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KR101553178B1 - Harmful gas decompsing apparatus with preheather - Google Patents

Harmful gas decompsing apparatus with preheather Download PDF

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KR101553178B1
KR101553178B1 KR1020140118513A KR20140118513A KR101553178B1 KR 101553178 B1 KR101553178 B1 KR 101553178B1 KR 1020140118513 A KR1020140118513 A KR 1020140118513A KR 20140118513 A KR20140118513 A KR 20140118513A KR 101553178 B1 KR101553178 B1 KR 101553178B1
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KR
South Korea
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gas
preheater
noxious
air supply
line
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이동채
박기범
류영덕
손용주
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주식회사 에코프로
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Abstract

예열기를 포함하는 유해가스 분해장치가 제공된다. 예열기는 처리챔버로 유입되는 유해가스 또는 퍼지가스를 소정 온도로 미리 가열함으로써 반응기 본체 하단부에서 발생하는 응축 문제를 해결한다. 예열기는 유해가스의 경우에는 간접가열방식으로 가열하고, 외부 공기와 같은 퍼지가스는 직접가열 방식을 적용한다.A noxious gas decomposition apparatus comprising a preheater is provided. The preheater solves the condensation problem occurring at the lower end of the reactor body by preheating the noxious gas or purge gas flowing into the processing chamber to a predetermined temperature. The preheater is indirectly heated in the case of harmful gas, and the direct heating method is applied to the purge gas such as the outside air.

Description

예열기를 포함하는 유해가스 분해 장치{HARMFUL GAS DECOMPSING APPARATUS WITH PREHEATHER}TECHNICAL FIELD [0001] The present invention relates to a harmful gas decomposition apparatus having a preheater,

본 발명은 유해가스 분해 장치 분야에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 과불화화합물을 포함하는 유해가스 분해 장치에 있어서 예열기를 포함하는 분해 장치에 관한 것이다.
The present invention relates to the field of noxious gas decomposition apparatus, and more particularly, to a decomposition apparatus including a preheater in a noxious gas decomposition apparatus containing a perfluorinated compound.

과불화화합물(PFCs)은 지방족 탄화수소에서 다량의 플루오르가 치환되어 있는 화합물로서 최근 그에 대한 규제가 강화되고 있다. 이러한 과불화화합물은 지구온난화지수(global warming potential)가 이산화탄소 대비 수천~수만 배로 매우 높아 지구 온난화의 주범으로 지목 받고 있다. 또한 이러한 과불화화합물의 일부는 조리용기나 종이컵의 코팅제나 냉매로도 사용되고 있지만, 뇌, 신경, 간 독성을 유발하고 호르몬을 교란한다고 추정되고 있다.Perfluorocompounds (PFCs) are compounds in which a large amount of fluorine is substituted in aliphatic hydrocarbons. These perfluorinated compounds are considered to be the main cause of global warming because of their global warming potential which is thousands to tens of thousands times higher than that of carbon dioxide. Some of these perfluorinated compounds are also used as coatings or refrigerants in cooking vessels and paper cups, but they are believed to cause brain, nerve, and liver toxicity and disturb hormones.

과불화화합물은 메모리나 LCD와 같은 반도체 디바이스 생산 공정이 주 발생원이다. 이를테면, 식각공정의 에칭제(etchant) 및 화학증착공정(chemical vapor deposition process)의 반응기(chamber) 세정제로 많이 사용되면서 대량으로 배출되고 있고, 대표적으로는 CF4, CHF3, C3F6, CH2F2, C3F4, C2F6, C3F8, C4F10, C5F8, SF6, NF3 등을 들 수 있다. 그 외 PFCs는 종래에 사용되던 클로로-플루오로카본(chloro-fluorocarbon; CFC)을 대체하여 세정제, 에칭제, 용매, 반응원료 등의 목적으로 사용하거나 제조하는 공정 및 작업장에서 배출되는 폐가스에도 포함된다.Perfluorinated compounds are the main source of semiconductor device manufacturing processes such as memory and LCD. For example, it is widely used as a cleaning agent for an etching etchant and a chemical vapor deposition process, and is discharged in large quantities. Typically, CF 4 , CHF 3 , C 3 F 6 , CH 2 F 2 , C 3 F 4 , C 2 F 6 , C 3 F 8 , C 4 F 10 , C 5 F 8 , SF 6 and NF 3 . Other PFCs are also included in the waste gas discharged from the workplace and processes used or manufactured for the purpose of replacing chloro-fluorocarbon (CFC), which is conventionally used, for cleaning agents, etching agents, solvents, reaction materials .

