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KR101890036B1 - Manufacturing method of four-layer structure flexible copper clad laminate - Google Patents

Manufacturing method of four-layer structure flexible copper clad laminate Download PDF

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KR101890036B1
KR101890036B1 KR1020160154708A KR20160154708A KR101890036B1 KR 101890036 B1 KR101890036 B1 KR 101890036B1 KR 1020160154708 A KR1020160154708 A KR 1020160154708A KR 20160154708 A KR20160154708 A KR 20160154708A KR 101890036 B1 KR101890036 B1 KR 101890036B1
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resin layer
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polyimide resin
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김영주
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에스디플렉스(주)
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Abstract

층간 접착력이 우수하며, 동박층의 표면 조도로 인한 미충진 불량을 미연에 방지할 수 있는 4층 구조의 연성 동박적층판의 제조 방법에 대하여 개시한다.
본 발명에 따른 4층 구조의 연성 동박적층판의 제조 방법은 (a) 제1 동박층의 상부 표면에 폴리이미드 수지 조성물을 코팅하고 경화하여 폴리이미드 수지층을 형성하는 단계; (b) 제2 동박층의 상부 표면에 에폭시 수지 조성물을 코팅하고 건조하여 반경화형 에폭시 수지층을 형성하는 단계; (c) 상기 폴리이미드 수지층과 반경화형 에폭시 수지층이 상호 마주보도록 상기 제1 및 제2 동박층을 합지하는 단계; 및 (d) 상기 반경화형 에폭시 수지층을 경화시켜, 위로부터 제1 동박층, 폴리이미드 수지층, 에폭시 수지층 및 제2 동박층이 차례로 배치되는 4층 구조의 연성 동박적층판을 형성하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 한다.
A method for producing a flexible copper-clad laminate having a four-layer structure which is excellent in interlaminar adhesion and can prevent unfilled defects due to surface roughness of the copper foil layer.
The method for manufacturing a flexible copper clad laminate having a four-layer structure according to the present invention comprises the steps of: (a) coating a polyimide resin composition on an upper surface of a first copper layer and curing the polyimide resin layer to form a polyimide resin layer; (b) coating an upper surface of the second copper foil layer with an epoxy resin composition and drying to form a semi-cured epoxy resin layer; (c) laminating the first and second copper layers so that the polyimide resin layer and the semi-curable epoxy resin layer face each other; And (d) curing the semi-cured epoxy resin layer to form a flexible copper-clad laminate having a four-layer structure in which a first copper layer, a polyimide resin layer, an epoxy resin layer, and a second copper layer are sequentially arranged from above; And a control unit.

Description

4층 구조의 연성 동박적층판의 제조 방법{MANUFACTURING METHOD OF FOUR-LAYER STRUCTURE FLEXIBLE COPPER CLAD LAMINATE}TECHNICAL FIELD [0001] The present invention relates to a method of manufacturing a flexible copper clad laminate having a four-layer structure,

본 발명은 연성 동박적층판의 제조 방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 층간 접착력이 우수하며, 동박층의 표면 조도로 인한 미충진 불량을 미연에 방지할 수 있는 4층 구조의 연성 동박적층판의 제조 방법에 관한 것이다.
The present invention relates to a method of manufacturing a flexible copper clad laminate, and more particularly, to a method of manufacturing a flexible copper clad laminate having a four-layer structure which is excellent in interlaminar adhesive strength and can prevent unfilled defects due to surface roughness of a copper foil layer .

동박적층판(Copper Clad Laminate, CCL)은 인쇄회로기판(Printed Circuit Board, PCB)의 원자재로서, 주로 페놀 수지, 에폭시 수지 등을 유리섬유, 그래프트지(graft paper) 등의 절연체에 함침시키고, 이러한 절연체를 한겹 이상 적층한 후, 동박을 가열가압 처리하여 얻는다.Copper Clad Laminate (CCL) is a raw material for a printed circuit board (PCB), and mainly phenol resin, epoxy resin or the like is impregnated with an insulator such as glass fiber or graft paper, And then the copper foil is heat-pressed.

이러한 동박적층판은 절연층의 보강기재 및 소재에 따라, 종이 베이스 페놀수지 동박적층판, 유리 베이스 에폭시 수지 동박적층판, 종이 베이스 폴리에스테르 수지 동박적층판, 복합 동박적층판, 연성 동박적층판, 금속 베이스 동박적층판, 다층 프린트 배선판용 동박적층판, 고주파용 동박적층판 등으로 다양하게 제조된다.Such a copper-clad laminate can be classified into a paper base phenol resin copper-clad laminate, a glass base epoxy resin copper-clad laminate, a paper base polyester resin copper-clad laminate, a composite copper-clad laminates, a flexible copper- A copper clad laminate for a printed wiring board, and a high-frequency copper clad laminate.

최근에는 스마트 휴대단말기에 무선충전 기술이 적용되면서, 충전 효율을 높여야 하는 과제가 중요하게 대두되었으며, 이에 부합하여 연성 동박적층판의 회로소재에 적용되는 동박의 두께가 두꺼워지고 있다.In recent years, the wireless charging technology has been applied to the smart portable terminal, and the charging efficiency has been increasingly important. In accordance with this, the thickness of the copper foil applied to the circuit material of the flexible copper clad laminate is getting thicker.

이와 같이, 동박 두께가 두꺼운 연성 동박적층판을 제조하기 위해서는 몇 가지 필연적인 문제가 발생된다.Thus, several inevitable problems arise in producing a flexible copper-clad laminate having a large thickness of copper foil.

첫째로, 가장 중요한 것은 층간 접착력이 높아야만 된다. 이는 동박을 에칭한 후에 접착력이 낮으면, 얇은 동박을 에칭한 제품보다 외부의 충격에 에칭한 회로가 쉽게 떨어지는 문제가 발생되기 때문이다.First, the most important thing is that the interlayer adhesion must be high. This is because, if the adhesive force is low after the copper foil is etched, a problem arises that a circuit which is etched by an external impact is more easily fallen than a product obtained by etching a thin copper foil.

둘째로, 기존의 3층 구조의 제조 방식을 적용할 경우에는 동박의 조도에 따라서 품질에 대한 문제가 야기될 수 있다. 특히, 동박은 두께가 두꺼워질수록 표면조도가 커지는 경향이 있다. 위에서 설명한 것처럼 3층 구조의 방식은 열가소성 수지를 녹여 동박과 열압착하여 제조하는 방식인데, 이때 동박의 표면조도가 크면 열가소성 수지층이 모든 부위를 채울 수 없게 되며, FPCB(flexible printed circuit board) 작업 시 공극에 에칭액이 침투하여 에칭 불량을 유발한다.Second, when the existing three-layer structure manufacturing method is applied, there may be a problem with quality depending on the roughness of the copper foil. Particularly, as the thickness of the copper foil increases, the surface roughness tends to increase. As described above, the three-layer method is a method in which a thermoplastic resin is melted and thermocompression-bonded to a copper foil. In this case, if the surface roughness of the copper foil is large, the thermoplastic resin layer can not fill all the parts. The etchant penetrates into the voids at the time of etching to induce etching failure.

