가, 화살표(1)에 의해 표시된 바와 같이, 진공 챔버(702) 내로 삽입된 후에, 밸브 유닛(705)이 폐쇄될 수 있다. 진공 챔버들(702)에서의 분위기는, 예컨대 진공 챔버(702)에 연결된 진공 펌프들로 기술적인 진공을 생성함으로써, 그리고/또는 진공 챔버(702)에서의 증착 구역에 프로세스 가스들을 삽입함으로써, 개별적으로 제어될 수 있다.
[0064] 몇몇 실시예들에 따르면, 프로세스 가스들은 비활성 가스들, 예컨대 아르곤, 및/또는 반응성 가스들, 예컨대 산소, 질소, 수소 및 암모니아(NH3), 오존(O3), 활성화된 가스들 등을 포함할 수 있다. 진공 챔버(702) 내에서, 기판(701)을 위에 갖는 캐리어(714)를 진공 챔버(702) 내로 그리고 밖으로 운송하기 위해, 롤러들(710)이 제공된다.
[0065] 도 7의 예가 동일한 진공 챔버(702) 내의 증착 소스들(722 및 724)의 2개의 상이한 그룹들을 도시하지만, 증착 소스들(722 및 724)의 그룹들에 의해 상이한 증착 프로세스들이 제공되는 경우에, 증착 소스들(722 및 724)의 그룹들이 상이한 진공 챔버들(702)에 제공될 수 있다는 것이 이해되어야 한다. 증착 소스들(722 및 724)은 층 시스템의 층들, 예컨대, 금속 층, 및 2개 또는 그 초과의 추가적인 층들, 예를 들어, 인듐 갈륨 아연 산화물(IGZO) 층 및/또는 인듐 아연 산화물(IZO) 층, 및 몰리브덴 또는 몰리브덴 합금을 포함하는 제 1 층을 증착하도록 구성될 수 있다.
[0066] 증착 소스들(722 및 724)은, 예컨대, 기판(701) 상에 증착될 재료의 타겟들을 갖는 회전가능한 캐소드들일 수 있다. 캐소드들은 내부에 마그네트론을 갖는 회전가능한 캐소드들일 수 있다. 마그네트론 스퍼터링이 층들의 증착을 위해 실시될 수 있다. 증착 소스들(722 및 724)은, 증착 소스들(722 및 724)이 교번 방식으로 바이어싱될 수 있도록, AC 전력 공급부(723)에 연결된다.
[0067] 본원에서 사용되는 바와 같이, "마그네트론 스퍼터링"은 자석 어셈블리, 즉, 자기장을 생성할 수 있는 유닛을 사용하여 수행되는 스퍼터링을 지칭한다. 그러한 자석 어셈블리는 영구 자석으로 구성될 수 있다. 그러한 영구 자석은, 회전가능한 타겟 표면 아래에 생성되는 생성된 자기장 내에 자유 전자들이 트랩핑되도록 하는 방식으로, 평면 타겟에 커플링될 수 있거나, 또는 회전가능한 타겟 내에 배열될 수 있다. 그러한 자석 어셈블리는 또한, 평면 캐소드에 커플링되어 배열될 수 있다. 마그네트론 스퍼터링은, 이중 마그네트론 캐소드, 즉, TwinMagTM 캐소드 어셈블리와 같지만 이에 제한되지는 않는 증착 소스들(722 및 724)에 의해 실현될 수 있다.
[0068] 실시예들에 따르면, 층 시스템의 층들은 AC 전력 공급부를 갖는 회전가능한 캐소드들의 예컨대 마그네트론 스퍼터링과 같은 스퍼터링에 의해 증착될 수 있다. 추가로, 투명한 전도성 산화물 층을 위한 타겟으로부터의 스퍼터링은 DC 스퍼터링으로서 실시될 수 있다. 증착 소스들(722 및 724)은 스퍼터링 동안에 전자들을 수집하는 애노드들(725)과 함께 DC 전력 공급부(726)에 연결된다. 따라서, 본원에서 설명되는 다른 실시예들과 조합될 수 있는 또한 추가적인 실시예들에 따르면, 투명한 전도성 산화물 층들, 예컨대 ITO 층들은 DC 스퍼터링, 즉, 증착 소스들(722 및 724)을 갖는 어셈블리에 의해 스퍼터링될 수 있다.
