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KR101891825B1 - Opening and closing apparatus for chemical vapor deposition - Google Patents

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KR101891825B1
KR101891825B1 KR1020160082934A KR20160082934A KR101891825B1 KR 101891825 B1 KR101891825 B1 KR 101891825B1 KR 1020160082934 A KR1020160082934 A KR 1020160082934A KR 20160082934 A KR20160082934 A KR 20160082934A KR 101891825 B1 KR101891825 B1 KR 101891825B1
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opening
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조재민
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주식회사 조은이엔지
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Abstract

본 발명은, 화학 증착공정이 진행되는 공정챔버와 원격 플라즈마 소스가 수납되는 저장챔버 사이에 구비되는 연결유로에 설치되고, 상기 연결유로와 연결되어 통하는 공급홀부 및 상기 연결유로와 이격되는 설치홀부를 구비하는 본체; 상기 설치홀부를 통해 삽입되고 상기 공급홀부에 대향되는 제1유로홀부가 형성되며 세라믹재질을 포함하여 이루어지는 이너튜브; 상기 설치홀부에 설치되고 상기 이너튜브를 회전 가능하게 지지하며 상기 공급홀부에 대향되는 제2유로홀부가 구비되고 세라믹재질을 포함하여 이루어지는 아우터튜브; 상기 설치홀부를 마감하도록 상기 본체에 설치되고 상기 이너튜브를 회전 가능하게 지지되는 측면부; 및 상기 측면부와 상기 이너튜브 사이의 간격을 통해 상기 공정챔버의 진공압 또는 상기 저장챔버로부터 공급되는 가스가 유실되는 것을 방지하는 실링자성부를 포함하는 것을 특징으로 한다.The present invention provides a plasma processing apparatus including a supply hole portion provided in a connection channel provided between a process chamber in which a chemical vapor deposition process is performed and a storage chamber in which a remote plasma source is accommodated and connected to the connection channel, ; An inner tube inserted through the installation hole and having a first flow hole portion facing the supply hole, the inner tube including a ceramic material; An outer tube which is provided in the installation hole and rotatably supports the inner tube and has a second flow hole portion opposed to the supply hole portion and includes a ceramic material; A side portion installed in the main body to finish the installation hole portion and rotatably supported by the inner tube; And a sealing magnetic portion for preventing a vacuum pressure of the process chamber or a gas supplied from the storage chamber from being lost through a gap between the side portion and the inner tube.

Description

증착공정용 개폐장치 {OPENING AND CLOSING APPARATUS FOR CHEMICAL VAPOR DEPOSITION}[0001] OPENING AND CLOSING APPARATUS FOR CHEMICAL VAPOR DEPOSITION [0002]

본 발명은 증착공정용 개폐장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는, 증착공정 및 세척공정 중에 진공압이 유실되는 것을 방지하고, 증착공정 및 세척공정에 사용되는 유해가스에 의해 실링부재가 부식되는 것을 방지하며, 밸브의 수명을 연장시킬 수 있고, 열팽창에 의한 밸브의 변형 또는 파손을 방지할 수 있는 증착공정용 개폐장치에 관한 것이다.
The present invention relates to an opening and closing apparatus for a deposition process, and more particularly, to an apparatus and a method for preventing a vacuum pressure from being lost during a deposition process and a cleaning process, and to prevent a sealing member from being corroded by a noxious gas used in a deposition process and a cleaning process The present invention relates to an opening / closing apparatus for a deposition process that can extend the service life of a valve and prevent deformation or breakage of the valve due to thermal expansion.

일반적으로, 전자 소자의 제조에서, 화학적 기상 증착이나 원자층 증착과 같은 공정을 수행하는 기상 증착장치는 증착물질이 증착될 기판 등을 위치시킨 후 소스가스와 반응가스 등을 제공하여 물질층을 기판 상에 형성시킨다.2. Description of the Related Art In general, in the production of an electronic device, a vapor deposition apparatus that performs processes such as chemical vapor deposition or atomic layer deposition is a method in which a substrate on which a deposition material is to be deposited is positioned, .

특히 플라즈마 에너지를 이용하여 물질층을 형성하는 경우, 증착 온도가 낮아져서, 예를 들어, 디스플레이 소자, 태양광 소자, 유기발광 소자 등과 같은, 전자 소자의 다른 구성요소들에 열적 손상을 완화할 수 있는 유리한 효과를 기대할 수 있다.Particularly, in the case of forming a material layer by using plasma energy, the deposition temperature is lowered, so that thermal damage to other components of the electronic device, such as a display device, a photovoltaic device, an organic light emitting device, An advantageous effect can be expected.

통상적으로 플라즈마는 두 개의 전극 사이에서 발생하는데, 플라즈마에 의하여 전극의 온도가 상승하게 되며 이러한 고온의 전극은 공정가스와 반응하여 산화되는 현상이 발생할 수 있다.Generally, a plasma is generated between two electrodes, the temperature of the electrode is raised by the plasma, and such a high temperature electrode may be oxidized by reacting with the process gas.

상기와 같은 문제점을 해결하기 위한 것으로서, 플라즈마가 발생되는 영역과 전극을 분리하는 기상 증착장치 및 플라즈마 소스가 개발되었으며, 종래기술에 따른 증착장치는, 내부에 중공이 형성된 제1전극과, 중공 내에 제1전극과 이격되어 배치되는 제2전극과, 제2전극을 둘러싸며 제1전극과 이격되는, 유전체 튜브를 포함한다.In order to solve the above problems, a vapor deposition apparatus and a plasma source for separating an area where a plasma is generated and an electrode have been developed. The deposition apparatus according to the related art includes a first electrode having a hollow therein, A second electrode disposed apart from the first electrode, and a dielectric tube surrounding the second electrode and spaced apart from the first electrode.

제1전극 및 제2전극의 작동에 의해 발생되는 플라즈마 소스는, 공급관을 따라 공정챔버에 공급되고, 공급관에는 공정챔버를 개폐하는 밸브가 설치되며, 밸브에는 공정챔버에 제공되는 진공압이 유실되거나 세척공정에 사용되는 유해가스가 유실되는 것을 방지하도록 실링부재가 설치된다.
The plasma source generated by the operation of the first electrode and the second electrode is supplied to the process chamber along the supply line and the supply line is provided with a valve for opening and closing the process chamber, A sealing member is provided to prevent the harmful gas used in the cleaning process from being lost.