셋째로, 기존의 3층 구조의 제조 방식을 적용할 경우에는 생산성이 낮아지는 문제가 있다. 기존의 3층 구조의 제조 방식은 동박 사이에 열가소성 수지가 얇게 묻어있는 필름을 사용하게 되며, 매우 높은 온도로 열가소성 수지를 녹여 동박과 열 압착을 통해서 제품을 제조하게 된다. 이때, 동박이 두꺼우면 동박을 통해서 열가소성 수지에 열을 전달하여야 하는데 오랜 시간이 걸리고, 이는 생산성을 저하시키는 결과를 초래한다.Third, there is a problem in that productivity is lowered when the existing three-layer structure manufacturing method is applied. In the conventional three-layer manufacturing method, a thin film of thermoplastic resin is used between the copper foils, and the thermoplastic resin is melted at a very high temperature to produce the product through the copper foil and the thermocompression bonding. At this time, if the copper foil is thick, it takes a long time to transfer heat to the thermoplastic resin through the copper foil, which results in a decrease in productivity.

이러한 문제점에 대한 개선책으로, 5층 구조의 연성 동박적층판 제조 방식이 제안되고 있다. 그러나, 5층 구조의 연성 동박적층판은 내열성이 낮고, 치수안정성이 좋지 않아서 FPCB 제조 공정에서 많은 문제를 갖고 있으며, 또한 충전시 발생되는 열에 대해서도 효율성이 떨어지는 문제점을 갖는다.As a solution to this problem, a flexible copper clad laminate manufacturing method of a five-layer structure has been proposed. However, the flexible copper-clad laminate having a five-layer structure has low heat resistance and poor dimensional stability, and thus has many problems in the FPCB manufacturing process and also has a problem in that efficiency against heat generated during charging is inferior.

관련 선행문헌으로는 대한민국 공개특허 제10-2012-0117439호(2012.10.24 공개)가 있으며, 상기 문헌에는 연성 동박적층판 제조방법이 기재되어 있다.
A related prior art is Korean Patent Laid-Open No. 10-2012-0117439 (published on October 24, 2012), which discloses a method for manufacturing a flexible copper clad laminate.

본 발명의 목적은 층간 접착력이 우수하며, 동박층의 표면 조도로 인한 미충진 불량을 미연에 방지할 수 있는 4층 구조의 연성 동박적층판의 제조 방법을 제공하는 것이다.
An object of the present invention is to provide a method for manufacturing a flexible copper clad laminate having a four-layer structure which is excellent in interlaminar adhesive strength and can prevent unfilled defects due to surface roughness of the copper foil layer.

상기 목적을 달성하기 위한 본 발명의 실시예에 따른 4층 구조의 연성 동박적층판의 제조 방법은 (a) 제1 동박층의 상부 표면에 폴리이미드 수지 조성물을 코팅하고 경화하여 폴리이미드 수지층을 형성하는 단계; (b) 제2 동박층의 상부 표면에 에폭시 수지 조성물을 코팅하고 건조하여 반경화형 에폭시 수지층을 형성하는 단계; (c) 상기 폴리이미드 수지층과 반경화형 에폭시 수지층이 상호 마주보도록 상기 제1 및 제2 동박층을 합지하는 단계; 및 (d) 상기 반경화형 에폭시 수지층을 경화시켜, 위로부터 제1 동박층, 폴리이미드 수지층, 에폭시 수지층 및 제2 동박층이 차례로 배치되는 4층 구조의 연성 동박적층판을 형성하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 한다.
According to another aspect of the present invention, there is provided a method for manufacturing a flexible copper clad laminate having a four-layer structure, comprising: (a) coating a polyimide resin composition on an upper surface of a first copper foil layer and curing the polyimide resin layer to form a polyimide resin layer ; (b) coating an upper surface of the second copper foil layer with an epoxy resin composition and drying to form a semi-cured epoxy resin layer; (c) laminating the first and second copper layers so that the polyimide resin layer and the semi-curable epoxy resin layer face each other; And (d) curing the semi-cured epoxy resin layer to form a flexible copper-clad laminate having a four-layer structure in which a first copper layer, a polyimide resin layer, an epoxy resin layer, and a second copper layer are sequentially arranged from above; And a control unit.

본 발명에 따른 4층 구조의 연성 동박적층판의 제조 방법은 위로부터 제1 동박층, 폴리이미드 수지층, 에폭시 수지층 및 제2 동박층이 차례로 배치되는 4층 구조를 가짐에 따라, 에폭시 수지층과 접합되는 폴리이미드 수지층에 의해 내열성 확보가 가능할 뿐만 아니라, 폴리이미드 수지층 및 에폭시 수지층에 제1 및 제2 필러를 최적의 함량비로 각각 첨가하는 것에 의해, 내전압 특성의 저하를 최소화하면서 표면조도의 개선으로 층간 접착력을 향상시킬 수 있다.The method for manufacturing a flexible copper clad laminate having a four-layer structure according to the present invention has a four-layer structure in which a first copper layer, a polyimide resin layer, an epoxy resin layer and a second copper foil layer are sequentially arranged from above, And the first and second fillers are added to the polyimide resin layer and the epoxy resin layer at an optimum content ratio, respectively, so that the surface of the polyimide resin layer Improvement in roughness can improve interlaminar adhesion.

또한, 본 발명에 따른 4층 구조의 연성 동박적층판 제조 방법은 충전 효율을 높이기 위해 제1 및 제2 동박층의 두께가 두꺼워지더라도, 제1 및 제2 동박층에 각각 폴리이미드 수지 용액 및 에폭시 수지 용액을 각각 코팅하는 방식으로 절연체를 형성하기 때문에 동박 조도에 의한 굴곡진 부분에까지 절연체를 완벽하게 충진시킬 수 있으므로, 동박 조도로 인한 미충진 불량이 해소되어 에칭 공정에서의 불량이 발생하지 않게 된다.Also, in the method for manufacturing a flexible copper clad laminate having a four-layer structure according to the present invention, even if the thickness of the first and second copper foil layers is increased to increase the charging efficiency, the polyimide resin solution and the epoxy Since the insulator is formed by coating the resin solution, the insulator can be completely filled up to the bent portion by the roughness of the copper foil, so that the unfilled defects due to the copper foil roughness are eliminated and no defect is caused in the etching process .

또한, 본 발명에 따른 4층 구조의 연성 동박적층판 제조 방법은 제1 동박층 상에만 폴리이미드 수지층을 형성하고, 제2 동박층 상에는 반경화 에폭시 수지층을 형성한 후, 반경화형 에폭시 수지를 경화시키는 것에 의해 4층 구조를 가짐에 따라, 고가인 폴리이미드 수지의 사용량을 감소시킬 수 있을 뿐만 아니라 제조 공정이 단순화하며, 박형화가 가능한 구조를 갖는다.
In the method for manufacturing a flexible copper clad laminate having a four-layer structure according to the present invention, a polyimide resin layer is formed only on the first copper layer, a semi-cured epoxy resin layer is formed on the second copper layer, Curing to form a four-layer structure, the use amount of the expensive polyimide resin can be reduced, the manufacturing process can be simplified, and the structure can be thinned.

