KR101387531B1

KR101387531B1 - Plasma display panel having a touch-screen and Method for fabricating in threrof

Info

Publication number: KR101387531B1
Application number: KR1020080006077A
Authority: KR
Inventors: 문진산; 이명원; 신정철; 권영만; 김현철
Original assignee: 엘지전자 주식회사
Priority date: 2008-01-21
Filing date: 2008-01-21
Publication date: 2014-04-21
Also published as: KR20090080221A

Abstract

본 발명은 전면 패널과 전면 필터 중 어느 한 면에만 투명 도전막(ITO)을 형성하여 터치 스크린을 구비하는 플라즈마 디스플레이 패널 및 그 제조 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a plasma display panel having a touch screen by forming a transparent conductive film (ITO) on only one surface of a front panel and a front filter, and a manufacturing method thereof.

Description

Plasma display panel having a touch screen and a method of manufacturing the same {Plasma display panel having a touch-screen and Method for fabricating in threrof}

본 발명은 플라즈마 디스플레이 패널에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 터치 스크린을 구비한 플라즈마 디스플레이 패널 및 그 제조 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a plasma display panel, and more particularly, to a plasma display panel having a touch screen and a method of manufacturing the same.

멀티 미디어 시대의 도래와 함께 더 세밀하고, 더 크고, 더욱 자연색에 가까운 색을 표현해줄 수 있는 디스플레이 장치의 등장이 요구되고 있다.With the advent of the multimedia age, the emergence of a display device capable of expressing more detailed, larger, and more natural color is required.

그런데, 40인치 이상의 큰 화면을 구성하기에는 현재의 CRT(Cathode Ray Tube)는 한계가 있어서, LCD(Liquid Crystal Display)나 PDP(Plasma Display Panel) 및 프로젝션 TV(Television) 등이 고화질 영상의 분야로 용도확대를 위해 급속도로 발전하고 있다.However, current CRT (Cathode Ray Tube) has limitations for forming a large screen of 40 inches or more, and LCD (Liquid Crystal Display), PDP (Plasma Display Panel) and projection TV And is rapidly developing for expansion.

상술한 PDP 등의 디스플레이 장치의 최대 특징은 자체 발광형인 CRT와 비교하여 얇은 두께로 제작될 수 있고, 평면의 대화면(60~80inch)제작이 손쉬울 뿐 아니라 style이나 design 면에서 종래 CRT와는 명확히 구별이 된다.The maximum characteristics of the display device such as the PDP can be manufactured in a thin thickness compared to the CRT, which is self-luminous, and is easy to manufacture a large flat screen (60 to 80 inches) and clearly distinguished from the conventional CRT in terms of style and design. Becomes

그러나, 상술한 PDP 등은 구동 과정에서 전자파 등이 발생하므로, 이를 차단하기 위하여 화상이 표시되는 패널의 전면에 전면 필터가 구비된다.However, since the above-mentioned PDP and the like generate electromagnetic waves during the driving process, the front filter is provided in front of the panel on which the image is displayed to block the PDP.

PDP는 어드레스 전극을 구비한 후면 패널과, 서스테인 전극쌍을 구비한 전면 패널과 격벽으로 정의되는 방전셀을 가지며, 방전셀 내에는 형광체가 도포되어 화면을 표시한다.The PDP has a rear panel having an address electrode, a front panel having a sustain electrode pair, and discharge cells defined as partition walls, and phosphors are coated on the discharge cells to display a screen.

구체적으로, 상기 전면 패널과 후면 패널 사이의 방전 공간 내에서 방전이 일어나면, 이때 발생된 자외선이 형광체에 입사되어 가시광선이 발생하고, 상기 가시광선에 의하여 화면이 표시된다.Specifically, when discharge occurs in the discharge space between the front panel and the rear panel, the generated ultraviolet rays are incident on the phosphor to generate visible light, and the screen is displayed by the visible light.

상술한 PDP의 전면에는 전면 필터가 구비되는데, 상기 전면 필터에는 상기 전면 필터에는 패널에서 외부로 외부로 방사되는 전자파(Elctromagnetic Interference;EMI)를 차폐하기 위한 전자파 차폐막과, 근적외선 차폐막, 색 보정막, 반사 방지막을 포함하여 구성된다.The front surface of the PDP is provided with a front filter, wherein the front filter has an electromagnetic shielding film for shielding electromagnetic interference (EMI) emitted from the panel to the outside, a near infrared shielding film, a color correction film, It is comprised including an anti-reflective film.

본 발명은 전면 패널과 전면 필터 사이에 사용자의 터치 지점에 대한 좌표 신호를 발생하는 터치 스크린을 구비하는 플라즈마 디스플레이 패널 및 그 제조 방법을 제공하는데 그 목적이 있다.An object of the present invention is to provide a plasma display panel having a touch screen for generating a coordinate signal for a user's touch point between a front panel and a front filter, and a method of manufacturing the same.

상기 목적을 달성하기 위한 본 발명의 제1 실시예에 따른 터치 스크린을 구비한 플라즈마 디스플레이 패널은, 메쉬 패턴의 전자파 차폐막이 형성된 전면 패널과; 투명 도전막이 형성되고, 상기 전자파 차폐막과 상기 투명 도전막이 서로 마주보도록 합착되는 전면 필터와; 상기 전자파 차폐막이 형성된 전면 패널과 상기 투명 도전막이 형성된 전면 필터 사이에 형성되는 다수의 스페이서;를 포함하여 이루어진다.According to a first aspect of the present invention, there is provided a plasma display panel including a touch screen, including: a front panel on which an electromagnetic shielding film having a mesh pattern is formed; A front filter on which a transparent conductive film is formed, and the electromagnetic wave shielding film and the transparent conductive film are bonded to face each other; And a plurality of spacers formed between the front panel on which the electromagnetic shielding film is formed and the front filter on which the transparent conductive film is formed.

이때, 상기 전자파 차폐막은 Ag 또는 Cu 페이스트로 형성될 수 있다.In this case, the electromagnetic shielding film may be formed of Ag or Cu paste.

또한, 상기 투명 도전막은 ITO(Indum-Tin-Oxide), IZO(Indum-Zine-Oxide) 및 ITZO(Indum-Tin-Zine-Oxide) 중 적어도 어느 하나로 형성될 수 있다.In addition, the transparent conductive layer may be formed of at least one of Indum-Tin-Oxide (ITO), Indum-Zine-Oxide (IZO), and Indum-Tin-Zine-Oxide (ITZO).

또한, 상기 전면 패널은 상기 전자파 차폐막의 메쉬 패턴 상에 형성되는 도전막;을 더 포함하여 이루어진다.The front panel may further include a conductive film formed on the mesh pattern of the electromagnetic shielding film.

또한, 본 발명의 제1 실시예에 따른 터치 스크린을 구비한 플라즈마 디스플레이 패널의 제조 방법은, 전면 패널 상에 메쉬 패턴의 전자파 차폐막을 형성하는 단계와; 전면 필터 상에 투명 도전막을 형성하는 단계와; 상기 전자파 차폐막이 형 성된 전면 패널과 상기 투명 도전막이 형성된 전면 필터 사이에 다수의 스페이서를 형성하는 단계와; 상기 스페이서들을 상기 전자파 차폐막과 투명 도전막 사이에 두고, 상기 전면 패널과 상기 전면 필터를 서로 마주보도록 합착하는 단계;를 포함하여 이루어진다.In addition, a method of manufacturing a plasma display panel having a touch screen according to a first embodiment of the present invention includes the steps of forming an electromagnetic shielding film of a mesh pattern on the front panel; Forming a transparent conductive film on the front filter; Forming a plurality of spacers between the front panel on which the electromagnetic shielding film is formed and the front filter on which the transparent conductive film is formed; And placing the spacers between the electromagnetic shielding film and the transparent conductive film, and bonding the front panel and the front filter to face each other.

또한, 본 발명의 제2 실시예에 따른 터치 스크린을 구비한 플라즈마 디스플레이 패널은, 투명 도전막이 형성된 전면 패널과; 메쉬 패턴의 전자파 차폐막이 형성되고, 상기 투명 도전막과 상기 전자파 차폐막이 서로 마주보도록 합착되는 전면 필터와; 상기 투명 도전막이 형성된 전면 패널과 상기 전자파 차폐막이 형성된 전면 필터 사이에 형성되는 다수의 스페이서;를 포함하여 이루어진다.In addition, a plasma display panel having a touch screen according to a second embodiment of the present invention includes: a front panel on which a transparent conductive film is formed; A front surface filter having an electromagnetic wave shielding film having a mesh pattern formed thereon, and bonded together such that the transparent conductive film and the electromagnetic wave shielding film face each other; And a plurality of spacers formed between the front panel on which the transparent conductive film is formed and the front filter on which the electromagnetic shielding film is formed.

또한, 본 발명의 제2 실시예에 따른 터치 스크린을 구비한 플라즈마 디스플레이 패널의 제조 방법은, 전면 패널 상에 투명 도전막을 형성하는 단계와; 전면 필터 상에 메쉬 패턴의 전자파 차폐막을 형성하는 단계와; 상기 투명 도전막이 형성된 전면 패널과 상기 전자파 차폐막이 형성된 전면 필터 사이에 다수의 스페이서를 형성하는 단계와; 상기 스페이서들을 상기 투명 도전막과 전자파 차폐막 사이에 두고, 상기 전면 패널과 상기 전면 필터를 서로 마주보도록 합착하는 단계;를 포함하여 이루어진다.In addition, a method of manufacturing a plasma display panel having a touch screen according to a second embodiment of the present invention includes forming a transparent conductive film on a front panel; Forming an electromagnetic shielding film of a mesh pattern on the front filter; Forming a plurality of spacers between the front panel on which the transparent conductive film is formed and the front filter on which the electromagnetic shielding film is formed; And placing the spacers between the transparent conductive film and the electromagnetic shielding film, and bonding the front panel and the front filter to face each other.