[0069] 간략화를 위해, 증착 소스들(722 및 724)이 하나의 진공 챔버(702)에 제공되는 것으로 예시된다. 층 시스템의 상이한 층들을 증착하기 위한 증착 소스들은, 도 7에서 예시된 바와 같이, 예컨대 진공 챔버(702) 및 진공 챔버(702)에 인접한 다른 진공 챔버와 같은 상이한 진공 챔버들(702)에 제공될 수 있다. 상이한 진공 챔버들(702)에 증착 소스들(722 및 724)의 그룹들을 제공함으로써, 적절한 프로세싱 가스 및/또는 기술적인 진공의 적절한 정도를 갖는 분위기가 각각의 증착 영역에 제공될 수 있다.
[0070] 몇몇 실시예들에 따르면, 증착은 하나 또는 그 초과의 회전가능한 타겟들의 스퍼터링에 의해 수행된다. 더 구체적으로, 본원에서의 실시예들에 따르면, 위에서 언급된 층 시스템의 층들 중 적어도 하나는, 고 품질의 안정적인 층 시스템의 형성이 용이하게 되도록, 회전가능한 타겟의 스퍼터링에 의해 증착된다. 예컨대, 본원에서의 실시예들에 따르면, 더 높은 균일성을 갖고, 낮은 밀도의 결함들 및 오염 입자들을 갖는 층이 증착될 수 있다. 고-품질 층 시스템의 제조는 적절한 광학 및 전기 특성들을 산출할 뿐만 아니라, 시간에 걸친 안정적인 성능을 산출한다. 게다가, 하나 또는 그 초과의 회전가능한 타겟들의 스퍼터링을 포함하는 제조 프로세스는 추가로, 다른 증착 방법들과 비교하여 더 높은 제조 레이트 및 더 적은 수의 오염물 입자들의 생성을 용이하게 할 수 있다.
[0071] 도 8은 본원에서 설명되는 실시예들에 따른, 터치 스크린 패널에서 사용하도록 적응된 층 시스템을 제조하기 위한 방법(800)의 흐름도를 도시한다.
[0072] 방법(800)은 기판 위에 알루미늄 또는 알루미늄 합금을 포함하는 금속 층을 제공하는 단계(블록(810)); 금속 층 위에 제 1 층을 제공하는 단계 ― 제 1 층은 몰리브덴 또는 몰리브덴 합금을 포함함 ― (블록(820)); 제 1 층 위에 인듐 갈륨 아연 산화물(IGZO) 층 또는 인듐 아연 산화물(IZO) 층을 제공하는 단계(블록(830)); 및 특히 하나의 단계로, 금속 층, 제 1 층, 및 IGZO 층 또는 IZO 층을 구조화하는 단계(블록(840))를 포함한다.
[0073] 본원에서 설명되는 다른 실시예들과 조합될 수 있는 몇몇 실시예들에 따르면, 금속 층, 제 1 층, 및 IGZO 층 또는 IZO 층의 구조화는 동일한 구조화 프로세스에서 실시된다. 예로서, 구조화 프로세스는 에칭 프로세스, 특히 습식 에칭 프로세스이다. 하나의 단일 구조화 프로세스에서 모든 층들을 구조화함으로써, 층 시스템이 감소된 노력 및 비용들로 제조될 수 있다.
[0074] 본원에서 설명되는 실시예들에 따르면, 터치 스크린 패널에서 사용하도록 적응된 층 시스템을 제조하기 위한 방법은, 컴퓨터 프로그램들, 소프트웨어, 컴퓨터 소프트웨어 제품들, 및 CPU, 메모리, 사용자 인터페이스 및 대면적 기판을 프로세싱하기 위한 장치의 대응하는 컴포넌트들과 통신하는 입력 및 출력 수단을 가질 수 있는 상관된 제어기들의 수단에 의해 실시될 수 있다.
