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KR101375276B1 - Method of manufacturing laminated plate using thermoplastic polyimide adhesive film with excellent slip property - Google Patents

Method of manufacturing laminated plate using thermoplastic polyimide adhesive film with excellent slip property Download PDF

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Publication number
KR101375276B1
KR101375276B1 KR1020130033056A KR20130033056A KR101375276B1 KR 101375276 B1 KR101375276 B1 KR 101375276B1 KR 1020130033056 A KR1020130033056 A KR 1020130033056A KR 20130033056 A KR20130033056 A KR 20130033056A KR 101375276 B1 KR101375276 B1 KR 101375276B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
adhesive film
thermoplastic polyimide
metal foil
delete delete
film
Prior art date
Application number
KR1020130033056A
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Korean (ko)
Inventor
김광무
박영돈
임재필
신기철
홍기하
고영탁
Original Assignee
주식회사 이녹스
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
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Publication date
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Abstract

Disclosed are a thermoplastic polyimide (TPI) adhesive film with improved slip properties, a laminated plate using the film, and a flexible printed circuit board using the laminated plate. The thermoplastic polyimide adhesive film according to the present invention has inert inorganic particles dispersed in thermoplastic polyimide, wherein 0.01-10 parts by weight of the inert inorganic particles is included relative to 100 parts by weight of the thermoplastic polyimide.

Description

슬립성이 우수한 열가소성 폴리이미드 접착 필름을 이용한 적층판 제조 방법{METHOD OF MANUFACTURING LAMINATED PLATE USING THERMOPLASTIC POLYIMIDE ADHESIVE FILM WITH EXCELLENT SLIP PROPERTY}Method for manufacturing laminate using thermoplastic polyimide adhesive film having excellent slip property {METHOD OF MANUFACTURING LAMINATED PLATE USING THERMOPLASTIC POLYIMIDE ADHESIVE FILM WITH EXCELLENT SLIP PROPERTY}

본 발명은 열가소성 폴리이미드(Thermoplastic polyimide; TPI) 접착 필름에 관한 것으로, 보다 상세하게는 슬립성(Slip property)이 우수한 열가소성 폴리이미드 접착 필름, 이를 이용한 적층판 및 이 적층판을 이용한 연성회로기판에 관한 것이다.
The present invention relates to a thermoplastic polyimide (TPI) adhesive film, and more particularly, to a thermoplastic polyimide adhesive film having excellent slip property, a laminate using the same, and a flexible circuit board using the laminate. .

최근 인쇄회로기판(Printed Circuit Board; PCB)을 사용하는 전자기기 제품의 경량화, 소형화 및 고밀도화에 따라 연성회로기판(Flexible Printed Circuit Board; FPCB)이 전자기기 제품의 핵심기판으로 채택되고 있다. Recently, flexible printed circuit boards (FPCBs) have been adopted as core boards of electronic products according to the weight reduction, miniaturization, and density of electronic devices using printed circuit boards (PCBs).

연성회로기판은 유연성을 갖는 절연성 필름의 표면에 금속박을 붙여 제작한 적층판(Laminated plate)을 기재로 사용하기 때문에 얇고 쉽게 구부러지는 특성이 있어 3차원 배선이 가능하므로 기기의 소형화 및 경량화에 유리하다.Flexible circuit boards are thin and easily bent due to the use of laminated plates made by attaching metal foil to the surface of the flexible insulating film as a base material, which enables three-dimensional wiring, which is advantageous for miniaturization and weight reduction of devices.

연성회로기판은 단층 또는 2층, 3층 등과 같은 다층으로 구성될 수 있으며, 전자기기 제품의 구조와 기능이 다양화됨에 따라 다층으로 이루어진 연성회로기판의 사용이 더욱 증가하고 있다.The flexible printed circuit board may be composed of a single layer, or a multilayer such as two layers, three layers, etc., and as the structure and function of electronic product products are diversified, the use of flexible printed circuit boards having multiple layers is increasing.

연성회로기판용 절연성 필름으로는 주로 일면 또는 양면에 열가소성 폴리이미드(Thermoplastic polyimide; TPI) 필름이 코팅된 폴리이미드(Polyimide; PI) 필름이 사용되고 있다.As an insulating film for a flexible circuit board, a polyimide (PI) film coated with a thermoplastic polyimide (TPI) film on one or both surfaces is mainly used.

연성회로기판의 제작방법으로는 스퍼터(Sputtering)법, 금속박 상에 폴리이미드의 전구체인 폴리아믹산(Polyamic Acid)을 유연, 도포한 후 이미드화하는 캐스트(Cast)법, 도금에 의해 폴리이미드 필름상에 직접 금속층을 설치하는 메탈라이징(Metallizing)법, 폴리이미드 필름과 금속박을 가열 및 가압에 의해 겹쳐 부착시키는 라미네이트(Laminate)법을 들 수 있다. As a method of manufacturing a flexible circuit board, a sputtering method, a cast method of imidizing after coating and applying polyamic acid, which is a precursor of polyimide, onto a metal foil, and forming a polyimide film by plating The metalizing method which directly installs a metal layer in the inside, and the lamination method which overlaps and attaches a polyimide film and metal foil by heating and pressurization are mentioned.

