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KR101669929B1 - Mask for exposure and chip on glass type liquid crystal display device with narrow bezel manufactured by using the same - Google Patents

Mask for exposure and chip on glass type liquid crystal display device with narrow bezel manufactured by using the same Download PDF

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KR101669929B1
KR101669929B1 KR1020100054866A KR20100054866A KR101669929B1 KR 101669929 B1 KR101669929 B1 KR 101669929B1 KR 1020100054866 A KR1020100054866 A KR 1020100054866A KR 20100054866 A KR20100054866 A KR 20100054866A KR 101669929 B1 KR101669929 B1 KR 101669929B1
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KR
South Korea
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gate
pad
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liquid crystal
substrate
Prior art date
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Korean (ko)
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Inventor
백정선
이정일
김정오
김용일
Original Assignee
엘지디스플레이 주식회사
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Publication date
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Abstract

본 발명은, 빛의 투과부와 차단부로 이루어진 노광 마스크에 있어서, 상기 투과부는 서로 마주하는 2쌍의 양측면 중 어느 한 쌍의 양측면에 삼각형 형태의 다수의 요철이 서로 마주하도록 형성되며, 나머지 한쌍의 양측면은 직선 형태를 이루는 것이 특징인 노광 마스크 및 이를 이용하여 제조된 내로우 베젤이 구현된 COG 타입 액정표시장치를 제공한다. According to the present invention, there is provided an exposure mask comprising a light transmission portion and a blocking portion, wherein the transmission portion is formed such that a plurality of triangular-shaped irregularities face each other on one of two pairs of opposite sides, And a COG type liquid crystal display device in which a narrow bezel manufactured using the exposure mask is implemented.

Description

노광 마스크 및 이를 이용하여 패터닝되어 제조된 내로우 베젤의 씨오지 타입 액정표시장치{Mask for exposure and chip on glass type liquid crystal display device with narrow bezel manufactured by using the same}BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention [0001] The present invention relates to an exposure mask and a narrow-bezel liquid crystal display device manufactured by patterning using the same,

본 발명은 노광 마스크 및 이를 이용하여 제조된 액정표시장치에 관한 것으로, 특히, 서로 마주하는 양측면에 다수의 요철이 형성된 것을 특징으로 하는 노광 마스크를 이용하여 패터닝됨으로써 내로우 베젤 구현이 가능한 COG(chip on glass) 타입 액정표시장치에 관한 것이다.
[0001] The present invention relates to an exposure mask and a liquid crystal display device using the same, and more particularly, to a COG (Chip) device capable of realizing an inner bezel by patterning using an exposure mask, on glass type liquid crystal display device.

최근 정보화 사회로 시대가 급발전함에 따라 박형화, 경량화, 저 소비전력화 등의 우수한 특성을 가지는 디스플레이 장치의 필요성이 대두되었고, 이에 따라 평판표시장치(flat panel display)에 대한 개발이 활발히 이루어지고 있으며, 특히 액정표시장치(liquid crystal display)가 해상도, 컬러표시, 화질 등에서 우수하여 노트북이나 데스크탑 컴퓨터의 모니터에 활발하게 적용되고 있다.In recent years, as the information society has developed rapidly, there has been a need for a display device having excellent characteristics such as thinness, light weight, and low power consumption. Accordingly, a flat panel display has been actively developed, In particular, liquid crystal displays (LCDs) are superior in resolution, color display, and image quality, and are actively applied to monitors of notebook computers and desktop computers.

일반적으로 액정표시장치는 전극이 각각 형성되어 있는 두 기판을 두 전극이 형성되어 있는 면이 마주 대하도록 배치하고 두 기판 사이에 액정 물질을 주입한 다음, 두 전극에 전압을 인가하여 생성되는 전기장에 의해 액정 분자를 움직이게 함으로써, 이에 따라 달라지는 빛의 투과율에 의해 화상을 표현하는 장치이다.In general, in a liquid crystal display device, two substrates on which electrodes are formed are arranged so that the surfaces on which the two electrodes are formed face each other, a liquid crystal material is injected between the two substrates, and then an electric field And moving the liquid crystal molecules, thereby expressing the image by the transmittance of light depending on the liquid crystal molecules.

좀 더 자세히, 일반적인 액정표시장치의 분해사시도인 도 1을 참조하여 그 구조에 대해 설명하면, 도시한 바와 같이, 액정표시장치는 액정층(30)을 사이에 두고 어레이 기판(10)과 컬러필터 기판(20)이 대면 합착된 구성을 갖는데, 이중 하부의 어레이 기판(10)은 투명한 기판(12)의 상면으로 종횡 교차 배열되어 다수의 화소영역(P)을 정의하는 복수개의 게이트 배선(14)과 데이터 배선(16)을 포함하며, 이들 두 배선(14, 16)의 교차지점에는 박막트랜지스터(T)가 구비되어 각 화소영역(P)에 마련된 화소전극(18)과 일대일 대응 접속되어 있다.1, which is an exploded perspective view of a general liquid crystal display device, a liquid crystal display device includes a liquid crystal layer 30 sandwiched between an array substrate 10 and a color filter 30, The lower array substrate 10 has a plurality of gate wirings 14 arranged longitudinally and laterally crosswise on the upper surface of the transparent substrate 12 to define a plurality of pixel regions P, And a data line 16. A thin film transistor T is provided at an intersection of the two lines 14 and 16 and is connected in a one-to-one correspondence with the pixel electrode 18 provided in each pixel region P.

또한, 상기 어레이 기판(10)과 마주보는 상부의 컬러필터 기판(20)은 투명기판(22)의 배면으로 상기 게이트 배선(14)과 데이터 배선(16) 그리고 박막트랜지스터(T) 등의 비표시영역을 가리도록 각 화소영역(P)을 테두리하는 격자 형상의 블랙매트릭스(25)가 형성되어 있으며, 이들 격자 내부에서 각 화소영역(P)에 대응되게 순차적으로 반복 배열된 적(R), 녹(G), 청(B)색의 컬러필터 패턴(26a, 26b, 26c)을 포함하는 컬러필터층(26)이 형성되어 있으며, 상기 블랙매트릭스(25)와 컬러필터층(26)의 전면에 걸쳐 투명한 공통전극(28)이 구비되어 있다.The upper portion of the color filter substrate 20 facing the array substrate 10 is electrically connected to the rear surface of the transparent substrate 22 through the gate wiring 14, the data wiring 16, the thin film transistor T, Shaped black matrix 25 for framing each pixel region P so as to cover the respective pixel regions P in the pixel region P. The red (R), green A color filter layer 26 including color filter patterns 26a, 26b and 26c of blue (G) and blue (B) colors is formed on the front surface of the color filter layer 26, A common electrode 28 is provided.

그리고, 도면상에 도시되지는 않았지만, 이들 두 기판(10, 20)은 그 사이로 개재된 액정층(30)의 누설을 방지하기 위하여 가장자리 따라 실링제(sealant) 등으로 봉함된 상태에서 각 기판(10, 20)과 액정층(30)의 경계부분에는 액정의 분자배열 방향에 신뢰성을 부여하는 상, 하부 배향막이 개재되며, 각 기판(10, 20)의 적어도 하나의 외측면에는 편광판이 구비되어 있다. Although not shown in the drawings, the two substrates 10 and 20 are sealed with a sealant or the like along their edges in order to prevent leakage of the liquid crystal layer 30 interposed therebetween. 10 and 20 and the liquid crystal layer 30 are provided with an upper and a lower orientation film for giving reliability in the molecular alignment direction of the liquid crystal and at least one outer surface of each of the substrates 10 and 20 is provided with a polarizing plate have.