도 1은 본 발명의 실시예에 따른 4층 구조의 연성 동박적층판의 제조 방법을 나타낸 공정 순서도.
도 2 내지 도 5는 본 발명의 실시예에 따른 4층 구조의 연성 동박적층판의 제조 방법을 나타낸 공정 단면도.
도 6은 실시예 4에 따라 제조된 FCCL을 나타낸 SEM 사진.
BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS FIG. 1 is a flow chart showing a method of manufacturing a flexible copper clad laminate having a four-layer structure according to an embodiment of the present invention.
2 to 5 are process sectional views showing a method of manufacturing a four-layered flexible copper-clad laminate according to an embodiment of the present invention.
6 is a SEM photograph of an FCCL prepared according to Example 4. Fig.

본 발명의 이점 및 특징, 그리고 그것들을 달성하는 방법은 첨부되는 도면과 함께 상세하게 후술되어 있는 실시 예들을 참조하면 명확해질 것이다. 그러나, 본 발명은 이하에서 개시되는 실시 예들에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 구현될 것이며, 단지 본 실시 예들은 본 발명의 개시가 완전하도록 하며, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이며, 본 발명은 청구항의 범주에 의해 정의될 뿐이다. 명세서 전체에 걸쳐 동일 참조 부호는 동일 구성요소를 지칭한다.BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS The advantages and features of the present invention, and the manner of achieving them, will be apparent from and elucidated with reference to the embodiments described hereinafter in conjunction with the accompanying drawings. However, it should be understood that the present invention is not limited to the embodiments disclosed herein but may be embodied in many different forms and should not be construed as being limited to the embodiments set forth herein. Rather, these embodiments are provided so that this disclosure will be thorough and complete, and will fully convey the concept of the invention to those skilled in the art. Is provided to fully convey the scope of the invention to those skilled in the art, and the invention is only defined by the scope of the claims. Like reference numerals refer to like elements throughout the specification.

이하 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 4층 구조의 연성 동박적층판의 제조 방법에 관하여 상세히 설명하면 다음과 같다.
Hereinafter, a method for manufacturing a four-layered flexible copper-clad laminate according to a preferred embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 1은 본 발명의 실시예에 따른 4층 구조의 연성 동박적층판의 제조 방법을 나타낸 공정 순서도이고, 도 2 내지 도 5는 본 발명의 실시예에 따른 4층 구조의 연성 동박적층판의 제조 방법을 나타낸 공정 단면도이다.FIG. 1 is a process flow diagram illustrating a method of manufacturing a flexible copper-clad laminate having a four-layer structure according to an embodiment of the present invention, and FIGS. 2 to 5 illustrate a method of manufacturing a flexible copper- Fig.

도 1을 참조하면, 본 발명의 실시예에 따른 4층 구조의 연성 동박적층판의 제조 방법은 제1 동박층 상에 폴리이미드 수지층 형성 단계(S110), 제2 동박층 상에 반경화형 에폭시 수지층 형성 단계(S120), 제1 및 제2 동박층 합지 단계(S130) 및 반경화형 에폭시 수지층 경화 단계(S140)를 포함한다.
1, a method of manufacturing a flexible copper clad laminate having a four-layer structure according to an embodiment of the present invention includes forming a polyimide resin layer on a first copper layer (S110), forming a semi-cured epoxy resin Layer formation step S120, a first and second copper foil layer lining step S130, and a semi-curing epoxy resin layer curing step S140.

제1 동박층 상에 폴리이미드 수지층 형성A polyimide resin layer is formed on the first copper layer

도 1 및 도 2에 도시된 바와 같이, 제1 동박층 상에 폴리이미드 수지층 형성 단계(S110)에서는 제1 동박층(110)의 상부 표면에 폴리이미드 수지 조성물을 코팅하고, 경화하여 폴리이미드 수지층(120)을 형성한다.1 and 2, a polyimide resin composition is coated on the upper surface of the first copper foil layer 110 in the polyimide resin layer formation step (S110) on the first copper foil layer and cured to form a polyimide resin layer The resin layer 120 is formed.

이때, 코팅은 콤마(comma) 코팅 방식, 다이(Die) 코팅방식, 립(Lip) 코팅 방식, 롤(Roll) 코팅 방식, 그라비어(Gravure) 코팅 방식, 블레이드(Blade) 코팅 방식, 바(bar) 코팅 방식, 리버스(Reverse) 코팅 방식 등에서 선택된 어느 하나가 이용될 수 있다. 그리고, 경화는 300 ~ 400℃에서 실시될 수 있다.In this case, the coating may be applied to various types of substrates such as a comma coating method, a die coating method, a lip coating method, a roll coating method, a gravure coating method, a blade coating method, a bar coating method, A coating method, a reverse coating method, or the like can be used. The curing can be carried out at 300 to 400 占 폚.

제1 동박층(110)의 재질로는 상대적으로 전기 전도도가 우수한 구리가 이용될 수 있다. 이러한 제1 동박층(110)은 스마트 휴대단말기에 무선충전 기술이 적용되는 스마트 휴대단말기의 적용시, 충전 효율을 높이기 위해, 상대적으로 두께가 두꺼운 30 ~ 105㎛를 가질 수 있다.Copper having a relatively high electrical conductivity may be used as the material of the first copper layer 110. The first copper layer 110 may have a relatively thick thickness of 30 to 105 占 퐉 in order to improve the charging efficiency when a smart portable terminal to which a wireless charging technique is applied to the smart portable terminal.

폴리이미드 수지 조성물은 폴리이미드 수지, 제1 필러 및 제1 용제로 조성된다. 본 단계에서, 폴리이미드 수지 조성물은 건조에 의해 제1 용제가 휘발되어 제거되어, 폴리이미드 수지층(120)은 폴리이미드 수지(122) 및 제1 필러(124)로 조성된다.The polyimide resin composition is composed of a polyimide resin, a first filler, and a first solvent. In this step, the first solvent is volatilized and removed by drying the polyimide resin composition so that the polyimide resin layer 120 is composed of the polyimide resin 122 and the first filler 124.

이때, 폴리이미드 수지(122)는 200℃ 이상의 내열도를 가지며, 에폭시 수지(도 3의 142)와의 부착력이 우수하다. 이러한 폴리이미드 수지(122)는 플렉서블(flexible)한 특성을 가져 굴곡성을 향상시킬 수 있을 뿐만 아니라, 곡면 부분에서의 크랙(crack) 등의 불량을 미연에 방지할 수 있다. 또한, 폴리이미드 수지(122)는 박막의 두께에서도 적정한 내전압 특성을 유지할 수 있다.At this time, the polyimide resin 122 has a heat resistance of 200 占 폚 or more and is excellent in adhesion to an epoxy resin (142 in Fig. 3). Such a polyimide resin 122 has a flexible characteristic, so that not only the bending property can be improved but also defects such as cracks in the curved portion can be prevented in advance. In addition, the polyimide resin 122 can maintain an appropriate withstand voltage characteristic even in the thickness of the thin film.

