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KR101432569B1 - 터치스크린을 구비한 액정표시장치 및 그 제조방법 - Google Patents

터치스크린을 구비한 액정표시장치 및 그 제조방법 Download PDF

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KR101432569B1
KR101432569B1 KR1020070118841A KR20070118841A KR101432569B1 KR 101432569 B1 KR101432569 B1 KR 101432569B1 KR 1020070118841 A KR1020070118841 A KR 1020070118841A KR 20070118841 A KR20070118841 A KR 20070118841A KR 101432569 B1 KR101432569 B1 KR 101432569B1
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KR
South Korea
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liquid crystal
array substrate
crystal display
transparent conductive
conductive film
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KR1020070118841A
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Inventor
이세응
이성민
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엘지디스플레이 주식회사
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Publication date
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Abstract

본 발명은 터치스크린을 구비한 액정표시장치에 관한 것으로서, 그 구성은 제1 투명기판상에 박막트랜지스터와 이 박막트랜지스터와 전기적으로 연결되는 화소전극이 형성된 하부어레이기판과, 제2 투명기판상에 블랙매트릭스와 칼라필터층이 형성된 상부어레이기판 및, 이들 기판사이에 형성된 액정층으로 구성된 액정표시패널; 상기 액정표시패널을 구성하는 상부어레이기판의 제2투명기판배면에 형성된 투명도전막과, 상기 투명도전막상에 적층된 위치감지센서필름 및 투명도전필름으로 구성된 터치스크린; 및 상기 액정표시패널하부에 형성되고, 상기 액정표시패널에 광을 제공하는 백라이트 어셈블리를 포함하여 구성되는 것을 특징으로 한다.
터치스크린, 위치감지센서필름, 투명도전막, 투명도전필름

Description

터치스크린을 구비한 액정표시장치 및 그 제조방법{LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE HAVING TOUCH SCREEN AND METHOD FOR FABRICATING THE SAME}
본 발명은 액정표시장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 투과율 상승 및 패널 두께의 슬림화(slim)를 구현할 수 있는 터치스크린을 구비한 액정표시장치 및 그 제조방법에 관한 것이다.
터치 스크린이란 키보드와 마우스를 대체하는 최첨단 입력장치로써, 터치 스크린을 모니터상에 장착한후 사용자가 손 또는 터치 펜(touch pen)을 이용하여 모니터상에 접촉하여 원하는 작업을 수행하는 장치이다.
이러한 터치 스크린은 GUI(Graphic User Interface) 환경 (윈도우 운영체계)하에서 직관적인 업무 수행이 가능한 이상적인 장치이다.
따라서, 터치스크린은 컴퓨터 기판 훈련, 시뮬레이션 응용분야, 사무 자동화 응용분야, 교육 응용분야 및 게임 응용분야 등에서 널리 사용될 수 있다.
이러한 터치 스크린은 접촉되는 물체 예를 들어, 손가락 또는 터치 펜에 반사되는 빛에 따른 광전류(photo current)를 생성하고, 그에 따라 발생된 전하를 충전하며, 충전된 전하에 따른 전압을 출력함에 따라 접촉되는 물체의 위치를 검출한 다.
일반적으로, 터치 스크린은 박막의 필름 형태로 구성되므로, 액정표시패널상부에 장착되어 사용된다.
이러한 종래의 터치 스크린을 구비한 액정표시장치에 대해 도 1 및 2를 참조하여 설명하면 다음과 같다.
도 1은 종래기술에 따른 터치 스크린이 접착된 액정표시장치의 개략적인 구성도이다.
도 2는 종래기술에 따른 터치 스크린이 접착되기 전 액정표시장치의 개략적인 분해도이다.
종래기술에 따른 터치 스크린이 구비된 액정표시장치는, 도 1에 도시된 바와 같이, 액정표시패널(10)과; 상기 액정표시패널(10)의 하면과 상면에 각각 형성된 하부편광판(15)과 상부편광판(17); 상기 상부편광판(17)상에 접착된 박막 필름 형태의 터치스크린(20);을 포함하여 구성된다.
여기서, 상기 액정표시패널(10)은, 도 2에 도시된 바와 같이, 투명한 재질로 구성되고, 스위칭소자가 형성된 하부어레이기판(11)과; 다양한 색상의 이미지가 구현되는 상부어레이기판(13)과; 이들 기판사이에 형성되어 전계에 의해 배열방향이 조절되는 액정층(미도시)으로 구성된다.