이와 같이 과불화화합물이 반도체 디바이스 공정과 같은 공산품의 생산 과정에서 주로 발생되고 있기 때문에, 이를 효율적으로 분해 처리하는 것이 매우 중요하고 또한 필수적이라고 할 수 있다.Since the perfluorinated compound is mainly generated in the production process of a commercial product such as a semiconductor device process, it is very important and necessary to efficiently decompose the product.

종래의 과불화화합물 등의 유해가스를 분해하는 장치는 챔버 내에 축열체, 촉매등을 수용시키고, 유해가스를 챔버 내부로 공급하여 분해처리 되도록 하는 구성을 가진다. 유해가스와 처리된 가스는 챔버의 하부에 수용된 축열체 및 촉매를 통과하도록 챔버의 하부로 유입된다. 이렇게 유해가스가 처리를 위해 챔버 내로 유입될 때 축열체 하단부위와 유입되는 가스 간에 온도 차가 있기 때문에 가스가 응축되는 문제가 발생한다. 이를테면, 처리를 위해 챔버 내로 유입되는 낮은 온도의 유해가스에 의해 챔버를 제공하는 반응기 하단부가 60~70℃의 저온 상태가 되기 때문에 고온의 축열체와 온도차에 의해 처리되어 배출되는 가스가 그 부위에 응축되는 것이다. 이러한 현상은 처리되는 유해가스뿐만 아니라 퍼지를 위해 챔버 하부로 유입되는 외부 공기의 경우에도 마찬가지이다.
Conventional apparatuses for decomposing noxious gases such as perfluorinated compounds have a configuration in which a heat accumulator, a catalyst, and the like are accommodated in a chamber, and noxious gas is supplied into the chamber for decomposition treatment. The harmful gas and the treated gas are introduced into the lower portion of the chamber so as to pass through the regenerator and the catalyst accommodated in the lower portion of the chamber. When the harmful gas is introduced into the chamber for the treatment, the gas is condensed because there is a temperature difference between the lower end of the regenerator and the incoming gas. For example, since the lower end of the reactor, which provides the chamber by the low-temperature noxious gas introduced into the chamber for processing, becomes a low-temperature state of 60 to 70 ° C, the gas discharged from the high- Condensation. This phenomenon occurs not only in the case of the harmful gas to be treated but also in the case of the outside air flowing into the lower portion of the chamber for purging.

한국특허출원 제 10-2006-0008037호Korean Patent Application No. 10-2006-0008037

본 발명은 상술한 종래의 문제점을 감안한 것으로서, 반응기 하단부의 온도 차를 줄일 수 있는 구성을 포함하는 유해가스 분해장치를 제공한다.SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above-mentioned conventional problems, and provides a noxious gas decomposition apparatus including a configuration capable of reducing a temperature difference at the lower end of a reactor.

본 발명은 처리될 유해가스의 급기라인 또는 퍼지가스 라인에 설치되는 예열기를 포함하는 유해가스 분해장치를 제공한다.
The present invention provides a noxious gas decomposition apparatus comprising a preheater installed in an air supply line or a purge gas line of a noxious gas to be treated.

본 발명은 유해가스 분해장치를 제공하며, 이는: 내부에 처리챔버를 제공하는 반응기 본체; 상기 처리챔버 내에 수용된 축열체 및 촉매; 상기 반응기 본체에 연결되어 상기 처리챔버 내로 유해가스를 공급하는 급기라인; 및 상기 급기라인에 배치되어 유해가스를 가열하는 제1예열기;를 포함한다.The present invention provides a noxious gas decomposition apparatus comprising: a reactor body for providing a process chamber therein; A regenerator and a catalyst accommodated in the process chamber; A supply line connected to the reactor body to supply noxious gas into the processing chamber; And a first pre-heater disposed in the air supply line for heating the noxious gas.

상기 반응기 본체에 연결되는 퍼지가스라인을 더 포함하고, 상기 퍼지가스라인에는 퍼지가스를 가열하는 제2예열기가 배치된다.Further comprising a purge gas line connected to the reactor body, wherein the purge gas line is provided with a second preheater for heating the purge gas.

