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KR101680850B1 - 배기유로의 크기가 조절되는 플라즈마 처리 장치 - Google Patents

배기유로의 크기가 조절되는 플라즈마 처리 장치 Download PDF

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KR101680850B1
KR101680850B1 KR1020160080718A KR20160080718A KR101680850B1 KR 101680850 B1 KR101680850 B1 KR 101680850B1 KR 1020160080718 A KR1020160080718 A KR 1020160080718A KR 20160080718 A KR20160080718 A KR 20160080718A KR 101680850 B1 KR101680850 B1 KR 101680850B1
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KR
South Korea
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chamber
annular portion
exhaust
size
exhaust passage
Prior art date
Application number
KR1020160080718A
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정상곤
김형원
구황섭
김현제
정희석
Original Assignee
주식회사 기가레인
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Publication date
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Abstract

배기유로의 크기가 조절되는 플라즈마 처리 장치가 소개된다.
본 발명의 배기유로의 크기가 조절되는 플라즈마 처리장치는, 챔버; 기판이 안착될 수 있도록 상기 챔버 내부에 설치되는 척; 상기 챔버 내부에 존재하는 공정 가스를 흡입할 수 있도록 상기 챔버에 연결되는 배기펌프; 공정 가스가 상기 배기 펌프 방향으로 유동할 수 있도록 상기 챔버와 상기 척 사이에 형성되는 배기유로; 및 상기 배기유로의 크기가 가변될 수 있도록 상기 챔버 내부에 설치된 배기유로 조절부를 포함한다.

Description

배기유로의 크기가 조절되는 플라즈마 처리 장치{Plasma processing apparatus having control of exhaust flow path size}
본 발명은 배기유로의 크기가 조절되는 플라즈마 처리 장치에 관한 것이다.
도 1에 도시된 바와 같이, 종래 플라즈마 처리 장치는 내부에 플라즈마로 기판(1)을 처리하는 공간을 가지는 챔버(2)와 이러한 챔버(2) 내부로 공정가스를 유입하는 샤워헤드(3)와 유입된 공정가스에 고주파를 인가하여 플라즈마를 형성하는 안테나(4)와 챔버(2)의 내부에 위치하고 기판이 안착되는 척(5)과 챔버(2) 일측에 연결되어 공정 가스를 흡입하는 배기펌프(6)를 포함한다.
챔버(2) 내부에는 배기펌프(6) 방향으로 공정 가스가 유동할 수 있도록 배기유로(7)가 형성된다.
한편, 기판(1)의 균일도(Uniformity) 개선을 위해서 기판(1)의 내측 및 외측이 균일하게 처리되는 것이 중요한데, 이를 위해서는 플라즈마 처리 장치의 다양한 공정환경을 제어해야 하며, 그 중 배기유로(7)의 크기를 조절하여 플라즈마가 챔버(2) 내부에 머무르는 시간을 조절함으로써 기판(1)의 균일도를 개선하는 방법이 존재한다.
종래에는 챔버(2)의 형상 자체를 변경하여 배기유로(7)의 크기를 조절하는 방법을 사용했었다.
그러나, 이러한 방법은 배기유로(7)의 크기가 고정되므로, 플라즈마 처리 장치에 의해 처리되는 다양한 기판에 일괄적으로 적용되기 어려워 기판에 따라 챔버(2)를 교체해야 되는 문제점이 존재한다.
또한, 챔버(2)의 형상을 변경하여 배기유로(7)의 크기를 조절하므로 챔버(2)가 기판(1) 처리과정에서 부산물에 의해 쉽게 오염되고, 플라즈마에 의해 쉽게 손상되는바, 챔버(2) 교체 주기가 빨라지는 문제점이 존재한다.
상기한 배경기술로서 설명된 사항들은 본 발명의 배경에 대한 이해 증진을 위한 것일 뿐, 이 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 이미 알려진 종래기술에 해당함을 인정하는 것으로 받아들여져서는 안 될 것이다.
KR 10-2014-0140514(2014.12.09)
본 발명은 배기유로 조절부로 배기유로의 크기를 조절하여 챔버를 교체할 필요없이 다양한 제품에 적용 가능하고, 챔버 내벽이 공정과정에서 직접적으로 영향을 받는 것을 방지한 배기유로의 크기가 조절되는 플라즈마 처리 장치를 제공하는데 그 목적이 있다.