본 발명의 배경기술은 대한민국 공개특허공보 제10-2014-0003232호(2014년 01월 09일 공개, 발명의 명칭 : 기상 증착장치 및 플라즈마 소스)에 개시되어 있다.
The background art of the present invention is disclosed in Korean Patent Laid-Open Publication No. 10-2014-0003232 (published on Jan. 09, 2014, entitled "Vapor Deposition Apparatus and Plasma Source").

종래기술에 따른 증착장치는, 공급관에 설치되는 밸브에 탄성재질을 포함하는 실링부재가 설치되기 때문에 실링부재의 부식에 의해 공정챔버에 제공되는 진공압이 유실될 수 있는 문제점이 있고, 실링부재로부터 발생되는 이물질 미립자가 공정챔버 내부에 확산되어 증착공정의 신뢰도가 낮아질 수 있는 문제점이 있으며, 밸브의 수명이 단축되어 증착장치의 유지비용을 절감할 수 없는 문제점이 있다.The deposition apparatus according to the related art has a problem that the vacuum pressure provided to the process chamber may be lost due to the corrosion of the sealing member because the sealing member including the elastic material is installed in the valve installed in the supply pipe, There is a problem that the generated foreign fine particles are diffused inside the process chamber and the reliability of the deposition process may be lowered and the lifetime of the valve is shortened and the maintenance cost of the deposition apparatus can not be reduced.

따라서 이를 개선할 필요성이 요청된다.Therefore, there is a need for improvement.

본 발명은 증착공정 및 세척공정 중에 진공압이 유실되는 것을 방지하고, 증착공정 및 세척공정에 사용되는 유해가스에 의해 실링부재가 부식되는 것을 방지하며, 밸브의 수명을 연장시킬 수 있고, 열팽창에 의한 밸브의 변형 또는 파손을 방지할 수 있는 증착공정용 개폐장치를 제공하는데 그 목적이 있다.
The present invention prevents the loss of vacuum pressure during the deposition and cleaning processes, prevents the sealing member from being corroded by the noxious gas used in the deposition process and the cleaning process, extends the service life of the valve, Which is capable of preventing deformation or breakage of the valve caused by the opening and closing of the valve.

본 발명은, 화학 증착공정이 진행되는 공정챔버와 원격 플라즈마 소스가 수납되는 저장챔버 사이에 구비되는 연결유로에 설치되고, 상기 연결유로와 연결되어 통하는 공급홀부 및 상기 연결유로와 이격되는 설치홀부를 구비하는 본체; 상기 설치홀부를 통해 삽입되고 상기 공급홀부에 대향되는 제1유로홀부가 형성되며 세라믹재질을 포함하여 이루어지는 이너튜브; 상기 설치홀부에 설치되고 상기 이너튜브를 회전 가능하게 지지하며 상기 공급홀부에 대향되는 제2유로홀부가 구비되고 세라믹재질을 포함하여 이루어지는 아우터튜브; 상기 설치홀부를 마감하도록 상기 본체에 설치되고 상기 이너튜브를 회전 가능하게 지지되는 측면부; 및 상기 측면부와 상기 이너튜브 사이의 간격을 통해 상기 공정챔버의 진공압 또는 상기 저장챔버로부터 공급되는 가스가 유실되는 것을 방지하는 실링자성부를 포함하는 것을 특징으로 한다.The present invention provides a plasma processing apparatus including a supply hole portion provided in a connection channel provided between a process chamber in which a chemical vapor deposition process is performed and a storage chamber in which a remote plasma source is accommodated and connected to the connection channel, ; An inner tube inserted through the installation hole and having a first flow hole portion facing the supply hole, the inner tube including a ceramic material; An outer tube which is provided in the installation hole and rotatably supports the inner tube and has a second flow hole portion opposed to the supply hole portion and includes a ceramic material; A side portion installed in the main body to finish the installation hole portion and rotatably supported by the inner tube; And a sealing magnetic portion for preventing a vacuum pressure of the process chamber or a gas supplied from the storage chamber from being lost through a gap between the side portion and the inner tube.

또한, 본 발명의 상기 본체에는 냉각수가 유입되어 순환되고 배출되는 냉각유로가 형성되고, 상기 본체에는 상기 냉각유로의 입구 및 출구를 이루는 냉각홀부가 형성되며, 상기 냉각홀부에는 냉각수관이 연결되는 연결부재가 설치되는 것을 특징으로 한다.According to another aspect of the present invention, there is provided a cooling flow path through which cooling water is introduced and circulated and discharged, and a cooling hole portion forming an inlet and an outlet of the cooling flow passage is formed in the main body, And a member is installed.

또한, 본 발명의 상기 이너튜브는, 상기 아우터튜브에 결합되고 상기 제1유로홀부가 형성되는 몸체부; 및 상기 본체로부터 연장되고 상기 측면부에 회전 가능하게 지지되는 회전축부를 포함하는 것을 특징으로 한다.Further, the inner tube of the present invention may include a body portion coupled to the outer tube and having the first flow path hole portion formed therein; And a rotation axis portion extending from the main body and rotatably supported on the side portion.

또한, 본 발명의 상기 측면부는, 상기 설치홀부를 감싸도록 상기 본체에 설치되고 상기 아우터튜브를 상기 본체에 고정시키는 설치플레이트; 상기 설치플레이트의 장착홀부에 삽입되고 상기 회전축부를 지지하는 지지파이프와, 상기 지지파이프로부터 연장되고 상기 설치플레이트에 고정되는 연결플레이트를 포함하는 지지플레이트; 및 상기 지지플레이트에 설치되고 상기 설치홀부를 마감하는 마개플레이트를 포함하는 것을 특징으로 한다.The side part of the present invention may further include: a mounting plate installed on the main body to surround the mounting hole and fixing the outer tube to the main body; A supporting plate inserted into a mounting hole of the mounting plate and supporting the rotating shaft, and a connecting plate extending from the supporting pipe and fixed to the mounting plate; And a stopper plate provided on the support plate and closing the installation hole.

또한, 본 발명의 상기 회전축부와 상기 아우터튜브 사이에는 세라믹재질을 포함하여 이루어지는 제1베어링이 설치되고, 상기 회전축부와 상기 지지파이프 사이에는 세라믹재질을 포함하여 이루어지는 제2베어링이 설치되는 것을 특징으로 한다.Further, a first bearing including a ceramic material is provided between the rotary shaft portion and the outer tube of the present invention, and a second bearing including a ceramic material is installed between the rotary shaft portion and the support pipe .