여기서 급기라인 또는 상기 퍼지가스라인은 유해가스 또는 퍼지가스가 상기 챔버 내에 수용된 축열체를 통과하도록 연결된다.Wherein the supply line or the purge gas line is connected so that noxious gas or purge gas passes through the regenerator housed in the chamber.

상기 제1 예열기 또는 제2 예열기는 유해가스 또는 퍼지가스를 70℃ 이상이 되도록 가열한다.The first preheater or the second preheater heats the noxious gas or the purge gas to 70 ° C or higher.

상기 제1 예열기는 적어도 가열요소가 유해가스와 비접촉인 상태로 열을 가하는 간접 가열 방식일 수 있다.The first pre-heater may be an indirect heating system in which heat is applied to at least the heating element in a non-contact state with the noxious gas.

상기 제2 예열기는 가열요소가 퍼지가스와 접촉하는 직접 가열 방식일 수 있다.
The second preheater may be a direct heating system in which the heating element is in contact with the purge gas.

본 발명에 따르면, 처리챔버 내 축열체 아래로부터 유입되는 상온의 유해가스 또는 퍼지가스와 축열체 하단부와의 온도 차로 인해 발생하는 응축 문제를 해결한다. 상대적으로 낮은 온도를 가지는 유해가스 및 외부공기에 의해 반응기 본체 하단부의 온도가 약 60~70℃ 이하로 떨어지기 때문에 응축이 발생한다. 본 발명의 유해가스 분해 장치에서는 처리 챔버로 유입되는 유해가스 또는 퍼지가스의 온도를 미리 예열하기 때문에, 반응기 본체 하단과 온도차가 생기지 않기 때문에 응축 문제가 발생하지 않는다. 또한 유해가스 분해 장치 유입부에 예열기를 적용했기 때문에 열 손실 억제 및 열 회수율이 향상된다. 또한, 유해가스의 예열과 퍼지가스의 예열에 있어서, 부식 및 열효율을 감안하여 직접가열 또는 간접가열 중에 선택적으로 적용한다.
According to the present invention, there is solved a condensation problem caused by a temperature difference between a room temperature noxious gas or a purge gas flowing from below the regenerator in the processing chamber and a lower end of the regenerator. Condensation occurs because the temperature of the lower end of the reactor body drops below about 60 to 70 占 폚 by the noxious gas having a relatively low temperature and the outside air. In the noxious gas decomposition apparatus of the present invention, since the temperature of the noxious gas or the purge gas flowing into the processing chamber is preheated in advance, there is no temperature difference between the lower end of the reactor body and the condensation problem. In addition, since the preheater is applied to the inlet of the harmful gas decomposition device, the heat loss is suppressed and the heat recovery rate is improved. In addition, in case of preheating of harmful gas and preheating of purge gas, it is applied selectively during direct heating or indirect heating in consideration of corrosion and thermal efficiency.

도 1은 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 예열기를 포함하는 유해가스 분해 장치의 정면도이다.
도 2는 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 예열기를 포함하는 유해가스 분해 장치의 측면도이다.
도 3은 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 예열기를 포함하는 유해가스 분해 장치의 평면도이다.
도 4는 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 유해가스 분해 장치에서 반응기 본체의 측벽과 천정부를 제거하여 내부가 보이도록 도시한 도면이다.
도 5는 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 유해가스 분해 장치에 채용되는 급배기장치부를 도시한 도면이다.
도 6은 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 유해가스 분해 장치에 채용된 제1예열기의 예시를 도시한 도면이다.
도 7a 내지 7c는 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 유해가스 분해 장치에 채용된 제2예열기 및 그에 적용되는 가열요소의 예시를 도시한 도면이다.1 is a front view of a noxious gas decomposition apparatus including a preheater according to a preferred embodiment of the present invention.
2 is a side view of a noxious gas decomposition apparatus including a preheater according to a preferred embodiment of the present invention.
3 is a plan view of a noxious gas decomposition apparatus including a preheater according to a preferred embodiment of the present invention.
FIG. 4 is a view showing the interior of the reactor main body in a noxious gas decomposition apparatus according to a preferred embodiment of the present invention, with the side walls and the ceiling portion removed.
FIG. 5 is a view showing an air supply and exhaust unit employed in a noxious gas decomposition apparatus according to a preferred embodiment of the present invention.
6 is a view showing an example of a first preheater employed in a noxious gas decomposition apparatus according to a preferred embodiment of the present invention.
7A to 7C are views showing an example of a second preheater and a heating element applied thereto in a noxious gas decomposition apparatus according to a preferred embodiment of the present invention.