이러한 목적을 달성하기 위한 본 발명의 배기유로의 크기가 조절되는 플라즈마 처리 장치는 상부에 위치하는 제1챔버와, 상기 제1챔버로부터 하향 확장되어 형성된 제2챔버를 포함하는 챔버; 기판이 안착될 수 있도록 상기 챔버 내부에 설치되는 척; 상기 챔버 내부에 존재하는 공정 가스를 흡입할 수 있도록 상기 제2챔버 일측에 연결되는 배기펌프; 공정 가스가 상기 배기 펌프 방향으로 유동할 수 있도록 상기 챔버와 상기 척 사이에 형성되는 배기유로; 및 상기 배기유로의 크기가 가변될 수 있도록 상기 챔버 내부에 설치되어, 상기 제1챔버 및 제2챔버 내부 공간에서 승강하면서 상기 배기유로의 크기를 조절하되, 상단이 상기 제1챔버 내부에 위치하고, 중공의 원기둥 형상으로 형성된 환형부와, 상기 환형부의 외주면에서 상기 환형부의 외측 방향으로 연장 형성되며, 상기 제2챔버 내부에 위치하는 연장부와, 상기 연장부에 연결되어 신축되는 승강부를 포함하는 배기유로 조절부를 포함하고, 상기 환형부는 상기 승강부에 연동되어 승강하면서 상기 배기유로의 크기를 조절하되, 상기 환형부는 상기 척보다 항상 높은 지점에 위치하는 것을 특징으로 한다.
상부에 위치하는 제1챔버와, 상기 제1챔버로부터 하향 확장되어 형성된 제2챔버를 포함하는 챔버; 기판이 안착될 수 있도록 상기 챔버 내부에 설치되는 척; 상기 챔버 내부에 존재하는 공정 가스를 흡입할 수 있도록 상기 제2챔버 일측에 연결되는 배기펌프; 공정 가스가 상기 배기 펌프 방향으로 유동할 수 있도록 상기 챔버와 상기 척 사이에 형성되는 배기유로; 및 상단이 상기 제2챔버 상단 내벽에 결합되고, 그 내경이 하향 축소되는 중공 형상의 제1유도부와, 상기 제1유도부 하단에서 하향 연장 형성되되 중공이 형성된 원기둥 형상의 제2유도부를 포함하는 유도부; 상단이 상기 제2유도부 내부 또는 외부에 위치하고, 중공의 원기둥 형상으로 형성된 환형부; 상기 환형부 외주면에서 상기 환형부의 외측 방향으로 연장 형성되며, 상기 제2챔버 내부에 위치하는 연장부; 상기 연장부에 연결되어 신축되는 승강부를 포함하는 배기유로 조절부를 포함하고, 상기 환형부는 상기 승강부에 연동되어 승강하면서 상기 배기유로의 크기를 조절하되, 상기 환형부는 상기 척보다 항상 높은 지점에 위치하는 것을 특징으로 한다.
삭제
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삭제
상기 연장부는 환형부를 중심으로 연장된 중공을 가지는 원판 형상 또는 환형부를 중심으로 연장된 길이를 가지는 판재 형상인 것을 특징으로 한다.
상기 환형부 및 연장부는 알루미늄을 포함하여 구성되는 것을 특징으로 한다.
상기 연장부는, 중심에서 외측방향을 따라 홀 또는 슬릿 형상의 홀이 형성된 것을 특징으로 한다.
상기 환형부의 표면에는 이노다이징 피막 또는 이트리아 피막이 형성되는 것을 특징으로 한다.
삭제
삭제
본 발명에 따르면 아래와 같은 다양한 효과를 구현할 수 있게 된다.
첫째, 챔버의 형상 변경 없이 배기유로 조절부를 승강하여 배기유로의 크기를 조절 가능한 이점이 있다.
둘째, 공정과정에서 배기유로 조절부가 챔버를 커버링하므로, 필요 시 챔버보다 가격이 저렴한 배기유로 조절부를 교체함으로써 챔버를 교체하는 주기를 연장하는 이점이 있다.
