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KR101582670B1 - Evaporation-rate monitoring module for vacuum effusion cell - Google Patents

Evaporation-rate monitoring module for vacuum effusion cell Download PDF

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Publication number
KR101582670B1
KR101582670B1 KR1020140193504A KR20140193504A KR101582670B1 KR 101582670 B1 KR101582670 B1 KR 101582670B1 KR 1020140193504 A KR1020140193504 A KR 1020140193504A KR 20140193504 A KR20140193504 A KR 20140193504A KR 101582670 B1 KR101582670 B1 KR 101582670B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
rate monitoring
monitoring module
thin film
evaporation source
vacuum evaporation
Prior art date
Application number
KR1020140193504A
Other languages
Korean (ko)
Inventor
황도원
김동우
Original Assignee
(주)알파플러스
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by (주)알파플러스 filed Critical (주)알파플러스
Priority to KR1020140193504A priority Critical patent/KR101582670B1/en
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Publication of KR101582670B1 publication Critical patent/KR101582670B1/en

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    • H01L21/203—
    • H—ELECTRICITY
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    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L22/00—Testing or measuring during manufacture or treatment; Reliability measurements, i.e. testing of parts without further processing to modify the parts as such; Structural arrangements therefor
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  • General Physics & Mathematics (AREA)
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Abstract

The present invention is to provide an evaporation-rate monitoring module for a vacuum effusion cell, which can reduce the amount of a material for forming a thin film reaching a sensor. To achieve the purpose, the evaporation-rate monitoring module for a vacuum effusion cell, which has a material for forming a thin film evaporated in multiple directions, includes a reflecting plate which is placed to face some of the directions and holds part of the material for forming a thin film, which is evaporated in the some directions, and reflects the remaining part of the material at the same time; and a sensor which measures or monitors an evaporation rate of the remaining part of the material reflected on the reflecting plate.

Description

진공 증발원용 증발율 모니터링 모듈{Evaporation-rate monitoring module for vacuum effusion cell}[0001] Evaporation rate monitoring module for vacuum evaporation source [0002]

본 발명은 기판 상에 박막을 형성하기 위해 사용되는 진공 증발원의 증발율 모니터링 모듈에 관한 것이다.The present invention relates to a vapor deposition rate monitoring module of a vacuum evaporation source used for forming a thin film on a substrate.

일반적으로, 진공 증발원은 고진공의 챔버 내에 배치된 기판상에 소정의 박막을 형성하기 위하여 박막 형성용 물질을 가열하여 증발시키는 것으로, 반도체 제조 공정에서 웨이퍼 표면에 특정 물질로 이루어진 박막을 형성하거나, 대형 평판 디스플레이 장치의 제조 공정에서 유리 기판 등의 표면에 원하는 물질의 박막을 형성하는 데 사용되고 있다.In general, a vacuum evaporation source is a device for heating and evaporating a thin film forming material to form a predetermined thin film on a substrate disposed in a chamber of high vacuum, thereby forming a thin film made of a specific material on the wafer surface in a semiconductor manufacturing process, And is used to form a thin film of a desired substance on the surface of a glass substrate or the like in a manufacturing process of a flat panel display device.

특히, 진공 증발원으로부터 증발되어 나오는 박막 형성용 물질의 증발율을 모니터링 하기 위해, 진공 증발원 근처에는 모니터링 센서가 설치된다.In particular, in order to monitor the evaporation rate of the thin film forming material evaporated from the vacuum evaporation source, a monitoring sensor is installed near the vacuum evaporation source.

도 1은 종래의 진공 증발원에 증발율 모니터링 센서가 구비된 상태를 개략적으로 나타낸 사시도이다.1 is a perspective view schematically showing a state where a conventional evaporation source is provided with an evaporation rate monitoring sensor.

