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KR101248198B1 - Portable Air Disinfection Device for Air Booth - Google Patents

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KR101248198B1
KR101248198B1 KR1020110019141A KR20110019141A KR101248198B1 KR 101248198 B1 KR101248198 B1 KR 101248198B1 KR 1020110019141 A KR1020110019141 A KR 1020110019141A KR 20110019141 A KR20110019141 A KR 20110019141A KR 101248198 B1 KR101248198 B1 KR 101248198B1
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Abstract

본 발명은, 간이 에어부스의 공압 세정에 의해 다량의 전염성 미생물이나 먼지 등의 오염물질이 혼입된 가스를 재처리하는 에어 부스용 가스 재처리 장치에 관한 것으로, 본 발명에 따른 간이 에어 부스용 가스 재처리 장치는, 흡기로와 배기로가 형성된 터널형 함체와; 에어 부스에서 회수된 가스를 흡기로를 통해 터널형 함체 내로 유입 및 통과시켜 배기로로 강제 배출하는 송풍기를 포함하여 구성되며, 상기 터널형 함체 내에는 흡기로를 통해 유입되는 가스에 오존을 혼입시키는 오존 발생모듈을 포함하여 구성된 전처리부와; 아크 발생기에서 생성되는 글라이딩 아크를 통해 플라즈마 활성입자와 자외선을 생성하는 플라즈마 반응층과, 상기 플라즈마 반응층에서 발산되는 자외선에 의해 활성 산소 원자를 생성하는 광촉매 필터층을 통해 전처리부에서 유입되어진 오존이 혼입된 가스를 산화/분해하여 오염물질을 제거하는 주처리부; 및 상기 주처리부를 통과하면서 미처리된 가스의 잔류 오존을 제거하는 후처리부가 순차 배치된다.The present invention relates to a gas reprocessing apparatus for an air booth for reprocessing a gas containing contaminants such as a large amount of infectious microorganisms or dust by pneumatic cleaning of a simple air booth, and the gas for a simple air booth according to the present invention. The reprocessing apparatus includes: a tunnel-type housing having an intake passage and an exhaust passage; It includes a blower for forcing the gas recovered in the air booth to enter and pass through the intake passage into the tunnel-type enclosure, and the ozone is mixed in the gas introduced through the intake passage in the tunnel-type enclosure. A preprocessing unit including an ozone generating module; Ozone introduced from the pretreatment unit is mixed through a plasma reaction layer that generates plasma active particles and ultraviolet rays through a gliding arc generated by an arc generator, and a photocatalyst filter layer that generates active oxygen atoms by ultraviolet rays emitted from the plasma reaction layer. A main processor for oxidizing / decomposing the gas to remove contaminants; And a post-treatment unit sequentially removing residual ozone of the untreated gas while passing through the main processing unit.

Figure R1020110019141
Figure R1020110019141

Description

간이 에어 부스용 가스 재처리 장치{Portable Air Disinfection Device for Air Booth}Portable Air Disinfection Device for Air Booth

본 발명은 간이 에어 부스용 가스 재처리 장치에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 관공서, 병원, 실험실, 축산 농가 등지에 시설된 에어부스에 시설되어, 에어부스의 공압 세정에 의해 다량의 전염성 미생물이나 먼지 등의 오염물질이 혼입된 가스를 재처리함으로써, 가스에 혼입된 전염성 미생물이나 먼지 등의 오염물질을 신속하고 안정되게 제거하는 에어 부스용 가스 재처리 장치에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a gas reprocessing apparatus for a simple air booth, and more particularly, to an air booth installed in a public office, a hospital, a laboratory, a livestock farm, etc., and a large amount of infectious microorganisms and dust by pneumatic cleaning of the air booth. The present invention relates to a gas reprocessing apparatus for an air bus booth, which quickly and stably removes contaminants such as infectious microorganisms and dust mixed into a gas by reprocessing a gas into which contaminants such as contaminants are mixed.

일반적으로 관공서, 병원, 실험실, 축산 농가 등지에는 방문객의 피부나 의복 등지에는 잔류하는 유해세균 등의 다양한 미생물과 먼지 악취입자 등의 오염물질을 세정하거나 살균, 소독하는 다양한 소독 또는 세정장치들이 시설되고 있다. 특히, 최근 가축성 전염병인 구제역이 전국 전역에 창궐함에 따라, 이러한 세정장치들의 필요성이 더욱 부각되고 있다.Generally, various disinfection or cleaning devices are installed in public offices, hospitals, laboratories, livestock farms, etc. to clean, sterilize, and disinfect various microorganisms such as harmful bacteria remaining on visitors' skins and clothes, and contaminants such as dust and odor particles. have. In particular, as foot-and-mouth disease, a livestock epidemic, has spread throughout the country, the necessity of such cleaning devices is increasing.

대표적인 소독 또는 세정장치에는, 살균 소독액을 직접 방문객에게 미립되게 분사하여 살균 소독액을 통해 방문객의 의복이나 피부에 부착된 오염물질을 살균 소독하는 분무 세정형태와, 밀폐된 부스 내에 가스를 고압으로 토출시켜 가스를 통해 오염물질을 세정하는 공압 세정형태가 있다.Representative disinfection or cleaning device is spray spraying type that sterilizes disinfectant disinfectant directly to visitor, sterilizes contaminants adhered to visitor's clothes or skin through disinfectant disinfectant, and discharges gas at high pressure in closed booth. There is a pneumatic cleaning type that cleans contaminants through gas.

여기서, 후자인 공압 세정형태는 방문객에게 살균 소독액을 직접 분사하지 아니하는 관계로, 전자와 달리 살균 소독액에 의한 잔류감이나 이물감의 발생이 없고, 단 시간에 방문객의 피부나 의복에 잔류된 오염물질을 제거할 수 있는 이점을 갖고, 또 구조가 간단하여 이동식 등 간이 형태로 제작되어서 관공서나, 병원, 실험실, 축산 농가 등지에 간편하고 신속한 시설이 가능한 이점도 갖는다.Here, the latter pneumatic cleaning type does not directly spray the disinfectant disinfectant to the visitor, unlike the former, there is no residual feeling or foreign substance caused by the disinfectant disinfectant solution, and contaminants remaining in the visitor's skin or clothing in a short time. It has the advantage that can be removed, and the structure is simple and is manufactured in a simple form, such as mobile, and also has the advantage that can be easily and quickly installed in public offices, hospitals, laboratories, livestock farms and the like.

그런데, 방문객의 피부나 의복에 잔류된 오염물질을 제거하여 배출되는 가스는 유해세균 등의 다양한 미생물과 먼지 악취입자 등의 오염물질을 혼입하고 있는 관계로, 오염물질의 제거과정 없이 이를 대기 중에 방출시키면 인근에 위치한 사람이나 가축들이 다량의 오염물질에 노출되고, 또 에어부스 내로 재투입 하면 추후 방문객이 다량의 오염물질에 직접 노출되는 문제점이 야기되므로, 안정된 세정이나 방역효과를 기대하기 어렵고, 오히려 방문객의 세정을 위해 토출되는 고압의 공기가 각종 전염병의 2차 오염의 매개체로 작용할 수도 있다.However, the gas emitted by removing contaminants remaining on the skin or clothes of visitors is mixed with various microorganisms such as harmful bacteria and pollutants such as dust and odor particles, so they are released into the atmosphere without removing contaminants. If people or livestock are located nearby, they will be exposed to a large amount of pollutants, and if they are re-introduced into the air booth, the visitors will be directly exposed to a large amount of pollutants. Therefore, it is difficult to expect a stable cleaning or quarantine effect. High-pressure air discharged for the cleaning of visitors may act as a medium for secondary pollution of various infectious diseases.