이하 첨부한 도면을 참조하여 본 발명의 실시예를 상세하게 설명한다. 본 발명의 실시예를 설명함에 있어서, 관련된 공지기능 혹은 구성에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있다고 판단되는 경우 그 상세한 설명을 생략한다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. In the following description of the embodiments of the present invention, a detailed description of known functions and configurations incorporated herein will be omitted when it may make the subject matter of the present invention rather unclear.

도 1은 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 예열기를 포함하는 유해가스 분해 장치의 정면도이다. 도 2는 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 예열기를 포함하는 유해가스 분해 장치의 측면도이다. 도 3은 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 예열기를 포함하는 유해가스 분해 장치의 평면도이다. 참고적으로, 도 1과 도 2에서는 이해의 편의를 위해 반응기 본체(11)는 내부가 보이도록 도시하였다.1 is a front view of a noxious gas decomposition apparatus including a preheater according to a preferred embodiment of the present invention. 2 is a side view of a noxious gas decomposition apparatus including a preheater according to a preferred embodiment of the present invention. 3 is a plan view of a noxious gas decomposition apparatus including a preheater according to a preferred embodiment of the present invention. For reference, in FIG. 1 and FIG. 2, for convenience of understanding, the reactor body 11 is shown so as to be seen inside.

도 1 내지 도 3을 참조하여, 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 유해가스 분해 장치는 내부에 처리챔버(111)를 제공하는 반응기 본체(11)를 포함한다. 처리챔버 내에는 축열체(151)와 촉매(152)가 수용되고, 예컨대 과불화물을 포함하는 유해가스가 유입되어 처리된 후 배출된다. 처리챔버(111) 내부로 유해가스의 공급하고, 처리챔버(111)에서 처리된 가스를 배기하기 위한 급배기장치부(12)가 반응기 본체(11) 아래에 배치된다. 처리챔버(111) 내부는 파티션(112)에 의해 다수개의 구획 공간(1111, 1112, 1113)으로 나뉘어져 있고, 급배기장치부(12)에 의해 구획 공간(1111, 1112, 1113) 중의 어느 하나의 하부로 유해가스가 유입되어 축열체(151)와 촉매(152)를 통과하면서 정해진 반응에 의해 처리된 후 다른 구획 공간(1111, 1112 또는 1113)의 하부로 배출된다. 나머지 하나의 구획 공간(1111, 1112 또는 1113)의 하부로는 공기와 같은 퍼지 가스가 유입되면서 해당 구획 공간(1111, 1112, 1113)의 축열체(151)와 촉매(152)의 적층 구조 내부에 잔류하는 유해가스와 처리된 가스를 배출시킨다. 이러한 본 발명의 유해가스 분해 장치는 급배기장치부(12)의 급기라인(122)에 배치되는 제1예열기와 퍼지라인(126)에 배치되는 제2예열기를 이용하여 유해가스 또는 퍼지가스를 각각 가열함으로써 승온된 유해가스 또는 퍼지가스가 처리챔버(111)로 유입되도록 한다.1 to 3, a harmful gas decomposition apparatus according to a preferred embodiment of the present invention includes a reactor body 11 that provides a processing chamber 111 therein. In the process chamber, a regenerator 151 and a catalyst 152 are accommodated, and noxious gas containing, for example, perfluorocompounds is introduced, treated and discharged. An air supply and exhaust unit 12 for supplying a noxious gas into the process chamber 111 and exhausting the gas processed in the process chamber 111 is disposed below the reactor body 11. [ The interior of the processing chamber 111 is partitioned into a plurality of compartment spaces 1111, 1112 and 1113 by a partition 112 and one of the compartment spaces 1111, 1112 and 1113 The noxious gas flows into the lower part and is processed by the predetermined reaction while passing through the regenerator 151 and the catalyst 152, and then discharged to the lower part of the other compartment space 1111, 1112 or 1113. A purge gas such as air flows into the lower part of the remaining one of the compartment spaces 1111, 1112 or 1113 and the inside of the lamination structure of the regenerator 151 of the compartment spaces 1111, 1112, and 1113 and the catalyst 152 And discharges residual noxious gas and treated gas. The noxious gas decomposition apparatus of the present invention is characterized in that noxious gas or purge gas is supplied to the first preheater disposed in the air supply line 122 of the air supply and exhaust unit 12 and the second preheater disposed in the purge line 126 So that the heated noxious gas or purge gas is introduced into the processing chamber 111 by heating.

