KR101471002B1 - Apparatus and method for treating substrate - Google Patents
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- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims abstract description 288
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 39
- 238000003825 pressing Methods 0.000 claims abstract description 84
- 238000002347 injection Methods 0.000 claims description 17
- 239000007924 injection Substances 0.000 claims description 17
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 12
- 230000008602 contraction Effects 0.000 claims description 6
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 4
- 238000003672 processing method Methods 0.000 abstract description 9
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 44
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 4
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 4
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 4
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 4
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 2
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 2
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 2
- 239000000565 sealant Substances 0.000 description 2
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 244000043261 Hevea brasiliensis Species 0.000 description 1
- 239000004809 Teflon Substances 0.000 description 1
- 229920006362 Teflon® Polymers 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 1
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 1
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 1
- 230000003028 elevating effect Effects 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 1
- 229920003052 natural elastomer Polymers 0.000 description 1
- 229920001194 natural rubber Polymers 0.000 description 1
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 1
- 239000012858 resilient material Substances 0.000 description 1
- 239000005060 rubber Substances 0.000 description 1
- 229920002379 silicone rubber Polymers 0.000 description 1
- 239000004945 silicone rubber Substances 0.000 description 1
- 239000007779 soft material Substances 0.000 description 1
- 229920003051 synthetic elastomer Polymers 0.000 description 1
- 239000005061 synthetic rubber Substances 0.000 description 1
- 239000012780 transparent material Substances 0.000 description 1
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- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
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- G02F1/1303—Apparatus specially adapted to the manufacture of LCDs
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- H—ELECTRICITY
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- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/683—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping
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- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05B—ELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHT SOURCES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; CIRCUIT ARRANGEMENTS FOR ELECTRIC LIGHT SOURCES, IN GENERAL
- H05B33/00—Electroluminescent light sources
- H05B33/10—Apparatus or processes specially adapted to the manufacture of electroluminescent light sources
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K71/00—Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass
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- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
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Abstract
본 발명은 내부 공간을 가지는 챔버부, 챔버부 내부에 배치되어 상부 기판을 지지하는 상부 지지대 및 상부 지지대와 대향 배치되어 하부 기판을 지지하는 하부 지지대를 포함하고, 상부 지지대 및 하부 지지대 중 적어도 어느 하나는 가장자리를 따라서 배열되고 상부 기판 및 상기 하부 기판 중 적어도 어느 하나의 가장자리를 가압하는 보조 가압부를 구비하는 기판 처리 장치에 관한 것이다. 또한, 기판 가장자리를 추가로 가압할 수 기판 처리 방법에 관한 것이다.
따라서, 이러한 기판 합착 방식에 의하여 상호 결합된 기판의 가장자리를 안정적으로 합착시킬 수 있다. 또한, 기판을 지지하는 기판 지지대의 평탄도가 다소 불량하더라도 추가 가압에 의하여 기판 전체를 균일하게 합착시킬 수 있다.The present invention relates to a plasma processing apparatus including a chamber portion having an inner space, an upper support member disposed inside the chamber portion and supporting an upper substrate, and a lower support member disposed opposite to the upper support member and supporting the lower substrate, And an auxiliary pressing portion arranged along the edge and pressing the edge of at least one of the upper substrate and the lower substrate. The present invention also relates to a substrate processing method capable of further pressing the substrate edge.
Therefore, the edges of the substrates bonded to each other can be stably bonded together by such a substrate bonding method. Further, even if the flatness of the substrate support supporting the substrate is somewhat poor, the entire substrate can be uniformly adhered by the additional pressing.
Description
본 발명은 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법에 관한 것으로, 상세하게는 복수의 기판을 안정적으로 결합시킬 수 있는 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법에 관한 것이다.
The present invention relates to a substrate processing apparatus and a substrate processing method, and more particularly, to a substrate processing apparatus and a substrate processing method capable of stably coupling a plurality of substrates.
일반적인 평판 표시 장치는 한 쌍의 평판형 기판을 합착시켜 제작한다. 유기 발광 다이오드(OLED: Organic light-emitting diode) 표시 장치의 제작을 예로 들면, 복수의 박막 트랜지스터, 유기발광층 및 전극 등이 형성된 상부 기판과 캡핑층 역할을 하는 하부 기판을 상호 합착시켜 제작한다. 이와 같이 상부 기판과 하부 기판을 합착시키기 위한 기판 합착 장치는 상부 기판을 지지하는 상부척, 상부척에 대향 배치되어 하부 기판을 지지하는 하부척을 포함한다. 여기서 상부척 및 하부척은 플레이트 형상의 지지대, 지지대에 흡착력을 부여하는 진공홀 또는 여러 방식의 흡착부재를 포함한다. 또한, 지지대에 지지되는 기판을 이동시키기 위하여 지지대를 관통하도록 설치되어 상하 방향으로 이동하는 리프트 부재를 포함할 수 있다. 그리고 지지대는 구동기에 연결되어 상하 방향으로 이동할 수 있다. A typical flat panel display is manufactured by laminating a pair of flat substrates. For example, an organic light emitting diode (OLED) display device is manufactured by bonding an upper substrate having a plurality of thin film transistors, an organic light emitting layer, an electrode, and the like to a lower substrate serving as a capping layer. The substrate cohesive apparatus for attaching the upper substrate and the lower substrate as described above includes an upper chuck for supporting the upper substrate and a lower chuck disposed opposite to the upper chuck for supporting the lower substrate. Here, the upper chuck and the lower chuck include plate-like supports, vacuum holes for imparting attraction force to the supports, or various types of adsorption members. The apparatus may further include a lift member installed to penetrate through the support to move the substrate supported by the support and move up and down. And the support is connected to the actuator and can move up and down.
이러한 기판 합착 장치를 이용하여 상부 기판과 하부 기판 간을 합착시키는 과정은 다음과 같다. 먼저, 상부 기판 및 하부 기판을 상부척 및 하부척에 지지시킨다. 이때 상부 기판은 상부척 및 하부척에 부여된 흡착력에 의하여 지지된다. 이후, 하부 기판의 가장 자리에 실런트와 같은 접합부재를 도포시킨다. 이후, 상부척 및 하부척을 승하강시켜, 상부 기판과 하부 기판을 결합시킨다. 상부 기판과 하부 기판이 합착되면 상부척의 흡착력을 해제하여 상기 상부척에 지지된 상부 기판이 하부 기판 상에 안치되도록 한다. 상부 기판과 하부 기판 간의 합착이 완료되면, 상기 상호 접합된 상부 기판 및 하부 기판을 하부척으로부터 분리한다. 이를 위해 리프트 부재의 일단이 하부척의 상측으로 돌출되도록 리프트 부재를 상승시킨다. 리프트 부재가 하부 기판을 지지한 상태로 상승함에 따라, 상호 접합된 상부 기판 및 하부 기판이 하부척으로부터 분리된다. The process of attaching the upper substrate and the lower substrate using the substrate bonding apparatus is as follows. First, the upper substrate and the lower substrate are supported on the upper chuck and the lower chuck. At this time, the upper substrate is supported by the attraction force given to the upper chuck and the lower chuck. Then, a bonding member such as a sealant is applied to the edge of the lower substrate. Thereafter, the upper chuck and the lower chuck are raised and lowered to join the upper substrate and the lower substrate. When the upper substrate and the lower substrate are attached to each other, the attraction force of the upper chuck is released, so that the upper substrate supported on the upper chuck is positioned on the lower substrate. When the adhesion between the upper substrate and the lower substrate is completed, the upper substrate and the lower substrate are separated from the lower chuck. To this end, the lift member is raised so that one end of the lift member protrudes to the upper side of the lower chuck. As the lift member is lifted with supporting the lower substrate, the upper substrate and the lower substrate mutually bonded are separated from the lower chuck.
그러나 상기와 같은 기판 합착 방식은 각 지지대에 상하부 기판이 평탄하게 지지되지 않은 경우, 즉 평탄도에 불량이 발생하는 경우, 양 기판 사이가 균일하게 합착되지 않는 문제점이 야기된다. 즉, 결합되는 기판들의 위치에 따라 합착 정도가 다른 문제가 야기된다. 또한, 상하부 기판을 평탄하게 지지시키기 위하여 상부척 및 하부척을 제어하여 빈번하게 평탄도를 조정해야 하는 문제가 있고, 이로부터 공정시간이 길어지고 생산성이 저하된다. 특히, 이러한 문제는 기판들의 가장자리에서 더욱 심각하게 발생된다. 이처럼 기판들이 균일하게 합착되지 않는 경우에는 후속되는 공정에도 악영향을 미치게 된다.
