KR101533905B1 - 비행장 내의 이물질, 파편 또는 손상 검출 감시 시스템 및 방법 - Google Patents
비행장 내의 이물질, 파편 또는 손상 검출 감시 시스템 및 방법 Download PDFInfo
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Abstract
Description
도 1a, 도 1b 및 도 1c는 활주로/유도로 상의 이물질(foreign objects), 파편(debris) 또는 손상(damages)(FOD)과 비행장 손상을 검출하기 위한 감시 시스템에서 감시 카메라들의 배치를 도시하는 도면이다.
도 2는 일 실시예에 따른 FOD 및 비행장 손상 검출의 기본 흐름도이다.
도 3a 및 3b는 본 발명의 일 실시예에 따른 상세 흐름도이다.
도 4는 도 3a에서 에지 맵(edge map)을 추출하기 위하여 사용되는 룩업 테이블을 도시한 그래프이다.
도 5는 활주로/유도로 상의 FOD 또는 비행장 손상을 검출하기 위한 감시 시스템내의 감시 카메라들의 불필요한 영역을 도시하는 도면이다.
도 6은 다른 실시예에 따른 활주로 표면 스캐닝을 도시하는 도면이다.
도 7은 이미지 교정( 픽셀을 실물로 대응되도록 교정 )을 위하여 활주로 라인을 사용하는 일 실시예에 따라 활주로 라인을 도시한 도면이다.
도 8은 실시예의 시스템 및 방법을 구성하는 컴퓨터 시스템을 도시한 도면이다.
도 9는 이물질, 파편, 손상(FOD) 및 비행장 활주로 손상을 검출하기 위한 시스템과, 및 실시예의 무기 충격 감시 시스템을 포함하는 통합 비행장 손상 평가 시스템을 도시하는 개략도이다.
도 10은 도 9의 무기 충격 감시 시스템을 사용하는 충격 검출 시스템을 도시하는 개략도이다.
도 11은 도 9의 통합 비행장 손상 평가 시스템에 사용되는 소프트웨어 모듈을 표시하는 레이아웃을 보여준다.
도 12는 전쟁기간 동안 도 11의 소프트웨어 모듈의 상호 작용을 보여주는 레이아웃을 보여준다.
도 13은 평화 기간 동안 도 11의 소프트웨어 모듈의 상호 작용을 보여주는 레이아웃을 보여준다.
도 14는 도 9의 통합 비행장 손상 평가 시스템의 하드웨어 레이아웃을 나타낸 개략도이다.
도 15는 강조되는 활주로 이미지 내의 특정 이물질 파편 손상 영역을 가진 활주로의 스티치된 이미지를 보여준다.
도 16은 검출기의 두 가지 유형을 사용하여 비행장 이미지 내의 이물질, 파편(FOD) 또는 손상의 검출을 도시하는 흐름도이다.
도 17은 이미지 교정에 사용되는 비행장의 다른 영역에 존재하는 마커를 나타낸 도면이다.
도 18은 현재 이미지와 기본 이미지 사이의 오프셋 정정을 설명하기 위한 다이어프램이다.
도 19는 현재 이미지와 기본 이미지 사이의 오프셋 정정을 설명하기 위한 다이어프램이다.
도 20은 비행장 이미지 오프셋 보상을 위한 선형 회귀의 사용을 설명하기 위한 흐름도이다.