제1 필러(124)는 계면에 대한 표면조도를 개선하여 층간 접착력을 향상시키는 역할을 한다. 이러한 제1 필러(124)는 폴리이미드 수지층(120) 전체 100 중량%에 대하여, 10 ~ 30 중량%로 첨가되는 것이 바람직하다. 제1 필러(124)의 첨가량이 폴리이미드 수지층(120) 전체 100 중량%에 대하여, 10 중량% 미만일 경우에는 첨가량이 미미한 관계로 층간 접합력 향상 효과를 제대로 발휘하기 어렵다. 반대로, 제1 필러(124)의 첨가량이 폴리이미드 수지층(120) 전체 100 중량%에 대하여, 30 중량%를 초과할 경우에는 층간 계면 부착력은 향상되나, 내전압 특성이 저하되는 문제가 있다.The first filler 124 improves the surface roughness of the interface and improves the interlayer adhesion. The first filler 124 is preferably added in an amount of 10 to 30% by weight based on 100% by weight of the entire polyimide resin layer 120. When the addition amount of the first filler 124 is less than 10% by weight with respect to 100% by weight of the entire polyimide resin layer 120, the effect of improving the interlayer bonding strength is difficult to exhibit because the added amount is insignificant. On the contrary, when the amount of the first filler 124 added is more than 30% by weight based on 100% by weight of the entire polyimide resin layer 120, the interlayer interface adhesion is improved but the withstand voltage characteristic is lowered.

이를 위해, 제1 필러(124)로는 실리카, 알루미나, 수산화알루미늄, 티타니아, 산화 마그네슘, 카올린, 탈크(Talc), 몬모릴로나이트(montmorillonite), 탄산 칼슘, 탄산 바륨, 티탄산 바륨, 티탄산 칼륨, 황산 칼슘, 황산 바륨, 인산 제1 칼슘, 인산 제2 칼슘, 인산 제3 칼슘 등에서 선택된 1종 이상이 이용될 수 있다.The first filler 124 may be selected from the group consisting of silica, alumina, aluminum hydroxide, titania, magnesium oxide, kaolin, talc, montmorillonite, calcium carbonate, barium carbonate, barium titanate, potassium titanate, calcium sulfate, Barium, calcium primary phosphate, secondary calcium phosphate, calcium tertiary phosphate and the like may be used.

이러한 제1 필러(124)는 무정형 타입 또는 볼 타입이 이용될 수 있으며, 도 2에서는 띠 형태의 무정형 타입이 적용된 것을 나타내었다. 이때, 제1 필러(124)는 100nm ~ 5㎛의 평균 직경을 갖는 것이 바람직하다. 제1 필러(124)의 평균 직경이 100nm 미만일 경우에는 그 크기가 미세화됨에 따라 입자의 분산성의 문제로 인해 부착력 및 내열성이 저하되는 문제가 있다. 반대로, 제1 필러(124)의 평균 직경이 10㎛를 초과할 경우에는 절연층 두께가 증가되어 열 저항이 상승할 우려가 있다.The first filler 124 may be an amorphous type or a ball type, and FIG. 2 shows a band-shaped amorphous type. At this time, the first filler 124 preferably has an average diameter of 100 nm to 5 μm. When the average diameter of the first filler 124 is less than 100 nm, there is a problem that the adhesion and heat resistance are deteriorated due to the problem of dispersibility of particles as the size of the first filler 124 is reduced. Conversely, if the average diameter of the first filler 124 exceeds 10 mu m, the insulating layer thickness may increase and the thermal resistance may increase.

제1 용제로는 유기 용제라면 특별히 제한 없이 사용될 수 있으며, 구체적으로는 디메틸아세트아마이드, N메틸피롤리디온, 메틸에틸케톤, 톨루엔, 메틸이소부틸케톤, 클로로벤젠, 벤질알코올 등에서 선택된 1종 이상이 이용될 수 있다.The first solvent may be any organic solvent, and may be used without particular limitation. Specifically, at least one solvent selected from dimethylacetamide, N-methylpyrrolidone, methyl ethyl ketone, toluene, methyl isobutyl ketone, chlorobenzene, benzyl alcohol, Can be used.

이때, 폴리이미드 수지층(120)은 4 ~ 50㎛의 두께를 갖는 것이 바람직하다. 폴리이미드 수지층(120)의 두께가 4㎛ 미만일 경우에는 내전압 특성이 저하되고, 적정 강도를 확보하는 데 어려움이 따를 수 있다. 반대로, 폴리이미드 수지층(120)의 두께가 50㎛를 초과할 경우에는 열 저항이 증가하는 문제가 있다.
At this time, the polyimide resin layer 120 preferably has a thickness of 4 to 50 mu m. If the thickness of the polyimide resin layer 120 is less than 4 占 퐉, the withstand voltage characteristic is deteriorated, and it may be difficult to secure an appropriate strength. On the contrary, when the thickness of the polyimide resin layer 120 exceeds 50 탆, the thermal resistance increases.

제2 동박층 상에 반경화형 에폭시 수지층 형성Forming a semi-cured epoxy resin layer on the second copper foil layer

도 1 및 도 3에 도시된 바와 같이, 제2 동박층 상에 반경화형 에폭시 수지층 형성 단계(S120)에서는 제2 동박층(130)의 상부 표면에 에폭시 수지 조성물을 코팅하고 건조하여 반경화형 에폭시 수지층(145)을 형성한다.1 and 3, an epoxy resin composition is coated on the upper surface of the second copper foil layer 130 in the semi-cured epoxy resin layer formation step (S120) on the second copper foil layer and dried to obtain a semi-cured epoxy resin A resin layer 145 is formed.

이때, 건조는 100 ~ 200℃에서 1 ~ 30분 동안 실시하여 제2 용제를 제거하여 건조시켜 반경화 상태로 만들게 된다.At this time, the drying is performed at 100 to 200 ° C for 1 to 30 minutes, and the second solvent is removed and dried to make the semi-cured state.

이러한 반경화형 에폭시 수지 조성물(145)은 에폭시 수지(142), 제2 필러(144), 경화제(미도시) 및 제2 용제로 조성된다.The semi-curable epoxy resin composition 145 is composed of an epoxy resin 142, a second filler 144, a curing agent (not shown) and a second solvent.

에폭시 수지(142)로는 크레졸(cresol) 노볼락(Novorack)형 에폭시 수지, 페놀 노볼락(Novorack)형 에폭시 수지, 비스페놀형 에폭시 수지, 디사이클로펜타다이엔형 에폭시 수지, 선상 지방족 에폭시 수지, 지방환식 에폭시 수지, 복소환식 에폭시 수지 등에서 선택된 1종 이상이 이용될 수 있다.Examples of the epoxy resin 142 include cresol novolack type epoxy resin, phenol novolac type epoxy resin, bisphenol type epoxy resin, dicyclopentadiene type epoxy resin, linear aliphatic epoxy resin, An epoxy resin, a heterocyclic epoxy resin, and the like may be used.