또한, 어레이 기판(10)의 외측면으로는 백라이트(back-light)가 구비되어 빛을 공급하는 바, 게이트 배선(14)으로 박막트랜지스터(T)의 온(on)/오프(off) 신호가 순차적으로 스캔 인가되어 선택된 화소영역(P)의 화소전극(18)에 데이터배선(16)의 화상신호가 전달되면 이들 사이의 수직전계에 의해 그 사이의 액정분자가 구동되고, 이에 따른 빛의 투과율 변화로 여러 가지 화상을 표시할 수 있다On the outer side of the array substrate 10, a back-light is provided to supply light. An on / off signal of the thin film transistor T is applied to the gate wiring 14 When image signals of the data lines 16 are transferred to the pixel electrodes 18 of the selected pixel region P sequentially by scanning, the liquid crystal molecules between them are driven by the vertical electric field between them, and the light transmittance Various images can be displayed with change

이러한 구조를 갖는 액정표시장치에서, 상기 어레이 기판 및 컬러필터 기판과, 이들 두 기판 사이에 개재된 액정층은 액정패널로 정의되며, 액정패널의 외곽에는 이를 구동하기 위한 구동부가 구성된다. 구동부는 여러 가지 제어 신호, 데이터 신호 등을 생성하는 부품들이 실장되는 인쇄회로기판(PCB : printed circuit board)과, 액정 패널 및 인쇄회로기판에 연결되고 액정 패널의 배선에 신호를 인가하기 위한 구동 집적회로(drive IC)를 포함하는데, 구동 집적회로를 상기 액정패널에 실장(packaging)시키는 방법에 따라, 칩 온 글래스(COG : chip on glass) 방식, 테이프 캐리어 패키지(TCP : tape carrier package) 방식, 칩 온 필름(COF : chip on film) 방식 등으로 나누어진다.In the liquid crystal display device having such a structure, the array substrate, the color filter substrate, and the liquid crystal layer interposed between the two substrates are defined by a liquid crystal panel, and a driver for driving the liquid crystal panel is formed at the outer periphery of the liquid crystal panel. The driving unit includes a printed circuit board (PCB) on which components for generating various control signals, data signals and the like are mounted, a driving integrated circuit (IC) connected to the liquid crystal panel and the printed circuit board, A chip on glass (COG) method, a tape carrier package (TCP) method, and a liquid crystal panel according to a method of packaging a driving integrated circuit on the liquid crystal panel. And a chip on film (COF) method.

이중 COG 방식은, TCP 방식 및 COF 방식에 비해 구조가 간단하고 액정표시장치에서 액정패널이 차지하는 비율을 높일 수 있기 때문에 최근에 액정표시장치에 널리 적용되고 있다.The double COG method is widely applied to liquid crystal display devices in recent years because it has a simpler structure than the TCP method and the COF method and can increase the ratio of the liquid crystal panel in the liquid crystal display device.

이러한 COG 방식의 액정표시장치는 구동 집적회로를 구비한 IC칩이 실장되고 있으며, 상기 어레이 기판에 구비된 게이트 및 데이터 배선과 각각 연결된 입력 패드와 다수의 출력배선과 연결된 출력 배선 패드와 상기 IC칩이 접촉하도록 형성되고 있다.In the COG type liquid crystal display device, an IC chip having a driving integrated circuit is mounted, and an input pad connected to a gate and a data wiring provided on the array substrate, an output wiring pad connected to a plurality of output wirings, As shown in Fig.

이때, 상기 IC칩과 상기 입력 패드 및 출렵 패드의 전기적 접촉 불량을 최소화하기 위해 상기 각 입력 및 출력 패드에 구비된 절연층에는 각 패드전극을 노출시키는 다수의 홀이 구비되고 있으며, 상기 각 패드에 있어 상기 각 패드전극을 노출시키며 형성된 다수의 홀을 통해 접촉하며 보조패드전극이 형성되어 있다.In order to minimize the electrical contact failure between the IC chip and the input pad and the pick-up pad, a plurality of holes are formed in the insulating layer of each of the input and output pads to expose the pad electrodes, And the auxiliary pad electrode is formed in contact with the plurality of holes formed while exposing the respective pad electrodes.

도 2는 종래의 COG 타입 액정표시장치에 있어 IC칩과 접촉하는 출력패드에 대한 평면도이이며, 도 3은 도 2를 절단선 Ⅲ-Ⅲ을 따라 절단한 부분에 대한 단면도이다. FIG. 2 is a plan view of an output pad in contact with an IC chip in a conventional COG type liquid crystal display device, and FIG. 3 is a cross-sectional view of a portion cut along the cutting line III-III in FIG.

도시한 바와 같이, 각 출력패드(50)는 출력배선(52)의 폭보다 넓은 폭을 가지며, 이를 덮으며 구성된 절연층(55)에 출력패드전극(53)을 노출시키는 일정 크기 및 일정 간격 이격하는 다수의 홀(hl)이 구비되고 있음을 알 수 있다. 이때, 상기 각 홀(hl)은 그 최소 폭(w1)이 4㎛ 정도가 되며, 이격간격(d1) 또한 최소 4㎛ 정도가 되고 있다. As shown in the figure, each output pad 50 has a width wider than the width of the output wiring 52. The output pad 50 has a predetermined size and a predetermined interval It can be seen that a plurality of holes h1 are provided. At this time, each of the holes h1 has a minimum width w1 of about 4 mu m and the separation distance d1 is about 4 mu m at least.

한편, 각 패드에 대응하여 각 패드전극을 노출시키는 다수의 홀을 형성하는 것은 노광 마스크를 이용한 노광 공정을 포함하는 마스크 공정을 통해 진행되고 있다.On the other hand, the formation of a plurality of holes exposing each pad electrode corresponding to each pad is performed through a mask process including an exposure process using an exposure mask.

도 4는 일반적인 노광 장치를 이용하여 홀을 형성하는 것을 나타낸 개략도이다.4 is a schematic view showing the formation of holes using a general exposure apparatus.

일반적인 노광 장치를 이용한 홀 또는 패턴 형성 방법은 다음과 같은 순서로 이루어진다.A hole or pattern formation method using a general exposure apparatus is performed in the following order.

우선, 기판(3) 상에 패터닝이 요구되는 박막(4)을 증착하고, 상기 박막(4) 상에 감광막(5)을 도포한다. 연속하여, 상기 감광막(5) 상부에, UV광을 출사하는 노광기(미도시)와, 상기 노광기(미도시)로부터 UV광을 입사받아 소정의 패턴에 해당되는 상을 상기 감광막(5) 상에 투영하는 노광 마스크(7)를 배치시킨다. 여기서, 상기 노광 마스크(7)는 빛을 투과시키는 투과부(7a)와 차단하는 차광부(7b)로 이루어지며, 상기 투과부(7a)는 상기 감광막(5)에 노광이 이루어지는 부분을, 차광부(7b)는 그렇지 않은 부분을 정의한다. 예를 들어, 상기 감광막(5)이 포지티브 타입(positive type)이라면, 상기 투과부(7a)에 대응되는 감광막(5)의 부분(5a)은 노광 및 현상 후 제거되는 부분이 되며, 상기 차광부(7b)에 대응되는 감광막의 부분(5b)은 노광 및 현상 후 남아있는 부분이 된다. First, a thin film 4 requiring patterning is deposited on a substrate 3, and a photoresist film 5 is coated on the thin film 4. (Not shown) for emitting UV light and an image corresponding to a predetermined pattern are formed on the photoresist film 5 by receiving UV light from the exposer (not shown) An exposure mask 7 for projection is disposed. The exposure mask 7 is composed of a transmissive portion 7a for transmitting light and a shielding portion 7b for shielding light. The transmissive portion 7a is a portion for exposing the photosensitive film 5 to a light shielding portion 7b) define the other parts. For example, if the photoresist layer 5 is of a positive type, the portion 5a of the photoresist layer 5 corresponding to the transmissive portion 7a is removed after exposure and development, The portions 5b of the photoresist film corresponding to the exposed portions 7a and 7b become portions remaining after exposure and development.