구체적으로, 반응기 본체(11)는 처리챔버(111)를 제공하도록 저면부, 측벽, 및 천정부를 포함하는 육면체형일 수 있다. 처리챔버(111) 내부는 파티션(112)에 의해 하부부위는 다수의 구획 공간(1111, 1112, 1113)으로 분리되고, 구획 공간(1111, 1112, 1113)의 상부부위는 가스가 소통 가능하도록 연결되어 있다. 반응기 본체(11)의 저면부에는 급배기구(113)을 제공하면서 축열체(151)를 지지하기 위한 그리드부(114, 117)가 배치된다(도 4참조). 반응기 본체(11)의 구획 공간(1111, 1112, 1113) 각각의 하면에는 호퍼부(116)가 연결되고, 호퍼부(116)에 급배기장치부(12)가 연결된다.Specifically, the reactor body 11 may be of a hexahedral shape including a bottom portion, a side wall, and a ceiling portion to provide a processing chamber 111. [ The lower part of the processing chamber 111 is divided into a plurality of compartment spaces 1111, 1112 and 1113 by the partition 112 and the upper parts of the compartment spaces 1111, 1112 and 1113 are connected . In the bottom surface portion of the reactor main body 11, grid portions 114 and 117 for supporting the regenerator 151 are disposed while supplying air supply / exhaust ports 113 (see FIG. 4). A hopper portion 116 is connected to the lower surface of each of the compartment spaces 1111, 1112 and 1113 of the reactor body 11 and an air supply and exhaust unit 12 is connected to the hopper portion 116.

도 5는 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 유해가스 분해 장치에 채용되는 급배기장치부(12)를 도시한 도면이다.5 is a view showing an air supply and exhaust unit 12 employed in a noxious gas decomposition apparatus according to a preferred embodiment of the present invention.

급배기장치부(12)는 호퍼부(116)들을 통해 반응기 본체(11)의 급배기구(113)들과 연결된 배관으로서 연결라인(121)을 포함한다. 연결라인(121)들의 일측에는 배관 형태의 급기라인(122)이 연결되고, 연결라인(121)의 타측에는 배기라인(123)이 연결된다. 연결라인(121)들과 급기라인(122)의 연결부위 그리고 연결라인(121)들과 배기라인(123)의 연결부위에는 연결을 개폐할 수 있는 댐퍼부(124)가 배치된다. 이러한 각각의 댐퍼부(124)의 개폐 동작에 의해서 각 연결라인(121)들은 급기라인(122)에 연결되거나 배기라인(123)에 연결된다. 따라서, 처리챔버(111)의 해당 구획 공간(1111, 1112, 1113)으로 유해가스를 공급하거나 처리된 가스를 배기하게 된다.The supply and exhaust unit 12 includes a connection line 121 as a pipe connected to the supply and exhaust ports 113 of the reactor body 11 through the hopper portions 116. An air supply line 122 in the form of a pipe is connected to one side of the connection lines 121 and an exhaust line 123 is connected to the other side of the connection line 121. A damper portion 124 is provided at a connection portion between the connection lines 121 and the air supply line 122 and at a connection portion between the connection lines 121 and the exhaust line 123. Each of the connecting lines 121 is connected to the air supply line 122 or to the air exhaust line 123 by the opening and closing operation of each of the damper portions 124. Accordingly, the noxious gas is supplied to the corresponding compartment spaces 1111, 1112, and 1113 of the processing chamber 111, or the processed gas is exhausted.

본 발명의 유해가스 분해 장치에서는 급기라인(122)에는 제1예열기가 배치된다. 제1예열기는 급기라인(122)을 통과하는 유해가스를 소정온도, 예를 들어 처리챔버(111)로 유입되는 유해가스를 70℃ 이상이 되도록 가열한다.In the noxious gas decomposition apparatus of the present invention, the first pre-heater is disposed in the air supply line (122). The first preheater heats the noxious gas passing through the air supply line 122 to a predetermined temperature, for example, 70 ° C or more, which is the noxious gas flowing into the processing chamber 111.

도 6은 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 유해가스 분해 장치에 채용된 제1예열기의 예시를 도시한 도면이다.6 is a view showing an example of a first preheater employed in a noxious gas decomposition apparatus according to a preferred embodiment of the present invention.

