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KR101262842B1 - Device for cooling solution in wet station - Google Patents

Device for cooling solution in wet station Download PDF

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Publication number
KR101262842B1
KR101262842B1 KR1020060129153A KR20060129153A KR101262842B1 KR 101262842 B1 KR101262842 B1 KR 101262842B1 KR 1020060129153 A KR1020060129153 A KR 1020060129153A KR 20060129153 A KR20060129153 A KR 20060129153A KR 101262842 B1 KR101262842 B1 KR 101262842B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
cooling
chemical liquid
storage unit
processing equipment
wet processing
Prior art date
Application number
KR1020060129153A
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Korean (ko)
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KR20080056356A (en
Inventor
이태우
Original Assignee
주식회사 케이씨텍
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 주식회사 케이씨텍 filed Critical 주식회사 케이씨텍
Priority to KR1020060129153A priority Critical patent/KR101262842B1/en
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    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
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    • H01L21/67017—Apparatus for fluid treatment
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    • H01L21/6704—Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like for wet cleaning or washing
    • H01L21/67057—Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like for wet cleaning or washing with the semiconductor substrates being dipped in baths or vessels
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
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    • B08B—CLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
    • B08B15/00—Preventing escape of dirt or fumes from the area where they are produced; Collecting or removing dirt or fumes from that area
    • B08B15/007—Fume suction nozzles arranged on a closed or semi-closed surface, e.g. on a circular, ring-shaped or rectangular surface adjacent the area where fumes are produced

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Abstract

본 발명은 습식처리장비의 약액 냉각장치에 관한 것으로, 베스에서 배액되는 약액을 소정온도로 냉각시키는 습식처리장비의 약액 냉각장치에 있어서, 상기 베스에서 배액되는 고온의 약액을 유입받는 유입포트와 냉각처리된 소정온도의 약액을 배출하는 배출포트가 형성되는 저장부; 상기 저장부 내의 약액을 수냉방식으로 냉각시키는 제1냉각기재; 및 상기 저장부 내의 약액을 공냉방식으로 냉각시키는 제2냉각기재를 포함하되, 상기 저장부는 그의 개방된 상면을 밀폐시키는 덮개를 더 포함하고, 상기 제2냉각기재는 상기 덮개 저면에 설치되어 상기 저장부 내의 약액에 냉각용 기체를 분사하는 노즐을 포함하는 습식처리장비의 약액 냉각장치를 제공한다.The present invention relates to a chemical liquid cooling apparatus of a wet processing equipment, wherein the chemical liquid cooling apparatus of a wet processing equipment for cooling the chemical liquid discharged from the bath to a predetermined temperature, the inlet port and cooling receiving the high temperature chemical liquid discharged from the bath A storage unit having a discharge port for discharging the processed chemical liquid at a predetermined temperature; A first cooling substrate cooling the chemical liquid in the reservoir by a water cooling method; And a second cooling substrate for cooling the chemical liquid in the storage unit by an air cooling method, wherein the storage unit further includes a cover for sealing an open upper surface thereof, and the second cooling substrate is installed on the bottom surface of the cover to store the liquid. It provides a chemical liquid cooling device of the wet processing equipment including a nozzle for injecting a cooling gas to the chemical liquid in the unit.

본 발명에 의하면, 수냉 및 공냉방식에 의해 저장부로 유입된 약액을 신속하게 냉각시킬 수 있어 약액의 배액에 소요되는 작업시간을 단축하여 습식처리에 소요되는 전체 텍트타임도 단축시키는 효과가 있다.According to the present invention, it is possible to quickly cool the chemical liquid introduced into the storage unit by the water cooling and air cooling methods, thereby shortening the working time required for draining the chemical liquid, thereby reducing the overall text time required for the wet treatment.

베스, 약액, 냉각, 수냉, 공냉 Bath, chemical, cooling, water cooling, air cooling

Description

습식처리장비의 약액 냉각장치{Device for cooling solution in wet station}Device for cooling solution in wet processing equipment

도 1은 종래 습식처리장비의 약액 냉각장치를 나타낸 구성도이다.1 is a block diagram showing a chemical liquid cooling device of a conventional wet processing equipment.