이러한 일련의 노광 및 현상 공정을 진행한 후, 상기 패터닝되어야 하는 박막(4) 상에 남아있는 감광막 패턴(미도시) 외부로 노출된 박막을 식각을 진행하여 제거함으로써 상기 박막(4)에 특정 형태의 패턴 또는 홀을 형성할 수 있다.After the series of exposure and development processes are performed, the thin film exposed to the outside of the photoresist pattern (not shown) remaining on the thin film 4 to be patterned is removed by etching so that the thin film 4 has a specific shape Pattern or hole can be formed.

하지만, 종래의 노광 마스크에 구비되는 투과부 또는 차단부는 박막에 홀을 형성하는 경우, 홀이 형성되어야 하는 부분에 대해서는 도 5(종래의 노광 마스크의 홀 형성을 위한 투과부를 나타낸 평면도) 일부를 에 도시한 바와 같이 사각형 모양의 투과부(7a)를 이루게 됨을 알 수 있다.However, when a hole is formed in the thin film, the transmissive portion or the shielding portion provided in the conventional exposure mask has a portion in which a hole is to be formed and a portion in FIG. 5 (a plan view showing a transmissive portion for forming a hole in a conventional exposure mask) It can be seen that the transmissive portion 7a having a rectangular shape is formed.

전술한 사각형 형태의 투과부를 갖는 종래의 노광 마스크를 이용하여 노광을 실시하여 상기 패드전극을 노출시키는 홀을 형성하는 경우, 상기 노광 마스크의 사각형 형태의 패턴 끝단에서 발생하는 광의 회절성에 의해 빛을 차단하는 차단부에 대응하는 부분으로 입사되는 광의 강도가 크게 되어 원하는 치수보다 큰 홀이 최종적으로 형성되며, 이러한 공정 마진을 고려하여 홀의 패터닝이 이루어져야 하므로 홀간의 이격간격의 폭 또한 커지게 되고 있다.When a hole for exposing the pad electrode is formed by performing exposure using a conventional exposure mask having a rectangular transmissive portion, light is blocked by the diffracting property of light generated at the end of the square pattern of the exposure mask The intensity of light incident on the portion corresponding to the blocking portion is increased, and holes having a larger dimension than the desired dimension are finally formed. The patterning of the holes must be performed in consideration of such a process margin.

이러한 현상에 의해 상기 각 패드에 구비되는 다수의 홀은 그 폭이 3㎛ 이상이 되며, 홀간 이격간격 또한 3㎛ 이상이 되고 있다. Due to such a phenomenon, the width of each of the plurality of holes provided in each of the pads is 3 占 퐉 or more, and the spacing between the holes is also 3 占 퐉 or more.

하지만, 접촉 안정성을 위해 다수의 홀이 구비되는 패드의 폭이 상대적으로 증가되어야 함으로 패드가 위치하는 비표시영역의 크기가 증가하게 되므로 최종적으로 베젤폭이 증가하여 내로우 베젤(narrow bezel)을 갖는 COG타입 액정표시장치를 구성하는데 많은 어려움이 있다.
However, since the width of a pad having a plurality of holes is increased for contact stability, the size of the non-display area where the pad is located increases, and the width of the bezel is finally increased to have a narrow bezel There are many difficulties in constructing the COG type liquid crystal display device.

본 발명은 홀의 최소폭과 홀간 이격간격을 4㎛이하가 되도록 할 수 있는 노광 마스크 및 노광법을 통해 패터닝함으로써 내로우 베젤(narrow bezel)을 갖는 COG타입 액정표시장치를 제공하는 것을 그 목적으로 한다.
It is an object of the present invention to provide a COG type liquid crystal display device having a narrow bezel by patterning through an exposure mask and an exposure method which can make the minimum width of the holes and the space between the holes to be 4 m or less .

본 발명에 따른 노광 마스크는, 빛의 투과부와 차단부로 이루어진 노광 마스크에 있어서, 상기 투과부는 서로 마주하는 2쌍의 양측면 중 어느 한 쌍의 양측면에 삼각형 형태의 다수의 요철이 서로 마주하도록 형성되며, 나머지 한쌍의 양측면은 직선 형태를 이루는 것이 특징이다. The exposure mask according to the present invention is characterized in that in the exposure mask consisting of a light transmission portion and a blocking portion, the transmission portion is formed such that a plurality of triangular-shaped irregularities face each other on either side of two pairs of opposite sides, And both sides of the other pair are formed in a straight line shape.

이때, 상기 삼각형 형태의 다수의 요철은 대칭적으로 배치된 것이 특징이다. At this time, the plurality of triangular-shaped irregularities are symmetrically arranged.

또한, 상기 삼각형 형태의 다수의 요철은 상기 한 쌍의 양측면의 중앙부에 대해서 형성되면 상기 한 쌍의 양측면의 양 끝단은 직선 형태를 이루는 것이 특징이다. In addition, when the triangular-shaped concavity and convexity are formed with respect to the central part of both sides of the pair, both ends of the pair of sides are linear.

또한, 상기 직선형태를 갖는 양측면에는 다수의 바 형태의 차단 패턴이 구비된 것이 특징이다. In addition, a plurality of bar-shaped cut-off patterns are provided on both sides of the linear shape.

본 발명에 따른 COG 타입 액정표시장치는, 표시영역과, 그 주변에 게이트 패드 및 게이트 출력패드가 형성된 제 1 비표시영역과 데이터 패드 및 데이터 출력패드가 형성된 제 2 비표시영역이 정의된 제 1 기판과; 상기 제 1 기판 상의 상기 제 1 비표시영역에 상기 게이트 패드 및 게이트 출력패드와 접촉하며 서로 이격하며 실장된 다수의 게이트 구동 IC칩과; 상기 제 1 기판 상의 상기 제 2 비표시영역에 데이터 패드 및 데이터 출력패드와 접촉하며 서로 이격하며 실장된 데이터 구동 IC칩과; 상기 제 1 기판과 대향하는 제 2 기판과; 상기 제 1 및 제 2 기판 사이에 개재된 액정층을 포함하며, 상기 청구항 제 1 항 내지 제 5 항 중 어느 하나의 항에 기재된 노광 마스크를 통해 패터닝 된 상기 게이트 및 데이터 패드와 상기 게이트 및 데이터 입력패드에 최소 폭과 최소 이격간격이 2㎛인 다수의 홀이 구비된 것이 특징이다. A COG type liquid crystal display device according to the present invention includes a display area, a first non-display area formed with a gate pad and a gate output pad, a second non-display area formed with a data pad and a data output pad, Claims [1] A plurality of gate driving IC chips spaced apart from each other and contacting the gate pad and the gate output pad in the first non-display area on the first substrate; A data driving IC chip disposed in contact with the data pad and the data output pad in the second non-display region on the first substrate and spaced apart from each other; A second substrate facing the first substrate; And a liquid crystal layer interposed between the first and second substrates, wherein the gate and data pad patterned through the exposure mask as claimed in any one of claims 1 to 5 and the gate and data input The pad is provided with a plurality of holes having a minimum width and a minimum spacing of 2 mu m.