이 중, 라미네이트법은 대응할 수 있는 금속박의 두께 범위가 캐스트법보다도 넓고, 장치 비용이 메탈라이징법보다도 낮다는 점에서 우수하다. 라미네이트를 행하는 장치로는 롤(Role) 모양의 재료를 풀어내면서 연속적으로 라미네이트하는 열롤 라미네이트 장치 또는 더블 벨트 프레스(Double belt press) 장치 등이 사용되나, 생산성 측면에서 열롤 라미네이트법이 보다 바람직하게 이용될 수 있다. Among these, the lamination method is excellent in that the thickness range of the applicable metal foil is wider than the cast method, and the apparatus cost is lower than the metallizing method. As a laminating apparatus, a hot roll laminating apparatus or a double belt press apparatus for continuously laminating while releasing a roll-shaped material is used, but in terms of productivity, the hot roll laminating method is more preferably used. Can be.

그러나, 열롤 라미네이트법 이용 시, 열가소성 폴리이미드 필름의 낮은 슬립성으로 인해 금속롤과 열가소성 폴리이미드 필름 간의 마찰로 인한 스크래치(Scratch) 및 주름(Curl) 발생 가능성이 높아 이에 대한 개선책이 요구된다.
However, when the thermal roll lamination method is used, there is a high possibility of scratches and curls due to friction between the metal roll and the thermoplastic polyimide film due to the low slippage property of the thermoplastic polyimide film.

본 발명에 관련된 선행문헌으로는 대한민국 공개특허공보 제2008-0012527호(2008.02.12. 공개)가 있으며, 상기 문헌에는 그물망 그라운드 동박층을 갖는 연성회로기판이 개시되어 있다.
Prior art related to the present invention is Korean Patent Laid-Open Publication No. 2008-0012527 (published Feb. 12, 2008), which discloses a flexible circuit board having a mesh ground copper foil layer.

본 발명의 목적은 슬립성이 우수한 열가소성 폴리이미드 접착 필름을 제공하고, 이를 이용하여 내스크래치성 및 주름 방지성을 향상시킬 수 있는 적층판 및 이러한 적층판을 포함하는 연성회로기판을 제공하는 것이다.
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a thermoplastic polyimide adhesive film having excellent slip properties, and to provide a laminate that can improve scratch resistance and anti-wrinkle properties, and a flexible circuit board including the laminate.

상기 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 열가소성 폴리이미드 (Thermoplastic polyimide; TPI) 접착 필름은 열가소성 폴리이미드에 불활성 무기입자가 분산되어 있으며, 상기 불활성 무기입자는 상기 열가소성 폴리이미드 100중량부에 대하여, 0.01~10중량부로 포함되는 것을 특징으로 한다.Thermoplastic polyimide (TPI) adhesive film according to the present invention for achieving the above object is inert inorganic particles are dispersed in a thermoplastic polyimide, the inert inorganic particles are 0.01 to 100 parts by weight of the thermoplastic polyimide, It is characterized by being included in ˜10 parts by weight.

상기 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 적층판은 열경화성 폴리이미드 필름의 일면 또는 양면에 열가소성 폴리이미드 접착 필름이 형성된 접착 필름; 및 상기 열가소성 폴리이미드 접착 필름 상에 형성된 금속박;을 포함하고, 상기 열가소성 폴리이미드 접착 필름은 열가소성 폴리이미드 100중량부에 불활성 무기입자 0.01~10중량부가 분산되어 형성된 것을 특징으로 한다.Laminated according to the present invention for achieving the above object is an adhesive film formed with a thermoplastic polyimide adhesive film on one or both sides of the thermosetting polyimide film; And a metal foil formed on the thermoplastic polyimide adhesive film, wherein the thermoplastic polyimide adhesive film is formed by dispersing 0.01 to 10 parts by weight of inert inorganic particles in 100 parts by weight of the thermoplastic polyimide.

상기 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 적층판 제조 방법은 위로부터 금속박, 열경화성 폴리이미드 필름의 일면 또는 양면에 열가소성 폴리이미드 접착 필름이 적층되어 있는 접착 필름, 및 금속박이 적층되도록 챔버 외부에 한 장의 열경화성 폴리이미드 필름의 일면 또는 양면에 열가소성 폴리이미드 접착 필름이 적층되어 있는 접착 필름 및 두 장의 금속박을 배치시키는 단계; 및 열롤 라미네이트법으로 상기 열경화성 폴리이미드 필름의 일면 또는 양면에 열가소성 폴리이미드 접착 필름이 적층되어 있는 접착 필름 및 상기 금속박을 가열 및 압착하는 단계;를 포함하며, 상기 열가소성 폴리이미드 접착 필름은 열가소성 폴리이미드 100중량부에 대하여 불활성 무기입자 0.01~10중량부가 분산되어 있는 것을 특징으로 한다.Laminated sheet manufacturing method according to the present invention for achieving the above object is a sheet of thermosetting on the outside of the metal foil, the adhesive film is laminated with a thermoplastic polyimide adhesive film on one side or both sides of the thermosetting polyimide film, and the metal foil is laminated from above Disposing an adhesive film and two sheets of metal foil on which one side or both sides of the polyimide film are laminated a thermoplastic polyimide adhesive film; And heating and compressing the adhesive film having the thermoplastic polyimide adhesive film laminated on one or both sides of the thermosetting polyimide film and the metal foil by a thermal roll lamination method, wherein the thermoplastic polyimide adhesive film is a thermoplastic polyimide. 0.01 to 10 parts by weight of the inert inorganic particles are dispersed per 100 parts by weight.

상기 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 연성회로기판(FPCB)은 적어도 1층 이상의 상기 적층판을 포함하는 것을 특징으로 한다.
A flexible printed circuit board (FPCB) according to the present invention for achieving the above object is characterized in that it comprises at least one layer of the laminate.