또한, 상기 박막 필름 형태의 터치스크린(20)은, 도 2에 도시된 바와 같이, 투명한 ITO기판(Indium Tin Oxide substrate)(21)과; 상기 ITO기판(21)상에 접착되고 액정표시패널에 접촉되는 물체의 X,Y 위치좌표를 인식하는 위치센서필름(23)과; 상기 위치센서필름(23)상에 접착된 ITO필름(25)으로 구성된다.
상기 구성으로 이루어진 종래기술에 따른 터치스크린을 구비한 액정표시장치의 제조방법에 대해 도 2를 참조하여 설명하면 다음과 같다.
도면에는 도시하지 않았지만, 먼저 상기 하부어레이기판(도 2의 11 참조)에 스위칭소자인 TFT 형성공정을 진행하고, 이 TFT(미도시)와 전기적으로 연결되는 화소전극(미도시)과 함께 배향막(미도시)을 형성하는 공정을 진행한다.
그다음, 도면에는 도시하지 않았지만, 상기 상부어레이기판(도 2의 13 참조)에 화상표시영역을 정의해 주는 블랙매트릭스(미도시)와 복수개의 색상을 구현하는 칼라필터층 (미도시)과 공통전극(미도시) 및 배향막(미도시)을 형성하는 공정을 진행한다.
이어서, 도 2에 도시된 바와 같이, 상기 하부어레이기판(11) 또는 상부어레이기판(13)의 화소표시영역을 정의하는 실패턴(seal pattern)(미도시)을 형성하고, 이어 이 실패턴(미도시)내에 액정층(미도시)을 형성한후 상기 하부어레이기판(11)과 상부어레이기판(13)을 합착시킨다.
그다음, 상기 합착된 하부어레이기판과 상부어레이기판의 외면에 각각 하부편광판(15)과 상부편광판(17)을 형성하여 액정표시패널의 제조공정을 완료한다.
이어서, 도 2에 도시된 바와 같이, 상기 상부편광판(17)상면에 터치스크린 (20)을 접착하는 공정을 진행하여 터치스크린을 구비한 액정표시장치 제조공정을 완료한다.
이때, 상기 터치스크린(20)은 상기 액정표시패널(10)상면에 접착되는 ITO기 판(21)과, 상기 ITO기판(21)상에 접착되고 물체의 X,Y 위치좌표를 인식하는 위치센서필름(23)과 ITO필름(25)으로 구성된다.
이상과 같이, 종래기술에 따른 터치스크린을 구비한 액정표시장치 및 그 제조방법에 의하면 다음과 같은 문제점이 있다.
종래기술에 따른 터치스크린을 구비한 액정표시장치 및 그 제조방법에 의하면, 터치스크린은 액정표시패널에 장착되기 전에 별도의 ITO기판상에 접착되기 때문에 상기 ITO기판에 의해 투과율이 감소하게 된다.
또한, 종래기술에 따른 터치스크린을 구비한 액정표시장치 및 그 제조방법에 의하면, ITO기판이 액정표시패널상부에 있음으로 인해 칼라필터 자체의 색재현율이 저하될 수 있다.
그리고, 종래기술에 따른 터치스크린을 구비한 액정표시장치 및 그 제조방법에 의하면, 터치스크린이 별도의 ITO기판과 위치센서필름 및 ITO필름으로 구성되어 있어 액정표시패널과 터치스크린의 결합된 액정표시장치 전체의 두께 및 무게가 증가하게 된다.
더우기, 종래기술에 따른 터치스크린을 구비한 액정표시장치 및 그 제조방법에 의하면, 액정표시패널과 터치스크린을 별도로 제작하고, 이렇게 제작된 액정표시패널과 터치스크린을 서로 합착하여 액정표시장치를 구성하기 때문에 부품 비용이 증가하게 된다.
이에 본 발명은 상기 종래기술에 따른 제반 문제점을 해결하기 위하여 안출한 것으로서, 본 발명의 목적은 액정표시장치의 두께를 슬림화하면서 투과율을 증가시키고 색재현율을 개선시킬 수 있는 터치스크린을 구비한 액정표시장치 및 그 제조방법을 제공함에 있다.
