KR101284958B1 - A multi-layer plastic substrate having good dimensional stability and gas barrier properties and method for preparing the same - Google Patents
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Abstract
본 발명은 표면 코팅층의 성능을 획기적으로 개선하여 우수한 표면경도를 갖는 다층구조의 플라스틱 기판 및 그 제조방법에 관한 것이다.The present invention relates to a plastic substrate having a multi-layered structure having an excellent surface hardness by dramatically improving the performance of the surface coating layer and a method of manufacturing the same.
본 발명의 다층구조의 플라스틱 기판은 작은 선팽창계수, 치수안정성, 가스 배리어성 및 표면경도 등의 특성을 동시에 만족시키기 때문에 표시장치용 또는 태양전지용 플라스틱 기판으로 사용될 수 있으며, 우수한 가스 배리어성과 표면경도가 요구되는 포장재와 용기의 재질로서도 유용하게 사용될 수 있다.Since the plastic substrate of the multi-layered structure of the present invention simultaneously satisfies the characteristics of small linear expansion coefficient, dimensional stability, gas barrier property and surface hardness, it can be used as a plastic substrate for display devices or solar cells, and has excellent gas barrier property and surface hardness. It can also be usefully used as the material of the packaging material and the container required.
다층구조, 무기 하드코팅층, 플라스틱 기판 Multi-layer structure, inorganic hard coating layer, plastic substrate
Description
본 발명은 다층구조의 플라스틱 기판 및 그 제조방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 작은 선팽창 계수, 치수안정성, 가스 배리어성 및 표면경도 등의 특성을 동시에 만족하는 다층구조의 플라스틱 기판 및 그 제조방법에 관한 것이다.The present invention relates to a multi-layered plastic substrate and a method for manufacturing the same, and more particularly, to a multi-layered plastic substrate and a method for manufacturing the same, which satisfies characteristics such as small coefficient of linear expansion, dimensional stability, gas barrier property and surface hardness. It is about.
표시장치, 액자, 공예 및 용기 등에 사용되는 유리 기판은 작은 선팽창계수, 우수한 가스 배리어성, 높은 광투과도, 표면 평탄도, 뛰어난 내열성과 내화학성 등의 여러 장점을 가지고 있으나, 충격에 약하여 잘 깨지고 밀도가 높아서 무거운 단점이 있다.Glass substrates used in displays, frames, crafts and containers have many advantages such as small coefficient of linear expansion, excellent gas barrier properties, high light transmittance, surface flatness, excellent heat resistance and chemical resistance, but they are fragile and impact-resistant. There is a heavy disadvantage due to the high.
최근 액정이나 유기 발광 표시장치, 전자종이에 대한 관심이 급증하면서 이들 표시장치의 기판을 유리에서 플라스틱으로 대체하는 연구가 활발히 진행되고 있다. 즉, 플라스틱 기판으로 유리 기판을 대체하면 표시장치의 전체 무게가 가벼워지고 디자인의 유연성을 부여할 수 있으며, 충격에 강하며 연속 공정으로 제조할 경우 유리 기판에 비해 경제성을 가질 수 있다.Recently, as interest in liquid crystals, organic light emitting diode displays, and electronic papers is rapidly increasing, studies are being actively conducted to replace the substrates of these display devices from glass to plastic. In other words, replacing the glass substrate with a plastic substrate may reduce the overall weight of the display device and provide design flexibility, and may be economical compared to the glass substrate when manufactured in a continuous process against impact.
한편, 표시장치의 기판으로 사용되기 위한 플라스틱 필름은 트랜지스터 소자의 공정 온도, 투명 전극의 증착 온도를 견딜 수 있는 높은 유리전이 온도, 액정과 유기 발광 재료의 노화를 방지하기 위한 산소와 수증기 차단 특성, 공정 온도 변화에 따른 기판의 뒤틀림 방지를 위한 작은 선팽창계수와 치수 안정성, 기존의 유리 기판에 사용되는 공정 기기와 호환성을 가지는 높은 기계적 강도, 에칭 공정에 견딜 수 있는 내화학성, 높은 광투과도 및 적은 복굴절율, 표면의 내스크레치성 등의 특성이 요구된다.On the other hand, the plastic film for use as a substrate of the display device has a process temperature of the transistor element, a high glass transition temperature that can withstand the deposition temperature of the transparent electrode, oxygen and water vapor barrier properties to prevent aging of the liquid crystal and organic light emitting material, Small coefficient of linear expansion and dimensional stability to prevent substrate warpage due to process temperature changes, high mechanical strength compatible with process equipment used in conventional glass substrates, chemical resistance to etch process, high light transmittance and low wear Characteristics such as refractive index and scratch resistance of the surface are required.
그러나, 이러한 조건들을 모두 만족하는 고기능성 고분자 기재 필름 (고분자 필름과 고분자-무기물 복합 필름 포함)은 존재하지 않으므로 고분자 기재 필름에 여러 기능성 층을 코팅하여 상기 물성을 만족시키려는 노력이 행해지고 있다. 대표적인 기능성 층의 예로서는 고분자 표면의 결함을 줄이고 평탄성을 부여하는 유기 평탄화층, 산소와 수증기 등의 가스 차단을 위한 무기물로 이루어진 가스 배리어층, 표면의 내스크레치성 부여를 위한 하드 코팅층 등을 들 수 있다. 종래의 많은 다층 플라스틱 기판의 경우 고분자 기재에 무기물 가스 배리어층을 코팅하고 가스 배리어층 위에 하드코팅층을 코팅하는 과정을 거치는데, 이러한 다층구조로 제조할 때의 문제점은 고분자 기재와 가스 배리어층 사이의 큰선팽창 계수 차이에 따른 고분자 기재의 변형과 무기 박막의 크랙 및 박리가 발생할 수 있다. 따라서 각층의 계면에서의 응력을 최소화할 수 있는 적절한 다층구조의 설계와 코팅 층간의 접착성이 매우 중요하다고 할 수 있다.However, since there is no high functional polymer base film (including a polymer film and a polymer-inorganic composite film) satisfying all of these conditions, efforts have been made to satisfy the above properties by coating various functional layers on the polymer base film. Examples of the typical functional layer include an organic planarization layer that reduces defects on the surface of the polymer and gives flatness, a gas barrier layer made of an inorganic material for blocking gases such as oxygen and water vapor, a hard coating layer for imparting scratch resistance to the surface, and the like. . Many conventional multilayer plastic substrates have a process of coating an inorganic gas barrier layer on a polymer substrate and a hard coating layer on the gas barrier layer. A problem in manufacturing the multilayer structure is that the polymer substrate and the gas barrier layer Deformation of the polymer substrate and cracking and peeling of the inorganic thin film may occur due to a large difference in coefficient of expansion. Therefore, it can be said that the adhesion between the coating layer and the design of an appropriate multilayer structure that can minimize the stress at the interface of each layer is very important.
미국의 바이텍스(Vitex Systems)사는 고분자 기재 필름에 단량체 박막을 형 성하고, 여기에 자외선(UV)을 조사하여 중합반응으로 고분자화(고체화한 유기층)하고, 그 위에 스퍼터링 방법으로 무기박막을 성막하는 과정을 반복하여 여러층의 유기-무기층을 제조하였고, 우수한 가스 차단성을 가진 유연한 기판을 제조하였다. 그러나, 비록 상기 방법으로 우수한 가스차단성을 가진 제품을 얻을 수는 있지만, 낮은 선팽창 계수가 요구되는 디스플레이의 용도로써는 적합하지 않으며, 이에 대한 해결책에 대해서도 방안을 제시하지 못하고 있다.Vitex Systems Co., Ltd. forms a monomer thin film on a polymer substrate film, polymerizes (solidifies an organic layer) by polymerization by irradiating ultraviolet (UV) light, and forms an inorganic thin film thereon by a sputtering method thereon. The process was repeated to prepare a plurality of organic-inorganic layers, to prepare a flexible substrate having excellent gas barrier properties. However, although a product having excellent gas barrier properties can be obtained by the above method, it is not suitable for the use of a display requiring a low linear expansion coefficient, and no solution has been proposed.