도시한 예에서와 같이, 제1예열부(127)는 급기라인(122)을 감싸는 형태로 배치될 수 있으며, 예컨대 급기라인(122)을 소정 부분을 감싸는 전열코일 또는 고온의 증기 또는 온수가 흐르는 관과 같은 가열요소(1271)를 포함할 수 있다. 바람직하게는, 급기라인(122)에 배치되는 제1예열부(127)는 가열요소(1271)가 급기라인(122)을 통해 흐르는 유해가스에 직접 노출이 되지 않도록 간접가열방식을 선택함으로써 유해가스에 의한 부식 발생을 방지할 수 있다. 또한 증기 또는 온수는 본 발명의 장치가 설치되는 공정의 어느 장치에서 발생되는 고온의 증기 또는 온수를 이용할 수도 있다.As shown in the drawing, the first preheating unit 127 may be disposed so as to surround the air supply line 122. For example, the first preheating unit 127 may include a heating coil wound around the air supply line 122 or a hot- A heating element 1271 such as a tube. The first preheater 127 disposed in the air supply line 122 may be configured to select an indirect heating mode so that the heating element 1271 is not directly exposed to the noxious gas flowing through the air supply line 122, It is possible to prevent the occurrence of corrosion due to corrosion. The steam or hot water may also utilize hot steam or hot water generated in any of the processes in which the apparatus of the present invention is installed.

도 7a 내지 7c는 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 유해가스 분해 장치에 채용된 제2예열기의 예시를 도시한 도면이다.7A to 7C are views showing an example of a second preheater employed in a noxious gas decomposition apparatus according to a preferred embodiment of the present invention.

제2예열부(128)는 퍼지라인(126)에 배치되어, 외부 공기와 같은 퍼지가스를 가열한다. 제2예열부(128)의 경우에는 퍼지가스가 외부공기와 같이 가열요소(1281)가 부식될 우려가 없는 기체이기 때문에, 에너지 효율 측면에서 가열요소(1281)가 퍼지가스에 직접 노출되는 직접가열방식이 더 효과적일 수 있다.The second preheater 128 is disposed in the purge line 126 to heat the purge gas, such as outside air. In the case of the second preheating part 128, since the purge gas is a gas which is not likely to corrode the heating element 1281 like the outside air, the heating element 1281 is directly heated Method may be more effective.

직접가열방식을 선택할 경우에는 가열요소(1281)가 전열코일이나 증기 또는온수 관이 모두 적용될 수 있다.When the direct heating type is selected, the heating element 1281 can be applied to both the heating coil and the steam or hot water pipe.

도 7a는 제2예열부(128)의 예시를 보여준다. 제2예열부(128)가 직접가열방식이기 때문에, 퍼지라인(126)과 연결되는 형태가 될 수 있고 가열요소(1281)가 전열코일 및 증기 또는 온수 관일 수 있다. 도 7b와 도 7c는 각각 코일 형태의 가열요소(1281a)과 관 형태의 가열요소(1281b)의 예를 보여준다.FIG. 7A shows an example of the second preheating section 128. FIG. Since the second preheating part 128 is a direct heating type, it may be connected to the purge line 126 and the heating element 1281 may be a heating coil and a steam or hot water tube. Figs. 7B and 7C show examples of a heating element 1281a in the form of a coil and a heating element 1281b in the form of a tube, respectively.

제1예열부(127)와 제2예열부(128)는 상술한 바와 같이 처리챔버(111)로 유입되는 유해가스 또는 퍼지가스를 70℃ 이상으로 가열함으로써, 유입가스와 축열체(151)가 있는 부위인 반응기 본체(11)의 하단부위 간에 온도차가 발생하지 않게 된다. 결과적으로, 종래의 장치에서 자주 발생하였던 가스의 응축 문제가 발생하지 않는다.The first preheating unit 127 and the second preheating unit 128 heat the noxious gas or the purge gas flowing into the process chamber 111 to 70 ° C or higher as described above to cool the inflow gas and the heat accumulator 151 A temperature difference does not occur between the lower end portions of the reactor main body 11, which is a region where the gas is present. As a result, there is no problem of condensation of the gas, which often occurs in the conventional apparatus.

제1예열부(127)와 제2예열부(128)는 상술한 예시들에 제한되지 않고, 급기라인(122) 또는 퍼지라인(126)에 배치되어, 처리챔버(111)로 유입되는 유해가스 또는 퍼지가스를 가열할 수 있는 적절한 구성이면 가능하다.The first preheating section 127 and the second preheating section 128 are not limited to the examples described above and may be disposed in the air supply line 122 or the purge line 126 so that the noxious gas Or a suitable configuration capable of heating the purge gas.