However, in the case of the above substrate bonding method, when the upper and lower substrates are not supported flatly on each support, that is, when the flatness is poor, there is a problem that the substrates are not uniformly adhered to each other. That is, depending on the position of the substrates to be coupled, there is a problem that the degree of adhesion is different. Further, there is a problem that the upper and lower chucks need to be frequently controlled to control the upper and lower chucks in order to support the upper and lower substrates flatly, which leads to a longer process time and lower productivity. In particular, this problem occurs more severely at the edges of the substrates. If the substrates are not uniformly adhered to each other, adverse affects are also exerted on subsequent processes.
본 발명은 기판들을 균일하게 합착할 수 있는 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법을 제공한다. The present invention provides a substrate processing apparatus and a substrate processing method capable of uniformly laminating substrates.
본 발명은 기판 지지대의 평탄도의 영향을 감소시킬 수 있는 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법을 제공한다. The present invention provides a substrate processing apparatus and a substrate processing method capable of reducing the influence of the flatness of the substrate support.
본 발명은 기판들의 합착 정도를 정밀하게 조정할 수 있는 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법을 제공한다.
The present invention provides a substrate processing apparatus and a substrate processing method capable of precisely adjusting the degree of adhesion of substrates.
본 발명의 일 실시 형태에 따른 기판 처리 장치는 내부 공간을 가지는 챔버부; 챔버부 내부에 배치되어 상부 기판을 지지하는 상부 지지대; 및 상기 상부 지지대와 대향 배치되어 하부 기판을 지지하는 하부 지지대;를 포함하고, 상기 상부 지지대 및 상기 하부 지지대 중 적어도 어느 하나는 가장자리를 따라서 배열되고 상기 상부 기판 및 상기 하부 기판 중 적어도 어느 하나의 가장자리를 가압하는 보조 가압부를 구비한다. A substrate processing apparatus according to an embodiment of the present invention includes a chamber portion having an inner space; An upper support disposed within the chamber portion to support the upper substrate; And at least one of the upper support and the lower support is arranged along an edge, and the edge of at least one of the upper substrate and the lower substrate As shown in Fig.
상기 보조 가압부는 복수개가 설치되며, 그 중 일부는 상기 상부 지지대 및 상기 하부 지지대 중 적어도 어느 하나의 코너부에 배치될 수 있고, 상기 보조 가압부는 상기 상부 지지대 및 상기 하부 지지대에 각각 설치되며, 이들은 상하 방향으로 마주 보고 배치될 수 있다. 또한, 상기 보조 가압부는 복수개가 설치되며, 상기 상부 기판 및 상기 하부 기판에 형성되는 단위 소자별로 배치될 수 있다. A plurality of auxiliary pressing portions may be provided and a part of the auxiliary pressing portions may be disposed at a corner of at least one of the upper support and the lower support and the auxiliary pressing portions are respectively installed on the upper support and the lower support, And can be arranged facing up and down. In addition, a plurality of auxiliary pressing portions may be provided, and the auxiliary pressing portions may be disposed for each unit element formed on the upper substrate and the lower substrate.
상기 보조 가압부는 가스 주입 및 배기에 의하여 이동하는 이동부재를 구비하고, 상기 보조 가압부는 상기 상부 지지대의 하부면 및 상기 하부 지지대의 상부면 중 적어도 어느 하나의 면으로 노출되는 노출 영역을 구비하며, 상기 노출 영역은 금속 보다 연성의 재질로 이루어진 패드를 포함할 수 있다. 또한, 상기 보조 가압부는 신축 가능하며 가스 배관부와 연결되는 개구를 구비한 신축부재, 상기 신축부재의 신장 및 축소에 의하여 이동하는 이동부재를 포함할 수 있다. Wherein the auxiliary pressing portion includes a moving member that moves by gas injection and exhaustion and the auxiliary pressing portion has an exposed region exposed by at least one of a lower surface of the upper support and an upper surface of the lower support, The exposed region may include a pad made of a material softer than metal. The auxiliary pressurizing portion may include a stretchable member having an opening that is retractable and expandable and connected to the gas piping portion, and a moving member that moves by stretching and contracting the stretchable member.
여기서, 상기 신축부재는 내부에 공간을 형성하는 다이어프램을 구비하며, 상기 이동부재는 상기 신축부재의 하부에서 접촉되는 프레임 및 상기 프레임의 노출면에 구비되며 상기 프레임 보다 연성인 패드를 포함할 수 있고, 상기 신축부재는 상기 다이어프램을 둘러싸며 상하 방향으로 신축 가능한 외부 캡을 포함할 수도 있다. 또한, 상기 신축부재 및 상기 이동 부재는 상기 상부 지지대 및 상기 하부 지지대 중 적어도 어느 하나의 내부에 두께 방향으로 연속하여 설치될 수 있으며, 상기 신축부재는 가스 주입관 및 가스 배기관과 연결될 수 있다. Here, the elastic member may include a diaphragm which forms a space therein, the movable member may include a frame which is in contact with a lower portion of the elastic member, and a pad which is provided on an exposed surface of the frame and is more flexible than the frame And the elastic member may include an outer cap surrounding the diaphragm and expandable and contractible in the vertical direction. In addition, the elastic member and the moving member may be installed continuously in the thickness direction inside at least one of the upper support and the lower support, and the elastic member may be connected to the gas injection pipe and the gas exhaust pipe.
본 발명의 일 실시 형태에 따른 기판 지지 장치는, 기판을 지지하는 장치로서, 상기 기판을 지지하는 기판 지지대; 상기 기판 지지대의 가장자리를 따라서 배열되고, 적어도 일부는 기판 지지대 내부에 설치되며, 상기 기판 지지대의 두께 방향으로 신축 가능한 부재를 구비하는 보조 가압부를 포함한다. A substrate supporting apparatus according to an embodiment of the present invention is an apparatus for supporting a substrate, comprising: a substrate support for supporting the substrate; And at least a part of which is disposed along the edge of the substrate support and is provided inside the substrate support and includes a member that is expandable and contractible in the thickness direction of the substrate support.
상기 보조 가압부는 신축 가능하며 내부에 공간을 형성하는 신축부재, 상기 신축부재의 하부에 배치되는 이동부재를 포함할 수 있다. 상기 신축부재는 가스 배관부와 연결되며, 상기 이동부재는 상기 신축부재의 하부에서 접촉되는 프레임 및 상기 프레임의 노출면에 구비되며 상기 프레임 보다 연성인 패드를 구비할 수 있다. The auxiliary pressing portion may include a stretchable member that is expandable and contractible and forms a space therein, and a moving member that is disposed at a lower portion of the stretchable member. The stretching member is connected to the gas piping, and the moving member may include a frame which is in contact with the lower portion of the elastic member, and a pad provided on the exposed surface of the frame and more flexible than the frame.
또한, 상기 신축부재는 가스 주입 및 배기에 의하여 신축되며, 상기 이동 부재는 상기 신축부재의 신축에 의하여 상기 지지대의 두께 방향으로 이동할 수 있다. 상기 이동부재의 수평 방향 단면적이 상기 신축부재의 수평 방향 단면적 보다 크게 형성될 수 있으며, 이동부재의 프레임은 상기 기판의 외측면 보다 외측까지 연장 형성되며, 상기 이동부재의 패드는 상기 기판의 외측면 보다 내측에 배치될 수 있다. 또한, 상기 패드의 노출면과 상기 프레임의 노출면이 동일면 상에 위치하거나, 상기 패드가 프레임의 외측으로 돌출 형성될 수 있다. In addition, the stretching member is stretched and contracted by gas injection and exhaust, and the moving member can be moved in the thickness direction of the support by the elongation and contraction of the stretching member. Wherein the movable member has a horizontal cross-sectional area larger than a horizontal cross-sectional area of the elastic member, and a frame of the movable member extends to an outer side of the outer surface of the substrate, As shown in Fig. In addition, the exposed surface of the pad and the exposed surface of the frame may be on the same plane, or the pad may protrude to the outside of the frame.
본 발명의 일 실시 형태에 따른 기판 처리 방법은, 상부 기판 및 하부 기판을 마련하는 과정; 상기 상부 기판을 상부 지지대에 지지시키고, 상기 하부 기판을 하부 지지대에 지지시키는 과정; 상기 상부 지지대와 상기 하부 지지대의 간격을 좁혀, 상기 양 기판을 결합시키는 과정; 상기 결합된 기판의 상부 및 하부 중 적어도 하나로부터 압력을 인가하여 상기 결합된 기판의 가장자리를 가압하는 과정; 및 상기 상부 지지대 및 상기 하부 지지대로부터 상기 결합된 기판을 분리하는 과정을 포함한다. According to an aspect of the present invention, there is provided a substrate processing method comprising: preparing an upper substrate and a lower substrate; Supporting the upper substrate on an upper support and supporting the lower substrate on a lower support; Closing the gap between the upper support and the lower support to couple the two substrates; Applying pressure from at least one of an upper portion and a lower portion of the combined substrate to press the edge of the combined substrate; And separating the bonded substrate from the upper support and the lower support.