또한, 미국특허 제6,465,953호에서는 산소와 수증기에 민감한 유기 발광 기기에 플라스틱 기판을 사용하기 위해, 유입되는 산소 및 수증기와 반응할 수 있는 게터 입자들을 플라스틱 기판에 분산시키는 방법을 제시하였다. 상기 게터 입자들의 크기는 발광되는 특성 파장의 크기보다 충분히 작고 분산이 골고루 되어 발광되는 빛이 산란되지 않고 기판을 투과할 수 있어야 한다. 또한 상기 방법은 플라스틱 기판에 무기물로 이루어진 가스 배리어막을 코팅함으로써 유입되는 산소와 수증기의 양을 최소화하고자 하였다. 그러나, 상기 방법은 100 내지 200 nm 크기의 나노 입자를 골고루 분산시켜서 기판을 제조하기 어렵고 산소와 수증기와 반응할 수 있는 게터 입자들을 다량 함유시키기 위해 플라스틱 기판의 두께가 두꺼워야 하며 플라스틱 기판 위에 무기물 가스 배리어막이 직접 코팅되기 때문에 온도 변화에 의해 가스 배리어막에 크랙이나 박리가 일어날 가능성이 많다.In addition, US Pat. No. 6,465,953 proposes a method for dispersing getter particles that can react with incoming oxygen and water vapor in a plastic substrate in order to use the plastic substrate in an organic light emitting device sensitive to oxygen and water vapor. The size of the getter particles should be sufficiently smaller than the size of the characteristic wavelength to be emitted and evenly distributed so that the emitted light can pass through the substrate without being scattered. In addition, the method was intended to minimize the amount of oxygen and water vapor introduced by coating a gas barrier film made of an inorganic material on the plastic substrate. However, the method is difficult to produce a substrate by uniformly dispersing nanoparticles of 100 to 200 nm in size, and the thickness of the plastic substrate must be thick to contain a large amount of getter particles that can react with oxygen and water vapor. Since the barrier film is directly coated, there is a high possibility that cracks or peeling will occur on the gas barrier film due to temperature changes.
미국특허 제6,322,860호에서는 반응 압출하여 제조한 1 mm 두께 이내의 폴리글루타이미드 시트의 한쪽면 또는 양면에 경우에 따라 실리카 입자 등을 포함하는 가교가 가능한 조성물(다관능기 아크릴레이트계 모노머 또는 올리고머, 알콕시실란 등과 이들의 혼합물)을 코팅한 후 이를 광경화 또는 열경화시켜 가교 코팅막을 제조하고, 그 위에 가스 배리어막을 코팅한 후, 경우에 따라 다시 가교 코팅막을 배리어막에 코팅하여 표시장치용 플라스틱 기판을 제조한 바 있다. 그러나, 상기방법은 몇몇 특수한 경우에만 산소투과율과 수증기 투과율이 액정 표시장치에 이용할 수 있을 정도로 작을 뿐, 유리대체용 기판으로 사용하기 위해 필수적으로 요구되는 낮은 선팽창계수와 우수한 치수안정성에 대해서는 여전히 개선되지 않았다.U.S. Patent No. 6,322,860 discloses a crosslinkable composition comprising a silica particle or the like on one or both sides of a polyglutamide sheet within 1 mm thickness prepared by reaction extrusion (polyfunctional acrylate monomer or oligomer, Alkoxysilane and mixtures thereof) and then photocuring or thermosetting to prepare a crosslinked coating film, coating a gas barrier film thereon, and then optionally coating the crosslinking coating film on the barrier film to provide a plastic substrate for a display device. It was prepared. However, the method is only small enough that the oxygen and water vapor transmission rates can be used in liquid crystal displays in some special cases, and still does not improve on the low linear expansion coefficient and excellent dimensional stability required for use as a substrate for glass replacement. Did.
미국특허 제6,503,634호는 유기-무기 하이브리드인 ORMOCER와 산화규소층을 한 고분자 기재 위에 또는 두 고분자 기재의 가운데 층에 코팅하여 산소 투과율이 코팅하기 전의 고분자 기재의 1/30 이하, 수증기 투과율이 코팅하기 전의 고분자 기재의 1/40 이하인 다층 필름을 제시하였다. 상기 방법은 산소, 수증기 투과율이 코팅하기 전의 고분자 기재에 비해 상당히 감소하여 포장재의 재료로 사용될 수 있는 가능성을 제시했으나, 선팽창계수와 치수안정성 개선에 대한 언급은 없다.U.S. Patent No. 6,503,634 discloses an organic-inorganic hybrid ORMOCER and a silicon oxide layer coated on one polymer substrate or on the middle layer of two polymer substrates to coat 1/30 or less of the polymer substrate prior to the oxygen permeability coating and the water vapor transmission rate. A multilayer film of 1/40 or less of the previous polymer substrate was presented. While the method has shown that oxygen and water vapor transmission rates are considerably reduced compared to the polymer substrate before coating, it can be used as a packaging material, but there is no mention of improving the coefficient of linear expansion and dimensional stability.
본 발명은 유기물 코팅 층을 적용한 종래의 플라스틱 기판에 비해 선팽창 계수가 낮으며, 치수 안정성, 가스 배리어성 및 표면경도 등의 특성이 우수한 다층구조의 플라스틱 기판을 제공하는 것을 목적으로 한다. An object of the present invention is to provide a multi-layered plastic substrate having a low coefficient of linear expansion and excellent dimensional stability, gas barrier properties, surface hardness, and the like, compared to a conventional plastic substrate to which an organic coating layer is applied.
또한, 본 발명은 표시장치 또는 태양전지의 기판 외에도 가스 배리어성과 우수한 표면경도가 요구되는 포장재 및 다양한 용도의 용기 재료로 사용될 수 있는 다층구조의 플라스틱 기판의 제조방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.In addition, an object of the present invention is to provide a manufacturing method of a plastic substrate having a multi-layer structure that can be used as a packaging material and a container material of various applications that require gas barrier properties and excellent surface hardness in addition to the substrate of a display device or a solar cell.
상기 목적을 달성하기 위하여, 본 발명은 플라스틱 필름 상에 유기 또는 유기-무기 하이브리드 버퍼층, 가스 배리어층 및 무기입자가 첨가된 무기 하드코팅층이 순차적으로 적층된 다층구조의 플라스틱 기판을 제공한다. In order to achieve the above object, the present invention provides a multi-layered plastic substrate in which an organic or organic-inorganic hybrid buffer layer, a gas barrier layer and an inorganic hard coating layer to which inorganic particles are added are sequentially stacked on a plastic film.
또한, 본 발명은In addition,
a) 플라스틱 필름의 한쪽 면에 졸상태의 버퍼 조성물을 코팅하고 경화하여 유기 또는 유기-무기 하이브리드 버퍼층을 형성하는 단계,a) coating and curing a sol buffer composition on one side of the plastic film to form an organic or organic-inorganic hybrid buffer layer,
b) 상기 유기 또는 유기-무기 하이브리드 버퍼층 위에 무기물을 코팅하여 가스 배리어층을 형성하는 단계 및 b) coating an inorganic material on the organic or organic-inorganic hybrid buffer layer to form a gas barrier layer; and
c) 상기 가스 배리어층 위에 무기 입자가 첨가된 졸상태의 버퍼 조성물을 코팅하고 열경화하여 무기 하드코팅층을 형성하는 단계c) coating and thermosetting the sol buffer composition to which the inorganic particles are added on the gas barrier layer to form an inorganic hard coating layer.
를 포함하는 다층구조의 플라스틱 기판의 제조방법을 제공한다.It provides a method of manufacturing a plastic substrate of a multi-layer structure comprising a.
또한, 본 발명은 상기 다층구조의 플라스틱 기판의 다층필름이 형성되지 않은 플라스틱 필름의 면끼리 서로 접합하여 필름을 중심으로 대칭구조를 이루는 다층구조의 플라스틱 기판을 제공한다. In addition, the present invention provides a multi-layered plastic substrate having a symmetrical structure around the film by bonding the surfaces of the plastic film is not formed with a multi-layer film of the plastic substrate of the multi-layer structure.
또한, 본 발명은 상기 다층 구조의 플라스틱 기판을 포함하는 표시장치 또는 태양전지를 제공한다.In addition, the present invention provides a display device or a solar cell including the plastic substrate of the multi-layer structure.
또한, 본 발명은 다층 구조의 플라스틱 기판을 포함하는 포장재 또는 용기를 제공한다.The present invention also provides a packaging material or container including a plastic substrate of a multi-layer structure.