Claims (54)
- 비행장 내의 이물질, 파편 또는 손상을 검출하기 위한 감시 시스템으로서,
상기 감시 시스템은 비행장의 이미지 또는 비디오를 캡처하기 위한 하나 이상의 카메라;
하나 이상의 카메라로 캡처한 이미지로부터 비행장 내의 이물질, 파편 또는 손상을 검출하기 위한 프로세싱 장치;
그리고 비행장에서 무기 충격을 검출하고 검출된 무기 충격의 영역 내의 이미지를 캡처하도록 하나 이상의 카메라를 안내하기 위한 무기 충격 감시 시스템을 포함하는 것을 특징으로 하는 감시 시스템. - 제 1항에 있어서,
상기 하나 이상의 카메라는 정적(static) 및 비-정적(non-static) 카메라의 조합을 포함하는 것을 특징으로 하는 감시 시스템. - 제 1항 또는 제 2항에 있어서,
상기 하나 이상의 카메라는 손상의 유형을 검출하기 위해 세부 이미지를 얻기 위해서 검출된 무기 충격의 영역을 줌-인하거나 초점을 맞추는 것을 특징으로 하는 감시 시스템. - 제 1항 또는 제 2항에 있어서,
상기 무기 충격은 무기 충격에 의해 발생된 폭발, 연기, 먼지 또는 플래시의 이미지 또는 소리에 의해 검출되는 것을 특징으로 하는 감시 시스템. - 제 1항 또는 제 2항에 있어서,
상기 감시 시스템은 비행장 내에서 검출된 이물질, 파편, 또는 손상의 위치에 근거를 둔 항공기 착륙을 위한 최소 운행 스트립(MOS)을 유도하기 위한 계산 모듈을 포함하는 것을 특징으로 하는 감시 시스템. - 제 1항 또는 제 2항에 있어서,
상기 감시 시스템은 비행장 내의 균열, 큰 구멍, 폭발로 생긴 구멍, 스폴, UXO 또는 동물을 검출하는 것을 특징으로 하는 감시 시스템. - 제 6항에 있어서,
상기 프로세싱 장치는 각각 큰 구멍, 폭발로 생긴 구멍 또는 스폴 주위에 파편의 양을 검출하여 큰 구멍, 폭발로 생긴 구멍 또는 스폴의 크기를 결정하는 것을 특징으로 하는 감시 시스템. - 제 1항 또는 제 2항에 있어서,
상기 하나 이상의 카메라는 비행장의 광역 이미지 캡처를 제공하기 위해 광각 렌즈를 장착하고 있는 것을 특징으로 하는 감시 시스템. - 제 1항 또는 제 2항에 있어서,
상기 하나 이상의 카메라는 비행장의 이미지를 캡처하기 위해 비행장 위를 비행하도록 구성된 항공기에 장착되어 있는 것을 특징으로 하는 감시 시스템. - 제 1항 또는 제 2항에 있어서,
상기 감시 시스템은 낮은 시정 또는 낮은 주변 조명 조건에서 인공 조명을 제공하기 위한 하나 이상의 적외선 또는 가시 광선 조명기를 포함하는 것을 특징으로 하는 감시 시스템. - 제 1항 또는 제 2항에 있어서,
상기 프로세싱 장치는 이물질, 파편, 손상의 크기 또는 물리적 속성을 측정하기 위해 구성되는 것을 특징으로 하는 감시 시스템. - 제 1항 또는 제 2항에 있어서,
상기 비행장에서 검출된 손상은 비행장 맵에 매핑되는 것을 특징으로 하는 감시 시스템. - 제 1항 또는 제 2항에 있어서,
상기 감시 시스템은 이물질, 파면 또는 손상일 수 있는, 캡처된 이미지 내에 영역을 검출하기 위한 영역 기반 검출기;와,
캡처된 이미지 내의 모든 물질의 에지를 검출하기 위한 에지 기반 검출기를 포함할 수 있으며,
이미지 내의 에지 기반 검출기에 의해 검출된 에지와 중첩되는 이미지 내의 영역 기반 검출기에 의해 검출된 영역이 저장되는 것을 특징으로 하는 감시 시스템. - 제 1항 또는 제 2항에 있어서,
상기 하나 이상의 카메라로 캡처한 이미지는 함께 스티치(stitch)되고, 초기에 캡처 스티치된 이미지와 나중에 캡처 스티치된 이미지 사이의 차이의 영역은 나중에 캡처 스티치된 이미지 내에 강조 표시(highlighted)되는 것을 특징으로 하는 감시 시스템. - 제 1항 또는 제 2항에 있어서,
상기 무기 충격 감시 시스템은 무기 충격이 검출되면 시각적 또는 오디오 경고를 트리거하도록 구성되어 있는 것을 특징으로 하는 감시 시스템. - 제 1항 또는 제 2항에 있어서,
상기 감시 시스템은 무기 충격의 위치와 손상 정보를 근거해서 복구 작업을 예측하고 계획하기 위한 복구 예측 및 계획 모듈을 포함하는 것을 특징으로 하는 감시 시스템. - 제 1항 또는 제 2항에 있어서,