또한, 본 발명의 상기 실링자성부는, 상기 측면부에 구비되는 복수 개의 실링홈부; 및 상기 실링홈부에 삽입되고 자기력을 제공하는 자성체를 포함하는 것을 특징으로 한다.
Further, the sealing magnetic portion of the present invention may include: a plurality of sealing groove portions provided in the side surface portion; And a magnetic body inserted in the sealing groove and providing a magnetic force.

본 발명에 따른 증착공정용 개폐장치는, 세라믹재질을 포함하는 아우터튜브의 내부에 세라믹재질을 포함하여 이루어지는 이너튜브가 회전 가능하게 설치되어 제1유로홀부 및 제2유로홀부가 연결 또는 이격되면서 증착공정 및 세척공정에서 요구되는 가스를 공급하고, 이너튜브와 지지플레이트 사이에 자기력을 제공하는 실링자성부가 구비되므로 탄성재질을 포함하는 실링부재 없이 기계적 실링을 구현할 수 있어 증착공정 및 세척공정 중에 진공압 또는 작동가스가 유실되는 것을 효과적으로 방지할 수 있는 이점이 있다.The opening and closing apparatus for a deposition process according to the present invention is characterized in that an inner tube including a ceramic material is rotatably installed inside an outer tube including a ceramic material so that the first flow hole portion and the second flow hole portion are connected or spaced, And a sealing magnetic part for supplying a magnetic force between the inner tube and the support plate. Thus, mechanical sealing can be realized without a sealing member including an elastic material, so that vacuum pressure Or the operation gas can be effectively prevented from being lost.

또한, 본 발명에 따른 증착공정용 개폐장치는, 실링자성부가 구비되므로 부식성 가스에 의해 실링부재가 부식되는 것을 방지할 수 있어 실링부재로부터 부식작용에 의해 발생되는 이물질 미립자가 공정챔버에 확산되는 것을 방지할 수 있고, 증착공정에 대한 신뢰도를 향상시킬 수 있으며, 밸브의 수명을 연장시킬 수 있는 이점이 있다.The opening / closing apparatus for the deposition process according to the present invention can prevent the sealing member from being corroded by the corrosive gas because the sealing magnetic portion is provided, and the foreign fine particles generated by the corrosive action from the sealing member are diffused into the process chamber The reliability of the deposition process can be improved, and the life of the valve can be prolonged.

또한, 본 발명에 따른 증착공정용 개폐장치는, 에어모터에 의해 회전되는 이너튜브가 세라믹재질을 포함하는 제1베어링 및 제2베어링에 의해 회전 가능하게 지지되므로 이너튜브가 장기간 동안 회전운동되어도 제1베어링 및 제2베어링이 마모되는 것을 방지할 수 있어 밸브의 수명을 보다 효과적으로 연장시킬 수 있는 이점이 있다.In the opening / closing apparatus for a deposition process according to the present invention, since the inner tube rotated by the air motor is rotatably supported by the first bearing and the second bearing including a ceramic material, even if the inner tube rotates for a long period of time, 1 < / RTI > bearing and the second bearing can be prevented from being worn out, so that the life of the valve can be effectively extended.

또한, 본 발명에 따른 증착공정용 개폐장치는, 이너튜브를 회전 가능하게 지지하는 지지플레이트에 실링자성부가 구비되므로 실링부재와 이너튜브를 조립하는 작업 없이 이너튜브를 지지플레이트에 삽입하여 실링자성부의 조립을 행할 수 있어 밸브 조립에 소요되는 시간 및 비용을 절감할 수 있는 이점이 있다.In the opening / closing apparatus for a deposition process according to the present invention, since the sealing magnetic portion is provided on the support plate for rotatably supporting the inner tube, the inner tube is inserted into the support plate without assembling the sealing member and the inner tube, It is possible to reduce the time and cost required for assembling the valve.

또한, 본 발명에 따른 증착공정용 개폐장치는, 아우터튜브 및 이너튜브가 수납되는 본체에 냉각수가 순환되는 냉각유로가 구비되고, 본체를 통과한 냉각수가 배출되어 설정온도 이하의 냉각수가 연속적으로 순환되면서 본체가 필요 이상으로 가열되는 것을 방지할 수 있어 본체, 아우터튜브 및 이너튜브의 열팽창을 방지할 수 있어 부품들 사이의 간격으로 진공압 또는 작동가스가 유실되는 것을 효과적으로 방지할 수 있는 이점이 있다.
According to the present invention, there is provided an opening and closing apparatus for a deposition process, comprising: a cooling channel in which cooling water is circulated in a main body in which an outer tube and an inner tube are accommodated; cooling water having passed through the main body is discharged, It is possible to prevent thermal expansion of the main body, the outer tube, and the inner tube, thereby effectively preventing the vacuum pressure or the working gas from being lost at intervals between the components .

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 증착공정용 개폐장치가 설치된 증착장치가 도시된 구성도이다.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 증착공정용 개폐장치가 도시된 사시도이다.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 증착공정용 개폐장치가 도시된 분해 사시도이다.
도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 증착공정용 개폐장치가 도시된 단면도이다.FIG. 1 is a configuration diagram illustrating a deposition apparatus provided with an opening / closing apparatus for a deposition process according to an embodiment of the present invention.
2 is a perspective view showing an opening / closing apparatus for a deposition process according to an embodiment of the present invention.
3 is an exploded perspective view illustrating an opening and closing apparatus for a deposition process according to an embodiment of the present invention.
4 is a cross-sectional view illustrating an opening / closing apparatus for a deposition process according to an embodiment of the present invention.

이하, 첨부된 도면들을 참조하여 본 발명에 따른 증착공정용 개폐장치의 일 실시예를 설명한다.Hereinafter, an embodiment of an opening and closing apparatus for a deposition process according to the present invention will be described with reference to the accompanying drawings.

이러한 과정에서 도면에 도시된 선들의 두께나 구성요소의 크기 등은 설명의 명료성과 편의상 과장되게 도시되어 있을 수 있다.In this process, the thicknesses of the lines and the sizes of the components shown in the drawings may be exaggerated for clarity and convenience of explanation.