본 발명에 따른 터치 스크린을 구비한 플라즈마 디스플레이 패널 및 그 제조 방법은, 전면 패널과 전면 필터 사이에 터치 스크린을 추가하여 다양한 기능을 장착할 수 있을 뿐만 아니라 소비자의 심리에 어필할 수 있으며, 고급 브랜드 가치를 상승시킬 수 있는 효과가 있다.Plasma display panel with a touch screen and a method of manufacturing the same according to the present invention, by adding a touch screen between the front panel and the front filter can be equipped with a variety of functions as well as appeal to the consumer's mind, high-end brand There is an effect that can increase the value.

또한, 본 발명은 전면 패널과 전면 필터 중 어느 한 면에만 투명 도전막(ITO)을 형성하여 터치 스크린을 구성함으로써, 종래 2장이 사용되던 고가의 투명 도전막을 1장만 사용하므로 제조 단가를 낮출 수 있는 효과가 있다.In addition, the present invention forms a touch screen by forming a transparent conductive film (ITO) on only one surface of the front panel and the front filter, so that only one expensive transparent conductive film used in the past two sheets can be used to reduce the manufacturing cost. It works.

본 발명의 다른 목적, 특성 및 이점들은 첨부한 도면을 참조한 실시예들의 상세한 설명을 통해 명백해질 것이다.Other objects, features and advantages of the present invention will become apparent from the detailed description of the embodiments with reference to the accompanying drawings.

이하, 상기 목적이 구체적으로 실현될 수 있는 본 발명의 바람직한 실시예가 첨부된 도면을 참조하여 설명된다.Hereinafter, preferred embodiments of the present invention in which the above objects can be specifically realized will be described with reference to the accompanying drawings.

첨부된 도면에서는 여러 층 및 영역을 명확하게 표현하기 위하여 두께를 확대하여 나타냈으며, 도면에 나타난 각 층간의 두께 비가 실제 두께 비를 나타내는 것은 아니다.In the accompanying drawings, the thickness is enlarged in order to clearly illustrate the various layers and regions, and the thickness ratio between the respective layers shown in the drawings does not represent the actual thickness ratio.

본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 패널은, 전면 패널과 후면 패널이 격벽을 사이에 두고 합착되어 이루어진다. 먼저, 도 1 및 2를 참조하여 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 일 실시예를 설명한다.In the plasma display panel according to the present invention, the front panel and the rear panel are bonded to each other with a partition wall therebetween. First, an embodiment of a plasma display panel according to the present invention will be described with reference to FIGS. 1 and 2.

도 1은 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 방전 셀 구조를 나타낸 도면이다.1 is a view showing a discharge cell structure of a plasma display panel according to the present invention.

도 1에 도시되어 있는 바와 같이, 본 발명의 플라즈마 디스플레이 패널은 전면 패널(170) 상에 일 방향으로 통상 ITO(Indium Tin Oxide)로 이루어진 스캔 전극과 서스테인 전극(180a, 180b)과 통상 금속 재료로 이루어지는 버스전극(180a', 180b')이 형성된다. 그리고, 스캔 전극과 서스테인 전극 및 버스전극을 덮으면서 전면 기판(170) 상에 상판 유전체 층(190)과, 보호막(195)이 순차적으로 형성되어 이루어진다.As shown in FIG. 1, the plasma display panel of the present invention is formed of a scan electrode and sustain electrodes 180a and 180b made of indium tin oxide (ITO) in one direction on a front panel 170 and a conventional metal material. Bus electrodes 180a 'and 180b' are formed. The top dielectric layer 190 and the passivation layer 195 are sequentially formed on the front substrate 170 while covering the scan electrode, the sustain electrode, and the bus electrode.

전면 패널(170)은 디스플레이 기판용 글라스의 밀링(milling) 및 클리닝(cleaning) 등의 가공을 통하여 형성된다.The front panel 170 is formed through a process such as milling and cleaning the glass for the display substrate.

여기서, 스캔 전극(180a)과 서스테인 전극(180b)은 ITO(Indium-Tin-Oxide) 또는 SnO₂ 등을, 스퍼터링(sputtering)에 의한 포토에칭(photoetching)법 또는 CVD에 의한 리프트 오프(lift-off)법 등으로 형성된 것이다.In this case, the scan electrode 180a and the sustain electrode 180b may be indium-tin-oxide (ITO), SnO ₂ , or the like by a photoetching method by sputtering or a lift-off by CVD. ) And the like.

그리고, 버스 전극(180a', 180b')은 은(Ag) 등을 포함하여 이루어진다. 또한, 스캔 전극과 서스테인 전극에는 블랙 매트릭스가 형성될 수 있는데, 저융점 유리와 흑색 안료 등을 포함하여 이루어진다.The bus electrodes 180a 'and 180b' include silver (Ag) and the like. In addition, a black matrix may be formed on the scan electrode and the sustain electrode, and may include a low melting glass and a black pigment.

그리고, 스캔 전극과 서스테인 전극 및 버스전극이 형성된 전면 패널(170) 상에 상판 유전체 층(190)이 형성된다. 여기서, 상판 유전체 층(190)은 투명한 저융점 유리를 포함하여 이루어진다.The top dielectric layer 190 is formed on the front panel 170 on which the scan electrode, the sustain electrode, and the bus electrode are formed. Here, the top dielectric layer 190 comprises transparent low melting glass.

그리고, 상판 유전체 층(190) 상에는 보호막(195)이 형성되어, 방전시 (+) 이온의 충격으로부터 유전체를 보호하고, 2차 전자 방출을 증가시키기도 한다.In addition, a protective film 195 is formed on the upper dielectric layer 190 to protect the dielectric from the impact of (+) ions during discharge and to increase secondary electron emission.

상기 보호막(195)은 전자빔(Electron Beam) 증착법, 스퍼터링법, 이온 도금법(Ion Plating), 스크린 인쇄법 등을 이용하여 형성할 수 있다.The passivation layer 195 may be formed using an electron beam deposition method, a sputtering method, an ion plating method, a screen printing method, or the like.

또한, 상기 보호막(195)은 산화 마그네슘인 MgO 박막으로 형성된 제1 층(195a)와 단결정의 산화 마그네슘 파우더를 포함한 제2 층(195b)을 포함하여 형성될 수 있다.In addition, the passivation layer 195 may include a first layer 195a formed of an MgO thin film of magnesium oxide and a second layer 195b including a single crystal magnesium oxide powder.

이때, 상기 제1 층(195a) 상의 일부분에, 단결정의 MgO 나노 파우더가 포함된 파티클이 일종의 군집 형태로 제2 층(195b)를 이루어, 전체적으로 보호막의 표면이 평탄하지 않고 울퉁불퉁한 형상을 이루게 된다. At this time, a part of the first layer 195a, the particles containing the single crystal MgO nano-powder forms a second layer (195b) in the form of a cluster, so that the surface of the protective film as a whole is not flat and has an uneven shape. .

따라서, 플라즈마 디스플레이 패널의 가스 방전시에 전면 패널(170)과 후면 패널(110)의 전자적인 상호 작용으로 인하여 이차전자의 방출량이 증가하고, 방전개시전압을 낮출 수 있으므로, 결과적으로 방전효율을 높이고 지터(jitter)를 감소시킨다.Accordingly, the amount of discharge of secondary electrons may increase and the discharge start voltage may decrease due to electronic interaction between the front panel 170 and the rear panel 110 during gas discharge of the plasma display panel, thereby increasing discharge efficiency. Reduce jitter

한편, 후면 패널(110)의 일면에는 상기 서스테인 전극쌍과 교차하는 방향을 따라 어드레스 전극(120)이 형성되고, 상기 어드레스 전극(120)을 덮으면서 배면기판(110)의 전면에 백색의 하판 유전체 층(130)이 형성된다.Meanwhile, an address electrode 120 is formed on one surface of the rear panel 110 along a direction crossing the sustain electrode pair, and the white lower plate dielectric is formed on the front surface of the back substrate 110 while covering the address electrode 120. Layer 130 is formed.

하판 유전체 층(130)은 인쇄법 또는 필름 라미네이팅(laminating) 방법에 의하여 도포된 후, 소성 공정을 통하여 완성된다.The lower dielectric layer 130 is applied by a printing method or a film laminating method, and then completed through a firing process.

그리고, 하판 유전체 층(130) 위로 각 어드레스 전극(120) 사이에 배치되도록 격벽(140)이 형성된다. 이때, 격벽(140)은 스트라이프형(stripe-type), 웰형(well-type), 또는 델타형(delta-type)일 수 있다.The partition wall 140 is formed on the lower dielectric layer 130 to be disposed between the address electrodes 120. In this case, the partition wall 140 may be stripe-type, well-type, or delta-type.

그리고, 각각의 격벽(140) 사이에 적색(R), 녹색(G), 청색(B)의 형광체 층(150a, 150b, 150c)이 형성된다. 후면 패널(110) 상의 어드레스 전극(120)과 전면기판(110) 상의 서스테인 전극쌍이 교차하는 지점이 각각 방전셀을 구성하는 부 분이 된다.In addition, phosphor layers 150a, 150b, and 150c of red (R), green (G), and blue (B) are formed between each partition wall 140. The points where the address electrodes 120 on the rear panel 110 and the pair of sustain electrodes on the front substrate 110 cross each other constitute a part of the discharge cell.