이하에서는 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 유해가스 분해 장치의 동작을 설명한다.Hereinafter, the operation of the harmful gas decomposition apparatus according to the preferred embodiment of the present invention will be described.

급배기장치부(12)는 각 댐퍼부(124)의 개폐 동작을 제어하여 주기적으로 가스의 흐름을 공급하는 방향 또는 배기하는 방향으로 전환할 수 있다. 즉, 어느 구획 공간의 급배기구(113)로는 유해가스가 유입되고, 다른 구획 공간의 급배기구(113)로는 배기되도록 할 수 있고, 이러한 가스 흐름 방향을 주기적으로 전환할 수 있다. 유해가스가 유입되는 급기라인(122)은 제1예열부(127)를 통해 유해가스를 소정 온도 이상으로 승온시킨다. 승온된 유해가스는 어느 하나의 구획 공간(1111, 1112, 또는 1113)으로 유입되어 해당 구획 공간(1111, 1112, 또는 1113)의 축열체(151)와 촉매(152)를 통과하면서 예컨대 과불화합물과 같은 유해성분이 처리되고, 처리된 가스는 다른 구획 공간(1111, 1112, 또는 1113)의 급배기구(113)을 통해 배기된다. 이때, 나머지 어느 하나의 구획 공간(1111, 1112, 또는 1113)과 연결된 퍼지라인(126)이 개방되면서 외부 공기와 같은 퍼지가스가 해당 구획 공간(1111, 1112, 또는 1113)의 축열체(151)와 촉매(152)를 통과하면서 그 내부에 잔류하는 유해가스 또는 처리가스를 상승시켜서 현재 배기 중인 구획 공간(1111, 1112, 또는 1113)의 가스와 함께 배기되도록 한다. 이때, 반응기 본체(11)의 하단부위가 승온된 유해가스 또는 퍼지가스에 의해 적정한 온도를 유지하고 있기 때문에, 배기가스와의 온도차가 없거나 미세하게 되어 기존에 발생하였던 온도차에 따른 응축현상이 발생하지 않게 된다. 미설명 도면부호 118은 투시창을 나타내고, 125는 포집통을 나타낸다.The air supply and exhaust device unit 12 can switch the direction of supplying the gas flow periodically or the direction of exhausting air by periodically controlling the opening and closing operation of each damper unit 124. Namely, noxious gas can be introduced into the air supply / discharge port 113 of any partition space and exhausted to the air supply / exhaust port 113 of another partition space, and the gas flow direction can be periodically switched. The air supply line 122 through which the noxious gas is introduced raises the noxious gas to a predetermined temperature or higher through the first preheating unit 127. The heated noxious gas flows into one of the compartment spaces 1111, 1112 or 1113 and passes through the regenerator 151 of the compartment space 1111, 1112 or 1113 and the catalyst 152, The same harmful component is treated, and the treated gas is exhausted through the air supply / discharge port 113 of the other compartment space 1111, 1112, or 1113. At this time, the purge line 126 connected to any one of the other compartment spaces 1111, 1112, or 1113 is opened, and purge gas such as outside air flows into the condenser spaces 1111, 1112, And the catalyst 152 to raise the noxious gas or the process gas remaining therein and exhaust the gas together with the gas of the compartment space 1111, 1112, or 1113 that is currently being exhausted. At this time, since the lower end portion of the reactor main body 11 maintains an appropriate temperature by the noxious gas or the purge gas that has been raised, there is no temperature difference with respect to the exhaust gas or becomes fine, and condensation phenomenon . Reference numeral 118 denotes a sight window, and reference numeral 125 denotes a collection box.

이상, 본 발명의 상세한 설명에서는 구체적인 실시예에 관해서 설명하였으나, 본 발명의 범위에서 벗어나지 않는 한도 내에서 여러 가지 변형이 가능함은 당해 분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 있어서 자명하다 할 것이다.
While the present invention has been particularly shown and described with reference to exemplary embodiments thereof, it is to be understood that the invention is not limited to the disclosed exemplary embodiments.