이상과 같이, 본 발명의 다층구조의 플라스틱 기판은 작은 선팽창계수, 가스배리어성, 치수안정성 및 표면경도 특성을 동시에 만족하기 때문에 표시장치용 플라스틱 기판으로 유리기판 대신 사용할 수 있으며, 또한 가스 배리어성과 우수한 표면경도가 요구되는 포장재와 용기의 재질로서도 매우 유용하게 활용될 수 있다.As described above, the multi-layered plastic substrate of the present invention satisfies small linear expansion coefficient, gas barrier property, dimensional stability and surface hardness at the same time, so it can be used as a plastic substrate for display device instead of glass substrate. It can be very usefully used as a material for packaging materials and containers requiring surface hardness.
본 발명은 낮은 선팽창계수, 우수한 치수안정성, 우수한 가스 배리어성 및 우수한 표면경도를 동시에 확보하여 표시장치 등에서 주로 사용되는 깨지기 쉽고 무거운 단점을 가지는 유리기판을 대체할 수 있는 다층구조의 플라스틱 기판 및 그 제조방법을 제공한다.The present invention is to secure a low linear expansion coefficient, excellent dimensional stability, excellent gas barrier properties and excellent surface hardness at the same time to manufacture a plastic substrate having a multi-layer structure that can replace the glass substrate having a fragile and heavy disadvantages mainly used in display devices and the like Provide a method.
본 발명의 다층구조의 플라스틱 기판은 플라스틱 필름과 가스 배리어층 사이에 유기 또는 유기-무기 하이브리드 버퍼층을 위치시켜 층간 선팽창계수 차이를 최소화하고 층간 접착력을 향상시킬 수 있다.In the multi-layered plastic substrate of the present invention, an organic or organic-inorganic hybrid buffer layer may be disposed between the plastic film and the gas barrier layer to minimize the difference between the coefficients of linear expansion between layers and to improve the adhesion between the layers.
본 발명의 다층구조의 플라스틱 기판은 가스 배리어층 위에 무기입자가 포함된 무기 하드코팅층을 위치시켜 기판 표면의 경도 및 치수안정성을 향상시킬 수 있다.The plastic substrate of the multilayer structure of the present invention can improve the hardness and dimensional stability of the surface of the substrate by placing an inorganic hard coating layer containing inorganic particles on the gas barrier layer.
본 발명의 다층구조의 플라스틱 기판은 다층구조에 특징이 있으며, 이 중 한 층이라도 없으면 제 기능을 발휘할 수 없으므로 상기의 각 층들은 필수적으로 포함된다. The plastic substrate of the multi-layered structure of the present invention is characterized by a multi-layered structure, and without any one of these layers, the above-described layers are essentially included.
또한, 본 발명의 다층구조의 플라스틱 기판은 대칭구조로 이루어져 있어 온도변화에 따라 플라스틱 기판이 한쪽 방향으로 휘지 않게 한다.In addition, the plastic substrate of the multi-layered structure of the present invention has a symmetrical structure so that the plastic substrate does not bend in one direction according to the temperature change.
상기 대칭구조를 이루는 다층구조의 플라스틱 기판의 제조방법은 플라스틱 필름 간에 서로 합지하는 간편한 공정을 이용함으로써, 생산성을 높일 수 있으며 저가의 장비로도 작은 선팽창계수, 우수한 치수안정성, 가스 배리어성 및 우수한 표면경도를 갖는 플라스틱 기판을 제조할 수 있다.The manufacturing method of the multi-layered plastic substrate constituting the symmetrical structure can increase the productivity by using a simple process of laminating the plastic films with each other, and the small linear expansion coefficient, excellent dimensional stability, gas barrier property and excellent surface even with low-cost equipment Plastic substrates having hardness can be produced.
본 발명의 다층구조의 플라스틱 기판에 대하여 도면을 참조하여 보다 상세히 설명한다. 도 1은 본 발명의 다층구조의 플라스틱 기판의 단면도를 나타낸 것이고 도 2는 본 발명의 다층구조의 플라스틱 기판을 접합하여 대칭을 이루는 다층구조의 플라스틱 기판의 단면도를 나타낸 것이다.The plastic substrate of the multilayer structure of this invention is demonstrated in detail with reference to drawings. 1 is a cross-sectional view of a plastic substrate having a multilayer structure of the present invention, and FIG. 2 is a cross-sectional view of a plastic substrate having a multilayer structure having a symmetry by bonding the plastic substrate of the multilayer structure of the present invention.
보다 구체적으로 설명하면, 다층구조의 플라스틱 기판은 도 1에서 도시된 바와 같이 본 발명의 플라스틱 기판(110) 위에 유기 또는 유기-무기 하이브리드 버퍼층(115), 가스 배리어층(120) 및 무기 입자를 포함하는 무기 하드코팅층(125)를 순차적으로 적층하여 이루어진다. 상기 도 1에서 도시된 다층구조의 플라스틱 기판의 다층구조가 형성되지 않은 플라스틱의 면끼리 접착제(130)를 이용하여 서로 접합하여 도 2에서 도시된 바와 같이 대칭구조를 이루는 다층구조의 플라스틱 기판을 제조할 수 있다. More specifically, the multi-layered plastic substrate includes an organic or organic-inorganic
상기 유기 또는 유기-무기 하이브리드 버퍼층은 플라스틱 필름과 가스 배리어층 간의 큰 선팽창계수의 차이를 완화시키고, 유기물과 무기물의 조성을 적절히 조절함으로써 플라스틱 필름과 가스 배리어층 간의 접착력을 향상시키는 역할을 한다.The organic or organic-inorganic hybrid buffer layer serves to alleviate the difference in the large linear expansion coefficient between the plastic film and the gas barrier layer, and to improve the adhesion between the plastic film and the gas barrier layer by appropriately adjusting the composition of the organic and inorganic materials.
또한, 상기 유기 또는 유기-무기 하이브리드 버퍼층은 플라스틱 필름의 표면을 평탄화할 수 있어 가스 배리어 층의 증착시 발생하는 결함을 최소화할 수도 있다.In addition, the organic or organic-inorganic hybrid buffer layer may planarize the surface of the plastic film, thereby minimizing defects occurring during deposition of the gas barrier layer.
이때, 상기 유기 또는 유기-무기 하이브리드 버퍼층은 유기실란과 금속알콕사이드를 포함하는 버퍼조성물의 부분 가수분해물로부터 형성됨으로써 상기한 효과를 가지게 된다.At this time, the organic or organic-inorganic hybrid buffer layer is formed from the partial hydrolyzate of the buffer composition containing the organosilane and the metal alkoxide has the above-described effect.
상기 가스 배리어층은 작은 선팽창 계수를 가지는 고밀도 무기물층으로서, 산소와 수증기 등의 가스를 차단할 수 있다.The gas barrier layer is a high density inorganic layer having a small coefficient of linear expansion, and can block gases such as oxygen and water vapor.
상기 무기입자가 첨가된 무기하드 코팅층은 기판 표면의 경도 및 치수안정성을 향상시킬 수 있다.The inorganic hard coating layer to which the inorganic particles are added may improve hardness and dimensional stability of the substrate surface.
상기 무기입자가 첨가된 버퍼층은 무기입자가 버퍼층의 경화를 보다 조밀하게 촉진하고, 무기입자가 물리적 가교의 정점역활을 함으로써 열에 대한 치수변화를 감소시킴으로써 상기한 효과를 가지게 된다.In the buffer layer to which the inorganic particles are added, the inorganic particles have the above-mentioned effect by more densely promoting the curing of the buffer layer and reducing the dimensional change with respect to heat by the inorganic particles serving as a vertex of physical crosslinking.