제2 필러(144)는 에폭시 수지층(도 5의 140)의 내열성과 난연성을 향상시키는 역할을 한다. 이러한 제2 필러(144)는 반경화 에폭시 수지층(145) 전체 100 중량%에 대하여, 30 ~ 60 중량%로 첨가되는 것이 바람직하다. 제2 필러(144)의 첨가량이 반경화형 에폭시 수지층(145) 전체 100 중량%에 대하여, 30 중량% 미만일 경우에는 첨가량이 미미한 관계로 내열성 및 난연성 특성이 저하된다. 반대로, 제2 필러(144)의 첨가량이 반경화형 에폭시 수지층(145) 전체 100 중량%에 대하여, 60 중량%를 초과할 경우에는 동박과의 계면 부착력이 저하되는 문제가 있다.The second filler 144 serves to improve heat resistance and flame retardancy of the epoxy resin layer 140 (FIG. 5). The second filler 144 is preferably added in an amount of 30 to 60% by weight based on 100% by weight of the entirety of the semi-cured epoxy resin layer 145. When the addition amount of the second filler 144 is less than 30% by weight based on 100% by weight of the entirety of the semi-curable epoxy resin layer 145, the addition amount is insignificant, and the heat resistance and flame retardancy characteristics are deteriorated. On the contrary, when the amount of the second filler 144 added exceeds 60% by weight based on 100% by weight of the entirety of the semi-curable epoxy resin layer 145, there is a problem that the adhesive force with the copper foil decreases.

이러한 제2 필러(144)는 제1 필러와 동일하거나, 또는 다른 재질이 이용될 수 있다. 또한, 제2 필러(144)는, 제1 필러와 마찬가지로, 무정형 타입 또는 볼 타입이 이용될 수 있으며, 도 3에서는 볼 타입이 적용된 것을 나타내었다. 이때, 제2 필러(144)는 100nm ~ 5㎛의 평균 직경을 갖는 것이 바람직하다.The second filler 144 may be the same as the first filler, or a different material may be used. In addition, the second pillar 144 may be an amorphous type or a ball type as in the case of the first filler, and FIG. 3 shows that the ball type is applied. At this time, it is preferable that the second pillars 144 have an average diameter of 100 nm to 5 μm.

경화제는 3,3'-디클로로-4,4'-디아미노디페닐메탄, 2,2', 3,3'-테트라클로로-4,4'-디아미노디페닐메탄, 4,4'-디아미노디페닐술피도, 3,3'-디아미노벤조페논, 3,3'-디아미노디페닐술폰, 4,4'-디아미노디페닐술폰, 3,4'-디아미노디페닐술폰을 포함하는 방향족 아민류, 페놀노볼락 수지, 크레졸 노볼락 수지, 나프톨 노볼락 수지를 포함하는 노볼락 수지 등에서 선택된 1종 이상이 이용될 수 있다.The curing agent includes 3,3'-dichloro-4,4'-diaminodiphenylmethane, 2,2 ', 3,3'-tetrachloro-4,4'-diaminodiphenylmethane, 4,4'- Aminodiphenyl sulfone, 3,3'-diaminobenzophenone, 3,3'-diaminodiphenyl sulfone, 4,4'-diaminodiphenyl sulfone, and 3,4'-diaminodiphenyl sulfone , Novolak resins including phenol novolac resins, cresol novolak resins, and naphthol novolac resins, and the like.

제2 용제로는 유기 용제라면 특별히 제한 없이 사용될 수 있다. 구체적으로, 제2 용제는, 제1 용제와 마찬가지로, 디메틸아세트아마이드, N메틸피롤리디온, 메틸에틸케톤, 톨루엔, 메틸이소부틸케톤, 클로로벤젠, 벤질알코올 등에서 선택된 1종 이상이 이용될 수 있다.
The second solvent may be an organic solvent without particular limitation. Specifically, at least one selected from the group consisting of dimethylacetamide, N-methylpyrrolidone, methyl ethyl ketone, toluene, methyl isobutyl ketone, chlorobenzene, and benzyl alcohol may be used as the second solvent .

제1 및 제2 동박층 합지The first and second copper foil layers

도 1 및 도 4에 도시된 바와 같이, 제1 및 제2 동박층 합지 단계(S130)에서는 폴리이미드 수지층(120)과 반경화형 에폭시 수지층(145)이 상호 마주보도록 제1 및 제2 동박층(110, 130)을 합지한다.1 and 4, in the first and second copper foil layer lamination step S130, the polyimide resin layer 120 and the semi-cured epoxy resin layer 145 are disposed so as to face each other, Layers 110 and 130 are laminated together.

이때, 합지는 40 ~ 100℃ 조건에서 라미네이트 롤을 이용하여 실시하는 것이 바람직하다. 여기서, 라미네이트 롤은 폴리이미드 수지층(120)이 적층된 제1 동박층(110)과 반경화형 에폭시 수지층(145)이 적층된 제2 동박층(130)을 40 ~ 100℃ 조건에서 적정 압력을 유지시키는 방식으로 합지하는 것이 바람직하다. 이에 따라, 제1 동박층(110)의 상면(110a)과 제2 동박층(130)의 상면(130a)이 서로 마주보도록 배치된다.
At this time, it is preferable that the laminate is carried out using a laminate roll under the condition of 40 to 100 ° C. Here, the laminate roll is formed by pressing the second copper foil layer 130, in which the first copper foil layer 110 in which the polyimide resin layer 120 is laminated and the semi-curable epoxy resin layer 145 are laminated, In a manner that maintains the above-mentioned structure. Accordingly, the upper surface 110a of the first copper foil layer 110 and the upper surface 130a of the second copper foil layer 130 face each other.

반경화형 에폭시 수지층 경화Semi-curable epoxy resin curing

도 1 및 도 5에 도시된 바와 같이, 반경화형 에폭시 수지층 경화 단계(S140)에서는 반경화형 에폭시 수지층(도 4의 145)을 100 ~ 200℃에서 완전 경화시켜 에폭시 수지층(140)을 형성한다. 이에 따라, 위로부터 제1 동박층(110), 폴리이미드 수지층(120), 에폭시 수지층(140) 및 제2 동박층(130)이 차례로 배치되는 4층 구조의 연성 동박적층판(100)이 형성될 수 있다.1 and 5, in the semi-curing epoxy resin layer curing step S140, the semi-curable epoxy resin layer 145 (FIG. 4) is fully cured at 100 to 200 ° C to form an epoxy resin layer 140 do. Thus, the flexible copper-clad laminate 100 having the four-layer structure in which the first copper layer 110, the polyimide resin layer 120, the epoxy resin layer 140, and the second copper foil layer 130 are sequentially arranged from above .