도 2는 본 발명에 따른 습식처리장비의 약액 냉각장치를 나타낸 일실시 구성도이다.Figure 2 is an embodiment configuration showing a chemical liquid cooling device of the wet processing equipment according to the present invention.

도 3은 도 2에 도시된 습식처리장비의 약액 냉각장치에서 제2냉각기재를 나타낸 일실시 사시도이다.FIG. 3 is a perspective view illustrating a second cooling substrate in the chemical liquid cooling device of the wet processing equipment shown in FIG. 2.

*도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명*Description of the Related Art [0002]

110 : 저장부 111 : 유입포트110: storage 111: inlet port

112 : 배출포트 120 : 덮개112: discharge port 120: cover

130 : 투명창 140 : 수평판130: transparent window 140: horizontal plate

200 : 제1냉각기재 211 : 인입포트200: 1st cooling base material 211: inlet port

212 : 인출포트 220 : 냉각튜브212: withdrawal port 220: cooling tube

300 : 제2냉각기재 301 : 공급라인300: second cooling material 301: supply line

302 : 밸브 303 : 공급포트302: valve 303: supply port

310 : 노즐 311 : 분사공310: nozzle 311: injection hole

320 : 고정브라켓 320: fixed bracket

본 발명은 습식처리장비의 약액 냉각장치에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 베스에서 배액되는 고온의 약액을 유입받아 냉각시킨 후 배액처리하는 습식세정장비의 약액 냉각장치에 관한 것이다.The present invention relates to a chemical liquid cooling apparatus of a wet processing equipment, and more particularly, to a chemical liquid cooling apparatus of a wet cleaning equipment that is subjected to cooling after receiving and cooling a high temperature chemical liquid discharged from a bath.

일반적으로 반도체 장치의 제조를 위해 사용되는 반도체 기판 예컨데 실리콘 웨이퍼는 각종 파티클, 금속 불순물, 유기물 등에 의해 오염되어 제품의 수율이나 신뢰성이 심각하게 저하될 수 있으므로, 반도체 장치의 제조공정에서는 반도체 기판에 부착된 상기한 오염물질을 제거해 내는 세정공정이 수행된다.In general, a semiconductor substrate used for manufacturing a semiconductor device, for example, a silicon wafer may be contaminated by various particles, metal impurities, organic matters, and so on, so that the yield and reliability of a product may be seriously degraded. A cleaning process is performed to remove the above contaminants.

특히 반도체 장치 회로 패턴의 디자인 룰이 미세화됨에 따라 이러한 오염물질을 제거해 내는 세정공정이 더욱 중요시 되고 있다. 이와 같이 반도체 기판을 세정하는 방법에는 플라즈마 처리나 자외선 조사 등에 의한 건식(Dry)세정방식과, 세정액을 사용하는 습식(Wet)세정방식이 제안된 바 있다. In particular, as the design rule of the semiconductor device circuit pattern is refined, the cleaning process for removing such contaminants becomes more important. As such a method of cleaning a semiconductor substrate, a dry cleaning method by plasma treatment or ultraviolet irradiation, and a wet cleaning method using a cleaning solution have been proposed.

이에 반해, 습식세정방식은 장치비용이 저렴저면서도 처리량이 우수하며, 여러 종류의 오염을 동시에 제거 가능하고, 설치방식에 따라 배치 처리나 전후면 동시 세정도 가능하다는 등의 이점을 가지고 있으므로 현재 반도체 프로세스에서 주류를 이루고 있다. On the other hand, the wet cleaning method has the advantages of low cost and excellent throughput, simultaneous removal of various kinds of contaminants, and batch processing or simultaneous cleaning of front and rear surfaces, depending on the installation method. Mainstream in the process.

이러한 습식세정방식이 적용된 습식처리장비는 기판을 침지시켜 기판을 습식처리하는 베스가 구비된다. 상기 베스는 기판을 습식처리하기 위한 습식처리용 약 액을 저장하는데, 공정이 진행될수록 약액의 농도 내지는 순도가 저하되므로 일정한 주기로 약액이 교체되어야 한다.The wet processing apparatus to which the wet cleaning method is applied is provided with a bath to wet the substrate by dipping the substrate. The bath stores a wet treatment chemical liquid for wet treating the substrate. As the process proceeds, the concentration or purity of the chemical liquid decreases, so the chemical liquid must be replaced at regular intervals.