본 발명에서 사용되는 플라스틱 필름은 단일 고분자, 1종 이상의 고분자 블랜드, 및 유기 또는 무기 첨가물이 함유된 고분자 복합 재료로 이루어진 군으로부터 선택하여 사용할 수 있다. 본 발명의 플라스틱 기판이 액정 표시장치의 기판으로 사용되는 경우, 박막 트랜지스터와 투명 전극을 형성하는 제조공정이 200℃ 이상의 고온에서 이루어지기 때문에 상기 고분자는 이러한 고온에 견딜 수 있는 고내열성을 가질 것이 요구된다. 이러한 특성을 가지는 고분자로는 폴리노보넨, 아로마틱플로렌폴리에스터, 폴리이써설폰, 비스페놀에이폴리설폰 또는 폴리이미드 등을 들 수 있다. 또한, 최근의 고온기판 공정 온도를 저온으로 내리는 연구가 진행되면서 150 ℃ 부근의 온도까지 사용할 수 있는 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌나프탈렌, 폴리아릴레이트, 폴리카보네이트 또는 환상형 올레핀 공중합체 등의 고분자를 사용할 수 있다.The plastic film used in the present invention may be selected from the group consisting of a single polymer, at least one polymer blend, and a polymer composite material containing an organic or inorganic additive. When the plastic substrate of the present invention is used as a substrate of a liquid crystal display device, it is required that the polymer have high heat resistance to withstand such high temperature since the manufacturing process for forming the thin film transistor and the transparent electrode is performed at a high temperature of 200 ° C or higher. do. Examples of the polymer having such a property include polynorbornene, aromatic florene polyester, polythersulfone, bisphenol A polysulfone or polyimide. In addition, as the recent research on lowering the temperature of the high temperature substrate process proceeds, polymers such as polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalene, polyarylate, polycarbonate or cyclic olefin copolymer which can be used up to a temperature of around 150 ° C can be used. have.
또한, 본 발명은 고분자에 나노물질을 분산시킨 플라스틱 필름을 사용할 수도 있다. 이러한 고분자 복합 재료로는 폴리머-클레이 나노복합체가 있으며, 이는 클레이의 작은 입자크기(<1마이크론)와 큰 종횡비의 특성으로 인해 기존에 사용되던 유리 섬유 등의 복합체에 비해 작은 양의 클레이로 고분자의 기계적 물성, 내열성, 가스 배리어성 및 수치안정성 등의 물성을 향상시킬 수 있다. 즉, 상기 물성들을 향상시키기 위해서는 층상구조의 클레이층을 벗겨내어 고분자 매트릭스에 잘 분산시키는 것이 중요한데, 이를 만족하는 것이 폴리머-클레이 복합체이다. 상기 폴리머-클레이 복합체에 사용될 수 있는 고분자로는 폴리스티렌, 폴리메타아크릴레이트, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌나프탈렌, 폴리아릴레이트, 폴리카보네 이트, 환상형 올레핀 공중합체, 폴리노보넨, 아로마틱 플로렌 폴리에스터, 폴리이써설폰, 폴리이미드, 에폭시레진 또는 다관능성아크릴레이트 등이 있으며, 클레이로는 라포나이트, 몬모릴로나이트 또는 메가디트 등을 사용할 수 있다.In addition, the present invention may use a plastic film in which nanomaterials are dispersed in a polymer. Such polymer composite materials include polymer-clay nanocomposites, which have a small amount of clay compared to conventional composites such as glass fibers due to the small particle size of clay (<1 micron) and the large aspect ratio. Physical properties such as mechanical properties, heat resistance, gas barrier properties, and numerical stability can be improved. That is, in order to improve the physical properties, it is important to peel off the clay layer of the layer structure and disperse it well in the polymer matrix, and satisfying this is the polymer-clay composite. Polymers that can be used in the polymer-clay composite include polystyrene, polymethacrylate, polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalene, polyarylate, polycarbonate, cyclic olefin copolymer, polynorbornene, aromatic florene polyester , Polyisulfone, polyimide, epoxy resin or polyfunctional acrylate, and the like, and laponite, montmorillonite or megadite may be used as the clay.
본 발명의 다층 플라스틱 기판에서 플라스틱 필름은 두께는 10 내지 1000 ㎛의 필름 또는 시트 형태인 것이 바람직하다. 상기 플라스틱 필름은 용액 캐스팅 방법이나 필름 압출 공정을 통해 제조될 수 있으며, 제조 후 온도에 따른 변형을 최소화하기 위해 유리 전이 온도 부근에서 수초에서 수분간 짧게 어닐링 하는 것이 좋다. 어닐링 이후에는 코팅성 및 접착성을 향상시키기 위해 플라스틱 필름 표면에 프라이머 코팅을 하거나 코로나, 산소 혹은 이산화탄소를 사용한 플라즈마 처리, 자외선-오존 처리 또는 반응 기체를 유입한 이온빔 처리 방법 등으로 표면 처리를 할 수도 있다.In the multilayer plastic substrate of the present invention, the plastic film is preferably in the form of a film or sheet having a thickness of 10 to 1000 μm. The plastic film may be manufactured through a solution casting method or a film extrusion process, and may be briefly annealed for a few seconds to several minutes near the glass transition temperature in order to minimize deformation due to temperature after the production. After annealing, primer coating may be applied to the surface of the plastic film to improve the coating property and adhesion, or surface treatment may be performed by plasma treatment using corona, oxygen or carbon dioxide, ultraviolet-ozone treatment, or ion beam treatment with a reaction gas. have.
상기 유기 또는 유기-무기 하이브리드 버퍼층을 형성하기 위한 버퍼 조성물은 유기실란, 및 금속알콕사이드를 포함하며, 경우에 따라 적절한 충진제, 용매 및 중합 촉매를 더욱 포함할 수 있다.The buffer composition for forming the organic or organic-inorganic hybrid buffer layer includes an organosilane and a metal alkoxide, and may further include an appropriate filler, a solvent and a polymerization catalyst.
상기 유기 실란은 하기 화학식 1로 표시되는 화합물로 이루어진 군으로부터 1종 이상 선택하여 사용할 수 있으며, 이때 1종 이상의 유기실란 화합물을 사용할 경우 가교가 가능해야 한다.The organosilane may be used by selecting one or more from the group consisting of the compound represented by the following formula (1), wherein at least one organosilane compound should be crosslinkable.
[화학식 1][Formula 1]
(R1)m-Si-X(4-m) (R 1 ) m -Si-X (4-m)
상기 식에서, X는 서로 같거나 다를 수 있으며, 수소, 할로겐, 탄소수 1 내지 12의 알콕시, 아실옥시, 알킬카보닐, 알콕시카보닐, 또는 -N(R2)2(여기서 R2 는 H, 또는 탄소수 1 내지 12의 알킬)이고, R1은 서로 같거나 다를 수 있으며, 탄소수 1 내지 12의 알킬, 알케닐, 알키닐, 아릴, 아릴알킬, 알킬아릴, 아릴알케닐, 알케닐아릴, 아릴알키닐, 알키닐아릴, 할로겐, 치환된 아미노, 아마이드, 알데히드, 케토, 알킬카보닐, 카르복시, 머캅토, 시아노, 하이드록시, 탄소수 1 내지 12의 알콕시, 탄소수 1 내지 12의 알콕시카보닐, 설폰산, 인산, 아크릴옥시, 메타크릴옥시, 에폭시 또는 비닐기이고, 이때 산소 또는 -NR2(여기서 R2는 H, 또는 탄소수 1 내지 12의 알킬)가 라디칼 R1과 Si사이에 삽입되어 -(R1)m-O-Si-X(4-m) 또는 (R1)m-NR2-Si-X(4-m)로 될 수도 있으며, m은 1 내지 3의 정수이다.Wherein X may be the same or different from each other, and hydrogen, halogen, alkoxy having 1 to 12 carbon atoms, acyloxy, alkylcarbonyl, alkoxycarbonyl, or -N (R 2 ) 2 , wherein R 2 is H, or Alkyl having 1 to 12 carbon atoms), R 1 may be the same as or different from each other, alkyl having 1 to 12 carbon atoms, alkenyl, alkynyl, aryl, arylalkyl, alkylaryl, arylalkenyl, alkenylaryl, arylalky Nyl, alkynylaryl, halogen, substituted amino, amide, aldehyde, keto, alkylcarbonyl, carboxy, mercapto, cyano, hydroxy, alkoxy having 1 to 12 carbon atoms, alkoxycarbonyl having 1 to 12 carbon atoms, sulfur Carboxylic acid, phosphoric acid, acryloxy, methacryloxy, epoxy or vinyl group, wherein oxygen or —NR 2 (wherein R 2 is H or alkyl having 1 to 12 carbon atoms) is inserted between the radicals R 1 and Si-( R 1) m -O-Si- X (4-m) or (R 1) m -NR 2 -Si -X (4-m) may be in, and m is 1 in 3 is a constant.
