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KR101829975B1 - 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법 - Google Patents

기판 처리 장치 및 기판 처리 방법 Download PDF

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KR101829975B1
KR101829975B1 KR1020160032124A KR20160032124A KR101829975B1 KR 101829975 B1 KR101829975 B1 KR 101829975B1 KR 1020160032124 A KR1020160032124 A KR 1020160032124A KR 20160032124 A KR20160032124 A KR 20160032124A KR 101829975 B1 KR101829975 B1 KR 101829975B1
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고타 가부네
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가부시키가이샤 스크린 홀딩스
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Abstract

기판 처리 장치는, 기판 유지부와, 회전 구동부와, 처리액 공급부와, 외측 컵과, 내측 컵을 구비한다. 내측 컵은, 내측 컵이 처리액을 회수하는 회수 위치와, 외측 컵이 처리액을 회수하는 퇴피 위치에 걸쳐 이동 가능하다. 내측 컵은, 환상의 외형을 나타내는 내측 컵 본체와, 내측 컵 본체에 형성되며, 내측 컵 본체 내의 처리액을 배출하는 배액구와, 내측 컵 본체에 형성되며, 내측 컵 본체 내의 기체를 배출하는 배기구를 구비한다. 외측 컵은, 환상의 외형을 나타내는 외측 컵 본체와, 외측 컵 본체에 형성되며, 외측 컵 본체 내의 처리액을 배출하는 배액구와, 외측 컵 본체에 형성되며, 외측 컵 본체 내의 기체를 배출하는 배기구를 구비한다.

Description

기판 처리 장치 및 기판 처리 방법{SUBSTRATE TREATING APPARATUS AND SUBSTRATE TREATING METHOD}
본 발명은, 반도체 기판, 액정 표시용 유리 기판, 포토마스크용 유리 기판, 광디스크용 기판 등(이하, 간단히 「기판」이라고 칭한다)에 처리액을 공급하는 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법에 관한 것이며, 특히, 처리액을 회수하는 컵의 기술에 관한 것이다.
일본국 특허공개 2014-75575호 공보는, 기판 유지부와, 회전 구동 기구와, 제1, 제2 노즐과, 컵체와, 제1, 제2 배액관로와, 배기관로와, 가동 컵을 구비한 기판 처리 장치를 개시한다. 기판 유지부는, 기판을 수평으로 유지한다. 회전 구동 기구는, 기판 유지부를 회전시킨다. 제1 노즐은, 포지티브 톤 현상용의 현상액을 공급한다. 제2 노즐은, 네가티브 톤 현상용의 현상액을 공급한다. 컵체는, 현상액을 회수한다. 제1, 제2 배액관로 및 배기관로는 각각, 컵체에 접속된다. 가동 컵은, 상하 이동함으로써, 제1, 제2 배액관로 중 어느 하나에 현상액을 안내한다.
예를 들면, 제1 노즐이 현상액을 공급할 때, 가동 컵은 현상액을 제1 배액관로에 안내하고, 제2 노즐이 현상액을 공급할 때, 가동 컵은 현상액을 제2 배액관로에 안내한다. 제1 배액관로는 포지티브 톤 현상용의 현상액을 배출하고, 제2 배액관로는 네가티브 톤 현상용의 현상액을 배출한다. 이 때, 배기관로는, 컵체 내의 기체(현상액의 미스트를 포함한다)를 배출한다. 이것에 의해, 제1, 제2 배액관로에서, 포지티브 톤 현상용의 현상액과 네가티브 톤 현상용의 현상액이 혼합되는 것을 방지할 수 있다. 배기관로는, 제1, 제2 노즐이 현상액을 공급할 때에, 컵체 내의 기체(현상액의 미스트를 포함한다)를 배출한다.
그러나, 이러한 구성을 가지는 종래예의 경우에는, 다음과 같은 문제가 있다.
배기관로는, 포지티브 톤 현상용의 현상액의 미스트, 및, 네가티브 톤 현상용의 현상액의 미스트의 양쪽을 배출한다. 따라서, 배기관로 내에서, 상이한 종류의 현상액의 미스트가 혼합될 우려가 있다. 상이한 종류의 현상액의 미스트가 혼합되어 버리면, 컵 내의 분위기를 청정하게 유지하는 것이 곤란해져, 기판에 대해 처리를 품질 좋게 행하는 것이 곤란해진다.
본 발명은, 이러한 사정을 감안하여 이루어진 것이며, 기판에 대해 처리를 품질 좋게 행할 수 있는 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.
본 발명은, 이러한 목적을 달성하기 위해, 다음과 같은 구성을 취한다.
즉, 본 발명은, 기판에 대해 처리를 행하는 기판 처리 장치로서,
상기 기판 처리 장치는
기판을 대략 수평 자세로 유지하는 기판 유지부와,
상기 기판 유지부를 대략 연직축 둘레로 회전시키는 회전 구동부와,
상기 기판 유지부에 유지된 기판에 처리액을 공급하는 처리액 공급부와,
상기 기판 유지부의 측방을 둘러싸도록 설치되어 있는 외측 컵과,
상기 외측 컵 내에 수용되는 내측 컵을 구비하고,
상기 내측 컵은, 상기 내측 컵이 처리액을 회수하는 회수 위치와, 상기 외측 컵이 처리액을 회수하는 퇴피 위치에 걸쳐 이동 가능하며,
상기 내측 컵은,
환상의 외형을 나타내는 내측 컵 본체와,
상기 내측 컵 본체에 형성되며, 상기 내측 컵 본체 내의 처리액을 배출하는 배액구와,
상기 내측 컵 본체에 형성되며, 상기 내측 컵 본체 내의 기체를 배출하는 배기구를 구비하고,
상기 외측 컵은,
환상의 외형을 나타내는 외측 컵 본체와,
상기 외측 컵 본체에 형성되며, 상기 외측 컵 본체 내의 처리액을 배출하는 배액구와,
상기 외측 컵 본체에 형성되며, 상기 외측 컵 본체 내의 기체를 배출하는 배기구를 구비한다.
본 발명에 관련된 기판 처리 장치에 의하면, 내측 컵 본체 내의 처리액, 내측 컵 본체 내의 기체, 외측 컵 본체 내의 처리액, 및, 외측 컵 본체 내의 기체를 각각 개별적으로 배출할 수 있다. 따라서, 예를 들면, 내측 컵 본체 내의 기체와 외측 컵 본체 내의 기체가 혼합되지 않는다. 따라서, 내측 컵을 사용할 때도, 외측 컵을 사용할 때도, 기판에 대해 품질 좋게 처리를 행할 수 있다.
본 발명에 있어서, 상기 내측 컵은, 상기 내측 컵의 상기 배기구의 상방을 덮는 커버부를 구비하고 있는 것이 바람직하다. 내측 컵의 배기구에 처리액이 유입되는 것을 적절하게 방지할 수 있다.
본 발명에 있어서, 상기 내측 컵의 상기 배기구는, 상기 내측 컵의 상기 배액구보다 높은 위치에 배치되어 있는 것이 바람직하다. 내측 컵의 배기구에 처리액이 유입되는 것을 적절하게 방지할 수 있다.
본 발명에 있어서, 상기 내측 컵 본체는, 상기 외측 컵의 상기 배기구의 상방을 덮는 것이 바람직하다. 외측 컵의 배기구에 처리액이 유입되는 것을 적절하게 방지할 수 있다.
본 발명에 있어서, 상기 외측 컵은, 상기 외측 컵의 상기 배액구와 상기 외측 컵의 상기 배기구를 칸막이하는 칸막이 벽을 구비하고 있는 것이 바람직하다. 외측 컵의 배기구에 처리액이 유입되는 것을 적절하게 방지할 수 있다.
본 발명에 있어서, 상기 내측 컵은, 상기 내측 컵 본체에 접속되는 차양부를 구비하고, 상기 외측 컵의 상기 배기구는, 상기 칸막이 벽의 안쪽에 배치되며, 상기 외측 컵의 상기 배액구는, 상기 칸막이 벽의 바깥쪽에 배치되며, 상기 내측 컵이 상기 퇴피 위치에 배치되어 있을 때, 상기 차양부는, 상기 칸막이 벽의 바깥쪽으로 처리액을 안내하는 것이 바람직하다. 외측 컵의 배기구에 처리액이 유입되는 것을 적절하게 방지할 수 있다.
본 발명에 있어서, 상기 내측 컵은, 상기 내측 컵 본체에 접속되며, 상기 내측 컵의 상기 배액구로부터 배출된 처리액을 통하게 하는 배액관과, 상기 내측 컵 본체에 접속되며, 상기 내측 컵의 상기 배기구로부터 배출된 기체를 통하게 하는 배기관을 구비하고, 상기 외측 컵은, 상기 외측 컵 본체에 접속되며, 상기 내측 컵의 상기 배액관을 상하 이동 가능하게 수용하고, 상기 내측 컵의 상기 배액관으로부터 배출된 처리액을 통하게 하는 배액 연장관과, 상기 외측 컵 본체에 접속되며, 상기 내측 컵의 상기 배기관을 상하 이동 가능하게 수용하고, 상기 내측 컵의 상기 배기관으로부터 배출된 기체를 통하게 하는 배기 연장관을 구비하고 있는 것이 바람직하다. 내측 컵의 배액관은 배액 연장관에 연통하므로, 내측 컵의 배액관을 짧게 할 수 있다. 내측 컵의 배기관은 배기 연장관에 연통하므로, 내측 컵의 배기관을 짧게 할 수 있다. 이러한 결과, 내측 컵을 소형화할 수 있다.
본 발명에 있어서, 상기 내측 컵이 회수 위치에 있을 때, 상기 내측 컵의 상기 배액관이 상기 배액 연장관 내에 삽입되어 있는 거리는, 80mm 이하인 것이 바람직하다. 내측 컵을 한층 소형화할 수 있다.
본 발명에 있어서, 상기 내측 컵이 회수 위치에 있을 때, 상기 내측 컵의 상기 배기관이 상기 배기 연장관 내에 삽입되어 있는 거리는, 80mm 이하인 것이 바람직하다. 내측 컵을 한층 소형화할 수 있다.
본 발명에 있어서, 상기 기판 처리 장치는, 상기 내측 컵 및 상기 외측 컵을 세정하기 위한 세정액을 공급하는 세정액 공급부와, 회전 가능하게 설치되며, 상기 세정액 공급부에 의해 공급된 세정액을 상기 내측 컵 및 상기 외측 컵에 살포하는 살포 디스크를 구비하고, 상기 세정액 공급부는, 제1 세정액을 상기 살포 디스크를 향해 토출하는 제1 노즐과, 상기 제1 노즐로부터 토출되는 제1 세정액과는 상이한 제2 세정액을 상기 살포 디스크를 향해 토출하는 제2 노즐을 포함하는 것이 바람직하다. 세정액 공급부는, 서로 상이한 세정액을 토출하는 제1 노즐 및 제2 노즐을 구비하고 있으므로, 내측 컵 및 외측 컵에 각각 적절한 세정액을 살포할 수 있다.
또, 본 발명은, 기판을 처리하는 기판 처리 방법으로서,
상기 기판 처리 방법은,
포지티브 톤 현상용의 현상액을 이용하여, 포지티브 톤 현상 처리를 행하는 공정과,
네가티브 톤 현상용의 현상액을 이용하여, 네가티브 톤 현상 처리를 행하는 공정을 구비하고,
상기 포지티브 톤 현상 처리를 행하는 공정에서는, 제1 컵으로 포지티브 톤 현상용의 현상액을 회수하며,
상기 네가티브 톤 현상 처리를 행하는 공정에서는, 제2 컵으로 네가티브 톤 현상용의 현상액을 회수하고,
상기 기판 처리 방법은,
상기 포지티브 톤 현상 처리를 행하는 공정에서 상기 네가티브 톤 현상 처리를 행하는 공정으로 전환할 때에, 네가티브 톤 현상용의 세정액을 상기 제2 컵에 미리 살포하는 공정과,
상기 네가티브 톤 현상 처리를 행하는 공정에서 상기 포지티브 톤 현상 처리를 행하는 공정으로 전환할 때에, 포지티브 톤 현상용의 세정액을 상기 제1 컵에 미리 살포하는 공정을 구비한다.
본 발명에 관련된 기판 처리 방법은, 네가티브 톤 현상용의 세정액을 제2 컵에 미리 살포하는 공정을 구비하고 있으므로, 네가티브 톤 현상 처리를 행하는 공정을 시작하기 전에, 네가티브 톤 현상 처리에 적합한 환경을 효과적으로 형성할 수 있다. 따라서, 전환 후의 최초의 네가티브 톤 현상 처리여도 품질 좋게 행할 수 있다.