이때, 상기 제 1 기판의 표시영역에는 상기 게이트 패드와 연결된 게이트 배선과, 상기 데이터 패드와 연결된 데이터 배선과, 상기 게이트 및 데이터 배선과 연결되며 형성된 박막트랜지스터와, 상기 박막트랜지스터와 연결된 화소전극이 더욱 구성되며, 상기 제 2 기판에는 상기 표시영역에 대응하여 컬러필터층과 공통전극이 구성된 것이 특징이다.
In the display region of the first substrate, a gate line connected to the gate pad, a data line connected to the data pad, a thin film transistor connected to the gate and the data line, and a pixel electrode connected to the thin- And the second substrate has a color filter layer and a common electrode corresponding to the display area.

본 발명에 따른 COG 방식 액정표시장치는 그 측면이 요철구조를 갖는 노광마스크를 이용한 노광을 이용한 패터닝에 의해 제조됨으로써 홀의 크기 및 홀간 이격간격을 3㎛보다 작게 최소화할 수 있으므로 입력패드 및 출력패드의 크기를 줄임으로서 최종적으로 비표시영역의 면적을 줄여 내로우 베젤을 구현할 수 있는 장점이 있다.
The COG type liquid crystal display device according to the present invention can be manufactured by patterning using the exposure mask using the exposure mask having the concavo-convex structure, thereby minimizing the size of the hole and the spacing between the holes. The area of the non-display area can be reduced finally, thereby realizing the low-speed bezel.

도 1은 일반적인 액정표시장치에 대한 사시도.
도 2는 종래의 COG 타입 액정표시장치에 있어 IC칩과 접촉하는 출력패드에 대한 평면도.
도 3은 도 2를 절단선 Ⅲ-Ⅲ을 따라 절단한 부분에 대한 단면도.
도 4는 일반적인 노광 장치를 이용하여 홀을 형성하는 것을 나타낸 개략도.
도 5는 종래의 노광 마스크의 홀 형성을 위한 투과부를 나타낸 평면도
도 6은 본 발명에 따른 내로우 베젤을 갖는 COG타입 액정표시장치의 제조에 이용되는 박막에 홀 형성하기 위한 노광 마스크의 일부에 대한 평면도.
도 7은 본 발명에 따른 윙 패턴을 구비한 투과부를 갖는 노광 마스크를 이용하여 감광막을 노광하는 것을 도시한 도면.
도 8은 윙 패턴을 구비한 투과부를 갖는 노광 마스크를 이용하여 감광막에 노광을 실시하고 현상한 후의 감광막 패턴을 찍은 SEM사진.
도 9는 윙 패턴 및 슬릿을 구비한 투과부를 갖는 노광 마스크를 이용하여 감광막에 노광을 실시하고 현상한 후의 감광막 패턴을 찍은 SEM사진으로서 슬릿이 위치한 측면이 나타나도록 한 사진.
도 10은 본 발명에 따른 내로우 베젤의 COG방식 액정표시장치에 대한 개략적인 평면도.1 is a perspective view of a general liquid crystal display device.
2 is a plan view of an output pad in contact with an IC chip in a conventional COG type liquid crystal display device.
Fig. 3 is a cross-sectional view of a portion cut along the cutting line III-III of Fig. 2; Fig.
4 is a schematic view showing the formation of holes using a general exposure apparatus;
5 is a plan view showing a transmission portion for forming holes in a conventional exposure mask
6 is a plan view of a part of an exposure mask for forming a hole in a thin film used for manufacturing a COG type liquid crystal display device having a narrow bezel according to the present invention.
7 is a view showing exposure of a photoresist film using an exposure mask having a transmission portion having a wing pattern according to the present invention.
FIG. 8 is a SEM photograph showing a photoresist pattern after exposure to a photoresist using an exposure mask having a transmission portion having a wing pattern and development. FIG.
FIG. 9 is a SEM photograph showing a photoresist film pattern after exposure to a photoresist using an exposure mask having a transmissive portion having a wing pattern and a slit, and showing the side where the slit is located. FIG.
10 is a schematic plan view of a COG type liquid crystal display device of a narrow bezel according to the present invention.

이하, 본 발명에 따른 바람직한 실시예를 도면을 참조하여 상세히 설명한다. Hereinafter, preferred embodiments according to the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

우선, 도면을 참조하여 본 발명에 따른 내로우 베젤을 갖는 COG타입 액정표시장치의 제조에 이용되는 박막에 홀 형성하기 위한 노광 마스크의 평면 형태에 대해 설명한다.First, a planar shape of an exposure mask for forming a hole in a thin film used for manufacturing a COG type liquid crystal display device having a narrow bezel according to the present invention will be described with reference to the drawings.

도 6은 본 발명에 따른 내로우 베젤을 갖는 COG타입 액정표시장치의 제조에 이용되는 박막에 홀 형성하기 위한 노광 마스크의 일부에 대한 평면도.6 is a plan view of a part of an exposure mask for forming a hole in a thin film used for manufacturing a COG type liquid crystal display device having a narrow bezel according to the present invention.

도시한 바와 같이, 본 발명의 패턴 형성 방법에 이용되는 제 1 실시예에 따른 마스크(100)는, 빛이 투과하는 투과부(TA)와 빛의 투과를 차단하는 차단부(BA)로 구성되고 있다. 이때, 가장 특징적인 것으로 상기 투과부(TA)는 서로 마주하는 2개의 양측단 중 어느 한 쌍의 서로 마주하는 양측단(이하 요철 측단(S1)이라 칭함)은 서로 마주하는 형태로 삼각형 형태의 요철(이하 윙 패턴(120)이라 칭함)이 반복되는 형상을 이루고 있으며, 또 다른 한 쌍의 서로 마주하는 양측단(이하 직선 측단(S2)이라 칭함)은 직선 형태를 이루고 있는 것이 특징이다. As shown in the figure, the mask 100 according to the first embodiment used in the pattern forming method of the present invention is composed of a transmission portion TA through which light passes and a blocking portion BA which blocks transmission of light . At this time, most notably, the transmissive portion TA has a pair of opposed side edges (hereinafter referred to as concave and convex side edges S1) of a pair of opposite side edges opposed to each other, Hereinafter referred to as the wing pattern 120) is repeated, and the other pair of opposite side ends (hereinafter referred to as a straight line side end S2) are formed in a straight line shape.

이때, 상기 요철 측단(S1)에 구비된 윙 패턴(120)은 상기 요철 측단(S1)의 양 끝단을 기준으로 소정폭에 대해서는 형성되지 않음으로써 실질적으로 상기 요철 측단(S1)은 직선부(A1)와 요철부(A2)로 구성되고 있는 것이 특징이다.At this time, the wing pattern 120 provided at the uneven end S1 is not formed with respect to a predetermined width with respect to both ends of the uneven end S1, so that the uneven end S1 is substantially parallel to the straight line A1 And the concavo-convex portion A2.

한편, 상기 직선부(A1)에 대해서는 상기 직선측단(S2)과 나란하게 빛을 차단하는 바(bar) 형태의 빛 차단패턴(130)이 다수 이격하며 구비됨으로써 다수의 슬릿이 형성될 수 있다. 도면에서는 상기 직선부(A1)에 대해서 하나의 바(bar) 형태의 빛 차단패턴(130)이 구비됨을 일례로 보이고 있다. A plurality of light blocking patterns 130 in the form of a bar that blocks light in parallel to the straight line end S2 may be formed on the linear portion A1 to form a plurality of slits. In the figure, one bar-shaped light blocking pattern 130 is provided for the straight line A1.