상기 유기실란의 예로는 메틸트리메톡시실란, 메틸트리에톡시실란, 페닐트리메톡시실란, 페닐트리에톡시실란, 디메틸디메톡시실란, 디메틸디에톡시실란, 디페닐디메톡시실란, 디페닐디에톡시실란, 페닐디메톡시실란, 페닐디에톡시실란, 메틸디메톡시실란, 메틸디에톡시실란, 페닐메틸디메톡시실란, 페닐메틸디에톡시실란, 트리메틸메톡시실란, 트리메틸에톡시실란, 트리페닐메톡시실란, 트리페닐에톡시실란, 페닐디메틸메톡시실란, 페닐디메틸에톡시실란, 디페닐메틸메톡시실란, 디페닐메틸에톡시실란, 디메틸메톡시실란, 디메틸에톡시실란, 디페닐메톡시실란, 디페닐 에톡시실란, 3-아미노프로필트리에톡시실란, 3-글리시독시프로필트리메톡시실란, p-아미노페닐실란, 알릴트리메톡시실란, n-(2-아미노에틸)-3-아미노프로필트리메톡시실란, 3-아민프로필트리에톡시실란, 3-아미노프로필트리메톡시실란, 3-글리시독시프로필디이소프로필에톡시실란, (3-글리시독시프로필)메틸디에톡시실란, 3-글리시독시프로필트리메톡시실란, 3-머캅토프로필트리메톡시실란, 3-머캅토프로필틀리에톡시실란, 3-메타크릴옥시프로필메틸디에톡시실란, 3-메타크릴옥시프로필메틸디메톡시실란, 3-메타크릴옥시프로필트리메톡시실란, n-페닐아미노프로필트리메톡시실란, 비닐메틸디에톡시실란, 비닐트리에톡시실란, 비닐트리메톡시실란 등이 있다.Examples of the organosilane include methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, phenyltrimethoxysilane, phenyltriethoxysilane, dimethyldimethoxysilane, dimethyldiethoxysilane, diphenyldimethoxysilane, diphenyldiethoxy Silane, phenyldimethoxysilane, phenyldiethoxysilane, methyldimethoxysilane, methyldiethoxysilane, phenylmethyldimethoxysilane, phenylmethyldiethoxysilane, trimethylmethoxysilane, trimethylethoxysilane, triphenylmethoxysilane, Triphenylethoxysilane, phenyldimethylmethoxysilane, phenyldimethylethoxysilane, diphenylmethylmethoxysilane, diphenylmethylethoxysilane, dimethylmethoxysilane, dimethylethoxysilane, diphenylmethoxysilane, diphenyl Ethoxysilane, 3-aminopropyltriethoxysilane, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, p-aminophenylsilane, allyltrimethoxysilane, n- (2-aminoethyl) -3-aminopropyltri Methoxysilane, 3-a Propyltriethoxysilane, 3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropyldiisopropylethoxysilane, (3-glycidoxypropyl) methyldiethoxysilane, 3-glycidoxypropyltrimethoxy Silane, 3-mercaptopropyltrimethoxysilane, 3-mercaptopropyltriethoxysilane, 3-methacryloxypropylmethyldiethoxysilane, 3-methacryloxypropylmethyldimethoxysilane, 3-methacryloxypropyl Trimethoxysilane, n-phenylaminopropyltrimethoxysilane, vinylmethyldiethoxysilane, vinyltriethoxysilane, vinyltrimethoxysilane and the like.
상기 금속알콕사이드는 하기 화학식 2로 표시되는 화합물로 이루어진 군으로부터 1종 이상 선택하여 사용할 수 있다.The metal alkoxide may be used by selecting one or more from the group consisting of compounds represented by the following formula (2).
[화학식 2][Formula 2]
M-(R3)z M- (R 3) z
상기 식에서, M은 알루미늄, 지르코늄, 및 티타늄으로 이루어진 군으로부터 선택되는 금속을 나타내며, R3는 서로 같거나 다를 수 있으며, 할로겐, 탄소수 1 내지 12의 알킬, 알콕시, 아실옥시, 또는 하이드록시기이며, Z는 3 또는 4의 정수이다.In the formula, M represents a metal selected from the group consisting of aluminum, zirconium, and titanium, R 3 may be the same or different from each other, halogen, alkyl, alkoxy, acyloxy, or hydroxy group of 1 to 12 carbon atoms , Z is an integer of 3 or 4.
상기 충진제는 금속, 유리분말, 다이아몬드분말, 실리콘옥시드(SiOx, 여기서 x는 2-4의 정수), 클레이(벤토나이트, 스멕타이트, 카올린 등), 칼슘포스페이트, 마그네슘포스페이트, 바리움설페이트, 알루미늄 플루오라이드, 칼슘실리케이트, 마 그네슘 실리케이트, 바리움실리케이트, 바리움카보네이트, 바리움히드록시드, 알루미늄실리케이트 등의 물질 중에서 1 종 이상 선택하여 사용할 수 있다. The fillers are metal, glass powder, diamond powder, silicon oxide (SiOx, where x is an integer of 2-4), clay (bentonite, smectite, kaolin, etc.), calcium phosphate, magnesium phosphate, barium sulfate, aluminum fluoride, One or more types of materials, such as calcium silicate, magnesium silicate, barium silicate, barium carbonate, barium hydroxide, aluminum silicate, can be selected and used.
상기 용매는 통상의 부분가수분해 반응에 사용되는 용매를 사용할 수 있으며, 바람직하게는 증류수를 사용할 수 있다. 또한, 촉매 역시 특별히 한정되지는 않으나, 바람직하게는 알루미늄 부톡시드 및 지르코늄 프로폭시드를 사용할 수 있다.The solvent may be a solvent used in a conventional partial hydrolysis reaction, preferably distilled water may be used. The catalyst is also not particularly limited, but preferably aluminum butoxide and zirconium propoxide can be used.
상기 충진제, 용매 및 촉매의 사용량은 필요에 따라 첨가되는 것으로서 특별히 한정되지는 않는다.The amount of the filler, the solvent and the catalyst to be used is not particularly limited as added as needed.
상기 버퍼 조성물에서 유기실란의 함량은 20 내지 99.99 중량%가 바람직하고, 보다 바람직하게는 50 내지 99 중량%, 더욱 바람직하게는 70 내지 99 중량%가 좋다. 또한, 상기 금속 알콕시드의 함량은 0.01 내지 80 중량%로 사용할 수 있으며, 보다 바람직하게는 70 중량%보다 적게 사용하는 것이 좋고, 더욱 바람직하게는 20 중량%보다 적은 것이 좋다.The content of the organosilane in the buffer composition is preferably 20 to 99.99% by weight, more preferably 50 to 99% by weight, still more preferably 70 to 99% by weight. In addition, the content of the metal alkoxide may be used in 0.01 to 80% by weight, more preferably less than 70% by weight, more preferably less than 20% by weight.
본 발명에서 유기 또는 유기-무기 하이브리드 버퍼층의 표면의 평탄도 Ra(Average surface roughness)는 매우 중요한데, 상기 버퍼층이 평탄하지 않으면 배리어층이 증착될 때 결함이 발생하고 결국 배리어성이 떨어지는 결과를 초래한다. 표면의 평탄도 값은 낮으면 낮을수록 배리어성이 증가하는 결과를 나타낸다. 본 발명에서는 상기 유기 또는 유기-무기 하이브리드 버퍼층의 표면 평탄도는 1 nm 내외가 바람직하고, 보다 바람직하게는 1 nm 이내의 평탄도가 좋다. 구체적으로, 평탄도는 0.1 내지 1.2의 Ra 값을 가질 수 있다.In the present invention, the surface flatness Ra (Average surface roughness) of the organic or organic-inorganic hybrid buffer layer is very important. If the buffer layer is not flat, defects occur when the barrier layer is deposited, resulting in poor barrier properties. . The lower the flatness value of the surface, the higher the barrier property. In the present invention, the surface flatness of the organic or organic-inorganic hybrid buffer layer is preferably about 1 nm, more preferably within 1 nm. Specifically, the flatness may have a Ra value of 0.1 to 1.2.
이렇게 제조된 버퍼층 위에 무기물인 가스 배리어층을 적층하면 무기물층과 유기 또는 유기-무기 하이브리드 버퍼층 사이의 접착력이 우수하고 무기물층에 의해 가스 배리어 특성이 향상되며 무기물층 자체의 모듈러스가 높고 선팽창계수가 작기 때문에 전체 기판의 기계적 특성 또한 향상시킬 수 있다.When the inorganic gas barrier layer is laminated on the thus prepared buffer layer, the adhesion between the inorganic layer and the organic or organic-inorganic hybrid buffer layer is excellent, the gas barrier property is improved by the inorganic layer, the modulus of the inorganic layer itself is high, and the coefficient of linear expansion is small. Therefore, the mechanical properties of the entire substrate can also be improved.