본 발명은 열가소성 폴리이미드에 불활성 무기입자를 분산시켜 표면 조도를 향상킴으로써 슬립성이 우수한 열가소성 폴리이미드 접착 필름을 제공할 수 있다.The present invention can provide a thermoplastic polyimide adhesive film having excellent slip property by dispersing inert inorganic particles in thermoplastic polyimide to improve surface roughness.

또한, 본 발명은 슬립성이 우수한 열가소성 폴리이미드 접착 필름을 이용하여 공정 주행 시 금속롤과 열가소성 폴리이미드 접착 필름 간의 마찰을 감소시킴으로써, 스크래치 발생을 방지할 수 있고, 열경화성 폴리이미드 필름의 일면 또는 양면에 열가소성 폴리이미드 접착 필름이 적층되어 있는 접착 필름을 롤 상태로 권취할 때 발생할 수 있는 주름을 방지 할 수 있다.In addition, the present invention is to reduce the friction between the metal roll and the thermoplastic polyimide adhesive film during the process run by using a thermoplastic polyimide adhesive film excellent in slip properties, it is possible to prevent the occurrence of scratches, one or both sides of the thermosetting polyimide film It can prevent the wrinkles which may occur when winding up the adhesive film in which the thermoplastic polyimide adhesive film is laminated | stacked in the roll state.

또한, 본 발명은 내스크래치성 및 주름 방지성이 우수한 적층판을 포함하여 전기적 특성의 저하가 없는 연성회로기판을 제공할 수 있고, 이를 통해 각종 전자기기의 고기능화 및 장수화를 도모할 수 있다.
In addition, the present invention can provide a flexible circuit board without deterioration of electrical properties, including a laminated plate having excellent scratch resistance and anti-wrinkle resistance, and thereby can achieve high functionalization and long life of various electronic devices.

도 1은 본 발명의 실시예에 따른 열가소성 폴리이미드 접착 필름을 적용한 적층판을 도시한 단면도이다.
1 is a cross-sectional view showing a laminated plate to which a thermoplastic polyimide adhesive film according to an embodiment of the present invention is applied.

본 발명의 이점 및 특징, 그리고 그것들을 달성하는 방법은 상세하게 후술되어 있는 실시예 및 도면을 참조하면 명확해질 것이다. BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS The advantages and features of the present invention, and how to achieve them, will be apparent from the following detailed description of embodiments and drawings.

그러나, 본 발명은 이하에서 개시되는 실시예에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 구현될 수 있으며, 단지 본 실시예는 본 발명의 개시가 완전하도록 하며, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이며, 본 발명은 청구항의 범주에 의해 정의될 뿐이다.The present invention may, however, be embodied in many different forms and should not be construed as limited to the embodiments set forth herein. Rather, these embodiments are provided so that this disclosure will be thorough and complete, and will fully convey the scope of the invention to those skilled in the art. To fully disclose the scope of the invention to those skilled in the art, and the invention is only defined by the scope of the claims.

이하에서는, 본 발명에 따른 슬립성(Slip property)이 우수한 열가소성 폴리이미드(Thermoplastic polyimide; TPI) 접착 필름, 이를 이용한 적층판((Laminated plate) 및 이 적층판을 구비하는 연성회로기판(Flexible Printed Circuit Board; FPCB)에 대하여 상세히 설명한다.
Hereinafter, a thermoplastic polyimide (TPI) adhesive film having excellent slip properties according to the present invention, a laminated plate using the same, and a flexible printed circuit board including the laminated plate; FPCB) is explained in full detail.

본 발명에 따른 열가소성 폴리이미드(TPI) 접착 필름은 연성회로기판(FPCB)용 적층판 등에서 접착제로 사용될 수 있으며, 열가소성 폴리이미드에 첨가제로 불활성 무기입자를 포함하는 것을 특징으로 한다.The thermoplastic polyimide (TPI) adhesive film according to the present invention may be used as an adhesive in a laminate for a flexible printed circuit board (FPCB), and the like, and may include inert inorganic particles as an additive to the thermoplastic polyimide.

본 발명에서 불활성 무기입자는 제조되는 열가소성 폴리이미드 접착 필름의 슬립성 향상을 위하여 첨가된다. 불활성 무기입자가 첨가될 경우, 제조되는 열가소성 폴리이미드 접착 필름의 중심선 평균 조도(Arithmetical Average Roughness; Ra)가 증가되어 슬립성이 향상되는 효과가 있다.Inert inorganic particles in the present invention is added to improve the slip properties of the thermoplastic polyimide adhesive film produced. When the inert inorganic particles are added, the centerline average roughness (Ra) of the thermoplastic polyimide adhesive film to be manufactured is increased, thereby improving slip performance.

이러한 불활성 무기입자는 열가소성 폴리이미드 100중량부에 대하여, 0.01~10중량부로 분산되는 것이 바람직하다. 이때, 불활성 무기입자의 함량이 0.01중량부 미만일 경우, 그 첨가 효과가 불충분할 수 있다. 반면에, 불활성 무기입자의 함량이 10중량부를 초과하는 경우, 열가소성 폴리이미드 접착 필름의 유연성이 저하될 수 있다.Such inert inorganic particles are preferably dispersed at 0.01 to 10 parts by weight based on 100 parts by weight of the thermoplastic polyimide. At this time, when the content of the inert inorganic particles is less than 0.01 parts by weight, the addition effect may be insufficient. On the other hand, when the content of the inert inorganic particles exceeds 10 parts by weight, the flexibility of the thermoplastic polyimide adhesive film may be lowered.