이렇게 박막에 홀을 형성하기 위한 투과부(TA)에 대해 요철측단(S1)에 대해 윙 패턴(120)을 적용하고, 직선부(A1)에 대해서는 슬릿을 적용한 것을 특징으로 하는 노광 마스크(100)를 이용하여 패터닝 되어야 할 박막 상에 감광막을 형성하고 상기 감광막에 대해 노광을 실시한 후 현상을 진행하게 되면 상기 윙 패턴(120) 형성에 의해 노광 장치(미도시)의 노광 해상도 이하의 미세 홀 패턴을 형성할 수 있으며, 슬릿(SL)이 형성된 부분에 대해서는 슬릿(SL)에 의해 빛의 회절이 더욱 강화되어 투과부(TA)와 차단부(BA)의 명암비가 약화되고 이러한 현상에 의해 노광된 감광막의 현상 후 최종적으로는 박막 상에 남게되는 감광막 패턴의 측면이 완만해진다. The wing pattern 120 is applied to the concave and convex side end S1 with respect to the transmissive portion TA for forming the hole in the thin film and the slit is applied to the straight portion A1. A photoresist layer is formed on the thin film to be patterned. When the photoresist layer is exposed to light and then developed, a fine hole pattern having a resolution lower than the exposure resolution of the exposure apparatus (not shown) is formed by the formation of the wing pattern 120 The light diffraction is further enhanced by the slit SL in the portion where the slit SL is formed and the contrast ratio of the transmissive portion TA and the blocking portion BA is weakened and the phenomenon of the exposed photosensitive film The side surface of the photoresist pattern remaining on the thin film finally becomes gentle.

따라서, 전술한 바와같은 형태로 형성된 감광막 패턴을 이용하여 노출된 박막을 식각함으로써 상기 윙 패턴이 구비된 투과부(TA) 측면에 대응하는 홀 측면은 매우 급한 기울기를 갖는 형태를 이루며, 슬릿(SL)이 구비된 직선부(A1)와 인접하는 직선측단(S2)에 대응하는 홀 측면은 완만한 기울기를 갖게 됨으로써 이러한 홀을 통해 노출된 패드전극 등과 접촉하는 보조패드전극이 상기 패드전극과 접촉이 원활하게 이루어지도록 할 수 있다. Therefore, by etching the exposed thin film using the photoresist pattern formed as described above, the hole side corresponding to the side of the transmissive portion TA provided with the wing pattern has a very sharp slope, The side surface corresponding to the straight line portion A1 adjacent to the straight line A1 has a gentle inclination so that the auxiliary pad electrode which is in contact with the pad electrode exposed through the hole is smoothly contacted with the pad electrode .

도 7은 본 발명에 따른 윙 패턴을 구비한 투과부를 갖는 노광 마스크를 이용하여 감광막을 노광하는 것을 도시한 도면이다.7 is a view showing exposure of a photoresist using an exposure mask having a transmission portion having a wing pattern according to the present invention.

도시한 바와 같이, 기판 상에 홀이 형성된 부분에 대응하는 노광 마스크(100)의 투과부(TA)의 서로 마주하는 요철측면(S1)에 윙 패턴(120)을 적용할 경우, 상기 노광 마스크(100)의 투과부(TA)로 입사되는 광 중 상기 투과부(TA)의 측면에서 회절 된 광의 방향이 상기 윙 패턴(120) 자체의 변을 기준으로 수직으로 발생되며, 이에 의해 광의 경로가 윙 패턴을 사이에 두고 양쪽으로 분산되기 때문에 종래의 직선형태의 측면만을 갖는 투과부(도 5의 7a)를 갖는 노광 마스크(도 5의 7)와 같이 인접한 차단부에 대응하는 부분으로 집중되어 들어가는 광의 강도를 줄일 수 있게 되어 최종적으로 감광막에 구현되는 홀 크기를 줄일 수 있게 된다. When the wing patterns 120 are applied to the concave and convex side surfaces S1 of the transmissive portions TA of the exposure mask 100 corresponding to the portions where the holes are formed on the substrate, The direction of the light diffracted at the side of the transmitting portion TA is vertically generated with respect to the side of the wing pattern 120 itself so that the path of the light is shifted between the wing patterns The intensity of the light concentrated on the portion corresponding to the adjacent blocking portion as in the case of the exposure mask (7 in Fig. 5) having the transmitting portion (7a in Fig. 5) So that the hole size finally realized in the photoresist can be reduced.

즉, 투과부(TA)의 서로 마주하는 요철측면(S1)에 윙 패턴(120)을 적용한 노광 마스크(100)를 이용하여 감광막의 노광 시 투과부(TA)의 내측으로 입사되는 광 중 상기 투과부(TA)의 측면 외측에 위치하는 차단부로 입사되는 광의 강도 감소로 인해 종래의 직선형태의 측면을 갖는 투과부(TA)를 포함하는 노광 마스크를 이용하여 형성한 홀의 최소 폭인 4㎛보다 더욱 작은 2㎛ 정도의 폭을 갖는 홀 형성이 가능함을 알 수 있었다.That is, by using the exposure mask 100 in which the wing pattern 120 is applied to the concave-convex side surface S1 of the transmissive portion TA facing each other, the transmissive portion TA (not shown) of the light incident on the inside of the transmissive portion TA during exposure of the photosensitive film, ), Which is smaller than 4 [micro] m, which is the minimum width of the hole formed using the exposure mask including the transmissive portion TA having the conventional linear side surface, due to the decrease in the intensity of light incident on the blocking portion located outside the side It is possible to form a hole having a width.

나아가 홀간 이격간격 또한 종래의 경우 최소 4㎛정도가 되었지만, 본 발명의 경우 투과부(TA)에 윙 패턴(120)이 구비되어 차단부(BA)에 대응하는 감광막(170b)으로 입사되는 빛의 강도를 줄일 수 있으므로 이러한 차단부(BA)에 대응하는 부분으로 입사되는 빛이 줄어들게 됨으로써 홀간 이격간격의 마진 또한 줄어들게 된다. In the case of the present invention, the wing pattern 120 is provided on the transmissive portion TA so that the intensity of the light incident on the photosensitive film 170b corresponding to the blocking portion BA The light incident on the portion corresponding to the blocking portion BA is reduced, and the margin of the space between the holes is also reduced.

따라서, 본 발명에 따른 윙 패턴(120)을 구비한 투과부(TA)를 갖는 노광 마스크(100)를 이용하여 홀 형성 시 홀간 이격간격 또한 2㎛정도가 되어도 안정적으로 홀 형성이 가능함을 알 수 있었다.Accordingly, it was found that holes can be stably formed even when the spacing distance between holes is about 2 μm when forming the holes by using the exposure mask 100 having the transmissive portion TA having the wing patterns 120 according to the present invention .

도 8은 윙 패턴을 구비한 투과부를 갖는 노광 마스크를 이용하여 감광막에 노광을 실시하고 현상한 후의 감광막 패턴을 찍은 SEM사진이다. 8 is an SEM photograph showing a photoresist pattern after exposure to a photoresist using an exposure mask having a transmission portion having a wing pattern and development.

도시한 바와같이, 감광막에 구비된 홀의 측면이 매우 가파른 기울기를 가지며 형성됨을 알 수 있었으며, 그 폭이 2㎛ 정도가 됨을 알 수 있었다. As shown in the figure, it can be seen that the side surface of the hole provided in the photoresist film has a very steep slope, and the width is about 2 탆.

종래의 직선형태의 측면을 갖는 투과부를 구비한 노광 마스크를 이용하여 감광막에 홀을 형성하는 경우, 안정적인 공정 진행을 위해서는 홀은 그 폭이 최소 4㎛정도가 되어야 했다. In the case of forming a hole in a photoresist using an exposure mask having a transmissive portion having a side surface of a conventional linear shape, the holes must have a width of at least 4 탆 in order to perform a stable process.