[0075] 본 개시내용의 층 시스템은 향상된 광학 특성들, 예컨대 사용자에 대한 외관을 갖는다. 특히, 층들, 예컨대 구조화된 금속 층의 구조들은 사용자에 대해 가시적이지 않다. 층 시스템은 개선된 전기 특성들을 제공한다. 특히, 구조화된 전도체는 높은 전도율을 갖는 Al 합금 또는 Al을 포함하는 금속 층이다. 이는 큰 터치 패널 사이즈들에 대해 유익하다. 이를 고려하면, 본 개시내용은 통상적인 구조들과 비교하여 향상된 광학 및 전기 성능을 제공하는, 터치 스크린 패널에서 사용하기 위한 층 시스템을 제공한다. 하나의 단일 구조화 프로세스에서 층들을 구조화함으로써, 층 시스템이 감소된 노력 및 비용들로 제조될 수 있다.
[0076] 전술한 바가 본 개시내용의 실시예들에 관한 것이지만, 본 개시내용의 다른 및 추가적인 실시예들이 본 개시내용의 기본적인 범위로부터 벗어나지 않으면서 고안될 수 있고, 본 개시내용의 범위는 다음의 청구항들에 의해 결정된다.
Claims (15)
- 터치 스크린 패널에서 사용하도록 적응된 층 시스템(layer system)으로서,
동일한 구조화 프로세스에서 구조화된 3개 또는 그 초과의 층들을 갖는 적어도 하나의 층 스택(layer stack)
을 포함하며,
상기 3개 또는 그 초과의 층들은,
알루미늄 또는 알루미늄 합금을 포함하고, 터치 검출을 위해 구성되는 라인 패턴을 제공하는 금속 층; 및
2개 또는 그 초과의 추가적인 층들
을 포함하고,
상기 2개 또는 그 초과의 추가적인 층들은,
인듐 갈륨 아연 산화물(IGZO) 층 또는 인듐 아연 산화물(IZO) 층; 및
몰리브덴 또는 몰리브덴 합금을 포함하는 제 1 층
을 포함하고,
상기 2개 또는 그 초과의 추가적인 층들은, 상기 금속 층의 구조가 인간의 눈에 대해 실질적으로 비가시적(invisible)이도록, 상기 금속 층을 흑화(blacken)시키도록 구성되는,
층 시스템. - 삭제
- 제 1 항에 있어서,
상기 제 1 층은 상기 금속 층 상에 또는 위에 제공되고, 또는 상기 IGZO 층 또는 상기 IZO 층은 상기 제 1 층 상에 또는 위에 제공되는,
층 시스템. - 제 1 항에 있어서,
상기 제 1 층은 MoOx 층, (Mo-합금)Ox 층, MoOxNx 층, (Mo-합금)OxNx 층, MoNbOx 층, 및 MoNb 층을 포함하는 그룹으로부터 선택되는,
층 시스템. - 제 1 항에 있어서,
몰리브덴 또는 몰리브덴 합금을 포함하는 제 2 층; 및
몰리브덴 또는 몰리브덴 합금을 포함하는 제 3 층
중 적어도 하나를 더 포함하는,
층 시스템. - 제 5 항에 있어서,
상기 제 2 층은 상기 금속 층 상에 또는 위에 제공되는,
층 시스템. - 제 5 항에 있어서,
상기 제 3 층은 상기 금속 층 상에 또는 위에 제공되는,
층 시스템. - 제 1 항 및 제 3항 내지 제 7 항 중 어느 한 항에 있어서,
하나 또는 그 초과의 제 1 라인들을 갖는 제 1 라인 패턴 또는 하나 또는 그 초과의 제 2 라인들을 갖는 제 2 라인 패턴 중 적어도 하나를 포함하며, 상기 제 1 라인 패턴 또는 상기 제 2 라인 패턴 중 적어도 하나는 터치 검출을 위해 구성되는,