이를 해소하기 위해 당 분야에서는 에어부스에, 에어세정을 마친 가스에 물을 미립되게 분무하는 가스 재처리 장치를 시설하여, 가스에 물을 미립되게 분무하는 수처리를 통해 가스에 혼입된 오염물질을 제거하고 있으나, 이러한 수처리를 통해서는 가스에 포함된 다량의 오염물질을 안정되게 제거하지 못하는 한계성을 갖고, 또 수처리 방식의 가스 처리장치는 연속적인 물의 공급이 요구되고 부피가 비대하여 이동이 어려운 관계로, 간이 에어부스용으로는 적합하지 아니하다.In order to solve this problem, the related art is equipped with a gas reprocessing apparatus that sprays water finely into an air booth and gas that has been air-cleaned, and removes contaminants mixed in gas through a water treatment that finely sprays water into the gas. However, through such water treatment, there is a limit that can not stably remove a large amount of contaminants contained in the gas, and the water treatment type gas treatment device requires continuous water supply and is difficult to move due to its large volume. However, it is not suitable for simple air booths.

따라서, 당 분야에서는 이동이 용이한 간이 에어 부스에서 배출된 가스에 혼입되어진 다량의 오염물질을 신속하고 안정되게 제거할 수 있는 개량된 형태의 에어 부스용 가스 재처리 장치의 개발 및 보급이 요구되고 있는 실정이다.Therefore, there is a need in the art for the development and dissemination of an improved type of gas reprocessing device for an air booth that can quickly and stably remove a large amount of contaminants mixed in the gas discharged from a portable air booth that is easy to move. There is a situation.

상기한 요구에 의해 안출된 본 발명의 목적은, 에어부스에서 회수된 가스를 재처리 하여, 가스에 혼입된 유해세균 등의 다양한 미생물과 분진 악취입자 등의 오염물질을 산화 분해, 및 흡착을 반복적으로 교번하여 가스의 안정된 청결상태를 유지시키고, 산화 분해를 촉진하기 위해 투입된 오존의 안정적인 제거를 도모하여 잔류 오존이 에어부스 또는 대기 중으로 방출되는 것을 억제하도록 한 간이 에어 부스용 가스 재처리 장치를 제공함에 있다.The object of the present invention devised by the above-mentioned requirements is to reprocess the gas recovered from the air booth, and to repeatedly oxidatively decompose and adsorb various microorganisms such as harmful bacteria and dust odor particles. In order to maintain a stable clean state of the gas alternately to promote the stable removal of the introduced ozone to promote oxidative decomposition to provide a gas reprocessing device for a simple air booth to suppress the release of residual ozone into the air booth or air. Is in.

상기한 목적은, 본 발명에서 제공되는 하기 구성에 의해 달성된다.The above object is achieved by the following constitutions provided in the present invention.

본 발명에 따른 간이 에어 부스용 가스 재처리 장치는,Gas reprocessing apparatus for a simple air booth according to the present invention,

가스를 토출하여 오염물질을 공압 세정하는 간이 에어 부스에 설치되어, 세정공간으로부터 회수되는 가스의 오염물질을 제거하는 간이 에어 부스용 가스 재처리 장치에 있어서,
흡기로와 배기로가 형성된 터널형 함체와; 에어 부스에서 회수된 가스를 흡기로를 통해 터널형 함체 내로 유입 및 통과시켜 배기로로 강제 배출하는 송풍기를 포함하여 구성되고,
상기 터널형 함체 내에는 흡기로를 통해 유입되는 가스에 오존을 혼입시키는 오존 발생모듈을 포함하여 구성된 전처리부와; 아크 발생기에서 생성되는 글라이딩 아크를 통해 플라즈마 활성입자와 자외선을 생성하는 플라즈마 반응층과, 상기 플라즈마 반응층에서 발산되는 자외선에 의해 활성 산소 원자를 생성하는 광촉매 필터층을 통해 전처리부에서 유입되어진 오존이 혼입된 가스를 산화/분해하여 오염물질을 제거하는 주처리부; 및 상기 주처리부를 통과하면서 미처리된 가스의 잔류 오존을 제거하는 후처리부가 순차 배치되며,
상기 후처리부는 광촉매망을 통해 자외선 램프의 외측을 감싼 형태의 자외선 발생모듈과, 오존 분해 촉매필터와 잔류 오염물질 분해 촉매필터가 적층된 흡착 촉매 필터층을 포함하여 구성되고,
상기 플라즈마 반응층의 아크 발생기는, 후방에 유입구가 형성되고 전방에 배기구가 형성된 방전관과, 상기 방전관의 중공에 경사면을 갖는 둘 이상의 방전극을 이격되게 배치한 아크 생성부와, 상기 방전관의 중공에 수용되게 설치되어 아크 생성부의 외측을 감싸는 유도부재를 포함하여 구성되고, 상기 유도부재는, 측벽에 복수의 주배기공들이 형성된 망상몸체로, 후방에는 상기 방전관의 유입구와 연통하는 유입구가 형성되고 전방에는 유입구를 통해 유입된 가스 중 일부를 배출하는 유도 배기공이 형성되어서, 상기 유입구를 통해 아크 생성부로 유입된 가스 중, 일부 가스는 전방으로 직진 이송하여 전방에 형성된 유도 배기공으로 배출되면서 방전극 사이에 생성된 아크를 전방으로 글라이딩시켜 글라이딩 아크를 생성하고, 나머지 가스는 아크 생성부를 순환한 다음 측부로 진행방향을 전환하여 주배기공으로 배출되도록 구성된 것을 특징으로 한다.
A simple air booth gas reprocessing apparatus which is installed in a simple air booth for discharging gas and pneumatically cleans contaminants, and removes contaminants of gas recovered from the cleaning space.
A tunnel-shaped housing formed with an intake passage and an exhaust passage; It includes a blower for forcing the gas recovered in the air booth to enter and pass through the intake passage into the tunnel-type enclosure, forcibly discharged to the exhaust passage,
A pre-processing unit including an ozone generating module configured to mix ozone into the gas introduced through the intake air in the tunnel-type enclosure; Ozone introduced from the pretreatment unit is mixed through a plasma reaction layer that generates plasma active particles and ultraviolet rays through a gliding arc generated by an arc generator, and a photocatalyst filter layer that generates active oxygen atoms by ultraviolet rays emitted from the plasma reaction layer. A main processor for oxidizing / decomposing the gas to remove contaminants; And a post-processing unit sequentially removing residual ozone of untreated gas while passing through the main processing unit,
The post-treatment unit includes an ultraviolet generation module having a form wrapped around the outside of the ultraviolet lamp through a photocatalyst network, and an adsorption catalyst filter layer in which an ozone decomposition catalyst filter and a residual pollutant decomposition catalyst filter are stacked.
The arc generator of the plasma reaction layer, the discharge generating tube formed in the rear inlet and the exhaust opening in the front, the arc generating unit arranged to space the two or more discharge electrodes having an inclined surface in the hollow of the discharge tube, and accommodated in the hollow of the discharge tube The guide member is configured to include an induction member surrounding the outside of the arc generating unit, and the induction member is a reticulated body having a plurality of main exhaust holes formed on a side wall, and an inlet is formed in the rear thereof and communicates with an inlet of the discharge tube. An induction exhaust hole for discharging a part of the gas introduced through the through is formed, and among the gas introduced into the arc generating unit through the inlet, some gas is transported straight forward to be discharged to the induction exhaust hole formed in the front arc generated between the discharge electrode Gliding forward to create a gliding arc, with the remaining gas being arc It is characterized by configured to be discharged to the main exhaust pores by circulating the production unit and then the direction of travel to the side.

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바람직하게는, 상기 후처리부에는 가스에 방향족 탄화수소를 투입시켜, 방향족 탄화 수소를 통해 가스에 혼입된 잔류 오존을 분해하는 방향족 탄화수소 분무모듈이 부가된다.Preferably, an aromatic hydrocarbon spray module is added to the aftertreatment unit to decompose residual ozone mixed in the gas through aromatic hydrocarbons.

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그리고, 상기 플라즈마 반응층은, 카트리지 본체에 복수의 아크 발생기들이 배설되어 플라즈마 필터 카트리지를 형성하고, 상기 플라즈마 필터 카트리지가 터널형 함체 내에 형성된 카트리지 장입부에 진입하여 형성된다.In addition, the plasma reaction layer is formed by forming a plurality of arc generators in the cartridge body to form a plasma filter cartridge, and the plasma filter cartridge enters a cartridge charging unit formed in the tunnel-type enclosure.