또, 본 발명에 관련된 기판 처리 방법은, 포지티브 톤 현상용의 세정액을 제1 컵에 미리 살포하는 공정을 구비하고 있으므로, 포지티브 톤 현상 처리를 행하는 공정을 시작하기 전에, 포지티브 톤 현상 처리에 적합한 환경을 효과적으로 형성할 수 있다. 따라서, 전환 후의 최초의 포지티브 톤 현상 처리여도 품질 좋게 행할 수 있다.
또한, 「네가티브 톤 현상용의 세정액을 상기 제2 컵에 미리 살포하는 공정」은, 전환 전의 마지막 「상기 포지티브 톤 현상 처리를 행하는 공정」 후에, 전환 후의 최초의 「상기 네가티브 톤 현상 처리를 행하는 공정」의 전에 실행된다. 「포지티브 톤 현상용의 세정액을 상기 제1 컵에 미리 살포하는 공정」은, 전환 전의 마지막 「상기 네가티브 톤 현상 처리를 행하는 공정」 후에, 전환 후의 최초의 「상기 포지티브 톤 현상 처리를 행하는 공정」의 전에 실행된다.
본 발명에 있어서, 상기 네가티브 톤 현상 처리를 행하는 공정에서 상기 포지티브 톤 현상 처리를 행하는 공정으로 전환할 때에, 포지티브 톤 현상용의 세정액을 상기 제2 컵에 살포하는 공정을 구비하는 것이 바람직하다. 포지티브 톤 현상 처리를 행하는 공정을 시작하기 전에, 포지티브 톤 현상 처리에 적합한 환경을 확실히 형성할 수 있다.
본 발명에 있어서, 상기 제1 컵과 상기 제2 컵의 양쪽이, 1개의 기판 처리 유닛에 설치되어 있으며,
상기 포지티브 톤 현상 처리를 행하는 공정과 상기 네가티브 톤 현상 처리를 행하는 공정과 상기 세정액을 제2 컵에 미리 살포하는 공정과 상기 세정액을 상기 제1 컵에 미리 살포하는 공정이, 1개의 상기 기판 처리 유닛에 있어서 실행되는 것이 바람직하다. 기판 처리 유닛은, 제1 컵과 제2 컵을 구비하고 있다. 따라서, 동일한 기판 처리 유닛으로, 포지티브 톤 현상 처리를 행하는 공정을 실행할 수 있으며, 또한, 네가티브 톤 현상 처리를 실행할 수 있다. 이 때문에, 품질이 좋은 포지티브 톤 현상 처리 및 네가티브 톤 현상 처리를, 효율적으로 행할 수 있다.
또, 본 발명은, 동일 공간에 설치되는 복수의 기판 처리 유닛의 각각에서 기판을 처리하는 기판 처리 방법으로서,
상기 기판 처리 방법은,
상기 기판 처리 유닛 중 적어도 어느 하나에서, 포지티브 톤 현상용의 현상액을 이용하여, 포지티브 톤 현상 처리를 행하는 공정과,
상기 기판 처리 유닛 중 적어도 어느 하나에서, 네가티브 톤 현상용의 현상액을 이용하여, 네가티브 톤 현상 처리를 행하는 공정을 구비하고,
상기 포지티브 톤 현상 처리를 행하는 공정에서는, 상기 기판 처리 유닛의 각각에 설치되는 제1 컵으로 포지티브 톤 현상용의 현상액을 회수하며,
상기 네가티브 톤 현상 처리를 행하는 공정에서는, 상기 기판 처리 유닛의 각각에 설치되는 제2 컵으로 네가티브 톤 현상용의 현상액을 회수하고,
상기 기판 처리 방법은,
상기 포지티브 톤 현상 처리를 행하는 공정에서 상기 네가티브 톤 현상 처리를 행하는 공정으로 전환할 때에, 네가티브 톤 현상용의 세정액을 모든 상기 제2 컵에 미리 살포하는 공정과,
상기 네가티브 톤 현상 처리를 행하는 공정에서 상기 포지티브 톤 현상 처리를 행하는 공정으로 전환할 때에, 포지티브 톤 현상용의 세정액을 모든 상기 제1 컵에 미리 살포하는 공정을 더 구비한다.
본 발명에 관련된 기판 처리 방법은, 네가티브 톤 현상용의 세정액을 모든 상기 제2 컵에 미리 살포하는 공정을 구비하고 있으므로, 네가티브 톤 현상 처리를 행하는 공정을 시작하기 전에, 네가티브 톤 현상 처리에 적합한 환경을 각 기판 처리 유닛에 효과적으로 형성할 수 있다. 따라서, 어느 기판 처리 유닛이어도, 처음부터 네가티브 톤 현상 처리를 품질 좋게 행할 수 있다.
또, 본 발명에 관련된 기판 처리 방법은, 포지티브 톤 현상용의 세정액을 모든 상기 제1 컵에 미리 살포하는 공정을 구비하고 있으므로, 포지티브 톤 현상 처리를 행하는 공정을 시작하기 전에, 포지티브 톤 현상 처리에 적합한 환경을 각 기판 처리 유닛에 효과적으로 형성할 수 있다. 따라서, 어느 기판 처리 유닛이어도, 처음부터 포지티브 톤 현상 처리를 품질 좋게 행할 수 있다.
본 발명에 있어서, 상기 네가티브 톤 현상 처리를 행하는 공정에서 상기 포지티브 톤 현상 처리를 행하는 공정으로 전환할 때에, 포지티브 톤 현상용의 세정액을 모든 상기 제2 컵에 살포하는 공정을 구비하는 것이 바람직하다. 포지티브 톤 현상 처리를 행하는 공정을 시작하기 전에, 포지티브 톤 현상 처리에 적합한 환경을 각 기판 처리 유닛에 확실히 형성할 수 있다.
또한, 본 명세서는, 다음과 같은 기판 처리 방법에 관련된 발명도 개시하고 있다.
부기 1. 기판을 처리하는 기판 처리 방법으로서,
상기 기판 처리 방법은,
포지티브 톤 현상 처리를 행하는 공정과,
네가티브 톤 현상 처리를 행하는 공정과,
상기 포지티브 톤 현상 처리를 행하는 공정에서 상기 네가티브 톤 현상 처리를 행하는 공정으로 전환할 때에, 용매 분위기를 미리 형성하는 공정과,
상기 네가티브 톤 현상 처리를 행하는 공정에서 상기 포지티브 톤 현상 처리를 행하는 공정으로 전환할 때에, 용매 부재 분위기를 미리 형성하는 공정을 구비한다.
부기 1의 기판 처리 방법은, 용매 분위기를 미리 형성하는 공정을 구비하고 있으므로, 네가티브 톤 현상 처리를 행하는 공정을 시작하기 전에, 네가티브 톤 현상 처리에 적합한 환경을 형성할 수 있다. 따라서, 전환 후의 최초의 네가티브 톤 현상 처리여도 품질 좋게 행할 수 있다.
또, 부기 1의 기판 처리 방법은, 용매 부재 분위기를 미리 형성하는 공정을 구비하고 있으므로, 포지티브 톤 현상 처리를 행하는 공정을 시작하기 전에, 포지티브 톤 현상 처리에 적합한 환경을 형성할 수 있다. 따라서, 전환 후의 최초의 포지티브 톤 현상 처리여도 품질 좋게 행할 수 있다.
부기 2. 부기 1에 기재된 기판 처리 방법에 있어서,
상기 포지티브 톤 현상 처리를 행하는 공정과 상기 네가티브 톤 현상 처리를 행하는 공정과 상기 용매 분위기를 미리 형성하는 공정과 상기 용매 부재 분위기를 미리 형성하는 공정이, 1개의 기판 처리 유닛에 있어서 실행된다.
부기 2의 기판 처리 방법에서는, 포지티브 톤 현상 처리를 행하는 공정과 네가티브 톤 현상 처리를 행하는 공정을, 동일한 기판 처리 유닛에서 적절하게 실행할 수 있다. 이 때문에, 품질이 좋은 포지티브 톤 현상 처리 및 네가티브 톤 현상 처리를, 효율적으로 행할 수 있다.
부기 3. 부기 2에 기재된 기판 처리 방법에 있어서,
상기 포지티브 톤 현상 처리를 행하는 공정에서는, 상기 기판 처리 유닛에 설치되는 제1 컵으로 포지티브 톤 현상 처리에 사용한 처리액을 회수하며,
상기 네가티브 톤 현상 처리를 행하는 공정에서는, 상기 기판 처리 유닛에 설치되는 제2 컵으로 네가티브 톤 현상 처리에 사용한 처리액을 회수하고,
상기 용매 분위기를 미리 형성하는 공정에서는, 상기 제2 컵에 용매 분위기를 형성하고,
상기 용매 부재 분위기를 미리 형성하는 공정에서는, 적어도 상기 제1 컵에 용매 부재 분위기를 형성한다.
부기 3의 기판 처리 방법은, 용매 분위기를 미리 형성하는 공정을 구비하고 있으므로, 네가티브 톤 현상 처리에 적합한 환경을 기판의 주위에 형성할 수 있다. 또, 부기 3의 기판 처리 방법은, 상기 용매 부재 분위기를 미리 형성하는 공정을 구비하고 있으므로, 포지티브 톤 현상 처리에 적합한 환경을 기판의 주위에 적절하게 형성할 수 있다.
부기 4. 부기 3에 기재된 기판 처리 방법에 있어서,
상기 용매 부재 분위기를 미리 형성하는 공정에서는, 상기 제2 컵에 용매 부재 분위기를 더 형성한다.
부기 4의 기판 처리 방법에 의하면, 포지티브 톤 현상 처리에 적합한 환경을 기판의 주위에 한층 적절하게 형성할 수 있다.
부기 5. 동일 공간에 설치되는 복수의 기판 처리 유닛의 각각에서 기판에 처리를 행하는 기판 처리 방법으로서,
상기 기판 처리 방법은,
상기 기판 처리 유닛 중 적어도 어느 하나에서, 상기 포지티브 톤 현상 처리를 행하는 공정과,
상기 기판 처리 유닛 중 적어도 어느 하나에서, 상기 네가티브 톤 현상 처리를 행하는 공정과,
상기 포지티브 톤 현상 처리를 행하는 공정에서 상기 네가티브 톤 현상 처리를 행하는 공정으로 전환할 때에, 용매 분위기를 미리 형성하는 공정과,
상기 네가티브 톤 현상 처리를 행하는 공정에서 상기 포지티브 톤 현상 처리를 행하는 공정으로 전환할 때에, 용매 부재 분위기를 미리 형성하는 공정을 구비한다.
부기 5의 기판 처리 방법은, 용매 분위기를 미리 형성하는 공정을 구비하고 있으므로, 네가티브 톤 현상 처리를 행하는 공정을 시작하기 전에, 네가티브 톤 현상 처리에 적합한 환경을 각 기판 처리 유닛에 형성할 수 있다. 따라서, 어느 기판 처리 유닛이어도, 처음부터 네가티브 톤 현상 처리를 품질 좋게 행할 수 있다.
또, 부기 5의 기판 처리 방법은, 용매 부재 분위기를 미리 형성하는 공정을 구비하고 있으므로, 포지티브 톤 현상 처리를 행하는 공정을 시작하기 전에, 포지티브 톤 현상 처리에 적합한 환경을 각 기판 처리 유닛에 형성할 수 있다. 따라서, 어느 기판 처리 유닛이어도, 처음부터 포지티브 톤 현상 처리를 품질 좋게 행할 수 있다.
부기 6. 부기 5에 기재된 기판 처리 방법에 있어서,
상기 포지티브 톤 현상 처리를 행하는 공정에서는, 상기 기판 처리 유닛의 각각에 설치되는 제1 컵으로 포지티브 톤 현상 처리에 사용한 처리액을 회수하며,
상기 네가티브 톤 현상 처리를 행하는 공정에서는, 상기 기판 처리 유닛의 각각에 설치되는 제2 컵으로 네가티브 톤 현상 처리에 사용한 처리액을 회수하고,
상기 용매 분위기를 미리 형성하는 공정에서는, 모든 상기 제2 컵에 용매 분위기를 형성하고,
상기 용매 부재 분위기를 미리 형성하는 공정에서는, 모든 상기 제1 컵에 용매 부재 분위기를 형성한다.
부기 6의 기판 처리 방법은, 용매 분위기를 미리 형성하는 공정을 구비하고 있으므로, 네가티브 톤 현상 처리에 적합한 환경을 기판의 주위에 형성할 수 있다. 또, 부기 6의 기판 처리 방법은, 기용매 부재 분위기를 미리 형성하는 공정을 구비하고 있으므로, 포지티브 톤 현상 처리에 적합한 환경을 기판의 주위에 형성할 수 있다.
부기 7. 부기 6에 기재된 기판 처리 방법에 있어서,
상기 용매 부재 분위기를 미리 형성하는 공정에서는, 모든 상기 제2 컵에 용매 부재 분위기를 더 형성한다.
부기 7의 기판 처리 방법에 의하면, 포지티브 톤 현상 처리에 적합한 환경을 기판의 주위에 한층 적절하게 형성할 수 있다.