일례로 기판의 습식세정처리에 사용되는 황산 약액은 통상 1440분 즉 24시간 단위로 교체되어야 하고, 온도가 약 120℃에 달하므로 그대로 배액되지 못하고 약 60℃ 정도의 중온으로 냉각된 후 배액된다.For example, the sulfuric acid chemical solution used in the wet cleaning process of the substrate should be replaced by a unit of 1440 minutes or 24 hours, and the temperature reaches about 120 ° C., so that the sulfuric acid chemical solution is not drained as it is, but is cooled down to about 60 ° C. and then drained.

도 1은 종래 습식처리장비의 약액 냉각장치를 나타낸 구성도이다.1 is a block diagram showing a chemical liquid cooling device of a conventional wet processing equipment.

도 1을 참조저면, 종래 습식처리장비의 약액 냉각장치는 베스(미도시)로 부터 배액되는 약액을 유입받아 저장하는 저장부(110)와, 상기 저장부(110) 내의 약액을 수냉방식으로 냉각시키는 냉각기재(200)를 포함한다.Referring to FIG. 1, a conventional chemical liquid cooling apparatus of a wet processing apparatus includes a storage unit 110 for receiving and storing a chemical liquid drained from a bath (not shown), and cooling the chemical liquid in the storage unit 110 by a water cooling method. It includes a cooling substrate 200 to be.

상기 저장부(110)는 일측에 약액을 유입받는 유입포트(111)와 약액을 배출하는 배출포트(112)가 형성되고, 타측에 약액 유입여부를 확인할 수 있는 투명창(130)이 형성되며, 그의 개방된 상면을 밀폐시키는 덮개(120)를 더 포함한다.The storage unit 110 is formed with an inlet port 111 for receiving the chemical liquid on one side and a discharge port 112 for discharging the chemical liquid, and on the other side is formed a transparent window 130 to check whether the chemical liquid inlet, It further includes a cover 120 for sealing the open top surface.

상기 덮개(120)는 저장부(110) 내부에서 발생되는 흄(fume)을 배기할 수 있는 배기포트(121)가 더 형성된다.The cover 120 is further provided with an exhaust port 121 for exhausting the fume generated in the storage 110.

상기 냉각기재(200)는 덮개(120)의 인입포트(211)로 인입되어 저장부(110) 내부를 복수회 절곡 경유한 후 덮개(120)의 인출포트(212)로 인출되는 냉각튜브(220)를 포함한다.The cooling material 200 is introduced into the inlet port 211 of the cover 120, and after passing through the inside of the storage unit 110 a plurality of times, the cooling tube 220 withdrawn to the outlet port 212 of the cover 120 ).

이러한 냉각튜브(220)는 저장부(110) 내부에 설치되는 복수의 수평판(140)에 의해 저장부(110) 내부에 고정설치되고, 일측으로 냉각액이 주입되어 타측으로 배 출되므로 그 외연이 저장부(110) 내부에 저장된 약액과 열교환하여 저장부(110) 내부의 약액을 냉각시킨다.The cooling tube 220 is fixedly installed in the storage unit 110 by a plurality of horizontal plates 140 installed in the storage unit 110, the coolant is injected to one side and discharged to the other side so that the outer edge is The chemical liquid stored in the storage 110 is cooled by heat exchange with the chemical stored in the storage 110.

그러나 종래 습식처리장비의 약액 냉각장치는 단일의 냉각기재에 의해 약액을 냉각시키므로 약액의 냉각에 소요되는 시간이 길어지는 단점이 있다.However, the conventional chemical liquid cooling apparatus of the wet processing equipment has a disadvantage in that the time required for cooling the chemical liquid is long because the chemical liquid is cooled by a single cooling material.