또한, 상기 방전관의 후방에는 아크 생성부의 외측으로 통과하는 가스를 글라이딩 아크가 생성되는 아크 생성부 내로 유도하여 이송하는 가스 유도편이 배치된다.In addition, a gas guiding piece is arranged at the rear of the discharge tube to guide and pass the gas passing outside the arc generating part into the arc generating part in which the gliding arc is generated.

전술한 바와 같이 본 발명에서는, 터널형 함체 내에 전처리부와 주처리부 및 후처리부를 순차적으로 배치함에 있어, 상기 주처리부에 복수의 아크 발생기를 갖는 플라즈마 반응층과, 광촉매 필터를 갖는 광촉매 필터층이 상호 교번되게 적층시켜, 터널형 함체 내로 유입된 가스가 플라즈마 반응층의 각 아크 발생기와 광촉매 필터층을 반복적으로 통과하도록 하고 있다.As described above, in the present invention, when the pretreatment unit, the main processing unit, and the post-treatment unit are sequentially arranged in the tunnel-type enclosure, the plasma reaction layer having a plurality of arc generators in the main processing unit and the photocatalyst filter layer having the photocatalyst filter are mutually By alternately stacking, the gas flowing into the tunnel-type enclosure is repeatedly passed through each arc generator and photocatalyst filter layer of the plasma reaction layer.

이에 따라, 상기 주처리부에 통과하는 가스는 전자, 이온, 활성원자, 분자, 자외선, OH 라디컬을 포함하는 각종 플라즈마 반응입자에 의해 오염물질이 산화/분해작용에 의해 탈취 및 살균하여 배출될 수 있고, 또 상기 플라즈마 반응층의 아크 발생기는 가스에 혼입된 오존과 반응하여 OH 라디컬을 생성하는 자외선을 생성하므로, 주처리부에 오존의 분해를 위한 별도의 자외선 램프를 배치하는 것이 불필요하다.Accordingly, the gas passing through the main processing unit may be discharged by deodorizing and sterilizing the contaminants by oxidation / decomposition by various plasma reaction particles including electrons, ions, active atoms, molecules, ultraviolet rays, and OH radicals. In addition, since the arc generator of the plasma reaction layer generates ultraviolet rays that react with ozone mixed in the gas to generate OH radicals, it is unnecessary to arrange a separate ultraviolet lamp for decomposition of ozone in the main processing unit.

그리고, 각 플라즈마 반응층의 아크 발생기에는 유도부재가 배치되어, 가스가 아크 생성부에 체류 및 순환하면서 산화/분해되므로, 글라이딩 아크를 통한 가스에 포함된 오염물질의 안정적인 제거가 가능하고, 또 플라즈마 반응층과, 광촉매 필터층을 포함하는 각 필터층은 카트리지 구조로 터널형 함체 내에 형성되므로, 유지보수에 따른 신속성과 편리성을 갖는다.In addition, an induction member is disposed in the arc generator of each plasma reaction layer, and the gas is oxidized / decomposed while staying and circulating in the arc generator, so that the contaminants contained in the gas through the gliding arc can be stably removed, and the plasma Since each filter layer including the reaction layer and the photocatalyst filter layer is formed in the tunnel-type enclosure in a cartridge structure, it has speed and convenience according to maintenance.

특히, 후처리부는 자외선 램프를 광촉매망이 감싼 형태의 고효율의 자외선 발생모듈과, 오존 분해 촉매필터와 오염물질 분해 촉매필터를 포함하는 다단의 필터층, 및 탄화수소 분사모듈에 의해, 허용 기준치 보다 낮은 농도로 잔류 오존과 각종 오염물질의 처리가 가능하다.In particular, the post-treatment unit has a concentration lower than an acceptable standard by a highly efficient ultraviolet generation module in which a UV lamp is wrapped in a photocatalyst network, a multi-stage filter layer including an ozone decomposition catalyst filter and a pollutant decomposition catalyst filter, and a hydrocarbon injection module. It is possible to treat residual ozone and various pollutants.

도 1은 본 발명에서 바람직한 실시예로 제안하고 있는 간이 에어부스에 본 실시예에 따른 가스 재처리 장치를 시설한 시공상태를 보여주는 것이고,
도 2는 본 발명에서 바람직한 실시예로 제안하고 있는 간이 에어부스용 가스 재처리 장치의 세부 구성과, 가스의 재처리 과정을 보여주는 것이고,
도 3과 도 4는 본 발명에서 바람직한 실시예로 제안하고 있는 간이 에어부스용 가스 재처리 장치에 있어, 아크 발생기의 세부 구성 및 작용상태를 보여주는 것이다.
1 is a view showing a construction state equipped with a gas reprocessing apparatus according to the present embodiment in a simple air booth proposed as a preferred embodiment in the present invention,
2 shows a detailed configuration of a gas reprocessing apparatus for a simple air booth and a gas reprocessing process proposed as a preferred embodiment in the present invention,
3 and 4 show the detailed configuration and operation of the arc generator in the gas reprocessing apparatus for a simple air booth proposed as a preferred embodiment in the present invention.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명에서 바람직한 실시예로 제안하고 있는 간이 에어부스용 가스 재처리 장치를 상세히 설명하기로 한다.Hereinafter, a gas reprocessing apparatus for a simple air booth proposed as a preferred embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 1은 본 발명에서 바람직한 실시예로 제안하고 있는 간이 에어부스에 본 실시예에 따른 가스 재처리 장치를 시설한 시공상태를 보여주는 것이고, 도 2는 본 발명에서 바람직한 실시예로 제안하고 있는 간이 에어부스용 가스 재처리 장치의 세부 구성과, 가스의 재처리 과정을 보여주는 것이다.1 is a view illustrating a construction state in which a gas reprocessing apparatus according to this embodiment is installed in a simple air booth proposed as a preferred embodiment in the present invention, and FIG. 2 is a simplified air proposed as a preferred embodiment in the present invention. It shows the detailed configuration of the gas reprocessing device for the booth and the gas reprocessing process.

본 발명에서 바람직한 실시예로 제안하고 있는 간이 에어부스용 가스 재처리 장치(1)는, 도 1에서 보는 바와 같이 간이 에어 부스(100)의 세정공간(110)으로부터 회수되는 가스의 오염물질을 제거하는 것으로, 상기 가스에는 통상 분진, 기체 상태의 유해 무기물, 휘발성 유기 화합물, 및 세균 등의 각종 오염물질이 다량 잔류한다.The gas reprocessing apparatus 1 for the simple air booth proposed as a preferred embodiment in the present invention removes contaminants of gas recovered from the cleaning space 110 of the simple air booth 100 as shown in FIG. 1. In this gas, a large amount of various contaminants such as dust, gaseous toxic inorganic substances, volatile organic compounds, and bacteria usually remain.

그리고, 상기 간이 에어부스(100)에서 회수된 가스의 오염물질을 제거하는 본 발명은, 도 2a 내지 도 2b에서 보는 바와 같이 흡기로(11a)와 배기로(11b)가 형성된 터널형 함체(10)와; 상기 흡입로(11a)를 통해 터널형 함체(10) 내로 가스를 유입시켜 배기로(11b)를 통해 강제 배출하는 송풍기(12)를 포함한다.In addition, the present invention for removing contaminants of the gas recovered from the simple air booth 100, as shown in Figure 2a to 2b, the tunnel-type enclosure 10 is formed with the intake passage (11a) and the exhaust passage (11b) )Wow; And a blower 12 for introducing gas into the tunnel-type enclosure 10 through the suction path 11a and forcibly discharging the gas through the exhaust path 11b.

상기 터널형 함체(10) 내에는, 에어부스(100)의 세정공간에서 회수된 가스의 오염물질을 제거하는 전처리부(20)와 주처리부(30) 및 후처리부(40)가 각각 순차적으로 배치되며, 간이 에어부스(100)에서 터널형 함체(10) 내로 회수된 가스는 이들 각 처리부(20, 30, 40)를 순차적으로 통과하면서 오염물질이 제거되어 안정된 청결상태를 확보한다.In the tunnel-type enclosure 10, the pre-treatment unit 20, the main processor 30 and the after-treatment unit 40 to remove the contaminants of the gas recovered in the cleaning space of the air booth 100 are sequentially arranged The gas recovered into the tunnel-type enclosure 10 in the simple air booth 100 passes through each of the treatment units 20, 30, and 40 sequentially to remove contaminants, thereby ensuring a stable clean state.