상기 가장자리를 가압하는 과정은 보조 가압부에 가스를 공급하고 이에 의하여 신장되는 부재를 이용하여 상기 결합된 기판의 가장자리를 따라 복수의 위치에서 가압할 수 있고, 상기 보조 가압부로 가압 후, 상기 보조 가압부로부터 가스를 배기하는 단계를 포함할 수 있다. 또한, 상기 가압하는 과정은 상기 상부 기판과 상기 하부 기판 사이에 형성된 접합 부재가 위치하는 영역을 가압할 수 있다.
The process of pressing the edge can pressurize at a plurality of positions along the edge of the combined substrate using a member that feeds gas to the auxiliary pressing portion and thereby extends, and after pressing with the auxiliary pressing portion, And exhausting the gas from the first and second portions. In addition, the pressing process may press a region where a bonding member formed between the upper substrate and the lower substrate is located.
본 발명의 실시 형태에 따르면, 양 기판을 합착할 때 기판 가장자리를 추가로 가압할 수 있다. 이러한 기판 합착 방식에 의하여 상호 결합된 기판의 가장자리를 안정적으로 합착시킬 수 있다. 또한, 기판을 지지하는 기판 지지대의 평탄도가 다소 불량하더라도 추가 가압에 의하여 기판 전체를 균일하게 합착시킬 수 있다. According to an embodiment of the present invention, the substrate edge can be further pressed when both substrates are bonded together. The edges of the substrates bonded to each other can be stably stuck together by such a substrate bonding method. Further, even if the flatness of the substrate support supporting the substrate is somewhat poor, the entire substrate can be uniformly adhered by the additional pressing.
추가 압력을 인가하는 보조 가압부는 주입되는 가스량이나 유속 등을 조절하여 가압력을 제어하므로 인가되는 압력을 정밀하게 제어할 수 있다. 이에, 기판에 필요한 만큼의 압력을 추가로 인가할 수 있다. The auxiliary pressurizing portion for applying the additional pressure can control the applied pressure precisely because the pressing force is controlled by adjusting the amount of gas to be injected or the flow rate. Thus, a pressure as much as necessary can be applied to the substrate.
또한, 보조 가압부에서 기판과 접촉하는 부분은 그 외 부분 보다 연성의 재질로 형성되며, 이에 가압 과정을 수행하면서 기판에 표면 결합 등이 발생하는 것을 억제 혹은 방지할 수 있다. 보조 가압부는 기판 지지대에서 다양한 배치로 설치될 수 있어, 기판에 형성되는 소자별로 균일한 추가 압력을 인가할 수 있다. In addition, the portion of the auxiliary pressing portion that is in contact with the substrate is made of a material that is more flexible than the other portion, and the surface bonding or the like on the substrate can be suppressed or prevented while performing the pressing process. The auxiliary pressing portion can be installed in various arrangements in the substrate support, and a uniform additional pressure can be applied to each element formed on the substrate.
또한, 본 발명의 실시 형태에 따르면, 간단한 구조의 보조 가압부를 지지대에 용이하게 장착할 수 있고, 기판 합착 공정의 신뢰성 및 생산성을 향상시킬 수 있다.
Further, according to the embodiment of the present invention, the auxiliary pressing portion having a simple structure can be easily mounted on the support, and the reliability and productivity of the substrate bonding process can be improved.
도 1은 본 발명의 실시예에 따른 기판 처리 장치의 개략 단면도.
도 2는 본 발명의 실시예의 기판 지지대의 개략 평면도.
도 3은 본 발명의 실시예의 보조 가압부의 확대 단면도.
도 4는 본 발명의 실시예의 기판 지지대의 부분 확대 평면도.
도 5는 본 발명의 실시예의 가스 배관 연결을 나타내는 개념도.
도 6은 본 발명의 변형예의 보조 가압부 배치 개념도.
도 7은 본 발명의 변형예의 보조 가압부 배치 개념도.
도 8은 본 발명의 변형예의 보조 가압부의 확대 단면도.
도 9는 본 발명의 실시예의 기판 처리 동작을 나타내는 개략 단면도.1 is a schematic cross-sectional view of a substrate processing apparatus according to an embodiment of the present invention;
2 is a schematic plan view of a substrate support of an embodiment of the present invention.
3 is an enlarged cross-sectional view of the auxiliary pressing portion of the embodiment of the present invention.
4 is a partially enlarged plan view of a substrate support of an embodiment of the present invention.
5 is a conceptual view showing a gas piping connection in an embodiment of the present invention.
FIG. 6 is a conceptual diagram of a subordinate pressurizing portion arrangement of a modification of the present invention. FIG.
FIG. 7 is a conceptual diagram of a subordinate pressurizing portion arrangement of a modification of the present invention. FIG.
8 is an enlarged cross-sectional view of an auxiliary pressing portion in a modification of the present invention.
9 is a schematic sectional view showing a substrate processing operation of an embodiment of the present invention.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예를 더욱 상세히 설명하기로 한다. 그러나 본 발명은 이하에서 개시되는 실시예에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 구현될 것이며, 단지 본 실시예들은 본 발명의 개시가 완전하도록 하며, 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이다. 도면은 본 발명의 실시예를 정확히 설명하기 위하여 크기가 부분적으로 과장될 수 있으며, 도면상에서 동일 부호는 동일한 요소를 지칭한다.
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. It will be apparent to those skilled in the art that the present invention may be embodied in many different forms and should not be construed as limited to the embodiments set forth herein. Rather, these embodiments are provided so that this disclosure will be thorough and complete, It is provided to let you know. The drawings may be exaggerated in size to precisely illustrate embodiments of the present invention, wherein like reference numerals refer to like elements throughout.
도 1은 본 발명의 실시예에 따른 기판 처리 장치의 개략 단면도이고, 도 2는 본 발명의 실시예의 기판 지지대의 개략 평면도이다. 이때, 기판 처리 장치는 상하부 기판을 합착하는 장치이다. FIG. 1 is a schematic cross-sectional view of a substrate processing apparatus according to an embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a schematic plan view of a substrate support of an embodiment of the present invention. At this time, the substrate processing apparatus is a device for attaching the upper and lower substrates together.
도 1 및 2를 참조하면, 기판 처리 장치는 내부 공간을 가지는 챔버부(10), 챔버부(10) 내부에 배치되어 상부 기판(S1)을 지지하는 상부 지지대(20), 및 상부 지지대(20)와 대향 배치되어 하부 기판(S2)을 지지하는 하부 지지대(30)를 포함하고, 상부 지지대(20) 및 하부 지지대(30) 중 적어도 어느 하나는 가장자리를 따라서 배열되고 상부 기판(S1) 및 하부 기판(S2) 중 적어도 어느 하나의 가장자리를 가압하는 보조 가압부(100)를 구비한다. 1 and 2, the substrate processing apparatus includes a chamber portion 10 having an inner space, an
여기서, 상부 기판(S1)은 OLED 소자가 형성된 소자 기판일 수 있고, 하부 기판(S2)은 소자 기판을 캡핑하여 보호하는 캡핑 기판일 수 있다. 또한 각 기판의 베이스재는 투과성 재질 예컨대 유리 패널일 수 있다. 물론 기판은 이에 한정되지 않고, 다양한 소자 및 장치를 구성하는 기판일 수 있고, 다양한 재질일 수 있다. 예컨대, 액정 표시 장치를 구성하는 액정 소자 기판과 컬러필터 기판일 수 있다. Here, the upper substrate S1 may be an element substrate having an OLED element formed thereon, and the lower substrate S2 may be a capping substrate for capping and protecting an element substrate. Further, the base material of each substrate may be a transparent material such as a glass panel. Of course, the substrate is not limited thereto, and may be a substrate constituting various devices and devices, and may be various materials. For example, it may be a liquid crystal element substrate constituting a liquid crystal display device and a color filter substrate.