이때, 에폭시 수지층(140)은 4 ~ 50㎛의 두께를 갖는 것이 바람직하다. 에폭시 수지층(140)의 두께가 4㎛ 미만일 경우에는 폴리이미드 수지층(120)과의 접착성 확보에 어려움이 따를 수 있다. 반대로, 에폭시 수지층(140)의 두께가 50㎛를 초과할 경우에는 더 이상의 효과 상승 없이 두께만을 증가시키는 요인으로 작용할 수 있으므로, 박형화 추세에 역행하는 결과를 초래한다.
At this time, it is preferable that the epoxy resin layer 140 has a thickness of 4 to 50 μm. If the thickness of the epoxy resin layer 140 is less than 4 mu m, it may be difficult to ensure adhesion with the polyimide resin layer 120. [ On the contrary, when the thickness of the epoxy resin layer 140 is more than 50 탆, the thickness of the epoxy resin layer 140 can be increased only without increasing the effect.

전술한 본 발명의 실시예에 따른 4층 구조의 연성 동박적층판 제조 방법은 위로부터 제1 동박층, 폴리이미드 수지층, 에폭시 수지층 및 제2 동박층이 차례로 배치되는 4층 구조를 가짐에 따라, 에폭시 수지층과 접합되는 폴리이미드 수지층에 의해 내열성 확보가 가능할 뿐만 아니라, 폴리이미드 수지층 및 에폭시 수지층에 제1 및 제2 필러를 최적의 함량비로 각각 첨가하는 것에 의해, 내전압 특성의 저하를 최소화하면서 표면조도의 개선으로 층간 접착력을 향상시킬 수 있다.The method for manufacturing a flexible copper clad laminate having a four-layer structure according to an embodiment of the present invention has a four-layer structure in which a first copper layer, a polyimide resin layer, an epoxy resin layer, and a second copper layer are sequentially arranged from above And the polyimide resin layer to be bonded to the epoxy resin layer can ensure heat resistance and the first and second fillers are added to the polyimide resin layer and the epoxy resin layer at the optimum content ratio, The interlayer adhesion can be improved by improving the surface roughness.

또한, 본 발명의 실시예에 따른 4층 구조의 연성 동박적층판 제조 방법은 충전 효율을 높이기 위해 제1 및 제2 동박층의 두께가 두꺼워지더라도, 제1 및 제2 동박층에 각각 폴리이미드 수지 용액 및 에폭시 수지 용액을 각각 코팅하는 방식으로 절연체를 형성하기 때문에 동박 조도에 의한 굴곡진 부분에까지 절연체를 완벽하게 충진시킬 수 있으므로, 동박 조도로 인한 미충진 불량이 해소되어 에칭 공정에서의 불량이 발생하지 않게 된다.In addition, in the method for manufacturing a flexible copper clad laminate having a four-layer structure according to an embodiment of the present invention, in order to increase the charging efficiency, even if the thickness of the first and second copper foil layers becomes thick, Since the insulator is formed by coating the solution and the epoxy resin solution, the insulator can be completely filled up to the bent portion by the roughness of the copper foil, so that the poor filling due to the copper foil roughness is eliminated, .

또한, 본 발명의 실시예에 따른 4층 구조의 연성 동박적층판 제조 방법은 제1 동박층 상에만 폴리이미드 수지층을 형성하고, 제2 동박층 상에는 반경화 에폭시 수지층을 형성한 후, 반경화형 에폭시 수지를 경화시키는 것에 의해 4층 구조를 가짐에 따라, 고가인 폴리이미드 수지의 사용량을 감소시킬 수 있을 뿐만 아니라 제조 공정이 단순화하며, 박형화가 가능한 구조를 갖는다.
Further, in the method of manufacturing a flexible copper clad laminate having a four-layer structure according to an embodiment of the present invention, a polyimide resin layer is formed only on the first copper layer, a semi-cured epoxy resin layer is formed on the second copper layer, Since the epoxy resin has a four-layer structure by curing the epoxy resin, the use amount of the expensive polyimide resin can be reduced, the manufacturing process can be simplified, and the structure can be thinned.

실시예Example

이하, 본 발명의 바람직한 실시예를 통해 본 발명의 구성 및 작용을 더욱 상세히 설명하기로 한다. 다만, 이는 본 발명의 바람직한 예시로 제시된 것이며 어떠한 의미로도 이에 의해 본 발명이 제한되는 것으로 해석될 수는 없다.Hereinafter, the configuration and operation of the present invention will be described in more detail with reference to preferred embodiments of the present invention. It is to be understood, however, that the same is by way of illustration and example only and is not to be construed in a limiting sense.

여기에 기재되지 않은 내용은 이 기술 분야에서 숙련된 자이면 충분히 기술적으로 유추할 수 있는 것이므로 그 설명을 생략하기로 한다.
The contents not described here are sufficiently technically inferior to those skilled in the art, and a description thereof will be omitted.

1. FCCL 제조1. Manufacture of FCCL

표 1의 조성으로 실시예 1 ~ 5 및 비교예 1 ~ 3에 따른 FCCL을 제조하였다.FCCL according to Examples 1 to 5 and Comparative Examples 1 to 3 were prepared with the compositions shown in Table 1.

이때, 실시예 1 ~ 5 및 비교예 2 ~ 3은 35㎛ 두께의 구리 호일의 상부 표면에 폴리이미드 수지, 제1 필러인 탈크 및 NMP(N메틸피롤리디온)을 혼합한 폴리이미드 수지 조성물을 바(bar) 코팅 방식으로 30㎛의 두께로 코팅한 후, 360℃에서 경화하여 폴리이미드 수지층을 형성하였다. 다음으로, 35㎛ 두께의 구리 호일의 상부 표면에 비스페놀 A형 에폭시, 제2 필러인 알루미나(Al2O3) 및 제2 경화제인 크레졸 노볼락 수지와 메틸에틸케톤을 혼합한 에폭시 수지 조성물을 코팅하고, 120℃에서 건조하여 반경화형 에폭시 수지층을 형성하였다. 이때, 제2 필러는 반경화형 에폭시 수지층 전체 중량의 50 중량%의 함량비로 첨가하였다. 다음으로, 폴리이미드 수지층과 반경화형 에폭시 수지층이 상호 마주보도록 배치한 상태에서 제1 및 제2 동박 호일을 80℃ 조건에서 라미네이트 롤을 이용하여 합지하였다. 다음으로, 반경화형 에폭시 수지층을 160℃에서 경화시켜 4층 구조의 FCCL을 제조하였다.In Examples 1 to 5 and Comparative Examples 2 and 3, a polyimide resin composition comprising a polyimide resin, a first filler, talc, and NMP (N-methylpyrrolidone) was mixed on the upper surface of a copper foil having a thickness of 35 μm Coated to a thickness of 30 탆 by a bar coating method, and cured at 360 캜 to form a polyimide resin layer. Next, an epoxy resin composition prepared by mixing bisphenol A type epoxy, alumina (Al 2 O 3 ) as a second filler, and cresol novolak resin and methyl ethyl ketone as a second curing agent was coated on the upper surface of a 35 μm thick copper foil And dried at 120 ° C to form a semi-cured epoxy resin layer. At this time, the second filler was added at a content ratio of 50% by weight based on the total weight of the semi-curable epoxy resin layer. Next, the first and second copper foil foils were laminated using a laminate roll at 80 캜 under the condition that the polyimide resin layer and the semi-curable epoxy resin layer were opposed to each other. Next, the semi-curable epoxy resin layer was cured at 160 占 폚 to prepare a four-layered FCCL.