그리고, 각 처리부(20, 30, 40)를 통과하면서 재 처리된 가스는 대기 중으로 방출할 수도 있지만, 본 실시예에서는 도 1과 같이 배기로(11b)를 따라 배출되는 재 처리된 가스를 간이 에어부스(100) 내로 재 투입시켜 공압 세정에 재 사용하도록 하고 있다.The gas reprocessed while passing through each of the processing units 20, 30, and 40 may be discharged into the atmosphere. However, in the present embodiment, the reprocessed gas discharged along the exhaust path 11b as shown in FIG. The gas is re-injected into the booth 100 to be reused for pneumatic cleaning.

한편, 상기 전처리부(20)는 흡기로(11a)를 통해 유입되는 가스에 오존을 혼입시키는 오존 발생모듈(21)과, 가스에 혼입된 유/수분 및 입자가 큰 분진을 제거하는 디미스터 필터(22)를 포함하여 구성되어, 흡기로(11a)를 통해 회수하여 유입된 가스는 오존 발생모듈(21)에 의해 다량의 오존이 혼입되는 한편, 디미스터 필터(22)를 통과하면서 유/수분 및 분진 등이 여과된다.Meanwhile, the pretreatment unit 20 includes an ozone generating module 21 for mixing ozone into the gas introduced through the intake air 11a, and a demister filter for removing oil / water and large particles mixed with the gas. It is configured to include a 22, the gas recovered and introduced through the intake air (11a) is mixed with a large amount of ozone by the ozone generating module 21, while passing through the demister filter 22 oil / water And dust are filtered out.

그리고, 상기 오존 발생모듈(21)을 통해 유입된 오존 중 일부는 전처리부(20)를 통한 여과과정 중에 가스에 포함된 일부의 오염물질과 직접 산화 반응하고, 나머지는 가스에 혼입된 상태로 주처리부(30)로 유입되어 후술되는 플라즈마 반응층(31)과, 광촉매 필터층(33)을 통과하면서 오존보다 훨씬 강력한 산화력을 갖지만 수명이 매우 짧은(예: 만분의 1초 이하) 플라즈마 반응 입자 (산소 원자, OH 라디컬)로 전환되어서, 가스에 혼입된 오염물질과 순간적으로 반응하여 무해 또는 무취한 물질로 전환된다.In addition, some of the ozone introduced through the ozone generating module 21 is directly oxidized and reacted with some contaminants contained in the gas during the filtration process through the pretreatment unit 20, and the other is mainly mixed in the gas. Through the plasma reaction layer 31 and the photocatalyst filter layer 33 introduced into the processing unit 30 and having a much stronger oxidizing power than ozone, but having a very short lifespan (for example, less than one second) plasma reaction particles (oxygen) Atomic, OH radicals), reacting instantaneously with contaminants incorporated into the gas and into harmless or odorless substances.

그리고, 직접 오염물질 제거에 사용되지 않은 수명이 짧은 플라즈마 반응 산소 입자들은 주위의 산소, 질소 분자들과 충돌 반응해서 수명이 긴 오존, 수소 산화물, 질소 산화물로 전환되어 후술되는 후처리부(40)의 자외선 발생모듈(41)과, 후처리 촉매필터층(42), 방향족 탄화수소 분무모듈(43)을 통과하면서 이들 유해 물질들은 오존, 수소 산화물, 질소 산화물에 의해 추가로 산화 분해된다.In addition, the short-lived plasma reactive oxygen particles, which are not used for direct pollutant removal, are collided with surrounding oxygen and nitrogen molecules to be converted into long-lived ozone, hydrogen oxide, and nitrogen oxide, which is described later. These harmful substances are further oxidatively decomposed by ozone, hydrogen oxide, and nitrogen oxide while passing through the ultraviolet generation module 41, the post-treatment catalyst filter layer 42, and the aromatic hydrocarbon spray module 43.

한편, 상기 주처리부(30)에는 도 2a와 도 2b에서 보는 바와 같이 글라이딩 아크방전을 통해 고에너지 전자(1-5 eV, 1 eV=전자 온도 11,500 도 K)와, 자외선을 발생시키는 플라즈마 반응층(31)과, 상기 플라즈마 반응층(31)에서 생성된 자외선에 의해 OH 라디컬 및 플라즈마 활성반응입자를 생성시키는 광촉매 필터층(33)이 각각 배치된다.Meanwhile, as shown in FIGS. 2A and 2B, the main processor 30 has a plasma reaction layer that generates high energy electrons (1-5 eV, 1 eV = electron temperature 11,500 degrees K) and ultraviolet rays through gliding arc discharge. (31) and a photocatalyst filter layer 33 for generating OH radicals and plasma active reaction particles by ultraviolet rays generated in the plasma reaction layer 31, respectively.

여기서, 상기 플라즈마 반응층(31)에서 생성되는 고에너지 전자는 가스에 포함된 수분 및 공기와 충돌하면서 활성 탄화수소, 활성산소, 활성수소, 활성질소, 오존, OH 라디컬, 과산화수소 및 NOx 등 플라즈마 활성 입자를 다량 생산하고, 글라이딩 아크방전에서 방출되는 600- 900℃의 열과 다량의 자외선에 의해 광촉매 필터층(33)은 오염물질을 분해하는 활성 산소 원자를 생성하여 이들 생성물과 가스에 포함된 오염물질 사이의 산화/환원 반응을 통해 가스에 포함된 오염물질을 분해한다.Here, the high-energy electrons generated in the plasma reaction layer 31 collide with the water and air contained in the gas and activate plasma such as active hydrocarbons, active oxygen, active hydrogen, active nitrogen, ozone, OH radicals, hydrogen peroxide and NOx. By producing a large amount of particles, and the heat of 600-900 ° C. emitted from the gliding arc discharge and the large amount of ultraviolet light, the photocatalyst filter layer 33 generates active oxygen atoms that decompose the contaminants to form a gap between these products and the contaminants contained in the gas. Decompose pollutants in gas through oxidation / reduction reaction.

본 실시예에서는 이러한 복수의 플라즈마 반응층(31)과 복수의 광촉매 필터층(33)을 터널형 함체(10) 내에 다단으로 교번하여 적층시켜, 전처리부(20)를 통과한 가스가 교번하여 적층된 플라즈마 반응층(31)과 광촉매 필터층(33)을 순차적으로 통과하면서 오염물질이 반복하여 제거되도록 함으로써, 오염물질의 제거에 따른 향상된 효율성을 갖도록 하고 있다.In the present embodiment, the plurality of plasma reaction layers 31 and the photocatalyst filter layers 33 are alternately stacked in the tunnel-shaped enclosure 10 in multiple stages, and the gas passing through the pretreatment unit 20 is alternately stacked. Contaminants are repeatedly removed while sequentially passing through the plasma reaction layer 31 and the photocatalyst filter layer 33, thereby improving the efficiency of removing the contaminants.

상기 광촉매 필터층(33)은, 여과공(미도시)들이 형성된 담체에 TiO2를 코팅한 광촉매 필터(33b)를 포함하여 구성되고, 상기 플라즈마 반응층(31)은 후방에 유입구(32a-a)가 형성되고 전방에 배기구(32a-b)가 형성된 방전관(32a)의 중공에, 둘 이상의 방전극(32b-a)이 이격되게 배치된 형태의 아크 생성부(32b)를 수용시켜, 이들 방전극(32b-a) 사이의 아크 방전을 통해 플라즈마 활성 반응입자와 자외선을 생성하는 복수의 아크 발생기(32)들이 배치된 형태로 구성된다.The photocatalyst filter layer 33 includes a photocatalyst filter 33b coated with TiO 2 on a carrier on which filtration holes (not shown) are formed, and the plasma reaction layer 31 is formed at the rear of the inlets 32a-a. Is formed and the arc generating part 32b of the form in which two or more discharge electrodes 32b-a are spaced apart is accommodated in the hollow of the discharge tube 32a in which the exhaust ports 32a-b were formed, and these discharge electrodes 32b A plurality of arc generators 32 for generating plasma active reaction particles and ultraviolet rays through an arc discharge between -a) are arranged.