종래의 진공 증발원용 증발율 모니터링 센서(20)는, 도 1에 도시된 바와 같이, 진공 증발원(10)에 이격되어 설치되되 박막 형성용 물질(11)이 나오는 복수의 방향 중 일부 방향에 설치되어, 진공 증발원(10)의 일부 방향에서 직선으로 날아오는 박막 형성용 물질의 양을 측정한다.1, the conventional evaporation rate monitoring sensor 20 for a vacuum evaporation source is installed in a part of a plurality of directions which are spaced apart from a vacuum evaporation source 10 and in which a thin film forming material 11 is emitted, The amount of the thin film forming material that flows straight from a part of the vacuum evaporation source 10 is measured.

하지만, 종래의 진공 증발원용 증발율 모니터링 센서(20)는, 진공 증발원(10)의 일부 방향에서 직선으로 날아오는 박막 형성용 물질(11)이 이에 직접적으로 증착되므로, 이에 증착되는 두께의 한계로 그 수명이 짧아지는 문제가 있고, 특히 증발율이 높은 진공 증발원에 사용될 경우에는 박막 형성용 물질의 양을 측정하기가 곤란한 문제가 있다.However, in the conventional evaporation rate monitoring sensor 20 for a vacuum evaporation source, since the thin film forming material 11, which flows straight from a part of the vacuum evaporation source 10, is directly deposited thereon, There is a problem that the lifetime is shortened. Especially when it is used for a vacuum evaporation source having a high evaporation rate, it is difficult to measure the amount of the thin film forming substance.

본 발명의 기술적 과제는, 센서에 도달되는 박막 형성용 물질의 양을 줄일 수 있는 진공 증발원용 증발율 모니터링 모듈을 제공하는 것이다.An object of the present invention is to provide a vacuum evaporation source evaporation rate monitoring module capable of reducing the amount of a thin film forming material reaching a sensor.

상기 목적을 달성하기 위하여, 본 발명의 실시예에 따른 진공 증발원용 증발율 모니터링 모듈은, 복수의 방향으로 박막 형성용 물질이 증발되는 진공 증발원용 증발율 모니터링 모듈로, 상기 복수의 방향 중 일부 방향에 마주하여 놓여 상기 일부 방향으로 증발되는 박막 형성용 물질 중 일부를 보유함과 동시에 나머지를 반사시키는 반사판; 및 상기 반사판에서 반사되는 상기 나머지의 박막 형성용 물질의 증발율을 측정하거나 감시하는 센서를 포함한다.In order to achieve the above object, the evaporation rate monitoring module for a vacuum evaporation source according to an embodiment of the present invention is a evaporation rate monitoring module for a vacuum evaporation source in which materials for forming a thin film are evaporated in a plurality of directions, A reflective plate for holding a part of the thin film forming material which is evaporated in the partial direction and reflects the rest; And a sensor for measuring or monitoring the evaporation rate of the remaining thin film forming material reflected by the reflection plate.

본 발명의 실시예에 따른 진공 증발원용 증발율 모니터링 모듈은, 상기 반사판과 상기 센서를 지지하는 모듈 몸체를 더 포함할 수 있다.The evaporation rate monitoring module for a vacuum evaporation source according to an embodiment of the present invention may further include a module body for supporting the reflection plate and the sensor.

상기 반사판은 힌지축에 의해 상기 모듈 몸체에 회동 가능하게 구비될 수 있다.The reflector may be rotatably mounted on the module body by a hinge shaft.

상기 반사판과 상기 힌지축 사이에 고정용 지그가 더 구비될 수 있고, 이 경우 상기 고정용 지그의 일 부분은 상기 반사판을 고정할 수 있고, 상기 고정용 지그의 타 부분은 상기 힌지축에 의해 상기 모듈 몸체에 회동 가능하게 구비될 수 있다.A fixing jig may be further provided between the reflection plate and the hinge shaft. In this case, a part of the fixing jig may fix the reflection plate, and the other part of the fixing jig may be fixed by the hinge shaft And may be rotatably provided on the module body.

상기 모듈 몸체는 내부 공간을 가질 수 있으며, 상기 반사판과 상기 센서는 상기 내부 공간에 내장될 수 있다.The module body may have an internal space, and the reflection plate and the sensor may be embedded in the internal space.