발명을 설명하기 위해 현재 적합하다고 생각되는 몇가지의 형태가 도시되어 있지만, 발명이 도시된 대로의 구성 및 방책에 한정되는 것은 아닌 것이 이해되길 바란다.
도 1은, 실시예 1에 관련된 기판 처리 장치의 평면도이다.
도 2는, 실시예 1에 관련된 기판 처리 장치의 단면도이다.
도 3A~3D는, 내측 컵 및 외측 컵의 배치예를 나타내는 도이다.
도 4A, 4B는, 컵의 상세도이다.
도 5A, 5B는, 컵의 상세도이다.
도 6은, 컵의 저면도이다.
도 7은, 컵을 아래에서 본 사시도이다.
도 8A, 8B는, 컵의 상세도이다.
도 9는, 실시예 1에 관련된 기판 처리 장치의 동작예를 나타내는 플로차트이다.
도 10은, 실시예 2에 관련된 기판 처리 장치의 개략 구성을 나타내는 평면도이다.
도 11은, 현상 처리 유닛의 측면도이다.
도 12는, 동일 공간에 설치되는 복수의 현상 처리 유닛의 동작예를 나타내는 플로차트이다.
도 13은, 변형 실시예에 있어서의 컵의 상세 단면도이다.
이하, 도면을 참조하여 본 발명의 실시예 1을 설명한다. 도 1, 2는 각각, 실시예 1에 관련된 기판 처리 장치의 평면도, 단면도이다.
실시예 1에 관련된 기판 처리 장치(1)는, 처리액을 이용하여 기판을 1장씩 처리하는 장치이다. 보다 구체적으로는, 기판 처리 장치(1)는, 네가티브 톤 현상 처리 및 포지티브 톤 현상 처리의 양쪽을 행할 수 있다. 기판 처리 장치(1)는, 기판 유지부(5)와 회전 구동부(7)와 처리액 공급부(11)와 컵 세정부(13)와 컵(20)과 컵 승강 기구(41)를 구비하고 있다.
＜기판 유지부＞
기판 유지부(5)는, 1장의 기판(예를 들면, 반도체 웨이퍼) W를 대략 수평 자세로 유지한다. 기판 유지부(5)는, 예를 들면, 기판 W의 하면의 중앙부를 흡착 유지한다.
＜회전 구동부＞
회전 구동부(7)는, 기판 유지부(5)와 접속하고, 기판 유지부(5)를 대략 연직축 둘레로 회전시킨다. 회전 구동부(7)는, 회전축(7A)과 모터(7B)를 구비하고 있다. 회전축(7A)의 상단은 기판 유지부(5)에 접속되며, 회전축(7A)의 하단은 모터(7B)에 접속되어 있다. 모터(7B)는 구동력을 회전축(7A)에 출력한다.
＜처리액 공급부＞
처리액 공급부(11)는, 기판 유지부(5)에 유지된 기판 W에 처리액을 공급한다. 처리액 공급부(11)는, 처리액을 하방으로 토출하는 노즐(11A, 11B, 11C, 11D)을 포함한다. 각 노즐(11A-11D)은 각각, 기판 유지부(5)에 유지되는 기판 W의 상방의 위치(도면에 있어서 점선으로 나타낸다)와, 기판 W의 상방으로부터 벗어난 위치(도 2에 있어서 실선으로 나타낸다) 사이에 걸쳐 이동 가능하게 설치되어 있다.
본 실시예에서는, 노즐(11A, 11B)은, 포지티브 톤 현상 처리에 이용한다. 노즐(11A)이 토출하는 처리액은, 포지티브 톤 현상용의 현상액이다. 포지티브 톤 현상용의 현상액은, 알칼리 현상액이며, 예를 들면, 수산화 테트라메틸암모늄(TMAH： Tetra Methyl Ammonium Hydroxide)이다. 노즐(11B)이 토출하는 처리액은, 포지티브 톤 현상용의 세정액이다. 포지티브 톤 현상용의 세정액은, 예를 들면, 순수이다.
노즐(11C, 11D)은, 네가티브 톤 현상 처리에 이용한다. 노즐(11C)이 토출하는 처리액은, 네가티브 톤 현상용의 현상액이다. 네가티브 톤 현상용의 현상액은, 예를 들면, 아세트산 부틸 등의 유기용제를 포함하는 현상액이다. 노즐(11D)이 토출하는 처리액은, 네가티브 톤 현상용의 세정액이다. 네가티브 톤 현상용의 세정액은, 예를 들면, 4-메틸-2-펜탄올(MIBC： Methyl Iso Butyl Carbinol) 등의 유기용제를 포함하는 세정액이다.
＜컵 세정부＞
컵 세정부(13)는, 컵(20)을 세정한다. 컵 세정부(13)는, 세정액 공급부(14)와, 살포 디스크(16)를 구비하고 있다.
세정액 공급부(14)는, 컵(20)을 세정하기 위한 처리액(이하, 「세정액」이라고 부른다)을 공급한다. 세정액 공급부(14)는, 세정액을 토출하는 복수의 노즐(14A)과, 노즐(14A)과는 상이한 세정액을 토출하는 복수의 노즐(14B)을 포함한다. 각 노즐(14A, 14B)은 각각, 살포 디스크(16)를 향해 세정액을 토출한다. 각 노즐(14A, 14B)은, 기판 유지부(5)의 하방에 고정적으로 설치되어 있는 베이스판(15)에 지지되어 있다.
노즐(14A)이 토출하는 세정액은, 포지티브 톤 현상용의 세정액이며, 예를 들면, 순수이다. 노즐(14B)이 토출하는 세정액은, 네가티브 톤 현상용의 세정액이며, 예를 들면, 유기용제를 포함하는 세정액이다. 노즐(14A, 14B)은, 본 발명에 있어서의 제1 노즐, 제2 노즐의 예이다.
살포 디스크(16)는, 세정액 공급부(14)에 의해 공급된 세정액을 컵(20)에 살포한다. 살포 디스크(16)는, 기판 유지부(5)보다 하방이며, 세정액 공급부(14)보다 상방에 배치되어 있다. 살포 디스크(16)는 대략 원반 형상을 나타낸다. 살포 디스크(16)의 중심부는 회전 구동부(7)(회전축 12A)와 접속하고 있다. 살포 디스크(16)는, 기판 유지부(5)와 일체로 회전시킨다.
살포 디스크(16)는, 노즐(14A)이 공급한 세정액과 노즐(14B)이 공급한 세정액을, 살포 디스크(16) 내에 있어서 혼합하지 않고, 살포 디스크(16)의 측방에 살포한다. 살포 디스크(16)는, 개구(17A, 17B)와, 저류부(18A, 18B)와, 복수의 토출구(19A, 19B)를 구비한다. 개구(17A, 17B)는, 살포 디스크(16)의 하면에 형성된다. 개구(17A)는 노즐(14A)로부터 토출된 세정액을 받고, 개구(17B)는 노즐(14B)로부터 토출된 세정액을 받는다. 저류부(18A, 18B)는, 살포 디스크(16)의 내부에 형성된다. 저류부(18A)는, 개구(17A)와 연통하여, 세정액을 저류한다. 저류부(18B)는, 개구(17B)와 연통하여, 세정액을 저류한다. 각 토출구(19A, 19B)는, 살포 디스크(16)의 외주면에 형성되어 있다. 각 토출구(19A)는 저류부(18A)와 연통하고, 각 토출구(19B)는 저류부(18B)와 연통한다. 살포 디스크(16)가 회전하면, 저류부(18A) 내의 처리액이 토출구(19A)로부터 비산하여, 저류부(18B) 내의 처리액이 토출구(19B)로부터 비산한다.
＜컵과 컵 승강 기구＞
컵(20)은, 기판 W에 공급된 처리액을 회수한다. 컵(20)은, 내측 컵(21)과 외측 컵(31)을 구비한다. 외측 컵(31)은, 기판 유지부(5)의 측방을 둘러싸도록 설치되어 있다. 내측 컵(21)은, 외측 컵(31) 내에 수용되어 있다. 내측 컵(21)은 처리액을 포집하는 도입구 A를 가지며, 외측 컵(31)은 처리액을 포집하는 도입구 B를 가진다.
컵 승강 기구(41)는, 내측 컵(21) 및 외측 컵(31)을 상하 이동시킨다. 컵 승강 기구(41)는, 내측 컵 승강 기구(41A)와 외측 컵 승강 기구(41B)를 구비하고 있다. 내측 컵 승강 기구(41A)는, 내측 컵(21)과 접속하여, 내측 컵(21)을 승강시킨다. 외측 컵 승강 기구(41B)는, 외측 컵(31)과 접속하여, 외측 컵(31)을 승강시킨다.
도 3A 내지 3D는, 내측 컵(21) 및 외측 컵(31)의 4개의 배치예를 나타낸다. 또한, 도 3A 내지 3D에서는, 내측 컵(21) 및 외측 컵(31)을 간략하게 도시한다.
외측 컵(31)은, 처리 위치(도 3A, 3B 참조)와 세정 위치(도 3C, 3D 참조)로 이동 가능하다. 처리 위치에서는, 외측 컵(31)의 도입구 B가 기판 유지부(5)의 측방에 위치한다. 세정 위치에서는, 외측 컵(31)의 도입구 B가 살포 디스크(16)의 측방에 위치한다. 외측 컵(31)의 세정 위치는 외측 컵(31)의 처리 위치보다 낮다.
내측 컵(21)은, 외측 컵(31)에 대해 회수 위치(도 3A, 3C 참조)와 대피 위치(도 3B, 3D 참조)로 이동 가능하다. 회수 위치에서는, 내측 컵(21)의 도입구 A가 외측 컵(31)의 도입구 B와 대략 동일한 높이에 위치한다. 도입구 A는 도입구 B를 통해서 개방되고, 내측 컵(21)은 처리액(기판 W로부터 비산된 처리액 및 살포 디스크(16)가 살포한 처리액을 포함한다)을 회수한다. 내측 컵(21)이 대피 위치에 있을 때, 내측 컵(21)의 도입구 A는 외측 컵(31)의 도입구 B보다 낮다. 도입구 B는 개방되고, 외측 컵(31)은 처리액을 회수한다. 내측 컵(21)의 대피 위치는 내측 컵(21)의 회수 위치보다 낮다.
본 실시예에서는, 내측 컵(21)을 이용하여 포지티브 톤 현상 처리를 행하고, 외측 컵(31)을 사용하여 네가티브 톤 현상 처리를 행한다. 내측 컵(21)은, 본 발명에 있어서의 제1 컵의 예이다. 외측 컵(31)은, 본 발명에 있어서의 제2 컵의 예이다.
＜내측 컵 본체/외측 컵 본체의 상세한 구조＞
도 4A, 4B는, 컵(20)의 상세도이다. 도 4A에서는, 내측 컵(21)이 회수 위치에 있으며, 도 4B에서는 내측 컵(21)이 퇴피 위치에 있다.
내측 컵(21)은, 대략 환상의 외형을 가지며, 내부가 중공인 내측 컵 본체(22)를 구비한다. 내측 컵 본체(22)는, 저부(22a)와 내주벽(22b)과 외주벽(22c)을 가진다. 내주벽(22b)의 하단은 저부(22a)와 접속하고 있다. 외주벽(22c)의 하단은, 내주벽(22b)의 바깥쪽에 있어서 저부(22a)와 접속하고 있다. 외주벽(22c)의 상단은, 안쪽으로 굴곡되어 있다. 상술한 도입구 A는, 내주벽(22b)의 상단과 외주벽(22c)의 상단의 사이에 형성된다. 내측 컵 본체(22)는, 저부(22a)의 내주연으로부터 하방으로 돌출하는 환상의 볼록부(22d)를 더 가진다. 또한, 「안쪽」이란, 내측 컵 본체(22)/외측 컵 본체(32)의 중심을 향하는 방향을 의미하고, 「바깥쪽」이란 「안쪽」의 반대 방향을 의미한다. 내측 컵 본체(22)/외측 컵 본체(32)의 중심은, 예를 들면, 회전축(7A)의 축심과 대략 일치한다.
외측 컵(31)은, 대략 환상의 외형을 나타내는 외측 컵 본체(32)를 구비한다. 외측 컵 본체(32)는, 저부(32a)와 내주벽(32b)과 외주벽(32c)을 구비하고 있다. 각 부(32a~32c)는, 내측 컵 본체(22)의 각 부(22a~22c)와 대략 동일한 구조를 가진다.
외측 컵 본체(32)는, 플랜지부(32d)와 환상의 단부(32e)를 더 구비하고 있다. 플랜지부(32d)는, 내주벽(32b)으로부터 바깥쪽으로 대략 수평으로 연장되어 있다. 플랜지부(32d)의 일부는, 내측 컵(21)의 도입구 A를 통해서, 내측 컵 본체(22)의 내부에 진입하고 있다. 단부(32e)는, 저부(32a)와 내주벽(32b)이 접속하는 모서리부에 있어서, 저부(32a)로부터 상방으로 융기하고 있다.