그리고, 상기 전면 패널(170)과 후면 패널(110)이 격벽(140)을 사이에 두고 접합되는데, 기판의 외곽에 구비된 실링재를 통하여 접합된다.In addition, the front panel 170 and the rear panel 110 are bonded to each other with the partition wall 140 interposed therebetween, and are bonded through a sealing material provided on the outer side of the substrate.

그리고, 전면 패널(170)과 후면 패널(110)은 구동 장치와 연결되어 있다.The front panel 170 and the rear panel 110 are connected to a driving device.

도 2는 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 구동 장치와 연결부를 나타낸 도면이다.2 is a view showing a driving device and a connection portion of a plasma display panel according to the present invention.

도 2에 도시된 바와 같이, 본 발명에 따른 전체 플라즈마 디스플레이 장치(210)는, 패널(220)과, 상기 패널(220)에 구동 전압을 공급하는 구동 기판(230)과, 상기 패널(220)의 각각의 셀에 대한 전극들과 상기 구동 기판(230)을 연결하는 연성 기판의 일종인 테이프 캐리어 패키지(Tape carrier package, 이하 TCP라 함)(240)로 이루어진다. 여기서, 패널(220)은 상술한 바와 같이 전면 패널(170)과 후면 패널(110) 및 격벽(140)을 포함하여 이루어진다.As shown in FIG. 2, the entire plasma display device 210 according to the present invention includes a panel 220, a driving substrate 230 supplying a driving voltage to the panel 220, and the panel 220. A tape carrier package 240, which is a type of flexible substrate that connects the electrodes for each cell and the driving substrate 230, is formed. As described above, the panel 220 includes the front panel 170, the rear panel 110, and the partition wall 140.

그리고, 상기 패널(220)과 상기 TCP(240)의 전기적, 물리적 연결 및 상기 TCP(240)와 구동 기판(230)의 전기적, 물리적 연결은 이방성 전도 필름(Anisotropic conductive film, 이하 ACF라 함)을 사용한다. ACF는 금(Au)을 코팅한 니켈(Ni)의 볼(ball)을 이용하여 만든 전도성 수지 필름이다.In addition, an electrical and physical connection between the panel 220 and the TCP 240 and an electrical and physical connection between the TCP 240 and the driving substrate 230 may include an anisotropic conductive film (hereinafter referred to as an ACF). use. ACF is a conductive resin film made of nickel (Ni) balls coated with gold (Au).

도 3은 일반적인 테이프 캐리어 패키지의 기판 배선 구조를 나타낸 도면이다.3 is a view showing a substrate wiring structure of a typical tape carrier package.

도 3에 도시된 바와 같이, TCP(240)는 패널(220)과 구동 기판(230) 사이의 결선을 담당하면서, 구동 드라이버 칩이 탑재되어 있다.As shown in FIG. 3, the TCP 240 is in charge of the connection between the panel 220 and the driving substrate 230, and the driving driver chip is mounted thereon.

TCP(240)는 연성 기판(242) 상에 밀집 배치된 배선(243)과, 상기 배선(243)과 연결되면서 상기 구동 기판(230)으로부터 전력을 제공받아 패널(220)의 특정 전극에 제공하는 구동 드라이버 칩(241)로 이루어져 있다.The TCP 240 is connected to the wiring 243 on the flexible substrate 242 and the wiring 243 and receives power from the driving substrate 230 to provide a specific electrode of the panel 220. The driver chip 241 is formed.

여기서, 구동 드라이버 칩(241)은 작은 수의 전압과 구동 제어 신호들을 인가 받아 높은 전력의 많은 신호들을 교번하면서 출력하는 구조를 가지므로, 상기 구동 기판(230) 측과 연결되는 배선은 수가 작고, 상기 패널(220)측과 연결되는 배선은 수가 많다.Here, since the driving driver chip 241 has a structure in which a small number of voltages and driving control signals are applied to alternately output a large number of signals of high power, the number of wirings connected to the driving substrate 230 is small. The number of wires connected to the panel 220 side is large.

따라서, 상기 구동 기판(230)측 공간을 활용하여 상기 구동 드라이버 칩(241)의 배선을 연결하는 경우도 있으므로, 상기 배선(243)은 상기 구동 드라이버 칩(341)의 중심을 경계로 구분되지 않을 수도 있다.Accordingly, since the wirings of the driving driver chip 241 may be connected by utilizing the space on the driving substrate 230 side, the wiring 243 may not be separated by a boundary of the center of the driving driver chip 341. It may be.

도 4는 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 장치의 또 다른 실시예를 모식적으로 나타낸 도면이다.4 is a view schematically showing another embodiment of a plasma display device according to the present invention.

본 실시예에서, 패널(220)은 구동 장치와 FPC(Flexible printed circuit, 이하 FPC라 함)(250)를 통하여 연결된다. 여기서, FPC(250)는 polymide를 이용하여 내부에 패턴을 형성한 필름이다. 그리고, 본 실시예에서도 FPC(250)와 패널(220)은 ACF를 통하여 연결된다. 또한, 본 실시예에서 구동 기판(230)은 PCB 회로인 것은 당연하다.In the present embodiment, the panel 220 is connected to the driving device through a flexible printed circuit (FPC) 250. Here, the FPC 250 is a film having a pattern formed therein using polymide. In addition, in the present embodiment, the FPC 250 and the panel 220 are connected through the ACF. In addition, in this embodiment, the driving substrate 230 is a natural PCB circuit.

여기서, 구동 장치는 데이타 드라이터와 스캔 드라이버와 서스테인 드라이버 등으로 이루어진다. 여기서, 데이타 드라이버는 어드레스 전극에 연결되어 데이터 펄스를 인가한다. 그리고, 스캔 드라이버는 스캔 전극에 연결되어 상승 램프 파 형(Ramp-up), 하강 램프 파형(Ramp-down), 스캔 펄스(scan) 및 서스테인 펄스를 공급한다. 또한, 서스테인 드라이버는 공통 서스테인 전극에 서스테인 펄스와 DC 전압을 인가한다.Here, the driving device includes a data driver, a scan driver, a sustain driver, and the like. Here, the data driver is connected to the address electrode to apply a data pulse. The scan driver is connected to the scan electrode to supply a rising ramp waveform (Ramp-up), a falling ramp waveform (Ramp-down), a scan pulse (scan) and a sustain pulse. The sustain driver also applies a sustain pulse and a DC voltage to the common sustain electrode.

그리고, 플라즈마 디스플레이 패널은 리셋 기간, 어드레스 기간 및 서스테인 기간으로 나뉘어 구동된다. 리셋 기간에는 스캔 전극들에 상승 램프 파형(Ramp-up)이 동시에 인가된다. 그리고, 어드레스 기간에는 부극성 스캔 펄스(scan)가 스캔 전극들에 순차적으로 인가되며, 동시에 스캔 펄스와 동기되어 어드레스 전극들에 정극성의 데이터펄스가 인가된다. 또한, 서스테인 기간에는 스캔 전극들과 서스테인 전극들에 교번적으로 서스테인 펄스(sus)가 인가된다.The plasma display panel is driven by being divided into a reset period, an address period, and a sustain period. In the reset period, a rising ramp waveform Ramp-up is simultaneously applied to the scan electrodes. In the address period, the negative scan pulse scan is sequentially applied to the scan electrodes, and at the same time, the positive data pulse is applied to the address electrodes in synchronization with the scan pulse. In the sustain period, a sustain pulse sus is alternately applied to the scan electrodes and the sustain electrodes.

도 5a 내지 도 5c는 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 전면 패널 제조 공정을 나타낸 단면도이다.5A to 5C are cross-sectional views illustrating a front panel manufacturing process of a plasma display panel according to the present invention.

이하, 도 5a 내지 도 5c를 참조하여, 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 전면 패널 제조 공정을 상세히 설명한다.Hereinafter, a front panel manufacturing process of the plasma display panel according to the present invention will be described in detail with reference to FIGS. 5A to 5C.

먼저, 도 5a에 도시된 바와 같이 전면 패널(170) 상에 스캔 전극(180a)과 서스테인 전극(180b)과 버스 전극(180a', 180b')을 형성한다.First, as shown in FIG. 5A, the scan electrode 180a, the sustain electrode 180b, and the bus electrodes 180a 'and 180b' are formed on the front panel 170.

여기서, 전면기판(170)은 디스플레이 기판용 글래스 또는 소다라임 유리를 밀링(milling) 및 클리닝(cleaning)하여 제조된다.Here, the front substrate 170 is manufactured by milling and cleaning the glass or soda lime glass for the display substrate.

그리고, 스캔 전극(180a)과 서스테인 전극(180b)은 ITO(Indium Tin Oxide)를 스퍼터링(sputtering)에 의한 포토에칭(photoetching)법과, 이온 도금법(Ion Plating) 및 진공 증착법등을 이용하여 형성하거나 또는 SnO₂를 CVD에 의한 리프트 오프(lift-off)법으로 형성할 수 있다.In addition, the scan electrode 180a and the sustain electrode 180b may be formed by photoetching by sputtering Ion (Indium Tin Oxide), ion plating, vacuum deposition, or the like. SnO ₂ can be formed by a lift-off method by CVD.