이처럼 약액의 냉각에 소요되는 시간이 길어지면 약액의 배액처리에 소요되는 작업시간도 증가되어 전체 습식처리에 소요되는 텍트타임도 길어지는 문제점이 있었다.As such, the longer the time required for the cooling of the chemical solution, the longer the working time required for the drainage of the chemical solution, the longer the text time required for the entire wet treatment.

상기와 같은 문제점을 감안한 본 발명은, 약액을 단시간 내에 소정온도로 냉각시키는 습식처리장비의 약액 냉각장치를 제공함에 그 목적이 있다.In view of the above problems, the present invention has an object to provide a chemical liquid cooling apparatus of wet processing equipment for cooling the chemical liquid to a predetermined temperature within a short time.

상기와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명은, 베스에서 배액되는 약액을 소정온도로 냉각시키는 습식처리장비의 약액 냉각장치에 있어서, 상기 베스에서 배액되는 고온의 약액을 유입받는 유입포트와 냉각처리된 소정온도의 약액을 배출하는 배출포트가 형성되는 저장부; 상기 저장부 내의 약액을 수냉방식으로 냉각시키는 제1냉각기재; 및 상기 저장부 내의 약액을 공냉방식으로 냉각시키는 제2냉각기재를 포함하되, 상기 저장부는 그의 개방된 상면을 밀폐시키는 덮개를 더 포함하고, 상기 제2냉각기재는 상기 덮개 저면에 설치되어 상기 저장부 내의 약액에 냉각용 기체를 분사하는 노즐을 포함한다.The present invention for achieving the above object, in the chemical liquid cooling apparatus of the wet processing equipment for cooling the chemical liquid discharged from the bath to a predetermined temperature, the inlet port and the cooling treatment to receive the high temperature chemical liquid discharged from the bath A storage unit having a discharge port for discharging the chemical liquid at a predetermined temperature; A first cooling substrate cooling the chemical liquid in the reservoir by a water cooling method; And a second cooling substrate for cooling the chemical liquid in the storage unit by an air cooling method, wherein the storage unit further includes a cover for sealing an open upper surface thereof, and the second cooling substrate is installed on the bottom surface of the cover to store the liquid. And a nozzle for injecting cooling gas into the chemical liquid in the portion.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명에 따른 바람직한 실시 예를 상세하게 설명한다. 그러나 이하의 실시 예는 이 기술분야에서 통상적인 지식을 가진 자에게 본 발명이 충분히 이해되도록 제공되는 것으로서 여러 가지 다른 형태로 변형될 수 있으며, 본 발명의 범위가 다음에 기술되는 실시 예에 한정되는 것은 아니다. 도면상에서 동일 부호는 동일한 요소를 지칭한다.Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. However, the following embodiments are provided to those skilled in the art to fully understand the present invention, and may be modified in various forms, and the scope of the present invention is limited to the embodiments described below. It is not. Wherein like reference numerals refer to like elements throughout.

도 2는 본 발명의 바람직한 일실시예에 따른 습식처리장비의 약액 냉각장치를 나타낸 구성도이고, 도 3은 도 2에 도시된 습식처리장비의 약액 냉각장치에서 제2냉각기재를 나타낸 사시도이다.2 is a block diagram showing a chemical liquid cooling device of the wet processing equipment according to an embodiment of the present invention, Figure 3 is a perspective view showing a second cooling substrate in the chemical liquid cooling device of the wet processing equipment shown in FIG.

도 2 및 도 3을 참조하면, 본 발명의 바람직한 일실시예에 따른 습식처리장비의 약액 냉각장치는 베스(미도시)에서 배액되는 고온의 약액을 유입받는 유입포트(111)와 냉각처리된 소정온도의 약액을 배출하는 배출포트(112)가 형성되는 저장부(110)와, 상기 저장부(110) 내의 약액을 수냉방식으로 냉각시키는 제1냉각기재(200)와, 상기 저장부(110) 내의 약액을 공냉방식으로 냉각시키는 제2냉각기재(300)를 포함한다.2 and 3, the chemical liquid cooling apparatus of the wet processing apparatus according to an embodiment of the present invention is the inlet port 111 for receiving the high temperature chemical liquid drained from the bath (not shown) and the predetermined cooling treatment A storage unit 110 having a discharge port 112 for discharging the chemical liquid at a temperature, a first cooling base 200 for cooling the chemical liquid in the storage unit 110 by a water cooling method, and the storage unit 110. And a second cooling substrate 300 for cooling the chemical liquid in the air cooling method.

