KR101544611B1

KR101544611B1 - Touch Screen Panel and Manufacturing Method Therefor

Info

Publication number: KR101544611B1
Application number: KR1020150041610A
Authority: KR
Inventors: 오광식; 김창변; 정계근; 박종훈
Original assignee: 에스맥 (주)
Priority date: 2015-03-25
Filing date: 2015-03-25
Publication date: 2015-08-17

Abstract

The present invention relates to a touch screen panel and a method of manufacturing the same. The touch screen panel is configured to form a bridge connection unit in order to connect a plurality of bridge electrodes, which connect second sensing electrodes formed on a transparent substrate, with each other. Therefore, the touch screen panel is capable of reducing contact resistance by increasing an electrical contact area for the second sensing electrodes in a connection structure of the second sensing electrodes, thereby improving the overall electrical properties.

Description

Technical Field [0001] The present invention relates to a touch screen panel and a manufacturing method thereof,

본 발명은 터치 스크린 패널 및 이의 제조 방법에 관한 것이다. 보다 상세하게는 투명 기판에 형성된 제 2 감지 전극을 연결하는 다수개의 브릿지 전극을 서로 연결할 수 있도록 브릿지 연결부를 형성함으로써, 제 2 감지 전극의 연결 구조에서 제 2 감지 전극에 대한 전기적인 접촉 면적을 증가시켜 컨택 저항을 감소시킬 수 있고, 이에 따라 전체적으로 전기적인 특성을 향상시킬 수 있는 터치 스크린 패널 및 이의 제조 방법에 관한 것이다.
The present invention relates to a touch screen panel and a method of manufacturing the same. More specifically, by forming a bridge connecting portion to connect a plurality of bridge electrodes connecting the second sensing electrodes formed on a transparent substrate, it is possible to increase the electrical contact area with respect to the second sensing electrode in the connection structure of the second sensing electrode To a touch screen panel capable of reducing contact resistance and thus improving electrical characteristics as a whole, and a method of manufacturing the touch screen panel.

개인용 컴퓨터, 휴대용 전송 장치 그 밖의 개인 전용 정보처리장치 등은 키보드, 마우스, 디지타이저(Digitizer) 등의 다양한 입력장치(Input Device)를 이용하여 텍스트 및 그래픽 처리 등을 수행한다. 이러한 입력장치들은 PC의 용도 확대에 따라 인터페이스로서의 입력장치로서 키보드 및 마우스만으로는 제품 대응이 어렵고 보다 간단하고 오조작이 적으면서 누구라도 입력할 수 있고 또 휴대하면서 손으로 문자입력도 가능한 필요성에 의해 발전했다. 현재는 이러한 입력장치의 일반적 기능과 관련된 필요성을 충족시키는 수준을 넘어 고 신뢰성, 새로운 기능의 제공, 내구성 등에 대한 많은 연구가 진행되고 있다.Personal computers, portable transmission devices, and other personal-purpose information processing devices perform text and graphics processing using various input devices such as a keyboard, a mouse, and a digitizer. These input devices are input devices as an interface according to the expansion of the use of PC, and it is difficult to cope with the product by only a keyboard and a mouse, and it is possible to input anybody while having a simpler and less erroneous operation, did. At present, much research has been conducted on reliability, new functions, durability, etc. beyond the level required to meet the general function of such input devices.

특히 간단하고 오조작이 적으며, 휴대하면서 누구라도 입력이 가능하고, 다른 입력기기 없이 문자입력도 가능한 입력 장치로서 터치스크린 패널(Touch Screen Panel)이 알려져 있으며, 그에 따른 검출방식, 구조 및 성능 등에 있어서도 자세히 알려져 있다. 터치스크린 패널은 동작 방식에 따라 저항막(Resistive) 방식, 정전용량(Capacitive) 방식, 초음파 방식, 광(적외선)센서 방식, 전자유도 방식 등이 있으며, 각각의 방식에 따라 신호 증폭의 문제나 해상도 차이, 설계 및 가공 기술의 난이도 차이 등이 다르게 나타나는 특징이 있어 장점을 잘 살릴수 있게 구분하여 그 방식을 선택한다. 선택 기준은 광학적특성, 전기적특성, 기계적특성, 내환경특성, 입력특성등 외에 내구성과 경제성 등도 고려된다.In particular, a touch screen panel is known as an input device capable of inputting characters without any other input device, and having a simple and less erroneous operation. Is also well known. The touch screen panel is classified into a resistive type, a capacitive type, an ultrasonic type, an optical (infrared ray) sensor type, and an electromagnetic induction type according to the operation type. Differences, differences in difficulty of design and processing technology, and so on. The criteria for selection are durability and economy as well as optical, electrical, mechanical, environmental, and input characteristics.

최근에는 터치 위치를 정확하게 감지할 수 있는 정전용량 방식의 터치스크린 패널이 널리 사용되고 있는데, 도 1은 통상의 정전용량 방식의 터치스크린 패널을 도시하고 있다.2. Description of the Related Art [0002] In recent years, a capacitive touch screen panel capable of accurately detecting a touch position has been widely used. FIG. 1 shows a conventional capacitive touch screen panel.

도 1을 참고로 살펴보면, 터치스크린 패널은 가운데 부분에 활성 영역(AR, Active Region)이 위치하고 있으며, 활성 영역(AR)의 외곽 둘레를 따라 베젤 영역에 비활성 영역(NAR, Non Active Region)이 위치하고 있다. 여기서 활성 영역(AR)에는 터치스크린 패널 중 사용자 신체 접촉 또는 스타일러스 펜 등을 이용하여 접촉 위치를 감지하기 위한 감지 전극이 형성되어 있으며, 비활성 영역(NAR)에는 감지 전극에서 감지한 접촉 위치에 대한 신호를 제어칩(미도시)으로 전달하기 위한 배선 전극이 형성되어 있다.Referring to FIG. 1, the touch screen panel has an active region AR at the center thereof and a nonactive region NAR in the bezel region along the periphery of the active region AR have. Here, a sensing electrode is formed on the active area AR for sensing a contact position using a user's body contact or a stylus pen, and the non-active area NAR is provided with a signal To the control chip (not shown).

