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KR101224456B1 - In-plane switching mode liquid crystal display and method for repairing the same - Google Patents

In-plane switching mode liquid crystal display and method for repairing the same Download PDF

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KR101224456B1
KR101224456B1 KR1020050130035A KR20050130035A KR101224456B1 KR 101224456 B1 KR101224456 B1 KR 101224456B1 KR 1020050130035 A KR1020050130035 A KR 1020050130035A KR 20050130035 A KR20050130035 A KR 20050130035A KR 101224456 B1 KR101224456 B1 KR 101224456B1
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liquid crystal
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crystal display
electrode
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Inventor
남승희
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엘지디스플레이 주식회사
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Abstract

불량 화소를 인접한 정상 화소와 연동 구동하여 시각적 무결점화하기 위한 전계 방식 액정 표시 장치 및 그의 리페어 방법이 제공된다. 액정 표시 장치는 제 1, 제 2 화소가 정의된 투명 절연 기판, 서로 교차되는 수직 및 수평 방향의 복수의 게이트 라인과 데이터 라인, 각 화소마다 배치된 듀얼 타입의 박막 트랜지스터, 박막 트랜지스터에 연결된 상, 하부 화소 전극, 상, 하부 화소 전극과 서로 엇갈리도록 구성된 상, 하부 공통 전극, 제 1, 제 2 화소 사이에 배치된 공통 라인, 제1, 제 2 화소 사이에 배치되며 양측 끝단의 오버랩 영역이 제 1 화소의 하부 화소 전극과 제 2 화소의 상부 화소 전극에 각각 겹쳐지도록 구성되는 리페어 패턴을 포함한다.Provided are an electric field type liquid crystal display device and a repair method thereof for driving visual defects by interlocking a bad pixel with an adjacent normal pixel. The liquid crystal display includes a transparent insulating substrate having first and second pixels defined therein, a plurality of gate lines and data lines in the vertical and horizontal directions crossing each other, a dual type thin film transistor disposed at each pixel, an image connected to the thin film transistor, The upper and lower common electrodes configured to intersect the lower pixel electrode, the upper and lower pixel electrodes, the common line disposed between the first and second pixels, and the overlap regions at both ends of the upper and lower common electrodes. And a repair pattern configured to overlap the lower pixel electrode of one pixel and the upper pixel electrode of the second pixel, respectively.

액정 표시 장치, 어레이 기판, 리페어 공정, 레이저 용접 Liquid Crystal Display, Array Board, Repair Process, Laser Welding

Description

횡전계 방식 액정 표시 장치 및 그의 리페어 방법{In-plane switching mode liquid crystal display and method for repairing the same}Transverse electric field type liquid crystal display device and its repair method {In-plane switching mode liquid crystal display and method for repairing the same}

도 1 및 도 2는 종래 기술에 따른 액정 표시 장치용 어레이 기판의 평면도이다.1 and 2 are plan views of an array substrate for a liquid crystal display device according to the prior art.

도 3은 일반적으로 액정 표시 장치의 어레이 기판 완성 후 진행되는 검사 과정을 설명하기 위한 도면이다.FIG. 3 is a diagram for describing an inspection process that is generally performed after completing an array substrate of a liquid crystal display.

도 4는 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 액정 표시 장치에서 어레이 기판을 나타낸 평면도이다.4 is a plan view illustrating an array substrate in a liquid crystal display according to an exemplary embodiment of the present invention.

도 5는 도 4의 리페어 공정을 설명하기 위한 도면이다.FIG. 5 is a diagram for describing a repair process of FIG. 4.

도 6은 도 5의 리페어 공정에 따른 Ι-Ι'라인의 변화를 나타낸 단면도이다.FIG. 6 is a cross-sectional view illustrating a change in a line III according to the repair process of FIG. 5.

도 7은 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 액정 표시 장치의 리페어 방법을 나타낸 흐름도이다.7 is a flowchart illustrating a repair method of a liquid crystal display according to an exemplary embodiment of the present invention.

도 8은 본 발명의 효과를 설명하기 위한 비교표이다.8 is a comparison table for explaining the effects of the present invention.

(도면의 주요부분에 대한 부호의 설명)DESCRIPTION OF THE REFERENCE NUMERALS (S)

100: 투명 절연 기판 P1, P2, …: 화소100: transparent insulating substrates P1, P2,... Pixel

110: 게이트 라인 120: 데이터 라인110: gate line 120: data line

121: 소스 전극 122: 드레인 전극121: source electrode 122: drain electrode

130: 공통 라인 131: 상부 공통 전극130: common line 131: upper common electrode

132: 하부 공통 전극 140: 상부 화소 전극132: lower common electrode 140: upper pixel electrode

141: 하부 화소 전극 150: 리페어 패턴141: lower pixel electrode 150: repair pattern

본 발명은 액정 표시 장치 및 그의 리페어 방법에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 횡전계 방식 액정 표시 장치 및 그의 리페어 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a liquid crystal display and a repair method thereof, and more particularly, to a transverse electric field type liquid crystal display device and a repair method thereof.