또한, 후술되는 용어들은 본 발명에서의 기능을 고려하여 정의된 용어들로써, 이는 사용자, 운용자의 의도 또는 관례에 따라 달라질 수 있다.In addition, the terms described below are terms defined in consideration of the functions of the present invention, which may vary depending on the intention or custom of the user, the operator.

그러므로 이러한 용어들에 대한 정의는 본 명세서 전반에 걸친 내용을 토대로 내려져야 할 것이다.
Therefore, definitions of these terms should be made based on the contents throughout this specification.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 증착공정용 개폐장치가 설치된 증착장치가 도시된 구성도이고, 도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 증착공정용 개폐장치가 도시된 사시도이고, 도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 증착공정용 개폐장치가 도시된 분해 사시도이고, 도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 증착공정용 개폐장치가 도시된 단면도이다.FIG. 2 is a perspective view illustrating an opening / closing apparatus for a deposition process according to an embodiment of the present invention. FIG. 2 is a perspective view of a deposition apparatus according to an embodiment of the present invention. 3 is an exploded perspective view illustrating an opening and closing apparatus for a deposition process according to an embodiment of the present invention, and FIG. 4 is a cross-sectional view illustrating an opening and closing apparatus for a deposition process according to an embodiment of the present invention.

도 1 내지 도 4를 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 증착공정용 개폐장치는, 화학 증착공정이 진행되는 공정챔버(1)와 원격 플라즈마 소스가 수납되는 저장챔버(2) 사이에 구비되는 연결유로에 설치되고, 연결유로와 연결되어 통하는 공급홀부(14) 및 연결유로와 이격되는 설치홀부(12)를 구비하는 본체(10)와, 설치홀부(12)를 통해 삽입되고 공급홀부(14)에 대향되는 제1유로홀부(72a)가 형성되며 세라믹재질을 포함하여 이루어지는 이너튜브(74)와, 설치홀부(12)에 설치되고 이너튜브(74)를 회전 가능하게 지지하며 공급홀부(14)에 대향되는 제2유로홀부(74c)가 구비되고 세라믹재질을 포함하여 이루어지는 아우터튜브(72)와, 설치홀부(12)를 마감하도록 본체(10)에 설치되고 이너튜브(74)를 회전 가능하게 지지되는 측면부와, 측면부와 이너튜브(74) 사이의 간격을 통해 공정챔버(1)의 진공압 또는 저장챔버(2)로부터 공급되는 가스가 유실되는 것을 방지하는 실링자성부(90)를 포함한다.1 to 4, an opening and closing apparatus for a deposition process according to an embodiment of the present invention includes a process chamber 1 in which a chemical vapor deposition process is performed and a storage chamber 2 in which a remote plasma source is accommodated The main body 10 has a main body 10 which is installed in a connection flow path and is provided with a supply hole portion 14 connected to the connection flow path and a mounting hole portion 12 spaced apart from the connection flow path. An inner tube 74 formed of a ceramic material and having a first channel hole portion 72a opposed to the inner tube 74 and the inner tube 74; An outer tube 72 having a second channel hole portion 74c opposed to the inner tube 74 and including a ceramic material and an inner tube 74 installed in the main body 10 to finish the installation hole portion 12, And the distance between the side surface portion and the inner tube 74 And a sealing magnetic part (90) for preventing the vacuum pressure of the process chamber (1) or the gas supplied from the storage chamber (2) from being lost.

화학 증착공정이 진행되는 공정챔버(1)와, 원격 플라즈마 소스가 보관되는 저장챔버(2) 사이에는 연결유로가 설치되고, 연결유로에는 개폐장치가 설치되므로 플라즈마에 의한 반응가스를 분해하여 목적하는 물질의 박막을 기판 상에 퇴적시키는 화학 증착공정이 진행될 때에 개폐장치의 작동에 의해 연결유로를 개폐할 수 있게 된다.Since a connection channel is provided between the process chamber 1 in which the chemical vapor deposition process is performed and the storage chamber 2 in which the remote plasma source is stored and an opening and closing device is provided in the connection channel, When the chemical vapor deposition process for depositing the thin film of the substance on the substrate is carried out, the connection channel can be opened and closed by the operation of the opening / closing device.

본 실시예는, 연결유로에 설치되는 개폐장치로서, 세라믹재질을 포함하는 이너튜브(74) 및 아우터튜브(72)에 의해 유체를 공급 또는 차단하므로 개폐장치의 구동 중에 발생되는 마찰에 의해 이너튜브(74) 및 아우터튜브(72)가 마모되면서 부품들 사이에 간격이 형성되는 것을 방지하여 진공압 또는 가스의 유실을 효과적으로 방지할 수 있게 된다.The present embodiment is an opening / closing device provided in the connecting passage. Since the fluid is supplied or blocked by the inner tube 74 and the outer tube 72 including a ceramic material, friction generated during driving of the opening / The outer tube 74 and the outer tube 72 are prevented from being worn by forming a gap between the components, thereby effectively preventing the loss of vacuum pressure or gas.

또한, 본 실시예는, 세라믹재질을 포함하여 이루어지는 이너튜브(74) 및 아우터튜브(72)가 실링자성부(90)의 작용에 의해 기계적 실링을 이루므로 탄성재질을 포함하는 실링부재가 생략되어 NF3와 같은 부식성 가스에 의해 실링부재가 부식되는 것을 방지할 수 있게 된다.In this embodiment, since the inner tube 74 and the outer tube 72 made of a ceramic material are mechanically sealed by the action of the sealing magnetic part 90, a sealing member including an elastic material is omitted It is possible to prevent the sealing member from being corroded by the corrosive gas such as NF3.

따라서 탄성재질을 포함하는 실링부재가 부식되면서 발생되는 이물질 미립자가 공정챔버(1)에 확산되는 것을 방지하고, 증착공정의 신뢰도를 향상시킬 수 있는 효과가 나타나게 된다.Accordingly, it is possible to prevent the foreign material fine particles generated by the corrosion of the sealing member including the elastic material from diffusing into the process chamber 1, and to improve the reliability of the deposition process.