통상적으로 감지 전극은 투명전극 소재를 이용하여 형성되는데, 투명전극 소재로는 얇은 막 형태로 제조된 투명전도성산화물(transparent conducting oxide: TCO)이 대표적이다. 투명전도성산화물은 가시광선 영역에서의 높은 광학적 투과도(85% 이상)와 낮은 비저항(1×10^-3Ω·cm)을 동시에 갖는 산화물계의 축퇴된(degenerate) 반도체 전극을 총칭하는 것으로, 면저항 크기에 따라 정전기 방지막, 전자파 차폐 등의 기능성 박막과 터치 스크린 패널, 평판 디스플레이, 태양전지, 투명 트랜지스터, 플렉시블 광전소자, 투명 광전소자 등의 핵심 전극 재료로 사용되고 있다. 현재, 투명 산화물 전극으로 인듐 산화물에 10wt%의 주석산화물이 도핑된 산화인듐주석(ITO, indium-tin oxide)이 대표적으로 사용되고 있으며, 인듐이 고갈되어 가면서 산화인듐주석을 대체하는 물질로 그래핀, 금속 나노와이어 등이 개발되어 사용되고 있다.
Typically, the sensing electrode is formed using a transparent electrode material, and a transparent conductive oxide (TCO), which is manufactured in the form of a thin film, is a typical transparent electrode material. Transparent conductive oxides are collectively referred to as oxide-based degenerate semiconductor electrodes having high optical transmittance (over 85%) and low resistivity (1 x ^10-3 ? Cm) in the visible light region, Are used as core electrode materials for functional thin films such as antistatic films and electromagnetic wave shielding, touch screen panels, flat panel displays, solar cells, transparent transistors, flexible optoelectronic devices, and transparent optoelectronic devices. At present, indium tin oxide (ITO) doped with 10 wt% tin oxide in indium oxide is typically used as a transparent oxide electrode, and indium tin oxide is replaced with indium tin oxide, And metal nanowires have been developed and used.

도 1과 도 2를 참고로 메탈온아이티오(Metal On ITO) 기판을 이용하여 GF2 방식의 터치스크린 패널을 제조하는 공정을 보다 구체적으로 살펴보면, 메탈온아이티오(Metal On ITO) 기판은 투명 기판(10) 상면에 산화인듐주석층(20)이 형성되어 있으며, 산화인듐주석층(20)의 상면에 금속층(30)이 형성되어 있는 기판을 의미한다.Referring to FIGS. 1 and 2, a metal on ITO substrate is used to fabricate a GF2 type touch screen panel. More specifically, a metal on ITO substrate includes a transparent substrate Means a substrate in which an indium tin oxide layer 20 is formed on the upper surface of the substrate 10 and a metal layer 30 is formed on the upper surface of the indium tin oxide layer 20.

먼저, Y축 단면도인 도 2(a)를 참고로 살펴보면 금속층(30)의 상면에 포토레지스트(PR)를 코팅한 후 비활성 영역(NAR)에 형성할 배선에 상응하는 배선 마스크(M1)를 이용하여 포토레지스트를 노광 및 현상한 후, 금속층(30)을 에칭용액(etchant)을 이용하여 에칭하여 금속배선(31)을 형성한다. 2 (a), the photoresist PR is coated on the upper surface of the metal layer 30 and then the wiring mask M1 corresponding to the wiring to be formed in the inactive region NAR is used After the photoresist is exposed and developed, the metal layer 30 is etched using an etchant to form the metal wiring 31.

다음으로 도 2(b)를 참고로 살펴보면 산화인듐주석층(20, 제1 산화인듐주석층)의 상면에 포토레지스트를 코팅한 후, 활성 영역(AR)에 형성할 감지 전극 패턴에 상응하는 감지 전극 마스크(M2)를 이용하여 포토레지스트를 노광 및 현상한다. 도 2(b)에서 생성된 터치스크린 패널을 에칭 용액에 일정 시간 담가두어 산화인듐주석층(20)을 에칭함으로써, 배선(31)과 감지 전극이 형성된 도 2(c)에 도시된 터치스크린 패널을 제조한다. 여기서 감지 전극은 x축 방향의 터치 영역을 감지하는 제 1 감지 전극(21)과 x축에 수직인 y축 방향의 터치 영역을 감지하는 제 2 감지 전극(23)이 형성되며 제 1 감지 전극(21)은 연결 전극(22)를 통해 x축 방향으로 서로 연결되도록 형성된다. Next, referring to FIG. 2 (b), a photoresist is coated on the upper surface of the indium tin oxide layer 20 (the first indium tin oxide layer), and then a detection corresponding to the sensing electrode pattern to be formed in the active region AR The photoresist is exposed and developed using the electrode mask M2. The touch screen panel produced in FIG. 2 (b) is immersed in the etching solution for a predetermined time to etch the indium tin oxide layer 20 to form the touch screen panel shown in FIG. 2 (c) . Here, the sensing electrode includes a first sensing electrode 21 for sensing a touch region in the x-axis direction and a second sensing electrode 23 for sensing a touch region in the y-axis direction perpendicular to the x- 21 are formed so as to be connected to each other in the x-axis direction through the connection electrode 22.

다음으로 도 2(d)를 참고로 살펴보면, 제 2 감지 전극(23)을 서로 연결하기 위한 브릿지를 형성하는데, 먼저 절연 코팅액을 감지셀이 형성되어 있는 투명기판(10)의 상면에 도포한 후, 절연패드 패턴에 상응하는 절연패드 마스크를 이용하여 노광 및 현상하여 절연패드(40)를 형성한다. 한편, 도 2(e)를 참고로 살펴보면, 절연패드의 상면에 브릿지(50)를 생성하기 위하여 절연패드(40)가 형성된 투명기판(10)의 상면에 산화인듐주석(제2 산화인듐주석층)을 증착한 후 포토레지스트를 도포하여 브릿지 패턴에 상응하는 브릿지 마스크로 산화인듐주석을 에칭하여 브릿지(50)를 생성한다.Next, referring to FIG. 2 (d), a bridge for connecting the second sensing electrodes 23 is formed. First, an insulating coating solution is coated on the upper surface of the transparent substrate 10 on which the sensing cells are formed , And an insulating pad 40 corresponding to the insulating pad pattern is exposed and developed to form the insulating pad 40. 2 (e), on the upper surface of the transparent substrate 10 on which the insulating pad 40 is formed to form the bridge 50 on the upper surface of the insulating pad, indium tin oxide (a second indium tin oxide layer And then a photoresist is applied thereon to etch indium tin oxide with a bridge mask corresponding to the bridge pattern to produce a bridge 50.