액정 표시 장치는 상하부의 투명 절연 기판인 컬러 필터 기판과 어레이 기판 사이에 이방성 유전율을 갖는 액정층을 형성한 후, 액정층에 형성되는 전계의 세기를 조정하여 액정 물질의 분자 배열을 변경시키고, 이를 통하여 컬러 필터 기판에 투과되는 빛의 양을 조절함으로써 원하는 화상을 표현하는 표시 장치이다. 액정 표시 장치로는 박막 트랜지스터(Thin Film Transistor; TFT)를 스위칭 소자로 이용하는 박막 트랜지스터 액정 표시 장치(TFT LCD)가 주로 사용되고 있다.The liquid crystal display device forms a liquid crystal layer having anisotropic dielectric constant between the color filter substrate, which is the upper and lower transparent insulating substrates, and the array substrate, and then adjusts the intensity of the electric field formed in the liquid crystal layer to change the molecular arrangement of the liquid crystal material. The display device expresses a desired image by adjusting the amount of light transmitted through the color filter substrate. As the liquid crystal display, a thin film transistor liquid crystal display (TFT LCD) using a thin film transistor (TFT) as a switching element is mainly used.

도 1 및 도 2는 종래 기술에 따른 액정 표시 장치용 어레이 기판의 평면도로서, TN(Twisted Nematic) 구조 및 IPS(In-Plane Switching) 구조에 쓰이는 어레이 기판을 각각 도시하고 있다.1 and 2 are plan views of an array substrate for a liquid crystal display according to the related art, and show an array substrate used in a twisted nematic (TN) structure and an in-plane switching (IPS) structure, respectively.

종래의 어레이 기판은 도 1 및 도 2에 도시된 것처럼, 서로 직교하는 게이트 라인(10, 40) 및 데이터 라인(20, 50)에 의해 정의되는 복수 개의 화소들로 이루어 지고, 게이트 라인(10, 40)으로부터 연장된 게이트 전극(11, 41), 게이트 전극(11, 41) 상의 반도체층(미도시), 반도체층(미도시)을 사이에 두고 서로 마주보는 소스 전극(21, 51) 및 드레인 전극(22, 52)이 형성되어 박막 트랜지스터를 이룬다.A conventional array substrate is composed of a plurality of pixels defined by gate lines 10 and 40 and data lines 20 and 50 orthogonal to each other, as shown in FIGS. 1 and 2. Source electrodes 21 and 51 and drains facing each other with gate electrodes 11 and 41 extending from 40, semiconductor layers (not shown) on gate electrodes 11 and 41, and semiconductor layers (not shown) interposed therebetween. Electrodes 22 and 52 are formed to form a thin film transistor.

TN 구조의 경우에는 도 1과 같이, 드레인 전극(22)에 연결되도록 화소 전극(30)이 형성되어 컬러 필터 기판 상의 공통 전극(미도시)과 수직 방향의 전계를 발생시킴으로써 화상을 표시하게 된다.In the case of the TN structure, as illustrated in FIG. 1, the pixel electrode 30 is formed to be connected to the drain electrode 22 to display an image by generating an electric field perpendicular to a common electrode (not shown) on the color filter substrate.

또한, 도 2를 참조하면, IPS 구조의 경우 어레이 기판 상에 가로 방향으로 게이트 라인(40)과 공통 라인(70)이 평행을 이루며 배치되고, 세로 방향으로 데이터 라인(50)이 게이트 라인(40) 및 공통 라인(70)과 수직을 이루도록 배열된다.In addition, referring to FIG. 2, in the case of the IPS structure, the gate line 40 and the common line 70 are arranged in parallel in the horizontal direction on the array substrate, and the data line 50 is disposed in the vertical direction in the gate line 40. And perpendicular to the common line 70.

그리고, 공통 라인(70)으로부터 분기된 공통 전극(71)들과, 드레인 전극(52)에 연결된 화소 전극(61)들이 서로 엇갈리게 구성되어 수평 방향의 전계를 발생시키게 된다.The common electrodes 71 branched from the common line 70 and the pixel electrodes 61 connected to the drain electrode 52 are alternately formed to generate an electric field in a horizontal direction.

도 3은 일반적으로 액정 표시 장치의 어레이 기판 완성 후 진행되는 검사 과정을 설명하기 위한 도면이다.FIG. 3 is a diagram for describing an inspection process that is generally performed after completing an array substrate of a liquid crystal display.

TFT 어레이 공정(S10)을 거쳐 어레이 기판이 완성된 후, 어레이 기판과 컬러 필터 기판과의 합착 및 액정층 형성이 이루어지는 액정 셀 공정을 진행하여 액정 패널을 제조하기 이전에 어레이 테스트 공정(S11)을 통하여 완성된 어레이 기판의 불량 여부를 검사하게 된다.After the array substrate is completed through the TFT array process (S10), the array test process (S11) is performed before manufacturing the liquid crystal panel by performing the liquid crystal cell process in which the array substrate and the color filter substrate are bonded and the liquid crystal layer is formed. Through the inspection of the defective array substrate is completed.