또한, 본 실시예의 본체(10)에는 냉각수가 유입되어 순환되고 배출되는 냉각유로가 형성되고, 본체(10)에는 냉각유로의 입구 및 출구를 이루는 냉각홀부(16)가 형성되며, 냉각홀부(16)에는 냉각수관(34b)이 연결되는 연결부재(34a)가 설치되다.The main body 10 is provided with a cooling hole portion 16 which forms an inlet and an outlet of the cooling passage. The cooling hole portion 16 Is provided with a connecting member 34a to which the cooling water pipe 34b is connected.

따라서 증착공정 중에 발생되는 열에너지에 의해 개폐장치가 가열되는 경우에 냉각홀부(16)를 따라 본체(10) 내부에 형성되는 냉각유로로 공급되는 냉각수에 의해 본체(10), 아우터튜브(72) 및 이너튜브(74)가 열팽창되는 것을 방지할 수 있게 되어 부품들 사이에 간격이 발생되는 것을 방지할 수 있게 된다.Therefore, when the opening and closing device is heated by the heat energy generated during the deposition process, the cooling water supplied to the cooling channel formed inside the main body 10 along the cooling hole portion 16 is cooled by the main body 10, the outer tube 72, It is possible to prevent the inner tube 74 from being thermally expanded, thereby preventing occurrence of a gap between the parts.

상기한 바와 같이 증착공정 중에 발생되는 열에너지에 의해 개폐장치가 팽창되는 것을 방지하고, 증착공정이 종료된 후에 냉각되면서 팽창된 부품들이 축소되며 부품들 사이의 열팽창 계수의 차이에 의해 간격이 형성되는 것을 방지하게 된다.As described above, it is possible to prevent expansion / contraction of the opening / closing device due to heat energy generated during the deposition process, to reduce the expanded parts while being cooled after the deposition process is completed, and to form a gap by a difference in thermal expansion coefficient .

따라서 개폐장치를 이루는 부품들 사이의 간격으로 진공압이나 작동가스가 유실되는 것을 방지하고, 개폐장치의 수명을 연장시킬 수 있게 된다.Therefore, it is possible to prevent the vacuum pressure or the working gas from being lost due to the interval between the parts constituting the switching device, and to prolong the service life of the switching device.

이너튜브(74)는, 아우터튜브(72)에 결합되고 제1유로홀부(72a)가 형성되는 몸체부(74b)와, 몸체부(74b)로부터 연장되고 측면부에 회전 가능하게 지지되는 회전축부(74a)를 포함하고, 몸체부(74b)는 회전축부(74a)와 비교하여 지름이 크게 형성되며, 회전축부(74a)는 몸체부(74b)의 양단부로부터 측 방향으로 길게 연장되어 회전축 형상을 이루게 된다.The inner tube 74 includes a body portion 74b coupled to the outer tube 72 and defining a first flow hole portion 72a and a rotary shaft portion 74b extending from the body portion 74b and rotatably supported on the side portion The body portion 74b has a larger diameter than the rotation axis portion 74a and the rotation axis portion 74a extends laterally from both ends of the body portion 74b to form a rotation axis do.

또한, 회전축부(74a)의 양단부에는 지름이 회전축부(74a)와 비교하여 작은 단차(72b)가 형성되므로 몸체부(74b)로부터 회전축부(74a)의 단부까지 2개의 단차(72b)가 형성되고, 각각의 단차(72b)에는 베어링이 설치되어 이너튜브(74)를 회전 가능하게 지지하게 된다.Two steps 72b are formed from the body portion 74b to the end of the rotary shaft portion 74a because the stepped portion 72b having a diameter smaller than that of the rotary shaft portion 74a is formed at both ends of the rotary shaft portion 74a And a bearing is provided at each step 72b to rotatably support the inner tube 74. [

몸체부(74b)에는 아우터튜브(72)의 제1유로홀부(72a)에 대향되게 배치되면 개방상태를 이루고 제1유로홀부(72a)와 이격되게 배치되면 폐쇄상태를 이루도록 제2유로홀부(74c)가 형성된다.The body portion 74b is opened to be opposed to the first channel hole portion 72a of the outer tube 72 and is disposed so as to be spaced apart from the first channel hole portion 72a to have a second channel hole portion 74c Is formed.

회전축부(74a)의 일단에는 공압에 의해 동력을 제공하는 구동부(86)가 설치되므로 구동부(86)에 의해 제공되는 동력에 의해 이너튜브(74)가 정회전 또는 역회전 하면서 제1유로홀부(72a)와 제2유로홀부(74c)를 연결 또는 이격시키게 된다.Since the driving part 86 for providing power by air pressure is provided at one end of the rotary shaft part 74a, the inner tube 74 is rotated in the forward or reverse direction by the power provided by the driving part 86, 72a and the second channel hole portion 74c.

구동부(86)는 본체(10) 및 아우터튜브(72)의 양측부를 마감하는 측면부에 설치되고, 구동부(86)의 출력축은 측면부를 관통하여 회전축부(74a)에 연결되어 이너튜브(74)에 동력을 제공하게 된다.The output shaft of the driving unit 86 is connected to the rotary shaft portion 74a through the side portion and is connected to the inner tube 74 Power.

측면부는, 설치홀부(12)를 감싸도록 본체(10)에 설치되고 아우터튜브(72)를 본체(10)에 고정시키는 설치플레이트(30)와, 설치플레이트(30)의 장착홀부(32)에 삽입되고 회전축부(74a)를 지지하는 지지파이프(52b), 및 지지파이프(52b)로부터 연장되고 설치플레이트(30)에 고정되는 연결플레이트(52a)를 포함하는 지지플레이트(52)와, 지지플레이트(52)에 설치되고 설치홀부(12)를 마감하는 마개플레이트(54)를 포함한다.The side portion includes a mounting plate 30 installed on the main body 10 so as to surround the mounting hole 12 and fixing the outer tube 72 to the main body 10 and a mounting plate 30 fixed to the mounting hole 32 of the mounting plate 30 A supporting plate 52b inserted into the supporting pipe 52b and supporting the rotating shaft portion 74a and a connecting plate 52a extending from the supporting pipe 52b and fixed to the mounting plate 30, And a stopper plate 54 which is installed on the mounting hole 52 and closes the mounting hole 12.