여기서 브릿지(50)를 생성하기 위해 제2 산화인듐주석층을 에칭하는 과정에서 형성된 감지 전극의 피해를 최소화하기 위하여, 제1 산화인듐주석층은 결정질 산화인듐주석층인 반면 제2 산화인듐주석층은 비정질 산화인듐주석이며, 따라서 브릿지를 열처리하여 결정질로 변형한다.Here, in order to minimize the damage of the sensing electrode formed in the process of etching the second indium tin oxide layer to produce the bridge 50, the first indium tin oxide layer is a crystalline indium tin oxide layer while the second indium tin oxide layer Is amorphous indium tin oxide and thus transforms into crystalline by heat treatment of the bridge.

이와 같이 종래 기술에 따른 일반적인 GF2 방식 터치 스크린 패널은 서로 인접한 제 2 감지 전극(23)의 연결 부위에만, 즉, 각각의 노드(node)에만 국소적으로 브릿지(50)가 형성된다. 이때, 브릿지(50)는 터치 스크린 패널의 시인성 확보를 위해 그 선폭이 매우 얇고 작게 형성되는데, 이로 인해 브릿지(50)와 제 2 감지 전극(23)과의 접촉 면적이 매우 작아 전기적 컨택 저항이 매우 높게 나타나는 문제가 있다.Thus, in the general GF2 type touch screen panel according to the related art, the bridge 50 is locally formed only at the connecting portion of the adjacent second sensing electrodes 23, that is, at each node. At this time, the bridge 50 is formed to be very thin and small in line width in order to ensure the visibility of the touch screen panel. As a result, the contact area between the bridge 50 and the second sensing electrode 23 is very small, There is a problem that appears to be high.

즉, 종래 기술에 따른 일반적인 GF2 방식 터치 스크린 패널은 제 2 감지 전극(23)을 연결하는 브릿지(50)가 각각의 노드에만 국소적으로 형성되기 때문에, 브릿지(23)와 제 2 감지 전극(23)과의 컨택 저항이 매우 높아 터치 스크린 패널의 전기적 특성이 저하되는 문제가 있다.
That is, in the general GF2 type touch screen panel according to the related art, since the bridge 50 connecting the second sensing electrode 23 is locally formed only at each node, the bridge 23 and the second sensing electrode 23 The contact resistance between the touch screen panel and the touch screen panel is very high.

국내등록특허 제10-1406273호Korean Patent No. 10-1406273

본 발명은 종래 기술의 문제점을 해결하기 위해 발명한 것으로서, 본 발명의 목적은 투명 기판에 형성된 제 2 감지 전극을 연결하는 다수개의 브릿지 전극을 서로 연결할 수 있도록 브릿지 연결부를 형성함으로써, 제 2 감지 전극의 연결 구조에서 제 2 감지 전극에 대한 전기적인 접촉 면적을 증가시켜 컨택 저항을 감소시킬 수 있고, 이에 따라 전체적으로 전기적인 특성을 향상시킬 수 있는 터치 스크린 패널 및 이의 제조 방법을 제공하는 것이다.SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the problems of the prior art, and it is an object of the present invention to provide a bridge structure for connecting a plurality of bridge electrodes connecting second sensing electrodes formed on a transparent substrate, The present invention provides a touch screen panel and a method of manufacturing the touch screen panel, which can reduce the contact resistance by increasing the electrical contact area with respect to the second sensing electrode in the connection structure of the touch screen panel.

본 발명의 다른 목적은 브릿지 전극과 브릿지 연결부를 함께 일체로 형성함으로써, 별도의 추가 공정 없이 브릿지 전극의 형성 과정에서 브릿지 연결부가 동시에 일체로 형성되어 제조 공정을 단순화할 수 있는 터치 스크린 패널 및 이의 제조 방법을 제공하는 것이다.Another object of the present invention is to provide a touch screen panel capable of simplifying a manufacturing process by integrally forming a bridge connection portion in the process of forming a bridge electrode without separately performing a further process by integrally forming a bridge electrode and a bridge connection portion, Method.

본 발명의 또 다른 목적은 브릿지 연결부의 형태를 사용자의 필요에 따라 다양하게 변경함으로써, 제 2 감지 전극에 대한 전기적인 접촉 면적을 필요에 따라 증가시킬 수 있고, 이를 통해 전체적인 전기적 특성을 향상시킬 수 있으며, 디스플레이 장치에 따라 발생할 수 있는 모아레 현상 또한 적절하게 방지할 수 있는 터치 스크린 패널 및 이의 제조 방법을 제공하는 것이다.
It is a further object of the present invention to provide a method and apparatus for electrically connecting a sensing electrode to a sensing electrode by varying the shape of a bridge connection part according to user's needs, The present invention also provides a touch screen panel and a method of manufacturing the touch screen panel that can appropriately prevent a moiré phenomenon that may occur depending on a display device.

