KR101577221B1

KR101577221B1 - Method of Manufacturing Shadow Mask for Display Device

Info

Publication number: KR101577221B1
Application number: KR1020080132487A
Authority: KR
Inventors: 권오성; 유수민
Original assignee: 엘지디스플레이 주식회사
Priority date: 2008-12-23
Filing date: 2008-12-23
Publication date: 2015-12-14
Anticipated expiration: 2028-12-23
Also published as: KR20100073734A

Abstract

본 발명은 발광층의 형성시 이용되는 새도우 마스크의 형성시 그 보정을 통해 마스크 폐기 비용을 감소시키고 마스크 사용의 효율을 높이는 표시장치용 새도우 마스크의 제조 방법에 관한 것으로, 중앙에 액티브 영역과 그 외곽에 외곽 영역을 갖는 마스크 원판을 준비하는 단계와, 상기 마스크 원판의 외곽 영역에 복수개의 홀을 형성하는 단계와, 상기 마스크 원판을 타겟 플레이트 상에 장착시키며, 상기 홀이 타겟 플레이트에 구비된 타겟의 위치에 대응되도록 상기 마스크 원판을 인장시키는 단계와, 상기 마스크 원판을 인장 후, 상기 타겟과 인장된 마스크 원판의 홀의 정렬 정도를 확인하는 단계와, 상기 타겟과 마스크 원판의 홀의 오정렬이 발생된 부분에 대응하여, 상기 마스크 원판 상에 더미 패턴을 형성하는 단계 및 상기 마스크 원판 상의 더미 패턴의 수축 현상에 의해 상기 오정렬된 부분의 타겟과 홀의 오정렬을 보상하여 새도우 마스크를 형성하는 단계를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 한다. The present invention relates to a method of manufacturing a shadow mask for a display device which reduces mask disposal cost and improves efficiency of mask use by correcting shadow mask used for forming a light emitting layer, The method comprising the steps of: preparing a mask original plate having an outer region; forming a plurality of holes in an outer region of the mask original plate; mounting the mask original plate on a target plate, The method comprising the steps of: tensioning the mask master plate so as to correspond to a plurality of holes of the master mask plate; tensioning the mask master plate to check the degree of alignment of the holes of the master mask plate with the target; A step of forming a dummy pattern on the mask original plate, and a step And compensating misalignment between the misaligned portion of the misaligned portion and the misalignment of the misaligned portion by shrinking a micro pattern to thereby form a shadow mask.

새도우 마스크, 보정, 인장(tension), 타겟(target), 홀 Shadow mask, correction, tension, target, hole

Description

[0001] The present invention relates to a manufacturing method of a shadow mask,

본 발명은 유기 발광 표시 장치에 관한 것으로 특히, 발광층의 형성시 이용되는 새도우 마스크의 형성시 그 보정을 통해 마스크 폐기 비용을 감소시키고 마스크 사용의 효율을 높이는 표시장치용 새도우 마스크의 제조 방법에 관한 것이다.The present invention relates to an organic light emitting diode (OLED) display, and more particularly, to a method of manufacturing a shadow mask for a display, which reduces mask disposal cost and improves the efficiency of mask use by correcting the shadow mask used for forming a light emitting layer .

최근, 본격적인 정보화 시대로 접어듦에 따라 전기적 정보신호를 시각적으로 표현하는 디스플레이(display)분야가 급속도로 발전해 왔고, 이에 부응하여 박형화, 경량화, 저소비전력화의 우수한 성능을 지닌 여러 가지 다양한 평판 표시장치(Flat Display Device)가 개발되어 기존의 브라운관(Cathode Ray Tube : CRT)을 빠르게 대체하고 있다.In recent years, as the information age has come to a full-fledged information age, a display field for visually expressing electrical information signals has been rapidly developed. In response to this, various flat panel display devices having excellent performance of thinning, light weight, Flat Display Device) has been developed to replace CRT (Cathode Ray Tube).