상기 ITO(Indium Tin Oxide)를 포토에칭법을 이용하여 상기 스캔 전극(180a)과 서스테인 전극(180b)을 형성할 경우 ITO를 전면기판(170) 상에 증착하고, 상기 증착된 ITO 상에 포토레지스트를 도포 및 건조한다. 이후, 상기 포토레지스트 상에 소정 패턴이 형성된 포토 마스크를 올려놓고 빛을 조사하여 노광한다. 상기 노광 공정을 거친 이후, 경화되지 않은 부분을 현상한 후 에칭하여 상기 스캔 전극(180a)과 서스테인 전극(180b)을 형성한다.When the indium tin oxide (ITO) is formed using the photoetching method, the ITO is deposited on the front substrate 170 when the scan electrode 180a and the sustain electrode 180b are formed, and the photoresist is deposited on the deposited ITO. Apply and dry. Thereafter, a photo mask having a predetermined pattern is placed on the photoresist and exposed to light. After the exposure process, the uncured portion is developed and then etched to form the scan electrode 180a and the sustain electrode 180b.

또한, 상기 SnO₂를 리프트 오프법을 이용하여 상기 스캔 전극(180a)과 서스테인 전극(180b)을 형성할 경우 전면기판(170) 상에 포토레지스트를 도포한 후, 상기 도포된 포토레지스트 상에 소정 패턴이 형성된 포토 마스크를 올려놓고 빛을 조사하여 노광한다. 상기 노광 공정을 거친 이후, 경화되지 않은 부분을 현상한다. 이후 상기 현상 공정을 거친 후에 SnO₂를 증착한 후 상기 포토레지스트를 박리하여 상기 스캔 전극(180a)과 서스테인 전극(180b)을 형성한다. 또한, 상기 스캔 전극(180a)과 서스테인 전극(180b)에는 블랙 매트릭스가 형성될 수 있는데, 저융점 유리와 흑색 안료 등을 포함하여 이루어진다.In addition, in the case of forming the scan electrode 180a and the sustain electrode 180b by using the lift-off method, the photoresist is coated on the front substrate 170, and then, the SnO ₂ is formed on the coated photoresist. The photomask on which the pattern is formed is placed and exposed by irradiation with light. After the exposure process, the uncured portion is developed. Thereafter, after the development process, SnO ₂ is deposited, and then the photoresist is removed to form the scan electrode 180a and the sustain electrode 180b. In addition, a black matrix may be formed on the scan electrode 180a and the sustain electrode 180b, and may include a low melting glass and a black pigment.

상기 버스 전극(180a', 180b')은 은(Ag)을 스크린 인쇄법 또는 감광성 페이스트법등을 이용하여 형성하거나 또는 Cr/Cu/Cr 또는 Cr/Al/Cr을 스퍼터링에 의한 포토에칭법을 이용하여 형성할 수 있다.The bus electrodes 180a 'and 180b' may be formed of silver (Ag) using a screen printing method, a photosensitive paste method, or the like, or by using a photoetching method by sputtering Cr / Cu / Cr or Cr / Al / Cr. Can be formed.

상기 스크린 인쇄법을 이용하여 상기 버스 전극버스 전극(180a', 180b')을 형성할 경우 스크린 마스크를 통해 은(Ag)등의 도전성 물질 페이스트를 전면기판(170) 상에 인쇄한 후, 건조 및 소성하여 형성한다.When the bus electrode bus electrodes 180a 'and 180b' are formed using the screen printing method, a conductive material paste such as silver (Ag) is printed on the front substrate 170 through a screen mask, and then dried and dried. It forms by baking.

또한, 감광성 페이스트법을 이용하여 상기 버스 전극(180a', 180b')을 형성할 경우 감광성 은(Ag)을 전면기판(170) 상에 인쇄 및 코팅한 후 건조한다. 이후, 상기 코팅된 은(Ag) 위에 소정 패턴이 형성된 포토 마스크를 올려놓고 빛을 조사하여 노광한다. 상기 노광 공정을 거친 이후, 경화되지 않은 부분을 현상한 후 다시 건조 및 소성하여 상기 버스 전극(180a', 180b')을 형성한다.In addition, when the bus electrodes 180a 'and 180b' are formed by using the photosensitive paste method, photosensitive silver (Ag) is printed and coated on the front substrate 170 and dried. Subsequently, a photo mask having a predetermined pattern is placed on the coated silver and exposed to light. After the exposure process, the uncured portion is developed and then dried and baked again to form the bus electrodes 180a 'and 180b'.

상기 포토에칭법을 이용하여 상기 버스 전극(180a', 180b')을 형성할 경우 상기 Cr/Cu/Cr 또는 Cr/Al/Cr을 전면기판(170) 상에 증착하고, 상기 증착된 Cr/Cu/Cr 또는 Cr/Al/Cr 상에 포토레지스트를 도포 및 건조한다. 이후, 상기 포토레지스트 상에 소정 패턴이 형성된 포토 마스크를 올려놓고 빛을 조사하여 노광한다. 상기 노광 공정을 거친 이후, 경화되지 않은 부분을 현상한 후 에칭하여 상기 버스 전극(180a', 180b')을 형성한다.When the bus electrodes 180a 'and 180b' are formed using the photoetching method, the Cr / Cu / Cr or Cr / Al / Cr is deposited on the front substrate 170, and the deposited Cr / Cu The photoresist is applied and dried on / Cr or Cr / Al / Cr. Thereafter, a photo mask having a predetermined pattern is placed on the photoresist and exposed to light. After the exposure process, the uncured portion is developed and then etched to form the bus electrodes 180a 'and 180b'.

이어서, 도 5b에 도시된 바와 같이 스캔 전극(180a)과 서스테인 전극(180b) 및 버스 전극(180a', 180b')이 형성된 전면 패널(170) 상에 상판 유전체 층(190)을 형성한다.Subsequently, as shown in FIG. 5B, a top dielectric layer 190 is formed on the front panel 170 on which the scan electrode 180a, the sustain electrode 180b, and the bus electrodes 180a 'and 180b' are formed.

상기 상판 유전체 층(190)은 저융점 글라스 페이스트를 스크린 인쇄법, 코터(coater)법 및 그린 시트를 라미네이팅하는 방법을 이용하여 형성할 수 있다. 상기 코터법은 롤(Roll) 또는 슬럿(Slot)의 두가지 방식 중 어느 하나의 방식을 이용 할 수 있다.The upper dielectric layer 190 may be formed by using a screen printing method, a coater method, and a lamination method of a low melting glass paste. The coater method may use any one of two methods, a roll or a slot.

이어서, 도 5c에 도시된 바와 같이 상판 유전체 층(190) 상에 보호막(195)을 증착한다.Subsequently, a protective film 195 is deposited on the top dielectric layer 190 as shown in FIG. 5C.

여기서, 본 발명에 따른 보호막(195)은 산화마그네슘(MgO)를 포함한 제1 보호막(195a)과 단결정의 산화마그네슘 파우더를 포함한 제2 보호막(195b)로 이루어진다.Here, the protective film 195 according to the present invention comprises a first protective film 195a including magnesium oxide (MgO) and a second protective film 195b including magnesium oxide powder of single crystal.

제1 보호막(195a)은 상판 유전체 층(190) 상에 형성된다. 그리고, 실리콘(Si) 등의 도펀트를 포함할 수 있다. 여기서, 제 1 보호막(195a)은 화학적 기상 증착(CVD)법, 전자빔(E-beam)법, 이온 도금(Ion-plating)법, 졸겔법 및 스퍼터링법 등으로 형성될 수 있다. 이때, 제1 보호막(195a) 내에 실리콘이 도핑되면 어드레스 기간의 지터 값이 줄어들게 되나, 실리콘의 함유량이 일정 값 이상으로 커지면 지터 값이 증가될 수 있다. 따라서, 실리콘은 지터 값이 최소화되는 범위로 도핑되는 것이 바람직하며, 최적 함량으로 보호막 내에 20 내지 500 ppm(parts per million)의 비율로 포함되는 것이 바람직하다. 그리고, 지터 값을 줄이기 위하여 실리콘 대신 다른 물질을 도펀트로 사용할 수도 있을 것이다.The first passivation layer 195a is formed on the upper dielectric layer 190. And, a dopant such as silicon (Si) may be included. The first passivation layer 195a may be formed by chemical vapor deposition (CVD), electron beam (E-beam), ion-plating, sol-gel, sputtering, or the like. At this time, when silicon is doped in the first passivation layer 195a, the jitter value of the address period is reduced. However, when the silicon content is larger than a predetermined value, the jitter value may be increased. Therefore, the silicon is preferably doped in a range where the jitter value is minimized, and it is preferable that the silicon is included in the protective film at an optimum content of 20 to 500 parts per million (ppm). And other materials may be used as dopants instead of silicon to reduce jitter.

그리고, 제1 보호막(195a) 상에는 도시된 바와 같이 제2 보호막(195b)이 형성된다.The second passivation layer 195b is formed on the first passivation layer 195a as shown in the figure.

여기서, 제2 보호막(195b)은 단결정의 산화마그네슘 파우더를 포함하여 이루어진다. 이때, 제2 보호막(195b) 내에서 단결정의 산화마그네슘 파우더는 크기가 5 내지 100 마이크로 미터이다. 여기서, '크기'는 결정이 구의 형상이면 지름을 의미하고, 육면체의 형상이면 한 변의 길이를 의미한다. 상기 단결정은 결정 전체가 일정한 결정축을 따라 규칙적으로 생성된 고체를 의미하며, 배향이 서로 다른 조그만 단결정들의 집합인 다결정과 구분된다.Here, the second passivation film 195b includes a single crystal magnesium oxide powder. At this time, the single crystal magnesium oxide powder in the second protective film 195b has a size of 5 to 100 micrometers. Here, 'size' means the diameter if the crystal is in the shape of a sphere, and the length of one side if the shape of the cube. The single crystal refers to a solid in which all of the crystals are regularly formed along a constant crystal axis, and are distinguished from polycrystals, which are sets of small single crystals having different orientations.