본 발명은, 투명 기판의 활성 영역에 X축 방향을 따라 배치되는 다수개의 제 1 감지 전극과, 상기 제 1 감지 전극과 겹치지 않도록 Y축 방향을 따라 배치되는 다수개의 제 2 감지 전극과, 상호 인접한 제 1 감지 전극을 X축 방향으로 각각 연결하는 다수개의 연결 전극을 포함하는 투명 전극층; 상기 연결 전극을 절연시키도록 상기 연결 전극의 상부에 형성되는 절연 패드; 상기 연결 전극과 절연되도록 상기 절연 패드의 상부에 형성되며, 상호 인접한 제 2 감지 전극을 Y축 방향으로 연결하는 브릿지 전극; 및 상호 인접한 브릿지 전극을 Y축 방향으로 서로 연결하는 브릿지 연결부를 포함하는 것을 특징으로 하는 터치 스크린 패널을 제공한다.The present invention provides a plasma display panel comprising a plurality of first sensing electrodes arranged along an X axis direction in an active region of a transparent substrate, a plurality of second sensing electrodes arranged along a Y axis direction so as not to overlap with the first sensing electrodes, A transparent electrode layer including a plurality of connection electrodes connecting the first sensing electrodes in the X-axis direction; An insulating pad formed on the connection electrode to insulate the connection electrode; A bridge electrode formed on the insulating pad so as to be insulated from the connection electrode, the bridge electrode connecting the second sensing electrodes adjacent to each other in the Y axis direction; And a bridge connecting portion connecting the bridge electrodes adjacent to each other in the Y axis direction.

이때, 상기 브릿지 연결부는 상기 제 2 감지 전극과 전기적으로 접촉하도록 상기 제 2 감지 전극의 상면에 형성될 수 있다.At this time, the bridge connection portion may be formed on the upper surface of the second sensing electrode so as to be in electrical contact with the second sensing electrode.

또한, 상기 브릿지 연결부는 상기 브릿지 전극과 일체로 형성될 수 있다.The bridge connection unit may be integrally formed with the bridge electrode.

또한, 상기 브릿지 연결부는 상호 인접한 브릿지 전극을 연결하는 일직선 형태 또는 지그재그 형태의 경로를 갖도록 형성될 수 있다.In addition, the bridge connection portion may be formed to have a straight or zigzag path connecting adjacent bridge electrodes.

본 발명은, 상기 터치 스크린 패널을 제조하는 방법으로서, (a) 상기 투명 기판에 상기 투명 전극층을 형성하는 단계; (b) 상기 연결 전극의 상부에 상기 절연 패드를 형성하는 단계; 및 (c) 상기 절연 패드의 상부에 상기 브릿지 전극 및 브릿지 연결부를 일체로 형성하는 단계를 포함하고, 상기 (c) 단계는, 상기 투명 전극층 및 절연 패드가 형성된 투명 기판에 전도성 물질의 브릿지 전극층을 형성하는 단계; 및 상기 브릿지 전극 및 브릿지 연결부의 패턴에 대응되는 브릿지 마스크를 통해 상기 브릿지 전극층을 노광 및 현상하여 상기 브릿지 전극 및 브릿지 연결부를 일체로 동시에 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 터치 스크린 패널 제조 방법을 제공한다.
The present invention provides a method of manufacturing the touch screen panel, comprising the steps of: (a) forming the transparent electrode layer on the transparent substrate; (b) forming the insulating pad on the connection electrode; And (c) forming the bridge electrode and the bridge connection unit integrally on the insulating pad. In the step (c), a bridge electrode layer of a conductive material is formed on the transparent substrate on which the transparent electrode layer and the insulation pad are formed ; And exposing and developing the bridge electrode layer through a bridge mask corresponding to the pattern of the bridge electrode and the bridge connection part, thereby simultaneously forming the bridge electrode and the bridge connection part integrally. to provide.

본 발명에 의하면, 투명 기판에 형성된 제 2 감지 전극을 연결하는 다수개의 브릿지 전극을 서로 연결할 수 있도록 브릿지 연결부를 형성함으로써, 제 2 감지 전극의 연결 구조에서 제 2 감지 전극에 대한 전기적인 접촉 면적을 증가시켜 컨택 저항을 감소시킬 수 있고, 이에 따라 전체적으로 전기적인 특성을 향상시킬 수 있는 효과가 있다.According to the present invention, by forming the bridge connection portion to connect the plurality of bridge electrodes connecting the second sensing electrodes formed on the transparent substrate, the electrical contact area with respect to the second sensing electrode in the connection structure of the second sensing electrode is The contact resistance can be reduced, and as a result, the electrical characteristics as a whole can be improved.

또한, 브릿지 전극과 브릿지 연결부를 함께 일체로 형성함으로써, 별도의 추가 공정 없이 브릿지 전극의 형성 과정에서 브릿지 연결부가 동시에 일체로 형성되어 제조 공정을 단순화할 수 있고, 아울러, 브릿지 전극과 브릿지 연결부를 동시에 일체로 형성함으로써, 브릿지 전극만 형성하는 것과 비교하여 그 형상이 단순하여 제조 공정이 더욱 단순화되는 효과가 있다.Further, since the bridge electrode and the bridge connection unit are formed integrally together, the bridge connection unit can be integrally formed at the same time in the process of forming the bridge electrode without a separate additional process, thereby simplifying the manufacturing process. Further, By forming them integrally, the shape is simple compared with the case where only the bridge electrode is formed, so that the manufacturing process is further simplified.

또한, 브릿지 연결부의 형태를 사용자의 필요에 따라 다양하게 변경함으로써, 제 2 감지 전극에 대한 전기적인 접촉 면적을 필요에 따라 증가시킬 수 있고, 이를 통해 전체적인 전기적 특성을 향상시킬 수 있으며, 디스플레이 장치에 따라 발생할 수 있는 모아레 현상 또한 적절하게 방지할 수 있는 효과가 있다.
In addition, by varying the shape of the bridge connection part according to the user's needs, the electrical contact area with respect to the second sensing electrode can be increased as needed, thereby improving the overall electrical characteristics, It is possible to properly prevent the moire phenomenon that may occur.