상기 가스 배리어층을 형성하는 방법은 플라스틱 필름 자체의 산소 투과도와 수증기 투과도가 대개 수십에서 수천 단위의 값을 가지기 때문에, 밀도가 높은 투명 무기물이나 나노미터 단위의 얇은 금속 박막을 고분자 필름 위에 물리적 또는 화학적 방법으로 증착 코팅하여 산소와 수증기를 차단하는 방법이 사용될 수 있다. 이때, 투명 무기 산화 박막의 경우 핀홀이나 크랙 등의 결함이 존재하면 충분한 산소 및 수증기 차단 효과를 얻기 어렵고 얇은 금속 박막의 경우에는 결점이 없는 수 나노미터 두께의 균일한 박막을 얻기 힘들뿐 아니라 가시광선 영역의 광투과도가 80%를 넘기 어려운 단점이 있다. 상기 방법을 통해 형성된 가스 배리어층의 두께는 5 내지 1000 nm, 바람직하게는 20 내지 500 nm, 더욱 바람직하게는 50 내지 200 nm이다. In the method of forming the gas barrier layer, since the oxygen permeability and the water vapor permeability of the plastic film itself generally have values of several tens to thousands of units, a thin or thin metal thin film having a high density of transparent inorganic material or nanometers is physically or chemically formed on the polymer film. The method of vapor deposition coating to block oxygen and water vapor may be used. In this case, in the case of a transparent inorganic oxide thin film, defects such as pinholes or cracks are difficult to obtain sufficient oxygen and water vapor blocking effects, and in the case of thin metal thin films, it is difficult to obtain a uniform thin film having a few nanometers of thickness without visible defects as well as visible light. The light transmittance of the region is difficult to exceed 80%. The thickness of the gas barrier layer formed through the method is 5 to 1000 nm, preferably 20 to 500 nm, more preferably 50 to 200 nm.
상기 무기물로는 SiOx(여기서, x는 1 내지 4의 정수), SiOxNy(여기서, x 및 y는 각각 1 내지 3의 정수), Al2O3 및 ITO로 이루어진 군으로부터 1종 이상 선택되는 산화금속이나 질화금속을 사용할 수 있다. 상기 증착 코팅 방법으로는 스퍼터링법, 화학 증착법, 이온 플레이팅법, 플라즈마 화학 증착법 또는 졸-겔법 등을 사용할 수 있다.The inorganic material may be at least one selected from the group consisting of SiO x (where x is an integer of 1 to 4), SiO x N y (where x and y are each an integer of 1 to 3), Al 2 O 3, and ITO The selected metal oxide or metal nitride can be used. As the deposition coating method, a sputtering method, a chemical vapor deposition method, an ion plating method, a plasma chemical vapor deposition method or a sol-gel method may be used.
상기 가스 배리어층 위에 형성되는 무기입자를 포함하는 무기 하드코팅층은 졸-겔(Sol-gel) 또는 유기 코팅액에 무기입자를 첨가하여 제조할 수 있으며, 상기 무기입자가 시드(seed)역할을 하여 가교도가 증가한 가교구조를 형성하여 기판 표면의 경도 및 치수안정성을 향상시켜 내화학성 및 내스크레치성을 부여할 수 있다. The inorganic hard coating layer including the inorganic particles formed on the gas barrier layer may be prepared by adding inorganic particles to a sol-gel or an organic coating solution, and the inorganic particles serve as a seed and have a crosslinking degree. By increasing the cross-linked structure to increase the hardness and dimensional stability of the substrate surface it can be imparted chemical and scratch resistance.
상기 유기 코팅액은 아크릴 또는 에폭시계 고분자를 사용하는 것이 바람직하다.As the organic coating solution, it is preferable to use an acrylic or epoxy polymer.
상기 무기입자는 판상 또는 구형의 입자가 바람직하고 구형인 경우 입자의 직경이 100 내지 1000nm가 바람직하고, 판상인 경우 높이가 1 내지 10nm가 바람직하다. 무기 입자의 구체적인 예로, 글래스 플레이크(glass flake), 나노클레이(nanoclay) 또는 실리카(silica)입자 등이 있다. The inorganic particles are preferably in the form of plates or spheres, and in the case of spheres, the diameter of the particles is preferably from 100 to 1000 nm, and in the case of the plates, the height is preferably from 1 to 10 nm. Specific examples of the inorganic particles include glass flake, nanoclay or silica particles.
상기 무기입자는 무기 입자가 첨가된 졸상태의 버퍼 조성물 100 중량부에 대해 1 내지 50 중량부를 함유하는 것이 바람직하나, 원하는 물성에 따라 다양하게 조절할 수 있다. The inorganic particles preferably contain 1 to 50 parts by weight based on 100 parts by weight of the sol state buffer composition to which the inorganic particles are added, but may be variously adjusted according to desired physical properties.
또한, 본 발명에서 상기 무기입자를 포함하는 무기 하드코팅층의 평탄도 역시 매우 중요한데, LCD 공정 혹은 OLED 공정에서 사용되는 ITO 같은 소자들이 상기 무기 하드코팅층에 직접 증착되므로 이런 소자들은 평탄도가 낮으면 전류가 집중되는 현상으로 제기능을 할 수가 없다. 현재 추세는 LCD 보다는 차세대 디스플레이인 OLED에서 더 우수한 평탄도가 요구된다. 따라서, 본 발명은 이러한 조건을 만족할 수 있도록 상기 무기입자를 포함하는 무기 하드코팅층의 표면 평탄도 역시 1 nm 내외가 바람직하고, 보다 바람직하게는 1 nm 이내의 평탄도가 좋다. 구체적으로, 평 탄도는 0.1 내지 1.2의 Ra값을 가질 수 있다.In addition, in the present invention, the flatness of the inorganic hard coating layer including the inorganic particles is also very important. Since devices such as ITO used in the LCD process or the OLED process are deposited directly on the inorganic hard coat layer, these devices may have low This phenomenon is concentrated and can not function. Current trends require better flatness in OLEDs, the next generation of displays rather than LCDs. Therefore, in the present invention, the surface flatness of the inorganic hard coating layer including the inorganic particles is preferably about 1 nm, and more preferably 1 nm or less to satisfy such conditions. Specifically, the flatness may have a Ra value of 0.1 to 1.2.
또한, 본 발명은In addition,
a) 플라스틱 필름의 한쪽 면에 졸상태의 버퍼 조성물을 코팅하고 경화하여 유기 또는 유기-무기 하이브리드 버퍼층을 형성하는 단계,a) coating and curing a sol buffer composition on one side of the plastic film to form an organic or organic-inorganic hybrid buffer layer,
b) 상기 유기 또는 유기-무기 하이브리드 버퍼층 위에 무기물을 코팅하여 가스 배리어층을 형성하는 단계, b) coating an inorganic material on the organic or organic-inorganic hybrid buffer layer to form a gas barrier layer,
c) 상기 가스 배리어층 위에 무기 입자가 첨가된 졸상태의 버퍼 조성물을 코팅하고 열경화하여 무기 하드코팅층을 형성하여 다층 필름을 제조하는 단계, c) preparing a multilayer film by coating and thermosetting a sol buffer composition to which inorganic particles are added on the gas barrier layer to form an inorganic hard coating layer;
를 포함하는 다층구조의 플라스틱 기판의 제조방법을 제공한다.It provides a method of manufacturing a plastic substrate of a multi-layer structure comprising a.