도 1은 종래 플라즈마 처리 장치의 구성도,
도 2는 본 발명의 배기유로의 크기가 조절되는 플라즈마 처리 장치의 구성도,
도 3은 본 발명의 배기유로의 크기가 조절되는 플라즈마 처리 장치에 대한 다른 실시예의 구성도,
도 4는 본 발명의 배기유로의 크기가 조절되는 플라즈마 처리 장치 일요부인 배기유로 조절부의 구성도,
도 5는 본 발명의 배기유로의 크기가 조절되는 플라즈마 처리 장치에 대한 다른 실시예의 구성도,
도 6의 (a)는 본 발명의 배기유로의 크기가 조절되는 플라즈마 처리 장치 일요부인 배기유로 조절부의 평면도,
도 6의 (b)는 본 발명의 배기유로의 크기가 조절되는 플라즈마 처리 장치 일요부인 배기유로 조절부에 대한 다른 실시예의 평면도,
도 7은 본 발명의 배기유로의 크기가 조절되는 플라즈마 처리 장치 일요부인 배기유로 조절부에 대한 다른 실시예의 평면도,
도 8은 본 발명의 배기유로의 크기가 조절되는 플라즈마 처리 장치 일요부인 배기유로 조절부에 대한 다른 실시예의 평면도를 나타낸 도면이다.
본 발명의 목적, 특정한 장점들 및 신규한 특징들은 첨부된 도면들과 연관되는 이하의 상세한 설명과 실시예로부터 더욱 명백해질 것이다. 본 명세서에서 각 도면의 구성요소들에 참조번호를 부가함에 있어서, 동일한 구성 요소들에 한해서는 비록 다른 도면상에 표시되더라도 가능한 한 동일한 번호를 가지도록 하고 있음에 유의하여야 한다. 또한, 제1, 제2 등의 용어는 다양한 구성요소들을 설명하는데 사용될 수 있지만, 상기 구성요소들은 상기 용어들에 의해 한정되어서는 안 된다. 상기 용어들은 하나의 구성요소를 다른 구성요소로부터 구별하는 목적으로만 사용된다. 또한, 본 발명을 설명함에 있어서, 관련된 공지 기술에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있다고 판단되는 경우 그 상세한 설명은 생략한다.
도 2에 도시된 바와 같이, 본 발명의 배기유로의 크기가 조절되는 플라즈마 처리 장치는, 챔버(20), 척(30), 배기펌프(40), 배기유로(50) 및 배기유로 조절부(60)를 포함한다.
챔버(20)는 내부에 플라즈마로 기판(10)을 처리하는 공간을 가지고, 이러한 챔버(20)의 내부 공간에 위치하는 척(30)에는 기판(10)이 안착된다.
배기펌프(40)는 챔버(20)의 외부에 위치하며, 챔버(20)와 연결되어 챔버(20) 내부 공정 가스를 흡입한다.
또한, 챔버(20) 내부 공간에는 공정 가스가 존재하는바, 챔버(20) 내벽과 척(30) 사이에는 배기유로(50)가 형성되며, 배기펌프(40)는 챔버(20)와 연결되되, 배기유로(50)와 연통된다.
이러한, 배기유로(50)는 배기유로 조절부(60)에 의해 크기가 조절된다.
배기유로 조절부(60)는 환형부(61), 연장부(62), 승강부(63)를 포함한다.
환형부(61)는 내부에 중공이 형성된 원기둥 형상으로 척(30)의 상부에 위치한다.
연장부(62)는 환형부(61)를 중심으로 환형부(61)의 일측에서 연장되는바, 환형부(61)의 하단에서 환형부(61)의 외측 방향으로 연장 형성될 수도 있다. 환형부(61) 및 연장부(62)가 승강 가능하도록 연장부(62)는 승강부(63)에 연결된다.
승강부(63)의 일단은 연장부(62)의 타단과 연결되고, 타단은 챔버 외부의 실린더, 리니어 모터 등 다양한 동력원(M)과 연결된다.
이러한 동력원(M)에 의해 승강부(63)의 일단이 상승 및 하강되므로 이와 연결된 연장부(62) 또한 상승 및 하강되어 결과적으로 환형부(61)가 상승 및 하강된다.
환형부(61)는 승강부(63)에 연동되어 상승 및 하강하여 배기유로(50)의 크기를 조절한다.