도 4A에 나타내는 바와 같이, 내측 컵(21)이 회수 위치에 있을 때, 내측 컵 본체(22)의 외주벽(22c)은 외측 컵 본체(32)의 외주벽(32c)과 접촉하고, 내측 컵 본체(22)의 내주벽(22b)은 외측 컵 본체(32)의 플랜지부(32d)와 접촉한다. 이것에 의해, 내측 컵 본체(22)가 외측 컵 본체(32)의 도입구 B를 폐색하고, 외측 컵(31)이 처리액을 회수하는 것을 금지한다.
도 4B에 나타내는 바와 같이, 내측 컵(21)이 퇴피 위치에 있을 때, 내측 컵 본체(22)의 외주벽(22c)은 플랜지부(32d)와 접촉하고, 내측 컵 본체(22)의 볼록부(22d)는 외측 컵 본체(32)의 단부(32e)와 접촉한다. 이것에 의해, 외측 컵 본체(32)가 내측 컵(21)의 도입구 A를 폐색하여, 내측 컵(21)이 처리액을 회수하는 것을 금지한다.
＜내측 컵의 배액/배기의 상세한 구조＞
도 5A는 내측 컵(21)의 배액 구조를 나타내는 도이며, 도 5B는 내측 컵(21)의 배기 구조를 나타내는 도이다. 또한, 도 5A, 5B에서는, 내측 컵(21)은 회수 위치에 있다. 도 6은 컵(20)의 저면도이며, 도 7은 컵(20)을 아래에서 본 사시도이다.
내측 컵(21)은, 1개의 배액구(23)와 1개의 배액관(24)을 구비한다. 배액구(23)는, 내측 컵 본체(22)(저부(22a))에 형성되어, 내측 컵 본체(22)의 내부의 처리액을 내측 컵 본체(22)의 밖으로 배출한다. 배액관(24)은, 내측 컵 본체(22)(저부(22a))에 접속되어, 배액구(23)로부터 배출된 처리액을 통하게 한다. 도 5A에서는, 내측 컵 본체(22) 내의 처리액의 흐름 F1을 모식적으로 나타낸다.
외측 컵(31)은, 배액관(24)을 연장하는 1개의 배액 연장관(33)을 구비한다. 배액 연장관(33)은, 외측 컵 본체(32)(저부(32a))에 접속되어 있다. 배액 연장관(33)은, 배액관(24)보다 큰 직경을 가진다. 배액 연장관(33)은, 배액관(24)을 상하 이동 가능하게 수용한다. 배액 연장관(33)은, 배액관(24)으로부터 배출된 처리액을 통하게 한다. 이와 같이, 배액 연장관(33)이 배액관(24)을 이으므로, 배액관(24)의 길이를 짧게 할 수 있다.
내측 컵(21)이 회수 위치에 배치되어 있을 때여도, 배액관(24)의 하단은 배액 연장관(33)에 삽입되어 있다. 이 때문에, 배액관(24)으로부터 배출된 처리액이, 외측 컵 본체(32) 내에 유입되지 않는다. 내측 컵(21)이 회수 위치에 배치되어 있을 때, 배액관(24)의 하단은 배액 연장관(33)의 하단보다 상방인 것이 바람직하다. 이것에 의하면, 배액관(24)의 길이를 짧게 할 수 있으며, 내측 컵(21)의 높이를 억제할 수 있어, 컵(20) 전체의 높이를 억제할 수 있다. 또한, 내측 컵(21)이 회수 위치에 배치되어 있을 때, 배액 연장관(33)에 삽입되어 있는 배액관(24)의 부분의 길이는 80mm 이하인 것이 바람직하다. 배액관(24)의 길이를 한층 짧게 할 수 있다.
내측 컵(21)은, 2개의 배기구(25)와 2개의 배기관(26)을 구비한다. 각 배기구(25)는, 내측 컵 본체(22)(저부(22a))에 형성되어, 내측 컵 본체(22)의 내부의 기체(처리액의 미스트를 포함한다)를 내측 컵 본체(22)의 밖으로 배출한다. 각 배기관(26)은, 내측 컵 본체(22)(저부(22a))에 접속되어, 각 배기구(25)로부터 배출된 기체를 통하게 한다. 도 5B에서는, 내측 컵 본체(22) 내의 기체의 흐름 F2를 모식적으로 나타낸다.
외측 컵(31)은, 각 배기관(26)을 연장하는 2개의 배기 연장관(34)을 구비한다. 배기 연장관(34)은, 외측 컵 본체(32)(저부(32a))에 접속되어 있다. 배기 연장관(34)은, 배기관(26)보다 큰 직경을 가진다. 배기 연장관(34)은, 배기관(26)을 상하 이동 가능하게 수용한다. 배기 연장관(34)은, 배기관(26)으로부터 배출된 기체를 통하게 한다. 이와 같이, 배기 연장관(34)이 배기관(26)을 이으므로, 배기관(26)의 길이를 짧게 할 수 있다.
내측 컵(21)이 회수 위치에 배치되어 있을 때여도, 배기관(26)의 하단은 배기 연장관(34)에 삽입되어 있다. 이 때문에, 배기관(26)으로부터 배출된 기체가, 외측 컵 본체(32) 내에 유입되지 않는다. 내측 컵(21)이 회수 위치에 배치되어 있을 때, 배기관(26)의 하단은 배기 연장관(34)의 하단보다 상방인 것이 바람직하다. 이것에 의하면, 배기관(26)의 길이를 짧게 할 수 있으며, 내측 컵(21)의 높이를 억제할 수 있어, 컵(20) 전체의 높이를 억제할 수 있다. 또한, 내측 컵(21)이 회수 위치에 배치되어 있을 때, 배기 연장관(34)에 삽입되어 있는 배기관(26)의 부분의 길이는 80mm 이하인 것이 바람직하다. 배기관(26)의 길이를 한층 짧게 할 수 있다.
내측 컵(21)은, 배기구(25)의 상방을 덮는 덮음부(27)를 구비하고 있다. 덮음부(27)는, 배기구(25)에 처리액이 유입되는 것을 방지한다. 덮음부(27)는, 내측 컵 본체(22)의 내부에 설치되어 있다. 본 실시예에서는, 덮음부(27)의 기단부는, 배기구(25)의 근방의 저부(22a)에 접속되어 있다. 덮음부(27)의 선단은, 내측 컵(21)의 도입구 A보다 낮은 위치이며 배기구(25)의 상방으로 연장된다. 또한, 덮음부(27)는, 내측 컵 본체(22) 내의 기체가 배기구(25)에 유입되는 것을 허용한다. 덮음부(27)는, 본 발명에 있어서의 커버부의 예이다.
상술한 플랜지부(32d)도, 각 배기구(25)를 덮어, 처리액이 배기구(25)에 유입되는 것을 방지한다. 즉, 플랜지부(32d)는, 본 발명에 있어서의 커버부로서 기능한다.
＜외측 컵의 배액/배기의 상세한 구조＞
도 8A는 외측 컵(31)의 배액 구조를 나타내는 도이며, 도 8B는 외측 컵(31)의 배기 구조를 나타내는 도이다. 또한, 도 8A, 8B에서는, 내측 컵(21)은 대피 위치에 있다.
외측 컵(31)은, 1개의 배액구(35)와 1개의 배액관(36)과 2개의 배기구(37)와 2개의 배기관(38)을 구비하고 있다. 배액구(35)와 배기구(37)는, 외측 컵 본체(32)(저부(32a))에 형성되어 있다. 배액관(36)과 배기관(38)은, 외측 컵 본체(32)(저부(32a))에 접속되어 있다. 배액구(35)는, 외측 컵 본체(32)의 내부의 처리액을 배출한다. 배액관(36)은, 배액구(35)로부터 배출된 처리액을 통하게 한다. 배기구(37)는, 외측 컵 본체(32)의 내부의 기체(처리액의 미스트를 포함한다)를 배출한다. 배기관(38)은, 배기구(37)로부터 배출된 기체를 통하게 한다. 도 8A에서는, 외측 컵 본체(32) 내의 처리액의 흐름 F3을 모식적으로 나타낸다. 도 8B에서는, 외측 컵 본체(32) 내의 기체의 흐름 F4를 모식적으로 나타낸다.
또한, 외측 컵(31)은, 배액구(35)와 배기구(37)를 칸막이하는 환상의 칸막이 벽(39)을 구비하고 있다. 칸막이 벽(39)은, 내주벽(32b)의 바깥쪽이며, 또한, 외주벽(32c)의 안쪽에 설치되어 있다. 칸막이 벽(39)은, 저부(32a)로부터 상방으로 돌출되어 있다. 배액구(35)는 칸막이 벽(39)의 바깥쪽에 배치되며, 배기구(37)는 칸막이 벽(39)의 안쪽에 배치된다.
내측 컵 본체(22)는, 칸막이 벽(39)의 안쪽을 상하 이동한다. 이것에 의해, 내측 컵 본체(22)는 배기구(37)의 상방을 덮어, 배기구(37)에 외측 컵 본체(32) 내의 처리액이 유입되는 것을 방지한다. 특히, 내측 컵(21)이 퇴피 위치에 있을 때, 내측 컵 본체(22)는 외측 컵(31)의 도입구 B보다 낮기 때문에, 배기구(37)에 처리액이 낙하하는 것을 적확하게 방지할 수 있다.
내측 컵 본체(22)의 외주벽(22c)에는, 처리액을 칸막이 벽(39)의 바깥쪽으로 안내하는 차양부(28)가 부착되어 있다. 차양부(28)의 선단은, 외주벽(22c)으로부터 바깥쪽이며 또한 하방으로 연장되어 있다. 내측 컵(21)이 퇴피 위치에 있을 때, 차양부(28)의 선단은, 칸막이 벽(39)의 상단보다 하방이며, 또한, 칸막이 벽(39)의 바깥쪽에 위치한다. 즉, 차양부(28)와 외주벽(22c) 사이의 간극에, 칸막이 벽(39)의 상단이 수용된다. 이와 같이 차양부(28)를 칸막이 벽(39)의 상단에 씌우면, 차양부(28)는, 외측 컵 본체(32) 내의 처리액을 칸막이 벽(39)의 바깥쪽으로 안내한다. 이것에 의해, 차양부(28)는, 처리액이 배기구(37)에 유입되는 것을 방지할 수 있다. 또한, 내측 컵(21)이 대피 위치에 있을 때여도, 외측 컵 본체(32) 내의 기체는, 차양부(28)와 칸막이 벽(39) 사이를 통과하여, 배기구(37)에 유입할 수 있다.
＜배액 덕트와 배기 덕트＞
도 7을 참조한다. 기판 처리 장치(1)는, 배액 덕트(43, 44)를 구비하고 있다. 배액 덕트(43)는, 배액 연장관(33)의 하단과 접속하여, 배액 연장관(33)으로부터 배출된 처리액을 통하게 한다. 배액 덕트(44)는, 배액관(36)의 하단과 접속하여, 배액관(36)으로부터 배출된 처리액을 통하게 한다.
기판 처리 장치(1)는, 배기 덕트(45, 46)를 구비하고 있다. 배기 덕트(45)는, 배기 연장관(34)의 하단과 접속하고 있으며, 배기 연장관(34)으로부터 배출된 기체를 통하게 한다. 배기 덕트(46)는, 배기관(38)의 하단과 접속하고 있으며, 배기관(38)으로부터 배출된 기체를 통하게 한다.
＜제어부＞
도 2를 참조한다. 기판 처리 장치(1)는, 제어부(47)를 구비하고 있다. 제어부(47)는, 상술한 회전 구동부(7), 처리액 공급부(11), 세정액 공급부(14) 및 컵 승강 기구(41)를 통괄적으로 제어한다.
다음으로, 실시예 1에 관련된 기판 처리 장치(1)의 동작에 대해서 설명한다. 도 9는, 기판 처리 장치(1)의 동작예를 나타내는 플로차트이다.
＜단계 S1＞ 용매 분위기의 형성
본 단계 S1의 개시 전에, 외측 컵(31)은 세정 위치에 있으며, 내측 컵(21)은 퇴피 위치에 있는 것으로 한다. 본 단계 S1에서는, 유기용제를 포함하는 분위기(이하, 「용매 분위기」라고 한다)를 형성한다. 구체적으로는, 노즐(16B)이 네가티브 톤 현상용의 세정액을 토출하고, 회전 구동부(7)가 살포 디스크(16)를 회전시킨다. 이것에 의해, 컵 세정부(13)는 네가티브 톤 현상용의 세정액을 외측 컵(31)에 살포한다. 살포된 세정액의 일부는 휘발되어, 외측 컵(31)(예를 들면, 외측 컵 본체(32)의 내부)이나 살포 디스크(16)의 측방에 용매 분위기가 형성된다.