챔버부(10)는 상부 기판(S1) 및 하부 기판(S2)의 합착 및 분리 공정을 수행하는 공간을 가지는 상측 챔버(11)와 하측 챔버(12)를 포함한다. 이때, 상측 챔버(11)와 하측 챔버(12)는 착탈 가능하게 결합되는 것이 효과적이다. 또한, 챔버부(10)는 도시되지 않았지만, 챔버부(100) 내부 공간의 압력을 조절하는 별도의 압력 조절 수단(미도시) 및 불순물을 배기하는 별도의 배기 수단(미도시)을 구비할 수 있다. 그리고, 상측 챔버(11) 및 하측 챔버(12) 각각을 승하강 시키는 별도의 승강 부재(미도시)를 더 구비하여, 상기 상측 챔버(11) 또는 하측 챔버(12)를 승하강시킴으로써, 상부 및 하부 기판(S1, S2)을 챔버부(100) 내외측으로 출입시킬 수 있다. 물론, 챔버부(10)은 상기 외의 다양한 방식으로 제조될 수 있다. 예컨대, 챔버부는 내부에 공간을 형성하는 챔버 몸체와 챔버 몸체의 상부에 결합되는 챔버 뚜껑으로 형성될 수 있고, 단일 몸체의 챔버로 구성될 수도 있다. 이러한 경우 챔버부에는 기판이 반입 및 반출되는 개구가 형성된다. The chamber section 10 includes an
상부 지지대(20)은 챔버부(10)의 내부 상측에 배치되어, 상부 기판(S1)을 지지 고정하는 역할을 한다. 이러한 상부 지지대(20)는 기판 형성에 대응하는 형상으로 제조될 수 있다. 예컨대, 기판이 사각 판의 유리 패널인 경우, 상부 지지대(20)은 사각 판 형상으로 제작될 수 있다. 상부 지지대(20)는 상부 지지대(20)에 장착되어 상부 기판(S1)을 지지 고정하는 흡착력부를 포함한다. 실시예에서는 흡착력부로 진공흡착 방식을 예시한다. 즉, 기판 지지대에 복수의 진공홀(91)를 구비하여 진공력으로 기판을 지지 고정하는 방식이다. 물론 흡착력부는 이에 한정되지 않고 기판을 지지 고정할 수 있는 장치라면 어떠한 수단이 사용되어도 무방하다. 즉, 흡착력부는 기판(S1)의 재질 및 형상 등에 따라 다양하게 변경될 수 있다. 예컨대, 흡착력부로 정전기력을 이용하여 기판을 지지 고정하는 정전척부를 사용할 수도 있고, 점착력으로 기판을 지지 고정하는 점착력부를 사용할 수도 있다. 그리고, 도시되지는 않았지만 상부 지지대(20)에는 상부 기판(S1)의 부착 및 분리를 돕는 리프트핀(미도시)이 더 구비될 수 있다.The
상부 지지대(20)에는 상측 구동부(40, 50)가 연결되어, 상부 지지대(20)을 승하강시킨다. 이러한 상측 구동부(40, 50)는 상부 지지대(20)와 연결된 상측 구동축(40)과, 상측 구동축(40)에 동력을 인가하는 상측 동력부(50)를 포함한다. 이때, 상측 구동축(40)은 챔버부(10)의 일부를 관통하도록 설치된다. 따라서, 상측 구동축(40)에 의한 챔버부(10)의 밀봉 파괴를 방지하기 위해 상측 구동축(40)의 둘레를 감싸도록 밀봉부재(미도시) 예를 들어, 벨로우즈가 장착될 수 있다. 이에, 상측 구동부(40, 50)를 이용하여 상부 지지대(20)을 하강시켜 상부 기판(S1)과 하부 기판(S2) 간을 합착할 수 있다. 그리고, 상측 구동부에는 도시되지는 않았지만, 상부 지지대(20)을 X, Y 및 θ 방향으로 이동시켜 상기 상부 지지대(20)의 위치를 조절하는 정렬 수단(미도시)을 더 구비할 수 있다. 따라서, 정렬 수단(미도시)을 이용하여 상부 지지대(20)를 X, Y 및 θ 방향으로 이동시킴으로써, 상부 기판(S1)과 하부 기판(S2) 간을 정렬시킬 수 있다. 또한, 정렬 수단(미도시)은 하부 기판(S2) 및 상부 기판(S1)의 위치를 파악하기 위한 별도의 카메라(미도시) 또는 위치 센서(미도시)를 더 구비할 수도 있다. 물론 이에 한정되지 않고, 상기와 같은 정렬 수단(미도시)은 상부 지지대(20)과 대향 배치된 하부 지지대(30)에 설치될 수도 있다.The
하부 지지대(30)는 챔버부(10)의 내부 하측에 인접 배치되어, 하부 기판(S2)을 지지 고정하는 역할을 한다. 여기서 하부 지지대(30)는 상부 지지대(20)과 마주보도록 대향 배치된다. 하부 지지대(30)는 상기에서 상세히 설명된 상부 지지대(20)와 대부분의 구성이 유사하므로 중복되는 설명을 생략한다. 하부 지지대(30)는 기판(S2)를 지지 고정하는 흡착력부를 구비하며, 기판의 부착 및 분리를 돕는 리프트 부재, 예컨대 리프트 핀(80)을 구비한다. 리프트 핀(80)은 지지대에 형성된 핀 관통홀(81)을 통과하여 상하방향으로 이동할 수 있으며, 그 상부에 위치하는 기판 혹은 기판들을 지지대에 부착시키거나 지지대로부터 분리시키는 기능을 수행한다. 리프트 핀(80)은 기판의 크기에 따라 적당한 위치에 복수개 배치되며, 이들을 승하강시키는 리프트 구동부(미도시)에 연결되어 상하 이동된다. 또한, 하부 지지대(30)에는 하측 구동부(60, 70)가 연결되어, 하부 지지대(30)을 승하강시킬 수도 있다. 하기에서 상부 지지대(20) 및 하부 지지대(30)가 특별히 구별되지 않는 경우 기판 지지대라고 지칭하고, 상부 기판(S1) 및 하부 기판(S2)가 특별히 구별되지 않는 경우 기판이라고 지칭한다. The
보조 가압부(100)은 상부 지지대(20) 및 하부 지지대(30) 중 적어도 어느 하나의 가장자리를 따라서 장착되며, 상부 기판(S1) 및 하부 기판(S2) 중 적어도 어느 하나의 가장자리를 가압한다. 보조 가압부(100)는 적어도 일부가 기판 지지대(20, 30)의 내부에 장착되며, 상하방향으로 이동가능하여, 기판(S1, S2)을 부분적으로 가압할 수 있다. 보조 가압부(100)은 기판 지지대(20, 30)의 가장자리 즉, 기판 지지대(20, 30)의 외곽 변에서 내측으로 소정 간격 이격된 위치에 변의 연장 방향을 따라서 배치된다. 이때, 이격되는 거리(d1)은 기판 지지대(20, 30)에 기판이 장착되었을 때 기판이 기판 지지대(20, 30)의 외곽 변에서 이격되는 거리(d0) 보다는 작은 거리 이격된다(도 2 및 도4). 이로부터 보조 가압부(100)는 기판의 가장자리를 충분히 커버하면서 가압할 수 있게 된다. The auxiliary
도 2 및 도 6에 도시되어 있듯이, 보조 가압부(100)는 복수개가 설치될 수 있으며, 그 중 일부는 상부 지지대(20) 및 하부 지지대(30) 중 적어도 어느 하나의 코너부에 배치될 수 있다. 예컨대, 보조 가압부(100)는 기판 지지대(20, 30)의 장변 및 단변 방향으로 복수개가 배치되고, 그 중 일부는 장변과 단변이 연결되는 코너부에 위치할 수 있다. 이로부터 보조 가압부(100)들은 기판의 가장자리를 전체적으로 균일하게 가압할 수 있고, 기판의 코너부도 충분히 가압할 수 있게 된다. 도 7에 도시되어 있듯이, 보조 가압부(100)는 복수개가 설치되며, 상부 기판(S1) 및 하부 기판(S2)에 형성되는 단위 소자별로 배치될 수 있다. 예컨대, 기판(S1, S2)에 복수개 단위 소자가 형성되는 경우, 각 소자의 가장자리 영역, 즉 단위 소자가 분할되는 영역에 대응하여 기판 지지대(20, 30) 상에 보조 가압부(100)를 배치시킬 수 있다. 또한, 보조 가압부(100)는 상부 지지대(20) 및 하부 지지대(30)에 각각 설치되며, 이들은 상하 방향으로 마주 보고 배치될 수 있다. As shown in FIGS. 2 and 6, a plurality of auxiliary
또한, 보조 가압부(100)은 가스가 통과되는 배관부(200)와 연결되어 가스가 주입되거나 배기될 수 있다. 배관부(200)와 관련해서는 뒤에서 상세히 기술한다.
Further, the auxiliary
도 3은 본 발명의 실시예의 보조 가압부의 확대 단면도로, 도 3a는 기준 상태의 보조 가압부를 나타내며, 도 3b는 가압 상태의 보조 가압부를 나타낸다.FIG. 3 is an enlarged sectional view of the auxiliary pressing portion in the embodiment of the present invention, wherein FIG. 3A shows the auxiliary pressing portion in the reference state, and FIG. 3B shows the auxiliary pressing portion in the pressing state.