본 일실시예에 따르면 제1냉각기재(200)에 의한 수냉공정에 추가하여 제2냉각기재(300)에 의한 공냉공정이 추가되므로 저장부(110)로 유입된 약액을 신속하게 냉각시킬 수 있는 장점이 있다.According to the present embodiment, in addition to the water cooling process by the first cooling substrate 200, an air cooling process by the second cooling substrate 300 is added, thereby rapidly cooling the chemical liquid introduced into the storage unit 110. There is an advantage.

상기 저장부(110)는 종래 기술에서 상술한 바와 같이 상기 베스에서 배액되는 고온의 약액을 유입포트(111)를 통하여 유입받아 후술할 제1,2냉각기재(200, 300)에 의해 소정온도로 냉각시킨 후 배출포트(112)를 통하여 배출처리하는 구성부품이다.The storage unit 110 receives the high temperature chemical liquid discharged from the bath through the inflow port 111 as described above in the prior art to a predetermined temperature by the first and second cooling substrates 200 and 300 to be described later. After cooling, the discharge component is discharged through the discharge port 112.

이와 같이 저장부(110)에서 소정온도로 냉각되어 배출되는 약액은 예컨데 재 생용 약액라인(미도시)으로 이송되어 재생처리된 후 다시 상기 베스로 공급될 수도 있고, 농도 및 순도가 극히 저하되어 재생처리가 유리하지 못한 경우 폐기처분될 수도 있다.As such, the chemical liquid cooled and discharged to the predetermined temperature in the storage unit 110 may be transferred to a regeneration chemical liquid line (not shown), regenerated, and then supplied to the bath again. If the treatment is not favorable, it may be disposed of.

상기에서, 유입포트(111)는 저장부(110)의 상부에 형성되고 배출포트(112)는 저장부(110)의 하부에 형성되는 것이 바람직하다. 따라서 유입포트(111)로 유입된 약액은 저장부(110) 하부로 자연낙하되는 과정에서 후술할 제1,2냉각기재(200, 300)에 의해 냉각처리된 후 배출포트(112)로 중력작용에 의해 자연배출되는 장점이 있다.In the above, the inlet port 111 is preferably formed in the upper portion of the storage unit 110 and the discharge port 112 is preferably formed in the lower portion of the storage unit 110. Therefore, the chemical liquid introduced into the inlet port 111 is cooled by the first and second cooling substrates 200 and 300 to be described later in the course of the natural dropping into the storage unit 110, and then gravity action as the discharge port 112. There is an advantage that is naturally discharged by.

상기 제1냉각기재(200)는 종래 기술에서 상술한 바와 같이 수냉방식에 의해 저장부(110) 내부의 약액을 냉각시키는 구성부품으로, 저장부(110) 내부를 복수회 절곡 경유하여 설치되는 냉각튜브(220)를 포함한다.As described above in the related art, the first cooling substrate 200 is a component that cools the chemical liquid inside the storage unit 110 by a water cooling method, and is installed by bending the storage unit 110 through a plurality of times. Tube 220.

이러한 냉각튜브(220)는 예컨데 테프론 계열의 PFA(Perfluoro Alkoxy Alkene Polymer)로 형성될 수 있고, 일측으로 냉각액이 주입되어 타측으로 배출되므로 그 외연이 저장부(110) 내부에 저장된 약액과 열교환하여 저장부(110) 내부의 약액을 냉각시킨다.The cooling tube 220 may be formed of, for example, TFA-based Perfluoro Alkoxy Alkene Polymer (PFA), and the coolant is injected into one side and discharged to the other side, so that the outer edge is heat-exchanged with the chemical solution stored in the storage 110. The chemical liquid inside the unit 110 is cooled.