11: 반응기 본체 12: 급배기장치부
13: 지지프레임 14, 17: 그리드
111: 처리챔버 112: 파티션
113: 급배기구 1111, 1112, 1113: 구획 공간
116: 호퍼부 118: 투시창
121: 연결라인 122: 급기라인
123: 배기라인 124: 댐퍼부
125: 포집통 126: 퍼지라인
127: 제1예열기 128: 제2예열기
1271, 1281, 1281a, 1281b: 가열요소11: Reactor main body 12: Supply and exhaust unit
13: support frame 14, 17: grid
111: processing chamber 112: partition
113: exhaust vents 1111, 1112, 1113: compartment space
116: Hopper section 118:
121: connection line 122: supply line
123: exhaust line 124: damper portion
125: Collecting column 126: Fuzzy line
127: first preheater 128: second preheater
1271, 1281, 1281a, 1281b: heating element

Claims (6)

유해가스 분해장치로서:
다수개의 파티션에 의해 하부부위는 다수개의 구획 공간으로 분리되고 상부부위는 가스가 소통 가능하도록 연결된 처리챔버를 내부에 제공하는 반응기 본체;
상기 처리챔버의 다수개의 구획 공간 내부 각각에 적층 수용된 축열체 및 촉매;
상기 반응기 본체의 저면부에 배치된 상기 다수개의 구획 공간 각각의 급배기구에 연결되며, 상기 처리챔버 내로 과불화화합물을 포함하는 유해가스를 공급하는 배관 형태의 급기라인과 상기 처리챔버에서 처리된 처리가스를 배기하는 배기라인을 포함하는, 급배기장치부; 및
상기 급기라인을 감싸도록 배치되는 전열코일, 또는 고온의 증기 또는 온수가 흐르는 관으로 이루어진 유해가스 비접촉 가열요소를 포함함으로써 유해가스를 가열하는 제1예열기;를 포함하고,
상기 급배기장치부는, 어느 구획 공간의 급배기구로는 유해가스가 유입되고 다른 구획 공간의 급배기구로는 배기되도록 가스 흐름 방향을 제어하고, 상기 가스 흐름 방향을 주기적으로 전환하는 것인,
유해가스 분해장치.
As the harmful gas decomposition apparatus:
Wherein the lower portion is divided into a plurality of compartment spaces by the plurality of partitions and the upper portion is provided with a processing chamber connected to the gas inlet so as to allow gas communication therethrough;
A regenerator and a catalyst housed and stacked in each of a plurality of compartment spaces of the process chamber;
A supply line in the form of a pipe for supplying a noxious gas containing a perfluorinated compound into the processing chamber and connected to the supply and exhaust ports of the plurality of compartment spaces disposed in the bottom portion of the reactor body, An exhaust line for exhausting the gas; And
And a first preheater for heating the noxious gas, the noxious gas non-contact heating element including a heat transfer coil disposed to surround the air supply line, or a pipe through which hot steam or hot water flows,
Wherein the air supply and exhaust unit controls the direction of the gas flow so that the noxious gas flows into the air supply and exhaust ports of any of the compartment spaces and is exhausted to the air supply and exhaust ports of the other compartment spaces,
Hazardous gas decomposition apparatus.
청구항 1에 있어서,
상기 반응기 본체에 연결되는 퍼지가스라인을 더 포함하고,
상기 퍼지가스라인에는 퍼지가스를 가열하는 제2예열기가 배치되는 것인, 유해가스 분해장치.
The method according to claim 1,
Further comprising a purge gas line connected to the reactor body,
Wherein the purge gas line is provided with a second preheater for heating the purge gas.
청구항 2에 있어서,
상기 퍼지가스라인은 퍼지가스가 상기 처리챔버 내에 수용된 축열체를 통과하도록 연결되는 것인, 유해가스 분해장치.
The method of claim 2,
Wherein the purge gas line is connected so that purge gas passes through the regenerator contained in the process chamber.
청구항 2에 있어서,
상기 제1 예열기 또는 제2 예열기는 유해가스 또는 퍼지가스를 70℃ 이상이 되도록 가열하는 것인, 유해가스 분해장치.
The method of claim 2,
Wherein the first pre-heater or the second pre-heater heats the noxious gas or the purge gas to 70 ° C or higher.
삭제delete 청구항 2에 있어서,
상기 제2 예열기는 가열요소가 퍼지가스와 접촉하는 직접 가열 방식인 것인, 유해가스 분해장치.The method of claim 2,
Wherein the second preheater is a direct heating type in which the heating element is in contact with the purge gas.
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