본 실시예에서는 총 4개의 아크 발생기(32)를 배치한 플라즈마 반응층(31)과, 광촉매 필터(33b)를 포함하여 구성된 광촉매 필터층(33)을 터널형 함체(10) 내에 교번되게 다단으로 적층시킨 형태의 주처리부(30)를 형성하고 있다.In this embodiment, the plasma reaction layer 31 including the four arc generators 32 and the photocatalyst filter layer 33 including the photocatalyst filter 33b are alternately stacked in the tunnel-shaped enclosure 10. The main processing part 30 of the said form is formed.

이와 같이 복수의 플라즈마 반응층(31)과 광촉매 필터층(33)을 터널형 함체(10) 내에 다단으로 교번되게 적층시키면, 가스에 포함된 오염물질들은 플라즈마 반응층(31) 및 광촉매 필터층(33)을 순차 통과하면서 반복적으로 여과되므로, 가스에 포함된 오염물질의 보다 안정적인 제거가 가능하다.As such, when the plurality of plasma reaction layers 31 and the photocatalyst filter layers 33 are alternately stacked in the tunnel-type enclosure 10, contaminants included in the gas may be contained in the plasma reaction layer 31 and the photocatalyst filter layer 33. It is filtered repeatedly while passing sequentially, thereby allowing more stable removal of contaminants contained in the gas.

그리고, 본 실시예에서는 상기 아크 발생기(32)들을 터널형 함체(10) 내에 직접 고정하여 플라즈마 반응층(31)을 터널형 함체(10)에 일체로 형성하지 아니하고, 복수의 아크 발생기(32)들을 카트리지 본체(31a)에 고정하여 플라즈마 반응 카트리지(31')를 형성하고, 이 플라즈마 반응 카트리지(31')를 터널형 함체(10) 내에 형성된 카트리지 장입부(11c)에 진입시켜 터널형 함체(10) 내에, 복수의 아크 발생기(32)를 갖는 플라즈마 반응층(31)을 형성하고 있다.In the present embodiment, the arc generators 32 are directly fixed in the tunnel-type enclosure 10 so that the plasma reaction layer 31 is not integrally formed in the tunnel-type enclosure 10, and the plurality of arc generators 32 are formed. The plasma reaction cartridge 31 'to form a cartridge charging portion 11c formed in the tunnel-type enclosure 10, thereby entering the tunnel-type enclosure ( In the 10), the plasma reaction layer 31 having the plurality of arc generators 32 is formed.

그리고, 상기 광촉매 필터층(33)도 마찬가지로, 카트리지 본체(33a)에 하나 이상의 광촉매 필터(33b)를 배치하여 광촉매 필터카트리지(33')를 형성하고, 이 광촉매 필터카트리지(33')를 터널형 함체(10) 내에 형성된 카트리지 장입부(11c)에 각각 진입시켜 광촉매 필터층(33)을 형성하도록 하고 있다.In addition, the photocatalyst filter layer 33 is similarly arranged with one or more photocatalyst filters 33b in the cartridge body 33a to form a photocatalyst filter cartridge 33 ', and the photocatalyst filter cartridge 33' is a tunnel housing. It enters into the cartridge charging part 11c formed in 10, respectively, and forms the photocatalyst filter layer 33. As shown in FIG.

이와 같이 터널형 함체(10) 내에 플라즈마 반응층(31)과 광촉매 필터층(33)을 각 카트리지(31',33')를 통해 형성하면, 추후 아크 발생기(32)의 방전극(32b-a)의 교체나, 광촉매 필터(33b)의 청소를 포함하는 플라즈마 반응층(31)과 광촉매 필터층(33)의 신속하고 간편한 유지 보수가 가능한 이점을 갖게 된다. 물론, 전처리부(20)의 디미스터 필터(22)도 카트리지 형태 제작되어 터널형 함체(10)에 장입하여 설치될 수 있다.As such, when the plasma reaction layer 31 and the photocatalyst filter layer 33 are formed in each of the cartridges 31 'and 33' in the tunnel-shaped enclosure 10, the discharge electrodes 32b-a of the arc generator 32 are later formed. The plasma reaction layer 31 and the photocatalyst filter layer 33 including replacement or cleaning of the photocatalyst filter 33b can be quickly and easily maintained. Of course, the demister filter 22 of the pretreatment unit 20 may also be manufactured in the form of a cartridge and installed in the tunnel-type enclosure 10.

도 3과 도 4는 본 발명에서 바람직한 실시예로 제안하고 있는 간이 에어부스용 가스 재처리 장치에 있어, 아크 발생기의 전체 구성 및 작용상태를 보여주는 것으로, 본 실시예에서는 상기 플라즈마 반응층(31)에 개량된 아크 발생기(32)들을 배치하여, 이들 아크 발생기(32)에 의해 가스가 아크 생성부(32b)에 체류 및 순환하면서 혼입된 다량의 오염물질이 산화 분해되도록 하고 있다.3 and 4 show the overall configuration and operation state of the arc generator in the gas reprocessing apparatus for the simple air booth proposed as a preferred embodiment in the present invention, in the present embodiment the plasma reaction layer 31 By arranging the improved arc generators 32, the large amount of contaminants mixed while the gas stays and circulates in the arc generator 32b is oxidized and decomposed by these arc generators 32.

상기 아크 발생기(32)는, 도 3과 도 4에서 보는 바와 같이 전방에 유입구(32a-a)가 형성되고 후방에 배기구(32a-b)가 형성된 방전관(32a)과; 상기 방전관(32a)의 중공에 경사면을 갖는 둘 이상의 방전극(32b-a)을 이격되게 배치한 아크 생성부(32b)를 포함하여 구성된다.The arc generator 32 includes a discharge tube 32a having an inlet port 32a-a formed in the front and an exhaust port 32a-b formed in the rear as shown in FIGS. 3 and 4; And an arc generator 32b in which two or more discharge electrodes 32b-a having inclined surfaces are spaced apart from each other in the hollow of the discharge tube 32a.

도면을 보면 상기 방전극(32b-a)은, 애자(32d)를 통해 방전관(32a)의 천공(32a-c)에 단자부를 절연구조로 고정하여, 각 방전극(32b-a)은 전원 공급장치(31b)에서 인가되는 고전압의 전류를 방전관(32a)의 외부에 노출된 단자부를 통해 인가받아 글라이딩 아크를 생성한다.As shown in the drawing, the discharge electrodes 32b-a fix the terminal portion to the perforations 32a-c of the discharge tube 32a through the insulator 32d with an insulating structure, and each discharge electrode 32b-a is a power supply device ( A high voltage current applied in 31b) is applied through a terminal portion exposed to the outside of the discharge tube 32a to generate a gliding arc.

그리고, 상기 방전관(32a)의 후방에는 아크 생성부(32b)의 외측으로 이송되는 가스의 이송을 방해하여 글라이딩 아크가 생성되는 아크 생성부(32b) 내로 유도하여 이송하는 가스 유도편(32e)이 배치된다.And, behind the discharge tube 32a, a gas guide piece 32e for interfering with the transfer of the gas transferred to the outside of the arc generator 32b to guide and transfer the arc to the arc generator 32b in which the gliding arc is generated. Is placed.

따라서, 상기 아크 생성부(32b)의 외측으로 이송되는 가스는 가스 유도편(32e)에 의해 아크 생성부(32b) 내로 유도하여 유입되므로, 아크 생성부(32b)를 통과하면서 오염물질의 안정적인 제거가 이룩된다.Therefore, the gas transported to the outside of the arc generator 32b is guided into the arc generator 32b by the gas guide piece 32e and flows in, thereby stably removing contaminants while passing through the arc generator 32b. Is accomplished.