상기에서, 저장부(110)는 그의 개방된 상면을 밀폐시키는 덮개(120)를 더 포함하며, 제2냉각기재(300)는 덮개(120) 저면에 설치되어 저장부(110) 내의 약액에 냉각용 기체를 분사하는 노즐(310)을 포함하는 것이 바람직하다.In the above, the storage unit 110 further includes a cover 120 for sealing an open top surface thereof, and the second cooling substrate 300 is installed at the bottom of the cover 120 to cool the chemical liquid in the storage unit 110. It is preferable to include a nozzle 310 for spraying the gas.

상기 제2냉각기재(300)는 덮개(120)의 저면에 설치되는 노즐(310)을 포함하며, 상기 노즐(310)은 예컨데 관형상으로 형성되어 그 내부에 냉각용 기체인 질소 가스(N2 gas)나 건조공기(clean dry air)를 공급받고 외연에 축선상을 따라 복수 형성되는 분사공(311)을 통하여 질소가스나 건조공기를 분사할 수 있다.The second cooling substrate 300 includes a nozzle 310 installed on the bottom surface of the cover 120, wherein the nozzle 310 is formed in a tubular shape, for example, nitrogen gas (N 2), which is a gas for cooling therein. Gas or clean air may be supplied and nitrogen gas or dry air may be injected through the injection holes 311 formed in plural along the axis along the outer edge.

특히 상기 베스에서 저장부(110)로 배액되는 약액이 황산 약액등의 케미칼 종류일 경우 상기 노즐(310)은 상기한 질소가스를 포함하여 불활성 가스 종류를 분사하는 것이 바람직하다.In particular, when the chemical liquid discharged from the bath to the storage unit 110 is a chemical type such as sulfuric acid chemical solution, the nozzle 310 preferably includes an inert gas type including the nitrogen gas.

이러한 노즐(310)은 덮개(120)의 상측에 설치되는 공급포트(303)에서 냉각용 기체를 공급받고, 공급포트(303)는 냉각용 기체 공급원(미도시)과 연결되는 냉각용 기체 공급라인(301)과 소통연결된다. 한편 공급라인(301)에는 밸브(302)가 설치되어 냉각용 기체의 공급여부를 단속한다.The nozzle 310 receives the cooling gas from the supply port 303 installed above the cover 120, and the supply port 303 is connected to the cooling gas supply source (not shown). 301 is in communication with. On the other hand, the supply line 301 is provided with a valve 302 to control the supply of cooling gas.

상기에서, 노즐(310)은 덮개(120)의 저면에 병렬로 복수 설치되는 것이 바람직하다. 따라서 각 노즐(310)은 저장부(110)의 전 부위에 대하여 냉각용 기체를 분사하므로 저장부(110)에 저장된 약액에 골고루 냉각처리할 수 있는 장점이 있다.In the above, it is preferable that a plurality of nozzles 310 are installed in parallel on the bottom surface of the cover 120. Therefore, each nozzle 310 has an advantage that can be evenly cooled to the chemical liquid stored in the storage unit 110 because the injection of the cooling gas to the entire portion of the storage unit 110.

그리고 각 노즐(310)은 덮개(120) 저면에 체결수단(321)에 의해 체결되는 고정브라켓(320)에 의해 덮개(120) 저면에 고정설치된다.Each nozzle 310 is fixedly installed on the bottom surface of the cover 120 by a fixing bracket 320 fastened by the fastening means 321 to the bottom surface of the cover 120.

상기에서, 덮개(120)에는 저장부(110) 내의 흄을 배기하는 배기포트(121)를 더 포함하는 것이 바람직하다.In the above, it is preferable that the cover 120 further includes an exhaust port 121 for exhausting the fume in the storage unit 110.

상기 저장부(110)는 덮개(120)에 의해 밀폐되어 그 내부 공간의 약액에서 발생되는 흄에 의해 내압이 급상승될 수 있으므로 상기 배기포트(121)를 통하여 흄을 배기한다.The storage unit 110 is sealed by the cover 120 so that the internal pressure may be rapidly increased by the fume generated from the chemical liquid in the inner space, thereby exhausting the fume through the exhaust port 121.