챔버(20)는 상부에 형성되는 제1챔버(22)와, 이러한 제1챔버(22)로부터 하향 확장 형성되는 제2챔버(24)를 포함하고, 환형부(61)의 상단은 제1챔버(22)의 내부에 위치되며, 연장부(62)는 환형부(61)의 외측 방향으로 연장 형성되어 제2챔버(24) 내부에 위치하는바, 승강부(63)의 작동에 따라 환형부(61) 및 연장부(62)가 승강한다.
이때, 제1챔버(22)와 환형부(61) 사이는 접촉될 수도 있으나, 이격되는 것이 환형부(61) 승강을 위해 바람직하다.
통상 배기펌프(40)가 작동하면, 척(30)과 제2챔버(24)의 천정 내벽 사이에 형성된 배기유로(50)를 통해 공정 가스가 유동하는데, 본 발명에서는 환형부(61) 및 연장부(62)를 이용하여 배기유로(50)를 척(30)과 연장부(62) 사이의 영역으로 규정하고, 환형부(61) 및 연장부(62)의 승강에 따라 배기유로(50)의 크기를 조절할 수 있게 된 것이다.
따라서, 환형부(61) 및 연장부(62)가 하강하게 되면 배기유로(50)의 크기가 감소하게 되는바, 환형부(61)가 하강하여 제2챔버(24) 영역에 위치하는 길이만큼 배기유로(50)의 크기는 감소되어 척(30)과 연장부(62) 사이에 형성된 배기유로(50)를 통해 공정 가스가 유동하게 된다. 환형부(61) 및 연장부(62)가 상승하는 경우에는 상술한 원리와 반대의 원리에 따라 배기유로(50)가 증가하게 되는바, 기판(10)의 크기에 따라 챔버(20)를 형상 변경하지 않고서도 배기유로(50)의 크기를 조절 가능하게 되는 것이다.
또한, 챔버(20) 내벽은 배기유로 조절부(60)에 커버링되어 플라즈마에 직접 노출되지 않기 때문에, 교체 주기가 연장될 수 있는바, 필요 시 챔버(20)보다 저렴한 배기유로 조절부(60)를 교체함으로써 최적의 공정 환경에서 기판(10)을 플라즈마 처리할 수 있게 된다.
도 3에 도시된 바와 같이, 배기유로 조절부(60)는, 척(30)의 상부에 위치하고, 내부에 중공이 형성되며, 일측이 챔버(20)의 내부에 결합되는 유도부(64)를 더 포함한다.
기판(10)은 챔버(20) 하부에 위치하는 것이 일반적이고, 챔버(20)가 제1챔버(22) 및 제2챔버(24)로 형성되는 경우에는 통상 제2챔버(24) 공간 상에 위치하게 된다. 이 때 유도부(64)는 기판(10)으로 플라즈마를 집중적으로 공급할 수 있도록 제2챔버(24)에 위치하되, 그 하단은 기판(10) 상에 위치하는 것이 바람직하다.
즉, 유도부(64)는, 타측 방향으로 중공의 크기가 작아지는 깔때기 형상의 제1유도부(64a), 제1유도부(64a)의 타측에서 연장 형성되며, 중공이 형성된 원기둥 형상의 제2유도부(64b)를 포함하되, 제2유도부(64b)의 내경은 기판(10)의 직경보다 소정의 크기만큼 크게 형성되는 것이 바람직하다.
분산된 플라즈마는 제1유도부(64a)의 타측 방향으로 중공의 크기가 작아지는 깔데기 형상을 지나면서 중앙으로 밀집되므로 기판 처리의 균일도가 향상되는 이점이 있다.
한편, 도 3 내지 도 5에 도시된 바와 같이, 제2유도부(64b)와 환형부(61)는 포개지는 것이 바람직하다. 즉, 환형부(61)의 상단은 제2유도부(62b) 내부에 위치하고, 환형부(61)는 상하 방향으로 이동하면서 승강한다.
제2유도부(64b)와 환형부(61)는, 제2유도부(64b) 중공의 직경이 환형부(61)의 외주면의 직경보다 커서 제2유도부(64b)에 환형부(61)의 상단이 삽입되거나, 환형부(61) 중공의 직경이 제2유도부(64b)의 외주면의 직경보다 커서 환형부(61)에 제2유도부(64b)의 하단이 삽입되는 형태로 포개질 수 있는 것이다.
제2유도부(64b)는 고정되며 환형부(61)가 승강되어 배기유로(50)의 크기를 조절한다.