이때, 비교예 1은 제1 필러를 첨가하지 않은 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 FCCL을 제조하였다.
At this time, in Comparative Example 1, FCCL was prepared in the same manner as in Example 1, except that the first filler was not added.

[표 1] (단위 : 중량%)[Table 1] (unit:% by weight)

Figure 112016113141608-pat00001

Figure 112016113141608-pat00001

2. 미세조직 관찰2. Microstructure Observation

도 6은 실시예 3에 따라 제조된 FCCL을 나타낸 SEM 사진이다.6 is a SEM photograph showing the FCCL prepared according to Example 3. Fig.

도 6에 도시된 바와 같이, 실시예 3에 따라 제조된 FCCL은 위로부터 제1 동박층(110), 폴리이미드 수지층(120), 에폭시 수지층(140) 및 제2 동박층(130)이 차례로 배치되는 4층 구조를 갖는 것을 확인할 수 있다. 여기서, 제1 필러(124)는 무정형 타입이 적용되었고, 제2 필러(144)는 볼 타입이 적용되었다.6, the FCCL manufactured according to Example 3 includes a first copper layer 110, a polyimide resin layer 120, an epoxy resin layer 140, and a second copper foil layer 130 Layer structure arranged in order. Here, an amorphous type is applied to the first pillar 124, and a ball type is applied to the second pillar 144.

이때, 실시예 3에 따라 제조된 FCCL은 양쪽의 제1 및 제2 동박층(110, 130)에 각각 코팅에 의해 폴리이미드 수지층(120) 및 에폭시 수지층(140)이 형성됨에 따라, 제1 및 제2 동박층(110, 130) 표면의 굴곡진 부분에까지 미충진 불량 없이 절연체가 완벽하게 채워진 것을 확인할 수 있다.
Since the polyimide resin layer 120 and the epoxy resin layer 140 are formed by coating on the first and second copper layers 110 and 130 on both sides of the FCCL manufactured according to the third embodiment, 1 and the bent portions of the surfaces of the second copper foil layers 110 and 130 are completely filled with the insulator without fail.

3. 물성 평가3. Property evaluation

표 2는 실시예 1 ~ 5 및 비교예 1 ~ 3에 따라 제조된 FCCL의 물성 평가 결과를 나타낸 것이다.
Table 2 shows the physical property evaluation results of the FCCL prepared according to Examples 1 to 5 and Comparative Examples 1 to 3.

1) 표면조도1) Surface roughness

AFM(Atomic Force Microscope)를 이용하여 PI 면의 표면조도를 측정하였다.
Surface roughness of PI surface was measured using AFM (Atomic Force Microscope).

2) 박리강도2) Peel strength

4층 FCCL을 폭 12.7mm로 커팅한 후, 90°각도로 필링(peeling)을 실시하는 IPC-TM-650 2.4.9 방법으로 PI 면과 에폭시면 간의 박리강도를 측정하였다.
The peel strength between the PI side and the epoxy side was measured by the IPC-TM-650 2.4.9 method in which the 4-layer FCCL was cut to a width of 12.7 mm and then peeled at an angle of 90 °.

3) 내전압 시험3) Withstand voltage test

FCCL을 100mm*100mm의 크기로 절단하고, 한쪽 동박면은 25Φ크기로 에칭 하고, 반대면 동박은 원래 상태인 조건에서 내전압을 측정하였다. (IPC-TM-650 2.5.6)
The FCCL was cut into a size of 100 mm * 100 mm, one copper foil was etched to a size of 25Φ, and the reverse voltage was measured under the condition that the copper foil on the opposite side was original. (IPC-TM-650 2.5.6)

[표 2][Table 2]

Figure 112016113141608-pat00002
Figure 112016113141608-pat00002

표 1 및 표 2를 참조하면, 실시예 1 ~ 5에 따라 제조된 FCCL의 경우, 필러의 첨가량이 증가함에 따라 표면조도의 개선으로 박리강도 향상에 의해 접착력이 좋아지는 것을 확인할 수 있다. 다만, 실시예 1 ~ 5에 따라 제조된 FCCL의 경우, 필러의 첨가량이 증가함에 따라 내전압 특성은 오히려 낮아지는 경향을 나타내기는 하였으나, 목표 값인 4.0 kV/mil 이상을 만족하였다.Referring to Tables 1 and 2, it can be seen that, in the case of FCCL prepared according to Examples 1 to 5, as the amount of the filler to be added increases, the surface roughness improves, and the peel strength is improved. However, in the case of the FCCL prepared according to Examples 1 to 5, the withstand voltage characteristic was lowered as the filler amount was increased, but the target value of 4.0 kV / mil or more was satisfied.

반면, 필러가 첨가되지 않은 비교예 1 및 필러의 첨가량이 본 발명에서 제시하는 범위에 미달하는 비교예 2의 경우에는 내전압 특성은 좋았으나, 표면조도 개선 효과가 없거나 미미하여 박리강도가 0.93kgf/in 및 1.10 kgf/in에 불과하여 접착력이 좋지 않은 것을 확인하였다.On the other hand, Comparative Example 1 in which the filler was not added and Comparative Example 2 in which the amount of the filler was less than the range suggested in the present invention showed good withstand voltage characteristics, but had no or little improvement in surface roughness and had a peel strength of 0.93 kgf / in And 1.10 kgf / in, indicating that the adhesive strength was poor.

또한, 필러의 첨가량이 본 발명에서 제시하는 범위를 벗어나 과량 첨가된 비교예 3의 경우에는 표면조도의 개선으로 박리강도는 우수하였으나, 내전압 특성이 급격히 저하되어 목표값에 미달하는 것을 확인하였다.
In Comparative Example 3 in which the addition amount of the filler exceeded the range suggested by the present invention, the peeling strength was improved due to the improvement in surface roughness, but the withstand voltage characteristic was drastically lowered to be less than the target value.

이상에서는 본 발명의 실시예를 중심으로 설명하였지만, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 기술자의 수준에서 다양한 변경이나 변형을 가할 수 있다. 이러한 변경과 변형은 본 발명이 제공하는 기술 사상의 범위를 벗어나지 않는 한 본 발명에 속한다고 할 수 있다. 따라서 본 발명의 권리범위는 이하에 기재되는 청구범위에 의해 판단되어야 할 것이다.
Although the preferred embodiments of the present invention have been disclosed for illustrative purposes, those skilled in the art will appreciate that various modifications, additions and substitutions are possible, without departing from the scope and spirit of the invention as disclosed in the accompanying claims. These changes and modifications may be made without departing from the scope of the present invention. Accordingly, the scope of the present invention should be determined by the following claims.