외측 컵 본체(32)에 살포된 세정액은, 배액구(35) 및 배액관(36)을 통해서 컵(20)의 외부(즉, 배액 덕트(44))에 배출된다. 외측 컵 본체(32)의 내부의 기체는, 배기구(37) 및 배기관(38)을 통해서 컵(20)의 외부(즉, 배기 덕트(46))에 배출된다.
＜단계 S2＞ 네가티브 톤 현상 처리
도시하지 않은 기판 반송 기구가 기판 W를 기판 유지부(5)에 올려 놓는다. 기판 W의 상면에는, 노광 처리된 레지스트막이 형성되어 있다. 외측 컵 승강 기구(41B)는, 외측 컵(31)을 처리 위치로 이동시킨다. 내측 컵 승강 기구(41A)는, 외측 컵(31)이 처리 위치에 있을 때의 퇴피 위치에 내측 컵(21)을 이동시킨다. 기판 W의 주위가 용매 분위기가 된다.
기판 처리 장치(1)는, 미리 설정되어 있는 처리 레시피에 따라, 기판 W에 네가티브 톤 현상 처리를 행한다. 예를 들면, 노즐(13C)이 기판 W의 상방으로 이동하여, 기판 W에 네가티브 톤 현상용의 현상액을 공급한다. 계속해서, 노즐(13D)이 기판 W의 상방으로 이동하여, 기판 W에 네가티브 톤 현상용의 세정액을 공급한다. 이 동안, 회전 구동부(7)는, 기판 W를 적당하게 회전시킨다. 이 네가티브 톤 현상 처리에 의해, 레지스트막의 비노광부는 용해되어 제거된다.
외측 컵(31)은, 네가티브 톤 현상 처리에 사용된 처리액을 회수한다. 구체적으로는, 외측 컵 본체(32)는, 기판 W로부터 떨쳐내진 처리액을 받아 들인다. 배액구(35) 및 배액관(36)은, 외측 컵 본체(32) 내의 처리액을 컵(20)의 외부로 배출한다. 배기구(37) 및 배기관(38)은, 외측 컵 본체(32) 내의 기체를 컵(20)의 외부로 배출한다.
네가티브 톤 현상 처리가 끝나면, 컵 승강 기구(41)는, 외측 컵(31)을 세정 위치로 이동시키고, 외측 컵(31)이 세정 위치일 때의 대피 위치에 내측 컵(21)을 이동시킨다. 도시하지 않은 기판 반송 기구는, 기판 유지부(5)로부터 기판 W를 반출한다.
＜단계 S3＞ 컵 세정
컵 세정부(13)가 외측 컵(31)을 세정한다. 구체적으로는, 컵 세정부(13)는, 네가티브 톤 현상용의 세정액을 외측 컵(31)에 살포하고, 네가티브 톤 현상 처리에 이용된 처리액을 씻어 낸다. 이 때에도, 외측 컵 본체(32) 내의 처리액은 배액구(35)를 통해서 배출되며, 외측 컵 본체(32) 내의 기체는 배기구(37)를 통해서 배출된다.
＜단계 S4＞ 포지티브 톤 현상 처리로 전환하는가?
네가티브 톤 현상 처리에서 포지티브 톤 현상 처리로 전환하는 경우는, 단계 S5로 진행된다. 그렇지 않은 경우, 단계 S2로 되돌아와, 다른 기판 W에 대해 네가티브 톤 현상 처리를 반복한다.
＜단계 S5＞ 용매 부재 분위기의 형성
유기용제를 실질적으로 포함하지 않는 분위기(이하, 「용매 부재 분위기」라고 한다)를 외측 컵(31) 등에 형성한다. 구체적으로는, 노즐(16A)이 포지티브 톤 현상용의 현상액을 토출하고, 회전 구동부(7)가 살포 디스크(16)를 회전시킨다. 이것에 의해, 컵 세정부(13)는 포지티브 톤 현상용의 세정액을 외측 컵(31)에 살포한다. 이것에 의해, 외측 컵(31)에 부착하는 유기용제나 외측 컵(31) 내를 부유하는 유기용제가 씻어 내어져, 외측 컵(31)에 용매 부재 분위기가 형성된다. 또한, 「용매 부재 분위기」는, 유기용제를 전혀 포함하지 않는 분위기에 한정되지 않고, 포지티브 톤 현상 처리의 품질에 실질적으로 영향을 주지 않을 정도 미소한 유기용제를 포함하는 분위기여도 된다.
＜단계 S6＞ 컵 전환
컵 승강 기구(41)는, 외측 컵(31)을 세정 위치에 유지하고, 내측 컵(21)을 회수 위치로 이동시킨다.
＜단계 S7＞ 용매 부재 분위기의 형성
용매 부재 분위기를 내측 컵(21)에 형성한다. 구체적으로는, 컵 세정부(13)는 포지티브 톤 현상용의 세정액을 내측 컵(21)에 살포한다.
내측 컵 본체(22)에 살포된 세정액은, 배액구(23), 배액관(24) 및 배액 연장관(33)을 통해서 컵(20)의 외부(즉, 배액 덕트(43))에 배출된다. 내측 컵 본체(22)의 내부의 기체는, 배기구(25), 배기관(26) 및 배기 연장관(34)을 통해서 컵(20)의 외부(즉, 배기 덕트(46))에 배출된다.
＜단계 S8＞ 포지티브 톤 현상 처리
기판 반송 기구가 기판 유지부(5)에 1장의 기판 W를 올려 놓는다. 컵 승강 기구(41)는, 외측 컵(31)을 처리 위치로 이동시키고, 내측 컵(21)을 외측 컵(31)이 처리 위치에 있을 때의 회수 위치로 이동시킨다. 기판 W의 주위가 용매 부재 분위기가 된다.
기판 처리 장치(1)는, 미리 설정되어 있는 처리 레시피에 따라, 기판 W에 포지티브 톤 현상 처리를 행한다. 예를 들면, 노즐(13A)이 기판 W에 포지티브 톤 현상용의 현상액을 공급한다. 계속해서, 노즐(13B)이 기판 W에 포지티브 톤 현상용의 세정액을 공급한다. 이 동안, 회전 구동부(7)는, 기판 W를 적당하게 회전시킨다. 이 포지티브 톤 현상 처리에 의해, 레지스트막의 노광부는 용해되어 제거된다.
내측 컵(21)은, 포지티브 톤 현상 처리에 사용된 처리액을 회수한다. 구체적으로는, 내측 컵 본체(22)는, 기판 W로부터 비산한 처리액을 받아 들인다. 배액구(23), 배액관(24) 및 배액 연장관(33)은, 내측 컵 본체(22) 내의 처리액을 컵(20) 밖으로 배출한다. 배기구(25), 배기관(26) 및 배기 연장관(34)은, 내측 컵 본체(22)의 기체를 컵(20) 밖으로 배출한다.
포지티브 톤 현상 처리가 끝나면, 컵 승강 기구(41)는, 외측 컵(31)을 세정 위치로 이동시키고, 내측 컵(21)을 외측 컵(31)이 세정 위치에 있을 때의 회수 위치로 이동시킨다. 기판 반송 기구는, 기판 유지부(5)로부터 기판 W를 반출한다.
＜단계 S9＞ 컵 세정
컵 세정부(13)는, 포지티브 톤 현상용의 세정액으로 내측 컵(21)을 세정한다. 이 때에도, 내측 컵 본체(22) 내의 처리액은 배액구(23)로부터 배출되며, 내측 컵 본체(22) 내의 기체는 배기구(25)로부터 배출된다.
＜단계 S10＞ 네가티브 톤 현상 처리로 전환하는가?
포지티브 톤 현상 처리부터 네가티브 톤 현상 처리로 전환하는 경우는, 단계 S11로 진행된다. 그렇지 않은 경우, 단계 S8로 되돌아와, 다른 기판 W에 대해 포지티브 톤 현상 처리를 반복한다.
＜단계 S11＞ 컵 전환
컵 승강 기구(41)는, 외측 컵(31)을 세정 위치에 유지하고, 내측 컵(21)을 퇴피 위치로 이동시킨다. 그리고, 단계 S1로 되돌아온다.
상술한 동작예에 있어서, 단계 S1은, 본 발명에 있어서의 「네가티브 톤 현상용의 세정액을 상기 제2 컵에 미리 살포하는 공정」이며, 본 발명에 있어서의 「용매 분위기를 미리 형성하는 공정」의 예이다. 단계 S2는, 본 발명에 있어서의 「네가티브 톤 현상 처리를 행하는 공정」의 예이다. 단계 S5, S7은, 본 발명에 있어서의 「용매 부재 분위기를 미리 형성하는 공정」의 예이다. 또, 단계 S5는, 본 발명에 있어서의 「포지티브 톤 현상용의 세정액을 상기 제2 컵에 살포하는 공정」의 예이며, 단계 S7은, 본 발명에 있어서의 「포지티브 톤 현상용의 세정액을 상기 제1 컵에 미리 살포하는 공정」의 예이다.
＜효과＞
본 실시예 1에 의하면, 기판 처리 장치(1)는 내측 컵(21)과 외측 컵(31)을 구비하고, 내측 컵(21)은 회수 위치와 퇴피 위치로 이동 가능하다. 이 내측 컵(21)의 이동에 의해, 내측 컵(21)과 외측 컵(31)을 용이하게 전환할 수 있다. 따라서, 본 실시예와 같이, 각 기판 W에 포지티브 톤 현상 처리 및 네가티브 톤 현상 처리 중 어느 하나를 선택적으로 행할 수 있다.
내측 컵(21)이 회수 위치에 있을 때에는, 내측 컵(21)이 외측 컵(31)의 도입구 B를 폐색한다. 내측 컵(21)이 대피 위치에 있을 때에는, 외측 컵(31)이 내측 컵(21)의 도입구 A를 폐색한다. 따라서, 네가티브 톤 현상 처리에 사용되는 처리액이 내측 컵(21)에 부착하는 것을 방지할 수 있어, 내측 컵(21)을 사용한 포지티브 톤 현상 처리를 품질 좋게 행할 수 있다. 마찬가지로, 포지티브 톤 현상 처리에 사용되는 처리액이 외측 컵(31)에 부착되는 일이 없기 때문에, 외측 컵(31)을 사용한 네가티브 톤 현상 처리를 품질 좋게 행할 수 있다. 또한, 컵 세정부(13)는, 컵(21, 31)에 개별적으로 각종의 분위기를 형성할 수 있다.
외측 컵(31)은 내측 컵(21)을 수용하므로, 컵(20)의 전체를 소형화할 수 있다.
내측 컵(21)은 내측 컵 본체(22)와 배액구(23)와 배기구(25)를 구비하고, 외측 컵(31)은 외측 컵 본체(32)와 배액구(35)와 배기구(37)를 구비한다. 따라서, 내측 컵 본체(22) 내의 처리액, 내측 컵 본체(22) 내의 기체, 외측 컵 본체(32) 내의 처리액 및 외측 컵 본체(32) 내의 기체를, 따로 따로 배출할 수 있다. 따라서, 내측 컵 본체(22) 내의 처리액과 외측 컵 본체(32) 내의 처리액이 혼합되는 것을 방지할 수 있으며, 또한, 내측 컵 본체(22) 내의 기체와 외측 컵 본체(32) 내의 기체가 혼합되는 것을 방지할 수 있다. 따라서, 내측 컵(21)을 사용할 때도 외측 컵(31)을 사용할 때도, 기판 W에 대해 처리를 품질 좋게 행할 수 있다.
외측 컵(31)은, 배액관(24)과 연통 접속하는 배액 연장관(33)을 구비한다. 이것에 의해, 배액관(24)의 길이를 짧게 할 수 있으며, 내측 컵(21)을 소형화할 수 있다. 또, 내측 컵 본체(22) 내의 처리액을, 외측 컵 본체(32) 내를 통과시키지 않고, 컵(20)의 외부로 배출할 수 있다.
마찬가지로, 외측 컵(31)은, 배기관(26)과 연통 접속하는 배기 연장관(34)을 구비한다. 이것에 의해, 배기관(26)의 길이를 짧게 할 수 있으며, 내측 컵(21)을 소형화할 수 있다. 또, 내측 컵 본체(22) 내의 기체를, 외측 컵 본체(32) 내를 통과시키지 않고, 컵(20)의 외부로 배출할 수 있다.
내측 컵(21)은 덮음부(27)를 구비하므로, 배기구(25)에 처리액이 유입되는 것을 방지할 수 있다. 또한, 외측 컵 본체(32)의 플랜지부(32d)는 배기구(25)에 대한 커버부로서 기능하므로, 배기구(25)에 처리액이 유입되는 것을 한층 확실히 방지할 수 있다.
외측 컵(31)은 칸막이 벽(39)을 구비하므로, 배기구(37)에 처리액이 유입되는 것을 방지할 수 있다. 또한, 내측 컵 본체(22)는 배기구(37)의 상방을 덮고 있으므로, 배기구(37)에 처리액이 유입되는 것을 한층 확실히 방지할 수 있다. 또한, 내측 컵(21)은 차양부(28)를 구비하므로, 배기구(37)에 처리액이 유입되는 것을 한층 확실히 방지할 수 있다.