더욱이 제2냉각기재(300)의 노즐(310)에서 약액의 공냉을 위해 분사되는 질소가스 또는 건조공기에 의해서 발생되는 흄도 배기포트(121)를 통하여 배기처리되므로 저장부(110) 내부의 압력을 안정화 시킬 수 있는 장점이 있다.In addition, since the fumes generated by nitrogen gas or dry air injected for air cooling of the chemical liquid from the nozzle 310 of the second cooling substrate 300 are exhausted through the exhaust port 121, the pressure inside the storage unit 110 may be reduced. There is an advantage that can be stabilized.

상기에서, 저장부(110)는 유입포트(111)로 유입된 약액을 제2냉각기재(300)의 각 노즐(310)의 직하부에 인접하여 수평이송시키는 수평판(140)을 더 포함하는 것이 바람직하다. 상기 수평판(140)은 다수의 관통공(141)이 형성되어 수직방향으로 복수설치되는 것이 더욱 바람직하다.In the above, the storage unit 110 further includes a horizontal plate 140 for horizontally transporting the chemical liquid introduced into the inlet port 111 adjacent the lower portion of each nozzle 310 of the second cooling substrate 300 adjacent thereto. It is preferable. It is more preferable that the horizontal plate 140 is provided with a plurality of through holes 141 in a plurality in the vertical direction.

상기 수평판(140)은 유입포트(111)를 통하여 저장부(110)로 유입되는 약액을 유입 초기부터 냉각하기 위한 구성부품인 동시에 냉각튜브(220)를 저장부(110) 내에 고정설치하기 위한 구성부품이다.The horizontal plate 140 is a component for cooling the chemical liquid introduced into the storage unit 110 through the inlet port 111 from the beginning of the inlet and at the same time for fixing the cooling tube 220 in the storage unit 110. It is a component part.

즉 유입포트(111)로 유입된 약액은 최상부의 수평판(140)에 낙하되어 일부는 수평판(140)의 냉각튜브(220)가 관통하는 관통공(141)을 통하여 다음의 수평판(140)으로 낙하될 수도 있고, 나머지는 최상부의 수평판(140)을 따라 수평이송된 후 다음의 수평판(140)으로 낙하될 수 있다.That is, the chemical liquid introduced into the inflow port 111 falls on the horizontal plate 140 of the uppermost portion, and the next horizontal plate 140 is passed through the through hole 141 through which the cooling tube 220 of the horizontal plate 140 passes. ) May be dropped, and the remainder may be horizontally moved along the uppermost horizontal plate 140 and then dropped to the next horizontal plate 140.

따라서 유입포트(111)를 통하여 유입되는 약액은 유입 초기부터 제2냉각기재(300)의 노즐(310)에서 분사되는 냉각용 기체에 의해 냉각되므로 냉각효율이 월등히 향상되는 장점이 있다.Therefore, since the chemical liquid introduced through the inlet port 111 is cooled by the gas for cooling injected from the nozzle 310 of the second cooling substrate 300 from the initial inflow, the cooling efficiency is greatly improved.

한편 도 2에서 미설명부호 130은 저장부(110) 내부로의 약액 유입여부 및 약액량을 육안으로 확인할 수 있는 투명창이고, 211은 냉각튜브(220)가 인입되는 인 입포트이며, 212는 냉각튜브(220)가 인출되는 인출포트이다.Meanwhile, in FIG. 2, reference numeral 130 denotes a transparent window for visually confirming whether the liquid is introduced into the storage unit 110 and the amount of the liquid, and 211 is an inlet port through which the cooling tube 220 is introduced. It is a withdrawal port through which the cooling tube 220 is drawn out.

이상에서는 본 발명을 특정의 바람직한 실시 예를 들어 도시하고 설명하였으나, 본 발명은 상기한 실시 예에 한정되지 않으며 본 발명의 개념을 벗어나지 않는 범위 내에서 당해 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 다양한 변경과 수정이 가능하다.Although the present invention has been shown and described with reference to certain preferred embodiments, the present invention is not limited to the above-described embodiments and has ordinary skill in the art to which the present invention pertains without departing from the concept of the present invention. Various changes and modifications are possible by the user.