상기 하나 이상의 카메라는 비행장에서 활주로의 양 반대편에 설치되며, 이들의 뷰(view)는 중첩되는 것을 특징으로 하는 감시 시스템. - 제 1항 또는 제 2항에 있어서,
상기 하나 이상의 카메라의 뷰는 중첩되는 것을 특징으로 하는 감시 시스템. - 제 1항 또는 제 2항에 있어서,
상기 감시 시스템은 비행장 내의 손상을 복구하거나 이물질을 제거하기 위해 원격 경보 및 중요한 정보를 수신하기 위한 하나 이상의 모바일 핸드헬드 장치를 포함하는 것을 특징으로 하는 감시 시스템. - 제 1항 또는 제 2항에 있어서,
상기 감시 시스템은 현재 캡처된 이미지와, 현재 캡처 이미지와 참조 이미지에 위치된 공통 객체의 위치에 근거해 카메라로 찍은 참조 이미지 사이의 오프셋을 정정하기 위한 이미지 오프셋 보상기를 포함하는 것을 특징으로 하는 감시 시스템. - 제 20항에 있어서,
상기 이미지 오프셋 보상기는 현재 캡처 이미지와 참조 이미지 사이를 정정하도록 오프셋을 결정하기 위해 현재 캡처 이미지와 참조 이미지 내의 하나 이상의 공통 객체를 사용하는 것을 특징으로 하는 감시 시스템. - 제 21항에 있어서,
선형 회귀(liner regression)는 현재 캡처 이미지와 참조 이미지 사이를 정정하도록 오프셋을 결정하는데 사용되며, 현재 캡처 이미지와 참조 이미지 내의 공통 객체를 근거해서 계산된 오프셋 값은 현재 캡처 이미지와 참조 이미지 내의 공통 객체를 매칭함으써 결정된 점수(score)가 소정의 임계값보다 크다면, 선형 회귀에 맞는 것으로 간주되는 것을 특징으로 하는 감시 시스템. - 제 1항 또는 제 2항에 있어서,
상기 감시 시스템은 비행장에서 검출된 이물질, 파편, 또는 손상의 위치에 근거한 항공기용 최소 비행장 운영 표면(MAOS)을 유도하기 위한 계산 모듈을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 감시 시스템. - 제 1항 또는 제 2항에 있어서,
상기 감시 시스템은 낮은 시정 또는 낮은 주변 조명 조건에서 인공 조명을 제공하기 위해 하나 이상의 가시 광선 조명기를 포함하는 것을 특징으로 하는 감시 시스템. - 제 1항 또는 제 2항에 있어서,
상기 무기 충격은 무기 충격에 의해 발생된 소리에 의해 검출되는 것을 특징으로 하는 감시 시스템. - 제 1항 또는 제 2항에 있어서,
상기 프로세싱 장치는 카메라에 의해 캡처된 이미지의 적응성 있는 이미지 처리를 근거해서 비행장 내의 이물질, 파편, 또는 손상을 검출하고,
상기 감시 시스템은 적외선 또는 레이저 조명과 같은 보조적인 조명이 없이 낮과 밤 둘 모두의 주변 빛의 조건하에서 이물질, 파편, 또는 손상을 검출하기 위해 적응성 있게 작동가능한 것을 특징으로 하는 감시 시스템 - 제 1항 또는 제 2항에 있어서,
상기 프로세싱 장치는 상기 캡처된 이미지를 향상하기 위해 이미지 향상 방법을 적용하는 것을 특징으로 하는 감시 시스템. - 제 27항에 있어서,
상기 캡처된 이미지를 향상시키는 수단은, 상기 캡처된 이미지에 대해 고역 필터(high pass filter), 소벨 X(sobel X)의 왼쪽부터 오른쪽까지의 필터 및 소벨 X의 오른쪽부터 왼쪽까지의 필터, 또는 샤르 X(Scharr X) 필터를 포함하는 것을 특징으로 하는 감시 시스템. - 제 27항에 있어서,
상기 이미지 처리 시스템은, 즉각적인 처리가 낮-시간 또는 밤-시간인지를 결정하고; 그리고 밤-시간 동안에 상기 캡처된 이미지로부터, 항공기 착륙, 항공기 이륙, 또는 지상 운송 수단 때문에 발생하는 비정상적인 빛의 조건을 검출하는 것을 특징으로 하는 감시 시스템. - 제 29항에 있어서,
상기 비정상적인 빛의 조건을 검출하는 것은, 하나 이상의 이전의 이미지와 각각의 이미지를 비교하고 임계값(threshold value)에 대한 기준값으로 강도에서의 변화를 근거로 하여 비정상적인 빛의 조건을 확인하는 것을 특징으로 하는 감시 시스템. - 제 29항에 있어서,
비정상적인 빛의 조건이 검출되어진 이미지는 추가적인 처리로부터 무시되는 것을 특징으로 하는 감시 시스템. - 제 27항에 있어서,
상기 프로세싱 장치는 상이한 주변의 조건에 대해 이물질, 파편 또는 손상 에지 추출(edge extraction)에 대한 하나 이상의 임계값을 적응성 있게
평가하고;
픽셀 수준의 임계 맵(threshold map)을 발생시키는 데에 사용되는 그레이스케일의 룩업-테이블(lookup table, LUT)을 결정하기 위해, 점진적으로 학습된 배경 이미지의 에지 맵(edge map)을 기초로 하는 통계적인 방법을 사용하여 픽셀 수준의 에지 맵을 발생시키는 것을 특징으로 하는 감시 시스템. - 제 32항에 있어서,
상기 프로세싱 장치는, 임계를 지나가도록 축적된 픽셀만으로 이루어진 강력한 에지 맵만을 유지하기 위해 임시적인 필터링(filtering)를 픽셀 수준의 에지 맵의 스택(stack)에 더 적용하는 것을 특징으로 하는 감시 시스템. - 제 33항에 있어서,
상기 프로세싱 장치는 적응성 있는 배경 학습에 대한 강력한 에지 맵을 추가로 하고, 상기 적응성 있는 배경 학습은,
이전에 즉각적으로 습득된 배경 에지 이미지를 현재의 이미지와 비교하고;
상기 비행장 상에서 느린-변화의 특징을 확인하고; 및
상기 배경 에지 이미지를 상기 느린 변화의 특징으로 업데이트하는 것을 특징으로 하는 감시 시스템. - 제 34항에 있어서,
상기 프로세싱 장치는, 적응성 있는 배경 에지 맵, 이전에 학습되고 저장된 낮 또는 밤의 배경 에지 맵, 및 특정 계절 또는 날씨 상태에 대해 발생되는 계절적으로 특징 있는 맵을 포함하는 합성의 배경 에지 맵을 더 발생시키는 것을 특징으로 하는 감시 시스템. - 제 35항에 있어서,
상기 프로세싱 장치는, 상기 합성의 배경 에지 맵과 상기 강력한 에지 맵을 더 비교하고; 및 이물질, 파편 또는 손상의 의심되는 에지 맵을 추출하기 위해 배경 에지를 제거하는 것을 특징으로 하는 감시 시스템. - 제 36항에 있어서,
상기 프로세싱 장치는, 주변의 변화에 관련된 원하지 않은 에지를 상기 의심되는 에지 맵으로부터 걸러내기 위해 에지 필터링을 더 수행하고, 상기 의심되는 에지 맵으로부터 이물질, 파편 또는 손상의 에지 파라미터를 계산(compute)하는 것을 특징으로 하는 감시 시스템. - 제 37항에 있어서,
상기 주변의 조건은 낮에서 밤으로의 변화, 또는 밤에서 낮으로의 변화, 날씨 상태, 비, 안개, 구름을 포함하는 것을 특징으로 하는 감시 시스템. - 제 1항 또는 제 2항에 있어서,
상기 프로세싱 장치에 의해 수행된 이미지 처리는, 이물질, 파편 또는 손상을 검출하는 통제 타워(control tower) 또는 통제실에서 운행자에게 알람하기 위해, 비행장의 의심되는 영역 상에서 이물질, 파편 또는 손상 그래픽을 비디오 디스플레이 상에 더 중첩(overlay)하는 것을 특징으로 하는 감시 시스템. - 제 1항 또는 제 2항에 있어서,
상기 프로세싱 장치는 이물질, 파편 또는 손상을 더 분류하는 것을 특징으로 하는 감시 시스템. - 제 1항에 있어서,
상기 하나 이상의 카메라는 비행장 활주로의 한 측면상에 놓여 있는 것을 특징으로 하는 감시 시스템. - 제 1항 또는 제 2항에 있어서,
상기 하나 이상의 카메라가 기능을 하지 못하는 경우에, 각각의 인접한 카메라가 상기 기능을 하지 못하는 카메라에 의해 커버(cover)되는 영역을 커버하도록 작동될 수 있는 것을 특징으로 하는 감시 시스템. - 제 1항 또는 제 2항에 있어서,
상기 하나 이상의 카메라는 하나 이상의 단색(monochrome) 카메라, 하나 이상의 컬러 카메라 또는 둘 모두를 포함하는 것을 특징으로 하는 감시 시스템. - 제 1항 또는 제 2항에 있어서,
하나 이상의 밤 비전 카메라를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 감시 시스템. - 제 1항 또는 제 2항에 있어서,