또한, 불활성 무기입자의 평균 입경은 50~1000nm, 바람직하게는 100~500nm 범위일 수 있다. 불활성 무기입자의 평균 입경이 50nm 미만일 경우, 중심선 평균 조도(Ra) 향상에 의한 슬립성과 같은 개질 효과의 발현이 충분치 않을 수 있다. 반면에, 불활성 무기입자의 평균 입경이 1000nm를 초과하는 경우, 열가소성 폴리이미드 접착 필름에 과도한 조도를 형성하여 동박과 같은 금속박과의 적층시 찍힘과 같은 문제를 일으킬 수 있다. In addition, the average particle diameter of the inert inorganic particles may be in the range of 50 to 1000 nm, preferably 100 to 500 nm. When the average particle diameter of the inert inorganic particles is less than 50 nm, expression of a modifying effect such as slippage due to improvement in center line average roughness Ra may not be sufficient. On the other hand, when the average particle diameter of the inert inorganic particles exceeds 1000 nm, excessive roughness may be formed in the thermoplastic polyimide adhesive film, which may cause problems such as imprinting when laminated with a metal foil such as copper foil.

일례로, 불활성 무기입자로는 실리카(Silica, SiO2)가 사용될 수 있으며, 실리카의 형상은 특별한 제한이 없으나, 예컨대 구 형상, 침상 형상, 큐빅 형상, 비늘조각 형상 등의 실리카가 이용될 수 있다. 열가소성 폴리이미드 접착 필름의 표면성을 고려하여 구 형상의 실리카를 이용하는 것이 바람직하다.For example, silica (Silica, SiO 2 ) may be used as the inert inorganic particles, and the shape of the silica is not particularly limited, and for example, a silica such as a spherical shape, a needle shape, a cubic shape, and a scaly shape may be used. . It is preferable to use spherical silica in consideration of the surface property of the thermoplastic polyimide adhesive film.

본 발명에 사용되는 열가소성 폴리이미드는 폴리아믹산(Polyamic Acid)을 전구체로 이용하여 제조될 수 있다. The thermoplastic polyimide used in the present invention may be prepared using polyamic acid as a precursor.

상기 열가소성 폴리이미드는 용융가공성이 매우 우수하고, 230℃까지의 공정에서 사용할 수 있을 정도로 열과 화학물질에 대한 높은 안정성과 마찰 저항성, 낮은 열팽창율 등의 우수한 기계적 특성을 갖는다.The thermoplastic polyimide has excellent melt processability and high mechanical properties such as high stability and frictional resistance to heat and chemicals, low thermal expansion rate, and the like, so that the thermoplastic polyimide can be used in processes up to 230 ° C.

열가소성 폴리이미드의 종류는 특별한 제한 없이 공지된 물질을 이용할 수 있으며, 일례로, 열가소성 폴리이미드는 열가소성 폴리아미드 이미드(polyamide imide), 열가소성 폴리에테르 이미드(poly ether imide) 및 열가소성 폴리에스테르 이미드(polyester imide) 중에서 1종 이상을 포함할 수 있다. The kind of the thermoplastic polyimide may use a known material without particular limitation, and for example, the thermoplastic polyimide may be a thermoplastic polyamide imide, a thermoplastic polyether imide, and a thermoplastic polyester imide. (polyester imide) may include one or more.

또한, 기존의 라미네이트(laminate)가 가능하고, 제조되는 적층판의 내열성을 손상시키지 않게 하기 위하여, 본 발명에 있어서 열가소성 폴리이미드는 150~300℃ 범위의 유리전이 온도(Tg)를 갖는 것이 바람직하다. In addition, in order to enable the existing laminate (laminate), and not impair the heat resistance of the laminate to be produced, in the present invention, the thermoplastic polyimide preferably has a glass transition temperature (Tg) in the range of 150 ~ 300 ℃.

본 발명에 사용되는 열가소성 폴리이미드 접착 필름의 전구체인 폴리아믹산(Polyamic Acid)에 관해서는 특별히 한정되는 것은 아니고, 모든 폴리아믹산을 이용할 수 있다. 폴리아믹산 용액으로부터 폴리이미드 필름을 제조하는 방법에 관해서는 통상의 공지된 방법을 이용할 수 있다. 이 방법에는 열 이미드화법과 화학 이미드화법을 들 수 있다.The polyamic acid, which is a precursor of the thermoplastic polyimide adhesive film used in the present invention, is not particularly limited, and any polyamic acid can be used. As a method for producing a polyimide film from a polyamic acid solution, a conventional known method can be used. This method includes a thermal imidation method and a chemical imidization method.

일례로, 본 발명에서는 열가소성 폴리이미드의 전구체인 폴리아믹산 용액으로 디아민(diamine) 화합물 및 디안하이드라이드(dianhydride) 화합물로 이루어진 고형분을 유기용매에 첨가하여 제조된 것을 이용할 수 있다.For example, in the present invention, a polyamic acid solution that is a precursor of the thermoplastic polyimide may be prepared by adding a solid component consisting of a diamine compound and a dianhydride compound to an organic solvent.

상기 디아민 화합물은, 예컨대, 4,4'-옥시디아닐린(4,4'- oxydianiline; ODA), 1,3-비스(4-아미노페녹실)벤젠(1,3'-Bis(4-aminophenoxyl)Benzene; TPE-R), 2,2-비스(4-(4-아미노페녹시)-페닐)프로판(2,2-Bis(4-(4-aminophenoxy)-phenyl)propane; BAPP) 등이 제시될 수 있으며, 이들 중 1종 이상을 포함할 수 있다.The diamine compound may be, for example, 4,4'-oxydianiline (ODA), 1,3-bis (4-aminophenoxyl) benzene (1,3'-Bis (4-aminophenoxyl ) Benzene; TPE-R), 2,2-bis (4- (4-aminophenoxy) -phenyl) propane (2,2-Bis (4- (4-aminophenoxy) -phenyl) propane; BAPP) It may be presented, and may include one or more of these.