도 3a 및 도 3b를 참조하여, 보조 가압부(100)의 세부 구조를 상세히 설명한다. 보조 가압부(100)는 적어도 일부가 기판 지지대(20, 30) 내부에 설치되며, 기판 지지대(20, 30)의 두께 방향으로 신축 가능한 부재를 구비한다. 즉, 보조 가압부(100)는 신축 가능하며 내부에 공간을 형성하는 신축부재(120), 신축부재(120)의 하부에 배치되는 이동부재(110)를 포함한다. 이때 신축부재(120) 및 이동부재(110)가 모두 기판 지지대(20, 30) 내에 설치될 수도 있고, 이동부재(110)만 기판 지지대(20, 30) 내에 설치될 수도 있다. 또한, 보조 가압부(100)는 상부 지지대(20)의 하부면 및 하부 지지대(30)의 상부면 중 적어도 어느 하나의 면으로 노출되는 노출 영역을 구비하며, 노출 영역은 금속보다 연성의 재질로 이루어진 패드(112)를 포함한다. 3A and 3B, the detailed structure of the auxiliary
신축부재(120)는 내부에 공간을 형성하고, 신축 가능하며 가스 배관부(200)와 연결되는 개구(124)를 구비한다. 즉, 신축부재(120)는 내부에 공간을 형성하며 일측이 개방된 개구(124)를 가지는 다이어프램(121)을 구비한다. 이에, 개구(124)를 통하여 내부에 가스가 주입되면 다이어프램(121)이 신장 혹은 팽창하고, 내부 공간의 가스가 배기되면 다이어프램(121)이 축소하게 된다. 이때, 다이어프램(121)은 탄성이 있는 얇은 막판을 말한다. 예컨대, 천연 고무, 합성 고무, 금속판 등으로 만들어질 수 있고, 다양한 형상으로 제조될 수 있다. 여기서는 다이어프램(121)을 상하방향으로 연장되는 통형 주머니 형상으로 제조하였다. 물론 다이어프램(121)이 후술될 이동부재(120)를 이동시킬 수 있다면, 그 형상이나 구조가 특별히 한정되지 않는다. 다이어프램(121)은 휨과 흡수 특성 및 탄성 등을 이용하여, 변위가 비교적 자유롭고, 반복적으로 신축 가능하다. The
또한, 신축부재(120)는 다이어프램(121)을 둘러싸며 상하 방향으로 신축 가능한 외부 캡을 포함한다. 즉, 외부 캡은 다이어프램(121)의 하부 및 측면을 감싸는 하부캡(122) 및 다이어프램(121)의 상부 및 하부캡(122)의 적어도 일부를 감싸는 상부캡(123)을 포함한다. 이때 각 캡은 다이어프램(121)의 형상 및 크기에 대응하는 형상 및 구조로 제조될 수 있다. 예컨대, 다이어프램(121)이 통형인 경우, 하부캡(122) 및 상부캡(123)도 통형으로 제조되며 내부에 다이어프램(121)이 삽입될 수 있는 크기로 제조된다. 이때, 상부캡(123)에는 다이어프램(121)의 개구(124)에 대응하는 위치에 관통홀이 형성된다. 이러한 외부 캡은 다이어프램(121)을 감싸도록 설치되어, 다이어프램(121)의 신축 방향을 제어할 수 있다. 다이어프램(121)에 가스가 주입되지 않는 상태 즉, 기준 상태에서는 하부캡(122) 상에 상부캡(123)이 접촉된 상태로 유지된다(도 3a). 다이어프램(121)에 가스가 주입되면 다이어프램(121)은 신장 혹은 팽창하고, 이러한 팽창력에 의하여 하부캡(122) 및 상부캡(123)의 간격이 멀어지며, 외부 캡이 상하 방향으로 신장하게 된다. 즉, 외부 캡은 이동 가능한 별도 부재인 하부캡(122) 및 상부캡(123)으로 이루어지므로, 다이어프램(121)이 전체 방향으로 팽창하여도, 하부캡(122) 및 상부캡(123)의 이동이 용이한 상하 방향으로 멀어지게 되고, 전체 신축부재(120)는 상하 방향으로 신장하게 된다(도 3b). 이때, 신축부재(120)가 설치되는 기판 지지대(20, 30)의 내측벽도 신축부재(120)가 수평 방향으로 신장되는 것을 억제하고, 상하 방향으로 신장되도록 한다.In addition, the
또한, 신축부재(120)는 그의 개구(124)가 가스 배관부(200)과 연결된다. 즉, 개구(124)는 가스가 통과하는 즉, 가스가 주입되거나 배기되는 메인배관(210)과 연결되고, 상기 메인배관(210)은 가스가 주입되는 배관인 가스 주입관(220) 및 가스가 배기되는 배관인 가스 배기관(230)과 연결된다. 가스 주입관(220) 및 가스 배기관(230)에는 각각 가스 흐름을 개폐하는 제1 및 2 제어 밸브(221, 231)가 설치될 수 있다. 이로부터 제2 제어 밸브(231)은 폐쇄하고 제1 제어 밸브(221)을 개방하여, 가스 주입관(220) 및 메인배관(210)을 통하여 가스를 신축부재(120) 내부로 주입할 수 있다. 반대로, 제1 제어 밸브(221)은 폐쇄하고 제2 제어 밸브(231)을 개방하여, 가스 배기관(230) 및 메인배관(210)을 통하여 신축부재(120) 내부로부터 외부로 가스를 배기시킬 수 있다. 여기서 가스로는 공기(air)나 질소(N2) 혹은 반응성이 낮은 여러 가지 가스가 사용될 수 있다. Further, the
이러한 가스 배관부(200)은 보조 가압부(100)가 복수 개인 경우, 보조 가압부(100)별로 즉, 신축부재(120)별로 구비될 수도 있고, 복수의 보조 가압부(100)에 대하여 공통 배관으로 설치할 수도 있다. 예컨대, 도 5에 도시된 바와 같이, 기판 지지대(20, 30)에 복수개의 보조 가압부(100)가 설치될 때, 공통 배관을 사용하여 전체 배관부의 구조를 단순하게 할 수 있다. 우선, 각 보조 가압부(100)와 직접 연결되는 개별 메인배관(211a ~ 211h)을 그룹핑하여, 두개의 공통 메인배관(210a, 210b)와 연결한다. 개별 메인배관(211a ~ 211d)는 공통 메인배관(210a)에 연결되며, 개별 메인배관(211e ~ 211h)는 공통 메인배관(210b)에 연결된다. 각 공통 메인배관(210a, 210b)은 각기 공통 주입관(220a, 220b) 및 공통 배기관(230a, 230b)에 연결된다. 즉, 공통 메인배관(210a)은 공통 주입관(220a) 및 공통 배기관(230a)에 연결되고, 공통 주입관(220a)에는 공통 제1 제어 밸브(221a)가 설치되며, 공통 배기관(230a)에는 공통 제2 제어 밸브(231a)가 설치된다. 또한, 공통 메인배관(210b)은 공통 주입관(220b) 및 공통 배기관(230b)에 연결되고, 공통 주입관(220b)에는 공통 제1 제어 밸브(221b)가 설치되며, 공통 배기관(230b)에는 공통 제2 제어 밸브(231b)가 설치된다. 각 공통 주입관(220a, 220b)은 가스 공급원(222)에 연결되며, 각 공통 배기관(230a, 230b)은 배기 수단(232) 예컨대 진공 펌프에 연결된다. 이로부터 공통 배관들 및 각 제어 밸브들의 단순한 동작으로 복수의 보조 가압부(100)에 함께 가스를 공급하거나 배기시킬 수 있다. 즉, 공통 제2 제어 밸브(231a, 231b)은 폐쇄하고 공통 제1 제어 밸브(221a, 221b)을 개방하여, 공통 주입관(220a, 220b) 및 공통 메인배관(210a, 210b)을 통하여 가스를 개별 메인배관(211a ~ 211h) 모두에 흐르도록 하고, 이로부터 복수의 신축부재 내부로 가스를 주입할 수 있다. 반대로, 공통 제1 제어 밸브(221a, 221b)은 폐쇄하고 공통 제2 제어 밸브(231a, 231b)을 개방하여, 공통 배기관(230a, 230b), 공통 메인배관(210a, 210b) 및 개별 메인배관(211a ~ 211h)을 통하여 복수의 신축부재 내부로부터 외부로 가스를 배기시킬 수 있다. 물론, 그룹핑된 배관부별로 작동시켜, 복수의 보조 가압부을 그룹별로 동작시킬 수도 있다. The