도 1은 종래 기술에 따른 일반적인 터치 스크린 패널의 구조를 개략적으로 도시한 도면,
도 2는 종래 기술에 따른 일반적인 터치 스크린 패널의 제작 방법을 설명하기 위한 도면,
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 터치 스크린 패널 제작 방법을 작업 순서에 따라 개략적으로 도시한 도면,
도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 터치 스크린 패널의 구조를 개략적으로 도시한 도면,
도 5는 본 발명의 또 다른 일 실시예에 따른 터치 스크린 패널의 구조를 개략적으로 도시한 도면,
도 6은 본 발명의 일 실시예에 따른 터치 스크린 패널 제작 방법에 대한 개략적인 작업 순서도이다.FIG. 1 schematically shows a structure of a conventional touch screen panel according to the related art,
2 is a view for explaining a method of manufacturing a general touch screen panel according to the related art,
3 is a schematic view illustrating a method of manufacturing a touch screen panel according to an exemplary embodiment of the present invention,
4 is a schematic view illustrating a structure of a touch screen panel according to an exemplary embodiment of the present invention.
5 is a schematic view illustrating a structure of a touch screen panel according to another embodiment of the present invention.
6 is a schematic flowchart illustrating a method of manufacturing a touch screen panel according to an exemplary embodiment of the present invention.

이하, 본 발명의 바람직한 실시예를 첨부된 도면들을 참조하여 상세히 설명한다. 우선 각 도면의 구성요소들에 참조부호를 부가함에 있어서, 동일한 구성요소들에 대해서는 비록 다른 도면상에 표시되더라도 가능한 한 동일한 부호를 가지도록 하고 있음에 유의해야 한다. 또한, 본 발명을 설명함에 있어, 관련된 공지 구성 또는 기능에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 흐릴 수 있다고 판단되는 경우에는 그 상세한 설명은 생략한다.
Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. In the drawings, the same reference numerals are used to designate the same or similar components throughout the drawings. In the following description of the present invention, a detailed description of known functions and configurations incorporated herein will be omitted when it may make the subject matter of the present invention rather unclear.

도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 터치 스크린 패널 제작 방법을 작업 순서에 따라 개략적으로 도시한 도면이고, 도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 터치 스크린 패널의 구조를 개략적으로 도시한 도면이고, 도 5는 본 발명의 또 다른 일 실시예에 따른 터치 스크린 패널의 구조를 개략적으로 도시한 도면이고, 도 6은 본 발명의 일 실시예에 따른 터치 스크린 패널 제작 방법에 대한 개략적인 작업 순서도이다.FIG. 3 is a schematic view illustrating a method of manufacturing a touch screen panel according to an exemplary embodiment of the present invention, and FIG. 4 is a view schematically showing a structure of a touch screen panel according to an exemplary embodiment of the present invention. FIG. 5 is a schematic view illustrating a structure of a touch screen panel according to another embodiment of the present invention. FIG. 6 is a schematic flowchart of a touch screen panel manufacturing method according to an embodiment of the present invention. to be.

본 발명의 일 실시예에 따른 터치 스크린 패널은 GF2 방식의 터치 스크린 패널로서, 사용자의 접촉 위치를 감지할 수 있도록 투명 기판(100)의 활성 영역(AR)에 형성되는 제 1 감지 전극(210), 제 2 감지 전극(230) 및 연결 전극(220)을 포함하는 투명 전극층(200)과, 연결 전극(220)을 절연시키는 절연 패드(400)와, 제 2 감지 전극(230)을 연결하는 브릿지 전극(510)과, 브릿지 전극(510)을 연결하는 브릿지 연결부(520)를 포함하여 구성된다.A touch screen panel according to an embodiment of the present invention is a GF2 type touch screen panel. The touch screen panel includes a first sensing electrode 210 formed on an active region AR of a transparent substrate 100, A transparent electrode layer 200 including a second sensing electrode 230 and a connection electrode 220, an insulation pad 400 for insulating the connection electrode 220, and a bridge connecting the second sensing electrode 230, And a bridge connection unit 520 connecting the electrode 510 and the bridge electrode 510. [

또한, 본 발명은 이러한 터치 스크린 패널을 제조하는 방법으로서, 투명 전극층 형성 단계(S1)와, 절연 패드 형성 단계(S2)와, 브릿지 전극(510) 및 브릿지 연결부(520)를 일체로 형성하는 단계(S3)를 포함하여 구성된다.In addition, the present invention provides a method of manufacturing such a touch screen panel, comprising: forming a transparent electrode layer forming step S1, an insulating pad forming step S2, a bridge electrode 510 and a bridge connecting part 520 integrally (S3).

투명 전극층 형성 단계(S1)에서는 사용자의 접촉 위치를 감지할 수 있는 투명 전극층(200)을 투명 기판(100)의 활성 영역에 형성하는데, 투명 전극층(200)은 투명 기판(100)의 활성 영역에 X축 방향을 따라 배치되는 다수개의 제 1 감지 전극(210)과, 제 1 감지 전극(210)과 겹치지 않도록 Y축 방향을 따라 배치되는 다수개의 제 2 감지 전극(230)과, 상호 인접한 제 1 감지 전극(210)을 X축 방향으로 연결하는 연결 전극(220)을 포함한다.In the transparent electrode layer forming step S1, a transparent electrode layer 200 capable of sensing the contact position of the user is formed in the active region of the transparent substrate 100. The transparent electrode layer 200 is formed on the active region of the transparent substrate 100 A plurality of first sensing electrodes 210 arranged along the X axis direction, a plurality of second sensing electrodes 230 arranged along the Y axis direction so as not to overlap with the first sensing electrodes 210, And a connection electrode 220 connecting the sensing electrode 210 in the X axis direction.