상기 디안하이드라이드 화합물은, 예컨대, 피로멜리틱 디안하이드라이드(pyromellitic dianhydride; PMDA), 3,3',4,4'-바이페닐 테트라카르복실릭 디안하이드라이드(3,3'4,4'-Biphenyl tetracarboxylic dianhydride; BPDA), 4,4'-옥시다이프탈릭 안하이드라이드(4,4'-oxydiphtahlic anhydride; ODPA), 3,3',4,4'-벤조페논테트라카복실릭 디안하이드라이드(3,3',4,4'-benzophenonecarboxylic dianhydride; BTDA) 등이 제시될 수 있으며, 이들 중 1종 이상을 포함할 수 있다.The dianhydride compound may be, for example, pyromellitic dianhydride (PMDA), 3,3 ', 4,4'-biphenyl tetracarboxylic dianhydride (3,3'4,4' -Biphenyl tetracarboxylic dianhydride; BPDA), 4,4'-oxydiphtahlic anhydride (ODPA), 3,3 ', 4,4'-benzophenonetetracarboxylic dianhydride (3,3 ', 4,4'-benzophenonecarboxylic dianhydride; BTDA) and the like, and may include one or more of them.

상기 유기 용매는 N-메틸-2-피롤리돈(N-methyl-2-pyrrolidone; NMP), N,N-디메틸 아세트아미드(N,N-Dimethyl-acetamide; DMAc), N,N-디메틸포름아미드(N,N-dimethylformamide; DMF), 디메틸 설폭사이드(Dimethyl Sulfoxide; DMSO) 등을 이용할 수 있으며, 이들 중 1종 이상을 포함할 수 있다.The organic solvent is N-methyl-2-pyrrolidone (NMP), N, N-dimethyl acetamide (N, N-Dimethyl-acetamide; DMAc), N, N-dimethylform Amide (N, N-dimethylformamide; DMF), dimethyl sulfoxide (DMSO) and the like can be used, and may include one or more of them.

한편, 본 발명에 따른 열가소성 폴리이미드 접착 필름의 두께는 특별한 제한이 없으나, 제조하고자 하는 적층판의 두께를 고려하여 대략 1~10㎛ 범위를 갖을 수 있다.On the other hand, the thickness of the thermoplastic polyimide adhesive film according to the present invention is not particularly limited, but may have a range of about 1 ~ 10㎛ in consideration of the thickness of the laminate to be manufactured.

본 발명에 따른 열가소성 폴리이미드 접착 필름은 열가소성 폴리이미드에 실리카와 같은 불활성 무기입자를 분산시키는 것에 의해 중심선 평균 조도(Ra) 100nm 이하 및 0.1~0.5 범위의 낮은 마찰계수를 갖는다. 따라서, 본 발명에 따른 열가소성 폴리이미드 접착 필름은 우수한 슬립성을 갖을 수 있다.
The thermoplastic polyimide adhesive film according to the present invention has a low coefficient of friction of less than or equal to a centerline average roughness (Ra) of 100 nm and a range of 0.1 to 0.5 by dispersing inert inorganic particles such as silica in the thermoplastic polyimide. Therefore, the thermoplastic polyimide adhesive film according to the present invention may have excellent slipability.

또한, 본 발명은 전술한 열가소성 폴리이미드 접착 필름을 이용한 적층판, 바람직하게는 연성 금속박 적층판, 더욱 바람직하게는 연성 동박 적층판(Flexible Copper Clad Laminate; FCCL)을 제공할 수 있다.
In addition, the present invention can provide a laminate using the aforementioned thermoplastic polyimide adhesive film, preferably a flexible metal foil laminate, and more preferably a flexible copper clad laminate (FCCL).

도 1은 본 발명의 실시예에 따른 열가소성 폴리이미드 접착 필름을 적용한 적층판을 도시한 단면도이다.1 is a cross-sectional view showing a laminated plate to which a thermoplastic polyimide adhesive film according to an embodiment of the present invention is applied.

도 1에 도시된 바와 같이, 본 발명의 실시예에 따른 적층판은 열경화성 폴리이미드 필름(110)의 양면에 열가소성 폴리이미드 접착 필름(120)이 형성된 접착 필름(125) 및 열가소성 폴리이미드 접착 필름(120) 상에 형성된 금속박(130)을 포함할 수 있다. 한편, 열가소성 폴리이미드 접착 필름(120)은 도 1과는 달리 열경화성 폴리이미드 필름(110)의 일면에만 형성될 수도 있음은 물론이다. As shown in FIG. 1, the laminate according to an embodiment of the present invention includes an adhesive film 125 and a thermoplastic polyimide adhesive film 120 having a thermoplastic polyimide adhesive film 120 formed on both sides of a thermosetting polyimide film 110. It may include a metal foil 130 formed on). Meanwhile, the thermoplastic polyimide adhesive film 120 may be formed only on one surface of the thermosetting polyimide film 110, unlike FIG. 1.

이때, 열가소성 폴리이미드 접착 필름(120)은 전술한 바와 동일하므로 이에 대한 중복된 설명은 생략하고, 이를 제외한 나머지 구성에 대해서만 설명하기로 한다.In this case, since the thermoplastic polyimide adhesive film 120 is the same as described above, a duplicate description thereof will be omitted, and only the remaining components except for this will be described.