상기 일부 방향으로 증발되는 박막 형성용 물질을 상기 반사판으로 안내하기 위해 상기 모듈 몸체에 안내관이 연통될 수 있다.The guide tube may communicate with the module body to guide the thin film forming material evaporated in the partial direction to the reflector.

상기 반사판에는 상기 반사판의 온도를 조절하는 히터가 구비될 수 있다.The reflector may be provided with a heater for controlling the temperature of the reflector.

이상에서와 같이, 본 발명의 실시예에 따른 진공 증발원용 증발율 모니터링 모듈은 다음과 같은 효과를 가질 수 있다.As described above, the evaporation rate monitoring module for a vacuum evaporation source according to an embodiment of the present invention can have the following effects.

본 발명의 실시예에 의하면, 일부 방향으로 증발되는 박막 형성용 물질 중 일부가 반사판에 증착되고 나머지만이 반사판에서 반사되어 센서에 도달하게 되는 기술구성을 제공하므로, 센서에 도달되는 박막 형성용 물질의 양이 줄어 들어 센서의 수명 등을 증대시킬 수 있다.According to the embodiment of the present invention, since some of the thin film forming materials evaporated in some directions are deposited on the reflector and only the remainder is reflected on the reflector to reach the sensor, the thin film forming material The life of the sensor can be increased.

도 1은 종래의 진공 증발원에 증발율 모니터링 센서가 구비된 상태를 개략적으로 나타낸 사시도이다.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 진공 증발원용 증발율 모니터링 모듈이 진공 증발원에 이격되어 설치된 상태를 개략적으로 나타낸 사시도이다.
도 3은 도 2의 진공 증발원용 증발율 모니터링 모듈을 나타낸 단면도이다.
도 4는 본 발명의 다른 실시예에 따른 진공 증발원용 증발율 모니터링 모듈을 나타낸 단면도이다.1 is a perspective view schematically showing a state where a conventional evaporation source is provided with an evaporation rate monitoring sensor.
FIG. 2 is a perspective view schematically showing a state in which the evaporation rate monitoring module for a vacuum evaporation source according to an embodiment of the present invention is installed apart from a vacuum evaporation source.
3 is a cross-sectional view of the evaporation rate monitoring module for the vacuum evaporation source of FIG.
4 is a cross-sectional view illustrating a vaporization rate monitoring module for a vacuum evaporation source according to another embodiment of the present invention.

이하, 첨부한 도면을 참고로 하여 본 발명의 실시예에 대하여 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 상세히 설명한다. 그러나 본 발명은 여러 가지 상이한 형태로 구현될 수 있으며 여기에서 설명하는 실시예에 한정되지 않는다.Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings, which will be readily apparent to those skilled in the art to which the present invention pertains. The present invention may, however, be embodied in many different forms and should not be construed as limited to the embodiments set forth herein.

도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 진공 증발원용 증발율 모니터링 모듈이 진공 증발원에 이격되어 설치된 상태를 개략적으로 나타낸 사시도이고, 도 3은 도 2의 진공 증발원용 증발율 모니터링 모듈을 나타낸 단면도이다.FIG. 2 is a perspective view schematically showing a state in which the evaporation rate monitoring module for a vacuum evaporation source according to an embodiment of the present invention is installed apart from a vacuum evaporation source, and FIG. 3 is a sectional view showing a evaporation rate monitoring module for a vacuum evaporation source in FIG.

본 발명의 일 실시예에 따른 진공 증발원용 증발율 모니터링 모듈(100)은, 도 2 및 도 3에 도시된 바와 같이, 복수의 방향으로 박막 형성용 물질(11)이 증발되는 진공 증발원용 증발율 모니터링 모듈(100)로, 반사판(110)과 센서(120)를 포함한다. 이와 더불어, 도 2 및 도 3에 도시된 모듈 몸체(130)를 더 포함할 수 있다. 이하, 각 구성요소에 대해 상세히 설명한다.2 and 3, the evaporation rate monitoring module 100 for a vacuum evaporation source according to an embodiment of the present invention includes a vacuum evaporation source evaporation rate monitoring module (100), which includes a reflection plate (110) and a sensor (120). In addition, it may further include the module body 130 shown in FIGS. Hereinafter, each component will be described in detail.