어레이 테스트 공정(S11)에서는, 완성된 어레이 기판 상의 게이트 패드 및 데이터 패드로 일정한 테스트 신호를 인가하여 어레이 기판 상에 형성되어 있는 박 막 트랜지스터들의 온/오프(ON/OFF) 상태를 검사한다. 그리고, 박막 트랜지스터들이 온 상태일 때, 데이터 패드 상의 데이터 라인들을 통해 테스트 신호를 인가하여 화소 점등 상태를 검사한다.In the array test process S11, a constant test signal is applied to the gate pad and the data pad on the completed array substrate to check the on / off state of the thin film transistors formed on the array substrate. When the thin film transistors are in the on state, the test signal is applied through the data lines on the data pad to check the pixel lighting state.

이러한 어레이 테스트 공정(S11)을 거쳐 불량품이 발견되면, 육안이나 광학 기구를 이용하여 불량의 형태, 리페어(repair) 가능 여부 등을 판단하기 위한 불량품 검사 작업(S12)을 진행한다.If a defective product is found through such an array test process (S11), the defective product inspection operation (S12) is performed to determine the form of the defect, whether repair is possible, etc. using the naked eye or an optical apparatus.

불량품 검사 결과, 불량 정도가 심하고, 불량 화소의 수가 기준치 이상인 경우에는 리페어 공정을 수행하지 않고, 불량 화소의 수가 기준치 영역에 있는 경우에는 각각의 불량 화소들에 대한 리페어 공정(S13)을 진행하게 된다.As a result of the defective product inspection, when the degree of defect is severe and the number of the defective pixels is greater than the reference value, the repair process is not performed. When the number of the defective pixels is in the reference value region, the repair process S13 is performed for each defective pixel. .

화소 불량인 경우, 해당 화소가 항상 온 상태가 되어 액정 패널 상에 휘점으로 나타나거나, 항상 다크(dark) 상태가 되어 액정 패널 상에 암점으로 나타나게 되며, 항상 온 상태가 되는 화소는 레이저를 이용한 리페어 공정(S13)을 수행하여 데이터 전압이 화소 전극으로 인가되지 않도록 암점화한다.In the case of a defective pixel, the pixel is always on and appears as a bright point on the liquid crystal panel, or is always dark and appears as a dark spot on the liquid crystal panel, and the pixel which is always on is repaired using a laser. Step S13 is performed to darken the data voltage so as not to be applied to the pixel electrode.

즉, 리페어 공정(S13)에서는 항상 온 상태가 되는 불량 화소가 있는 경우, 레이저를 이용해 다시 패터닝하여 정상화 시키거나, 도 1 및 도 2에 표시된 것과 같이, 박막 트랜지스터의 드레인 전극(22, 52) 부분을 단선(cutting)시킨 후(a1, a2), 화소 전극(30)과 게이트 라인(10)을 접촉시키거나, 화소 전극(61)과 공통 전극(71)을 접촉시켜 암점화시키게 된다.That is, in the repair process (S13), when there are defective pixels that are always in the on state, patterning is normalized by using a laser again to normalize them, or as shown in FIGS. 1 and 2, portions of the drain electrodes 22 and 52 of the thin film transistor. After cutting (a1, a2), the pixel electrode 30 is brought into contact with the gate line 10, or the pixel electrode 61 is brought into contact with the common electrode 71 to darken.

그런데, 이러한 방식으로 리페어 공정(S13)을 수행하게 되면, 복구된 화소가 항상 암점으로만 존재하게 되며, 암점화된 불량 지점의 화소는 휘점에 비하여 인지 정도가 떨어질 뿐이지 마찬가지로 사용자에게 쉽게 인지된다는 문제점이 있었다.However, when the repair process (S13) is performed in this manner, the repaired pixels always exist only as dark spots, and the pixels of the darkened spots are not easily recognized as compared to the bright spots but are easily recognized by the user. There was this.

또한, 화소 전극(30, 61)을 리페어하기 위하여 화소 전극(30, 61)과 연결된 박막 트랜지스터의 드레인 전극(22, 52) 부분을 절단할 때(a1, a2), 인접한 소스 전극(21, 51) 및 드레인 전극(22, 52)과 게이트 전극(11, 41) 간의 단락(short)이 쉽게 발생되는 문제점이 있었다.In addition, when the drain electrodes 22 and 52 of the thin film transistor connected to the pixel electrodes 30 and 61 are cut in order to repair the pixel electrodes 30 and 61 (a1 and a2), adjacent source electrodes 21 and 51 are cut. ) And a short between the drain electrodes 22 and 52 and the gate electrodes 11 and 41 easily occurs.

따라서, 본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제는 불량 화소를 인접한 정상 화소와 연동 구동하여 시각적 무결점화함으로써, 일반적인 화상에서 쉽게 불량 지점이 인지되지 않는 횡전계 방식 액정 표시 장치를 제공하는 것이다.Accordingly, an object of the present invention is to provide a transverse electric field type liquid crystal display device in which a bad point is not easily recognized in a general image by visually making defects by driving a bad pixel cooperatively with an adjacent normal pixel.

또한, 본 발명이 이루고자 하는 다른 기술적 과제는 액정 패널로 합착되기 전의 어레이 기판 상태에서뿐만 아니라 합착된 이후의 액정 패널 상태에서도 손쉽게 리페어 공정을 수행할 수 있는 횡전계 방식 액정 표시 장치를 제공하는 것이다.In addition, another technical problem to be achieved by the present invention is to provide a transverse electric field type liquid crystal display device which can easily perform a repair process not only in the array substrate state before bonding to the liquid crystal panel but also in the liquid crystal panel state after the bonding.

또한, 본 발명이 이루고자 하는 또 다른 기술적 과제는 이와 같은 액정 표시 장치를 효율적으로 리페어할 수 있는 횡전계 방식 액정 표시 장치의 리페어 방법을 제공하는 것이다.Another object of the present invention is to provide a repair method of a transverse electric field type liquid crystal display device capable of efficiently repairing such a liquid crystal display device.

본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제들은 이상에서 언급한 기술적 과제들로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 기술적 과제들은 아래의 기재로부터 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.Technical problems to be achieved by the present invention are not limited to the above-mentioned technical problems, and other technical problems not mentioned above will be clearly understood by those skilled in the art from the following description. Could be.

상기 기술적 과제를 달성하기 위한 본 발명에 따른 횡전계 방식 액정 표시 장치는 서로 인접하는 제 1, 제 2 화소가 정의된 투명 절연 기판, 상기 투명 절연 기판 상에 수직 방향으로 형성된 복수의 데이터 라인 및 상기 복수의 데이터 라인과 교차되도록 상기 화소 내에 수평 방향으로 형성된 복수의 게이트 라인, 상기 복수의 게이트 라인과 상기 복수의 데이터 라인 각각의 교차 부위에 배치되고, 게이트 전극, 반도체층, 소스 전극 및 한 쌍의 드레인 전극이 구비된 듀얼 타입의 박막 트랜지스터, 상기 한 쌍의 드레인 전극에 각각 연결된 상, 하부 화소 전극 및 상기 상, 하부 전극과 서로 엇갈리도록 배치된 상, 하부 공통 전극, 상기 제 1 화소와 상기 제 2 화소 사이에 수평 방향으로 형성되며, 상기 제 1 화소의 하부 공통 전극과 상기 제 2 화소의 상부 공통 전극을 서로 연결하는 공통 라인, 상기 제 1 화소와 상기 제 2 화소 사이에 배치되며, 양측 끝단의 오버랩 영역이 상기 제 1 화소의 하부 화소 전극과 상기 제 2 화소의 상부 화소 전극에 각각 겹쳐지도록 구성되는 리페어 패턴을 포함한다.
또한, 본 발명에 따른 횡전계 방식 액정 표시 장치의 리페어 방법은 a) 게이트 전극, 반도체층, 소스 전극 및 한 쌍의 드레인 전극을 갖는 듀얼 타입의 박막 트랜지스터에 의해 각각이 스위칭되는 제 1, 제 2 화소가 구성되고, 상기 제 1, 제 2 화소 사이에 리페어 패턴이 형성되며, 상기 리페어 패턴의 양측 끝단은 상기 제 1 화소의 하부 화소 전극과 상기 제 2 화소의 상부 화소 전극에 각각 겹쳐진 어레이 기판을 제조하는 단계, b) 상기 제 1, 제 2 화소에 테스트 신호를 인가하여 불량 화소를 검출하는 단계, c) 상기 제 1 화소가 불량 화소인 경우, 상기 제 1 화소의 박막 트랜지스터를 단선(cutting)시키는 단계, d) 불량 화소인 상기 제 1 화소와 정상 화소인 상기 제 2 화소에 겹쳐진 상기 리페어 패턴의 양측 끝단을 상기 제 1 화소의 하부 화소 전극과 상기 제 2 화소의 상부 화소 전극에 전기적으로 접촉시키는 단계를 포함한다.
According to an aspect of the present invention, there is provided a transverse electric field type liquid crystal display device comprising: a transparent insulating substrate on which first and second pixels are adjacent to each other; a plurality of data lines formed in a vertical direction on the transparent insulating substrate; A plurality of gate lines formed in the pixel in a horizontal direction so as to intersect the plurality of data lines, and disposed at intersections of the plurality of gate lines and the plurality of data lines, respectively, and including a gate electrode, a semiconductor layer, a source electrode, and a pair of A dual type thin film transistor having a drain electrode, upper and lower pixel electrodes connected to the pair of drain electrodes, and upper and lower common electrodes disposed to alternate with the upper and lower electrodes, respectively, the first pixel and the first electrode. It is formed in the horizontal direction between the two pixels, the lower common electrode of the first pixel and the upper common of the second pixel A common line connecting electrodes to each other, and disposed between the first pixel and the second pixel, and overlap regions of both ends thereof overlap the lower pixel electrode of the first pixel and the upper pixel electrode of the second pixel, respectively; It includes a repair pattern.
In addition, a repair method of a transverse electric field type liquid crystal display device according to the present invention includes a) first and second switches which are respectively switched by a dual type thin film transistor having a gate electrode, a semiconductor layer, a source electrode and a pair of drain electrodes. A pixel is formed, and a repair pattern is formed between the first and second pixels, and both ends of the repair pattern have an array substrate overlapping the lower pixel electrode of the first pixel and the upper pixel electrode of the second pixel. Manufacturing, b) detecting a bad pixel by applying a test signal to the first and second pixels, and c) cutting the thin film transistor of the first pixel when the first pixel is a bad pixel. And d) forming both ends of the repair pattern overlapping the first pixel as the bad pixel and the second pixel as the normal pixel, and the second pixel as the lower pixel electrode of the first pixel. In comprises a step of electrical contact with the top pixel electrode.

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기타 실시예들의 구체적인 사항들은 상세한 설명 및 도면들에 포함되어 있다. 본 발명의 이점 및 특징, 그리고 그것들을 달성하는 방법은 첨부되는 도면과 함께 상세하게 후술되어 있는 실시예들을 참조하면 명확해질 것이다. 명세서 전체에 걸쳐 동일 참조 부호는 동일 구성 요소를 지칭한다.Specific details of other embodiments are included in the detailed description and the drawings. Advantages and features of the present invention, and methods of achieving the same will become apparent with reference to the embodiments described below in detail in conjunction with the accompanying drawings. Like reference numerals refer to like elements throughout.

이하, 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 횡전계 방식 액정 표시 장치 및 그의 리페어 방법에 대하여 첨부된 도면들을 참조하여 상세히 설명한다.Hereinafter, a transverse electric field type liquid crystal display device and a repair method thereof according to a preferred embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 4는 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 액정 표시 장치에서 어레이 기판을 나타낸 평면도이다.4 is a plan view illustrating an array substrate in a liquid crystal display according to an exemplary embodiment of the present invention.

본 발명의 바람직한 실시예에 따른 액정 표시 장치는 도 4에 도시된 P1이나 P2와 같은 복수 개의 화소들로 이루어지며, 서로 교차하는 수평 방향의 공통 라인(130)들과 수직 방향의 데이터 라인(120)들에 의해 각 화소의 영역이 구분되고, 각 화소 별로 게이트 라인(110)들이 공통 라인(130)들과 나란하게 형성되어 데이터 라인(120)들과 교차된다.The liquid crystal display according to the exemplary embodiment of the present invention includes a plurality of pixels, such as P1 and P2 illustrated in FIG. 4, and the common lines 130 in the horizontal direction and the data line 120 in the vertical direction intersecting with each other. The pixels may be divided into regions, and the gate lines 110 may be formed in parallel with the common lines 130 for each pixel to cross the data lines 120.

게이트 라인(110)과 데이터 라인(120)의 교차 부위에는 듀얼 타입(dual type)의 박막 트랜지스터가 형성된다. 박막 트랜지스터는 게이트 라인(110) 상의 일부 영역으로 정의되는 게이트 전극, 게이트 전극 상의 반도체층(미도시), 데이터 라인(120)에서 분기된 소스 전극(121), 반도체층(미도시)을 사이에 두고 소스 전극(121)과 서로 마주보도록 배치되는 한 쌍의 드레인 전극(122)을 포함하도록 구성된다.
이러한 듀얼 타입의 박막 트랜지스터는 도 4에 도시된 것처럼, 'H'형의 소스 전극(121)을 갖는다. 그리고, 소스 전극(121)의 상, 하부 양측에 배치되어 소스 전극(121)과 일정한 간격을 두고 마주보며, 소스 전극(121)과 마주보는 부분이 'I'형의 구조를 갖는 한 쌍의 드레인 전극(122)을 갖는다.
한 쌍의 드레인 전극(122)은 하나의 화소 내에서(예를 들면, P1), 게이트 라인(110)을 사이에 두고 대칭 형상을 이루는 상부 화소 전극(140)과 하부 화소 전극(141)에 각각 연결된다.
A dual type thin film transistor is formed at an intersection of the gate line 110 and the data line 120. The thin film transistor includes a gate electrode defined as a partial region on the gate line 110, a semiconductor layer on the gate electrode (not shown), a source electrode 121 branched from the data line 120, and a semiconductor layer (not shown). And a pair of drain electrodes 122 disposed so as to face each other with the source electrode 121.
This dual type thin film transistor has a 'H' type source electrode 121, as shown in FIG. A pair of drains are disposed on both upper and lower sides of the source electrode 121 to face the source electrode 121 at regular intervals, and the portion facing the source electrode 121 has a 'I' type structure. It has an electrode 122.
The pair of drain electrodes 122 are respectively disposed in the upper pixel electrode 140 and the lower pixel electrode 141 having a symmetrical shape with the gate line 110 interposed therebetween in one pixel (eg, P1). Connected.

상, 하부 공통 전극(131, 132)들은 상, 하부 화소 전극(140, 141)들과 서로 엇갈리도록 배치되어 수평 방향의 전계를 형성하게 된다.The upper and lower common electrodes 131 and 132 are alternately disposed with the upper and lower pixel electrodes 140 and 141 to form an electric field in a horizontal direction.

공통 라인(130)의 일부 영역은 리페어 영역(R)으로 정의되며, 리페어 영역(R) 상에 외곽이 공통 라인(130)의 다른 영역과 분리되어 있고, 일측만이 공통 라인(130)과 연결되는 섬(island) 형상의 리페어 패턴(150)이 형성된다.Some areas of the common line 130 are defined as a repair area R, and an outline of the common line 130 is separated from other areas of the common line 130 on the repair area R, and only one side thereof is connected to the common line 130. An island-shaped repair pattern 150 is formed.

리페어 패턴(150)은 P1 및 P2와 같이 인접한 두 개의 화소들 간에 배치되어 양측 끝단의 오버랩 영역이 인접한 화소들의 화소 전극들과 각각 겹쳐지도록 구성된다. 도 4의 경우, 리페어 패턴(150)은 양측 끝단이 상부에 위치한 화소인 P1의 하부 화소 전극(141)과, 하부에 위치한 화소인 P2의 상부 화소 전극(140) 간에 걸쳐지도록 형성된다. The repair pattern 150 is disposed between two adjacent pixels such as P1 and P2 so that the overlap regions of both ends overlap each other with the pixel electrodes of the adjacent pixels. In the case of FIG. 4, the repair pattern 150 is formed such that both ends thereof are interposed between the lower pixel electrode 141 of P1, which is a pixel located above, and the upper pixel electrode 140 of P2, a pixel located below.

이러한 리페어 패턴(150)의 구조는 불량 화소가 검출되었을 때 레이저를 이용해 독립된 섬 형상의 패턴으로 바꾸기 용이한 구조로서, 도 4의 리페어 영역(R)에서와 같이 인접한 두 개의 화소들, P1과 P2가 모두 리페어 패턴(150)과 겹쳐지는 오버랩 영역을 포함하고 있어야 한다.
여기서, 리페어 패턴(150)은 두 화소가 인접하는 방향(도 4의 경우, 수직 방향)으로 대칭 형상을 갖도록 함으로써 양측의 오버랩 영역이 같은 면적으로 겹쳐지도록 하는 것이 효율적이다.
The repair pattern 150 has a structure in which a defective pixel is easily changed into an independent island-shaped pattern when a defective pixel is detected, and two adjacent pixels, P1 and P2, as shown in the repair region R of FIG. 4. All of them should include an overlap area overlapping with the repair pattern 150.
Here, in the repair pattern 150, it is efficient to allow the overlap regions on both sides to overlap with the same area by having the two pixels have a symmetrical shape in an adjacent direction (vertical direction in FIG. 4).

한편, 각 화소는 도 4와 같이 게이트 라인(110)을 기준으로 상, 하부 화소 전극(140, 141)들 및 상, 하부 공통 전극(131, 132)들이 일정한 각을 이루도록 중심부가 꺾어진 구조로 형성할 수 있다. 이러한 구조에서는, 게이트 라인(110)의 상부 및 하부에서 다른 방향의 횡전계가 형성됨에 따라 액정 분자의 배열 방향이 서로 다른 도메인(domain)들이 나누어지게 되므로, 어레이 기판 상의 횡전계가 일방향으로만 형성되는 경우에 비하여 컬러 쉬프트 현상이 개선되어 시야각 특성이 좋아지고, 응답 속도가 빨리지는 등의 효과가 있다.On the other hand, each pixel is formed in a structure in which the center is bent so that the upper and lower pixel electrodes 140 and 141 and the upper and lower common electrodes 131 and 132 have a predetermined angle with respect to the gate line 110 as shown in FIG. 4. can do. In this structure, as the transverse electric fields in different directions are formed at the upper and lower portions of the gate line 110, domains having different arrangement directions of the liquid crystal molecules are divided, so that the transverse electric field on the array substrate is formed only in one direction. Compared to the case of the present invention, the color shift phenomenon is improved, the viewing angle characteristic is improved, and the response speed is increased.

이러한 어레이 기판은 1 화소 2 TFT의 횡전계 구조로서 대형 모델의 텔레비전 등에 횡전계 모드를 적용하고자 할 때 유리하며, 컬러 필터 기판과, 두 기판 사이에 형성된 액정층을 포함하는 액정 패널로 제조되어 사용된다. 어레이 기판은 상부 공통 전극(131) 및 상부 화소 전극(140), 하부 공통 전극(132) 및 하부 화소 전극(141) 간에 수평 방향의 전계를 형성하도록 구동되어 액정층의 배향을 화소별로 제어하고, 컬러 필터 기판은 적색, 녹색, 청색의 컬러 필터 등을 구비하여, 액정 물질의 배향에 따라 파장별로 빛을 투과시켜 화상을 표시하게 된다.This array substrate is advantageous when the lateral electric field mode is applied to a large model television or the like as a transverse electric field structure of one pixel 2 TFT, and is manufactured and used as a liquid crystal panel including a color filter substrate and a liquid crystal layer formed between the two substrates. do. The array substrate is driven to form a horizontal electric field between the upper common electrode 131 and the upper pixel electrode 140, the lower common electrode 132, and the lower pixel electrode 141 to control the alignment of the liquid crystal layer for each pixel. The color filter substrate includes red, green, and blue color filters, and transmits light for each wavelength according to the alignment of the liquid crystal material to display an image.

도 5는 도 4의 리페어 공정을 설명하기 위한 도면이고, 도 6은 도 5의 리페어 공정에 따른 Ι-Ι'라인의 변화를 나타낸 단면도이다.FIG. 5 is a view for explaining the repair process of FIG. 4, and FIG. 6 is a cross-sectional view illustrating a change in a line II according to the repair process of FIG. 5.

어레이 기판 상의 불량 화소 수가 기준치 영역에 있는 경우, 리페어 패턴(150)의 구조를 이용하여 불량 화소를 시각적 무결점화하는 리페어 공정을 수행한다.When the number of defective pixels on the array substrate is in the reference region, the repair process is performed to visually defect the defective pixels using the structure of the repair pattern 150.

예를 들어, 도 4의 구조에서, P1이 불량 화소이고, P1과 인접해 있는 P2가 정상 화소인 경우를 가정하면, 우선, 레이저 커팅(laser cutting)을 통해 P1에 구비된 박막 트랜지스터의 드레인 전극(122)들을 단선시킨다.For example, in the structure of FIG. 4, assuming that P1 is a bad pixel and P2 adjacent to P1 is a normal pixel, first, the drain electrode of the thin film transistor provided in P1 through laser cutting. Disconnect (122).

그리고, c1의 레이저 커팅(laser cutting)을 통해 P1의 하부 화소 전극(141)과 P2의 상부 화소 전극(140) 간에 형성된 리페어 패턴(150)을 공통 라인(130)으로부터 단선하여 P1, P2 두 화소 간의 화소 전극들(140, 141)을 링크시키는 독립된 섬 형상의 패턴이 되도록 하고, c2 및 c3의 레이저 용접(laser welding)을 통해 화소 전극들(140, 141)과, 그에 겹쳐진 리페어 패턴(150)의 오버랩 영역을 단락(short) 시켜 불량 화소인 P1을 리페어한다.In addition, the repair pattern 150 formed between the lower pixel electrode 141 of P1 and the upper pixel electrode 140 of P2 is disconnected from the common line 130 by laser cutting of c1 so that two pixels P1 and P2 are disconnected. The pixel electrodes 140 and 141 and the repair pattern 150 overlapping the pixel electrodes 140 and 141 through laser welding of c2 and c3 are formed to be independent island-shaped patterns linking the pixel electrodes 140 and 141 therebetween. The overlap region of is shorted to repair P1 which is a bad pixel.

그러면, 도 6에 도시된 것처럼, 서로 떨어져 있던 P1과 P2의 화소 전극들(140, 141)이 리페어 패턴(150)을 통해 서로 연결되면서 정상 화소인 P2로 인가되는 데이터 전압이 불량 화소인 P1도 함께 구동하여 P1과 P2가 동일한 그레이 레벨(gray level)을 표시하게 되면서 시각적 무결점화가 가능해지는 것이다.
이때, 리페어 패턴(150)은 도 6에 도시된 것처럼, 두 화소 P1, P2 사이에 위치하는 공통 라인(130)과 동일 평면인 투명 절연 기판(100) 상에 형성된다.
Then, as illustrated in FIG. 6, the pixel electrodes 140 and 141 of P1 and P2 that are separated from each other are connected to each other through the repair pattern 150, and P1, which is a bad pixel, has a data voltage applied to P2, which is a normal pixel. By driving together, P1 and P2 display the same gray level, thereby enabling visual imperfections.
In this case, as illustrated in FIG. 6, the repair pattern 150 is formed on the transparent insulating substrate 100 that is coplanar with the common line 130 positioned between the two pixels P1 and P2.

도 6을 참조하면, 리페어 공정 이전의 상태(d1)에서는, 투명 절연 기판(100) 상에 고립(isolation) 상태의 리페어 패턴(150)이 형성되고, 보호막(101)을 사이에 두고 P1과 P2의 화소 전극들(140, 141)들이 각각 형성되어 있어, 리페어 패턴(150)으로는 공통 전압이, 화소 전극들(140, 141)로는 각각의 데이터 전압이 인가된다.Referring to FIG. 6, in the state d1 before the repair process, the repair pattern 150 in an isolation state is formed on the transparent insulating substrate 100, and P1 and P2 are disposed with the protective film 101 interposed therebetween. Each of the pixel electrodes 140 and 141 is formed, so that the common voltage is applied to the repair pattern 150, and each data voltage is applied to the pixel electrodes 140 and 141.