측면부는, 설치플레이트(30), 지지플레이트(52) 및 마개플레이트(54)가 결합되어 하나의 측면을 이루고, 설치플레이트(30)는 본체(10)의 양측면에 구비되는 개구부를 폐쇄하도록 본체(10)에 결합되고, 지지플레이트(52)는 설치플레이트(30)에 결합되어 지지파이프(52b)가 설치홀부(12)에 삽입되고, 마개플레이트(54)는 지지플레이트(52)에 결합되어 지지파이프(52b)를 폐쇄하게 된다.The side surface of the main body 10 is connected to the mounting plate 30, the support plate 52 and the stopper plate 54 to form one side surface. The mounting plate 30 is fixed to the main body 10 The supporting plate 52 is coupled to the mounting plate 30 so that the supporting pipe 52b is inserted into the mounting hole 12 and the stopper plate 54 is coupled to the supporting plate 52, The pipe 52b is closed.

여기서, 지지파이프(52b)는, 설치홀부(12) 내부로 삽입되어 회전축부(74a)를 회전 가능하게 지지하고, 지지파이프(52b)에는 실링자성부(90)가 구비되어 회전축부(74a)와 지지파이프(52b) 사이에 기계적 실링이 이루어지도록 한다.The supporting pipe 52b is inserted into the mounting hole 12 to rotatably support the rotary shaft portion 74a and the supporting pipe 52b is provided with the sealing magnetic portion 90 to rotate the rotary shaft portion 74a. And the support pipe 52b.

회전축부(74a)와 아우터튜브(72) 사이에는 세라믹재질을 포함하여 이루어지는 제1베어링(82)이 설치되고, 회전축부(74a)와 지지파이프(52b) 사이에는 세라믹재질을 포함하여 이루어지는 제2베어링(84)이 설치된다.A first bearing 82 made of a ceramic material is provided between the rotary shaft portion 74a and the outer tube 72 and a second bearing 82 made of a ceramic material is provided between the rotary shaft portion 74a and the support pipe 52b. A bearing 84 is installed.

이너튜브(74)의 몸체부(74b)와 회전축부(74a) 사이의 단차(72b)에는 제1베어링(82)이 설치되어 회전축부(74a)가 지지파이프(52b) 내벽에 회전 가능하게 지지되고, 회전축부(74a)의 단부에 형성되는 단차(72b)에는 제2베어링(84)이 설치되어 회전축부(74a)가 지지파이프(52b) 내벽에 회전 가능하게 지지된다.A first bearing 82 is provided at a step 72b between the body portion 74b of the inner tube 74 and the rotary shaft portion 74a so that the rotary shaft portion 74a is rotatably supported on the inner wall of the support pipe 52b A second bearing 84 is provided on the step 72b formed at the end of the rotary shaft portion 74a so that the rotary shaft portion 74a is rotatably supported on the inner wall of the support pipe 52b.

따라서 구동부(86)로부터 전달되는 동력에 의해 이너튜브(74)가 지지파이프(52b) 내벽 및 아우터튜브(72)의 내벽을 따라 회전하면서 개폐작동을 행하게 되고, 실링자성부(90)에 의해 회전축부(74a)와 지지파이프(52b) 사이의 간격으로 진공압 또는 작동유체가 유실되는 것을 방지할 수 있게 된다.The inner tube 74 is rotated along the inner wall of the support pipe 52b and the inner wall of the outer tube 72 by the power transmitted from the drive unit 86 to perform opening and closing operations, It is possible to prevent the vacuum pressure or the working fluid from being lost due to the gap between the portion 74a and the support pipe 52b.

또한, 본 실시예의 구동부(86)는, 측면부에 설치되고, 측면부에는 구동부(86)를 감싸는 커버부재(88)가 설치되므로 구동부(86)가 노출되는 것을 방지하며 외력에 의한 충격으로 구동부(86)가 오작동되거나 파손되는 것을 방지할 수 있게 된다.Since the cover 86 is provided on the side surface of the driving portion 86 of the present embodiment, the cover 86 prevents the driving portion 86 from being exposed and the driving portion 86 Can be prevented from being malfunctioned or broken.

실링자성부(90)는, 측면부에 구비되는 복수 개의 실링홈부(92)와, 실링홈부(92)에 삽입되고 자기력을 제공하는 자성체(94)를 포함한다.The sealing magnetic portion 90 includes a plurality of sealing groove portions 92 provided on the side surface portion and a magnetic body 94 inserted in the sealing groove portion 92 and providing a magnetic force.

지지파이프(52b)의 내벽에는 복수 개의 실링홈부(92)가 간격을 유지하며 형성되고, 실링홈부(92)에는 자성체(94)가 삽입되어 회전축부(74a)에 자기력을 제공하게 되고, 지지파이프(52b)와 회전축부(74a) 사이에 형성되는 자기력에 의해 기계적 실링이 이루어지게 된다.A plurality of sealing grooves 92 are formed on the inner wall of the support pipe 52b while maintaining a gap therebetween. A magnetic substance 94 is inserted into the sealing groove 92 to provide a magnetic force to the rotary shaft 74a. Mechanical sealing is performed by the magnetic force formed between the rotating shaft portion 74a and the rotating shaft portion 52b.

회전축부(74a)와 지지파이프(52b) 내벽 사이에 링 모양으로 형성되는 다수 개의 자성체(94)가 간격을 유지하며 설치되므로 자성체(94)들 사이의 간격에서 생성되는 자기장에 의해 회전축부(74a)와 지지파이프(52b) 사이의 간격으로 통과되는 작동유체 중에 포함되는 입자들이 자기력에 의해 전기적 성질을 갖게 되면서 회전축부(74a)와 지지파이프(52b) 사이의 간격을 통과하지 못하게 된다.Since a plurality of magnetic bodies 94 formed in a ring shape between the rotating shaft portion 74a and the inner wall of the support pipe 52b are installed with a space therebetween, the magnetic field generated in the gap between the magnetic bodies 94, The particles contained in the working fluid passing through the gap between the rotating shaft portion 74a and the supporting pipe 52b have electrical properties due to the magnetic force and can not pass the gap between the rotating shaft portion 74a and the supporting pipe 52b.

또한, 자성체(94)로부터 제공되는 자기력에 의해 회전축부(74a)와 지지파이프(52b) 사이에 서로 끌어당기는 인력이 발생되면서 회전축부(74a)가 지지파이프(52b) 내벽에 밀착되면서 회전축부(74a)와 지지파이프(52b) 사이의 간격을 없애므로 회전축부(74a)와 지지파이프(52b) 사이의 간격으로 진공압 또는 작동유체가 유실되는 것을 효과적으로 방지할 수 있게 된다.
While the attracting force between the rotary shaft portion 74a and the support pipe 52b is generated by the magnetic force provided from the magnetic body 94 and the rotary shaft portion 74a is brought into close contact with the inner wall of the support pipe 52b, 74a and the support pipe 52b, it is possible to effectively prevent the vacuum pressure or the working fluid from being lost due to the gap between the rotary shaft portion 74a and the support pipe 52b.