이러한 투명 전극층(200)은 도 3의 (a)에 도시된 바와 같이 투명 기판(100) 위에 투명 전극 물질(T)을 증착하고, 도 3의 (b)에 도시된 바와 같이 투명 전극 물질(T)에 대한 포토리소그래피(photolithography) 공정을 통해 투명 전극층(200), 즉, 제 1 감지 전극(210), 제 2 감지 전극(230) 및 연결 전극(220)을 형성한다. 즉, 별도의 마스크(미도시)를 이용하여 투명 전극 물질(T)에 대해 노광, 현상 및 식각 공정을 거쳐 투명 전극층(200)의 패턴에 따라 제 1 감지 전극(210), 제 2 감지 전극(230) 및 연결 전극(220)을 형성한다. 이때, X축 방향을 따라 배치되는 제 1 감지 전극(210)은 연결 전극(220)를 통해 상호 연결되며, Y축 방향을 따라 배치되는 제 2 감지 전극(230)은 후술하는 브릿지(500)를 통해 상호 연결된다.3 (a), the transparent electrode layer 200 is formed by depositing a transparent electrode material T on the transparent substrate 100 and forming a transparent electrode material T as shown in FIG. 3 (b) The first sensing electrode 210, the second sensing electrode 230, and the connection electrode 220 are formed through a photolithography process on the transparent electrode layer 200. That is, the transparent electrode material T is exposed, developed, and etched using a separate mask (not shown) to form the first sensing electrode 210 and the second sensing electrode 210 according to the pattern of the transparent electrode layer 200 230 and a connecting electrode 220 are formed. The first sensing electrodes 210 disposed along the X axis direction are connected to each other through the connection electrodes 220 and the second sensing electrodes 230 disposed along the Y axis direction are connected to the bridge 500 Lt; / RTI >

여기서, 투명 기판(100)은 평평한 양면을 가지는 PET(Polyethylene terephthalate) 필름, PC(Polycarbonate), PMMA(Polymethyl methacrylate) 필름, PEN(Polyethylene naphthalate) 필름 중 어느 하나로 이루어질 수 있다.Here, the transparent substrate 100 may be formed of any one of PET (Polyethylene terephthalate) film, PC (Polycarbonate), PMMA (Polymethyl methacrylate) film and PEN (Polyethylene naphthalate) film.

또한, 투명 전극층(200)은 투명 전도성 물질로 이루어지는데, 전도성 물질은 ITO(Indium-Tin Oxide), AZO(Al-doped Zinc Oxide), IZO(Indium Zinc Oxide), ZnO(Zinc Oxide), ATO(Antimony-doped Tin Oxide), FTO(Fluorine-doped Tin Oxide), GZO(Galliumdoped Zinc Oxide) 등의 투명 전도성 산화물이나, 탄소나노와이어와 그래핀 같은 탄소기반 투명소재, 또는 투명전도성 고분자가 될 수 있다.The transparent electrode layer 200 may be formed of a transparent conductive material such as ITO (Indium Tin Oxide), AZO (Al-doped Zinc Oxide), IZO (Indium Zinc Oxide), ZnO (Zinc Oxide) A transparent conductive oxide such as antimony-doped tin oxide (FTO), fluorine-doped tin oxide (FTO), or galliumdoped zinc oxide (GZO); a carbon-based transparent material such as carbon nanowire and graphene; or a transparent conductive polymer.

이와 같은 투명 전극층이 형성된 이후, 절연 패드 형성 단계(S2)가 수행되는데, 절연 패드 형성 단계(S2)는 투명 전극층 형성 단계(S1)를 통해 투명 전극층(200)이 형성된 상태에서 도 3의 (c)에 도시된 바와 같이 연결 전극(220)의 상면을 덮을 수 있도록 절연 패드(400)를 형성하는 방식으로 진행된다. 좀더 구체적으로는, 투명 전극층(200)이 형성된 투명 기판(100)에 절연 코팅액을 도포한 후, 절연 패드 패턴에 상응하는 절연 패드 마스크(미도시)를 이용하여 노광 및 현상하여 절연 패드(400)를 형성한다. 이때, 절연 패드(400)는 연결 전극(220)을 절연시키기 위한 것으로, 연결 전극(220)을 감싸는 형태로 연결 전극(220)의 상면에 형성된다.After the transparent electrode layer is formed, an insulating pad forming step S2 is performed. In the insulating pad forming step S2, the transparent electrode layer 200 is formed through the transparent electrode layer forming step S1, The insulating pad 400 is formed so as to cover the upper surface of the connection electrode 220 as shown in FIG. More specifically, the insulating coating liquid is applied to the transparent substrate 100 on which the transparent electrode layer 200 is formed, and then exposed and developed using an insulating pad mask (not shown) corresponding to the insulating pad pattern, . The insulating pad 400 is formed on the upper surface of the connection electrode 220 to surround the connection electrode 220 to insulate the connection electrode 220.

이 상태에서, 브릿지 전극(510) 및 브릿지 연결부(520) 형성 단계(S3)가 수행되는데, 본 발명의 일 실시예에서는 브릿지 전극(510) 및 브릿지 연결부(520)가 동시에 일체로 형성된다.In this state, a step of forming a bridge electrode 510 and a bridge connection part 520 is performed. In an embodiment of the present invention, the bridge electrode 510 and the bridge connection part 520 are integrally formed at the same time.

브릿지 전극(510)은 서로 인접한 제 2 감지 전극(230)을 Y축 방향으로 연결하는 것으로, 연결 전극(220)과 절연되도록 절연 패드(400)의 상부에 형성된다. 따라서, 브릿지 전극(510)은 제 2 감지 전극(230)의 연결 부위에, 즉, 각각의 노드 부위에서 절연 패드(400)의 상부에 형성되어 제 2 감지 전극(230)을 전기적으로 연결한다. The bridge electrode 510 connects the second sensing electrodes 230 adjacent to each other in the Y axis direction and is formed on the insulating pad 400 to be insulated from the connection electrode 220. Accordingly, the bridge electrode 510 is formed on the connection portion of the second sensing electrode 230, that is, on the upper portion of the insulating pad 400 at each node portion to electrically connect the second sensing electrode 230.

브릿지 연결부(520)는 이와 같이 제 2 감지 전극(230)의 연결 부위인 각 노드 부위에 형성된 브릿지 전극(510) 중 상호 인접한 브릿지 전극(510)을 Y축 방향으로 서로 연결하도록 형성된다. 이러한 브릿지 연결부(520)는 제 2 감지 전극(230)과 전기적으로 접촉하도록 제 2 감지 전극(230)의 상면에 형성되며, 브릿지 전극(510)과 함께 동시에 일체로 형성된다.The bridge connection unit 520 is formed so as to connect the bridge electrodes 510 adjacent to each other among the bridge electrodes 510 formed at the respective nodes of the connection part of the second sensing electrode 230 in the Y axis direction. The bridge connection unit 520 is formed on the upper surface of the second sensing electrode 230 so as to be in electrical contact with the second sensing electrode 230 and integrally formed with the bridge electrode 510 at the same time.