하지만, 본 발명에 따른 투과부의 서로 마주하는 측면에 윙패턴을 구비한 노광 마스크를 이용하는 경우, 홀의 폭은 2㎛정도가 되어도 안정적으로 공정이 진행될 수 있었다.However, in the case of using an exposure mask having a wing pattern on the mutually facing sides of the transmissive portion according to the present invention, the process can be stably performed even when the width of the hole is about 2 탆.

도 9는 윙 패턴 및 슬릿을 구비한 투과부를 갖는 노광 마스크를 이용하여 감광막에 노광을 실시하고 현상한 후의 감광막 패턴을 찍은 SEM사진으로서 슬릿이 위치한 측면이 나타나도록 한 사진이다. FIG. 9 is a SEM photograph showing a photoresist film pattern after exposure to a photoresist using an exposure mask having a transmissive portion having a wing pattern and a slit, and showing the side where the slit is located. FIG.

투과부에 윙 패턴이 구비된 서로 마주하는 측면 이외의 서로 마주하는 측면에 구비된 슬릿에 의해 상기 투과부로 입사된 광이 상기 슬릿에 의해 더욱 많은 회절을 일으킨 상태에서 감광막에 입사됨으로써 슬릿이 형성된 부분에 대해서는 광 퍼짐에 의해 완만한 기울기를 갖는 측면이 형성됨을 알 수 있다.Light incident on the transmissive portion due to slits provided on mutually facing sides of the transmissive portion having wing patterns opposite to each other is incident on the photoresist film in a state where more diffraction is caused by the slit, It can be understood that a side surface having a gentle slope is formed by the optical spreading.

한편, COG 타입 액정표시장치의 어레이 기판의 비표시영역에 구비되는 구동 IC칩이 실장될 부분에 형성되는 상기 IC칩 내의 입력범프와 접촉하게 되는 게이트 및 데이터 배선과 연결된 입력패드와 IC칩 내의 출력범프와 접촉하게 될 출력패드에 있어 각 패드전극과 보조패드전극과의 전기적 연결을 위해 이들 두 구성요소의 사이에 개재된 절연층에 다수의 홀을 형성하는 경우, 전술한 바와같은 투과부 형태를 갖는 노광 마스크를 이용하여 노광을 실시하고 패터닝을 진행하게 되면 안정적인 패터닝 공정이 진행되면서도 홀 크기를 2㎛ 정도의 폭을 갖도록 줄일 수 있다. On the other hand, an input pad connected to a gate and a data line, which is brought into contact with an input bump in the IC chip, formed in a part to be mounted on a drive IC chip provided in a non-display area of the array substrate of the COG type liquid crystal display, In the case of forming a plurality of holes in the insulating layer interposed between these two components for electrical connection between the pad electrodes and the auxiliary pad electrodes in the output pad to be in contact with the bumps, If exposure is performed using an exposure mask and patterning is performed, the hole pattern can be reduced to a width of about 2 탆 while a stable patterning process is performed.

따라서, 각 패드 상에 패드전극과 보조패드 전극간의 전기적 접촉 안정성을 위해 필요로 되는 동일한 개수의 홀을 형성할 때, 일반적인 직선 형태의 측면을 갖는 투과부를 갖는 종래의 노광마스크를 이용하여 패터닝하는 것보다 본 발명에 따른 윙패턴이 구비된 투과부를 갖는 노광 마스크를 이용하여 패터닝하는 경우 홀의 크기 및 홀간 이격간격을 줄일 수 있으므로 윙 패턴의 형성 방향에 따라 패드 폭 또는 길이를 줄일 수 있으며, 이에 의해 비표시영역의 폭을 줄일 수 있으므로 최종적으로 내로우 베젤을 구현할 수 있다.Therefore, when forming the same number of holes required for electrical contact stability between the pad electrode and the auxiliary pad electrode on each pad, patterning is performed using a conventional exposure mask having a transmissive portion having a general linear side surface In the case of patterning using an exposure mask having a transmission portion having a wing pattern according to the present invention, the size of the hole and the spacing between the holes can be reduced, so that the pad width or length can be reduced according to the forming direction of the wing pattern, Since the width of the display area can be reduced, the narrow bezel can finally be realized.

나아가 윙 패턴이 구비된 측면 이외의 서로 마주하는 양측면에는 다수의 슬릿을 구현함으로써 이를 이용하여 홀의 패터닝을 진행하는 경우 홀의 내측면이 완만한 기울기를 갖도록 구성됨으로써 패드전극과 보조패드전극이 측면에서 끊김 발생이 없이 안정적으로 접촉할 수 있는 장점을 갖는다. In addition, when a plurality of slits are formed on opposite sides of the side opposite to the side provided with the wing pattern, and the patterning of the holes is performed using the slits, the inner surface of the holes has a gentle slope, So that they can be stably contacted without occurrence.

도 10은 본 발명에 따른 내로우 베젤의 COG방식 액정표시장치에 대한 개략적인 평면도이다. 10 is a schematic plan view of a low-bezel COG type liquid crystal display device according to the present invention.

도시한 바와같이, 본 발명에 따른 내로우 베젤의 COG방식 액정표시장치(251)는 스위칭 소자인 박막트랜지스터(Tr)와 이와 연결된 화소전극(261)이 각각 구비된 다수의 화소영역(P)이 구비되어 화상을 표시하는 표시영역(AA)과, 상기 표시영역(AA)의 주변부에 위치하는 제 1 및 제 2 비표시영역(NA1, NA2)이 정의된 제 1 기판(260)이 배치되어 있고, 상기 제 1 기판(260)의 표시영역(AA)과 대응되는 위치에는, 제 1 기판(260)의 제 1 및 제 2 비표시영역(NA1, NA2)을 노출시키며 제 2 기판(280)이 배치되어 있으며, 이들 두 기판(260, 280) 사이에는 액정층(미도시)이 개재되어 있다. The COG type liquid crystal display device 251 of the narrow bezel according to the present invention includes a plurality of pixel regions P each having a thin film transistor Tr as a switching element and a pixel electrode 261 connected thereto, A first substrate 260 on which a display area AA for displaying an image and first and second non-display areas NA1 and NA2 located on the periphery of the display area AA are defined The first and second non-display areas NA1 and NA2 of the first substrate 260 are exposed at a position corresponding to the display area AA of the first substrate 260 while the second substrate 280 is exposed And a liquid crystal layer (not shown) is interposed between the two substrates 260 and 280. [

한편, 상기 제 1 기판(260)의 제 1 비표시영역(NA1)에는, 상기 표시영역(AA)에 구성된 다수의 게이트 배선(263)에 게이트 신호전압을 인가하는 다수의 게이트 구동 IC칩(267)이 위치하고, 상기 제 2 비표시영역(NA2)에는 상기 표시영역(AA)에 구성된 다수의 데이터 배선(265)에 데이터 신호전압을 인가하는 다수의 데이터 구동 IC칩(269)이 실장되고 있다. In the first non-display area NA1 of the first substrate 260, a plurality of gate driving IC chips 267 for applying gate signal voltages to the plurality of gate wirings 263 formed in the display area AA And a plurality of data driving IC chips 269 for applying data signal voltages to the plurality of data wirings 265 formed in the display area AA are mounted in the second non-display area NA2.