본 발명에서 열가소성 폴리이미드 접착 필름(120) 사이에 개재되는 기재로서의 열경화성 폴리이미드 필름(110)의 재질은 특별한 제한 없이 공지된 물질을 이용할 수 있다. In the present invention, the material of the thermosetting polyimide film 110 as a substrate interposed between the thermoplastic polyimide adhesive films 120 may use a known material without particular limitation.

이러한 열경화성 폴리이미드 필름(110)의 두께는 특별한 제한이 없으나, 제조하고자 하는 적층판의 두께를 고려하여 대략 5~50㎛ 범위를 갖을 수 있다.The thickness of the thermosetting polyimide film 110 is not particularly limited, but may have a range of about 5 ~ 50㎛ in consideration of the thickness of the laminate to be manufactured.

이 경우, 열경화성 폴리이미드 필름(110)과 열가소성 폴리이미드 접착 필름(120)은 적층판의 원판을 구성한다.In this case, the thermosetting polyimide film 110 and the thermoplastic polyimide adhesive film 120 constitute an original plate of the laminate.

금속박(130)은 도전성 및 연성을 띠는 금속이기만 하면 특별히 제한되지 않는다. 일례로, 금속박(130)은 구리(Cu), 주석(Sn), 금(Au) 및 은(Ag) 중 어느 하나로 형성될 수 있으며, 바람직하게는 구리(Cu)로 형성될 수 있다. 만약, 금속박(130)이 동박(Copper film)인 경우, 압연 동박 또는 전해 동박일 수 있다.The metal foil 130 is not particularly limited as long as it is a metal having conductivity and ductility. For example, the metal foil 130 may be formed of any one of copper (Cu), tin (Sn), gold (Au), and silver (Ag), and preferably may be formed of copper (Cu). If the metal foil 130 is a copper film, it may be a rolled copper foil or an electrolytic copper foil.

금속박(130)의 두께는 특별한 제한이 없으나, 약 5 내지 40㎛ 범위이고, 바람직하게는 약 9 내지 35㎛ 범위를 갖을 수 있다. 이때, 금속박(130)의 두께가 5㎛ 미만일 경우, 도전성이 불충분할 수 있다. 반면에, 금속박(130)의 두께가 40㎛를 초과하는 경우, 제조되는 적층판에 연성을 부여하기 어려울 수 있다.
The thickness of the metal foil 130 is not particularly limited, but may be in the range of about 5 to 40 μm, preferably about 9 to 35 μm. At this time, when the thickness of the metal foil 130 is less than 5㎛, the conductivity may be insufficient. On the other hand, when the thickness of the metal foil 130 exceeds 40㎛, it may be difficult to impart ductility to the laminate to be manufactured.

본 발명에 따라 전술한 적층판을 제조하는 방법은 하기와 같은데, 이에 제한되지는 않는다. According to the present invention, a method of manufacturing the above-described laminate is as follows, but is not limited thereto.

상기 적층판 제조방법의 바람직한 실시형태를 들면, 위로부터 금속박, 열경화성 폴리이미드 필름의 일면 또는 양면에 열가소성 폴리이미드 접착 필름이 적층되어 있는 접착 필름, 및 금속박이 적층되도록 챔버 외부에 한 장의 열경화성 폴리이미드 필름의 일면 또는 양면에 열가소성 폴리이미드 접착 필름이 적층되어 있는 접착 필름 및 두 장의 금속박을 배치시키는 단계; 및 열롤 라미네이트법으로 상기 열경화성 폴리이미드 필름의 일면 또는 양면에 열가소성 폴리이미드 접착 필름이 적층되어 있는 접착 필름 및 상기 금속박을 가열 및 압착하는 단계;를 포함하며, 상기 열가소성 폴리이미드 접착 필름은 열가소성 폴리이미드 100중량부에 대하여 불활성 무기입자 0.01~10중량부가 분산되어 있는 것을 특징으로 한다.For a preferred embodiment of the laminated plate manufacturing method, a sheet of thermosetting polyimide film outside the chamber such that the metal foil, the adhesive film in which the thermoplastic polyimide adhesive film is laminated on one or both sides of the thermosetting polyimide film, and the metal foil are laminated from above. Disposing an adhesive film and two metal foils on which one side or both sides of the thermoplastic polyimide adhesive film are laminated; And heating and compressing the adhesive film having the thermoplastic polyimide adhesive film laminated on one or both sides of the thermosetting polyimide film and the metal foil by a thermal roll lamination method, wherein the thermoplastic polyimide adhesive film is a thermoplastic polyimide. 0.01 to 10 parts by weight of the inert inorganic particles are dispersed per 100 parts by weight.

상기 열롤 라미네이트 공정은 300~400℃의 온도에서 롤 투 롤(Roll to Roll) 공정으로 실시될 수 있다. 이때, 금속박의 장력은 50~1000N/m으로 조절하고, 접착 필름의 장력은 0.1~100N/m로 조절할 수 있다. 또한, 금속박의 입사 각도는 10~80°로 조절할 수 있다. The hot roll lamination process may be carried out in a roll to roll process at a temperature of 300 ~ 400 ℃. At this time, the tension of the metal foil can be adjusted to 50 ~ 1000N / m, the tension of the adhesive film can be adjusted to 0.1 ~ 100N / m. In addition, the incident angle of a metal foil can be adjusted to 10-80 degrees.