좀더 자세히 살펴보면, 브릿지 전극(510) 및 브릿지 연결부(520) 형성 단계(S3)는 먼저, 절연 패드(400)가 형성된 투명 기판(100)에 전도성 물질의 브릿지 전극층을 형성하고(S3-1), 이후, 브릿지 전극(510) 및 브릿지 연결부(520)의 패턴에 대응되는 브릿지 마스크(미도시)를 통해 브릿지 전극층을 노광 및 현상하여(S3-2) 브릿지 전극(510) 및 브릿지 연결부(520)를 일체로 동시에 형성하는 방식으로 진행된다.The bridge electrode 510 and the bridge connection unit 520 may be formed by forming a bridge electrode layer of a conductive material on the transparent substrate 100 on which the insulation pad 400 is formed S3-1, Thereafter, the bridge electrode layer is exposed and developed (S3-2) through a bridge mask (not shown) corresponding to the pattern of the bridge electrode 510 and the bridge connection portion 520 to form the bridge electrode 510 and the bridge connection portion 520 They are formed integrally at the same time.

이때, 브릿지 전극층은 전술한 바와 같이 ITO와 같은 투명 전도성 물질을 투명 기판(100)의 상면에 증착시키는 방식으로 형성될 수 있으며, 이를 이용하여 브릿지 전극(510) 및 브릿지 연결부(520)를 형성할 수 있다. 그러나, 이와 달리 Ag, Cu와 같은 금속 전도성 물질을 이용하여 잉크 충진 방식 등을 통해 브릿지 전극(510) 및 브릿지 연결부(520)를 형성할 수도 있다.At this time, the bridge electrode layer may be formed by depositing a transparent conductive material such as ITO on the upper surface of the transparent substrate 100 as described above, and the bridge electrode 510 and the bridge connection portion 520 may be formed using the same . Alternatively, the bridge electrode 510 and the bridge connection unit 520 may be formed through an ink filling method using a metal conductive material such as Ag or Cu.

이와 같이 브릿지 전극(510) 및 브릿지 연결부(520)가 형성됨으로써, 투명 전극층(200)의 상면에는 Y축 방향을 따라 도 4에 도시된 바와 같이 브릿지 전극(510)과, 이를 연결하는 브릿지 연결부(520)가 연속적으로 형성된다. 이때, 브릿지 연결부(520)는 서로 인접한 브릿지 전극(510)을 연결하는 일직선 형태의 경로를 갖도록 형성될 수 있다. 물론, 브릿지 연결부(520)는 도 5에 도시된 바와 같이 지그재그 형태의 경로를 갖도록 형성될 수도 있으며, 이와 달리 또 다른 다양한 형태의 경로를 갖도록 형성될 수 있다.4, the bridge electrode 510 and the bridge connection portion 520 are formed on the upper surface of the transparent electrode layer 200 along the Y-axis direction. The bridge electrode 510 and the bridge connection portion 520 are continuously formed. At this time, the bridge connection part 520 may be formed to have a straight path connecting the bridge electrodes 510 adjacent to each other. Of course, the bridge connection part 520 may be formed to have a zigzag path as shown in FIG. 5, or may be formed to have various other types of paths.

이러한 구조에 따라 제 2 감지 전극(230)은 브릿지 전극(510)에 의해 서로 전기적으로 연결됨과 동시에 브릿지 연결부(520)에 의해서도 통전되게 된다. 즉, 서로 인접한 제 2 감지 전극(230)은 브릿지 전극(510) 및 브릿지 연결부(520)에 의해 서로 통전되며, 이때, 브릿지 전극(510) 뿐만 아니라 브릿지 연결부(520)에 의해서도 전기적으로 접촉하게 되므로, 접촉 면적이 증가하여 전기적인 컨택 저항이 낮아지게 되며, 이에 따라 터치 스크린 패널의 전기적 특성이 향상된다.According to this structure, the second sensing electrodes 230 are electrically connected to each other by the bridge electrode 510 and are also energized by the bridge connection unit 520. That is, the second sensing electrodes 230 adjacent to each other are electrically connected to each other by the bridge electrode 510 and the bridge connection unit 520, and are electrically contacted not only by the bridge electrode 510 but also by the bridge connection unit 520 , The contact area is increased and the electrical contact resistance is lowered, thereby improving the electrical characteristics of the touch screen panel.

즉, 종래 기술에 따른 터치 스크린 패널은 배경 기술에서 설명한 바와 같이 선폭이 매우 얇은 브릿지 전극에 의해 제 2 감지 전극(230)이 서로 연결되므로, 브릿지 전극(510)과 제 2 감지 전극(230)의 접촉 면적이 매우 작아 전기적인 컨택 저항이 높고, 이에 따라 전기적 특성이 좋지 않은 문제가 있었으나, 본 발명의 일 실시예에 따른 터치 스크린 패널은 브릿지 전극(510) 이외에도 브릿지 전극(510)을 연결하는 브릿지 연결부(520)를 제 2 감지 전극(230)의 상면에 형성함으로써, 제 2 감지 전극(230)이 브릿지 전극(510) 및 브릿지 연결부(520)를 통해 서로 연결되고, 브릿지 전극(510) 및 브릿지 연결부(520)에 의해 제 2 감지 전극(230)에 대한 전기적인 접촉 면적이 증가하게 되므로, 전기적인 컨택 저항이 낮고, 이에 따라 전기적 특성이 향상된다.That is, since the touch sensing panel according to the related art is connected to the second sensing electrodes 230 by the bridge electrodes having a very small line width as described in the background art, the bridge electrodes 510 and the second sensing electrodes 230 The touch screen panel according to an embodiment of the present invention has a bridge electrode 510 and a bridge connecting the bridge electrode 510. In addition to the bridge electrode 510, The second sensing electrodes 230 are connected to each other via the bridge electrode 510 and the bridge connection unit 520 and the bridge electrode 510 and the bridge 520 are connected to each other, Since the electrical contact area with respect to the second sensing electrode 230 is increased by the connection part 520, the electrical contact resistance is low, and thus the electrical characteristics are improved.