반사판(110)은, 도 2 및 도 3에 도시된 바와 같이, 진공 증발원(10)에서 증발되는 박막 형성용 물질의 복수의 분출 방향 중 일부 분출 방향에 마주하여 놓여 그 일부 분출 방향으로 증발되는 박막 형성용 물질(11) 중 일부를 가짐과 동시에 나머지를 반사시키는 역할을 한다. 예를 들어, 박막 형성용 물질(11)의 일부가 반사판(110)에 증착되는 방식으로 반사판(110)은 박막 형성용 물질(11)의 일부를 보유하게 된다.As shown in FIGS. 2 and 3, the reflection plate 110 is a thin film which is placed in a direction of part of the plurality of ejection directions of the thin film forming material evaporated in the vacuum evaporation source 10, Forming material 11 and at the same time reflects the remainder. For example, the reflection plate 110 holds a part of the thin film forming material 11 in such a manner that a part of the thin film forming material 11 is deposited on the reflection plate 110.

따라서, 반사판(110)은 일부 분출 방향으로 증발되는 박막 형성용 물질(11) 중 90 내지 95% 정도를 이에 증착시키고 나머지만을 반사시켜 센서(120)로 보낼 수 있으므로, 센서(120)에 도달하는 박막 형성용 물질의 양은 대략 1/10 내지 1/20 정도로 현저하게 낮출 수 있다. 이에 따라, 동일한 증착공정 조건에서 상대적으로 센서(120)의 수명을 대략 10배에서 20배 정도 높일 수 있기에 높은 증발율을 가지는 진공 증발원에도 적용할 수 있고, 또한 동일한 박막 형성용 물질이 반사판(110)에 증착되면서 반사되기에 항상 동일한 조건이 조성되어 반사율 신뢰도 또한 높을 수 있다.Therefore, the reflection plate 110 can deposit about 90 to 95% of the thin film forming material 11 evaporated in a part of the ejection direction, and can reflect only the remaining material to the sensor 120, The amount of the thin film forming material can be remarkably lowered to about 1/10 to 1/20. Accordingly, since the lifetime of the sensor 120 can be relatively increased by about 10 to 20 times under the same deposition process conditions, the same can be applied to a vacuum evaporation source having a high evaporation rate, The same conditions are always satisfied, and the reflectance reliability can also be high.

나아가, 도 2 및 도 3에 도시된 바와 같이, 모듈 몸체(130)가 더 포함될 경우, 반사판(110)은 힌지축(140)에 의해 모듈 몸체(130)에 회전 가능하게 구비될 수 있다. 보다 구체적으로, 반사판(110)이 고정용 지그(150)에 고정될 경우, 고정용 지그(150)가 힌지축(140)에 의해 상기 모듈 몸체(130)에 회동 가능하게 구비되는 형태로 반사판(110)이 회동되는 구조를 가질 수 있다. 따라서, 반사판(110)이 회전되는 기술구성을 가지므로, 박막 형성용 물질의 입사각과 센서(120)로의 반사각을 정확히 조절할 수 있다.2 and 3, when the module body 130 is further included, the reflection plate 110 may be rotatably mounted on the module body 130 by the hinge shaft 140. [ More specifically, when the reflection plate 110 is fixed to the fixing jig 150, the fixing jig 150 is rotatably mounted on the module body 130 by the hinge shaft 140, 110 may be rotated. Accordingly, since the reflection plate 110 is rotated, the incident angle of the thin film forming material and the reflection angle to the sensor 120 can be accurately controlled.

센서(120)는 반사판(110)에서 반사되는 나머지의 박막 형성용 물질의 증발율을 측정하거나 감시하는 역할을 한다. 예를 들어, 센서(120)는, 증발율을 측정하여 기판(미도시)이나 웨이퍼(미도시)에 증착되는 박막 형성용 물질의 두께를 검출하기 위한 박막 두께 측정 센서일 수도 있고, 증발율을 감시하기 위한 증발율 모니터링 센서일 수도 있다.The sensor 120 measures or monitors the evaporation rate of the remaining thin film forming material reflected by the reflection plate 110. For example, the sensor 120 may be a thin film thickness measuring sensor for measuring the evaporation rate and detecting the thickness of the thin film forming material deposited on a substrate (not shown) or a wafer (not shown) The evaporation rate monitoring sensor may be used.