그리고, 각 방전극(32b-a) 사이는 유입구(32a-a)가 형성된 후방에서 배기구(32a-b)가 형성된 전방으로 갈수록 점진적으로 간격이 넓어지는 형태로 구성되며, 이에 따라 상기 방전극(32b-a) 사이에 고전압의 전류가 방전되어 아크가 생성되면, 이 아크는 유입구(32a-a)를 통해 후방에서 전방으로 강제 이송되는 가스에 의해 후방에서 전방으로 반복적으로 글라이딩되어 넓은 면적의 글라이딩 아크영역을 형성한다.The discharge electrodes 32b-a are formed between the discharge electrodes 32b-a in a form in which a gap gradually widens from the rear of the inlets 32a-a to the front of the exhaust ports 32a-b. When a high-voltage current is discharged between a) to generate an arc, the arc is repeatedly glided from the rear to the front by a gas forced from the rear to the front through the inlets 32a-a, thereby gliding the arc area of a large area. To form.

이때, 상기 방전극(32b-a)의 사이의 최단 간극거리는 0.2mm 이상이고 최장 간극거리는 0.5 내지 2.0mm의 범위로 설정되며, 또 방전극의 두께는 0.5 내지 4.0mm의 범위로 설정되는데, 이러한 방전극 사이의 간극거리와 두께는 인가되는 전압이나 전류, 주파수 등의 고전압 조건, 아크 발생을 억제하는 세라믹, 고온용 고분자 합성물질(polymer composite)로 제작된 절연 연결 피팅에 따라 변경된다.At this time, the shortest gap distance between the discharge electrodes 32b-a is 0.2 mm or more and the longest gap distance is set in the range of 0.5 to 2.0 mm, and the thickness of the discharge electrode is set in the range of 0.5 to 4.0 mm. The gap distance and the thickness of is changed according to the high voltage condition such as the applied voltage, current and frequency, the ceramic to suppress the generation of arc, the insulation connection fitting made of high temperature polymer composite.

그리고, 본 실시예에서는 이러한 아크 발생기(32)를 구현함에 있어, 상기 방전관(32a)의 중공에 수용되게 설치되어 아크 생성부(32b)의 외측을 감싸는 유도부재(32c)를 부가하여, 이 유도부재(32c)에 의해 아크 생성부(32b)에 가스가 체류 및 순환하면서 오염물질이 안정되게 제거되도록 한다.In addition, in the present embodiment, in implementing such an arc generator 32, the induction member 32c installed to be accommodated in the hollow of the discharge tube 32a and surrounding the outer side of the arc generator 32b is added to induce this induction. The member 32c allows the contaminants to be stably removed while the gas stays and circulates in the arc generator 32b.

여기서, 상기 유도부재(32c)는 측벽에 복수의 주배기공(32c-a)들이 형성된 망상몸체로 구성되며, 후방에는 방전관(32a)의 유입구(32a-a)와 연통하는 유입구(32c-b )가 형성되고 전방에는 유입구(32c-b)를 통해 유입된 가스를 일부 배출시켜, 방전극(32b-a) 사이에 생성된 아크의 글라이딩을 도모하는 유도 배기공(32c-c)이 형성된 형태로 구성된다.Here, the induction member (32c) is composed of a reticular body formed with a plurality of main exhaust holes (32c-a) on the side wall, the inlet (32c-b) in communication with the inlet (32a-a) of the discharge tube (32a) in the rear Is formed and the inlet exhaust hole 32c-c is formed in the front to discharge a portion of the gas introduced through the inlet 32c-b to facilitate the gliding of the arc generated between the discharge electrodes 32b-a. do.

본 실시예에 따르면, 상기 유도부재(32c)의 주배기공(32c-a)을 나선형으로 제작하거나, 주배기공을 후방으로 경사지게 천공하여 형성하면, 주배기공을 통해 배출되는 가스는 와류를 형성하면서 신속히 배출되므로, 아크 생성부를 통과하여 오염물질이 분해된 가스의 신속한 배출이 이룩될 수 있다.According to the present embodiment, when the main exhaust holes 32c-a of the induction member 32c are manufactured in a spiral shape or formed by obliquely drilling the main exhaust holes backward, the gas discharged through the main exhaust holes rapidly forms a vortex. As it is discharged, a rapid discharge of the gas from which the pollutant is decomposed through the arc generating unit can be achieved.

따라서, 상기 유도부재(32c)의 유입구(32c-b)를 통해 아크 생성부(32b) 내로 유입된 가스 중, 일부는 전방에 형성된 유도 배기공(32c-c)으로 배출되면서 방전극(32b-a) 사이에 생성된 아크를 전방으로 글라이딩하여 글라이딩 아크를 생성하고, 나머지는 아크 생성부(32b)를 순환한 다음 측벽에 형성된 주배기공(32c-a)을 통해 측부로 배출된 다음, 방전관(32a)의 배기구(32a-b)를 따라 전방으로 배출된다.Therefore, some of the gas introduced into the arc generating unit 32b through the inlet 32c-b of the induction member 32c is discharged to the induction exhaust hole 32c-c formed in front, and the discharge electrode 32b-a. Glide the arc generated between the front to generate a gliding arc, the rest is circulated through the arc generating unit 32b and then discharged to the side through the main exhaust hole (32c-a) formed in the side wall, and then discharge tube (32a) Is discharged forward along the exhaust ports 32a-b.

그리하여, 본 실시예에 따른 아크 발생기(32)는 유도부재(32c)에 의해 유입구(32c-b)를 통해 후방에서 유입된 모든 가스가 전방으로 배출되지 아니하고, 아크 생성부(32b)에 가스가 체류 및 순환하면서 오염물질이 안정되게 제거된 다음, 측벽에 형성된 주배기공(32c-a)을 통해 배출되므로, 오염물질의 제거에 따른 보다 향상된 효율성을 갖는다.Thus, in the arc generator 32 according to the present embodiment, all the gas introduced from the rear through the inlet 32c-b by the induction member 32c is not discharged to the front, and gas is supplied to the arc generator 32b. The contaminants are stably removed while staying and circulating, and then discharged through the main exhaust holes 32c-a formed in the sidewalls, thereby further improving the efficiency of the removal of the contaminants.

그런데, 상기 다단으로 교번하여 적층된 플라즈마 반응층(31)들과 광촉매 필터층(33)들을 순차적으로 통과하면서 배출되는 가스에는 오존과, 미세먼지와 수용성 중간 산화 부산 생성물을 포함하는 미처리된 오염물질들이 잔류할 수 있다.However, untreated contaminants including ozone, fine dust, and water-soluble intermediate oxidation by-products are included in the gas discharged while sequentially passing through the plasma reaction layers 31 and the photocatalyst filter layers 33 stacked alternately. May remain.

특히, 본 실시예에서는 재 처리된 가스를 간이 에어 부스(100)의 세정공간에 재 투입시켜 세정에 재 사용하는 관계로, 미 분해된 잔류 오존을 완전히 제거하지 아니한 가스를 간이 에어 부스(100)에 투입하면 잔류 오존 자체의 독성에 의해 방문객의 건강을 해칠 수도 있다.In particular, in the present embodiment, since the reprocessed gas is re-inserted into the cleaning space of the simple air booth 100 and reused for cleaning, the simple air booth 100 does not completely remove undecomposed residual ozone. If injected into the water, the health of visitors may be affected by the toxicity of residual ozone itself.

이를 고려하여 본 실시예에서는 후처리부(40)를, 주처리부(30)를 통과한 가스에 잔류하는 오존을 안정되게 분해하고, 미세먼지와 수용성 중간 산화 부산 생성물 및 미처리된 오염물질들을 안정되게 제거하는 자외선 발생모듈(41)과, 후처리 촉매필터층(42), 및 방향족 탄화수소 분무모듈(43)로 구성된다.In consideration of this, in the present embodiment, the post-treatment unit 40 stably decomposes ozone remaining in the gas passing through the main processing unit 30, and stably removes fine dust, water-soluble intermediate oxidation by-products, and untreated contaminants. It consists of an ultraviolet generation module 41, a post-treatment catalyst filter layer 42, and an aromatic hydrocarbon spray module 43.