이때, 제2유도부(62b)와 환형부(61) 사이는 접촉될 수 있으나, 이격되는 것이 환형부(61)의 승강을 위해 바람직하다.
도 6에 도시된 바와 같이, 연장부(62)는 환형부(61)를 중심으로 연장된 중공을 가지는 원판 형상 또는 환형부(61)를 중심으로 연장된 길이를 가지는 판재 형상일 수 있다.
연장부(62)가 원판 형상인 경우 챔버(20)를 커버하여 부산물이 챔버(20)에 영향을 주는 것을 최소화하는 이점이 있으며, 판재 형상인 경우 승강 시 부산물이 부유하는 것을 최소화하는 이점이 있으므로 공정환경에 따라 선택하는 것 바람직하다.
환형부(61)와 연장부(62)는 알루미늄 및 알루미늄합금 등 가벼운 금속재인 것이 바람직하다. 특히, 알루미늄으로 구성된 환형부(61)와 연장부(62)는 가벼우면서도 내식성이 우수한 이점이 있다.
도 7 내지 도 8에 도시된 바와 같이, 연장부(62)는, 중심에서 외측방향을 따라 둘 이상의 홀 또는 슬릿 형상의 홀(H)이 형성될 수 있다.
이때, 홀 형상의 홀(H)이 형성될 경우 다수개의 홀이 중심에서 외측방향을 따라 형성되는 것이 바람직하다.
또한, 도 7에 도시된 바와 같이, 연장부(62)가 원형으로 형성되는 경우 홀(H)은 연장부의 중심에서 원두레방향을 따라 일정각도로 이격되어 다수개가 형성되는 것이 바람직하다.
연장부(62)에 홀 또는 슬릿 형상의 홀이 형성되면 가벼워지며 승강 및 하강 시 발생하는 저항이 홀에 의해 감소되므로 부산물이 부유하는 것을 최소화하는 이점이 있다.
한편, 알루미늄으로 구성된 연장부(62)에 홀 또는 슬릿 형상의 홀(H)을 형성할 수도 있다.
환형부(61)와 연장부(62)의 표면에는 이노다이징 피막 또는 이트리아 피막을 코팅하는 것이 바람직하다.
환형부(61)와 연장부(62)의 표면에 이노다이징 피막, 이트리아 피막을 코팅하면 내식성이 향상되어 교체주기가 연장되는 이점이 있다.
본 발명의 배기유로의 크기가 조절되는 플라즈마 처리 장치의 기판 처리 방법은, 척(30)에 기판(10)을 안착하고, 배기유로 조절부(60)로 배기유로(50)의 크기를 조절하는 조절하고, 플라즈마로 기판(10)을 처리한다.
이때, 플라즈마로 기판(10)의 처리는 식각 또는 증착일 수 있다.
또한, 식각 및 증착이 반복되는 보쉬공정에 있어서 기판 처리 방법은, 척에 기판(10)을 안착하고, 배기유로 조절부(60)로 배기유로(50)의 크기를 조절하고, 플라즈마로 기판(10)을 식각하고, 배기유로 조절부(60)로 배기유로(50)의 크기를 조절하고, 플라즈마로 기판(10)을 증착한다.
이때, 식각과 증착은 2회 이상 반복되고, 식각에 사용되는 플라즈마는 공정가스 SF6에 고주파를 인가하여 형성되고, 증착에 사용되는 플라즈마는 공정가스 C4F8에 고주파를 인가하여 형성될 수 있다.
이상 본 발명을 구체적인 실시예를 통하여 상세히 설명하였으나, 이는 본 발명을 구체적으로 설명하기 위한 것으로, 본 발명에 따른 배기유로의 크기가 조절되는 플라즈마 처리 장치에 한정되지 않으며, 본 발명의 기술적 사상 내에서 당해 분야의 통상의 지식을 가진 자에 의해 그 변형이나 개량이 가능함은 명백하다고 할 것이다.
본 발명의 단순한 변형 내지 변경은 모두 본 발명의 영역에 속하는 것으로 본 발명의 구체적인 보호 범위는 첨부된 특허청구범위에 의하여 명확해질 것이다.