나아가, 도 2 및 도 3에 도시된 바와 같이, 모듈 몸체(130)가 더 포함될 경우, 센서(120)는 모듈 몸체(130)에 설치되되 반사판(110)에서 반사되는 방향에 설치될 수 있다.2 and 3, when the module body 130 is further included, the sensor 120 may be installed on the module body 130 and may be installed in a direction that is reflected by the reflection plate 110.

모듈 몸체(130)는 반사판(110)과 센서(120)를 지지하는 역할을 한다. 따라서, 반사판(110)과 센서(120)의 간격이 모듈 몸체(130)를 통해 항상 유지될 수 있어 본원의 진공 증발원용 증발율 모니터링 모듈(100)의 신뢰도를 높일 수 있다.The module body 130 serves to support the reflection plate 110 and the sensor 120. Therefore, the interval between the reflection plate 110 and the sensor 120 can be maintained at all times through the module body 130, thereby increasing the reliability of the evaporation rate monitoring module 100 for the vacuum evaporation source of the present invention.

나아가, 모듈 몸체(130)는, 도 2 및 도 3에 도시된 바와 같이 내부 공간(131)을 가질 수 있다. 특히, 이 내부 공간(131)에 반사판(110)과 센서(120)가 수용될 수 있다. 따라서, 측정 또는 감시 대상이 아닌 주변의 박막 형성용 물질이 반사판(110) 또는 센서(120)로 유입되는 것을 방지하여 본원의 진공 증발원용 증발율 모니터링 모듈(100)의 신뢰도를 더욱 높일 수 있다.Further, the module body 130 may have an internal space 131, as shown in FIGS. 2 and 3. Particularly, the reflection plate 110 and the sensor 120 can be accommodated in the inner space 131. Accordingly, it is possible to further prevent the evaporation rate monitoring module 100 of the present invention from increasing reliability, by preventing the surrounding thin film forming material not being measured or monitored from flowing into the reflection plate 110 or the sensor 120.

또한, 도 2 및 도 3에 도시된 바와 같이, 일부 방향으로 증발되는 박막 형성용 물질(11)을 모듈 몸체(130)의 내부 공간에 있는 반사판(110)으로 안내하기 위해 모듈 몸체(130)에는 안내관(160)이 연통될 수 있다. 따라서 측정 또는 검사 대상이 아닌 주변의 박막 형성용 물질이 안내관(160)을 통해 더욱 걸러져 반사판(110)으로 안내되므로 본원의 진공 증발원용 증발율 모니터링 모듈(100)의 신뢰도를 더욱 더 높일 수 있다.2 and 3, in order to guide the thin film forming material 11 evaporated in some directions to the reflection plate 110 in the inner space of the module body 130, The guide tube 160 can be communicated. Therefore, the material for forming the thin film, which is not to be measured or inspected, is further filtered through the guide pipe 160 and guided to the reflection plate 110, so that the reliability of the evaporation rate monitoring module 100 of the present invention can be further increased.

이하, 도 4를 참조하여, 본 발명의 다른 실시예에 따른 진공 증발원용 증발율 모니터링 모듈에 대해 설명한다.Hereinafter, the evaporation rate monitoring module for a vacuum evaporation source according to another embodiment of the present invention will be described with reference to FIG.

도 4는 본 발명의 다른 실시예에 따른 진공 증발원용 증발율 모니터링 모듈을 나타낸 단면도이다.4 is a cross-sectional view illustrating a vaporization rate monitoring module for a vacuum evaporation source according to another embodiment of the present invention.