비행장 내의 활주로 표면은 복수의 구획으로 분할되고, 하나 이상의 비-정적 카메라는 이물질, 파편 또는 손상 검출을 위해 상기 활주로의 구획마다 연속적으로 스캔하는 것을 특징으로 하는 감시 시스템. - 제 1항 또는 제 2항에 있어서,
정적 카메라는 활주로 상의 항공기 이륙 및 착륙의 각각의 위치를 검출하여, 비-정적 카메라가 먼저 항공기 이륙 및 착륙의 각각의 위치내의 활주로 구획을 스캔하도록 안내되어 이물질, 파편 또는 손상 검출 시간을 줄이는 것을 특징으로 하는 감시 시스템. - 제 1항 또는 제 2항에 있어서,
상기 프로세싱 장치는, 전체 활주로에 걸쳐서 발생하는 비(rain) 때문에, 비 모션 간섭(rain motion clutter) 및 상기 모션 간섭을 기초로 한 비와-같은 특성을 인식함으로써, 활주로의 장면 이미지에서 비 간섭(rain clutter)을 걸러내기 위해 임시적인 필터링을 적용하는 것을 특징으로 하는 감시 시스템. - 제 1항 또는 제 2항에 있어서,
상기 프로세싱 장치는, 전체 활주로에 걸쳐서 발생하는 눈(snow) 때문에, 눈 모션 간섭(snow motion clutter) 및 상기 모션 간섭을 기초로 한 눈과-같은 특성을 인식함으로써, 활주로의 장면 이미지에서 눈 간섭(rain clutter)을 걸러내기 위해 임시적인 필터링을 적용하는 것을 특징으로 하는 감시 시스템. - 제 1항 또는 제 2항에 있어서,
상기 프로세싱 장치는, 실제-세계의 좌표 프레임(co-ordinate frame)상에서 상세한 좌표를 표시하도록 활주로 상의 이미지 상에 픽셀을 맵핑(mapping)하기 위해 활주로 장면의 교정(calibration)에 맞는 활주로의 측면으로부터 동일한 수직 거리 상에 그리고 비행장 내의 활주로상의 길이방향을 따라서 위치되는 마커 또는 활주로 에지 빛을 사용하는 것을 특징으로 하는 감시 시스템. - 제 1항 또는 제 2항에 있어서,
상기 프로세싱 장치는, 실제-세계의 좌표 프레임(co-ordinate frame)상에서 상세한 좌표를 표시하도록 비행장 내의 활주로 상의 이미지 상에 픽셀을 맵핑(mapping)하기 위해 활주로 장면의 교정(calibration)에 맞는 2 개의 수직 픽셀 맵핑 비율을 유도하는데 활주로 중간 라인과 활주로 중간 라인이 각 측면상의 두 개의 평행 수평 활주로 라인을 이용하는 것을 특징으로 하는 감시 시스템. - 제 1항 또는 제 2항에 있어서,
상기 프로세싱 장치는, 상기 비행장 활주로 상에서 이물질, 파편 또는 손상의 위치 및 범위를 결정하기 위해, 단안시(monoscopic vision) 및 단안시 카메라에 의해 캡처되어 교정된 활주로의 장면 이미지를 이용하는 것을 특징으로 하는 감시 시스템. - 제 1항 또는 제 2항에 있어서,
상기 시스템은 검출된 이물질, 파편 또는 손상의 정확성의 검증을 할 수 있거나 허위 알람을 필터하도록 이물질, 파편 또는 손상의 상세한 이미지를 얻기 위해서 이물질, 파편 또는 손상을 팬, 틸트, 줌 또는 초점할 수 있게 비정적 카메라를 자동적으로 제어하기 위해 교정된 활주로 장면 이미지 및 정적 카메라에 의해 결정된 이물질, 파편 또는 손상 위치 및 범위를 이용하는 것을 특징으로 하는 감시 시스템. - 제 1항 또는 제 2항에 있어서,
상기 감시 카메라가 비행장 내의 활주로의 동일한 구획을 커버하도록 한 쌍의 감시 카메라를 포함하는 양안시(stereo vision)를 이용해서, 이물질, 파편 또는 손상 범위 및 위치는 감시 카메라 쌍에 의해 제각기 캡처된 이미지와 뷰의 중첩 필드와 비교함으로써 얻어진 이미지의 차이로부터 계산되는 것을 특징으로 하는 감시 시스템. - 비행장 내의 이물질, 파편, 손상을 검출하기 위한 방법으로서,
비행장의 이미지를 캡처하는 단계;
캡처된 이미지로부터 비행장 내의 이물질, 파편 또는 손상을 검출하는 단계;와,
검출된 무기 충격의 영역 내의 이미지를 캡처하도록 하나 이상의 카메라를 안내하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 검출 방법.
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