여기서, 상기 자외선 발생모듈(41)은 자외선 램프(41a)의 외측에 표면에 광촉매층이 형성된 광촉매망(41b)을 배치하여 자외선 램프(41a)의 외측이 광촉매망(41b)에 의해 감싸진 형태로 구성되며, 후처리부(40)의 자외선 발생모듈(41)이 위치되는 터널형 함체(10)의 내벽에 광촉매로 코팅 처리하는 것이 바람직하다.In this case, the ultraviolet generation module 41 has a photocatalyst network 41b having a photocatalyst layer formed on the surface of the ultraviolet lamp 41a, so that the outside of the ultraviolet lamp 41a is surrounded by the photocatalyst network 41b. Consisting of, it is preferable that the coating treatment with a photocatalyst on the inner wall of the tunnel-type enclosure 10 in which the ultraviolet generation module 41 of the after-treatment unit 40 is located.

그리고, 상기 방향족 탄화수소 분무모듈(43)을 통해 분사되는 방향족 탄화수소로는 우수한 살균력을 갖는 피톤치드나 향수에 사용되는 터펜 계열의 물질 등이 채택될 수 있다.As the aromatic hydrocarbon injected through the aromatic hydrocarbon spray module 43, a phytoncide having excellent sterilizing power or a terpene-based material used for perfume may be adopted.

또한, 상기 후처리 촉매필터층(42)은 분리하여 형성되는 오존 분해 촉매필터(42a)와 잔류 오염물질 분해 촉매필터(42b)를 포함하여 구성된다.In addition, the post-treatment catalyst filter layer 42 includes an ozone decomposition catalyst filter 42a and a residual pollutant decomposition catalyst filter 42b formed separately.

본 실시예에서는, 이러한 후처리 촉매필터층(42)을 주처리부의 플라즈마 생성부(31)와 광촉매 필터층(33)과 마찬가지로, 카트리지 본체(42c)에 오존 분해 촉매필터(42a)와 잔류 오염물질 분해 촉매필터(42b)를 고정하여 후처리 필터 카트리지(42')를 형성하고, 이 후처리 필터카트리지(42')를 터널형 함체(10)에 형성된 카트리지 장입부(11c)에 설치하여 후처리 촉매필터층(42)을 형성하도록 함으로써, 추후 유지보수에 따른 편리성을 갖도록 하고 있다.In this embodiment, the post-treatment catalyst filter layer 42 is decomposed to the ozone decomposition catalyst filter 42a and residual pollutants in the cartridge body 42c, similarly to the plasma generating unit 31 and the photocatalyst filter layer 33 of the main processing unit. The catalyst filter 42b is fixed to form a post-treatment filter cartridge 42 ', and the post-treatment filter cartridge 42' is installed in the cartridge charging portion 11c formed in the tunnel-shaped enclosure 10 to post-treatment catalyst By forming the filter layer 42, convenience is provided according to future maintenance.

그리고, 이들 각 촉매필터(42a, 42b)의 담체로는 코디에라이트 세라믹, Porous 섬유, 금속재질이 사용되고, 상기 오존 분해 촉매필터의 촉매로는 주로 5 내지 50%의 이산화망간, 구리, 코발트 산화물, 또는 이산화망간/구리산화물을 주성분으로 하는 금속 산화물이 채택될 수 있고, 잔류 오염가스 분해 촉매필터의 촉매로는 Graphite, Zeolite 또는 실리카-알루미나 촉매, 고가금속(Pt, Au, Ag) 및 저가금속(Ti, Sn, W)을 함유하는 산화물 촉매들이 채택될 수 있다.In addition, as the carrier of each of the catalyst filters 42a and 42b, cordierite ceramics, porous fibers, and metal materials are used, and as the catalyst of the ozone decomposition catalyst filter, mainly 5 to 50% of manganese dioxide, copper, cobalt oxide, Alternatively, metal oxides based on manganese dioxide / copper oxide may be employed, and as catalysts of the residual pollutant decomposition catalyst filter, graphite, zeolite or silica-alumina catalysts, high metals (Pt, Au, Ag), and low cost metals (Ti Oxide catalysts containing Sn, W) can be employed.

따라서, 본 실시예에 따른 간이 에어 부스용 가스 재처리 장치(1)는 송풍기(12)의 송풍작용에 의해 간이 에어부스(100)에서 세정을 마친 가스가 회수하여 전처리부(20)로 유입되면, 이 가스에는 오존 발생모듈(21)에 의해 오존이 혼입됨과 동시에, 디미스터 필터(22)에 의해 유/수분 및 입자가 큰 분진이 여과된다.Therefore, when the gas reprocessing apparatus 1 for the simple air booth according to the present embodiment recovers the gas which has been cleaned in the simple air booth 100 by the blowing operation of the blower 12 and flows into the pretreatment unit 20. In addition, ozone is mixed into the gas by the ozone generating module 21, and dust having a large amount of oil / water and particles is filtered by the demister filter 22.

이후, 상기 전처리 과정을 마친 가스는 주처리부(30)에 다단으로 교번하여 형성된 플라즈마 반응층(31)들의 각 아크 발생기(32)와, 광촉매 필터층(33)을 순차적으로 통과하면서, 이들 플라즈마 반응층(31)과 광촉매 필터층(33)에서 생성되는 활성입자(O, N, C, H 등의 결합이온), OH, HO2, NO2 라디컬에 의해 각종 오염물질이 산화 분해된다.Subsequently, the gas having completed the pretreatment passes sequentially through each arc generator 32 and the photocatalyst filter layer 33 of the plasma reaction layers 31 formed by alternating the main processor 30 in multiple stages. Various contaminants are oxidatively decomposed by active particles (bonding ions of O, N, C, H, etc.), OH, HO 2, and NO 2 radicals generated by the photocatalyst filter layer 33.

그리고, 가스에 포함된 잔류 오존은 후처리부(40)에 배치되는 자외선 램프(41a)를 광촉매망(41b)이 감싼 형태의 자외선 발생모듈(41)을 통과하면서 대부분 제거되고, 미 분해된 소량의 잔류 오존과, 미세먼지와 수용성 중간 산화 부산 생성물들을 포함하는 미처리된 오염물질들은 후처리 촉매필터층(42)과 방향족 탄화수소 분무모듈(43)을 순차적으로 통과하면서 기준치 이하로 제거되고, 최종적으로 배기로(11b)를 통해 대기로 방출되거나 에어부스(100)로 재 유입되어 방문객의 세정에 재 사용된다.In addition, the residual ozone contained in the gas is mostly removed while passing the ultraviolet lamp 41a disposed in the aftertreatment unit 40 through the ultraviolet generating module 41 in the form in which the photocatalytic network 41b is wrapped. Untreated contaminants, including residual ozone and fine dust and water soluble intermediate oxidation by-products, are sequentially removed through the aftertreatment catalyst filter layer 42 and the aromatic hydrocarbon atomization module 43 to below the reference level, and finally to the exhaust It is discharged to the atmosphere through 11b or re-introduced into the air booth 100 to be reused for cleaning the visitor.

1. 간이 에어 부스용 가스 재처리 장치
10. 터널형 함체
11a. 흡기로 11b. 배기로
11c. 카트리지 장입부 12. 송풍기
20. 전처리부
21. 오존 발생모듈 22. 디미스터
30. 주처리부
31. 플라즈마 반응층 31'. 플라즈마 반응카트리지
31a. 카트리지 본체 31b. 전류 공급유닛
32. 아크 발생기
32a. 방전관 32a-a. 유입구
32a-b. 배기구 32a-c. 천공
32b. 아크 생성부 32b-a. 방전극
32c. 유도부재 32c-a. 주배기공
32c-b. 유입구 32c-c. 유도 배기공
32d. 애자 32e. 가스 유도편
33. 광촉매 필터층 33'. 광촉매 필터카트리지
33a. 카트리지 본체 33b. 광촉매 필터
40. 후처리부 41. 자외선 발생모듈
41a. 자외선 램프 41b. 광촉매망
42. 후처리 촉매필터층 42a. 오존 분해 촉매필터
42b. 잔류 오염물질 분해 촉매필터 42c. 카트리지 본체
43. 방향족 탄화수소 분무모듈
1. Gas reprocessing device for simple air booth
10. Tunnel type enclosure
11a. 11b with intake. Exhaust
11c. Cartridge insert 12. Blower
20. Pretreatment
21. Ozone generating module 22. Demister
30. Main Processing Unit
31. Plasma reaction layer 31 '. Plasma reaction cartridge
31a. Cartridge Body 31b. Current supply unit
32. Arc Generator
32a. Discharge tube 32a-a. Inlet
32a-b. Exhaust 32a-c. boring
32b. Arc generator 32b-a. Discharge electrode
32c. Guide member 32c-a. Liquor
32c-b. Inlet 32c-c. Induction exhaust ball
32d. Insulator 32e. Gas induction piece
33. Photocatalyst filter layer 33 '. Photocatalytic filter cartridge
33a. Cartridge Body 33b. Photocatalyst filter
40. Post-processing unit 41. UV generation module
41a. UV lamp 41b. Photocatalyst Network
42. Post Treatment Catalyst Filter Layer 42a. Ozone Decomposition Catalyst Filter
42b. Residual Pollutant Decomposition Catalyst Filter 42c. The cartridge body
43. Aromatic Hydrocarbon Spray Module