S110 : 제1 동박층 상에 폴리이미드 수지층 형성 단계
S120 : 제2 동박층 상에 반경화형 에폭시 수지층 형성 단계
S130 : 제1 및 제2 동박층 합지 단계
S140 : 반경화형 에폭시 수지층 경화 단계
S110: forming a polyimide resin layer on the first copper foil layer
S120: Step of forming a semi-cured epoxy resin layer on the second copper foil layer
S130: First and second copper foil layer laminating step
S140: Semi-curing type epoxy resin layer curing step

Claims (9)

(a) 제1 동박층의 상부 표면에 폴리이미드 수지 조성물을 코팅하고 경화하여 폴리이미드 수지층을 형성하는 단계;
(b) 제2 동박층의 상부 표면에 에폭시 수지 조성물을 코팅하고 건조하여 반경화형 에폭시 수지층을 형성하는 단계;
(c) 상기 폴리이미드 수지층과 반경화형 에폭시 수지층이 상호 마주보도록 상기 제1 및 제2 동박층을 합지하는 단계; 및
(d) 상기 반경화형 에폭시 수지층을 경화시켜, 위로부터 제1 동박층, 폴리이미드 수지층, 에폭시 수지층 및 제2 동박층이 차례로 배치되는 4층 구조의 연성 동박적층판을 형성하는 단계;를 포함하며,
상기 폴리이미드 수지 조성물은 폴리이미드 수지, 제1 필러 및 제1 용제로 조성되고, 상기 반경화형 에폭시 수지 조성물은 에폭시 수지, 제2 필러, 경화제 및 제2 용제로 조성되며,
상기 제1 필러는 상기 폴리이미드 수지층 전체 100 중량%에 대하여, 15 ~ 30 중량%로 첨가되고, 상기 제2 필러는 상기 에폭시 수지층 전체 100 중량%에 대하여, 30 ~ 60 중량%로 첨가되며,
상기 폴리이미드 수지층과 에폭시 수지층 간의 박리강도가 1.53 ~ 1.71Kgf/in이고,
상기 연성 동박적층판은 4.32 ~ 6.15kV/mil의 내전압을 갖는 것을 특징으로 하는 4층 구조의 연성 동박적층판의 제조 방법.
(a) coating a polyimide resin composition on an upper surface of a first copper foil layer and curing the polyimide resin composition to form a polyimide resin layer;
(b) coating an upper surface of the second copper foil layer with an epoxy resin composition and drying to form a semi-cured epoxy resin layer;
(c) laminating the first and second copper layers so that the polyimide resin layer and the semi-curable epoxy resin layer face each other; And
(d) curing the semi-curable epoxy resin layer to form a flexible copper-clad laminate having a four-layer structure in which a first copper layer, a polyimide resin layer, an epoxy resin layer, and a second copper layer are sequentially arranged from above, ≪ / RTI &
The polyimide resin composition is composed of a polyimide resin, a first filler, and a first solvent, and the semi-curable epoxy resin composition is composed of an epoxy resin, a second filler, a curing agent and a second solvent,
The first filler is added in an amount of 15 to 30 wt% based on 100 wt% of the entire polyimide resin layer, and the second filler is added in an amount of 30 to 60 wt% based on 100 wt% of the entire epoxy resin layer ,
The peel strength between the polyimide resin layer and the epoxy resin layer is 1.53 to 1.71 Kgf / in,
Wherein the flexible copper-clad laminate has a withstanding voltage of 4.32 to 6.15 kV / mil.
제1항에 있어서,
상기 제1 및 제2 동박층 각각은
30 ~ 105㎛의 두께를 갖는 것을 특징으로 하는 4층 구조의 연성 동박적층판의 제조 방법.
The method according to claim 1,
Each of the first and second copper foil layers
And a thickness of 30 to 105 占 퐉.
삭제delete 삭제delete 제1항에 있어서,
상기 폴리이미드 수지층은
4 ~ 50㎛의 두께를 갖는 것을 특징으로 하는 4층 구조의 연성 동박적층판의 제조 방법.
The method according to claim 1,
The polyimide resin layer
Layer structure having a thickness of 4 to 50 mu m.
삭제delete 제1항에 있어서,
상기 에폭시 수지층은
4 ~ 50㎛의 두께를 갖는 것을 특징으로 하는 4층 구조의 연성 동박적층판의 제조 방법.
The method according to claim 1,
The epoxy resin layer
Layer structure having a thickness of 4 to 50 mu m.
제1항에 있어서,
상기 제1 및 제2 필러 각각은
실리카, 알루미나, 수산화알루미늄, 티타니아, 산화 마그네슘, 카올린, 탈크(Talc), 몬모릴로나이트(montmorillonite), 탄산 칼슘, 탄산 바륨, 티탄산 바륨, 티탄산 칼륨, 황산 칼슘, 황산 바륨, 인산 제1 칼슘, 인산 제2 칼슘 및 인산 제3 칼슘 중 선택된 1종 이상을 포함하는 것을 특징으로 하는 4층 구조의 연성 동박적층판의 제조 방법.
The method according to claim 1,
Each of the first and second pillars
And examples of the inorganic filler include silica, alumina, aluminum hydroxide, titania, magnesium oxide, kaolin, talc, montmorillonite, calcium carbonate, barium carbonate, barium titanate, potassium titanate, calcium sulfate, barium sulfate, Calcium carbonate, and calcium tertiary phosphate. 2. The method of manufacturing a flexible copper clad laminate according to claim 1,
제8항에 있어서,
상기 제1 및 제2 필러 각각은
100nm ~ 5㎛의 평균 직경을 갖는 것을 특징으로 하는 4층 구조의 연성 동박적층판의 제조 방법.
9. The method of claim 8,
Each of the first and second pillars
Wherein the copper foil has an average diameter of 100 nm to 5 占 퐉.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
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Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN109737158B (en) * 2018-12-21 2020-09-25 湖北飞龙摩擦密封材料股份有限公司 Drum type brake lining and preparation method thereof

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101501884B1 (en) 2014-10-17 2015-03-12 주식회사 이녹스 low elestic modulus cover-lay film and flexible printed circuit including the same

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101024937B1 (en) * 2008-07-04 2011-03-31 에스디플렉스(주) Double side flexible copper clad laminate and method for fabricating the same
KR101102180B1 (en) * 2009-01-23 2012-01-02 주식회사 두산 Novel flexible metal­clad laminate and method of producing the same
KR20160046946A (en) * 2014-10-20 2016-05-02 아주스틸 주식회사 Flexible Metal Copper Clad Laminate and Manufacturing Method therof

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101501884B1 (en) 2014-10-17 2015-03-12 주식회사 이녹스 low elestic modulus cover-lay film and flexible printed circuit including the same

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20200133055A (en) 2019-05-15 2020-11-26 일신전자 주식회사 Flexible copper clad laminate and manufacturing method thereof

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