상기와 같이 구성된 본 발명의 일 실시예에 따른 증착공정용 개폐장치의 작동을 살펴보면 다음과 같다.The operation of the opening and closing apparatus for a deposition process according to an embodiment of the present invention will now be described.

먼저, 공정챔버(1) 내부에 작업 대상물을 안착시키고, 저장챔버(2)에 원격 플라즈마 소스를 수납한 후에 증착공정을 개시하면 챔버가 가열되면서 저장챔버(2)에서 발생되는 플라즈마 소스가 공급관(5)을 따라 공정챔버(1)에 공급되어 증착공정이 이루어지게 된다.First, when a workpiece is placed in the process chamber 1 and a remote plasma source is stored in the storage chamber 2, a deposition process is started. When the chamber is heated, a plasma source generated in the storage chamber 2 is supplied to the supply pipe 5 to the process chamber 1 to perform the deposition process.

이때, 저장챔버(2)에서 발생되는 작동유체가 공급관(5)을 따라 공정챔버(1)에 공급될 수 있도록 개폐장치가 개방되면서 작동유체가 공급되는데, 구동부(86)의 작동에 의해 발생되는 동력이 이너튜브(74)에 전달되면 회전축부(74a)를 중심으로 몸체부(74b)가 회전되면서 제1유로홀부(72a)와 제2유로홀부(74c)가 서로 연결되게 배치되면 저장챔버(2)와 공정챔버(1)가 연결되어 작동유체의 공급이 이루어지게 된다.At this time, the operating fluid is supplied while the opening / closing device is opened so that the working fluid generated in the storage chamber 2 can be supplied to the process chamber 1 along the supply pipe 5, When the power is transmitted to the inner tube 74, when the body portion 74b is rotated about the rotation axis portion 74a and the first and second flow channel holes 72a and 74c are connected to each other, 2 and the process chamber 1 are connected to each other to supply the working fluid.

상기한 바와 같은 화학 증착공정이 다수 차례 진행되면 공정챔버(1) 및 저장챔버(2)에 퇴적층이 생성되므로 공정 중간에 부식성 가스 예를 NF3과 같은 투입하여 클리닝 공정을 행하게 된다.When the chemical vapor deposition process as described above proceeds a plurality of times, a deposition layer is formed in the process chamber 1 and the storage chamber 2, so that the cleaning process is performed by injecting the corrosive gas as in the case of NF3 in the middle of the process.

이때, 본 실시예에 따른 개폐장치는, 구동부(86)의 작동에 의해 이너튜브(74)가 회전되면서 제1유로홀부(72a)와 제2유로홀부(74c)를 연결시켜 NF3의 공급을 행할 수 있도록 하고, 회전축부(74a)에 설치되는 다수 개의 자성체(94)에 의해 회전축과 지지파이프(52b) 내벽 사이에 자기력이 형성되므로 지지파이프(52b)와 회전축부(74a) 사이의 간격을 통과하는 작동유체의 입자에 자기력을 제공하여 간격을 통과하는 것을 방지할 수 있게 된다.At this time, in the opening and closing apparatus according to the present embodiment, the inner tube 74 is rotated by the operation of the driving unit 86, and the first flow hole portion 72a and the second flow hole portion 74c are connected to supply the NF 3 A magnetic force is formed between the rotary shaft and the inner wall of the support pipe 52b by the plurality of magnetic bodies 94 provided on the rotary shaft portion 74a so that the gap between the support pipe 52b and the rotary shaft portion 74a passes It is possible to prevent the particles of the working fluid from passing through the gap by providing a magnetic force to the particles of the working fluid.

또한, 자성체(94)는, 회전축부(74a)와 지지파이프(52b) 내벽 사이에서 서로 끌어당기는 인력을 제공할 수 있어 부품들 사이의 간격을 좁히면서 진공압 또는 작동유체의 유실을 방지할 수 있게 된다.The magnetic body 94 can provide attracting force between the rotary shaft portion 74a and the inner wall of the support pipe 52b so as to prevent the loss of the vacuum pressure or the working fluid while narrowing the interval between the components .

이로써, 증착공정 및 세척공정 중에 진공압이 유실되는 것을 방지하고, 증착공정 및 세척공정에 사용되는 유해가스에 의해 실링부재가 부식되는 것을 방지하며, 밸브의 수명을 연장시킬 수 있고, 열팽창에 의한 밸브의 변형 또는 파손을 방지할 수 있는 증착공정용 개폐장치를 제공할 수 있게 된다.
This prevents the vacuum pressure from being lost during the deposition process and the cleaning process, prevents the sealing member from being corroded by the noxious gas used in the deposition process and the cleaning process, extends the service life of the valve, It is possible to provide an opening and closing apparatus for a deposition process capable of preventing deformation or breakage of the valve.

본 발명은 도면에 도시되는 일 실시예를 참고로 하여 설명되었으나, 이는 예시적인 것에 불과하며, 당해 기술이 속하는 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 이로부터 다양한 변형 및 균등한 타 실시예가 가능하다는 점을 이해할 것이다.While the present invention has been particularly shown and described with reference to exemplary embodiments thereof, it is to be understood that the invention is not limited to the disclosed embodiments, but, on the contrary, is intended to cover various modifications and equivalent arrangements included within the spirit and scope of the appended claims. .

또한, 증착공정용 개폐장치를 예로 들어 설명하였으나, 이는 예시적인 것에 불과하며, 증착공정용 개폐장치가 아닌 다른 제품에도 본 발명의 개폐장치가 사용될 수 있다.Also, although the opening and closing apparatus for the deposition process has been described as an example, the present invention is merely an example, and the opening and closing apparatus of the present invention can be used for products other than the opening and closing apparatus for the deposition process.

따라서 본 발명의 진정한 기술적 보호범위는 아래의 특허청구범위에 의해서 정하여져야 할 것이다.
Accordingly, the true scope of the present invention should be determined by the following claims.