층 시스템. - 제 8 항에 있어서,
상기 하나 또는 그 초과의 제 1 라인들이 상기 적어도 하나의 층 스택에 의해 제공되거나, 또는 상기 하나 또는 그 초과의 제 2 라인들이 투명한 전도성 산화물에 의해 제공되거나, 또는
상기 하나 또는 그 초과의 제 2 라인들이 상기 적어도 하나의 층 스택에 의해 제공되거나, 또는 상기 하나 또는 그 초과의 제 1 라인들이 상기 투명한 전도성 산화물에 의해 제공되는,
층 시스템. - 제 8 항에 있어서,
상기 적어도 하나의 층 스택은 제 1 층 스택 및 제 2 층 스택을 포함하며, 상기 제 1 라인 패턴의 상기 하나 또는 그 초과의 제 1 라인들은 상기 제 1 층 스택에 의해 제공되고, 상기 제 2 라인 패턴의 상기 하나 또는 그 초과의 제 2 라인들은 상기 제 2 층 스택에 의해 제공되는,
층 시스템. - 제 10 항에 있어서,
적어도 하나의 기판을 더 포함하며,
상기 적어도 하나의 기판은 제 1 측 및 제 2 측을 갖고,
상기 제 1 층 스택이 상기 제 1 측 위에 제공되고, 상기 제 2 층 스택이 상기 제 2 측 위에 제공되거나, 또는
상기 제 1 층 스택 및 상기 제 2 층 스택이 상기 제 1 측 위에 제공되는,
층 시스템. - 제 8 항에 있어서,
편광 층 ― 상기 제 1 라인 패턴의 상기 하나 또는 그 초과의 제 1 라인들, 또는 상기 제 2 라인 패턴의 상기 하나 또는 그 초과의 제 2 라인들이 상기 편광 층에 매립됨(embedded) ―, 및
컬러 필터 매트릭스(color filter matrix) ― 상기 제 1 라인 패턴의 상기 하나 또는 그 초과의 제 1 라인들, 또는 상기 제 2 라인 패턴의 상기 하나 또는 그 초과의 제 2 라인들이 상기 컬러 필터 매트릭스에 매립됨 ―
중 적어도 하나를 더 포함하는,
층 시스템. - 터치 스크린 패널로서,
스크린 디바이스; 및
상기 스크린 디바이스 위의 제 1 항에 기재된 층 시스템
을 포함하는,
터치 스크린 패널. - 터치 스크린 패널에서 사용하도록 적응된 층 시스템을 제조하기 위한 방법으로서,
기판 위에 알루미늄 또는 알루미늄 합금을 포함하는 금속 층을 제공하는 단계;
상기 금속 층 위에 제 1 층을 제공하는 단계 ― 상기 제 1 층은 몰리브덴 또는 몰리브덴 합금을 포함함 ―;
상기 제 1 층 위에 인듐 갈륨 아연 산화물(IGZO) 층 또는 인듐 아연 산화물(IZO) 층을 제공하는 단계; 및
상기 금속 층, 상기 제 1 층, 및 상기 IGZO 층 또는 상기 IZO 층을 구조화하는 단계를 포함하고,
상기 금속층은 터치 검출을 위해 구성되는 라인 패턴을 제공하며, 상기 제 1 층, 및 상기 IGZO 층 또는 상기 IZO 층은 상기 금속 층의 구조가 인간의 눈에 대해 실질적으로 비가시적이도록, 상기 금속 층을 흑화시키도록 구성되는,
층 시스템을 제조하기 위한 방법. - 제 14 항에 있어서,
상기 금속 층, 상기 제 1 층, 및 상기 IGZO 층 또는 상기 IZO 층을 구조화하는 단계는 동일한 구조화 프로세스에서 실시되는,
층 시스템을 제조하기 위한 방법.
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