그리고, 게이트 구동 IC칩(267) 또는 데이터 구동 IC칩(269)가 구성된 비표시영역(NA1, NA2) 중 상기 데이터 구동 집적회로(269)가 구성된 제 2 비표시영역(NA2)에 대해서는 상기 게이트 또는 데이트 구동 IC칩(267, 269) 각각에 입력신호를 인가하기 위한 배선 및 회로가 구성된 FPC(275 ; Flexible Printed Circuit)가 2개의 FPC 연결부(273a, 273b)를 통해 연결되어 있다. The second non-display area NA2 constituted by the data driving integrated circuit 269 among the non-display areas NA1 and NA2 in which the gate driving IC chip 267 or the data driving IC chip 269 is constituted, Or FPC 275 (Flexible Printed Circuit) having wiring and circuits for applying an input signal to the date drive IC chips 267 and 269, respectively, are connected through two FPC connection portions 273a and 273b.

이때, 도면에 나타내지 않았지만, 상기 게이트 구동 IC칩(267)에 의해 가려진 부분에는 상기 게이트 배선(263)과 연결되는 게이트 패드전극(미도시)과 그 폭이 2㎛ 정도가 되며 2㎛ 정도의 이격간격을 가지며 배치된 다수의 홀(미도시)을 갖는 절연층(미도시)과 상기 다수의 홀(미도시)을 통해 상기 게이트 패드전극(미도시)과 접촉하는 게이트 보조패드전극(미도시)으로 구성된 다수의 게이트 패드(미도시)가 구비되며, 이러한 게이트 패드(미도시)과 이격하며 이와 동일한 구성을 갖는 다수의 게이트 출력패드(미도시)가 구비되고 있으며, 상기 게이트 구동 IC칩(267)에 구비된 입력 및 출력범프(미도시)와 접촉하며 상기 게이트 구동 IC칩(267)이 실장되고 있다. At this time, although not shown, a gate pad electrode (not shown) connected to the gate wiring 263 is formed at a portion covered by the gate driving IC chip 267 and a gate pad electrode An insulating layer (not shown) having a plurality of spaced holes (not shown) and a gate assist pad electrode (not shown) contacting the gate pad electrode (not shown) through the plurality of holes (not shown) And a plurality of gate output pads (not shown) spaced apart from the gate pads (not shown) and having the same configuration are provided, and the gate driving IC chips 267 And the gate driving IC chip 267 is mounted.

또한, 상기 데이터 구동 IC칩(269)에 의해 가려진 부분에는 상기 데이터 배선(265)과 연결되는 데이터 패드전극(미도시)과 그 폭이 2㎛ 정도가 되며 2㎛ 정도의 이격간격을 가지며 배치된 다수의 홀(미도시)을 갖는 절연층(미도시)과 상기 다수의 홀(미도시)을 통해 상기 데이터 패드전극(미도시)과 접촉하는 데이터 보조패드전극(미도시)으로 구성된 다수의 데이터 패드(미도시)가 구비되며, 이러한 데이터 패드(미도시)과 이격하며 이와 동일한 구성을 갖는 다수의 데이터 출력패드(미도시)가 구비되고 있다. In addition, a data pad electrode (not shown) connected to the data line 265 and a data pad electrode (not shown) having a width of about 2 mu m and a spacing of about 2 mu m are disposed in a portion covered by the data driving IC chip 269 A plurality of data consisting of an insulating layer (not shown) having a plurality of holes (not shown) and a data assist pad electrode (not shown) contacting the data pad electrode (not shown) through the plurality of holes (Not shown), and a plurality of data output pads (not shown) spaced apart from the data pads (not shown) and having the same configuration are provided.

한편, 상기 2개의 FPC 연결부(273a, 273b) 중 상기 게이트 구동 IC칩(267)이 위치한 제 1 비표시영역(NA1)과 인접하고 있는 연결부(이하 제 1 FPC 연결부(73a)라 칭함)의 좌측으로는 상기 게이트 구동 IC칩(267)으로 여러 신호들을 전달시키기 위해 다수의 신호 연결배선(70)이 상기 제 1 FPC 연결부(273a)와 연결되며 상기 제 1 기판(260)의 테두리를 따라 최외측에 구성되어 있다. 이 경우, 상기 제 1 FPC 연결부(273a)는 이를 통해 신호를 인가받는 몇 개의 데이터 구동 IC칩(269)로의 신호 이외에 상기 게이트 구동 IC칩(267)로 전달되는 신호까지도 상기 다수의 신호 연결배선(270)을 통해 전달하는 역할을 하게 된다. On the other hand, of the two FPC connection portions 273a and 273b, a connection portion (hereinafter, referred to as a first FPC connection portion 73a) adjacent to the first non-display area NA1 in which the gate drive IC chip 267 is located, A plurality of signal connection wirings 70 are connected to the first FPC connection portion 273a to transmit various signals to the gate driving IC chip 267 and a plurality of signal connection wirings 70 are connected to the first FPC connection portion 273a along the rim of the first substrate 260 . In this case, the signal transmitted to the gate driving IC chip 267 in addition to the signal to several data driving IC chips 269 to which the signal is applied is also transmitted to the first FPC connecting part 273a. 270).

이때, 상기 신호 연결배선(270)을 제 1 기판(260)상에 구성하는 이유는, 게이트 구동 IC칩(267)에 신호인가를 위한 회로 및 배선이 형성된 게이트 PCB 또는 게이트 FPC(Flexible Printed Circuit)를 생략하고, 상기 게이트 구동 IC칩(267)에 신호인가를 위한 회로 및 배선을 데이터 구동 IC칩(269)와 연결되는 FPC(275)에 모두 형성함으로써 하나의 FPC(275)를 사용하여 구동시킴으로써 액정표시장치의 제조 비용을 절감시키기 위함이다.The reason why the signal connection wiring 270 is formed on the first substrate 260 is that a gate PCB or a gate FPC (Flexible Printed Circuit) having a circuit and a wiring for signal application is formed on the gate driving IC chip 267, And a circuit and a wiring for applying a signal to the gate driving IC chip 267 are all formed in the FPC 275 connected to the data driving IC chip 269 so as to be driven by using one FPC 275 Thereby reducing the manufacturing cost of the liquid crystal display device.

이러한 구성을 갖는 본 발명에 따른 COG 타입 액정표시장치(251)의 경우, 제조 시 안정적인 공정 진행을 요구되는 홀(미도시) 크기(폭) 및 홀 간격이 2㎛정도가 되므로 2㎛ 정도의 폭과 이격간격을 갖는 홀(미도시) 형성에 의해 상기 게이트 및 데이터 구동 IC칩(267, 269)과 접촉하는 게이트 및 데이터 패드(미도시)와 게이트 및 데이터 출력패드(미도시)의 폭과 크기를 줄일 수 있으므로 최종적으로 상기 게이트 및 데이터 구동 IC칩(267, 269)이 실장되는 비표시영역의 폭을 줄일 수 있으므로 내로우 베젤(narrow bezel)을 구현한 것이 특징이다.In the case of the COG type liquid crystal display device 251 according to the present invention having such a configuration, since the hole (not shown) size (width) and hole interval required for stable process progress at the time of manufacturing become about 2 탆, The width and size of the gate and data pad (not shown) and the gate and data output pad (not shown) in contact with the gate and data driving IC chips 267 and 269 by the formation of holes (not shown) The width of the non-display area in which the gate and data driving IC chips 267 and 269 are mounted can be reduced, thereby realizing a narrow bezel.