도 6a 내지 도 6f는 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 후면 패널 제조 공정을 나타낸 단면도이다.6A to 6F are cross-sectional views illustrating a rear panel manufacturing process of a plasma display panel according to the present invention.

먼저, 도 6a에 도시된 바와 같이, 후면 패널(110) 상에 어드레스 전극(120)을 형성한다. 여기서, 후면 패널(110)은 디스플레이 기판용 글래스 또는 소다리임 유리를 밀링(milling) 또는 클리닝(cleaning) 등의 가공을 통하여 형성한다.First, as shown in FIG. 6A, the address electrode 120 is formed on the rear panel 110. Here, the rear panel 110 forms a glass or soda-lime glass for display substrate through a process such as milling or cleaning (cleaning).

상기 어드레스 전극(120)은 은(Ag)을 스크린 인쇄법 또는 감광성 페이스트법등을 이용하여 형성하거나 또는 Cr/Cu/Cr 또는 Cr/Al/Cr을 스퍼터링에 의한 포토에칭법을 이용하여 형성할 수 있다.The address electrode 120 may be formed of silver (Ag) using a screen printing method, a photosensitive paste method, or the like, or Cr / Cu / Cr or Cr / Al / Cr using a photoetching method by sputtering. .

즉, 상기 스크린 인쇄법을 이용하여 상기 어드레스 전극(120)을 형성할 경우 스크린 마스크를 통해 은(Ag)등의 도전성 물질 페이스트를 상기 배면기판(110) 상에 인쇄한 후, 건조 및 소성하여 형성한다.That is, when the address electrode 120 is formed by using the screen printing method, a conductive material paste such as silver (Ag) is printed on the rear substrate 110 through a screen mask, and then dried and baked. do.

또한, 감광성 페이스트법을 이용하여 상기 어드레스 전극(120)을 형성할 경우 감광성 은(Ag)을 배면기판(110) 상에 인쇄 및 코팅한 후 건조한다. 이후, 상기 코팅된 은(Ag) 위에 소정 패턴이 형성된 포토 마스크를 올려놓고 빛을 조사하여 노광한다. 상기 노광 공정을 거친 이후, 경화되지 않은 부분을 현상한 후 다시 건조 및 소성하여 상기 어드레스 전극(120)을 형성한다.In addition, when the address electrode 120 is formed using the photosensitive paste method, photosensitive silver (Ag) is printed and coated on the back substrate 110 and dried. Subsequently, a photo mask having a predetermined pattern is placed on the coated silver and exposed to light. After the exposure process, the uncured portion is developed and then dried and baked again to form the address electrode 120.

또한, 상기 포토에칭법을 이용하여 상기 어드레스 전극(120)을 형성할 경우 상기 Cr/Cu/Cr 또는 Cr/Al/Cr을 상기 배면기판(110) 상에 증착하고, 상기 증착된 Cr/Cu/Cr 또는 Cr/Al/Cr 상에 포토레지스트를 도포 및 건조한다. 이후, 상기 포토레지스트 상에 소정 패턴이 형성된 포토 마스크를 올려놓고 빛을 조사하여 노광한다. 상기 노광 공정을 거친 이후, 경화되지 않은 부분을 현상한 후 에칭하여 상기 어드레스 전극(120)을 형성한다.In addition, when the address electrode 120 is formed using the photoetching method, the Cr / Cu / Cr or Cr / Al / Cr is deposited on the back substrate 110, and the deposited Cr / Cu / The photoresist is applied and dried on Cr or Cr / Al / Cr. Thereafter, a photo mask having a predetermined pattern is placed on the photoresist and exposed to light. After the exposure process, the uncured portion is developed and then etched to form the address electrode 120.

그리고, 도 6b에 도시된 바와 같이, 어드레스 전극(120)이 형성된 후면 패널(110) 상에 백색의 하판 유전체 층(130)를 형성한다.As shown in FIG. 6B, a white lower dielectric layer 130 is formed on the rear panel 110 on which the address electrode 120 is formed.

상기 하판 유전체 층(130)은 저융점 유리와 TiO₂ 등의 필러를 포함한 재료를 스크린 인쇄법 또는 그린 시트의 라미네이팅 등의 방법으로 형성한다. 여기서, 하판 유전체 층(130)는 플라즈마 디스플레이 패널의 휘도를 증가시키기 위하여 백색을 나타내는 것이 바람직하다. 공정의 간략화를 위하여, 하판 유전체 층(130)과 어드레스 전극(120)을 하나의 공정에서 소성할 수도 있다.The lower dielectric layer 130 is formed of a material including a low melting point glass and a filler such as TiO ₂ by screen printing or laminating green sheets. Herein, the lower dielectric layer 130 may be white in order to increase the luminance of the plasma display panel. In order to simplify the process, the lower dielectric layer 130 and the address electrode 120 may be fired in one process.

이어서, 도 6c 내지 6e에 도시된 바와 각각의 방전 셀을 구분하기 위한 격벽을 형성한다.Subsequently, partition walls are formed to distinguish each discharge cell from those shown in Figs. 6C to 6E.

이때, 상기 격벽 재료(140a)는 용매와 분산제와 모상 유리 및 다공성 필러를 혼합하고, 밀링하여 준비한다. 여기서, 모상유리로서 유연계 모상 유리와 무연계 모상 유리가 있다. 유연계 모상 유리는 ZnO, PbO 및 B₂O₃ 등을 포함하여 이루어지고, 무연계 모상 유리는 ZnO, B₂O₃, BaO, SrO 및 CaO 등으로 이루어진다. 그리고, 필러로서, SiO₂, Al₂O₃ 등의 산화물을 사용한다.At this time, the partition material 140a is prepared by mixing a solvent, a dispersant, a mother glass and a porous filler, and milling. Here, as a mother glass, there exist a flexible system mother glass and a lead-free mother glass. The lead-based mother glass includes ZnO, PbO, B ₂ O ₃ , and the like, and the lead-free mother glass includes ZnO, B ₂ O ₃ , BaO, SrO, CaO, and the like. And, as a filler, using an oxide such as SiO _{_2,} Al ₂ O _3.

상기와 같은, 격벽 재료(140a)를 상기 하판 유전체층(130) 상에 도포한 후, 일정 시간 동안 건조시킨다.The barrier material 140a as described above is applied onto the lower plate dielectric layer 130 and then dried for a predetermined time.

이후, 상기 도포 및 건조 과정을 반복적으로 수행하여 일정한 두께(예를 들면, 150-200㎛)로 만들다. 이어서, 격벽 재료(140a)를 패터닝하여, 격벽(140)을 형성한다.Thereafter, the coating and drying processes are repeatedly performed to make a constant thickness (eg, 150-200 μm). Next, the partition material 140a is patterned to form the partition wall 140.

이때, 상기 패터닝 공정은 마스크(155)를 씌우고 노광한 후, 현상하여 수행된다. 즉, 어드레스 전극과 대응되는 부분에 마스크(155)를 위치시키고 노광하면, 현상 및 소성 공정 후에는 빛을 조사받은 부분만이 남아서 상기 격벽(140)을 형성한다. In this case, the patterning process is performed by covering and exposing the mask 155. That is, when the mask 155 is positioned and exposed to a portion corresponding to the address electrode, only the portion irradiated with light remains after the development and baking process to form the partition wall 140.

그 다음으로, 도 6f에 도시된 바와 같이, 상기 하판 유전체 층(130) 중 방전 공간에 접하는 면과, 상기 격벽(140)의 측면에 형광체(150a, 150b, 150c)를 도포하여 형광체 층(150)을 형성한다. 즉, 상기 형광체층(250)은 각각의 방전 셀에 따라 R,G,B의 형광체가 차례로 도포되는데, 스크린 인쇄법이나 감광성 페이스트법으로 도포된다.Subsequently, as shown in FIG. 6F, phosphors 150a, 150b, and 150c are applied to a surface of the lower dielectric layer 130 in contact with the discharge space and a side surface of the partition wall 140 to form the phosphor layer 150. ). That is, in the phosphor layer 250, phosphors of R, G, and B are sequentially applied according to respective discharge cells, and are applied by screen printing or photosensitive paste.

이때, 상기 적색(R) 형광 물질로 (Y, Gd)BO³:Eu3⁺ 을 사용하고, 녹색(G) 형광 물질로는 Zn₂SiO₄:Mn2⁺ 을 사용하고, 청색(B) 형광 물질로는 BaMgAl₁₀O₁₇:Eu2⁺ 를 많이 사용한다.At this time, as the red (R) fluorescent material (Y, Gd) BO ^3: Use the Eu3 ⁺ and a green (G) fluorescent material, Zn ₂ SiO _4: to use Mn2 ^+, and blue (B) fluorescent materials is BaMgAl ₁₀ O _17: use a lot of Eu2 ^+.

그 다음으로, 도 5의 과정에 의해 완성한 전면 패널(170)을 상기 격벽(140)을 사이에 두고 상기 후면 패널(110)과 접합하고 실링하고, 내부의 불순물 등을 배 기한 후, 상기 격벽(140)내의 방전 셀에 Xe+Ne 또는 Xe+He 또는 Xe+Ne+He의 방전 가스(160)를 주입한 후 봉입하면, 도 1과 같은 본 발명의 플라즈마 디스플레이 패널이 완성된다.Subsequently, the front panel 170 completed by the process of FIG. 5 is bonded and sealed with the rear panel 110 with the partition wall 140 interposed therebetween, after exhausting internal impurities and the like, the partition wall ( When the discharge gas 160 of Xe + Ne or Xe + He or Xe + Ne + He is injected into and then sealed in the discharge cell in 140, the plasma display panel of FIG. 1 is completed.