10 : 본체 12 : 설치홀부
14 : 공급홀부 14a : 테두리부재
16 : 냉각홀부 30 : 설치플레이트
32 : 장착홀부 34 : 간섭홈부
34a : 연결부재 34b : 냉각수관
36 : 결합돌기부 52 : 지지플레이트
52a ; 연결플레이트 52b : 지지파이프
54 : 마개플레이트 72 : 아우터튜브
72a : 제1유로홀부 72b : 단차부
74 : 이너튜브 74a : 회전축부
74b : 몸체부 74c : 제2유로홀부
82 : 제1베어링 84 : 제2베어링
86 : 구동부 88 : 커버부재
88a : 서비스홀부 90 : 실링자성부
92 : 실링홈부 94 : 자성체10: main body 12: mounting hole portion
14: supply hole portion 14a:
16: cooling hole portion 30: mounting plate
32: mounting hole part 34: interference groove part
34a: connecting member 34b: cooling water pipe
36: engaging projection 52: support plate
52a; Connection plate 52b: support pipe
54: plug plate 72: outer tube
72a: first flow hole portion 72b:
74: Inner tube 74a:
74b: body portion 74c: second flow hole portion
82: first bearing 84: second bearing
86: driving part 88: cover member
88a: service hole 90: sealing member
92: sealing groove portion 94: magnetic substance

Claims (6)

화학 증착공정이 진행되는 공정챔버와 원격 플라즈마 소스가 수납되는 저장챔버 사이에 구비되는 연결유로에 설치되고, 상기 연결유로와 연결되어 통하는 공급홀부 및 상기 연결유로와 이격되는 설치홀부를 구비하는 본체;
상기 설치홀부를 통해 삽입되고 상기 공급홀부에 대향되는 제1유로홀부가 형성되며 세라믹재질을 포함하여 이루어지는 이너튜브;
상기 설치홀부에 설치되고 상기 이너튜브를 회전 가능하게 지지하며 상기 공급홀부에 대향되는 제2유로홀부가 구비되고 세라믹재질을 포함하여 이루어지는 아우터튜브;
상기 설치홀부를 마감하도록 상기 본체에 설치되고 상기 이너튜브를 회전 가능하게 지지되는 측면부; 및
상기 측면부와 상기 이너튜브 사이의 간격을 통해 상기 공정챔버의 진공압 또는 상기 저장챔버로부터 공급되는 가스가 유실되는 것을 방지하는 실링자성부를 포함하고,
상기 본체에는 냉각수가 유입되어 순환되고 배출되는 냉각유로가 형성되고, 상기 본체에는 상기 냉각유로의 입구 및 출구를 이루는 냉각홀부가 형성되며, 상기 냉각홀부에는 냉각수관이 연결되는 연결부재가 설치되는 것을 특징으로 하는 증착공정용 개폐장치.
A body provided with a connection hole provided in a connection channel provided between a process chamber in which a chemical vapor deposition process is performed and a storage chamber in which a remote plasma source is accommodated and connected to the connection channel and an installation hole spaced apart from the connection channel;
An inner tube inserted through the installation hole and having a first flow hole portion facing the supply hole, the inner tube including a ceramic material;
An outer tube which is provided in the mounting hole portion and rotatably supports the inner tube and has a second flow hole portion opposed to the supply hole portion and includes a ceramic material;
A side portion installed in the main body to finish the installation hole portion and rotatably supported by the inner tube; And
And a sealing magnetic portion for preventing a vacuum pressure of the process chamber or a gas supplied from the storage chamber from being lost through a gap between the side portion and the inner tube,
A cooling hole is formed in the main body to circulate and discharge the cooling water. The main body is provided with a cooling hole forming an inlet and an outlet of the cooling passage, and a cooling member is connected to the cooling hole. Wherein the opening / closing device for the deposition process is characterized in that:
삭제delete 제1항에 있어서, 상기 이너튜브는,
상기 아우터튜브에 결합되고 상기 제1유로홀부가 형성되는 몸체부; 및
상기 본체로부터 연장되고 상기 측면부에 회전 가능하게 지지되는 회전축부를 포함하는 것을 특징으로 하는 증착공정용 개폐장치.
The gasket according to claim 1,
A body coupled to the outer tube and having the first flow path hole; And
And a rotation axis portion extending from the main body and rotatably supported on the side portion.
제3항에 있어서, 상기 측면부는,
상기 설치홀부를 감싸도록 상기 본체에 설치되고 상기 아우터튜브를 상기 본체에 고정시키는 설치플레이트;
상기 설치플레이트의 장착홀부에 삽입되고 상기 회전축부를 지지하는 지지파이프와, 상기 지지파이프로부터 연장되고 상기 설치플레이트에 고정되는 연결플레이트를 포함하는 지지플레이트; 및
상기 지지플레이트에 설치되고 상기 설치홀부를 마감하는 마개플레이트를 포함하는 것을 특징으로 하는 증착공정용 개폐장치.
4. The apparatus according to claim 3,
A mounting plate installed on the main body to surround the mounting hole and fixing the outer tube to the main body;
A supporting plate inserted into a mounting hole of the mounting plate and supporting the rotating shaft, and a connecting plate extending from the supporting pipe and fixed to the mounting plate; And
And a stopper plate provided on the support plate and closing the mounting hole portion.
제4항에 있어서,
상기 회전축부와 상기 아우터튜브 사이에는 세라믹재질을 포함하여 이루어지는 제1베어링이 설치되고, 상기 회전축부와 상기 지지파이프 사이에는 세라믹재질을 포함하여 이루어지는 제2베어링이 설치되는 것을 특징으로 하는 증착공정용 개폐장치.
5. The method of claim 4,
Wherein a first bearing including a ceramic material is provided between the rotary shaft portion and the outer tube and a second bearing including a ceramic material is provided between the rotary shaft portion and the support pipe. Opening and closing device.
제1항에 있어서, 상기 실링자성부는,
상기 측면부에 구비되는 복수 개의 실링홈부; 및
상기 실링홈부에 삽입되고 자기력을 제공하는 자성체를 포함하는 것을 특징으로 하는 증착공정용 개폐장치.The magnetic sensor according to claim 1, wherein the sealing magnetic portion
A plurality of sealing grooves provided on the side portion; And
And a magnetic body inserted in the sealing groove portion and providing a magnetic force.
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