전술한 구성을 갖는 제 1 기판(260)과 대향하는 제 2 기판(280)의 내측면에는 각 화소영역(P)에 대응하여 적, 녹, 청색 컬러필터 패턴(미도시)이 순차 반복하는 형태로 형성된 컬러필터층(미도시)이 구비되고 있으며, 이때 각 화소영역(P)의 경계에는 상기 컬러필터층(P)과 제 2 기판(280) 사이에 블랙매트릭스(미도시)가 구비되고 있다. 또한, 상기 컬러필터층(미도시)을 덮으며 투명 도전성 물질로 이루어진 공통전극(미도시)이 형성되어 있다.Green, and blue color filter patterns (not shown) are sequentially and repeatedly formed on the inner surface of the second substrate 280 opposite to the first substrate 260 having the above- A black matrix (not shown) is provided between the color filter layer P and the second substrate 280 at the boundary of each pixel region P at this time. In addition, a common electrode (not shown) made of a transparent conductive material is formed to cover the color filter layer (not shown).

한편, 본 발명은 상기 전술한 실시예 및 그 변형예에 한정되지 않고 본 발명의 취지를 벗어나지 않는 한도 내에서 다양하게 변경하여 실시할 수 있다.
The present invention is not limited to the above-described embodiments and modifications thereof, and various modifications may be made without departing from the spirit of the present invention.

151 : COG타입 액정표시장치 160 : 제 1 기판
161 : 화소전극 163 : 게이트 배선
165 : 데이터 배선 167 : 게이트 구동 집적회로
169 : 데이터 구동 집적회로 170 : 신호 연결배선
171a, 171b : 제 1, 2 배선 173a, 173b : 제 1, 2 FPC 연결부
175 : FPC 180 : 제 2 기판
183 : 테두리 블랙매트릭스 191 : 더미패턴
AA : 표시영역 B ,C : 더미영역
NA1, NA2 : 제 1, 2 비표시영역 P : 화소영역
Tr : 박막트랜지스터 151: COG type liquid crystal display device 160: first substrate
161: pixel electrode 163: gate wiring
165: data wiring 167: gate drive integrated circuit
169: Data driving integrated circuit 170: Signal connection wiring
171a and 171b: first and second wirings 173a and 173b: first and second FPC connectors
175: FPC 180: second substrate
183: Border Black Matrix 191: Dummy Patterns
AA: display area B, C: dummy area
NA1, NA2: first and second non-display areas P: pixel area
Tr: thin film transistor

Claims (7)

빛의 투과부와 차단부로 이루어진 노광 마스크에 있어서,
상기 투과부는 서로 마주하는 2쌍의 양측면 중 어느 한 쌍의 양측면에 삼각형 형태의 다수의 요철이 서로 마주하도록 배치된 요철부를 갖는 요철 측단과, 나머지 한쌍의 양측면에 직선 형태를 이루는 직선 측단을 포함하고,
상기 요철부와 상기 직선 측단 사이에 상기 직선 측단과 나란하게 소정거리 이격되어 배치된 차단패턴을 포함하는 노광 마스크.

An exposure mask comprising a light transmission portion and a blocking portion,
The transmissive portion includes a concave-convex side having a concavo-convex portion having a concavo-convex portion arranged so that a plurality of triangular-shaped concavo-convex portions are opposed to each other on either side of two pairs of opposite side surfaces facing each other, and a straight side- ,
And a blocking pattern disposed between the concave-convex part and the straight line side end, the blocking pattern being spaced apart from the linear side step by a predetermined distance.

제 1 항에 있어서,
상기 삼각형 형태의 다수의 요철은 대칭적으로 배치된 노광 마스크.

The method according to claim 1,
The plurality of irregularities in the triangular shape are arranged symmetrically.

제 1 항에 있어서,
상기 요철 측단은 직선부를 더 포함하고, 상기 삼각형 형태의 다수의 요철은 직선부 사이에 위치하는 노광 마스크.

The method according to claim 1,
Wherein the convexo-concave side further comprises a straight portion, and the plurality of triangular convexo-concave portions are located between straight portions.

제 1 항에 있어서,
상기 차단패턴이 다수의 바 형태로 슬릿을 구성하는 노광 마스크.

The method according to claim 1,
Wherein the blocking pattern constitutes a slit in the form of a plurality of bars.

표시영역과, 그 주변에 게이트 패드 및 게이트 출력패드가 구비된 제 1 비표시영역과 데이터 패드 및 데이터 출력패드가 구비된 제 2 비표시영역이 정의된 제 1 기판과;
상기 제 1 기판 상의 상기 제 1 비표시영역에 상기 게이트 패드 및 게이트 출력패드와 접촉하며 서로 이격하며 실장된 다수의 게이트 구동 IC칩과;
상기 제 1 기판 상의 상기 제 2 비표시영역에 데이터 패드 및 데이터 출력패드와 접촉하며 서로 이격하며 실장된 데이터 구동 IC칩과;
상기 제 1 기판과 대향하는 제 2 기판과;
상기 제 1 및 제 2 기판 사이에 개재된 액정층
을 포함하며, 상기 청구항 제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 하나의 항에 기재된 노광 마스크를 통해 패터닝 된 상기 게이트 및 데이터 패드와 상기 게이트 및 데이터 입력패드에 최소 폭과 최소 이격간격이 2㎛인 다수의 홀이 구비된 COG 타입 액정표시장치.

A first substrate on which a first non-display region having a display region, a gate pad and a gate output pad, and a second non-display region having a data pad and a data output pad are defined;
A plurality of gate driving IC chips spaced apart from each other and contacting the gate pad and the gate output pad in the first non-display area on the first substrate;
A data driving IC chip disposed in contact with the data pad and the data output pad in the second non-display region on the first substrate and spaced apart from each other;
A second substrate facing the first substrate;
And a liquid crystal layer interposed between the first and second substrates
Wherein the gate and data pad patterned through the exposure mask as claimed in any one of claims 1 to 4 and the gate and data input pad have a minimum width and a minimum spacing of 2 [ And a hole of the COG type liquid crystal display device.

제 5 항에 있어서,
상기 제 1 기판의 표시영역에는 상기 게이트 패드와 연결된 게이트 배선과, 상기 데이터 패드와 연결된 데이터 배선과, 상기 게이트 및 데이터 배선과 연결된 박막트랜지스터와, 상기 박막트랜지스터와 연결된 화소전극이 구성되며,
상기 제 2 기판에는 상기 표시영역에 대응하여 컬러필터층과 공통전극이 구성된 COG 타입 액정표시장치.
6. The method of claim 5,
A gate line connected to the gate pad, a data line connected to the data pad, a thin film transistor connected to the gate and the data line, and a pixel electrode connected to the thin film transistor are formed in a display region of the first substrate,
And the second substrate has a color filter layer and a common electrode corresponding to the display region.
제 5 항에 있어서,
상기 다수의 홀의 각각에서, 상기 요철 측단의 상기 요철부에 대응하는 홀 측면은 제 1 기울기를 가지며, 상기 직선 측단에 대응하는 홀 측면은 상기 제 1 기울기 보다 완만한 제 2 기울기를 갖는 COG 타입 액정표시장치.

6. The method of claim 5,
The hole side surface corresponding to the convexo-concave portion of the concave-convex portion has a first inclination and the hole side surface corresponding to the straight line side has a second inclination that is gentler than the first inclination, in each of the plurality of holes, Display device.

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Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3871724B2 (en) * 1995-07-11 2007-01-24 株式会社 日立ディスプレイズ Liquid crystal display
KR20080032290A (en) * 2006-10-09 2008-04-15 엘지.필립스 엘시디 주식회사 Exposure mask
KR101264723B1 (en) * 2007-10-29 2013-05-15 엘지디스플레이 주식회사 System for Exposure, Method for Forming Pattern, Method for Channel, Method for Hole, Liquid Crystal Display Device and Method for Manufacturing The Same

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007072452A (en) * 2005-08-12 2007-03-22 Semiconductor Energy Lab Co Ltd Light exposure mask and method for manufacturing semiconductor device using the same

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