이하에서, 전면 패널(170)과 후면 패널(110)의 실링 공정을 상세히 설명한다.Hereinafter, the sealing process of the front panel 170 and the rear panel 110 will be described in detail.

상기 실링 공정은 통상적으로 스크린 인쇄법, 디스펜싱법 등으로 수행된다.The sealing process is usually performed by screen printing, dispensing, or the like.

상기 스크린 인쇄법은 패터닝된 스크린을 소정 간격 유지하여 기판 위에 놓고, 실링재 형성에 필요한 페이스트를 압착, 전사시켜서 원하는 형상의 실링재를 인쇄하는 방법이다. 스크린 인쇄법은 생산 설비가 간단하고, 재료의 이용 효율이 높은 장점이 있다.The screen printing method is a method of printing a sealing material having a desired shape by holding a patterned screen at a predetermined interval, placing the patterned screen on a substrate, and pressing and transferring a paste necessary for forming the sealing material. The screen printing method has advantages of simple production equipment and high use efficiency of materials.

그리고, 상기 디스펜싱법은 스크린 마스크 제작에 사용되는 CAD 배선 데이터를 이용하여, 후막 페이스트를 공기 압력을 이용하여 기판 상에 직접 토출하여 실링재를 형성하는 방법이다. 디스펜싱법은 마스크의 제작비용이 절감되고, 후막의 형상에 큰 자유도를 가질 수 있는 장점이 있다.The dispensing method is a method of forming a sealing material by directly discharging a thick film paste onto a substrate using air pressure using CAD wiring data used for screen mask fabrication. The dispensing method has the advantage of reducing the manufacturing cost of the mask and having a large degree of freedom in the shape of the thick film.

도 7a는 플라즈마 디스플레이 패널의 전면 패널과 후면 패널을 합착하는 공정을 나타낸 도면이다.7A is a view illustrating a process of bonding the front panel and the rear panel of the plasma display panel.

도 7b는 도 7a의 A-A'의 단면도이다.FIG. 7B is a cross-sectional view taken along the line AA ′ of FIG. 7A.

도시된 바와 같이, 전면 패널(170) 또는 후면 패널(110) 상에 실링재(600)가 도포된다. 구체적으로, 기판의 최외곽에서 소정 간격을 두고 동시에 인쇄되거나 디스펜싱되어 도포된다.As shown, the sealing material 600 is applied to the front panel 170 or the rear panel 110. Specifically, the substrate is printed or dispensed at the same time with a predetermined interval at the outermost side of the substrate and applied.

이어서, 상기 실링재(600)를 소성한다. 상기 소성 과정에서, 실링재(600)에 포함된 유기물이 제거되고, 전면 패널(170)과 후면 패널(110)이 합착된다.Next, the sealing material 600 is fired. In the firing process, the organic material included in the sealing material 600 is removed, and the front panel 170 and the rear panel 110 are bonded.

그리고, 이러한 소성 공정에서 실링재(600)의 폭이 넓어지고 높이가 낮아질 수 있다. 본 실시예에서는 실링재(600)가 인쇄 또는 도포되었으나, 실링 테이프의 형태로 형성되어 전면 기판(170) 또는 배면 기판(110)에 접착하여 사용할 수도 있다. 그리고, 에이징 공정을 통하여 소정 온도에서 보호막 등의 특성을 향상시킨다.In this firing process, the width of the sealing material 600 may be widened and the height may be low. In the present embodiment, the sealing material 600 is printed or coated, but may be formed in the form of a sealing tape and adhered to the front substrate 170 or the rear substrate 110. And the characteristic of a protective film etc. is improved at predetermined temperature through an aging process.

또한, 상기와 같이 완성된 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 전면에는 전면 필터(300)가 구비되는데, 상기 전면 필터(300)는 전자파(EMI, Electro Magnetic Interference; 이하 'EMI'로 약칭함)와, 근적외선(Near Infrared Rays; 이하 'NIR'로 약칭함)을 차폐하고 색보정 및 외부에서 입사되는 빛의 반사를 방지하는 역할 등을 한다.In addition, the front surface of the plasma display panel according to the present invention completed as described above is provided with a front filter 300, the front filter 300 is electromagnetic wave (EMI, abbreviated as 'EMI') and It shields near infrared rays (hereinafter abbreviated as 'NIR') and prevents color correction and reflection of light incident from the outside.

이하, 도면을 참조하여 본 발명에 따른 전면 필터(300)에 대해 상세히 설명한다.Hereinafter, the front filter 300 according to the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 8은 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 패널에 구비되는 필름형 및 글라스형 전면 필터를 나타낸 단면도이다.8 is a cross-sectional view illustrating a film type and a glass type front filter provided in the plasma display panel according to the present invention.

먼저, 도 4의 (a) 및 (b)에 도시된 바와 같이, 필름형 전면 필터(300a) 및 글라스형 전면 필터(300b)는 플라즈마 디스플레이 패널의 전면 패널(170) 측으로 발생된 전자파 차폐, 외부광 반사 방지, 근적외선 차폐, 그리고 색 보정과 같은 기능을 하게 된다.First, as shown in (a) and (b) of FIG. 4, the film type front filter 300a and the glass type front filter 300b are formed on the front panel 170 side of the plasma display panel. Functions include light reflection prevention, near-infrared shielding, and color correction.

이를 위하여, 상기 필름형 전면 필터(300a) 및 글라스형 전면 필터(300b)는 필름 또는 글라스에 반사 방지막(310)과 색 보정막(320)과 근적외선 차폐막(330) 및 전자파 차폐막(340)을 구비한다. 이때, 반사 방지막(310)과 색보정막(320)과 근적외선 차폐막(330) 및 전자파 차폐막(340)의 순서는 달라질 수도 있다.To this end, the film type front filter 300a and the glass type front filter 300b include an anti-reflection film 310, a color correction film 320, a near infrared shielding film 330, and an electromagnetic shielding film 340 on the film or glass. do. In this case, the order of the anti-reflection film 310, the color correction film 320, the near-infrared shielding film 330, and the electromagnetic shielding film 340 may vary.

반사 방지막(310)은 외부로부터 입사된 광이 다시 외부로 반사되는 것을 방지하여 콘트라스트를 향상시키게 한다.The anti-reflection film 310 prevents light incident from the outside from being reflected back to the outside to improve contrast.

색보정 막(320)은 색 조절 염료(Color Dye)를 포함하여 색조를 조절함으로써 색순도를 높이게 된다.The color correction layer 320 includes a color control dye (Color Dye) to increase the color purity by adjusting the color tone.

근적외선 차폐막(330)은 플라즈마 디스플레이 패널의 전면 패널(170)에서 발생된 약 800~1000nm 파장 대역의 근적외선을 흡수하여 외부로 방사되는 것을 차폐한다.The near-infrared shielding layer 330 absorbs near-infrared rays of about 800 to 1000 nm wavelength band generated from the front panel 170 of the plasma display panel, and shields them from being radiated to the outside.

전자파 차폐막(340)은 플라즈마 디스플레이 패널의 전면 패널(170)으로부터 발생된 전자파를 흡수하여 그 전자파가 외부로 방출되는 것을 차폐하게 된다.The electromagnetic shielding film 340 absorbs electromagnetic waves generated from the front panel 170 of the plasma display panel and shields the electromagnetic waves from being emitted to the outside.

이하, 도면을 참조하며 본 발명에 따른 터치 스크린을 구비한 플라즈마 디스플레이 패널에 대해 상세히 설명한다.Hereinafter, a plasma display panel having a touch screen according to the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

<제1 실시예>&Lt; Embodiment 1 >

도 9는 본 발명에 따른 터치 스크린을 구비한 플라즈마 디스플레이 패널을 나타낸 제1 실시예 단면도이다.9 is a cross-sectional view of a first embodiment showing a plasma display panel having a touch screen according to the present invention.

도 9를 설명하기 앞서서, 도 10을 참조하여 현재 터치 스크린의 구조에 대해 먼저 설명한다.Before describing FIG. 9, the structure of the current touch screen will be described with reference to FIG. 10.

도 10은 터치 스크린의 구조를 나타낸 도면이다.10 illustrates a structure of a touch screen.

도 10에 도시된 바와 같이, 현재 터치 스크린(70)은 제1 투명 도전막(74)이 형성된 상부 필름(72)과, 제2 투명 도전막(78)이 형성되고 상부 필름(72)과 마주 보면서 일정 간격 이격되는 하부 필름(76)이 구비된다.As shown in FIG. 10, the touch screen 70 currently has an upper film 72 with a first transparent conductive film 74 formed thereon, and a second transparent conductive film 78 formed with an upper film 72 facing each other. The lower film 76 is provided while being spaced apart at regular intervals.

상부 필름(72)과 하부 필름(76)은 비 터치 영역인 외곽부를 따라 도포된 실링재(72)에 의해 접합되고 그 실링재(72) 높이만큼 이격된다. 또한, 터치 영역에서 상부 필름(72)과 하부 필름(76)과의 이격을 위하여 다수의 스페이서들(70)이 상부 필름(72)의 제1 투명 도전막(74) 또는 하부 필름(76)의 제2 투명 도전막(78) 상에 더 형성된다.The upper film 72 and the lower film 76 are joined by a sealing material 72 applied along the outer portion of the non-touch area and spaced apart by the height of the sealing material 72. In addition, a plurality of spacers 70 may be formed on the first transparent conductive layer 74 or the lower film 76 of the upper film 72 to space the upper film 72 and the lower film 76 in the touch area. It is further formed on the second transparent conductive film 78.