상기 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 터치스크린을 구비한 액정표시장치는, 제1 투명기판상에 박막트랜지스터와 이 박막트랜지스터와 전기적으로 연결되는 화소전극이 형성된 하부어레이기판과, 제2 투명기판상에 블랙매트릭스와 칼라필터층이 형성된 상부어레이기판 및, 이들 기판사이에 형성된 액정층으로 구성된 액정표시패널; 상기 액정표시패널을 구성하는 상부어레이기판의 제2투명기판배면에 형성된 투명도전막과, 상기 투명도전막상에 적층된 위치감지센서필름 및 투명도전필름으로 구성된 터치스크린; 및 상기 액정표시패널하부에 형성되고, 상기 액정표시패널에 광을 제공하는 백라이트 어셈블리를 포함하여 구성되는 것을 특징으로 한다.
상기 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 터치스크린을 구비한 액정표시장치 제조방법은 제1 투명기판상에 박막트랜지스터와 이 박막트랜지스터와 전기적으로 연결되는 화소전극을 형성하는 단계; 제2 투명기판상에 블랙매트릭스와 칼라필터층을 형성하는 단계; 상기 제2투명기판의 배면에 투명도전막을 형성하는 단계; 상기 제1투명기판과 제2투명기판사이에 액정층을 형성하는 단계; 상기 투명도전막상에 위치감지센서필름과 투명도전필름을 순차적으로 형성하는 단계;를 포함하여 구성되는 것을 특징으로 한다.
본 발명에 따른 터치스크린을 구비한 액정표시장치 및 그 제조방법에 의하면 다음과 같은 효과가 있다.
본 발명에 따른 터치스크린을 구비한 액정표시장치 및 그 제조방법에 의하면, 기존과 같이 터치스크린을 액정표시패널에 장착되기 전에 별도의 투명기판상에 접착하지 않고 별도의 투명기판대신에 칼라필터기판 (즉, 상부어레이기판)에 형성하기 때문에 별도의 투명기판이 필요없게 되므로써 투과율이 향상된다.
또한, 본 발명에 따른 터치스크린을 구비한 액정표시장치 및 그 제조방법에 의하면, 기존과 같이 별도의 ITO기판이 액정표시패널의 상부에 있음으로 인해 발생할 수 있는 칼라필터 자체의 색재현율 저하를 줄일 수 있다.
그리고, 본 발명에 따른 터치스크린을 구비한 액정표시장치 및 그 제조방법에 의하면, 기존과 같이 터치스크린이 별도의 ITO기판에 형성하지 않고 칼라필터기판 (즉, 상부어레이기판)에 형성하기 때문에 기존에 비해 액정표시패널과 터치스크린의 결합된 액정표시장치 전체의 두께가 얇아지고 무게가 작아지게 된다.
따라서, 본 발명에 따른 터치스크린을 구비한 액정표시장치 및 그 제조방법에 의하면, 터치스크린을 별도로 제작하지 않고 액정표시패널의 칼라필터기판에 형성하기 때문에 별도의 투명기판이 필요없게 되므로써 부품 비용이 절감된다.
이하, 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 터치스크린을 구비한 액정표시장치 에 대해 첨부된 도면을 참조하여 상세히 설명한다.
도 3은 본 발명에 따른 터치스크린을 구비한 액정표시장치의 개략적인 구성도이다.
도 4는 본 발명에 따른 터치스크린을 구비한 액정표시장치의 개략적인 분해도이다.
본 발명에 따른 터치스크린이 구비된 액정표시장치는, 도 3에 도시된 바와 같이, 액정표시패널(100)과; 상기 액정표시패널(100)의 상면에 접착된 터치스크린 (160)과; 상기 액정표시패널(100)의 하면 및 상기 터치스크린(160)의 상면에 각각 형성된 하부편광판(171)과 상부편광판(173); 그리고 상기 액정표시패널(100)하부에 마련되어 상기 액정표시패널에 광을 보내는 백라이트 어셈블리(미도시)를 포함하여 구성된다.