Claims (6)

가스를 토출하여 오염물질을 공압 세정하는 간이 에어 부스에 설치되어, 세정공간으로부터 회수되는 가스의 오염물질을 제거하는 간이 에어 부스용 가스 재처리 장치에 있어서,
흡기로와 배기로가 형성된 터널형 함체와; 에어 부스에서 회수된 가스를 흡기로를 통해 터널형 함체 내로 유입 및 통과시켜 배기로로 강제 배출하는 송풍기를 포함하여 구성되고,
상기 터널형 함체 내에는 흡기로를 통해 유입되는 가스에 오존을 혼입시키는 오존 발생모듈을 포함하여 구성된 전처리부와; 아크 발생기에서 생성되는 글라이딩 아크를 통해 플라즈마 활성입자와 자외선을 생성하는 플라즈마 반응층과, 상기 플라즈마 반응층에서 발산되는 자외선에 의해 활성 산소 원자를 생성하는 광촉매 필터층을 통해 전처리부에서 유입되어진 오존이 혼입된 가스를 산화/분해하여 오염물질을 제거하는 주처리부; 및 상기 주처리부를 통과하면서 미처리된 가스의 잔류 오존을 제거하는 후처리부가 순차 배치되며,
상기 후처리부는 광촉매망을 통해 자외선 램프의 외측을 감싼 형태의 자외선 발생모듈과, 오존 분해 촉매필터와 잔류 오염물질 분해 촉매필터가 적층된 흡착 촉매 필터층을 포함하여 구성되고,
상기 플라즈마 반응층의 아크 발생기는, 후방에 유입구가 형성되고 전방에 배기구가 형성된 방전관과, 상기 방전관의 중공에 경사면을 갖는 둘 이상의 방전극을 이격되게 배치한 아크 생성부와, 상기 방전관의 중공에 수용되게 설치되어 아크 생성부의 외측을 감싸는 유도부재를 포함하여 구성되고, 상기 유도부재는, 측벽에 복수의 주배기공들이 형성된 망상몸체로, 후방에는 상기 방전관의 유입구와 연통하는 유입구가 형성되고 전방에는 유입구를 통해 유입된 가스 중 일부를 배출하는 유도 배기공이 형성되어서, 상기 유입구를 통해 아크 생성부로 유입된 가스 중, 일부 가스는 전방으로 직진 이송하여 전방에 형성된 유도 배기공으로 배출되면서 방전극 사이에 생성된 아크를 전방으로 글라이딩시켜 글라이딩 아크를 생성하고, 나머지 가스는 아크 생성부를 순환한 다음 측부로 진행방향을 전환하여 주배기공으로 배출되도록 구성된 것을 특징으로 하는 간이 에어 부스용 가스 재처리 장치.
A simple air booth gas reprocessing apparatus which is installed in a simple air booth for discharging gas and pneumatically cleans contaminants, and removes contaminants of gas recovered from the cleaning space.
A tunnel-shaped housing formed with an intake passage and an exhaust passage; It includes a blower for forcing the gas recovered in the air booth to enter and pass through the intake passage into the tunnel-type enclosure, forcibly discharged to the exhaust passage,
A pre-processing unit including an ozone generating module configured to mix ozone into the gas introduced through the intake air in the tunnel-type enclosure; Ozone introduced from the pretreatment unit is mixed through a plasma reaction layer that generates plasma active particles and ultraviolet rays through a gliding arc generated by an arc generator, and a photocatalyst filter layer that generates active oxygen atoms by ultraviolet rays emitted from the plasma reaction layer. A main processor for oxidizing / decomposing the gas to remove contaminants; And a post-processing unit sequentially removing residual ozone of untreated gas while passing through the main processing unit,
The post-treatment unit includes an ultraviolet generation module having a form wrapped around the outside of the ultraviolet lamp through a photocatalyst network, and an adsorption catalyst filter layer in which an ozone decomposition catalyst filter and a residual pollutant decomposition catalyst filter are stacked.
The arc generator of the plasma reaction layer, the discharge generating tube formed in the rear inlet and the exhaust opening in the front, the arc generating unit arranged to space the two or more discharge electrodes having an inclined surface in the hollow of the discharge tube, and accommodated in the hollow of the discharge tube The guide member is configured to include an induction member surrounding the outside of the arc generating unit, and the induction member is a reticulated body having a plurality of main exhaust holes formed on a side wall, and an inlet is formed in the rear thereof and communicates with an inlet of the discharge tube. An induction exhaust hole for discharging a part of the gas introduced through the through is formed, and among the gas introduced into the arc generating unit through the inlet, some gas is transported straight forward to be discharged to the induction exhaust hole formed in the front arc generated between the discharge electrode Gliding forward to create a gliding arc, with the remaining gas being arc A gas reprocessing apparatus for a simple air booth, characterized in that configured to be discharged to the main exhaust pores by circulating the production unit and then changing the traveling direction to the side.
제 1항에 있어서, 상기 후처리부에는 가스에 방향족 탄화수소를 투입시켜, 방향족 탄화 수소를 통해 가스에 혼입된 잔류 오존을 분해하는 방향족 탄화수소 분무모듈이 부가된 것을 특징으로 하는 간이 에어 부스용 가스 재처리 장치.The gas reprocessing process of claim 1, wherein an aromatic hydrocarbon spray module is added to the post-treatment unit to decompose residual ozone mixed into the gas through aromatic hydrocarbons. Device. 제 1항에 있어서, 상기 주처리부는 복수의 플라즈마 반응층과 복수의 광촉매 필터층이 터널형 함체 내에 다단으로 교번되게 적층되어 형성된 것을 특징으로 하는 간이 에어 부스용 가스 재처리 장치.The gas reprocessing apparatus of claim 1, wherein the main processing unit is formed by alternately stacking a plurality of plasma reaction layers and a plurality of photocatalyst filter layers in a tunnel-type enclosure. 삭제delete 제 3항에 있어서, 상기 플라즈마 반응층은, 카트리지 본체에 복수의 아크 발생기들이 배설되어 플라즈마 필터 카트리지를 형성하고, 상기 플라즈마 필터 카트리지가 터널형 함체 내에 형성된 카트리지 장입부에 진입하여 형성된 것을 특징으로 하는 간이 에어 부스용 가스 재처리 장치.The method of claim 3, wherein the plasma reaction layer, a plurality of arc generators are disposed in the cartridge body to form a plasma filter cartridge, the plasma filter cartridge is formed by entering the cartridge charging portion formed in the tunnel-type enclosure Gas reprocessing device for simple air booth. 제 1항에 있어서, 상기 방전관의 후방에는 아크 생성부의 외측으로 통과하는 가스를 글라이딩 아크가 생성되는 아크 생성부 내로 유도하여 이송하는 가스 유도편이 배치된 것을 특징으로 하는 간이 에어 부스용 가스 재처리 장치.The gas reprocessing apparatus of claim 1, wherein a gas guiding piece is disposed at the rear of the discharge tube to guide and transport the gas passing outside the arc generating part into the arc generating part in which the gliding arc is generated. .
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