상기한 바와 같이 본 발명은, 수냉 및 공냉방식에 의해 저장부로 유입된 약액을 신속하게 냉각시킬 수 있어 약액의 배액에 소요되는 작업시간을 단축하여 습식처리에 소요되는 전체 텍트타임도 단축시키는 효과가 있다.As described above, the present invention is capable of rapidly cooling the chemical liquid introduced into the storage unit by water cooling and air cooling methods, thereby shortening the working time required for draining the chemical liquid and shortening the overall texting time required for the wet treatment. have.

또한 본 발명은, 저장부로 유입되는 약액이 유입 초기부터 제2냉각기재에 의해 공냉되므로 약액을 최대한 신속하게 냉각시킬 수 있는 장점이 있다.In addition, the present invention has the advantage of cooling the chemical liquid as quickly as possible because the chemical liquid flowing into the reservoir is air-cooled by the second cooling substrate from the initial inflow.

Claims (7)

베스에서 배액되는 약액을 소정온도로 냉각시키는 습식처리장비의 약액 냉각장치에 있어서,In the chemical liquid cooling apparatus of the wet processing equipment for cooling the chemical liquid discharged from the bath to a predetermined temperature, 상기 베스에서 배액되는 고온의 약액을 유입받는 유입포트와 냉각처리된 소정온도의 약액을 배출하는 배출포트가 형성되는 저장부;A storage unit having an inlet port for receiving a high temperature chemical liquid discharged from the bath and a discharge port for discharging the chemical liquid at a predetermined temperature; 상기 저장부 내의 약액을 수냉방식으로 냉각시키는 제1냉각기재; 및A first cooling substrate cooling the chemical liquid in the reservoir by a water cooling method; And 상기 저장부 내의 약액을 공냉방식으로 냉각시키는 제2냉각기재를 포함하되, It includes a second cooling substrate for cooling the chemical liquid in the reservoir by an air cooling method, 상기 저장부는 그의 개방된 상면을 밀폐시키는 덮개를 더 포함하고,The reservoir further includes a cover to seal its open top surface, 상기 제2냉각기재는 상기 덮개 저면에 설치되어 상기 저장부 내의 약액에 냉각용 기체를 분사하는 노즐을 포함하는 습식처리장비의 약액 냉각장치.The second cooling material is a chemical liquid cooling device of the wet processing equipment comprising a nozzle which is installed on the bottom surface of the cover and sprays a cooling gas to the chemical liquid in the storage. 삭제delete 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 노즐은 상기 덮개의 저면에 병렬로 복수 설치되는 것을 특징으로 하는 습식처리장비의 약액 냉각장치.The nozzle is a chemical liquid cooling device of the wet processing equipment, characterized in that a plurality installed in parallel on the bottom of the cover. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 덮개에는 상기 저장부 내의 흄을 배기하는 배기포트를 더 포함하는 습식처리장비의 약액 냉각장치.The cover further comprises an exhaust port for exhausting the fume in the storage unit. 제1항 또는 제3항 또는 제4항에 있어서,The method according to claim 1 or 3, 상기 유입포트는 상기 저장부의 상부에 형성되고 상기 배출포트는 상기 저장부의 하부에 형성되는 것을 특징으로 하는 습식처리장비의 약액 냉각장치.The inlet port is formed in the upper portion of the reservoir and the discharge port is a chemical liquid cooling device of the wet processing equipment, characterized in that formed in the lower portion. 제5항에 있어서,The method of claim 5, 상기 저장부는 상기 유입포트로 유입된 약액을 상기 제2냉각기재의 직하부에 인접하여 수평이송시키는 수평판을 더 포함하는 습식처리장비의 약액 냉각장치.The storage unit further comprises a horizontal plate for horizontally transporting the chemical liquid introduced into the inlet port adjacent to the lower portion of the second cooling base material. 제6항에 있어서,The method of claim 6, 상기 수평판은 다수의 관통공이 형성되어 수직방향으로 복수설치된 것을 특징으로 하는 습식처리장비의 약액 냉각장치.The horizontal plate is a chemical liquid cooling device of the wet processing equipment, characterized in that a plurality of through-holes are formed in a vertical direction.
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