여기서, 상기 액정표시패널(100)은, 도 4에 도시된 바와 같이, 투명한 재질로 구성된 하부기판(미도시)상에 스위칭소자(미도시)와 이 소자와 전기적으로 연결되는 화소전극(미도시)이 형성된 하부어레이기판 (110)과; 광을 차단하는 블랙매트릭스(미도시)와 이 블랙매트릭스(미도시)가 한정하는 화소영역에 다양한 색상의 칼라필터층(미도시)이 형성되어 이미지가 구현되는 상부어레이기판(130)과; 이들 기판사이에 형성되어 전계에 의해 배열방향이 조절되는 액정층(미도시)으로 구성된다. 또한, 상기 화소전극(미도시)과 전계를 발생시키는 공통전극(미도시)는 상부어레이기판(130) 또는 하부어레이기판(110)에 형성된다. 이때, 상기 공통전극(미도시)는 TN모드의 경우 상부어레이기판(130)상에 형성되며, IPS모드의 경우 하부어레이기판(110)상에 형성된다.
또한, 상기 박막 필름 형태의 터치스크린(160)은, 도 4에 도시된 바와 같이, 상기 상부어레이기판(130)의 상부표면에 형성되고, ITO(Indium Tin Oxide)와 같은 투명재질로 이루어진 투명도전막(141)과; 상기 투명도전막(141)표면에 접착되고 액정표시패널에 접촉되는 물체의 위치, 즉 X,Y 위치좌표를 인식하는 위치감지센서필름(161)과; 상기 위치감지센서필름(161)상에 접착된 ITO필름(163)으로 구성된다.
상기 구성으로 이루어진 본 발명에 따른 터치스크린을 내장한 액정표시장치의 제조방법에 대해 도 5a 내지 도 5f를 참조하여 설명하면 다음과 같다.
도 5a 내지 도 5f는 본 발명에 따른 터치스크린을 내장한 액정표시장치의 제조방법을 설명하기 위한 공정단면도이다.
여기서는 TN (Twist nemetic) 모드의 액정표시장치 제조방법에 대해 설명하지만, 본 발명은 이 TN모드에 한정되지 않고 IPS (In-Plane Switching) 모드, VA (Vertical Alignment) 모드 또는 기타 다른 모드에도 적용가능하다.
도 5a에 도시된 바와 같이, 투명한 유리 등으로 이루어진 하부기판(111)상에 금속물질을 스퍼터링방법으로 증착한후 이를 마스크공정에 의해 선택적으로 패터닝하여 게이트라인(미도시)과, 상기 게이트라인(미도시)에서 연장되어 돌출된 게이트전극(113)을 형성한다.
이때, 상기 게이트라인 형성용 금속물질로는 Al과 Al합금등의 Al 계열 금속, Ag과 Ag합금 등의 Ag 계열금속, Mo과 Mo 합금 등의 Mo 계열금속, Cr, Ti, Ta 중에서 선택하여 사용한다.
또한, 이들은 물질적 성질이 다른 두개의 막, 즉 하부막과 그 위의 상부막을 포함할 수도 있다. 여기서, 상부막은 게이트라인의 신호지연이나 전압강하를 줄일 수 있도록 낮은 비저항(resistivity)의 금속, 예를들면 Al 계열금속 또는 Ag 계열 금속으로 이루어진다.
이와는 달리, 하부막은 다른 물질, 특히 ITO(indium tin oxide)나 IZO (indium zinc oxide)와의 물리적, 화학적 및 전기적 접촉 특성이 우수한 물질, 예를들어 Ti, Ta, Cr, Mo 계열 금속 등으로 이루어지거나, 또는 하부막과 상부막의 조합의 예로는 Cr/Al-Nd 합금을 들 수 있다.
그다음, 상기 게이트라인(미도시)과 게이트전극(113)을 포함한 하부기판(111)상에 질화규소(SiNx) 와 같은 무기 절연물질로 이루어진 게이트절연막(115)을 형성한다.
이어서, 상기 게이트절연막(115)상부에는 수소화 비정질실리콘층(hydroge-nated amorphous silicon) 등으로 이루어진 반도체층(미도시)을 형성한다.
그다음, 상기 반도체층(미도시) 상부에는 실리사이드(silicide) 또는 n형 불순물이 고농도로 도핑되어 있는 n+ 수소화 비정질실리콘 등의 물질로 이루어진 오믹콘택층(미도시)을 형성한다.
이어서, 상기 오믹콘택층과 반도체층을 포토리소그라피 공정기술을 이용한 마스크공정에 의해 선택적으로 패터닝하여 액티브패턴(117)과 오믹콘택패턴(118)을 형성한다.
그다음, 상기 액티브패턴(117)과 오믹콘택패턴(118)을 포함한 하부기판(111)상에 데이터라인 형성용 금속물질을 스퍼터링방법으로 증착한후 이를 포토리소그라피 공정기술을 이용한 마스크공정에 의해 선택적으로 패터닝하여 데이터라인(미도시)과, 이 데이터라인(미도시)에서 돌출된 소스전극(119)과, 이 소스전극(119)과 일정간격만큼 이격된 드레인전극(121)을 각각 형성한다.
이때, 도면에는 도시하지 않았지만, 상기 데이터라인(미도시)은 상기 게이트라인(미도시)과 서로 교차되게 형성되어 있으며, 상기 소스전극(119)과 드레인전극(121)은 그 아래의 게이트전극(113)과 함께 스위칭소자인 박막트랜지스터(미도시)를 구성한다.
또한, 상기 박막트랜지스터(미도시)의 채널은 상기 소스전극(119)과 드레인전극(121)사이의 액티브패턴(117)내에 형성된다.
그리고, 상기 데이터라인(미도시)을 형성하기 위한 금속물질로는 Al 계열 금속, Ag 계열 금속, Mo 계열 금속, Cr, Ti, Ta 등의 물질을 사용하며, 다중층으로 형성할 수도 있다.
그다음, 상기 데이터라인(미도시)과 소스/드레인전극(119, 121)을 포함한 하부기판(111) 전면에 평탄화 특성이 우수하며 감광성을 가지는 유기물질, 또는 저유전율 특성을 가지는 절연물질, 또는 무기물질인 질화 규소로 이루어진 보호막(123)을 형성한다.
이어서, 상기 보호막(123)을 포토리소그라피 공정기술을 이용한 마스크공정 에 의해 선택적으로 패터닝하여 상기 보호막(123)내에 상기 드레인전극(121)의 일부를 노출시키는 콘택홀(미도시)을 형성한다.
그다음, 도 5b에 도시된 바와 같이, 상기 콘택홀(미도시)을 포함한 보호막(123)상에 ITO (indium tin oxide) 또는 IZO (indiumn zic oxide) 등의 투명한 도전물질으로 이루어진 금속물질층(미도시)을 스퍼터링방법으로 증착한후 이를 포토리소그라피 공정기술을 이용한 마스크공정에 의해 선택적으로 제거하여 화소전극(125)을 형성한다.
이때, 상기 화소전극(113)은 데이터전압이 인가되면, 공통전압(common voltage)을 인가받은 상부어레이기판(미도시; 도 5c 의 130 참조)의 공통전극(미도시; 도 5c의 137 참조)과 함께 전기장을 생성하므로써 화소전극(125)과 공통전극(127)사이의 액정층(미도시; 도 5e의 150 참조)의 액정분자들을 배열시키게 된다.
도면에는 도시하지 않았지만, 상기 화소전극(125)을 포함한 보호막(123)상부에 액정분자를 일정 방향으로 배열되도록 하는 배향막(미도시)을 형성하는 공정을 진행한다.
한편, 도 5c에 도시된 바와 같이, 상부기판(131)상에는 Cr과 같은 불투명 금속물질로 복수개의 단위셀영역을 한정하는 블랙매트릭스(133)를 형성한다.
이때, 상기 블랙매트릭스(133)는 인접한 셀로부터 입사되는 빛을 흡수함으로써 콘트라스트의 저하를 방지하게 된다.
그다음, 상기 블랙매트릭스(133)사이의 상부기판(131)표면에는 적색(R), 녹 색(G), 청색(B)의 컬러필터층(135)을 형성한다.
이때, 상기 컬러필터층(135)는 적색(R), 녹색(G), 청색(B)의 컬러필터를 포함하여 특정 파장대역의 빛을 투과시키므로써 컬러표시를 가능하게 한다.
이어서, 상기 컬러필터층(135) 및 블랙매트릭스(133)를 포함한 상부기판(131)상에 투명도전물질로 구성된 공통전극(137)을 형성한다. 여기서, 상기 공통전극(137)은 상부기판(131)에 형성된 경우에 대해 설명하였지만, 액정표시패널의 구동모드에 따라 하부기판(111)에 형성할 수도 있다. 즉, 액정표시패널의 구동모드가 IPS모드(In-Plane Switching mode)일 경우에는 상기 공통전극(137)은 상기 하부기판(111)상에 형성된다.
도면에는 도시하지 않았지만, 상기 공통전극(137)상부에 액정분자를 일정 방향으로 배열되도록 하는 배향막(미도시)을 형성하는 공정을 진행한다.
그다음, 도 5d에 도시된 바와 같이, 상기 상부기판(131)의 배면에 투명한 재질로 구성된 도전물질을 스퍼터링방법으로 증착하여 투명도전막(141)을 형성한다. 이때, 상기 투명도전막(141)을 형성하는 재질로는, ITO (indium tin oxide), IZO (indiumn zic oxide) 또는 투명한 도전물질이면 모두 가능하다.
이어서, 앞에서 어레이 형성공정을 수행한 하부어레이기판(110)상면에 각 픽셀영역을 정의하는 실패턴(seal pattern)(미도시)을 각 픽셀영역주위에 형성한다.
그다음, 상기 실패턴(seal pattern)내의 픽셀영역에 액정을 적하하여 액정층(150)을 형성한다.
이어서, 상기 액정층(15)이 형성된 하부어레이기판(110)상에 상부어레이기 판(130)을 일정간격만큼 이격시킨 상태에서 합착시켜 액정표시패널(100)을 형성한다. 이때, 상기 하부어레이기판(110)과 상부어레이기판(130)사이에는 이들간에 균일한 간격이 유지될 수 있도록 스페이서(미도시)가 형성된다.
그다음, 이렇게 합착공정이 진행된 액정표시패널(100)을 구성하는 상부어레이기판(130)의 배면에 형성된 투명도전막(141)에 액정표시패널(100)에 접촉하는 물체의 위치, 즉 X, Y 좌표를 인식하는 위치감지센서필름(161)을 접착시킨후 다시 위치감지센서필름(161)상에 ITO필름(163)을 접착시킨다. 이때, 상기 ITO필름(163)의 재질로는 ITO 이외에 IZO 또는 투명한 도전물질이면 사용이 가능하다.
이어서, 상기 하부어레이기판(110)의 하면과 ITO필름(163)의 상면에 하부편광판(171)과 상부편광판(173)을 각각 형성한다.
그다음, 상기 하부어레이기판(110)의 하부편광판(171)하측에 상기 액정표시패널(100)에 광을 보내는 백라이트 어셈블리(미도시)를 장착한다.
이렇게 하여, 상기 하부어레이기판(110) 및 상부어레이기판(130)의 어레이공정을 진행한후 이들 하부어레이기판(110)과 상부어레이기판(130)사이에 액정층 (150)을 형성하는 공정과 더불어 상부어레이기판(130)배면에 직접 터치스크린(160)을 형성하는 공정을 수행하므로써 터치스크린(160)이 내장된 액정표시장치 제조공정을 완료한다.
이상에서 본 발명의 바람직한 실시예에 대하여 상세하게 설명하였지만, 당해 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 이로부터 다양한 변형 및 균등한 타 실시예가 가능하다는 점을 이해할 수 있을 것이다.
따라서, 본 발명의 권리범위는 이에 한정되는 것이 아니고 다음의 청구범위에서 정의하고 있는 본 발명의 기본 개념을 이용한 당업자의 여러 변형 및 개량 형태 또한 본 발명의 권리범위에 속하는 것이다.
도 1은 종래기술에 따른 터치 스크린이 접착된 액정표시장치의 개략적인 구성도이다.
도 2는 종래기술에 따른 터치 스크린이 접착되기 전 액정표시장치의 개략적인 분해도이다.
도 3은 본 발명에 따른 터치스크린을 구비한 액정표시장치의 개략적인 구성도이다.
도 4는 본 발명에 따른 터치스크린을 구비한 액정표시장치의 개략적인 분해도이다.
도 5a 내지 도 5f는 본 발명에 따른 터치스크린을 내장한 액정표시장치의 제조방법을 설명하기 위한 공정단면도이다.
*** 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 ***
100: 액정표시패널 110 : 하부어레이기판
111 : 하부기판 113 : 게이트전극
115 : 게이트절연막 117 : 액티브패턴
118 : 오믹콘택패턴 119 : 소스전극
121 : 드레인전극 123 : 보호막
125 : 화소전극 130 : 상부어레이기판
131 ; 상부기판 133 : 블랙매트릭스
135 : 칼라필터층 137 : 공통전극
141 : 투명도전막 161 ; 위치감지센서필름
163 : 투명도전필름 171 : 하부편광판
173 : 상부편광판

Claims (13)

  1. 제1 투명기판상에 박막트랜지스터와 이 박막트랜지스터와 전기적으로 연결되는 화소전극이 형성된 하부 어레이 기판과, 제2 투명기판상에 블랙매트릭스와 칼라필터층이 형성된 상부어레이기판 및, 이들 기판사이에 형성된 액정층으로 구성된 액정표시패널;
    상기 액정표시패널을 구성하는 상부어레이기판의 제2투명기판배면에 형성된 투명도전막과, 상기 투명도전막상에 적층된 위치감지센서필름 및 투명도전필름으로 구성된 터치스크린; 및
    상기 액정표시패널하부에 형성되고, 상기 액정표시패널에 광을 제공하는 백라이트 어셈블리를 포함하여 구성되며,
    상기 하부 어레이 기판의 상기 제1 투명기판 배면에 하부 편광판이 형성되고,
    상기 터치스크린의 상기 투명도전필름 상면에 상부 편광판이 형성된 것을 특징으로 하는 터치스크린을 구비한 액정표시장치.
  2. 삭제
  3. 제1항에 있어서, 상기 투명도전막은 ITO, IZO 또는 투명한 재질의 금속물질로 형성된 것을 특징으로 하는 터치스크린을 구비한 액정표시장치.
  4. 제 1항에 있어서, 상기 투명도전필름은 ITO, IZO 또는 투명한 재질의 금속물질로 형성된 것을 특징으로 하는 터치스크린을 구비한 액정표시장치.
  5. 제 1항에 있어서, 상기 하부 어레이 기판 또는 상부 어레이 기판상에 형성된 공통전극을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 터치스크린을 구비한 액정표시장치.
  6. 하부 어레이 기판상에 박막트랜지스터와 이 박막트랜지스터와 전기적으로 연결되는 화소전극을 형성하는 단계;
    상기 하부 어레이 기판과 합착되는 상부 어레이 기판상에 블랙매트릭스와 칼라필터층을 형성하는 단계;
    상기 상부 어레이 기판의 배면에 투명도전막을 형성하는 단계;
    상기 하부 어레이 기판과 상부 어레이 기판 사이에 액정층을 형성하는 단계;
    상기 투명도전막 상에 위치감지센서필름과 투명도전필름을 순차적으로 형성하여 상기 투명도전막과 위치감지센서필름 및 투명도전필름으로 이루어진 터치스크린을 형성하는 단계; 및
    상기 하부 어레이 기판의 배면에 하부 편광판을 형성하고, 상기 터치스크린의 상기 투명도전필름의 상면에 상부 편광판을 형성하는 단계;를 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 터치스크린을 구비한 액정표시장치 제조방법.
  7. 삭제
  8. 제 6항에 있어서, 상기 투명도전막은 ITO, IZO 또는 투명한 재질의 금속물질로 형성하는 것을 특징으로 하는 터치스크린을 구비한 액정표시장치 제조방법.
  9. 제 6항에 있어서, 상기 투명도전필름은 ITO, IZO 또는 투명한 재질의 금속물질로 형성하는 것을 특징으로 하는 터치스크린을 구비한 액정표시장치 제조방법.
  10. 삭제
  11. 제 6항에 있어서, 상기 하부편광판의 하측에 상기 하부 어레이 기판과 상부 어레이 기판에 광을 제공하는 백라이트 어셈블리를 형성하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 터치스크린을 구비한 액정표시장치 제조방법.
  12. 제 6항에 있어서, 상기 화소전극을 형성한 후 상기 하부 어레이 기판상에 제1배향막을 형성하는 단계와, 상기 상부 어레이 기판상에 제2배향막을 형성하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 터치스크린을 구비한 액정표시장치 제조방법.
  13. 제 6항에 있어서, 상기 하부 어레이 기판 또는 상부 어레이 기판상에 공통전극을 형성하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 터치스크린을 구비한 액정표시장치 제조방법.
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