본 발명의 다른 실시예에 따른 진공 증발원용 증발율 모니터링 모듈은, 도 4에 도시된 바와 같이, 반사판(110)에 히터(170)가 더 구비되는 것을 제외하고는 상술한 본 발명의 일 실시예와 동일하므로 이하에서는 히터(170) 위주로 설명한다.4, the evaporation rate monitoring module for a vacuum evaporation source according to another embodiment of the present invention may include a heater 170 in addition to the embodiment of the present invention described above except that the reflector 110 is further provided with a heater 170 The heater 170 will be described below.

히터(170)는 반사판(110)에 구비되어 반사판(110)의 온도를 조절한다. 예를 들어, 히터(170)는 반사판(110)의 반사면이 아닌 반사판(110)의 배면 또는 가장자리에 구비되어 히터(170)에 의한 반사면의 장애를 방지할 수 있다.The heater 170 is disposed on the reflection plate 110 to adjust the temperature of the reflection plate 110. For example, the heater 170 may be provided on the rear surface or the edge of the reflection plate 110, not on the reflection surface of the reflection plate 110, to prevent the reflection surface from being obstructed by the heater 170.

따라서, 반사판(110)의 배면 또는 가장자리에 히터(170)를 적용하여 일정한 온도로 가열하게 되면, 박막 형성용 물질의 반사율을 조절할 수 있다. 동일한 박막 형성용 물질이 반사판(110)으로 날아오고 반사판(110)의 온도가 일정하면, 동일한 박막 형성용 물질로 코팅 조성된 반사판(110)이기에 반사율이 일정하나, 반사판(110)의 온도가 달라지면 반사율이 달라진다. 즉 온도가 높아지면 반사율이 올라가고, 온도가 낮아지면 반사율이 낮아진다. 그래서 온도에 따라 반사판(110)에 부착되는 박막 형성용 물질의 부착률이 달라지고 그에 따른 반사율이 달라지는데, 온도를 조절하여 증착공정에 적절한 반사율을 선택하여 사용할 수 있다.Accordingly, when the heater 170 is applied to the back surface or the edge of the reflection plate 110 and heated to a predetermined temperature, the reflectance of the thin film forming material can be controlled. When the same material for forming a thin film is blown to the reflector 110 and the temperature of the reflector 110 is constant, the reflector 110 is coated with the same material for forming a thin film and has a constant reflectance. When the temperature of the reflector 110 is changed Reflectance is changed. That is, the higher the temperature, the higher the reflectance, and the lower the temperature, the lower the reflectance. Therefore, depending on the temperature, the deposition rate of the thin film forming material attached to the reflection plate 110 is changed and the reflectance is changed, and the reflectance suitable for the deposition process can be selected by adjusting the temperature.

이상에서와 같이, 본 발명의 실시예들에 따른 진공 증발원용 증발율 모니터링 모듈(100)은 다음과 같은 효과를 가질 수 있다.As described above, the evaporation rate monitoring module 100 for a vacuum evaporation source according to the embodiments of the present invention can have the following effects.

본 발명의 실시예들에 의하면, 일부 방향으로 증발되는 박막 형성용 물질(11) 중 일부가 반사판(110)에 증착되고 나머지만이 반사판(110)에서 반사되어 센서(120)에 도달하게 되는 기술구성을 제공하므로, 센서(120)에 도달되는 박막 형성용 물질의 양이 줄어 들어 센서(120)의 수명 등을 증대시킬 수 있다.According to the embodiments of the present invention, a part of the thin film forming material 11 evaporated in some directions is deposited on the reflector 110, and only the remainder is reflected on the reflector 110 to reach the sensor 120 The amount of the thin film forming material reaching the sensor 120 can be reduced and the lifetime of the sensor 120 and the like can be increased.

이상에서 본 발명의 바람직한 실시예에 대하여 상세하게 설명하였지만 본 발명의 권리범위는 이에 한정되는 것은 아니고 다음의 청구범위에서 정의하고 있는 본 발명의 기본 개념을 이용한 당업자의 여러 변형 및 개량 형태 또한 본 발명의 권리범위에 속하는 것이다.While the present invention has been particularly shown and described with reference to exemplary embodiments thereof, it is to be understood that the invention is not limited to the disclosed exemplary embodiments, Of the right.