이 경우, 브릿지 연결부(520)의 형태를 도 5에 도시된 바와 같이 지그재그 형태로 형성하게 되면, 브릿지 연결부(520)가 직선 형태인 경우와 비교하여 제 2 감지 전극(230)에 대한 접촉 면적이 상대적으로 더욱 증가하게 되므로, 전기적인 컨택 저항을 더욱 낮출 수 있다.In this case, if the shape of the bridge connection part 520 is formed in a zigzag shape as shown in FIG. 5, the contact area of the bridge connection part 520 with respect to the second sensing electrode 230 is So that the electrical contact resistance can be further lowered.

한편, 브릿지 연결부(520)는 터치 스크린 패널의 시인성 확보를 위해 매우 얇은 선폭을 갖도록 형성되는 것이 바람직하며, 아울러, 터치 스크린 패널이 디스플레이 장치에 결합될 때, 디스플레이 장치와의 관계에서 브릿지 연결부(520)에 의한 모아레 현상 등이 발생하지 않도록 직선 형태가 아닌 적절한 형태로 변경 적용할 수 있다. 예를 들면, 도 5에 도시된 바와 같이 브릿지 연결부(520)를 지그재그 형태로 형성하거나 또는 하나의 절곡된 직선 형태로 형성하거나 사용자의 필요에 따라 다양하게 변경할 수 있다.In addition, when the touch screen panel is coupled to the display device, the bridge connection portion 520 may be formed to have a very thin line width in order to secure the visibility of the touch screen panel. In addition, ) May be changed to a proper shape instead of a straight line shape so that a moiré phenomenon caused by the above-mentioned phenomenon does not occur. For example, as shown in FIG. 5, the bridge connection unit 520 may be formed in a zigzag shape, a single bent straight line shape, or may be variously changed according to the needs of the user.

한편, 이상에서는 투명 기판의 활성 영역에 형성되는 투명 전극층(200), 절연 패드(400), 브릿지 전극(510) 및 브릿지 연결부(520)에 대해서만 설명하였으나, 투명 기판의 비활성 영역에는 도 2에서 설명한 바와 같이 투명 전극층(200)의 제 1 감지 전극(210) 및 제 2 감지 전극(230)과 연결되는 금속 배선이 형성되며, 이는 일반적인 터치 스크린 패널의 금속 배선 형성하는 방식과 마찬가지 방식으로 형성될 수 있다.
Although only the transparent electrode layer 200, the insulating pad 400, the bridge electrode 510, and the bridge connection portion 520 formed in the active region of the transparent substrate have been described above, A metal wiring connected to the first sensing electrode 210 and the second sensing electrode 230 of the transparent electrode layer 200 is formed as shown in FIG. have.

이상의 설명은 본 발명의 기술 사상을 예시적으로 설명한 것에 불과한 것으로서, 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 본 발명의 본질적인 특성에서 벗어나지 않는 범위에서 다양한 수정 및 변형이 가능할 것이다. 따라서, 본 발명에 개시된 실시예들은 본 발명의 기술 사상을 한정하기 위한 것이 아니라 설명하기 위한 것이고, 이러한 실시예에 의하여 본 발명의 기술 사상의 범위가 한정되는 것은 아니다. 본 발명의 보호 범위는 아래의 청구범위에 의하여 해석되어야 하며, 그와 동등한 범위 내에 있는 모든 기술 사상은 본 발명의 권리범위에 포함되는 것으로 해석되어야 할 것이다.
The foregoing description is merely illustrative of the technical idea of the present invention and various changes and modifications may be made by those skilled in the art without departing from the essential characteristics of the present invention. Therefore, the embodiments disclosed in the present invention are intended to illustrate rather than limit the scope of the present invention, and the scope of the technical idea of the present invention is not limited by these embodiments. The scope of protection of the present invention should be construed according to the following claims, and all technical ideas within the scope of equivalents should be construed as falling within the scope of the present invention.

100: 투명 기판 200: 투명 전극층
210: 제 1 감지 전극 220: 연결 전극
230: 제 2 감지 전극 400: 절연 패드
510: 브릿지 전극 520: 브릿지 연결부100: transparent substrate 200: transparent electrode layer
210: first sensing electrode 220: connection electrode
230: second sensing electrode 400: insulating pad
510: bridge electrode 520: bridge connection

Claims

delete

A plurality of second sensing electrodes arranged along the Y axis direction so as not to overlap with the first sensing electrodes and a plurality of second sensing electrodes arranged along the Y axis direction so as not to overlap with the first sensing electrodes, A transparent electrode layer including a plurality of connection electrodes for connecting the transparent electrodes in the X-axis direction;
An insulating pad formed on the connection electrode to insulate the connection electrode;
A bridge electrode formed on the insulating pad so as to be insulated from the connection electrode, the bridge electrode connecting the second sensing electrodes adjacent to each other in the Y axis direction; And
A bridge connecting portion for connecting mutually adjacent bridge electrodes in the Y-axis direction,
Lt; / RTI >
Wherein the bridge connection portion is formed on an upper surface of the second sensing electrode so as to be in electrical contact with the second sensing electrode,
Wherein the bridge connection part is formed integrally with the bridge electrode.

The method of claim 3,
Wherein the bridge connection portion is formed to have a straight or zigzag path connecting adjacent bridge electrodes.

A method of manufacturing a touch screen panel according to claim 3,
(a) forming the transparent electrode layer on the transparent substrate;
(b) forming the insulating pad on the connection electrode; And
(c) integrally forming the bridge electrode and the bridge connection portion on the insulating pad
(C) comprises the steps of:
Forming a bridge electrode layer of a conductive material on the transparent substrate on which the transparent electrode layer and the insulating pad are formed; And
And exposing and developing the bridge electrode layer through a bridge mask corresponding to the pattern of the bridge electrode and the bridge connection portion to simultaneously form the bridge electrode and the bridge connection portion
The method comprising the steps of: