KR101533277B1 - 나노 조도가 형성된 현상제 접촉매체를 가진 화상형성장치 - Google Patents

Abstract

나노 조도가 형성된 현상제 접촉매체를 가진 화상형성장치가 개시된다. 개시된 화상형성장치에서는 현상롤러, 감광체, 전사롤러, 정착롤러 등과 같은 현상제 접촉매체에 나노 단위의 조도가 형성되어 있어서, 각 접촉매체에 대한 현상제의 부착력이 과다해지는 것을 방지할 수 있다.

Description

나노 조도가 형성된 현상제 접촉매체를 가진 화상형성장치{Image forming apparatus providing developer contact media formed nano roughness}

현상부재, 감광부재, 전사부재 및 정착부재와 같은 현상제 접촉매체를 가진 화상형성장치에 관해 개시한다.

예컨대, 프린터나 복사기와 같은 화상형성장치는 현상제인 토너를 이용하여 원하는 화상을 현상하고 그것을 용지에 인쇄하는 구조를 가지고 있다. 최근에는 고해상도 화질을 구현하기 위해 토너의 입경을 점차 작게 만들고 있는 추세이다. 즉, 토너의 입자를 가능한 한 작게 만들어서 그 입자들로 현상되는 화상의 선명도를 높이고자 하는 것이다. 그런데, 이렇게 토너 입자가 작아지면, 그것이 달라붙는 매체에 대한 부착력은 상당히 증가하게 된다. 따라서, 현상부재나 감광부재 및 전사부재와 같이 토너가 일시적으로 붙었다가 다시 인접 부재로 옮겨가는 매체의 경우, 토너가 깨끗하게 인접 부재로 옮겨가야 안정된 인쇄 작업을 유지할 수 있는데, 상기와 같이 부착력이 너무 과다해지면, 토너가 깨끗하게 옮겨가지 못하고 잔류 토너가 남을 가능성이 높아진다. 또한, 정착부재와 같이 열과 압력으로 현상제 를 눌러서 고착시키는 매체의 경우도 현상제와 직접 접촉이 일어나기 때문에 토너의 부착력이 너무 강해지면 토너에 의해 표면이 오염될 수 있다. 이렇게 되면 좋은 품질의 화상을 인쇄할 수 없게 되므로, 토너 입경이 작아지는 대신 그와 접촉하는 매체에 대한 부착력을 적정 수준으로 완화시킬 수 있는 방안이 필요하다.

일 실시예에 따른 화상형성장치는 화상을 현상하는 현상제와, 그 현상제가 표면에 접촉되는 현상제 접촉매체를 구비하며, 상기 현상제 전달매체의 표면에 조도를 형성하는 요철부가 4×10⁸ ~ 200×10⁸ 개/㎠ 구비된다.

상기 요철부는 상기 표면 위로 돌출된 돌기와 상기 표면 안으로 들어간 홈 중 어느 하나일 수 있으며, 상기 조도를 형성하는 높이가 1㎛ 미만인 나노 수준일 수 있다.

상기 요철부는 스트라입 패턴으로 피치가 500nm 이하일 수도 있고, 구형 패턴으로 요철부 간 거리가 500nm 이하일 수도 있다.

상기 현상제의 상기 접촉매체에 대한 부착력은 100nN 이하일 수 있다.

상기 요철부는 접촉매체가 알루미늄 재질일 경우, 그 알루미늄 표면을 애노다이징(anodizing)하여 요철부를 형성할 수 있고, 예컨대 고무재질인 경우에는 입경 1㎛ 이하의 나노 입자가 분산된 코팅액을 상기 접촉매체 표면에 코팅하여 형성할 수도 있다.

상기 접촉매체는 현상부재, 감광부재, 정착부재, 전사부재 중 어느 하나일 수 있으며, 이 현상부재, 감광부재, 정착부재 및 전사부재는 각각 롤러와 벨트 중 어느 한 형태일 수 있다.

이하 첨부된 도면을 참조로 실시예를 상세히 설명하기로 한다. 이에 앞서, 본 명세서 및 청구범위에 사용된 용어나 단어는 통상적이거나 사전적인 의미로 한정해서 해석되어서는 안 되며, 발명자는 그 자신의 발명을 가장 최선의 방법으로 설명하기 위해 용어의 개념을 적절하게 정의할 수 있다는 원칙에 입각하여 기술적 사상에 부합하는 의미와 개념으로 해석되어야만 한다.

따라서, 본 명세서에 기재된 실시예와 도면에 도시된 구성은 일 실시예에 불과할 뿐이고 기술적 사상을 모두 대변하는 것은 아니므로, 본 출원시점에 있어서 이들을 대체할 수 있는 다양한 균등물과 변형예들이 있을 수 있음을 이해하여야 한다.

도 1은 일 실시예에 따른 현상제 접촉매체가 채용된 화상형성장치를 도시한 것이다.

도시된 바와 같이 본 실시예의 화상형성장치는, 현상제인 분말상의 토너가 수용되는 호퍼(7)와, 상기 호퍼(7)에 토너를 공급하기 위해 장착되는 토너키트(8)와, 호퍼(7) 안의 토너를 교반시키는 아지테이터(6), 노광기(5)에 의해 정전잠상이 형성되는 감광부재(1), 전위차를 이용하여 그 정전잠상을 토너로 현상하는 현상부 재(3), 현상부재(3)에 토너를 공급하는 공급롤러(4) 등을 구비하고 있다. 현상이 진행되면, 대전기(2)가 감광부재(1) 표면을 일정 전위로 대전시키고, 상기 노광기(5)가 그 표면에 광을 조사하여 정전잠상을 형성시키며, 현상부재(3)가 그 정전잠상에 토너가 달라붙게 하여 정전잠상을 가시화된 토너 화상으로 현상해준다.

이 과정에서 예컨대 상기 현상부재(3)에 대한 토너의 부착력은 현상 효율에 직접적인 영향을 준다. 현상부재(3)에 대한 토너의 부착력이 너무 크면, 감광부재(1)의 정전잠상에 달라붙어야 할 토너가 제대로 옮겨가지 못하게 되기 때문에 화상이 선명하게 나오지 못하게 되고, 이를 해소하기 위해 전위차를 증가시키게 되면 정전잠상 영역이 아닌 비화상 영역에까지 토너가 달라붙어서 지저분한 화상이 만들어질 수 있다. 전술한 바와 같이 최근 토너의 입경이 점차 작아지면서 부착력 과다에 의한 상기와 같은 이율배반적인 문제가 빈발하고 있다. 그리고, 상기 감광부재(1)에 현상된 토너 화상은 또 다른 중간 전사부재(미도시)에 옮겨지게 되고, 전사부재에서 최종 인쇄매체로 옮겨진 토너 화상은 정착부재(미도시)에 의해 열과 압력으로 정착되는 과정을 차례로 거치기 때문에, 감광부재나 전사부재 또는 정착부재 등에서도 토너의 부착력 과다에 따른 문제가 똑같이 생기게 된다.

따라서, 본 실시예에서는 이러한 문제를 해소하기 위해 상기 현상부재, 감광부재, 전사부재 및 정착부재 등과 같이 토너와 접촉하는 현상제 접촉부재들의 표면에 나노 수준의 조도를 형성하여 토너의 부착력을 현상과 인쇄작업이 무난하게 진행될 수 있는 100nN 이하로 유지하도록 하였다. 예를 들면, 도 2와 같이 현상제 접촉부재(10)의 표면에 조도 형성 높이가 1㎛ 미만인 나노 단위의 요철부(11)를 만 들어서 토너의 부착력을 완화시키도록 한 것이다. 상기 요철부(11)는 도 2에 예시된 것처럼 현상제 접촉부재의 표면 위로 돌출된 돌기일 수도 있고, 반대로 표면 아래로 움푹 들어간 홈일 수도 있다. 이러한 요철부(11)는 다양한 방법으로 만들 수 있다. 예컨대, 상기 접촉부재들은 롤러 형태일 수도 있고 고무재질의 벨트 형태일 수도 있는데, 알루미늄 재질의 롤러 형태인 경우에는 알루미늄을 특정 전해질에서 전기화학적으로 산화시켜서 즉, 애노다이징(anodizing)하여 만들 수 있다. 도 3a 내지 도 3e가 알루미늄의 애노다이징을 통해 나노 조도를 만드는 과정을 도시적으로 묘사한 것인데, 애노다이징을 수행하면 도 3a와 같이 알루미늄(20) 표면에 수직으로 정렬된 기공을 가진 알루미나막(21)이 형성된다. 예를 들어 묽은 옥살산, 인산, 황산 등의 전해질 속에서 25~190V의 전위차를 가하여 애노다이징을 수행하면 도 3a와 같은 육방밀집 구조로서 수직 배열된 기공 형태의 알루미나막(21)이 얻어진다. 이때 기공의 바닥인 알루미늄(20) 표면에 반구형의 홈이 형성된다. 따라서, 예컨대 18wt%의 크롬산 용액으로 알루미나막을 녹여내면 도 3b와 같이 반구형 홈이 배열된 형태가 얻어진다. 이 반구형 홈의 지름은 애노다이징 시의 전압에 비례하므로, 요철부의 크기를 전압으로 조절할 수 있다. 그리고, 이 위에 도 3c 및 도 3d와 같이 폴리머층(22)을 코팅해서 패턴을 전사하고 분리하면 도 3e와 같은 기판(22)이 만들어진다. 이 기판(22)은 후술할 부착력 테스트를 위해서 만든 것인데, 요철부가 돌기인지 홈인지의 차이만 있을 뿐이고, 알루미늄 표면과 같은 나노 수준의 조도가 형성된 것이라고 보면 된다.

그리고, 벨트와 같은 고무재질의 경우라면 애노다이징 방법을 사용할 수 없 으므로, 코팅액에 입경 1㎛ 이하의 나노입자를 분산한 후 접촉매체의 표면에 스프레이 코팅해서 나노 조도를 얻을 수도 있다.

또 다른 조도 형성방법으로는 도 4a 내지 도 4e에 도시된 바와 같이 전자빔 리소그라피를 이용하는 방법도 채용될 수 있다. 즉, 도 4a와 같이 실리콘 기판(30)에 전자빔 리소그라피를 이용해서 스트라입 형태의 요철부(31)를 형성한다. 그리고, 그 위에 폴리머층(32)을 100nm 정도의 두께로 스핀 코팅하고(도 4b) 아닐링한 후 분리해내면(도 4c), 스트라입 형태의 요철부가 전사된 폴리머 기판(32)이 얻어진다(도 4d).

이상은 나노 조도를 형성할 수 있는 방법의 예들을 설명한 것인데, 이외에도 나노 조도는 다양한 방법으로 만들 수 있다.

이하에, 상기와 같은 방법 등으로 현상제 접촉부재의 표면에 나노 수준의 조도를 형성하면 토너의 부착력에 어떤 영향이 생기는지 측정해본 결과를 설명하기로 한다.

부착력 측정은 AFM(automatic force microscope)나 EFM(electric force microscope)를 이용한다. 도 5a와 같이 AFM이나 EFM의 캔틸레버(40) 끝부분에 폴리머 입자(50)를 붙인다. 물론, 실제 토너입자를 직접 붙이면 좋겠지만, 여기서는 상대적인 부착력 감소의 효과를 보기 위한 것이므로, 측정에 용이한 폴리머 입자를 토너 대신 먼저 사용해보았다. 그리고, 도전성을 주기 위해 입자(50)에 백금을 스퍼터링하여 코팅한 후, 도 5b와 같이 캔틸레버(40)를 접지한 상태에서 접촉부재(100)에 대한 부착력을 측정하였다. 접촉매체(100)에 전압을 가하면서 측정하는 경우가 EFM이고, 전압을 인가하지 않고 측정하는 경우가 AFM이 된다. EFM은 토너가 현상과 인쇄작업 중 전하를 갖고 움직이기 때문에 비슷한 조건을 부여하기 위해서 전압을 인가하는 것이고, AFM은 전기적 힘을 배제한 상태에서 부착력을 측정하는 것이다.

접촉매체(100)로는 실리콘 기판(110) 위에 폴리머층(120)이 스핀 코팅된 것을 사용하였는데, 나노 조도는 리소그라피로 스트라입 형태의 요철부를 만듦으로써 형성하였다. 비교 대상인 나노 조도가 없는 샘플은 폴리머층(120)을 스핀 코팅하기만 한 것이 사용되었다.

먼저, AFM으로 측정한 결과를 설명한다. 부착력은 다음과 같이 정의된다. 캔틸레버(40)가 접촉매체(100)에 접근해서 끝부분의 입자(50)가 접촉매체(100) 표면에 닿기 시작하면, 도 6a의 그래프와 같이 캔틸레버(40)에 감지되는 힘이 정방향으로 증가하게 된다. 이 상태에서 반대로 캔틸레버(40)를 접촉매체(100)에서 이격되는 방향으로 이동시키면, 도 6b와 같이 처음에 닿기 시작한 위치(그래프 X축의 0지점)에서 바로 분리가 일어나는 것이 아니라, 입자(50)의 부착력 때문에 캔틸레버(40)가 끌려가면서 부방향으로 힘이 증가하게 된다. 이 부방향으로 작용하는 힘이 바로 입자(50)의 부착력에 해당되는 것으로, 캔틸레버(40)가 접촉매체(100)에서 딱 떨어지는 순간의 값(도 의 A)을 바로 입자의 부착력이라고 볼 수 있다.

도 7a 내지 도 7c는 입자(50)의 직경이 9.8㎛인 상태에서, 접촉매체(100)의 표면이 평평한 경우(도 7a)와, 피치가 200nm인 나노 조도가 형성된 경우(도 7b) 및, 피치가 110nm인 나노 조도가 형성된 경우(도 7c)의 측정결과를 각각 나타낸 것 이다. 도면에서 알 수 있듯이 표면에 나노 조도가 형성되지 않은 경우는 부착력이 300nN을 넘어서는데 비해, 나노 조도가 형성된 경우는 그것의 약 1/3 수준으로 완화되는 것을 알 수 있다. 도 8a 내지 도 8c는 입자(50)의 직경이 거의 두 배 정도로 큰 19.2㎛인 상태에서, 접촉매체(100)의 표면이 평평한 경우(도 8a)와, 피치가 200nm인 나노 조도가 형성된 경우(도 8b) 및, 피치가 110nm인 나노 조도가 형성된 경우(도 8c)의 측정결과를 각각 나타낸 것이다. 전체적으로 나노 조도가 있는 경우 부착력이 크게 완화되는 경향이 비슷하게 측정되었다.

다음으로 도 9a 내지 도 9f는 입자(50)의 직경을 3.4~28.7㎛까지 다양하게 변화시키고, 접촉매체(100)에는 반구형의 요철부로 나노 조도를 형성하여 부착력을 같은 방식으로 측정해본 결과를 나타낸 것이다.

각 그래프에서의 X축은 요철부간 거리를 나타낸 것인데, 500nm까지 요철부간 거리에 따라서는 별 차이가 인식되지 않았지만, 나노 조도가 없는 경우(flat)에 비해서는 부착력이 크게 완화되는 것이 공통적으로 확인할 수 있다.

도 10은 도 9a 내지 도 9f의 실험 결과를 입자 직경에 따른 부착력의 관계로 도시해본 것인데, 나노 조도가 있는 경우는 입자 직경에 따라서 부착력의 차이가 별로 인식되지 않았다. 하지만, 나노 조도가 없는 경우(flat)에 비해서는 역시 부착력이 상당히 완화되는 것을 알 수 있다.

다음으로 EFM으로 측정한 결과를 설명한다.

도 11a 및 도 11b는 입경이 4.9㎛인 경우, 접촉매체(100)에 전압을 각각 0V, 2.5V, 5V, 7.5V 및 10V 인가하며 나노 조도가 형성된 접촉매체(100)에 대한 부착력 을 측정한 결과이다. 먼저 도 11a는 캔틸레버(40)가 접촉매체(100)에 접근하면서 감지되는 힘의 변화를 나타낸 것인데, 입자(50)가 접촉매체(100)에 닿는 지점(그래프 X축의 0지점) 이전부터 힘이 작용하는 것을 확인할 수 있다. 이것은 가해진 전압 때문에 캔틸레버(40)가 근접위치에서부터 전기적인 힘을 먼저 받기 때문이다. 그리고, 도 11b와 같이 캔틸레버(40)를 접촉매체(100)로부터 이격시키면서 부착력을 측정해보면, 가해진 전압이 높을수록 부착력이 증가하는 것을 알 수 있다. 큰 전압이 인가될수록 입자에 유도되는 전하량이 커지며 따라서 부착력도 증가하는 것이다. 도 12a 및 도 12b는 입경이 10.1㎛인 경우의 측정 결과인데, 도 11a 및 도 11b와 같은 경향을 나타내고 있다.

도 13a는 이렇게 측정된 부착력을 접촉매체(100)에 인가된 전압에 따라 도시한 것이다. 전압을 증가시키면 부착력이 증가함을 알 수 있다. 즉, 부착력의 변화가 정전기력에 의해 일어나는 것임을 알 수 있다. 도 13b는 이 정전기력에 의한 힘만을 도시하기 위해 도 13a의 각 측정치에서 인가전압이 0일 때의 힘을 빼서 도시한 것이다. 인가전압이 0일 때의 힘은 반데르발스의 힘이나 모세관력 등이 있을 수 있는데, 이러한 힘들은 전압에 따라 변하지 않는 것으로 가정한다. 도면에서 알 수 있듯이 전압과 부착력은 선형적인 일차함수의 관계가 아니라 고차함수의 관계인 것으로 나타난다. 정전기력은 전하량의 제곱에 비례하는 원리와 부합하는 결과이다.

한편, 정전기력 F_ES와 입자의 전하량 Q_eff의 사이에는 F_ES= Q_eff ²/(4π·ε₀·D²) 의 관계가 성립한다(D:전하간 거리,ε:유전율). 도 13b의 그래프를 상기 수식에 근거하여 인가전압과 전하량의 관계로 다시 그리면 도 13c와 같이 도시된다. 인가 전압과 전하량은 선형적으로 비례하는 관계임을 알 수 있다. 이 역시 커패시터에 관한 물리법칙에 잘 부합하는 결과이다. 그리고, 정전기력은 도 13b에 도시된 것처럼 입자의 크게에 따라 별다른 차이는 없는 것으로 나타났는데, 이것은 입자에 유도되는 전체 전하량은 큰 입자의 경우가 더 크지만, 정전기력이 입자 지름의 제곱에 반비례하기 때문에 영향이 서로 상쇄되기 때문으로 판단된다. 도 13c와 같이 큰 입자의 경우에 전하량이 더 큰 이유는 접촉매체(100)에 인가된 전하로부터 입자에 유도되는 전하의 면적밀도가 거의 일정해서 입자가 커지면 전체 전하량도 커지기 때문으로 판단된다. 도 13d는 도 13c의 결과를 입자 질량으로 나눈 결과로, 실제 토너 입자의 전하량의 절대값이 5~30 μC/g인 것과도 잘 부합하는 결과이다.

도 13a 내지 도 13d의 결과에서 알 수 있듯이 본 측정결과는 널리 알려진 물리법칙이나 실제 토너의 특성과 매우 잘 부합하는 정확한 결과임을 알 수 있다.

도 14는 나노조도가 있는 접촉매체와 나노조도가 없는 평평한 접촉매체에 대한 입자의 부착력을 EFM으로 측정한 결과를 도시한 것인데, AFM으로 측정한 결과나 마찬가지로 나노조도가 형성된 경우에 부착력이 크게 완화되는 것을 확인할 수 있다.

이상에서는 토너 입자 대신에 폴리머 입자를 모델로 사용한 결과였는데, 이번에는 실제 토너 입자를 가지고 부착력을 측정해보았다. 토너 입자로는 중합방식으로 제작된 토너와 분쇄방식으로 제작된 토너를 각각 선택했다. 중합토너의 경우 평균 입경이 약 6.02㎛로 입자 크기의 분포가 상대적으로 좁고 토너 형상이 구형에 가깝다. 분쇄토너의 경우는 평균 입경이 약 7.49㎛이고 입자 크기의 분포가 상대적으로 넓으며 형상은 무정형이다.

이들 토너입자를 스트라입 형상의 요철부가 110nm와 200nm의 피치로 형성된 접촉매체와 나노조도가 없는 평평한 접촉매체에 대해 각각 AFM으로 부착력을 측정하였다. 그 결과 도 15에 도시된 바와 같이 토너입자의 경우도 똑같이 평평한 접촉매체에 비해 나노조도가 형성된 접촉매체에 대한 부착력이 훨씬 완화되는 것을 확인할 수 있다. 도 16a 및 도 16b는 스트라입 형상이 아니라 반구형 요철부가 형성된 접촉매체(100)에 대해 같은 측정을 해본 결과이다. 마찬가지로 나노조도가 없는 평평한 접촉매체에 대해서는 부착력이 상당히 크기만, 나노조도가 있는 경우에는 요철부간 거리가 80nm인 경우나 500nm인 경우나 비슷한 수준으로 크게 감소하는 것을 확인할 수 있다.

부착력이 100nN 이하가 되면, 토너 입자가 접촉매체들을 옮겨가는 것이 원활하게 진행될 수 있다. 따라서, 상기한 측정결과에 근거해서 화상형성장치의 현상부재, 감광부재, 전사부재, 정착부재 등 현상제와 접촉하는 매체에 나노조도를 형성하면, 부착력을 100nN 이하로 유지하여 선명하고 원활한 인쇄를 진행할 수 있게 된다. 나노조도는 조도를 형성하는 요철부의 높이가 1㎛미만인 것을 말하며, 그 밀도가 4×10⁸ ~ 200×10⁸ 개/㎠ 범위이면 상기와 같은 부착력 감소의 효과를 얻을 수 있다. 전술한 나노조도에 대한 모든 측정 결과는 상기와 같이 요철부의 높이가 1㎛미만이고, 그 밀도가 4×10⁸ ~ 200×개/㎠ 범위, 스트라입 형태에서 피치나 반구형 형태에서 요철부간 거리는 500nm 이하로 형성된 것들이라고 보면 된다. 이러한 나노조도가 형성된 현상제 접촉매체를 사용하면 토너의 이동이 깨끗하고 원활하게 진행되므로 상기와 같이 화상도 선명해지고 클리닝 작업도 원활해지므로, 각 접촉매체들의 수명도 늘어날 수 있다.

한편, 나노조도를 형성하는 여러 가지 방법 중 몇 가지를 더 소개하면, 기판에 나노 크기의 다공질 템플렛을 설치하고 전기도금이나 증착으로 조도를 만들거나, 템플렛 없이 부식으로 조도를 형성하는 방법을 이용할 수도 있다. 따라서, 다양한 방식으로 현상제 접촉매체에 나노조도를 만들어 채용하면 토너의 부착력 과다에 따른 화상열화나 클리닝 불량 등의 문제를 해결할 수 있게 된다.

도 1은 일 실시예에 따른 현상제 접촉매체가 채용된 화상형성장치를 도시한 도면,

도 2는 도 1에 도시된 현상제 접촉매체 구조의 일 예를 도시한 도면,

도 3a 내지 도 4d는 일 실시예에 따른 현상제 접촉매체를 만드는 방법을 보인 도면,

도 5a 및 도 6b는 일 실시예에 따른 현상제 접촉매체의 부착력 측정방식을 설명한 도면,

도 7a 내지 도 8c는 스트라입 패턴의 요철부를 가진 접촉매체에 대한 입자의 부착력 측정 결과를 보인 그래프,

도 9a 내지 도 9f는 반구형 요철부를 가진 접촉매체에 대한 입자의 부착력 측정 결과를 보인 그래프,

도 10은 입경에 따른 부착력 변화를 측정한 결과를 나타낸 그래프,

도 11a 내지 도 12b는 접촉매체에 가해진 전압에 따른 부착력의 변화를 보인 그래프,

도 13a 내지 도 13d는 접촉매체에 가해진 전압에 따른 부착력과, 정전기력, 전하량, 단위질량당 전하량의 관계를 각각 도시한 그래프,

도 14는 표면이 평평한 접촉매체와 나노조도가 형성된 접촉매체에서 인가전압과 부착력의 관계를 도시한 그래프,

도 15 내지 도 16b는 실제 토너입자의 부착력 측정 결과를 나타낸 그래프.

Claims (10)

1. 화상을 현상하는 분말상의 현상제와, 상기 현상제가 표면에 접촉되는 현상제 접촉매체를 구비하며,

   상기 현상제 접촉매체의 표면에 조도를 형성하는 요철부가 4×10⁸ ~ 200×10⁸ 개/㎠구비되며,

   상기 요철부는 상기 조도를 형성하는 높이가 1㎛ 미만인 나노 수준인 화상형성장치.
2. 제1항에 있어서,

   상기 요철부는 상기 표면 위로 돌출된 돌기와 상기 표면 안으로 들어간 홈 중 어느 하나인 화상형성장치.
3. 삭제
4. 제1항에 있어서,

   상기 요철부는 스트라입 패턴으로 피치가 500nm 이하인 화상형성장치.
5. 제1항에 있어서,

   상기 요철부는 구형 패턴으로 요철부 간 거리가 500nm 이하인 화상형성장치.
6. 제1항에 있어서,

   상기 현상제의 상기 접촉매체에 대한 부착력은 100nN 이하인 화상형성장치.
7. 제1항에 있어서,

   상기 접촉매체는 알루미늄 재질이고, 상기 요철부는 그 알루미늄 표면을 anodizing하여 형성된 화상형성장치.
8. 제1항에 있어서,

   상기 요철부는 입경 1㎛ 이하의 나노 입자가 분산된 코팅액을 상기 접촉매체 표면에 코팅하여 형성된 화상형성장치.
9. 제1항에 있어서,

   상기 접촉매체는 현상부재, 감광부재, 정착부재, 전사부재 중 어느 하나를 포함하는 화상형성장치.
10. 제9항에 있어서,

    상기 현상부재, 감광부재, 정착부재 및 전사부재는 각각 롤러와 벨트 중 어느 한 형태인 화상형성장치.

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