스타일러스 펜 또는 사용자의 손가락에 의해 눌려지는 상부 필름(72)으로는 폴리에틸렌 텔레프탈레이트(PET) 등을 이용한 투명 필름이 주로 이용되고, 하부 필름(76)으로는 상부 필름(72)과 같은 재질의 투명 필름, 유리 기판, 또는 플라스틱 기판이 이용된다.As the upper film 72 pressed by the stylus pen or the user's finger, a transparent film using polyethylene telephthalate (PET) or the like is mainly used. The lower film 76 is a transparent material made of the same material as the upper film 72. Films, glass substrates, or plastic substrates are used.

이때, 제1 및 제2 투명 도전막(74, 78)으로는 ITO(Indum-Tin-Oxide), IZO(Indum-Zine-Oxide), ITZO(Indum-Tin-Zine-Oxide) 중 어느 하나가 이용된다.In this case, any one of Indum-Tin-Oxide (ITO), Indum-Zine-Oxide (IZO), and Indum-Tin-Zine-Oxide (ITZO) may be used as the first and second transparent conductive films 74 and 78. do.

상기와 같은 터치 스크린(70)은 스타일러스 펜 또는 사용자의 손가락이 상부필름(72)을 눌러 제1 투명 도전막(74)이 제2 투명 도전막(78)과 접촉하게 되면 그 접촉 위치에 따라 저항치를 가변시키게 된다.The touch screen 70 as described above has a resistance value depending on the contact position when the stylus pen or the user's finger presses the upper film 72 to make the first transparent conductive film 74 contact the second transparent conductive film 78. Will be changed.

그리고, 가변된 저항치에 따라 전류 또는 전압이 달라지므로, 그 변화하는 전류 또는 전압을 터치 스크린(70)은 제1 투명 도전막(74)에 접속된 제2 X 전극바(75B)을 통해 X축 좌표 신호로 출력하고, 제2 투명 도전막(78)에 접속된 제2 Y 전극바(79B)를 통해 Y축 좌표 신호 출력하게 된다.In addition, since the current or the voltage varies according to the variable resistance value, the touch screen 70 may change the X-axis through the second X electrode bar 75B connected to the first transparent conductive film 74. The Y-axis coordinate signal is outputted through the second Y electrode bar 79B connected to the second transparent conductive film 78.

이 경우, 터치 스크린(70)은 컨트롤러(도시하지 않음)의 제어에 의해 X축 좌표 신호와 Y축 좌표 신호를 순차적으로 출력하게 된다.In this case, the touch screen 70 sequentially outputs the X-axis coordinate signal and the Y-axis coordinate signal under the control of a controller (not shown).

상기 도 10과 같은 터치 스크린을 플라즈마 디스플레이 패널에 구비하기 위해서, 본 발명의 제1 실시예에서는 도 9에 도시된 바와 같이, 스캔 전극 및 서스테인 전극(180a, 180b)이 형성된 전면 패널(170)의 반대면에 전면 필터(300)의 전자파 차폐 기능을 하는 Ag 페이스트로 형성된 메쉬 패턴(410)을 구비한다.In order to include the touch screen as shown in FIG. 10 in the plasma display panel, in the first embodiment of the present invention, as shown in FIG. 9, the front panel 170 on which the scan electrodes and the sustain electrodes 180a and 180b are formed is shown. A mesh pattern 410 formed of Ag paste having an electromagnetic shielding function of the front filter 300 is provided on the opposite surface.

또한, 전면 필터(300)에서는 전자파 차폐막(340)을 구비하지 않고, 반사 방지막(310)과 색보정막(320) 및 근적외선 차폐막(330)이 형성된 면의 반대면에 ITO, IZO 및 ITZO 등의 투명 도전막(420)을 구비한다.In addition, the front filter 300 does not include the electromagnetic wave shielding film 340, and is formed on the opposite surface of the surface on which the anti-reflection film 310, the color correction film 320, and the near-infrared shielding film 330 are formed, such as ITO, IZO, and ITZO. A transparent conductive film 420 is provided.

즉, 본 발명의 제1 실시예는 Ag 페이스트로 형성된 전자파 차폐 기능을 하는 메쉬 패턴(310)을 기존의 하측 투명 도전막으로 사용함으로써, 종래 상측 및 하측 2장이 사용되던 고가의 투명 도전막을 1장만 사용하는 것이다.That is, according to the first embodiment of the present invention, since the mesh pattern 310 having the electromagnetic shielding function formed of Ag paste is used as the existing lower transparent conductive film, only one expensive transparent conductive film used for the upper and lower two sheets is used. Is to use.

또한, 전면 패널(170)의 메쉬 패턴(410)과 전면 필터(300)의 투명 도전막(420) 사이에는 다수의 스페이서들(430)이 형성된다.In addition, a plurality of spacers 430 are formed between the mesh pattern 410 of the front panel 170 and the transparent conductive layer 420 of the front filter 300.

상기와 같이, 전면 패널(170)의 메쉬 패턴(410)이 종래의 하측 투명 도전막 역할을 수행함으로써, 본 발명에서는 전면 필터(300)에 구비된 1장의 상측 투명 도전막을 이용하여 전면 패널(170)과 전면 필터(300) 사이에 터치 스크린을 구비할 수 있다.As described above, since the mesh pattern 410 of the front panel 170 serves as a conventional lower transparent conductive film, in the present invention, the front panel 170 using one upper transparent conductive film provided in the front filter 300 is used. ) And the front filter 300 may be provided with a touch screen.

이하, 도 11을 참조하여 본 발명에 따른 터치 스크린을 구비한 플라즈마 디 스플레이 패널의 제조 과정에 대해 상세히 설명한다.Hereinafter, a manufacturing process of a plasma display panel having a touch screen according to the present invention will be described in detail with reference to FIG. 11.

도 11a 내지 도 11d는 본 발명에 따른 터치 스크린을 구비한 플라즈마 디스플레이 패널의 제조 과정을 나타낸 제1 실시예 공정 순서도이다.11A to 11D are flowcharts of a first embodiment showing a manufacturing process of a plasma display panel having a touch screen according to the present invention.

먼저, 도 11a에 도시된 바와 같이, 전면 패널(170)의 스캔 전극 및 서스테인 전극(180a, 180b)이 형성된 면의 반대면에 Ag 또는 Cu 페이스트를 이용하여 전자파 차폐 기능을 하는 메쉬 패턴(410)을 형성한다.First, as shown in FIG. 11A, a mesh pattern 410 that serves as an electromagnetic shielding function using Ag or Cu paste on an opposite surface of the front panel 170 on which the scan electrodes and the sustain electrodes 180a and 180b are formed. To form.

즉, Ag 페이스트로 메쉬 패턴(410)을 형성할 경우 오프셋 법을 이용할 수 있고, Cu 페이스트로 메쉬 패턴(410)을 형성할 경우 포토 에칭법을 이용할 수 있다.That is, an offset method may be used when the mesh pattern 410 is formed of Ag paste, and a photo etching method may be used when the mesh pattern 410 is formed of Cu paste.

상기와 같이 형성된 메쉬 패턴(410)은 기존 터치 스크린에서의 하측 투명 도전막으로 사용된다.The mesh pattern 410 formed as described above is used as a lower transparent conductive film in a conventional touch screen.

이때, 메쉬 패턴(410)의 선폭은 10 내지 30㎛로 형성하고, 메쉬 패턴(410)의 두께는 1 내지 20㎛로 형성하고, 메쉬 패턴(410)간의 간격은 50 내지 150㎛로 형성한다. 또한, 메쉬 패턴(410) 중 적어도 어느 하나의 패턴은 외부 접지 단자와 연결된다.At this time, the line width of the mesh pattern 410 is formed to 10 to 30㎛, the thickness of the mesh pattern 410 is formed to 1 to 20㎛, the spacing between the mesh pattern 410 is formed to 50 to 150㎛. In addition, at least one of the mesh patterns 410 is connected to an external ground terminal.

또한, 본 발명에서는 메쉬 패턴(410)이 격자 무늬이기 때문에 터치 스크린으로서의 센싱 능력이 떨어질 수 있으므로, 도 11b에 도시된 바와 같이 메쉬 패턴(410) 상에 도전막(411)을 코팅한다.In addition, in the present invention, since the mesh pattern 410 is a lattice pattern, the sensing capability of the touch screen may be deteriorated. Thus, as illustrated in FIG. 11B, the conductive layer 411 is coated on the mesh pattern 410.

도전막(411)은 Cu, Ag, Au, Al, Ni, Pt, 카본 나노튜브(CNT) 등을 분산제와 함께 혼합한 후, 상기 혼합된 물질을 메쉬 패턴(410) 상에 도포하여 형성하거나 또는 스프레이 방식으로 산포하여 형성할 수 있다. 이때, 도전막(411)의 두께는 상기 메쉬 패턴(410)의 두께보다 두껍지 않도록 한다.The conductive film 411 is formed by mixing Cu, Ag, Au, Al, Ni, Pt, carbon nanotubes (CNT), etc. with a dispersant, and then applying the mixed material on the mesh pattern 410 or It can be formed by spraying. In this case, the thickness of the conductive film 411 is not thicker than the thickness of the mesh pattern 410.

그 다음으로, 도 11c에 도시된 바와 같이, 전면 필터(300)의 반사 방지막(310)과 색보정막(320) 및 근적외선 차폐막(330)이 형성된 면의 반대면에 ITO, IZO 및 ITZO 등의 투명 도전막의 시트(420)를 부착한다.Next, as shown in FIG. 11C, ITO, IZO, ITZO, and the like are disposed on the opposite surface of the anti-reflection film 310, the color correction film 320, and the near-infrared shield film 330 of the front filter 300. The sheet 420 of the transparent conductive film is attached.