상기 a)는 플라스틱 필름의 한쪽 면에 졸상태의 버퍼 조성물을 코팅하고 경화하여 유기 또는 유기-무기 하이브리드 버퍼층을 형성하는 단계이다. 상기 유기 또는 유기-무기 하이브리드 버퍼층은 버퍼 조성물을 부분적으로 가수분해시켜 졸상태의 용액으로 제조한 후, 이를 플라스틱 필름 위에 코팅하고 경화하여 제조할 수 있다. 상기 코팅방법은 스핀코팅, 롤코팅, 바코팅, 딥코팅, 그라비어 코팅 또는 스프레이 코팅 등의 방법을 사용할 수 있다. 상기 졸상태의 경화방법은 열경화, UV 경화, 적외선 경화 또는 고주파 열처리 방법 등을 이용할 수 있다. 경화 후 유기-무기 하이브리드 버퍼층의 두께는 0.5 내지 20 ㎛이고, 바람직하게는 2 내지 10 ㎛, 더욱 바람직하게는 1 내지 5 ㎛이다.A) is a step of forming an organic or organic-inorganic hybrid buffer layer by coating and curing the sol buffer composition on one side of the plastic film. The organic or organic-inorganic hybrid buffer layer may be prepared by partially hydrolyzing the buffer composition to form a sol solution, and then coating and curing the same on a plastic film. The coating method may be a method such as spin coating, roll coating, bar coating, dip coating, gravure coating or spray coating. The sol curing method may be a thermosetting, UV curing, infrared curing or high frequency heat treatment. The thickness of the organic-inorganic hybrid buffer layer after curing is 0.5 to 20 μm, preferably 2 to 10 μm, more preferably 1 to 5 μm.
상기 b)는 상기 유기 또는 유기-무기 하이브리드층 위에 무기물을 코팅하여 가스 배리어층을 형성하는 단계이다. 상기 가스 배리어층은 밀도가 높은 투명 무기 물이나 나노미터 단위의 얇은 금속 박막을 유기 또는 유기-무기 하이브리드 버퍼층 위에 물리적 또는 화학적 방법으로 증착 코팅하여 제조할 수 있다. 상기 증착 코팅 방법으로는 스퍼터링법, 화학 증착법, 이온 플레이팅법, 플라즈마 화학 증착법 또는 졸-겔법 등을 사용할 수 있다. 상기 방법을 통해 형성된 가스 배리어층의 두께는 5 내지 1000 nm, 바람직하게는 20 내지 500 nm, 더욱 바람직하게는 50 내지 200 nm이다. B) is a step of forming a gas barrier layer by coating an inorganic material on the organic or organic-inorganic hybrid layer. The gas barrier layer may be prepared by physically or chemically depositing a transparent inorganic material having a high density or a thin metal thin film on a nanometer scale by an organic or organic-inorganic hybrid buffer layer. As the deposition coating method, a sputtering method, a chemical vapor deposition method, an ion plating method, a plasma chemical vapor deposition method or a sol-gel method may be used. The thickness of the gas barrier layer formed through the method is 5 to 1000 nm, preferably 20 to 500 nm, more preferably 50 to 200 nm.
상기 c)는 상기 가스 배리어층 위에 무기 입자가 첨가된 졸상태의 버퍼 조성물을 코팅하고 열경화하여 무기 하드코팅층을 형성하여 다층 필름을 제조하는 단계이다. 상기 무기 하드코팅층은 졸상태의 용액을 스핀코팅, 롤코팅, 바코팅, 딥코팅, 그라비어 코팅 또는 스프레이 코팅 등의 방법으로 코팅하고 열경화, UV 경화, 적외선 경화 또는 고주파 열처리 방법으로 경화하여 제조할 수 있으며, 경화 후의 두께는 0.5 내지 20 ㎛, 바람직하게는 2 내지 10 ㎛, 더욱 바람직하게 1 내지 5 ㎛이다. C) is a step of preparing a multi-layer film by coating an sol buffer composition to which the inorganic particles are added on the gas barrier layer and thermosetting to form an inorganic hard coating layer. The inorganic hard coating layer may be prepared by coating a sol solution by spin coating, roll coating, bar coating, dip coating, gravure coating, or spray coating, and curing by thermal curing, UV curing, infrared curing, or high frequency heat treatment. The thickness after curing may be 0.5 to 20 μm, preferably 2 to 10 μm, more preferably 1 to 5 μm.
상기 무기입자가 첨가된 졸상태의 버퍼조성물은 무기입자가 중력에 의해 침전되는 것을 방지하기 위하여 점도가 10 내지 50,000cp인 것이 바람직하다. 상기 버퍼조성물의 점도가 10cp 미만인 경우 용액의 보관중 또는 코팅후에 무기입자가 중력에 의해 침전이 일어나 불균일한 무기입자의 분포를 야기할 수 있다. 또한 50000cp를 초과할 경우 용액중에 무기입자의 분산이 어렵고 코팅표면에 무기입자가 돌출하여 코팅표면 불량을 유발할 수 있다.The buffer composition of the sol state in which the inorganic particles are added preferably has a viscosity of 10 to 50,000 cps to prevent the inorganic particles from being precipitated by gravity. When the viscosity of the buffer composition is less than 10cp, the inorganic particles may be precipitated by gravity during storage or after coating of the solution, causing uneven distribution of inorganic particles. In addition, if the amount exceeds 50000cp, it is difficult to disperse the inorganic particles in the solution and the inorganic particles may protrude on the coating surface, causing coating surface defects.
또한, 본 발명은 상기 다층구조 플라스틱 기판의 다층필름이 형성되지 않은 플라스틱 필름의 면끼리 서로 접합하여 필름을 중심으로 대칭구조를 이루는 다층구조의 플라스틱 기판을 제공한다.In addition, the present invention provides a multi-layered plastic substrate having a symmetrical structure around the film by bonding the surfaces of the plastic film is not formed with a multi-layer film of the multi-layered plastic substrate.
상기 대칭구조를 이루는 다층구조의 플라스틱 기판은 대칭구조를 이루고 있어 온도변화에 의한 플라스틱 기판이 한쪽 방향으로 휘지않게 한다. 또한, 상기 대칭구조를 이루는 다층구조의 플라스틱 기판은 플라스틱 필름간에 서로 합지하는 간편한 공정을 이용함으로써, 생산성을 높일 수 있으며 저가의 장비로도 작은 선팽창계수, 우수한 치수안정성, 가스 배리어성 및 우수한 표면경도를 갖는 플라스틱 기판을 제조할 수 있다.The plastic substrate of the multilayer structure forming the symmetrical structure forms a symmetrical structure so that the plastic substrate does not bend in one direction due to temperature change. In addition, the multi-layered plastic substrate constituting the symmetrical structure can increase productivity by using a simple process of laminating each other between the plastic films, and even with low-cost equipment, small linear expansion coefficient, excellent dimensional stability, gas barrier property, and excellent surface hardness. It is possible to manufacture a plastic substrate having a.
상기 다층필름의 플라스틱 필름 간의 접합방법은 통상 접착제로 사용되는 아크릴계 접착제 또는 열접합방법에 의해 이루어질 수 있으며, 이에 반드시 한정되는 것은 아니다. 이때, 접착제를 사용할 경우 그 함량은 특별히 한정되지는 않으나, 형성된 접착층의 두께는 0.1 내지 10 ㎛인 것이 바람직하다.Bonding method between the plastic film of the multi-layer film may be made by an acrylic adhesive or a thermal bonding method commonly used as an adhesive, but is not necessarily limited thereto. At this time, the content of the adhesive is not particularly limited, but the thickness of the formed adhesive layer is preferably 0.1 to 10 ㎛.
또한, 본 발명은 상기 다층 구조의 플라스틱 기판을 포함하는 표시장치 또는 태양전지를 제공한다.In addition, the present invention provides a display device or a solar cell including the plastic substrate of the multi-layer structure.
또한, 본 발명은 다층 구조의 플라스틱 기판을 포함하는 포장재 및 용기를 제공한다.The present invention also provides a packaging material and a container including a plastic substrate of a multi-layer structure.
이하 본 발명을 실시예를 통해 더욱 상세히 설명하고자 한다. 그러나 하기 실시예는 본 발명을 예시하는 것일 뿐이며 본 발명의 범위가 하기 실시예로 한정되는 것은 아니다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to Examples. However, the following examples are merely to illustrate the invention and the scope of the present invention is not limited to the following examples.
실시예Example 1 One
이축 연신 압출공정으로 제조된 100 마이크론 두께의 PET (Polyethyleneterephthalate, 상품명 SH38, ㈜SKC) 필름을 양면 아크릴 프라이머를 코팅하여 제조된 필름을 150℃ 대류 오븐에서 1분간 열처리하여 잔류응력을 제거한 후 플라스틱 기재 필름으로 사용하였다.100 micron-thick PET (Polyethyleneterephthalate, SH38, SKC) film produced by a biaxial stretching extrusion process was coated with a double-sided acrylic primer to heat the film in a 150 ° C convection oven for 1 minute to remove residual stress Used as.