10: 진공 증발원 100: 증발율 모니터링 모듈
110: 반사판 120: 센서
130: 모듈 몸체 131: 내부 공간
140: 힌지축 150: 고정용 지그
160: 안내관 170: 히터10: Vacuum evaporator 100: Evaporation rate monitoring module
110: reflector 120: sensor
130: Module body 131: Interior space
140: Hinge shaft 150: Fixing jig
160: Guide tube 170: Heater

Claims (7)

복수의 방향으로 박막 형성용 물질이 증발되는 진공 증발원용 증발율 모니터링 모듈로,
상기 복수의 방향 중 일부 방향에 마주하여 놓여 상기 일부 방향으로 증발되는 박막 형성용 물질 중 일부를 보유함과 동시에 나머지를 반사시키는 반사판; 및
상기 반사판에서 반사되는 상기 나머지의 박막 형성용 물질의 증발율을 측정하거나 감시하는 센서
를 포함하는 진공 증발원용 증발율 모니터링 모듈.The evaporation rate monitoring module for a vacuum evaporation source in which a thin film forming material is evaporated in a plurality of directions,
A reflection plate for holding a part of the thin film forming material which is opposed to some direction of the plurality of directions and evaporated in the partial direction, and reflects the rest; And
A sensor for measuring or monitoring the evaporation rate of the remaining thin film forming material reflected from the reflection plate
A vaporization rate monitoring module for the vacuum evaporation source. 제1항에서,
상기 진공 증발원용 증발율 모니터링 모듈은,
상기 반사판과 상기 센서를 지지하는 모듈 몸체를 더 포함하는
진공 증발원용 증발율 모니터링 모듈.The method of claim 1,
The evaporation rate monitoring module for a vacuum evaporation source,
Further comprising a module body supporting the reflector and the sensor
Evaporation rate monitoring module for vacuum evaporation source. 제2항에서,
상기 반사판은 힌지축에 의해 상기 모듈 몸체에 회동 가능하게 구비되는
진공 증발원용 증발율 모니터링 모듈.3. The method of claim 2,
The reflector is rotatably mounted on the module body by a hinge shaft
Evaporation rate monitoring module for vacuum evaporation source. 제3항에서,
상기 반사판과 상기 힌지축 사이에 고정용 지그가 더 구비되고,
상기 고정용 지그의 일 부분은 상기 반사판을 고정하고, 상기 고정용 지그의 타 부분은 상기 힌지축에 의해 상기 모듈 몸체에 회동 가능하게 구비되는
진공 증발원용 증발율 모니터링 모듈.4. The method of claim 3,
A fixing jig is further provided between the reflection plate and the hinge shaft,
Wherein a part of the fixing jig fixes the reflection plate and the other part of the fixing jig is rotatably provided on the module body by the hinge shaft
Evaporation rate monitoring module for vacuum evaporation source. 제2항에서,
상기 모듈 몸체는 내부 공간을 가지며,
상기 반사판과 상기 센서는 상기 내부 공간에 내장되는
진공 증발원용 증발율 모니터링 모듈.3. The method of claim 2,
The module body has an interior space,
Wherein the reflection plate and the sensor are installed in the inner space
Evaporation rate monitoring module for vacuum evaporation source. 제5항에서,
상기 일부 방향으로 증발되는 박막 형성용 물질을 상기 반사판으로 안내하기 위해 상기 모듈 몸체에 안내관이 연통되는
진공 증발원용 증발율 모니터링 모듈.The method of claim 5,
And the guide tube communicates with the module body to guide the thin film forming material evaporated in the partial direction to the reflector
Evaporation rate monitoring module for vacuum evaporation source. 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에서,
상기 반사판에는 상기 반사판의 온도를 조절하는 히터가 구비되는
진공 증발원용 증발율 모니터링 모듈.

7. The method according to any one of claims 1 to 6,
The reflector is provided with a heater for controlling the temperature of the reflector
Evaporation rate monitoring module for vacuum evaporation source.

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