마지막으로, 도 11d에 도시된 바와 같이, 상기 전면 패널(170)의 메쉬 패턴(410)과 전면 필터(300)의 투명 도전막(420) 사이에는 다수의 스페이서들(430)이 형성되어 본 발명의 제1 실시예에 따른 터치 스크린을 구비한 플라즈마 디스플레이 패널이 완성된다.Finally, as shown in FIG. 11D, a plurality of spacers 430 are formed between the mesh pattern 410 of the front panel 170 and the transparent conductive film 420 of the front filter 300. A plasma display panel having a touch screen according to the first embodiment of the present invention is completed.

상기와 같은, 본 발명의 제1 실시예에 따른 터치 스크린을 구비한 플라즈마 디스플레이 패널은 스타일러스 펜 또는 사용자의 손가락이 전면 필터(300)를 눌러 투명 도전막(420)이 메쉬 패턴(410)과 접촉하게 되면, 그 접촉 위치에 따라 저항치가 가변된다.As described above, in the plasma display panel having the touch screen according to the first embodiment of the present invention, the transparent conductive film 420 contacts the mesh pattern 410 by pressing the front filter 300 with a stylus pen or a user's finger. In this case, the resistance value is changed according to the contact position.

그리고, 상기 가변된 저항치에 따라 전류값 또는 전압값이 변화하게 되고, 상기 변화된 전류값 또는 전압값을 상기 투명 도전막(420) 및 메쉬 패턴(410)에 연결된 외부 전극을 통해 X 및 Y 좌표를 출력하여 터치 스크린 기능을 수행하게 된다.The current value or the voltage value is changed according to the variable resistance value, and the changed current value or the voltage value is converted into X and Y coordinates through an external electrode connected to the transparent conductive film 420 and the mesh pattern 410. The output will perform the touch screen function.

<제2 실시예>Second Embodiment

도 12는 본 발명에 따른 터치 스크린을 구비한 플라즈마 디스플레이 패널을 나타낸 제2 실시예 단면도이다.12 is a cross-sectional view of a second embodiment showing a plasma display panel having a touch screen according to the present invention.

본 발명의 제2 실시예는 기존 전면 필터의 구조를 그대로 사용하면서, 전면 패널(170)에 투명 도전막(420)을 부착하여 간단하게 터치 스크린을 구비한 플라즈마 디스플레이 패널을 제조할 수 있다.According to the second embodiment of the present invention, the transparent conductive film 420 is attached to the front panel 170 while using the structure of the existing front filter as it is, so that a plasma display panel having a touch screen can be manufactured.

즉, 도 12에 도시된 바와 같이, 스캔 전극 및 서스테인 전극(180a, 180b)이 형성된 전면 패널(170)의 반대면에 투명 도전막의 시트(420)를 부착한다.That is, as illustrated in FIG. 12, the sheet 420 of the transparent conductive film is attached to the opposite surface of the front panel 170 on which the scan electrodes and the sustain electrodes 180a and 180b are formed.

그리고, 전면 필터(300)의 메쉬 패턴(410)과 상기 전면 패널(170)의 투명 도전막(410) 사이에는 다수의 스페이서들(430)이 형성되어 본 발명의 제2 실시예에 따른 터치 스크린을 구비한 플라즈마 디스플레이 패널이 완성된다.In addition, a plurality of spacers 430 are formed between the mesh pattern 410 of the front filter 300 and the transparent conductive layer 410 of the front panel 170 to form a touch screen according to the second embodiment of the present invention. The plasma display panel provided with the above is completed.

상기와 같은, 본 발명의 제2 실시예에 따른 터치 스크린을 구비한 플라즈마 디스플레이 패널은 스타일러스 펜 또는 사용자의 손가락이 전면 패널(170)를 눌러 메쉬 패턴(410)이 투명 도전막(420)과 접촉하게 되면, 그 접촉 위치에 따라 저항치가 가변된다.As described above, in the plasma display panel having the touch screen according to the second embodiment of the present invention, the mesh pattern 410 contacts the transparent conductive film 420 by pressing the front panel 170 with the stylus pen or the user's finger. In this case, the resistance value is changed according to the contact position.

그리고, 상기 가변된 저항치에 따라 전류값 또는 전압값이 변화하게 되고, 상기 변화된 전류값 또는 전압값을 메쉬 패턴(410) 및 투명 도전막(420)에 연결된 외부 전극을 통해 X 및 Y 좌표를 출력하여 터치 스크린 기능을 수행하게 된다.The current value or the voltage value changes according to the variable resistance value, and the X and Y coordinates are output through the external electrode connected to the mesh pattern 410 and the transparent conductive layer 420. To perform the touch screen function.

이상, 본 발명은 본 발명의 정신 및 필수적 특징을 벗어나지 않는 범위에서 다른 특정한 형태로 구체화될 수 있음은 당업자에게 자명하다. 예를 들면, 본 기술분야의 당업자에게는 전술한 실시예들을 서로 조합하여 사용하는 것도 매우 용이할 것이다.It will be apparent to those skilled in the art that the present invention may be embodied in other specific forms without departing from the spirit or essential characteristics thereof. For example, it would be very easy for those skilled in the art to use the above-described embodiments in combination with each other.

따라서, 상기의 상세한 설명은 모든 면에서 제한적으로 해석되어서는 아니되고 예시적인 것으로 고려되어야 한다.Accordingly, the above detailed description should not be construed as limiting in all aspects and should be considered as illustrative.

본 발명의 범위는 첨부된 청구항의 합리적 해석에 의해 결정되어야 하고, 본 발명의 등가적 범위 내에서의 모든 변경은 본 발명의 범위에 포함된다.The scope of the invention should be determined by reasonable interpretation of the appended claims, and all changes within the equivalent scope of the invention are included in the scope of the invention.

<도면의 주요 부호에 대한 설명>DESCRIPTION OF THE RELATED ART [0002]

110: 배면 기판 120: 어드레스 전극110: back substrate 120: address electrode

130: 하판 유전체 140: 격벽130: lower plate dielectric 140: partition wall

150a, 150b, 150c: 형광체 160: 방전 가스150a, 150b, 150c: phosphor 160: discharge gas

170: 전면 기판 180a: 스캔 전극170: front substrate 180a: scan electrode

180b: 서스테인 전극 180a', 180b': 버스 전극180b: sustain electrode 180a ', 180b': bus electrode

190: 상판 유전체 195 : 보호막190: top dielectric 195: protective film

220: 패널 230: 구동 기판220: panel 230: driving substrate

240: TCP 241: 구동 드라이버 칩240: TCP 241: driver driver chip

242: 연성 기판 243: 배선242: flexible substrate 243: wiring

250: FPC 260: 방열판250: FPC 260: heat sink

300: 전면 필터 300a: 필름형 전면 필터300: front filter 300a: film type front filter

300b: 글라스형 전면 필터 310: 반사 방지막300b: glass front filter 310: antireflection film

320: 색 보정막 330: 근적외선 차폐막320: color correction film 330: near infrared shielding film

340: 전자파 차폐막 410: 메쉬 패턴340: electromagnetic shielding film 410: mesh pattern

411: 도전막 420: 투명 도전막411: conductive film 420: transparent conductive film

430: 스페이서430: spacer

Claims

A front panel on which an electromagnetic shielding film of a mesh pattern is formed;

A front filter having a transparent conductive film formed thereon and bonded to face the electromagnetic shielding film and the transparent conductive film; And

And a plurality of spacers formed between the front panel on which the electromagnetic shielding film is formed and the front filter on which the transparent conductive film is formed.

The method of claim 1, wherein the electromagnetic shielding film,

Plasma display panel with a touch screen, characterized in that formed of Ag or Cu paste.

The liquid crystal display device according to claim 1,

12. A plasma display panel having a touch screen, wherein the plasma display panel is formed of at least one of Indum-Tin-Oxide (ITO), Indum-Zine-Oxide (IZO), and Indum-Tin-Zine-Oxide (ITZO).

delete

Forming an electromagnetic shielding film having a mesh pattern on the front panel;

Forming a transparent conductive film on the front filter;

Forming a plurality of spacers between the front panel on which the electromagnetic shielding film is formed and the front filter on which the transparent conductive film is formed; And

And placing the spacers between the electromagnetic shielding film and the transparent conductive film, and bonding the front panel and the front filter to face each other. 2.

The method of claim 5, wherein the electromagnetic shielding film,

A method of manufacturing a plasma display panel with a touch screen, characterized by being formed of Ag or Cu paste.

The method of claim 5, wherein the transparent conductive film,

A method of manufacturing a plasma display panel having a touch screen, characterized in that it is formed of at least one of Indum-Tin-Oxide (ITO), Indum-Zine-Oxide (IZO), and Indum-Tin-Zine-Oxide (ITZO).

delete

A front panel on which a transparent conductive film is formed;

A front filter formed with an electromagnetic shielding film having a mesh pattern, and bonded to face the transparent conductive film and the electromagnetic shielding film; And

And a plurality of spacers formed between the front panel on which the transparent conductive film is formed and the front filter on which the electromagnetic wave shielding film is formed.

Forming a transparent conductive film on the front panel;

Forming an electromagnetic shielding film of a mesh pattern on the front filter;

Forming a plurality of spacers between the front panel on which the transparent conductive film is formed and the front filter on which the electromagnetic shielding film is formed; And

And placing the spacers between the transparent conductive film and the electromagnetic shielding film, and bonding the front panel and the front filter so as to face each other.