유기-무기 하이브리드 버퍼층을 형성하기 위한 개시물로는 테트라에톡시실란 32.5 중량부, 글리시딜옥시프로필트리메톡시실란 64.0 중량부, 아미노프로필트리메톡시실란 0.5 중량부, 알루미늄부톡시드 2.0 중량부, 및 지르코늄 프로폭시드 1.0 중량부를 사용하였고, 여기에 증류수 80.0 중량부를 첨가하여 25 ℃에서 24시간 동안 부분 가수분해 반응하여 졸상태의 버퍼 조성물을 제조하였다. 상기 버퍼 조성물을 PET의 한쪽면에 바 코팅하여 50 ℃에서 3분간 용매 건조 후 125 ℃의 대류 오븐에서 1시간 동안 젤 반응을 진행하였다. 젤반응 후 알파 스테퍼로 측정한 유기-무기 하이브리드 버퍼층의 두께는 3 마이크론이었다. 젤반응이 끝난 버퍼층 위에 아텍시스템사의 DC/RF 마그네트론 스퍼터기를 사용하여 Ar 가스를 50 sccm을 주입하고 5 mtorr의 압력 하에서 1000 Watt의 RF(13.56MHz) power로 10분간 증착하여 산화규소(SiOx, x=1-4의 정수) 박막을 증착하였다. SEM으로 관찰한 산화규소막의 두께는 100 nm이었다. 그 후 무기입자로 평균 1mm 두께 및 평균 1000mm의 크기를 갖는 판상의 글래스 플레이크 (Glass Flake사 GF100)를 상기 버퍼조성물 100 중량부에 대해 10중량부 첨가하였다. 상기 무기입자의 침전이 일어나지 않도록 충분히 혼련한 후 균일한 조성의 버퍼 조성물을 산화규소막 위에 바 코팅하였다. 상기 제1층의 버퍼층의 건조와 젤 반응과 동일한 조건으로 반응하여 제2 코팅층을 형성하여 다층구조의 플라스틱 기판을 제조하였다. The initiators for forming the organic-inorganic hybrid buffer layer include 32.5 parts by weight of tetraethoxysilane, 64.0 parts by weight of glycidyloxypropyltrimethoxysilane, 0.5 part by weight of aminopropyltrimethoxysilane, and 2.0 parts by weight of aluminum butoxide. 1.0 parts by weight of zirconium propoxide was used, and 80.0 parts by weight of distilled water was added thereto to partially hydrolyze at 25 ° C. for 24 hours to prepare a sol buffer composition. The buffer composition was bar-coated on one side of PET, followed by gel drying for 1 hour in a convection oven at 125 ° C. after drying the solvent at 50 ° C. for 3 minutes. The thickness of the organic-inorganic hybrid buffer layer measured by alpha stepper after gel reaction was 3 microns. Inject 50 sccm of Ar gas using Atec Systems' DC / RF magnetron sputter on the buffered gel layer, and deposit silicon oxide (SiOx, x) for 10 minutes at 1000 Watt of RF (13.56MHz) power under a pressure of 5 mtorr. An integer of = 1-4) and a thin film was deposited. The thickness of the silicon oxide film observed by SEM was 100 nm. Thereafter, 10 parts by weight of plate-shaped glass flakes (Glass Flake Co., Ltd. GF100) having an average thickness of 1 mm and an average size of 1000 mm were added to 100 parts by weight of the buffer composition. After sufficiently kneading to prevent precipitation of the inorganic particles, a buffer composition having a uniform composition was bar coated on the silicon oxide film. Drying of the buffer layer of the first layer and the reaction under the same conditions as the gel reaction to form a second coating layer to prepare a plastic substrate of a multi-layer structure.
실시예Example 2 2
실시예 1의 무기입자로 나노클레이(nanoclay)를 첨가한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 다층구조의 플라스틱 기판을 제조하였다. 상기 나노클레이는 여러 입자로 이루진 것으로, 하나의 입자는 높이가 10 nm 이하이고, 가로 세로의 길이가 100 nm 정도의 1차 입자가 5 내지 20정도 뭉쳐진 2차 입자를 사용하였다. Except for adding nanoclay (nanoclay) to the inorganic particles of Example 1 was prepared in a multi-layered plastic substrate in the same manner as in Example 1. The nanoclay is composed of several particles, one particle having a height of 10 nm or less, and the secondary particles of the primary particles of about 5 to 20 nm in length and width are aggregated.
실시예Example 3 3
실시예 1에서 무기입자로 500 nm의 직경을 가지는 구형의 실리카(silica)를 첨가한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 다층구조의 플라스틱 기판을 제조하였다.A plastic substrate having a multilayer structure was prepared in the same manner as in Example 1, except that spherical silica having a diameter of 500 nm was added as an inorganic particle in Example 1.
비교예Comparative example
실시예 1에서 하드코팅층에 무기입자를 첨가하지 않고 졸-겔반응으로 형성한 코팅층을 적층한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 다층구조의 플라스틱 기판을 제조하였다. A plastic substrate having a multi-layered structure was manufactured in the same manner as in Example 1, except that the coating layer formed by the sol-gel reaction without laminating inorganic particles in the hard coat layer was laminated in Example 1.
실험예Experimental Example
상기 실시예 1 내지 3 및 비교예에서 제조한 다층구조의 플라스틱 기판을 표시장치용 기판으로서의 주요 요구물성인 산소 투과율, 수증기 투과율, 변형온도, 광투과도, 헤이즈 및 연필경도를 하기의 방법으로 측정하여 그 결과를 하기 표 1에 기재하였다.The plastic substrate of the multilayer structure prepared in Examples 1 to 3 and Comparative Examples was measured by the following method by measuring the oxygen transmittance, water vapor transmission rate, strain temperature, light transmittance, haze and pencil hardness as the main properties of the substrate for display devices. The results are shown in Table 1 below.
1) 산소 투과율: MOCON사의 OX-TRAN 2/20을 사용하여 ASTM D 3985의 방법으로 상온에서 0%의 상대습도로 측정하였다.1) Oxygen permeability: measured with a relative humidity of 0% at room temperature by the method of ASTM D 3985 using OX-TRAN 2/20 of MOCON.
2) 수증기 투과율: PERMATRAN-W-3/33을 사용하여 ASTM F 1249의 방법으로 100%의 상대습도로 상온에서 48시간동안 측정하였다.2) Water vapor transmission rate: Using a PERMATRAN-W-3 / 33 was measured for 48 hours at room temperature with a relative humidity of 100% by the method of ASTM F 1249.
3) 변형온도: Thermal Mechanical Analyzer (TMA)를 사용하여 5gf에서 길이변화가 급격하게 일어나는 변곡점으로 측정하였다.3) Deformation temperature: The thermal mechanical analyzer (TMA) was used to measure the inflection point of the sudden change in length at 5gf.
4) 광투과도: ASTM D1003에 근거하여 각각 Varian사의 UV-분광계를 사용하여 가시광선 영역인 380에서 780nm의 범위에서 측정하였다.4) Light transmittance: Based on ASTM D1003, each of them was measured in the visible light range of 380 to 780 nm using a Varian UV spectrometer.
5) 헤이즈: Tokyo Denshoku사의 Hazemeter TC-H3DPK로 ASTM D1003의 방법으로 측정하였다.5) Haze: Hazemeter TC-H3DPK, manufactured by Tokyo Denshoku, was measured by ASTM D1003.
6) 연필경도: 연필경도는 200g의 하중 하에서 ASTM D3363의 방법으로 측정하였다. 200g의 하중하에서 경도가 다른 여러가지 연필을 차례로 2번이상 스크래치를 하여 연필자국을 육안으로 관찰하여 스크래치가 생기지 않는 연필의 경도를 필름표면의 연필경도로 측정하였다.6) Pencil Hardness: Pencil hardness was measured by the method of ASTM D3363 under a load of 200g. Under the load of 200g, various pencils of different hardness were scratched two or more times in sequence, and the pencil traces were visually observed, and the hardness of the pencil without scratching was measured as the pencil hardness of the film surface.
[표 1][Table 1]
도 1은 본 발명의 다층구조의 플라스틱 기판의 단면도이다. 1 is a cross-sectional view of a plastic substrate of a multilayer structure of the present invention.
도 2는 본 발명의 다층구조의 플라스틱 기판을 접합하여 대칭을 이루는 다층구조의 플라스틱 기판의 단면도이다.Figure 2 is a cross-sectional view of a multi-layer plastic substrate symmetrical by bonding the plastic substrate of the multi-layer structure of the present invention.
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