이동부재(110)는 보조 가압부(100)에 가스가 주입되거나 배기됨에 의하여 이동하는 부재이며, 구체적으로는 신축부재(120)에 가스가 주입되어 신장되거나, 배기됨에 의하여 축소됨에 따라 상하 방향으로 이동하는 부재이다. 이러한 이동부재(110)의 상하 방향(즉, 수직 방향 또는 지지대의 두께 방향) 이동에 의하여 합착되는 기판들을 추가로 가압할 수 있다. 또한, 이동부재(110)는 상기 신축부재(120)와 함께 상부 지지대 및 하부 지지대 중 적어도 어느 하나의 내부에 두께 방향으로 연속하여 설치되며, 신축부재(120)의 하측에 접촉되어 배치된다. 예컨대, 신축부재(120)는 이동부재(110)의 상부의 중심 영역에 배치되며, 중심 영역에 대하여 이동부재(110)가 좌우로 연장 형성될 수 있다. 즉, 이동부재(110)는 기판(S1, S2)을 가압할 수 있도록 수평 방향으로 소정 면적을 가지며, 신축부재(120)의 수평 방향 단면적 보다 이동부재(110)의 수평 방향 단면적이 크게 형성될 수 있다. 이로부터 신축부재(120)로부터 가압력을 받아 이동부재(110)는 넓은 면적으로 기판(S1, S2)를 가압할 수 있게 된다. The
또한, 이동부재(110)는 신축부재(120)의 하부에서 접촉되는 프레임(111) 및 프레임(111)의 노출면에 구비되며 프레임(111) 보다 연성인 패드(112)를 포함한다. 이때, 프레임(111)은 비교적 강성의 재질인 금속 등으로 제조될 수 있다. 예컨대 알루미늄 등이 사용될 수 있다. 프레임(111)에 내측 방향으로 홈을 형성하고 이 홈에 패드(112)를 장착할 수 있다. 패드(112)는 비교적 연성이며 탄성이 있는 재질로 제조될 수 있다. 예컨대, 실리콘 고무, 테프론, 기타 고무 재질 등이 사용될 수 있다. 패드(112)는 프레임(111)의 노출면과 높이가 같거나 다소 높게 설치될 수 있다. 즉, 패드(112)의 노출면과 프레임(111)의 노출면이 동일면 상에 위치하거나, 패드(112)가 프레임(111)의 외측으로 다소 돌출되도록 설치될 수 있다. 패드(112)는 기판(S1, S2)과 직접 접촉하여 기판(S1, S2)을 가압하는 부재로 연성의 재질이므로, 기판(S1, S2)과 접촉하더라도 기판(S1, S2)에 스크래치 등의 결함을 발생시키지 않는다. 도면에서는 프레임(111)의 중앙에 대하여 양측에 사각형 패드(112)가 장착되었으나, 패드(112)는 기판(S1, S2)을 충분히 가압할 수 있다면, 그 구조나 형상 및 개수가 한정되지 않는다. 도 4에 도시되어 있듯이, 프레임(111)은 기판(S1, S2)의 외곽 변보다 외측까지 연장 형성되며, 패드(112)는 기판(S1, S2)의 외곽 변보다 내측에 배치될 수 있다. 패드(112)는 기판(S1, S2)에 형성되는 접합부재 즉, 실링재(a)의 위치에 대응하여 배치될 수 있다. The
이러한 이동부재(110)는 신축부재(120)에 가스가 주입되지 않는 기준 상태에서는 기판 지지대 내측에 위치한다(도 3a 참조). 신축부재(120)에 가스가 주입되면 신축부재(120)가 신장 혹은 팽창되고, 이러한 신장에 의하여 신축부재(120)가 이동부재(110)를 하측 방향으로 밀게 되며, 이동부재(110)은 하방으로 이동하여 기판 지지대(20, 30)의 외측으로 돌출하여 기판을 가압하게 된다(도 3b 참조). 이때, 기판 지지대(20, 30)의 내측 상면과 이동부재(120) 사이에는 이동부재(120)의 이동에 의하여 공간(e)이 생길 수 있다. 도면들에서는 이동부재(110)가 하측 방향으로 이동하는 것을 예시하였으나, 이는 보조 가압부(100)가 설치되는 기판 지지대의 배치 방향에 따라 변동된다. 즉, 보조 가압부(100)가 하부 지지대에 설치되면 이동부재(110)는 하부 지지대로부터 돌출되어 상측 방향으로 이동하게 된다. This moving
상술된 신축부재(120) 및 이동부재(110)를 기판 지지대(20, 30)에 설치하기 위해서 기판 지지대(20, 30)에는 두께 방향으로 오목홈 또는 관통홀이 형성된다. 예컨대, 신축부재(120) 및 이동부재(110)의 크기에 맞추어 기판 지지대(20, 30)에 공간이 형성된 홈이 제조되고, 그 내부에 신축부재(120) 및 이동부재(110)가 삽입된다. 이때, 홈 또는 홀의 내측벽은 신축부재(120)가 수평 방향으로 팽창하는 것을 억제하고, 수직 방향으로 팽창하도록 유도한다. 또한, 기판 지지대(20, 30)에는 가스 배관부(200)와 신축부재(120)가 연결될 수 있도록 상기 오목홈 또는 관통홀과 연결되는 개구가 형성된다. 물론, 각 부재의 설치에 있어 밀봉이 요구되는 위치에는 밀봉 부재가 설치될 수 있다. A concave groove or a through hole is formed in the
상기에서는 외부캡을 가지는 신축부재 및 복수의 패드를 가지는 이동부재를 예시하였으나, 보조 가압부는 다양하게 변경될 수 있다. 예컨대, 도 8에 도시된 바와 같이, 신축부재는 별도의 외부캡 없이 다이아프램(121)만으로 형성될 수 있으며 다이아프램의 신축방향은 기판 지지대(20, 30)의 내측벽에 의하여 제어된다. 이때, 신축부재는 단일 부재일 수도 있고 복수의 부재가 결합된 형상일 수도 있다. 또한, 이동부재는 프레임(111) 하부 전체면에 패드(112)가 장착될 수 있다. 물론 프레임(111) 하부의 일부면에 하나의 패드가 장착될 수도 있다.
Although the elastic member having the outer cap and the moving member having the plurality of pads have been described above, the auxiliary pressing portion can be variously changed. For example, as shown in Fig. 8, the elastic member may be formed only of the
하기에서는 기판 처리 방법 즉, 기판을 합착 및 접합하는 과정을 설명한다. 도 9는 본 발명의 실시예의 기판 처리 동작을 나타내는 단면도이다. 즉, 도 9a 및 도 9f는 기판 처리의 각 동작 과정을 개념적으로 표시한 도면이다. Hereinafter, a substrate processing method, that is, a process of joining and joining substrates will be described. 9 is a cross-sectional view showing a substrate processing operation in the embodiment of the present invention. That is, FIGS. 9A and 9F conceptually show the respective operation processes of the substrate processing.