10 : 기판 20 : 챔버
30 : 척 40 : 배기펌프
50 : 배기유로 60 : 배기유로 조절부
61 : 환형부 62 : 연장부
63 : 승강부 64 : 유도부
64a : 제1유도부 64b : 제2유도부
M : 동력부 H : 홀

Claims (10)

  1. 상부에 위치하는 제1챔버와, 상기 제1챔버로부터 하향 확장되어 형성된 제2챔버를 포함하는 챔버;
    기판이 안착될 수 있도록 상기 챔버 내부에 설치되는 척;
    상기 챔버 내부에 존재하는 공정 가스를 흡입할 수 있도록 상기 제2챔버 일측에 연결되는 배기펌프;
    공정 가스가 상기 배기 펌프 방향으로 유동할 수 있도록 상기 챔버와 상기 척 사이에 형성되는 배기유로; 및
    상기 배기유로의 크기가 가변될 수 있도록 상기 챔버 내부에 설치되어, 상기 제1챔버 및 제2챔버 내부 공간에서 승강하면서 상기 배기유로의 크기를 조절하되, 상단이 상기 제1챔버 내부에 위치하고, 중공의 원기둥 형상으로 형성된 환형부와, 상기 환형부의 외주면에서 상기 환형부의 외측 방향으로 연장 형성되며, 상기 제2챔버 내부에 위치하는 연장부와, 상기 연장부에 연결되어 신축되는 승강부를 포함하는 배기유로 조절부를 포함하고,
    상기 환형부는 상기 승강부에 연동되어 승강하면서 상기 배기유로의 크기를 조절하되, 상기 환형부는 상기 척보다 항상 높은 지점에 위치하는 것을 특징으로 하는, 배기유로의 크기를 조절하는 플라즈마 처리 장치.
  2. 삭제
  3. 삭제
  4. 상부에 위치하는 제1챔버와, 상기 제1챔버로부터 하향 확장되어 형성된 제2챔버를 포함하는 챔버;
    기판이 안착될 수 있도록 상기 챔버 내부에 설치되는 척;
    상기 챔버 내부에 존재하는 공정 가스를 흡입할 수 있도록 상기 제2챔버 일측에 연결되는 배기펌프;
    공정 가스가 상기 배기 펌프 방향으로 유동할 수 있도록 상기 챔버와 상기 척 사이에 형성되는 배기유로; 및
    상단이 상기 제2챔버 상단 내벽에 결합되고, 그 내경이 하향 축소되는 중공 형상의 제1유도부와, 상기 제1유도부 하단에서 하향 연장 형성되되 중공이 형성된 원기둥 형상의 제2유도부를 포함하는 유도부; 상단이 상기 제2유도부 내부 또는 외부에 위치하고, 중공의 원기둥 형상으로 형성된 환형부; 상기 환형부 외주면에서 상기 환형부의 외측 방향으로 연장 형성되며, 상기 제2챔버 내부에 위치하는 연장부; 상기 연장부에 연결되어 신축되는 승강부를 포함하는 배기유로 조절부를 포함하고, 상기 환형부는 상기 승강부에 연동되어 승강하면서 상기 배기유로의 크기를 조절하되, 상기 환형부는 상기 척보다 항상 높은 지점에 위치하는 것을 특징으로 하는, 배기유로의 크기를 조절하는 플라즈마 처리장치.
  5. 청구항 1 또는 청구항 4에 있어서,
    상기 연장부는 환형부를 중심으로 연장된 중공을 가지는 원판 형상 또는 환형부를 중심으로 연장된 길이를 가지는 판재 형상인 것을 특징으로 하는, 배기유로의 크기를 조절하는 플라즈마 처리 장치.
  6. 청구항 1 또는 청구항 4에 있어서,
    상기 환형부 및 연장부는 알루미늄을 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는, 배기유로의 크기를 조절하는 플라즈마 처리 장치.
  7. 청구항 1 또는 청구항 4에 있어서,
    상기 연장부는, 중심에서 외측방향을 따라 홀 또는 슬릿 형상의 홀이 형성된 것을 특징으로 하는, 배기유로의 크기를 조절하는 플라즈마 처리 장치.
  8. 청구항 1 또는 청구항 4에 있어서,
    상기 환형부의 표면에는 이노다이징 피막 또는 이트리아 피막이 형성되는 것을 특징으로 하는, 배기유로의 크기를 조절하는 플라즈마 처리 장치.
  9. 삭제
  10. 삭제
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