기판 처리 장치(1)는 컵 승강 기구(41)를 구비하고 있으므로, 내측 컵(21)은 회수 위치와 대피 위치로 용이하게 이동할 수 있다. 또한, 컵 승강 기구(41)는, 외측 컵(31)을 세정 위치로 이동시킬 수 있다. 이것에 의해, 기판 유지부(5) 자체가 승강하지 않아도, 기판 반송 기구는 기판 유지부(5)에 액세스할 수 있다. 또, 살포 디스크(16)가 승강하지 않아도, 컵 세정부(13)는 컵(20)에 세정액을 살포할 수 있다. 따라서, 살포 디스크(16)를 회전축(7A)에 고정할 수 있다.
포지티브 톤 현상 처리부터 네가티브 톤 현상 처리로 전환할 때에, 용매 분위기를 형성한다(단계 S1). 따라서, 전환 후의 최초의 네가티브 톤 현상 처리부터 용매 분위기 하에 있어서 기판 W를 처리를 행할 수 있다. 그 결과, 전환 후의 최초의 네가티브 톤 현상 처리여도, 현상 결함 등을 방지할 수 있다. 이와 같이, 네가티브 톤 현상 처리를 시작하기 전에 네가티브 톤 현상 처리에 적합한 환경을 형성하므로, 기판 W에 품질 좋게 처리를 행할 수 있다.
본 단계 S1에서는, 외측 컵(31)에 용매 분위기를 형성하므로, 네가티브 톤 현상 처리가 실시되는 기판 W의 주위에, 네가티브 톤 현상 처리에 적합한 환경을 형성할 수 있다. 또한, 본 단계 S1에서는, 네가티브 톤 현상용의 세정액을 외측 컵(31)에 살포하므로, 용매 분위기를 효과적으로 형성할 수 있다.
네가티브 톤 현상 처리에서 포지티브 톤 현상 처리로 전환할 때에, 용매 부재 분위기를 형성한다(단계 S5, S7). 따라서, 전환 후의 최초의 포지티브 톤 현상 처리부터 용매 부재 분위기 하에 있어서 기판 W를 처리를 행할 수 있다. 그 결과, 전환 후의 최초의 포지티브 톤 현상 처리여도, 현상 결함 등을 방지할 수 있다. 이와 같이, 포지티브 톤 현상 처리를 시작하기 전에 포지티브 톤 현상 처리에 적합한 환경을 형성하므로, 기판 W에 품질 좋게 처리를 행할 수 있다.
단계 S7에서는, 내측 컵(21)에 용매 부재 분위기를 형성하므로, 포지티브 톤 현상 처리가 실시되는 기판 W의 주위에 포지티브 톤 현상 처리에 적합한 환경을 형성할 수 있다. 또한, 본 단계 S5에서는, 포지티브 톤 현상용의 세정액을 내측 컵(21)에 살포하므로, 용매 부재 분위기를 효과적으로 형성할 수 있다.
단계 S5에서는, 외측 컵(31)에도 용매 부재 분위기를 형성하므로, 포지티브 톤 현상 처리에 적합한 환경을 확실히 형성할 수 있다. 바꾸어 말하면, 외측 컵(31)에 잔류하는 처리액이 용매 부재 분위기의 형성을 저해하는 것을 미리 막을 수 있다.
<실시예 2>
이하, 도면을 참조하여 본 발명의 실시예 2를 설명한다.
도 10은, 실시예 2에 관련된 기판 처리 장치의 개략 구성을 나타내는 평면도이다. 실시예 2에 관련된 기판 처리 장치(61)는, 레지스트막을 형성하는 처리와 현상 처리를 기판 W에 행한다.
기판 처리 장치(61)는, 인덱서부(이하, 「ID부」라고 부른다)(63)와 처리부(65)와 인터페이스부(이하, 「IF부」라고 부른다)(67)를 구비하고 있다. 처리부(65)는 2개의 처리 블록(65A, 65B)을 포함한다. ID부(63)와 처리 블록(65A)과 처리 블록(65B)과 IF부(67)는, 이 순서로 1열로 연결되어 있다. IF부(67)는, 또한, 본 장치(61)와는 별체의 외부 장치인 노광기 EXP에 인접하고 있다.
ID부(63)는, 카세트 C를 올려 놓는 재치대(71)와, 기판 W를 반송하는 ID용 반송 기구 TID를 구비한다. 각 카세트 C는 복수의 기판 W를 수용한다. ID부(63)와 처리 블록(65A)의 사이에는, 기판 W를 올려 놓는 재치부 P1이 설치되어 있다. ID용 반송 기구 TID는, 카세트 C와 재치부 P1에 액세스한다.
처리 블록(65A)은, 주반송 기구 T1과, 복수의 액처리 유닛(73A, 73B)과, 복수의 열처리 유닛(75A, 75B, 75C)을 구비하고 있다. 주반송 기구 T1은 기판 W를 반송한다. 복수의 액처리 유닛(73A, 73B)은 주반송 기구 T1의 일방측에 설치되어 있다. 액처리 유닛(73A, 73B)은, 기판 W에 처리액을 공급한다. 액처리 유닛(73A, 73B)은, 예를 들면, 기판 W에 레지스트막 재료를 도포하는 도포 처리 유닛이다. 복수의 열처리 유닛(75A, 75B, 75C)은 주반송 기구 T1의 타방측에 설치되어 있다. 열처리 유닛(75A, 75B, 75C)은, 기판 W에 가열 처리나 냉각 처리를 행한다. 처리 블록(65A)과 처리 블록(65B) 사이에는 기판 W를 올려 놓는 재치부 P2가 설치되어 있다. 주반송 기구 T1은, 재치부 P1, P2, 도포 처리 유닛(73A, 73B) 및 열처리 유닛(75A~75C)에 액세스한다.
처리 블록(65B)은, 기판 W를 반송하는 주반송 기구 T2와, 주반송 기구 T2의 일방측에 설치되는 복수의 액처리 유닛(77A, 77B)과, 주반송 기구 T2의 타방측에 설치되는 복수의 열처리 유닛(79A, 79B)을 구비하고 있다. 또한, 처리 블록(65B)은, IF부(67)에 인접하는 위치에 설치되며, 기판 W를 올려 놓는 재치부 P3을 구비하고 있다. 주반송 기구 T2는, 재치부 P2, P3, 액처리 유닛(77A, 77B) 및 열처리 유닛(79A, 79B)에 액세스 가능하다.
액처리 유닛(77A, 77B)은, 기판 W를 현상하는 현상 처리 유닛이다. 각 현상 처리 유닛(77A, 77B)은, 실시예 1에서 설명한 요소(5~46)를 구비하고 있으며, 기판 W에 포지티브 톤 현상 처리 및 네가티브 톤 현상 처리를 행할 수 있다. 도 10에 나타내는 바와 같이, 액처리 유닛(77A, 77B)은, 처리액 공급부(11)를 이동시키는 이동 기구(12)를 더 구비하고 있다. 또한, 각 현상 처리 유닛(77A, 77B)은, 실시예 1에서 설명한 제어부(47)를 구비하고 있어도 되고, 구비하고 있지 않아도 된다. 예를 들면, 현상 처리 유닛(77A, 77B)의 외부에 설치되는 도시하지 않은 제어부가, 현상 처리 유닛(77A, 77B)을 제어해도 된다.
도 11은, 현상 처리 유닛(77A, 77B)의 측면도이다. 현상 처리 유닛(77A, 77B)은, 동일한 챔버(78) 내에 수용되어 있다. 즉, 현상 처리 유닛(77A, 77B)은 동일 공간에 설치되어 있다. 또, 현상 처리 유닛(77A, 77B)의 사이에서, 배액 덕트(43, 44) 및 배기 덕트(45, 46)는 공통화되어 있다.
다시, 도 10을 참조한다. IF부(67)는, 기판 W를 반송하는 IF용 반송 기구 TIF1, TIF2와, 기판 W를 올려 놓는 재치부 P4를 구비하고 있다. 재치부 P4는, 재치된 기판 W를 소정 온도로 냉각하는 기능을 가지고 있어도 된다. IF용 반송 기구 TIF1은, 재치부 P3, P4에 액세스 가능하다. IF용 반송 기구 TIF2는, 재치부 P4에 액세스 가능하고, 노광기 EXP와의 사이에서 기판 W를 수도(受渡) 가능하다.
기판 처리 장치(61)의 동작예를 간단하게 설명한다.
＜ID부(63)로부터 IF부(67)에 기판 W를 반송하는 동작예＞
ID용 반송 기구 TID는, 카세트 C로부터 기판 W를 반출하고, 이 기판 W를 재치부 P1에 올려 놓는다. 주반송 기구 T1은, 재치부 P1로부터 기판 W를 받아, 이 기판 W를 도포 처리 유닛(77A, 77B) 및 열처리 유닛(79A 내지 79C)에 소정의 순서로 반송한다. 각 처리 유닛(77, 79)은, 기판 W에 처리를 행한다. 그 결과, 기판 W에 레지스트막이 형성된다. 주반송 기구 T1은, 레지스트막이 형성된 기판 W를 재치부 P2에 올려 놓는다. 주반송 기구 T2는, 재치부 P2 상의 기판 W를 받아, 재치부 P3에 올려 놓는다. IF용 반송 기구 TIF1은, 재치부 P3 상의 기판 W를 받아, 재치부 P4에 올려 놓는다. IF용 반송 기구 TIF2는, 재치부 P4 상의 기판 W를 받아, 노광기 EXP에 건네준다.
＜IF부(67)로부터 ID부(63)에 기판 W를 반송하는 동작예＞
IF용 반송 기구 TIF2는, 노광기 EXP로부터 노광이 완료된 기판 W를 받아, IF용 반송 기구 TIF1에 기판 W를 건네준다. IF용 반송 기구 TIF1은, 기판 W를 주반송 기구 T2에 건네준다. 주반송 기구 T2는, 기판 W를 현상 처리 유닛(77A, 77B) 및 열처리 유닛(79A, 79B)에 반송한다. 각 처리 유닛(77, 79)은, 기판 W에 처리를 행한다. 그 결과, 기판 W는 현상된다. 주반송 기구 T2는, 현상된 기판 W를 주반송 기구 T1에 건네준다. 주반송 기구 T1은, 기판 W를 ID용 반송 기구 TID에 건네준다. ID용 반송 기구 TID는 기판 W를 카세트 C에 반입한다.
다음으로, 현상 처리 유닛(77A, 77B)의 동작예를 설명한다. 도 12는, 현상 처리 유닛(77A, 77B)의 동작예를 나타내는 플로차트이다. 이 동작예의 특징은, 포지티브 톤 현상 처리와 네가티브 톤 현상 처리의 전환, 및, 각종 분위기의 형성을, 현상 처리 유닛(77A, 77B)이 협조하여 행하는 점에 있다. 이하, 실시예 1과 공통되는 동작에 대해서는 적당하게 간략하게 설명한다.
＜단계 S21＞ 모든 현상 처리 유닛에서 용매 분위기의 형성
현상 처리 유닛(77A, 77B)의 양쪽에서, 용매 분위기를 형성한다. 용매 분위기의 형성은, 실시예 1의 단계 S1과 마찬가지로, 네가티브 톤 현상용의 세정액을 외측 컵(31)에 살포함으로써 행해진다. 이것에 의해, 현상 처리 유닛(77A, 77B)에 설치되는 모든 외측 컵(31)에 용매 분위기가 형성된다.
＜단계 S22＞ 적어도 어느 하나의 현상 처리 유닛에서 네가티브 톤 현상 처리
주반송 기구 T2가, 현상 처리 유닛(77A, 77B)에 기판 W를 반입한다. 현상 처리 유닛(77A, 77B)은, 반입된 기판 W에 네가티브 톤 현상 처리를 행한다. 네가티브 톤 현상 처리가 종료되면, 주반송 기구 T2는, 현상 처리 유닛(77A, 77B)으로부터 기판 W를 반출한다.
이와 같이 하여, 본 단계 S22에서는, 현상 처리 유닛(77A, 77B) 중 적어도 어느 하나가, 기판 W에 네가티브 톤 현상 처리를 행한다. 예를 들면, 현상 처리 유닛(77A, 77B)이 병행하여 네가티브 톤 현상 처리를 행해도 된다. 혹은, 현상 처리 유닛(77A) 만이 네가티브 톤 현상 처리를 행해도 된다. 단, 본 단계 S22에서 행할 수 있는 처리는 네가티브 톤 현상 처리에 한정되어 있으며, 현상 처리 유닛(77A, 77B) 모두, 포지티브 톤 현상 처리를 행하는 것은 금지되어 있다.