기판 처리 방법은 상부 기판(S1) 및 하부 기판(S2)을 마련하는 과정, 상부 기판(S1)을 상부 지지대(20)에 지지시키고, 하부 기판(S2)을 하부 지지대(30)에 지지시키는 과정, 상부 지지대(20)와 하부 지지대(30)의 간격을 좁혀 양 기판을 결합시키는 과정, 결합된 기판의 상부 및 하부 중 적어도 하나로부터 압력을 인가하여 결합된 기판의 가장자리를 가압하는 과정 및 상부 지지대(20) 및 하부 지지대(30)로부터 결합된 기판을 분리하는 과정을 포함한다. The substrate processing method includes the steps of providing the upper substrate S1 and the lower substrate S2, supporting the upper substrate S1 on the
먼저, 상부 기판(S1)과 하부 기판(S2)을 준비하고, 도 9a에 도시된 바와 같이, 상부 지지대(20) 및 하부 지지대(30) 각각에 상부 기판(S1) 및 하부 기판(S2)을 지지시킨다. 여기서 상부 기판(S1) 상에는 예를 들어, OLED 소자(미도시)가 형성되어 있다. 이러한 상부 기판(S1)은 상부 지지대(20)의 흡착력부의 흡착력에 의해 지지 고정된다. 또한 하부 기판(S2)는 OLED 소자를 보호하는 캡핑 유리 패널일 수 있다. 이러한 하부 기판(S2)이 하부 지지대(30) 상에 안착되면, 흡착력부의 흡착력에 의해 지지 고정되도록 한다. 이후, 도시되지는 않았지만 정렬 수단(미도시)을 이용하여 하부 기판(S2) 및 상부 기판(S1) 간을 정렬시킨다. 그리고 챔버부(100) 내부를 진공 상태로 유지시킨다. 이때, 하부 기판(S2)의 가장자리를 따라 실란트와 같은 접합부재(a)가 도포 되어 있다. 접합부재의 도포는 하부 기판(S2)을 챔버부에 로딩하기 전 혹은 후에 수행할 수 있다.First, the upper substrate S1 and the lower substrate S2 are prepared and the upper substrate S1 and the lower substrate S2 are formed on the upper and
도 9b를 참조하면, 먼저 상측 구동부(40, 50) 및 하측 구동부(60,70) 중 적어도 하나를 이용하여 상부 지지대(20)와 하부 지지대(30) 사이의 간격을 좁힌다. 예컨대, 상측 구동부(40, 50)을 이용하여 상부 지지대(20)를 하강시켜, 하부 지지대(30)과 상부 지지대(20)를 인접 배치시킨다. 그리고 상부 지지대(20)을 더욱 하강시켜 상부 기판(S1)과 하부 기판(S2)을 밀착시킨다. Referring to FIG. 9B, first, at least one of the upper and
이어서 도 9c에 도시된 바와 같이, 결합된 기판을 향하여 보조 가압부(100)를 구동하여 결합된 기판의 가장자리를 가압한다. 가장자리를 가압하는 과정은 보조 가압부(100)에 가스를 공급하고 이에 의하여 신장되는 신축부재 및 신축부재의 팽창에 의하여 이동하는 이동부재를 이용하여 상기 결합된 기판의 가장자리를 따라 복수의 위치에서 가압할 수 있다. 이러한 추가 가압 과정은 상부 기판(S1)과 하부 기판(S2) 사이에 형성된 접합 부재(a)가 위치하는 영역을 가압할 수 있다. 또한, 추가 가압은 결합된 기판들의 상부 및 하부 중 적어도 일측에서 가압할 수 있다. 도면에서처럼 기판들을 사이에 두고, 상하부의 보조 가압부(100)을 기판들의 방향으로 밀어서 양쪽에서 가압할 수도 있고, 상부 혹은 하부에서만 가압할 수도 있다. 이로부터 결합된 기판들을 균일하게 합착시킬 수 있고, 가장자리 영역, 예컨대, 접합부재가 위치하는 영역을 안정적으로 균일하게 합착시킬 수 있다. 또한, 기판 지지대(20, 30)의 평탄도가 다소 불량하더라도, 보조 가압부(100)를 이용하여 기판을 추가 가압하므로, 기판들을 균일하게 합착할 수 있다. Subsequently, as shown in FIG. 9C, the auxiliary
이어서, 도 9d에 도시된 바와 같이, 상부 지지대(20) 및 하부 지지대(30)로부터 상기 결합된 기판을 분리한다. 우선, 보조 가압부(100)와 연결된 가스 배기관 및 배기수단을 이용하여 보조 가압부(100) 내의 가스를 배기시킨다. 이에 보조 가압부(100)는 기존 상태로 돌아가 기판 지지대(20, 30) 내로 안착된다. 이후 상부 지지대(20)로부터 상부 기판(S1)을 분리하여, 하부 지지대(30) 상에 지지된 하부 기판(S2) 상에 상부 기판(S1)이 배치되는 상태가 되도록 한다. 즉, 상부 지지대(20)의 흡착력을 해제한다. 그리고 상측 구동부(40, 50)을 이용하여 상부 지지대(20)을 상승시키면, 하부 지지대(30) 상에 하부 기판(S2) 및 이에 합착된 상부 기판(S1)이 위치하게 된다. 여기서 도시되지는 않았지만, 상부 기판(S1)과 하부 기판(S2) 사이에 형성된 접합부재(a)를 경화시켜 상부 기판(S1)과 하부 기판(S2)을 접합시킨다. 접합부재(a)는 그 재질에 따라 광 혹은 열에 의하여 경화될 수 있다. Then, the bonded substrate is separated from the
그리고 후속 공정을 위해 상호 결합된 상부 기판(S1) 및 하부 기판(S2)을 챔버부(100) 밖으로 이동시킨다. 이를 위해, 도 9d에 도시된 바와 같이, 하부 지지대(30)로부터 상호 접합된 상부 기판(S1) 및 하부 기판(S2)을 분리시킨다. 즉, 리프트 구동부를 이용하여 복수의 리프트 부재(80) 각각을 상승시킨다. 이때 하부 기판(S2)의 하측에 배치된 복수의 리프트 부재(80)가 하부 지지대(30)를 관통하여 그 상부로 돌출되도록 리프트 부재(80)를 상승시킨다. 이에, 상호 접합된 기판들은 하부 지지대(30)와 분리되어 리프트 부재(80)의 상부에 위치하게 된다. 이후 로봇 등을 이용하여 접합된 기판들을 챔버부(100)의 외측으로 이동시킬 수 있다.
And moves the upper substrate S1 and the lower substrate S2 mutually coupled out of the
상기에서는 기판 합착 장치 및 기판 합착 방법을 예를 들어 설명하였으나, 기판을 지지 고정하여 기판을 처리하는 다양한 기판 처리 장치에 적용될 수 있다. Although the substrate adhering apparatus and the substrate adhering method have been described above, the present invention can be applied to various substrate processing apparatuses that process a substrate by supporting and fixing the substrate.
본 발명을 첨부 도면과 전술된 바람직한 실시 예를 참조하여 설명하였으나, 본 발명은 그에 한정되지 않으며, 후술 되는 특허청구범위에 의해 한정된다. 따라서, 본 기술분야의 통상의 지식을 가진 자라면 후술 되는 특허청구범위의 기술적 사상에서 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 변형 및 수정할 수 있다.
Although the present invention has been described with reference to the accompanying drawings and the preferred embodiments described above, the present invention is not limited thereto but is limited by the following claims. Accordingly, those skilled in the art will appreciate that various modifications and changes may be made thereto without departing from the spirit of the following claims.
10 : 챔버부 20, 30 : 기판 지지대 100 : 보조 가압부
110 : 이동부재 120 : 신축부재 200 : 배관부10:
110: moving member 120: elastic member 200: piping part
Claims (21)
상기 챔버부 내부에 배치되어 상부 기판을 지지하는 상부 지지대; 및
상기 상부 지지대와 대향 배치되어 하부 기판을 지지하는 하부 지지대;를 포함하고,
상기 상부 지지대 및 상기 하부 지지대 중 적어도 어느 하나는 가장자리를 따라서 배열되고 상기 상부 기판 및 상기 하부 기판 중 적어도 어느 하나의 가장자리를 가압하는 보조 가압부를 구비하며,
상기 보조 가압부는 가스 주입 및 배기에 의하여 이동하고, 가스의 주입 시 상기 상부 지지대 및 상기 하부 지지대 중 상기 보조 가압부가 배열된 지지대의 외측으로 돌출되어 기판을 접촉 가압하며, 가스의 미 주입 시 상기 지지대의 내측에 위치하는 이동부재를 구비하는 기판 처리 장치.
A chamber portion having an inner space;
An upper support disposed within the chamber to support the upper substrate; And
And a lower support disposed opposite to the upper support to support the lower substrate,
At least one of the upper support and the lower support being arranged along the edge and having an auxiliary pressing portion for pressing the edge of at least one of the upper substrate and the lower substrate,
The auxiliary pushing portion moves by gas injection and exhaust, and when the gas is injected, among the upper support and the lower support, the auxiliary pushing portion is protruded outward from the support, on which the substrate is contacted, And a moving member located on the inside of the substrate.
상기 보조 가압부는 복수개가 설치되며, 그 중 일부는 상기 상부 지지대 및 상기 하부 지지대 중 적어도 어느 하나의 코너부에 배치되는 기판 처리 장치.
The method according to claim 1,
Wherein a plurality of auxiliary pressing portions are provided, and a part of the auxiliary pressing portions is disposed at a corner of at least one of the upper support and the lower support.
상기 보조 가압부는 상기 상부 지지대 및 상기 하부 지지대에 각각 설치되며, 이들은 상하 방향으로 마주 보고 배치되는 기판 처리 장치.
The method according to claim 1,
Wherein the auxiliary pressing portion is provided on the upper supporter and the lower supporter, respectively, and the auxiliary presser is disposed facing the upper supporter and the lower supporter in the vertical direction.
상기 보조 가압부는 복수개가 설치되며, 상기 상부 기판 및 상기 하부 기판에 형성되는 단위 소자별로 배치되는 기판 처리 장치.
The method according to claim 1,
Wherein the plurality of auxiliary pressing portions are provided for each unit element formed on the upper substrate and the lower substrate.
상기 보조 가압부는 상기 상부 지지대의 하부면 및 상기 하부 지지대의 상부면 중 적어도 어느 하나의 면으로 노출되는 노출 영역을 구비하며, 상기 노출 영역은 금속 보다 연성의 재질로 이루어진 패드를 포함하는 기판 처리 장치.
The method according to any one of claims 1 to 4,
Wherein the auxiliary pressing portion has an exposed region exposed through at least one of a lower surface of the upper support and an upper surface of the lower support, and the exposed region includes a pad made of a material softer than metal, .
상기 보조 가압부는 신축 가능하며 가스 배관부와 연결되는 개구를 구비한 신축부재, 상기 신축부재의 신장 및 축소에 의하여 이동하는 상기 이동부재를 포함하는 기판 처리 장치.
The method according to any one of claims 1 to 4,
Wherein the auxiliary pressurizing portion includes a stretchable member having an opening that is retractable and extendable to be connected to the gas piping portion, and the moving member that moves by extension and contraction of the stretchable member.
상기 신축부재는 내부에 공간을 형성하는 다이어프램을 구비하며, 상기 이동부재는 상기 신축부재의 하부에서 접촉되는 프레임 및 상기 프레임의 노출면에 구비되며 상기 프레임 보다 연성인 패드를 포함하는 기판 처리 장치.
The method of claim 7,
Wherein the elastic member includes a diaphragm which forms a space therein, and the movable member includes a frame which is brought into contact with a lower portion of the elastic member, and a pad provided on an exposed surface of the frame and more flexible than the frame.
상기 신축부재는 상기 다이어프램을 둘러싸며 상하 방향으로 신축 가능한 외부 캡을 포함하는 기판 처리 장치.
The method of claim 8,
Wherein the elastic member includes an outer cap surrounding the diaphragm and capable of expanding and contracting in a vertical direction.
상기 신축부재 및 상기 이동 부재는 상기 상부 지지대 및 상기 하부 지지대 중 적어도 어느 하나의 내부에 두께 방향으로 연속하여 설치되며, 상기 신축부재는 가스 주입관 및 가스 배기관과 연결되는 기판 처리 장치.
The method of claim 7,
Wherein the elastic member and the movable member are continuously provided in the thickness direction inside at least one of the upper support and the lower support, and the elastic member is connected to the gas injection pipe and the gas exhaust pipe.
상기 기판을 지지하는 기판 지지대;
상기 기판 지지대의 가장자리를 따라서 배열되고, 적어도 일부는 기판 지지대 내부에 설치되며, 상기 기판 지지대의 두께 방향으로 신축 가능한 부재를 구비하는 보조 가압부;를 포함하고,
상기 보조 가압부는 가스 주입 및 배기에 의하여 이동하고, 가스의 주입 시 상기 지지대의 외측으로 돌출되어 상기 기판을 접촉 가압하며, 가스의 미 주입 시 상기 지지대의 내측에 위치하는 이동부재를 구비하는 기판 지지 장치.
An apparatus for supporting a substrate,
A substrate support for supporting the substrate;
And an auxiliary pressing portion arranged along the edge of the substrate support and at least a part of which is installed inside the substrate support and has a member that is expandable in the thickness direction of the substrate support,
Wherein the auxiliary pressing portion is moved by gas injection and exhaust, and when the gas is injected, protrudes outward of the support to contact and press the substrate, and when the gas is not injected, Device.
상기 보조 가압부는 신축 가능하며 내부에 공간을 형성하는 신축부재, 상기 신축부재의 하부에 배치되는 상기 이동부재를 포함하는 기판 지지 장치.
The method of claim 11,
Wherein the auxiliary pressing portion includes a stretchable member that is expandable and contractible and forms a space therein, and the moving member that is disposed at a lower portion of the stretchable member.
상기 신축부재는 가스 배관부와 연결되며,
상기 이동부재는 상기 신축부재의 하부에서 접촉되는 프레임 및 상기 프레임의 노출면에 구비되며 상기 프레임 보다 연성인 패드를 구비하는 기판 지지 장치.
The method of claim 12,
The elastic member is connected to the gas piping,
Wherein the moving member comprises a frame which is in contact with the lower portion of the elastic member and a pad which is provided on an exposed surface of the frame and is more flexible than the frame.
상기 신축부재는 가스 주입 및 배기에 의하여 신축되며,
상기 이동 부재는 상기 신축부재의 신축에 의하여 상기 지지대의 두께 방향으로 이동하는 기판 지지 장치.
The method of claim 12,
The stretching member is stretched and contracted by gas injection and exhaust,
Wherein the movable member moves in the thickness direction of the support base by the expansion and contraction of the elastic member.
상기 이동부재의 수평 방향 단면적이 상기 신축부재의 수평 방향 단면적 보다 큰 기판 지지 장치.
The method according to any one of claims 12 to 14,
Wherein the horizontal cross-sectional area of the movable member is larger than the horizontal cross-sectional area of the elastic member.
상기 프레임은 상기 기판의 외측면 보다 외측까지 연장 형성되며, 상기 패드는 상기 기판의 외측면 보다 내측에 배치되는 기판 지지 장치.
14. The method of claim 13,
Wherein the frame extends to the outside of the outer surface of the substrate and the pad is disposed inside the outer surface of the substrate.
상기 패드의 노출면과 상기 프레임의 노출면이 동일면 상에 위치하거나, 상기 패드가 프레임의 외측으로 돌출 형성된 기판 지지 장치.
14. The method of claim 13,
Wherein the exposed surface of the pad and the exposed surface of the frame are on the same plane or the pad is protruded to the outside of the frame.
상기 상부 기판을 상부 지지대에 지지시키고, 상기 하부 기판을 하부 지지대에 지지시키는 과정;
상기 상부 지지대와 상기 하부 지지대의 간격을 좁혀, 상기 양 기판을 결합시키는 과정;
상기 결합된 기판의 상부 및 하부 중 적어도 하나로부터 압력을 인가하도록 상기 상부 지지대 및 상기 하부 지지대 중 적어도 어느 하나의 가장자리를 따라서 배열된 보조 가압부에 구비된 이동부재를 돌출시켜 상기 결합된 기판의 가장자리를 부분적으로 가압하는 과정; 및
상기 상부 지지대 및 상기 하부 지지대로부터 상기 결합된 기판을 분리하는 과정을 포함하는 기판 처리 방법.
Providing an upper substrate and a lower substrate;
Supporting the upper substrate on an upper support and supporting the lower substrate on a lower support;
Closing the gap between the upper support and the lower support to couple the two substrates;
A moving member provided on an auxiliary pressing portion arranged along an edge of at least one of the upper support and the lower support to apply pressure from at least one of the upper and lower portions of the combined substrate, To partially pressurize the sample; And
And separating the bonded substrate from the upper support and the lower support.
상기 가장자리를 가압하는 과정은 상기 보조 가압부에 가스를 공급하고 이에 의하여 신장되는 부재를 이용하여 상기 이동부재를 돌출시켜 상기 결합된 기판의 가장자리를 따라 복수의 위치에서 가압하는 기판 처리 방법.
19. The method of claim 18,
Wherein the step of pressing the edge presses the movable member at a plurality of positions along an edge of the combined substrate by supplying a gas to the auxiliary pressing unit and thereby using the member stretched.
상기 보조 가압부로 가압 후, 상기 보조 가압부로부터 가스를 배기하는 단계를 포함하는 기판 처리 방법.
The method of claim 19,
And pressurizing the auxiliary pressurizing portion to exhaust gas from the auxiliary pressurizing portion.
상기 가압하는 과정은 상기 상부 기판과 상기 하부 기판 사이에 형성된 접합 부재가 위치하는 영역을 가압하는 기판 처리 방법.
The method according to any one of claims 18 to 20,
Wherein the pressing step presses a region where a joining member formed between the upper substrate and the lower substrate is located.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020120154543A KR101471002B1 (en) | 2012-12-27 | 2012-12-27 | Apparatus and method for treating substrate |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
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Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20140084746A KR20140084746A (en) | 2014-07-07 |
KR101471002B1 true KR101471002B1 (en) | 2014-12-09 |
Family
ID=51734582
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Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020120154543A KR101471002B1 (en) | 2012-12-27 | 2012-12-27 | Apparatus and method for treating substrate |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR101471002B1 (en) |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR102653288B1 (en) * | 2016-03-15 | 2024-03-29 | 엘지디스플레이 주식회사 | Alignment device for liquid crystal display module and cover glass and method of manufacturing liquid crystal display device using the same |
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-
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
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A201 | Request for examination | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
GRNT | Written decision to grant | ||
LAPS | Lapse due to unpaid annual fee |