이 같은 평판 표시장치의 구체적인 예로는 액정표시장치(Liquid Crystal Display device: LCD), 플라즈마표시장치(Plasma Display Panel device: PDP), 전계방출표시장치(Field Emission Display device: FED), 유기 발광 표시 장치(Organic Light Emitting Device: OLED) 등을 들 수 있다. Specific examples of such flat panel display devices include a liquid crystal display device (LCD), a plasma display panel (PDP), a field emission display (FED) (Organic Light Emitting Device: OLED).

이 중, 별도의 광원을 요구하지 않으며 장치의 컴팩트화 및 선명한 컬러 표시를 위해 유기 발광 표시 장치가 경쟁력 있는 어플리케이션으로 고려되고 있다. Among these, an organic light emitting display device is considered as a competitive application for not requiring a separate light source, compacting the device, and displaying clear color images.

이러한 유기 발광 표시 장치에는, 유기 발광층의 형성이 필수적인데, 종래 그 형성을 위해 새도우 마스크(shadow mask)를 이용한 증착 방법이 이용되었다. In such an organic light emitting display, formation of an organic light emitting layer is indispensable. Conventionally, a deposition method using a shadow mask has been used.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 종래의 새도우 마스크를 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, a conventional shadow mask will be described with reference to the accompanying drawings.

도 1은 종래의 새도우 마스크의 제조 방법을 나타낸 개략도이다.1 is a schematic view showing a conventional method of manufacturing a shadow mask.

도 1과 같이, 그 외곽 영역에 복수개의 홀(22)을 구비한 마스크 원판(20)을 준비하고, 상기 홀(22)들이 대응되는 타겟(11)을 구비한 타겟 플레이트(10)을 안착시켜 상기 홀(22)의 위치가 상기 타겟(11) 지점으로 향하도록 상기 마스크 원판(20)이 늘어나는 인장력을 주어 새도우 마스크를 형성한다.1, a mask base plate 20 having a plurality of holes 22 in its outer region is prepared and a target plate 10 having a target 11 to which the holes 22 correspond is placed The mask blank 20 is stretched so that the position of the hole 22 is directed toward the target 11 to form a shadow mask.

이와 같이 새도우 마스크의 형성시, 상기 인장력 인가 후 정밀도 측정 결과 타겟과 최종 홀과의 위치 차이가 발생하게 되며 해당 마스크 원판을 폐기를 하고, 다시 새도우 마스크를 새로 제작하였었다. 이 경우, 인장력의 인가 후 원 상태로의 복귀가 어려워 보정이 어렵고, 이로 인해 타겟과 구비된 홀의 미스얼라인이 발생한 경우 수율이 떨어지게 되어 이에 대한 개선이 요구되고 있는 실정이다. When the shadow mask is formed, a difference in position between the target and the final hole is generated as a result of the precision measurement after the application of the tensile force, and the mask mask is discarded and the shadow mask is newly fabricated. In this case, since it is difficult to return to the original state after application of the tensile force, it is difficult to correct, and when the misalignment of the holes provided in the target occurs, the yield is lowered, and improvement is required.

상기와 같은 종래의 새도우 마스크의 형성 방법은 다음과 같은 문제점이 있다.The conventional method of forming a shadow mask has the following problems.

새도우 마스크의 형성시, 상기 인장력 인가 후 정밀도 측정 결과 타겟과 최종 홀과의 위치 차이가 발생하게 되면 해당 마스크 원판을 폐기를 하고, 다시 새도우 마스크를 새로 제작한다. 이 경우, 인장력의 인가 후 원 상태로의 복귀가 어려워 보정이 어렵기 때문에 폐기한다. 따라서, 타겟과 구비된 홀의 미스얼라인이 발생한 경우 수율이 떨어지게 되고 이에 대한 개선이 요구되고 있는 실정이다. When the shadow mask is formed, if a positional difference occurs between the target and the final hole after the application of the tensile force, the mask blank is discarded and the shadow mask is again fabricated. In this case, since it is difficult to return to the original state after application of the tensile force, correction is difficult, and therefore, it is discarded. Therefore, when the misalignment of the target and the hole is generated, the yield is lowered and the improvement is required.

이와 같이 종래 새도우 마스크 형성시 타겟과 마스크의 원판의 구비된 홀의 미스얼라인이 발생하는 이유는 장비에서 패턴을 직접 볼 수 없고 마스크 주위의 대표 홀만으로 인장력을 주므로, 마스크의 홀의 제작이 잘못 되었을 경우, 실패확률이 높고 이에 대한 리페어 수행이 불가한 점을 그 원인으로 추론할 수 있다.In the conventional shadow mask formation, misalignment of the holes of the target and mask is caused by the fact that the pattern can not be seen directly in the equipment and the tensile force is exerted only through the representative hole around the mask. Therefore, , It can be inferred that the failure probability is high and the repair can not be performed.

본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위해 안출한 것으로 발광층의 형성시 이용되는 새도우 마스크의 형성시 그 보정을 통해 마스크 폐기 비용을 감소시키고 마스크 사용의 효율을 높이는 표시장치용 새도우 마스크의 제조 방법을 제공하는 데, 그 목적이 있다.It is an object of the present invention to provide a method of manufacturing a shadow mask for a display device which reduces mask disposal cost and improves the efficiency of mask use by correcting the shadow mask used for forming a light emitting layer, The purpose is to provide.

상기와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명의 새도우 마스크의 제조 방법은 중앙에 액티브 영역과 그 외곽에 외곽 영역을 갖는 마스크 원판을 준비하는 단계; 와, 상기 마스크 원판의 외곽 영역에 복수개의 홀을 형성하는 단계;와, 상기 마스크 원판을 타겟 플레이트 상에 장착시키며, 상기 홀이 타겟 플레이트에 구비된 타겟의 위치에 대응되도록 상기 마스크 원판을 인장시키는 단계;와, 상기 마스크 원판을 인장 후, 상기 타겟과 인장된 마스크 원판의 홀의 정렬 정도를 확인하는 단계;와, 상기 타겟과 마스크 원판의 홀의 오정렬이 발생된 부분에 대응하여, 상기 마스크 원판 상에 더미 패턴을 형성하는 단계; 및 상기 마스크 원판 상의 더미 패턴의 수축 현상에 의해 상기 오정렬된 부분의 타겟과 홀의 오정렬을 보상하여 새도우 마스크를 형성하는 단계를 포함하여 이루어지는 것에 그 특징이 있다. According to an aspect of the present invention, there is provided a method of manufacturing a shadow mask, including: preparing a mask master having an active area and an outer area at a center thereof; Forming a plurality of holes in an outer region of the mask plate, mounting the mask plate onto a target plate, and tensioning the mask plate so that the holes correspond to positions of targets provided on the target plate The method of claim 1, further comprising the steps of: after the mask master plate is stretched, confirming the degree of alignment between the target and the holes of the mask master plate being pulled; Forming a dummy pattern; And forming a shadow mask by compensating misalignment between the misaligned portion of the misaligned portion and the misalignment of the misaligned portion by shrinking the dummy pattern on the mask original plate.

상기 더미 패턴은, 상기 타겟의 위치에 비해 상대적으로 인장력이 많이 가해진 부분에 대응하여 형성된다. The dummy pattern is formed corresponding to a portion where a tensile force is applied relatively to the position of the target.

상기 더미 패턴을 형성하는 단계는, 상기 타겟과 마스크 원판의 홀의 오정렬이 발생된 부분에 대응하여 상기 마스크 원판을 슬릿 형상으로 제거하여 형성하여 이루어진다.The forming of the dummy pattern may be performed by removing the mask original plate in a slit shape corresponding to the misalignment of the holes of the target and the mask original plate.

상기 더미 패턴은 직사각형, 삼각형을 포함한 다각형의 형상 중 하나로 형성한다.The dummy pattern is formed in one of a shape of a polygon including a rectangle and a triangle.

상기 더미 패턴은 마스크 원판의 홀을 슬릿 형상으로 제거하여 형성시, 그 폭을 2mm 이하로 하고, 그 길이는 최대 3cm로 하여 형성한다.The dummy pattern is formed by removing the holes of the mask master plate in the form of slits so that the width is 2 mm or less and the length is 3 cm at the maximum.

상기 더미 패턴 형성 후 상기 마스크 원판의 홀과 상기 타겟과의 정렬 정도를 3차원 측정하여 재확인하는 단계를 더 포함한다.Dimensional measurement of the degree of alignment between the hole of the mask blank and the target after the dummy pattern is formed.

그리고, 상기 더미 패턴은 상기 타겟과 마스크 원판의 홀의 오정렬이 발생된 부분에 대응하여 레이저로 조사하여 이루어진다.The dummy pattern is irradiated with a laser beam corresponding to a portion where misalignment of the hole of the mask and the mask is generated.

상기와 같은 본 발명의 새도우 마스크의 제조 방법은 다음과 같은 효과가 있다.The method of manufacturing a shadow mask of the present invention as described above has the following effects.

새도우 마스크 형성을 위한 인장시, 마스크 원판의 홀과 이 홀이 타겟으로 하는 지점과의 오차가 발생되었을 때, 특히 그 오차가 마스크의 원판측에 인장력을 많이 가해 일어날 경우, 인장력이 크게 발생된 부분에 인접하여 슬릿 형상의 더미 패턴을 형성한다. 이 때, 더미 패턴으로 인한 수축 현상이 발생하여 상기 마스크 원판의 원복 현상에 의해 정상 상태로 정렬될 수 있고, 이에 의해 마스크의 폐기량을 현저히 줄일 수 있다. When a difference between the hole of the mask blank and the point at which the hole is to be formed is generated, particularly when the error is caused by a large amount of tensile force on the original plate side of the mask at the time of tensile force for forming the shadow mask, A dummy pattern having a slit shape is formed. At this time, a shrinkage phenomenon due to the dummy pattern occurs, and the mask can be aligned in a steady state by the development of the original plate of the mask plate, whereby the amount of waste of the mask can be remarkably reduced.

이로써, 새도우 마스크의 수율 향상을 꾀할 수 있다.As a result, the yield of the shadow mask can be improved.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 표시 장치용 새도우 마스크의 제조 방법을 상세히 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, a method of manufacturing a shadow mask for a display device of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 2는 본 발명의 새도우 마스크의 제조시 마스크 스트레칭 시스템을 나타낸 사시도이며, 도 3은 본 발명의 새도우 마스크와 상기 마스크 스트레칭 시스템의 관계를 나타낸 개략 단면도이다.FIG. 2 is a perspective view showing a mask stretching system in manufacturing the shadow mask of the present invention, and FIG. 3 is a schematic cross-sectional view showing a relationship between the shadow mask of the present invention and the mask stretching system.

본 발명의 새도우 마스크는 먼저 마스크 원판(100)을 준비시, 인장(tension) 공정을 고려하여 이를 실제 형성하고자 하는 새도우 마스크보다 작은 크기로 상기 마스크 원판(100)을 형성한다.In the shadow mask of the present invention, when preparing the mask master 100, the mask master 100 is formed with a smaller size than the shadow mask to be formed in consideration of a tension process.

도 2 및 도 3과 같이, 본 발명의 새도우 마스크 제조시 이용되는 마스크 스트레칭 시스템은, 마스크 원판(100)이 안착되며, 각각 서로 소정 간격으로 이루어진 복수개의 타겟(미도시)을 구비한 타겟 플레이트 (미도시)가 있고, 상기 마스크 원판(100)의 네변에 상기 마스크 원판(100)을 잡아 외부 방향으로 늘려주는 마스크 그리퍼(mask gripper: 120)와, 상기 마스크 원판(100)에 구비된 홀(160)과 상기 타겟 플레이트의 타겟의 위치를 검출하는 CCD 카메라 (110)를 포함하여 이루어진다.2 and 3, the mask stretching system used in manufacturing the shadow mask of the present invention includes a target plate (not shown) having a plurality of targets (not shown) A mask gripper 120 for grasping the mask blank 100 on the four sides of the mask blank 100 and extending the mask blank 100 in the outward direction and a hole 160 provided in the mask blank 100, And a CCD camera 110 for detecting the position of the target of the target plate.

그리고, 상기 마스크 그리퍼(120)는 스테핑 모터(130)이 구동력에 의해 인장을 실시한다.Then, the mask gripper 120 performs tensile force by the driving force of the stepping motor 130.

이러한 마스크 스트레칭 시스템은 상기 CCD 카메라 (110)로 마스크 홀(160)을 측정하여 상기 타겟까지의 홀 위치를 측정하고, 인장력 계산, 모터 이동을 반복하여 최종 목표치 타겟 좌표까지 인장하게 된다.In this mask stretching system, the mask hole 160 is measured by the CCD camera 110 to measure the hole position to the target, and the tensile force calculation and the motor movement are repeated until the target target coordinate is reached.

여기서, 상기 마스크 원판(100)의 인장시 상기 마스크 그리퍼(120)가 상기 마스크 원판(100)을 물 때 장변/단변의 물림량이 같고, 1차 인장 혹은 어레이 해제를 통해 마스크 원판의 전면을 평활하게 만든 후 인장을 실시하게 된다. Here, when the mask master plate 100 is tensioned, the mask gripper 120 applies the same amount of the long side / short side when the mask master plate 100 is wiped, and the front surface of the mask master plate is smoothed After making, tension is applied.

도 4a 및 도 4b는 본 발명의 새도우 마스크의 제조시 인장 후 타겟에서 벗어난 상태와 이의 보정시를 나타낸 개략 평면도이다.FIGS. 4A and 4B are schematic plan views showing a state in which the shadow mask of the present invention is deviated from the target after tensioning and correction thereof. FIG.

그러나, 상술한 마스크 스트레칭 시스템을 이용하여 상기 마스크 원판(100)의 일차 인장시 정상적인 인장도 발생하겠지만, 경우에 따라 마스크 원판(100)의 홀의 위치가 잘못되었되거나 일부 영역의 인장력 과다가 발생하여 도 4a와 같이 마 스크 원판(100)의 액티브 영역(150)이 두 코너부 양측으로 치우치어 정상적인 사각형이 아닌 평행사변형과 같이 왜곡이 발생하는 경우가 있다. 이러한 경우 본 발명에 있어서는 도 4b와 같이, 인장력 과다가 발생된 부분에 대응되어 상기 마스크 원판(100)에 더미 패턴(140)을 형성하여, 상기 더미 패턴(140)으로 인한 상기 마스크 원판(100)의 수축 현상을 유도하여 상기 액티브 영역(150)의 정상 위치로 복귀를 꾀한다.However, even when the mask original plate 100 is subjected to the first tensile force, a normal tensile force may be generated by using the above-described mask stretching system. However, if the hole of the mask original plate 100 is misaligned or a tensile force is excessively generated The active area 150 of the mask disk 100 is shifted to both sides of the two corners of the mask disk 100 as shown in FIG. 4a, so that distortion may occur as in a parallelogram instead of a normal quadrangle. 4B, a dummy pattern 140 may be formed on the mask disc 100 to correspond to a portion where a tensile force is generated, so that the mask disc 100, due to the dummy pattern 140, Thereby returning to the normal position of the active region 150. [0064]

본 발명의 새도우 마스크의 형성 방법에 대해 구체적으로 살펴보면 다음과 같다.A method of forming the shadow mask of the present invention will be described in detail as follows.

도 5는 본 발명의 새도우 마스크 형성시 일차 인장 후 인장된 새도우 마스크의 각 지점과 타겟과의 관계를 나타낸 3차원 데이터이며, 도 6a는 본 발명의 새도우 마스크 형성시, 일차 인장 후 비정렬 발생시 이의 보정 방법을 나타낸 3차원 데이터이며, 도 6b는 도 6a의 보정 후 새도우 마스크의 각 지점과 타겟과의 관계를 나타낸 3차원 데이터이다.FIG. 5 is a three-dimensional data showing the relationship between each point of a shadow mask stretched after primary tension and the target in the shadow mask formation according to the present invention. FIG. FIG. 6B is three-dimensional data showing the relationship between each point of the shadow mask after correction and the target in FIG. 6A. FIG.

도 5와 같이, 중앙에 액티브 영역(AA: 150)과 그 외곽에 외곽 영역을 갖는 마스크 원판(100)을 준비한다.As shown in Fig. 5, a mask master plate 100 having an active area (AA) 150 and an outer area at its periphery is prepared at the center.

여기에, 인장을 위해 상기 마스크 원판(100)의 외곽 영역에 복수개의 홀(160)을 형성한다.Here, a plurality of holes 160 are formed in the outer peripheral region of the mask master plate 100 for tensile force.

이어, 도 2에 구비된 마스크 스트레칭 시스템 내에 구비된 타겟을 소정 간격 이격하여 구비한 타겟 플레이트에, 상기 마스크 원판(100)을 장착시킨다.Next, the mask master plate 100 is mounted on a target plate provided with a target in a mask stretching system of FIG.

이어, 상기 홀(160)이 타겟 플레이트에 구비된 타겟의 위치에 대응되도록 상 기 마스크 원판(100)을 인장시킨다.Next, the mask blank 100 is pulled so that the hole 160 corresponds to the position of the target on the target plate.

이어, 상기 마스크 원판(100)을 인장 후, 상기 타겟과 인장된 마스크 원판의 홀의 정렬 정도를 확인한다. 이러한 위치 정밀도 측정은 3차원 데이터로 측정하는 것으로, X(가로), Y(세로), Z(높이)에서의 상기 타겟과의 비교를 측정할 수 있다. Next, after the mask master plate 100 is stretched, the degree of alignment of the holes of the mask master plate with the target is checked. This positional accuracy measurement is performed with three-dimensional data, and it is possible to measure the comparison with the target at X (horizontal), Y (vertical), Z (height).

도 5와 같이, 상기 타겟과 마스크 원판(100)의 홀(160)의 오정렬이 발생된 부분을 판단 후, 상기 오정렬이 발생된 부분에 대응하여, 도 6a에 도시된 바와 같이, 상기 마스크 원판(100) 상에, 상기 오정렬이 발생된 부분에 인접한 홀과 상기 액티브 영역 사이에 더미 패턴(140)을 형성한다. 이 경우, 상기 더미 패턴(140)은, 상기 타겟의 위치에 비해 상대적으로 인장력이 많이 가해진 부분에 대응하여 형성된다. As shown in FIG. 5, after determining the misalignment of the target and the hole 160 of the mask master plate 100, the mask original plate 100, a dummy pattern 140 is formed between the active region and the hole adjacent to the misaligned portion. In this case, the dummy pattern 140 is formed corresponding to a portion where a tensile force is applied relatively to the position of the target.

여기서, 상기 더미 패턴의 형상은 마스크 원판(100)을 슬릿 형상으로 제거하여 형성하는 것으로, 형성 부위에서 완전히 상기 마스크 원판(100)을 관통하도록 뚫어 형성하고, 레이저로 조사하여 형성이 가능하다.Here, the shape of the dummy pattern is formed by removing the mask master plate 100 in a slit shape, and it can be formed by drilling through the mask master plate 100 completely at the formation site and irradiating with the laser.

그리고, 상기 더미 패턴(140)의 형상은 도시된 직사각형에 한하지 않고 삼각형 등의 나머지 다각형으로도 형성 가능하다. 이러한 더미 패턴(140)의 형상은 상기 인장력이 과다 발생된 영역의 위치 및 그 정도로 고려하여 정한다.The shape of the dummy pattern 140 is not limited to the rectangle shown in the drawing, but may be formed of other polygons such as a triangle. The shape of the dummy pattern 140 is determined in consideration of the position of the region where the tensile force is excessively generated and the degree of the region.

그러나, 상기 더미 패턴은 마스크 원판의 홀을 슬릿 형상으로 제거하여 형성시, 상기 마스크 원판(100)이 울어버리는 것을 방지하기 위해 그 폭을 2mm 이하로 하고, 그 길이는 최대 3cm로 하여 형성한다.However, the dummy pattern is formed with a width of 2 mm or less and a length of 3 cm at the maximum in order to prevent the mask original plate 100 from crying when the hole of the mask original plate is removed in a slit shape.

여기서, 상기 마스크 원판(100)의 인장 후에는 일차적으로 상기 마스크 원판(100)을 마스크 프레임(mask frame)에 용접을 시켜놓은 상태로, 더미 패턴(140)과 같이 슬릿 형성시 해당 부위의 인장력이 약해져 중심쪽으로 상기 마스크의 원판(100)이 이동하려는 성질을 갖는다.Here, after the mask blank 100 is stretched, the mask blank 100 is first welded to a mask frame, and the tensile force of the mask blank 100 at the time of slit formation, such as the dummy pattern 140, So that the disc 100 of the mask moves toward the center.

도 6b와 같이, 상기 마스크 원판(100) 상의 더미 패턴(140)의 수축 현상에 의해 상기 오정렬된 부분의 타겟과 홀(160)의 오정렬을 보상하여, 상기 홀(160)과 타겟이 일치하는 새도우 마스크를 형성한다. 6B, the misalignment of the misaligned portion of the target and the hole 160 is compensated for by the shrinkage of the dummy pattern 140 on the mask blank 100, so that the shadow of the hole 160, Thereby forming a mask.

상기 더미 패턴 형성 후 상기 마스크 원판(100)의 홀(160)과 상기 타겟과의 정렬 정도를 3차원 측정하여 재확인하는 과정을 거쳐 타겟과 마스크 원판(100)의 홀이 정상적으로 얼라인 되었는지를 확인하고, 그 정도에 따라 추가적인 인장을 가하거나 혹은 별도의 더미 패턴의 형성도 가능할 것이다. After the formation of the dummy pattern, the degree of alignment between the hole 160 of the mask disk 100 and the target is measured and checked again to check whether the holes of the target and mask disk 100 are properly aligned , Additional tensile may be applied depending on the degree, or a separate dummy pattern may be formed.

한편, 상술한 실시예에서는 상기 더미 패턴(140)이 슬릿 형상으로 마스크 원판의 소정 부분을 제거하여 형성하였으나, 경우에 따라 해당 부위에 금속층이나 추가적인 물질층을 더 형성하여 이에 의해 응축이나 신장에 의한 효과로 인한 보정을 고려해볼 수도 있을 것이다.Meanwhile, although the dummy pattern 140 is formed by removing a predetermined portion of the mask master plate in the form of a slit, a metal layer or an additional material layer may be formed at a corresponding portion of the dummy pattern 140, You might want to consider the correction due to the effect.

또한, 이와 같이 형성된 새도우 마스크를 이용하여, 유기 발광 표시 소자의 발광층 형성과 같이 기상화에 의한 진공 증착 공정을 진행할 수 있을 것으로, 보정에 의해 새도우 마스크의 전반적인 수율을 향상시켜 유기 발광 표시 소자와 같은 표시 장치 형성시 공정시의 비용을 상당 부분 감소시킬 수 있을 것이다.In addition, by using the shadow mask thus formed, the vacuum deposition process by vaporization like the formation of the light emitting layer of the organic light emitting display device can be performed, and the overall yield of the shadow mask can be improved by the correction, The cost of the process at the time of forming the display device can be reduced considerably.

한편, 이상에서 설명한 본 발명은 상술한 실시예 및 첨부된 도면에 한정되는 것이 아니고, 본 발명의 기술적 사상을 벗어나지 않는 범위내에서 여러 가지 치환, 변형 및 변경이 가능하다는 것이 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 있어 명백할 것이다.While the present invention has been described in connection with what is presently considered to be the most practical and preferred embodiment, it is to be understood that the invention is not limited to the disclosed embodiments, but, on the contrary, is intended to cover various modifications and equivalent arrangements included within the spirit and scope of the appended claims. Will be apparent to those of ordinary skill in the art.

도 1은 종래의 새도우 마스크의 제조 방법을 나타낸 개략도1 is a schematic view showing a conventional method of manufacturing a shadow mask

도 2는 본 발명의 새도우 마스크의 제조시 마스크 스트레칭 시스템을 나타낸 사시도2 is a perspective view showing a mask stretching system in manufacturing the shadow mask of the present invention;

도 3은 본 발명의 새도우 마스크와 상기 마스크 스트레칭 시스템의 관계를 나타낸 개략 단면도3 is a schematic cross-sectional view showing the relationship between the shadow mask of the present invention and the mask stretching system

도 4a 및 도 4b는 본 발명의 새도우 마스크의 제조시 인장 후 타겟에서 벗어난 상태와 이의 보정시를 나타낸 개략 평면도FIGS. 4A and 4B are schematic plan views showing a state in which the shadow mask of the present invention is deviated from the target after tensioning,

도 5는 본 발명의 새도우 마스크 형성시 일차 인장 후 인장된 새도우 마스크의 각 지점과 타겟과의 관계를 나타낸 3차원 데이터 FIG. 5 is a graph showing the relationship between each point of the shadow mask stretched after primary tension and the target when forming the shadow mask of the present invention, and FIG.

도 6a는 본 발명의 새도우 마스크 형성시, 일차 인장 후 비정렬 발생시 이의 보정 방법을 나타낸 3차원 데이터FIG. 6A is a graph showing the relationship between the three-dimensional data

도 6b는 도 6a의 보정 후 새도우 마스크의 각 지점과 타겟과의 관계를 나타낸 3차원 데이터FIG. 6B is a graph showing the relationship between each point of the shadow mask and the target after the correction of FIG.

*도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명*Description of the Related Art [0002]

100 : 마스크 원판 110 : CCD 카메라100: mask original plate 110: CCD camera

120 : 마스크 그리퍼 130 : 스테핑 모터120: mask gripper 130: stepping motor

140 : 더미 패턴 150 : 액티브 영역140: dummy pattern 150: active area

160 : 홀160: hole

Claims

Preparing a mask master having an active area at a center and an outer area at an outer periphery thereof and having a plurality of holes in the outer area;

Attaching the mask original plate onto a target plate, and pulling the mask original plate so that the hole corresponds to a position of a target provided on the target plate;

Confirming the degree of alignment of the holes of the mask blank with the target after tensioning the mask blank;

Forming a dummy pattern between the hole adjacent to the portion where the misalignment occurred and the active region on the mask substrate after determining the misaligned portion of the target and the mask plate; And

And compensating misalignment of the misaligned target and hole by shrinking the dummy pattern on the mask original plate.

The method according to claim 1,

Wherein the dummy pattern corresponds to a portion where tensile force is applied relatively to the position of the target.

3. The method of claim 2,

Wherein forming the dummy pattern comprises:

Wherein the mask blank is formed in a shape of a slit corresponding to a misaligned portion of the target and the hole of the mask blank.

The method of claim 3,

Wherein the shape of the dummy pattern is one of a shape of a polygon including a rectangle and a triangle.

The method of claim 3,

Wherein the slit has a width of 2 mm or less and a length of 3 cm at most when the dummy pattern is formed by removing the hole of the mask original plate in a slit shape.

The method according to claim 1,

Further comprising the step of three-dimensionally measuring the degree of alignment between the hole of the mask blank after the formation of the dummy pattern and the target, and confirming the alignment.

The method according to claim 1,

Wherein the forming of the dummy pattern comprises irradiating the target with a laser corresponding to a misaligned portion of the hole of the mask original plate.