이러한 장력 및 입사 각도 등의 조절을 통하여 적층판에서의 주름(Curl) 발생을 방지하고, 치수 안정성을 향상시킬 수 있다. 그러나, 장력이 상기한 범위 미만일 경우, 권취가 어렵고, 외관이 양호한 적층판을 얻는 것이 곤란할 수 있다. 반면에, 상기한 범위를 초과하는 경우 치수 안정성이 저하될 수 있다.Through the adjustment of the tension and the angle of incidence, it is possible to prevent the generation of wrinkles in the laminate and to improve the dimensional stability. However, when the tension is less than the above-mentioned range, winding may be difficult, and it may be difficult to obtain a laminate having a good appearance. On the other hand, if the above range is exceeded, the dimensional stability may be lowered.

열롤 라미네이트 시, 각각의 권취용 롤에 권취되어 있는 금속박, 열가소성 폴리이미드 접착 필름이 가열된 후 한 쌍의 압착 롤 사이를 통과하면서 도 1에 도시된 구조의 적층판을 형성하게 된다.At the time of hot roll lamination, the metal foil and the thermoplastic polyimide adhesive film wound on each winding roll are heated to form a laminated plate having the structure shown in FIG. 1 while passing between a pair of pressing rolls.

이 과정에서, 중심선 평균 조도(Ra) 향상에 따른 슬립성이 우수한 열가소성 폴리이미드 접착 필름으로 인해 압착 롤과 열가소성 폴리이미드 접착 필름 간에 낮은 마찰력을 갖기 때문에 스크래치 및 주름 발생 없이 적층판을 용이하게 형성할 수 있다.
In this process, since the thermoplastic polyimide adhesive film having excellent slip properties due to the improvement of the centerline average roughness (Ra) has a low friction force between the crimping roll and the thermoplastic polyimide adhesive film, the laminate can be easily formed without scratches and wrinkles. have.

나아가, 본 발명은 전술한 적층판을 포함하는 연성회로기판(FPCB)을 제공한다. 상기 연성회로기판은 전술한 적층판에 에칭(Etching) 등을 통해 회로를 만들어 완성되며, 일례로, 전술한 적층판을 적어도 1층 이상 포함하는 다층 연성회로기판일 수 있다. Furthermore, the present invention provides a flexible printed circuit board (FPCB) comprising the above-described laminate. The flexible circuit board is completed by forming a circuit through etching or the like in the above-described laminate, for example, may be a multi-layer flexible circuit board including at least one layer of the above-described laminate.

이러한 연성회로기판은 상기 적층판 중 슬립성이 우수한 열가소성 폴리이미드 접착 필름에 기인하는 내스크래치성 및 주름 방지성 향상을 통하여 전기적 특성의 저하가 없기 때문에, 각종 전자기기 등의 고기능화 및 장수화를 도모할 수 있다.
Since the flexible circuit board has no deterioration in electrical characteristics through improvement of scratch resistance and anti-wrinkle properties due to the thermoplastic polyimide adhesive film having excellent slip property among the laminated boards, it is possible to achieve high functionality and long life of various electronic devices. Can be.

실시예Example

이하, 본 발명의 바람직한 실시예를 통해 본 발명의 구성 및 작용을 더욱 상세히 설명하기로 한다. 다만, 이는 본 발명의 바람직한 예시로 제시된 것이며 어떠한 의미로도 이에 의해 본 발명이 제한되는 것으로 해석될 수는 없다.Hereinafter, the configuration and operation of the present invention through the preferred embodiment of the present invention will be described in more detail. It is to be understood, however, that the same is by way of illustration and example only and is not to be construed in a limiting sense.

여기에 기재되지 않은 내용은 이 기술 분야에서 숙련된 자이면 충분히 기술적으로 유추할 수 있는 것이므로 그 설명을 생략하기로 한다.
Details that are not described herein will be omitted since those skilled in the art can sufficiently infer technically.

1. 열가소성 폴리이미드 접착 필름 제조1. Manufacture of thermoplastic polyimide adhesive film

하기 표 1에 기재된 조건으로 실시예 1~3 및 비교예 1에 따른 두께 열가소성 폴리이미드 접착 필름 시편을 제조하였다.Thickness thermoplastic polyimide adhesive film specimens according to Examples 1 to 3 and Comparative Example 1 were prepared under the conditions shown in Table 1 below.

이때, 열가소성 폴리이미드 접착 필름은 ODA 70중량%, TPE-R 20중량%, BAPP 10중량%의 디아민 화합물 및 PMDA 20중량%, BPDA 80중량%의 디안하이드라이드 화합물을 N-메틸-2-피롤리돈(NMP) 용매에서 중합하여 합성된 폴리아믹산을 열경화성 폴리이미드 필름의 양면에 도포한 후 건조하였다. 그리고 300℃에서 열이미드화법에 의해 제조되었다.
At this time, the thermoplastic polyimide adhesive film is N-methyl-2-pi 70% by weight ODA, 20% by weight TPE-R, 10% by weight BAPP diamine compound and 20% by weight PMDA, 80% by weight dianhydride compound The polyamic acid synthesized by polymerization in a rollidone (NMP) solvent was applied to both sides of the thermosetting polyimide film and dried. And it manufactured by the thermal imidation method at 300 degreeC.

2. 물성 평가2. Property evaluation

(1) 슬립성(1) slip

열가소성 폴리이미드 접착 필름의 상면과 하면의 슬립성을 HEIDON사 STATIC FRICTION TESTER 측정장비를 이용하여 열가소성 폴리이미드 접착 필름이 미끄러지기 시작하는 각도를 측정하였다.
The slipperiness of the upper and lower surfaces of the thermoplastic polyimide adhesive film was measured using a HEIDON STATIC FRICTION TESTER measuring device to measure the angle at which the thermoplastic polyimide adhesive film began to slip.