＜단계 S23＞ 사용한 컵의 세정
현상 처리 유닛(77A)이 네가티브 톤 현상 처리를 행할 때마다, 현상 처리 유닛(77A)의 외측 컵(31)을 세정한다. 마찬가지로, 현상 처리 유닛(77B)이 네가티브 톤 현상 처리를 행할 때마다, 현상 처리 유닛(77B)의 외측 컵(31)을 세정한다.
＜단계 S24＞ 모든 현상 처리 유닛에서 포지티브 톤 현상 처리로 전환하는가?
현상 처리 유닛(77A, 77B) 양쪽이 포지티브 톤 현상 처리로 전환하는 경우는, 단계 S25로 진행된다. 그렇지 않은 경우, 단계 S22로 되돌아온다.
＜단계 S25＞ 모든 현상 처리 유닛에서 용매 부재 분위기의 형성
현상 처리 유닛(77A, 77B) 양쪽에서 용매 부재 분위기를 형성한다. 용매 분위기의 형성은, 실시예 1의 단계 S5와 마찬가지로, 포지티브 톤 현상용의 세정액을 외측 컵(31)에 살포함으로써 행해진다. 이것에 의해, 현상 처리 유닛(77A, 77B)에 설치되는 모든 외측 컵(31)에 용매 부재 분위기가 형성된다.
＜단계 S26＞ 모든 현상 처리 유닛에서 컵 전환
모든 외측 컵(31)은 세정 위치에 유지된다. 모든 내측 컵(21)은, 외측 컵(31)이 세정 위치에 있을 때의 회수 위치로 이동한다.
＜단계 S27＞ 모든 현상 처리 유닛에서 용매 부재 분위기의 형성
현상 처리 유닛(77A, 77B) 양쪽에서 용매 부재 분위기를 형성한다. 용매 부재 분위기의 형성은, 실시예 1의 단계 S7과 마찬가지로, 포지티브 톤 현상용의 세정액을 내측 컵(21)에 살포함으로써 행해진다. 이것에 의해, 모든 내측 컵(21)에 용매 부재 분위기가 형성된다.
＜단계 S28＞ 적어도 어느 하나의 현상 처리 유닛에서 포지티브 톤 현상 처리
현상 처리 유닛(77A, 77B) 중 적어도 어느 하나가, 기판 W에 포지티브 톤 현상 처리를 행한다. 본 단계 S28에서 행할 수 있는 처리는 포지티브 톤 현상 처리에 한정되어 있으며, 현상 처리 유닛(77A, 77B) 모두, 네가티브 톤 현상 처리를 행하는 것은 금지되어 있다.
＜단계 S29＞ 사용한 컵의 세정
현상 처리 유닛(77A, 77B)은 각각, 포지티브 톤 현상 처리를 행할 때마다, 사용한 내측 컵(21)을 세정한다.
＜단계 S30＞ 모든 현상 처리 유닛에서 네가티브 톤 현상 처리로 전환하는가?
현상 처리 유닛(77A, 77B) 양쪽이 네가티브 톤 현상 처리로 전환하는 경우는, 단계 S31로 진행된다. 그렇지 않은 경우, 단계 S28로 되돌아온다.
＜단계 S31＞ 컵 전환
모든 외측 컵(31)은 세정 위치로 이동하고, 모든 내측 컵(21)은, 외측 컵(31)이 세정 위치에 있을 때의 퇴피 위치로 이동한다.
상술한 동작예에 있어서, 단계 S21은, 본 발명에 있어서의 「네가티브 톤 현상용의 세정액을 모든 상기 제2 컵에 미리 살포하는 공정」이며, 본 발명에 있어서의 「용매 분위기를 미리 형성하는 공정」의 예이다. 단계 S22는, 본 발명에 있어서의 「네가티브 톤 현상 처리를 행하는 공정」의 예이다. 단계 S25, S27은, 본 발명에 있어서의 「용매 부재 분위기를 미리 형성하는 공정」의 예이다. 또, 단계 S25는, 본 발명에 있어서의 「포지티브 톤 현상용의 세정액을 모든 상기 제2 컵에 살포하는 공정」의 예이며, 단계 S27은, 본 발명에 있어서의 「포지티브 톤 현상용의 세정액을 모든 상기 제1 컵에 미리 살포하는 공정」의 예이다.
＜효과＞
본 실시예 2에 의하면, 실시예 1과 동일한 효과에 더하여, 이하의 효과를 나타낸다.
챔버(78) 내의 모든 현상 처리 유닛(77A, 77B)의 처리를 일괄하여, 네가티브 톤 현상 처리와 포지티브 톤 현상 처리 사이에서 전환한다(단계 S24, S30). 이것에 의해, 각 현상 처리 유닛(77A, 77B)의 일방이, 타방의 분위기를 해치는 것을 방지할 수 있다.
네가티브 톤 현상 처리로 전환할 때에는, 모든 현상 처리 유닛(77A, 77B)에서 용매 분위기를 형성한다(단계 S21). 이것에 의해, 용매 분위기를 신속하게 형성할 수 있다. 그리고, 어느 현상 처리 유닛(77A, 77B)이어도, 처음부터 네가티브 톤 현상 처리를 품질 좋게 행할 수 있다.
포지티브 톤 현상 처리로 전환할 때에는, 모든 현상 처리 유닛(77A, 77B)에서 용매 부재 분위기를 형성한다(단계 S25, S27). 이것에 의해, 용매 부재 분위기를 신속하게 형성할 수 있다. 그리고, 어느 현상 처리 유닛(77A, 77B)이어도, 처음부터 포지티브 톤 현상 처리를 품질 좋게 행할 수 있다.
본 발명은, 상기 실시 형태에 한정되는 일은 없으며, 하기와 같이 변형 실시할 수 있다.
(1) 상술한 각 실시예에서는, 내측 컵(21)을 사용하는 처리는 포지티브 톤 현상 처리이며, 외측 컵(31)을 사용하는 처리는 네가티브 톤 현상 처리였지만, 이것에 한정되지 않는다. 예를 들면, 내측 컵(21)을 사용하는 처리는, 네가티브 톤 현상 처리여도 된다. 혹은, 내측 컵(21)을 사용하는 처리는, 세정 처리나 도포 처리 등의 액처리여도 된다. 마찬가지로, 외측 컵(31)을 사용하는 처리는, 포지티브 톤 현상 처리여도 된다. 혹은, 외측 컵(31)을 사용하는 처리는, 세정 처리나 도포 처리 등의 액처리여도 된다. 본 변형 실시예에 의하면, 각종의 액처리를 선택적으로 기판 W에 행할 수 있다. 또, 본 실시예에서는, 1장의 기판 W에 대해, 내측 컵(21)을 사용하는 처리(포지티브 톤 현상 처리)와 외측 컵(31)을 사용하는 처리(네가티브 톤 현상 처리) 중 어느 한쪽을 행하는 장치였지만, 이것에 한정되지 않는다. 즉, 1장의 기판 W에 대해, 내측 컵(21)을 사용하는 처리와 외측 컵(31)을 사용하는 처리의 양쪽을 행하는 장치로 변경해도 된다.
(2) 상술한 각 실시예에서는, 배기구(25)에 처리액이 유입되는 것을 방지하기 위해, 덮음부(27) 등을 예시했지만, 이것에 한정되지 않는다. 도 13은, 변형 실시예에 관련된 내측 컵(21)의 배기 구조를 나타내는 도이다. 배기구(25)는, 배액구(23)보다 높은 위치에 배치되어 있다. 이 변형 실시예에 의해서도, 배기구(25)에 처리액이 유입되는 것을 방지할 수 있다.
(3) 상술한 각 실시예에서는, 컵 승강 기구(41)의 구성예로서, 오로지 내측 컵(21)을 승강시키는 내측 컵 승강 기구(41A)와, 오로지 외측 컵(31)을 승강시키는 외측 컵 승강 기구(41B)를 예시했지만, 이것에 한정되지 않는다.
예를 들면, 컵 승강 기구(41)는, 내측 컵(21)과 내측 컵 승강 기구(41A)와 외측 컵(31)을 합하여 일체로 승강시키는 전체 승강 기구를 구비해도 된다. 이것에 의하면, 전체 승강 기구의 동작 만에 의해, 내측 컵(21)을 회수 위치 또는 퇴피 위치에 유지한 채로, 외측 컵(31)을 처리 위치 및 세정 위치로 이동시킬 수 있다. 바꾸어 말하면, 전체 승강 기구의 동작 만에 의해, 내측 컵(21)과 외측 컵(31)의 상대적인 위치를 바꾸지 않고, 외측 컵(31)을 처리 위치 및 세정 위치로 이동시킬 수 있다.
예를 들면, 기판 처리 장치(1)가 기판 유지부(5) 및 살포 디스크(16)를 승강시키는 기구를 구비하고 있는 경우에는, 외측 컵 승강 기구(41B) 등을 생략하고, 외측 컵(31)을 고정적으로 설치해도 된다.
(4) 상술한 각 실시예에서는, 포지티브 톤 현상 처리를 시작하기 전에, 외측 컵(31)에 용매 부재 분위기를 형성했지만(단계 S5, S25), 이것에 한정되지 않는다. 즉, 이러한 단계 S5, S25를 생략해도 된다. 이 변형 실시예에 의해서도, 포지티브 톤 현상 처리를 시작하기 전에, 용매 부재 분위기를 형성할 수 있다.
(5) 상술한 각 실시예에서는, 노즐(14A, 14B)은 각각, 개구(17A, 17B)를 향해 토출했지만, 이것에 한정되지 않는다. 예를 들면, 노즐(14A, 14B)은, 동일한 개구를 향해 토출해도 된다. 이 변형 실시예에서는, 살포 디스크(16)의 내부에, 용매 분위기 및 용매 부재 분위기를 형성할 수 있다. 또, 이 변형 실시예에 있어서는, 개구(17A)와 연통하게 하는 유로와, 개구(17B)와 연통하게 하는 유로 중 어느 한쪽을 생략해도 된다.
(6) 상술한 각 실시예에서는, 용매 분위기를 형성하기 위해, 네가티브 톤 현상용의 세정액을 사용했지만, 이것에 한정되지 않는다. 예를 들면, 유기용제를 포함하는 액체 또는 기체를 사용하여, 용매 분위기를 형성해도 된다. 마찬가지로, 상술한 각 실시예에서는, 용매 부재 분위기를 형성하기 위해, 포지티브 톤 현상용의 세정액을 사용했지만, 이것에 한정되지 않는다. 분위기 중에 포함되는 유기용제를 제거할 수 있는 액체 또는 기체를 사용하여, 용매 부재 분위기를 형성해도 된다.
(7) 상술한 각 실시예에서는, 컵 세정부(13)가 각종의 분위기를 형성했지만, 이것에 한정되지 않는다. 예를 들면, 기판 처리 장치(1)/현상 처리 유닛(77A, 77B)은, 살포부를 구비해도 된다. 살포부는, 컵 세정부(13)와는 별개로 설치되어 있다. 살포부는, 액체 및 기체 중 적어도 어느 하나를 살포한다. 본 변형 실시예에 의하면, 살포부가 각종의 분위기를 적절히 형성할 수 있다.
(8) 상술한 각 실시예 및 상기 (1) 내지 (7)에서 설명한 각 변형 실시예에 대해서는, 각 구성을 다른 변형 실시예의 구성으로 치환 또는 조합하는 등 적당하게 더 변경해도 된다.
본 발명은, 그 사상 또는 본질로부터 일탈하지 않고 다른 구체적인 형태로 실시할 수 있으며, 따라서, 발명의 범위를 나타내는 것으로서, 이상의 설명이 아니라, 부가된 클레임을 참조해야 한다.

Claims (16)

  1. 기판에 대해 처리를 행하는 기판 처리 장치로서,
    상기 기판 처리 장치는
    기판을 수평 자세로 유지하는 기판 유지부와,
    상기 기판 유지부를 연직축 둘레로 회전시키는 회전 구동부와,
    상기 기판 유지부에 유지된 기판에 처리액을 공급하는 처리액 공급부와,
    상기 기판 유지부의 측방을 둘러싸도록 설치되어 있는 외측 컵과,
    상기 외측 컵 내에 수용되는 내측 컵을 구비하고,
    상기 내측 컵은, 상기 내측 컵이 처리액을 회수하는 회수 위치와, 상기 외측 컵이 처리액을 회수하는 퇴피 위치에 걸쳐 이동 가능하며,
    상기 내측 컵은,
    환상의 외형을 나타내는 내측 컵 본체와,
    상기 내측 컵 본체에 형성되며, 상기 내측 컵 본체 내의 처리액을 배출하는 배액구와,
    상기 내측 컵 본체에 형성되며, 상기 내측 컵 본체 내의 기체를 배출하는 배기구와,
    상기 배기구로부터 연장되는 배기관을 구비하고,
    상기 외측 컵은,
    환상의 외형을 나타내는 외측 컵 본체와,
    상기 외측 컵 본체에 형성되며, 상기 외측 컵 본체 내의 처리액을 배출하는 배액구와,
    상기 외측 컵 본체에 형성되며, 상기 외측 컵 본체 내의 기체를 배출하는 배기구와,
    상기 외측 컵 본체에 형성되며, 상기 내측 컵의 상기 배기관의 하단이 삽입되어, 상기 배기관으로부터 배출되는 기체를 통하게 하는 배기 연장관을 구비하는, 기판 처리 장치.
  2. 청구항 1에 있어서,
    상기 내측 컵은, 상기 내측 컵의 상기 배기구의 상방을 덮는 커버부를 구비하고 있는, 기판 처리 장치.
  3. 청구항 1 또는 청구항 2에 있어서,
    상기 내측 컵의 상기 배기구는, 상기 내측 컵의 상기 배액구보다 높은 위치에 배치되어 있는, 기판 처리 장치.
  4. 청구항 1 또는 청구항 2에 있어서,
    상기 내측 컵 본체는 상기 외측 컵의 상기 배기구의 상방을 덮는, 기판 처리 장치.
  5. 청구항 1 또는 청구항 2에 있어서,
    상기 외측 컵은, 상기 외측 컵의 상기 배액구와 상기 외측 컵의 상기 배기구를 칸막이하는 칸막이 벽을 구비하고 있는, 기판 처리 장치.
  6. 청구항 5에 있어서,
    상기 내측 컵은, 상기 내측 컵 본체에 접속되는 차양부를 구비하고,
    상기 외측 컵의 상기 배기구는, 상기 칸막이 벽의 안쪽에 배치되며,
    상기 외측 컵의 상기 배액구는, 상기 칸막이 벽의 바깥쪽에 배치되고,
    상기 내측 컵이 상기 퇴피 위치에 배치되어 있을 때, 상기 차양부는, 상기 칸막이 벽의 바깥쪽으로 처리액을 안내하는, 기판 처리 장치.
  7. 청구항 1 또는 청구항 2에 있어서,
    상기 내측 컵은,
    상기 내측 컵 본체에 접속되며, 상기 내측 컵의 상기 배액구로부터 배출된 처리액을 통하게 하는 배액관과,
    상기 내측 컵 본체에 접속되며, 상기 내측 컵의 상기 배기구로부터 배출된 기체를 통하게 하는 배기관을 구비하고,
    상기 외측 컵은,
    상기 외측 컵 본체에 접속되며, 상기 내측 컵의 상기 배액관을 상하 이동 가능하게 수용하고, 상기 내측 컵의 상기 배액관으로부터 배출된 처리액을 통하게 하는 배액 연장관과,
    상기 외측 컵 본체에 접속되며, 상기 내측 컵의 상기 배기관을 상하 이동 가능하게 수용하고, 상기 내측 컵의 상기 배기관으로부터 배출된 기체를 통하게 하는 배기 연장관을 구비하고 있는, 기판 처리 장치.
  8. 청구항 7에 있어서,
    상기 내측 컵이 회수 위치에 있을 때, 상기 내측 컵의 상기 배액관이 상기 배액 연장관 내에 삽입되어 있는 거리는 80mm 이하인, 기판 처리 장치.
  9. 청구항 7에 있어서,
    상기 내측 컵이 회수 위치에 있을 때, 상기 내측 컵의 상기 배기관이 상기 배기 연장관 내에 삽입되어 있는 거리는 80mm 이하인, 기판 처리 장치.
  10. 기판에 대해 처리를 행하는 기판 처리 장치로서,
    상기 기판 처리 장치는
    기판을 수평 자세로 유지하는 기판 유지부와,
    상기 기판 유지부를 연직축 둘레로 회전시키는 회전 구동부와,
    상기 기판 유지부에 유지된 기판에 처리액을 공급하는 처리액 공급부와,
    상기 기판 유지부의 측방을 둘러싸도록 설치되어 있는 외측 컵과,
    상기 외측 컵 내에 수용되는 내측 컵을 구비하고,
    상기 내측 컵은, 상기 내측 컵이 처리액을 회수하는 회수 위치와, 상기 외측 컵이 처리액을 회수하는 퇴피 위치에 걸쳐 이동 가능하며,
    상기 내측 컵은,
    환상의 외형을 나타내는 내측 컵 본체와,
    상기 내측 컵 본체에 형성되며, 상기 내측 컵 본체 내의 처리액을 배출하는 배액구와,
    상기 내측 컵 본체에 형성되며, 상기 내측 컵 본체 내의 기체를 배출하는 배기구를 구비하고,
    상기 외측 컵은,
    환상의 외형을 나타내는 외측 컵 본체와,
    상기 외측 컵 본체에 형성되며, 상기 외측 컵 본체 내의 처리액을 배출하는 배액구와,
    상기 외측 컵 본체에 형성되며, 상기 외측 컵 본체 내의 기체를 배출하는 배기구를 구비하고,
    상기 기판 처리 장치는,
    상기 내측 컵 및 상기 외측 컵을 세정하기 위한 세정액을 공급하는 세정액 공급부와,
    회전 가능하게 설치되며, 상기 세정액 공급부에 의해 공급된 세정액을 상기 내측 컵 및 상기 외측 컵에 살포하는 살포 디스크를 구비하고,
    상기 세정액 공급부는,
    제1 세정액을 상기 살포 디스크를 향해 토출하는 제1 노즐과,
    상기 제1 노즐로부터 토출되는 제1 세정액과는 상이한 제2 세정액을 상기 살포 디스크를 향해 토출하는 제2 노즐을 포함하는, 기판 처리 장치.
  11. 청구항 10에 있어서,
    상기 내측 컵은, 상기 내측 컵의 상기 배기구의 상방을 덮는 커버부를 구비하고 있는, 기판 처리 장치.
  12. 기판을 처리하는 기판 처리 방법으로서,
    상기 기판 처리 방법은,
    포지티브 톤 현상용의 현상액을 이용하여, 포지티브 톤 현상 처리를 행하는 공정과,
    네가티브 톤 현상용의 현상액을 이용하여, 네가티브 톤 현상 처리를 행하는 공정을 구비하고,
    상기 포지티브 톤 현상 처리를 행하는 공정에서는, 제1 컵으로 포지티브 톤 현상용의 현상액을 회수하며,
    상기 네가티브 톤 현상 처리를 행하는 공정에서는, 제2 컵으로 네가티브 톤 현상용의 현상액을 회수하고,
    상기 기판 처리 방법은,
    상기 포지티브 톤 현상 처리를 행하는 공정에서 상기 네가티브 톤 현상 처리를 행하는 공정으로 전환할 때에, 네가티브 톤 현상용의 세정액을 상기 제2 컵에 미리 살포하는 공정과,
    상기 네가티브 톤 현상 처리를 행하는 공정에서 상기 포지티브 톤 현상 처리를 행하는 공정으로 전환할 때에, 포지티브 톤 현상용의 세정액을 상기 제1 컵에 미리 살포하는 공정을 구비하고,
    상기 네가티브 톤 현상 처리를 행하는 공정에서 상기 포지티브 톤 현상 처리를 행하는 공정으로 전환할 때에, 포지티브 톤 현상용의 세정액을 상기 제2 컵에 살포하는 공정을 구비하는, 기판 처리 방법.
  13. 기판을 처리하는 기판 처리 방법으로서,
    상기 기판 처리 방법은,
    포지티브 톤 현상용의 현상액을 이용하여, 포지티브 톤 현상 처리를 행하는 공정과,
    네가티브 톤 현상용의 현상액을 이용하여, 네가티브 톤 현상 처리를 행하는 공정을 구비하고,
    상기 포지티브 톤 현상 처리를 행하는 공정에서는, 제1 컵으로 포지티브 톤 현상용의 현상액을 회수하며,
    상기 네가티브 톤 현상 처리를 행하는 공정에서는, 제2 컵으로 네가티브 톤 현상용의 현상액을 회수하고,
    상기 기판 처리 방법은,
    상기 포지티브 톤 현상 처리를 행하는 공정에서 상기 네가티브 톤 현상 처리를 행하는 공정으로 전환할 때에, 네가티브 톤 현상용의 세정액을 상기 제2 컵에 미리 살포하는 공정과,
    상기 네가티브 톤 현상 처리를 행하는 공정에서 상기 포지티브 톤 현상 처리를 행하는 공정으로 전환할 때에, 포지티브 톤 현상용의 세정액을 상기 제1 컵에 미리 살포하는 공정을 구비하고,
    상기 제1 컵과 상기 제2 컵의 양쪽이, 1개의 기판 처리 유닛에 설치되어 있으며,
    상기 포지티브 톤 현상 처리를 행하는 공정과 상기 네가티브 톤 현상 처리를 행하는 공정과 상기 세정액을 제2 컵에 미리 살포하는 공정과 상기 세정액을 상기 제1 컵에 미리 살포하는 공정이, 1개의 상기 기판 처리 유닛에 있어서 실행되는, 기판 처리 방법.
  14. 청구항 12에 있어서,
    상기 제1 컵과 상기 제2 컵의 양쪽이, 1개의 기판 처리 유닛에 설치되어 있으며,
    상기 포지티브 톤 현상 처리를 행하는 공정과 상기 네가티브 톤 현상 처리를 행하는 공정과 상기 세정액을 제2 컵에 미리 살포하는 공정과 상기 세정액을 상기 제1 컵에 미리 살포하는 공정이, 1개의 상기 기판 처리 유닛에 있어서 실행되는, 기판 처리 방법.
  15. 동일 공간에 설치되는 복수의 기판 처리 유닛의 각각에서 기판을 처리하는 기판 처리 방법으로서,
    상기 기판 처리 방법은,
    상기 기판 처리 유닛 중 적어도 어느 하나에서, 포지티브 톤 현상용의 현상액을 이용하여, 포지티브 톤 현상 처리를 행하는 공정과,
    상기 기판 처리 유닛 중 적어도 어느 하나에서, 네가티브 톤 현상용의 현상액을 이용하여, 네가티브 톤 현상 처리를 행하는 공정을 구비하고,
    상기 포지티브 톤 현상 처리를 행하는 공정에서는, 상기 기판 처리 유닛의 각각에 설치되는 제1 컵으로 포지티브 톤 현상용의 현상액을 회수하며,
    상기 네가티브 톤 현상 처리를 행하는 공정에서는, 상기 기판 처리 유닛의 각각에 설치되는 제2 컵으로 네가티브 톤 현상용의 현상액을 회수하고,
    상기 기판 처리 방법은,
    상기 포지티브 톤 현상 처리를 행하는 공정에서 상기 네가티브 톤 현상 처리를 행하는 공정으로 전환할 때에, 네가티브 톤 현상용의 세정액을 모든 상기 제2 컵에 미리 살포하는 공정과,
    상기 네가티브 톤 현상 처리를 행하는 공정에서 상기 포지티브 톤 현상 처리를 행하는 공정으로 전환할 때에, 포지티브 톤 현상용의 세정액을 모든 상기 제1 컵에 미리 살포하는 공정을 더 구비하고,
    상기 네가티브 톤 현상 처리를 행하는 공정에서 상기 포지티브 톤 현상 처리를 행하는 공정으로 전환할 때에, 포지티브 톤 현상용의 세정액을 모든 상기 제2 컵에 살포하는 공정을 구비하는, 기판 처리 방법.
  16. 동일 공간에 설치되는 복수의 기판 처리 유닛의 각각에서 기판을 처리하는 기판 처리 방법으로서,
    상기 기판 처리 방법은,
    상기 기판 처리 유닛 중 적어도 어느 하나에서, 포지티브 톤 현상용의 현상액을 이용하여, 포지티브 톤 현상 처리를 행하는 공정과,
    상기 기판 처리 유닛 중 적어도 어느 하나에서, 네가티브 톤 현상용의 현상액을 이용하여, 네가티브 톤 현상 처리를 행하는 공정을 구비하고,
    상기 포지티브 톤 현상 처리를 행하는 공정에서는, 상기 기판 처리 유닛의 각각에 설치되는 제1 컵으로 포지티브 톤 현상용의 현상액을 회수하며,
    상기 네가티브 톤 현상 처리를 행하는 공정에서는, 상기 기판 처리 유닛의 각각에 설치되는 제2 컵으로 네가티브 톤 현상용의 현상액을 회수하고,
    상기 기판 처리 방법은,
    상기 포지티브 톤 현상 처리를 행하는 공정에서 상기 네가티브 톤 현상 처리를 행하는 공정으로 전환할 때에, 네가티브 톤 현상용의 세정액을 모든 상기 제2 컵에 미리 살포하는 공정과,
    상기 네가티브 톤 현상 처리를 행하는 공정에서 상기 포지티브 톤 현상 처리를 행하는 공정으로 전환할 때에, 포지티브 톤 현상용의 세정액을 모든 상기 제1 컵에 미리 살포하는 공정을 더 구비하고,
    각 기판 처리 유닛은 각각, 상기 제1 컵과 상기 제2 컵을 구비하는, 기판 처리 방법.
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