(2) 마찰계수(2) coefficient of friction

열가소성 폴리이미드 접착 필름의 상면과 하면의 마찰계수를 HEIDON사 STATIC FRICTION TESTER 측정 장비로 열가소성 폴리이미드 접착 필름이 미끄러지기 시작할 때의 마찰계수를 측정하였다.
The coefficients of friction of the upper and lower surfaces of the thermoplastic polyimide adhesive film were measured using a HEIDON STATIC FRICTION TESTER measuring device, and the coefficient of friction when the thermoplastic polyimide adhesive film began to slip.

(3) 표면조도(3) surface roughness

열가소성 폴리이미드 접착 필름의 표면을 일본 KOSAKA사 3차원 표면조도 측정기를 이용하여 중심선 평균 조도(Ra)를 측정하였다.
The centerline average roughness (Ra) of the surface of the thermoplastic polyimide adhesive film was measured using the 3-dimensional surface roughness measuring instrument of KOSAKA, Japan.

상기 실시예1~3 및 비교예1에 따른 물성결과는 표1에 나타내었다.Physical properties according to Examples 1 to 3 and Comparative Example 1 are shown in Table 1.

[표 1][Table 1]

Figure 112013026680886-pat00001
Figure 112013026680886-pat00001

표 1을 참조하면, 본 발명의 실시예 1~3 모두는 연성 동박 적층판으로서 요구되는 기본 물성, 예컨대 슬립성, 마찰계수 및 표면조도 특성 면에서 모두 우수한 물성을 나타내었다.Referring to Table 1, all of Examples 1 to 3 of the present invention exhibited excellent physical properties in terms of basic physical properties, such as slip properties, coefficient of friction and surface roughness properties required as a flexible copper foil laminate.

반면, 실리카를 첨가하지 않은 비교예 1은 슬립성, 마찰계수 및 표면조도 특성 면에서 매우 저조한 물성을 나타내었다.On the other hand, Comparative Example 1 without addition of silica showed very poor physical properties in terms of slip properties, coefficient of friction and surface roughness.

또한, 슬립성, 마찰계수 및 중심선 평균 조도(Ra)는 실리카의 첨가량과 실리카의 평균 입경에 비례하여 향상되는 것을 알 수 있었다.In addition, it was found that the slip properties, the coefficient of friction and the centerline average roughness Ra were improved in proportion to the addition amount of silica and the average particle diameter of silica.

이상 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예들을 설명하였으나, 본 발명은 상기 실시예들에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 변형될 수 있으며, 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자는 본 발명의 기술적 사상이나 필수적인 특징을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 실시될 수 있다는 것을 이해할 수 있을 것이다. 그러므로 이상에서 기술한 실시예들은 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적이 아닌 것으로 이해해야만 한다.
While the present invention has been described in connection with what is presently considered to be practical exemplary embodiments, it is to be understood that the invention is not limited to the disclosed embodiments, but, on the contrary, It will be understood by those skilled in the art that the present invention may be embodied in other specific forms without departing from the spirit or essential characteristics thereof. It is therefore to be understood that the above-described embodiments are illustrative in all aspects and not restrictive.

110 : 열경화성 폴리이미드 필름
120 : 열가소성 폴리이미드 접착 필름
125 : 접착 필름
130 : 금속박
110: thermosetting polyimide film
120: thermoplastic polyimide adhesive film
125: adhesive film
130: metal foil

Claims (12)

삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 위로부터 금속박과, 열경화성 폴리이미드 필름의 일면 또는 양면에 열가소성 폴리이미드 접착 필름이 적층되어 있는 접착 필름과, 금속박이 적층되도록, 챔버 외부에 1장의 접착 필름 및 2장의 금속박을 배치시키는 단계; 및
열롤 라미네이트법으로 상기 금속박과, 접착 필름과, 금속박을 가열 및 압착하는 단계;를 포함하며,
상기 열가소성 폴리이미드 접착 필름은 열가소성 폴리이미드 100중량부에 대하여, 100~500nm의 평균 입경을 갖는 불활성 무기입자 0.01~10중량부가 분산되어, 중심선 평균 조도(Ra) 21nm 이상 내지 100nm 이하를 가지며, 마찰계수가 0.1~0.5이며,
상기 열롤 라미네이트법은 300~400℃의 온도에서 실시되며, 상기 금속박의 장력은 50~1000N/m으로 조절되고, 상기 접착 필름의 장력은 0.1~100N/m로 조절되며, 롤에 대한 상기 금속박의 입사 각도가 10~80°로 조절되는 롤 투 롤(Roll to Roll) 공정으로 수행되는 것을 특징으로 하는 적층판 제조 방법.
Disposing a metal foil, an adhesive film having a thermoplastic polyimide adhesive film laminated on one or both sides of a thermosetting polyimide film, and one adhesive film and two metal foils outside the chamber so that the metal foil is laminated; And
And heating and compressing the metal foil, the adhesive film, and the metal foil by a hot roll lamination method.
The thermoplastic polyimide adhesive film is dispersed in 0.01 to 10 parts by weight of inert inorganic particles having an average particle diameter of 100 to 500 nm with respect to 100 parts by weight of thermoplastic polyimide, and has a centerline average roughness (Ra) of 21 nm or more and 100 nm or less, and friction Coefficient is 0.1-0.5,
The hot roll laminating method is carried out at a temperature of 300 ~ 400 ℃, the tension of the metal foil is adjusted to 50 ~ 1000N / m, the tension of the adhesive film is adjusted to 0.1 ~ 100N / m, the of the metal foil to the roll Laminated sheet manufacturing method characterized in that carried out by a roll to roll process in which the incident angle is adjusted to 10 ~ 80 °.
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