리페어 공정 이후의 상태(d2)에서는 c2 및 c3 지점을 통해 P1, P2의 화소 전극들(141, 140)이 서로 전기적으로 접촉되어 P2의 상부 화소 전극(140)으로 인가된 데이터 전압이 P1의 하부 화소 전극(141)으로 전달된다.In the state d2 after the repair process, the pixel electrodes 141 and 140 of P1 and P2 are in electrical contact with each other through points c2 and c3 so that the data voltage applied to the upper pixel electrode 140 of P2 is lower than P1. The pixel electrode 141 is transferred to the pixel electrode 141.

도 4 내지 도 6에서는 P1 및 P2에서와 같이 인접한 두 개의 화소 간에 하나의 리페어 패턴(150)을 형성하고, 형성된 리페어 패턴(150)의 일측이 공통 라인(130)에 연결된 경우를 도시하여 설명하고 있으나, 본 발명이 이에 한정되는 것은 아니며, 다양한 형태의 실시예로 변형될 수 있다.4 to 6 illustrate a case in which one repair pattern 150 is formed between two adjacent pixels as in P1 and P2, and one side of the formed repair pattern 150 is connected to the common line 130. However, the present invention is not limited thereto and may be modified in various forms.

예를 들어, 리페어 공정 시 콘택(contact) 특성을 확보하기 위하여 이러한 리페어 패턴(150)들을 복수 개 형성하거나, 리페어 패턴(150)을 본래부터 독립된 섬 형상의 패턴으로 형성하여 c1의 레이저 커팅을 수행할 필요 없이 c2와 c3의 레이저 용접만으로 리페어가 가능하도록 할 수 있을 것이다.For example, in order to secure contact characteristics during the repair process, a plurality of such repair patterns 150 may be formed, or the repair patterns 150 may be formed in an original island pattern to perform laser cutting of c1. It will be possible to repair with only laser welding of c2 and c3 without the need for this.

종래에는, 불량 화소가 있는 경우 레이저로 다시 패턴을 형성하거나, 그대로 암점화 하였으나, 본 발명에서는, 어레이 공정에서 미리 리페어 패턴(150)을 형성해 놓고, 리페어 공정 시 다시 패턴을 형성할 필요 없이 레이저 커팅과 레이저 용접만을 이용하여 불량 화소를 리페어할 수 있다. 따라서, 어레이 기판 상태만이 아니라 어레이 기판이 액정 셀 공정을 거쳐 액정 패널로 제조된 상태에서도 리페어 공정을 수행할 수 있는 장점이 있다.Conventionally, when there are defective pixels, a pattern is formed again with a laser or darkened as it is. However, in the present invention, the repair pattern 150 is formed in advance in the array process, and the laser cutting is not necessary during the repair process. The defective pixels can be repaired using only the laser welding. Therefore, there is an advantage that the repair process can be performed not only in the array substrate state but also in the state in which the array substrate is manufactured as the liquid crystal panel through the liquid crystal cell process.

도 7은 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 액정 표시 장치의 리페어 방법을 나타낸 흐름도로서, 이하, 도 4의 구조를 갖는 어레이 기판에서 P1이 불량 화소이고, P2가 정상 화소인 경우를 예로 들어 설명하기로 한다.FIG. 7 is a flowchart illustrating a repair method of a liquid crystal display according to an exemplary embodiment of the present invention. Hereinafter, a case in which P1 is a bad pixel and P2 is a normal pixel in an array substrate having the structure of FIG. 4 will be described. Shall be.

먼저, S100 단계 내지 S120 단계를 거쳐 어레이 기판을 제조하는 TFT 어레이 공정, 컬러 필터 기판을 제조하는 컬러 필터 공정, 두 기판을 합착하고, 그 사이에 액정층을 형성하는 액정 셀 공정을 수행하여 액정 패널을 구성하게 된다.First, a TFT array process for manufacturing an array substrate through steps S100 to S120, a color filter process for manufacturing a color filter substrate, and a liquid crystal cell process for bonding two substrates together and forming a liquid crystal layer therebetween are performed. Will be configured.

여기서, 어레이 기판은 게이트 라인(110) 상의 일부 영역이 되는 게이트 전극과, 소스 전극(121), 한 쌍의 드레인 전극(122)을 구비하는 듀얼 타입의 박막 트랜지스터에 의해 스위칭되는 복수 개의 화소들(P1, P2, …)로 이루어진다.
그리고, 인접하는 화소들 사이에는 리페어 패턴(150)들이 형성되며, 각 리페어 패턴(150)의 양측 끝단은 인접한 화소들(예를 들어, P1, P2) 간의 화소 전극들(140, 141)에 각각 겹쳐지도록 구성된다.
두 화소, P1과 P2를 예로 들면, P1과 P2 사이에 위치하는 리페어 패턴(150)의 양측 끝단이 P1의 하부 화소 전극(141)과 P2의 상부 화소 전극(140)과 일정 영역만큼 오버랩되도록 구성된다.
Here, the array substrate includes a plurality of pixels switched by a dual type thin film transistor including a gate electrode serving as a partial region on the gate line 110, a source electrode 121, and a pair of drain electrodes 122. P1, P2, ...).
In addition, repair patterns 150 are formed between adjacent pixels, and both ends of each repair pattern 150 are respectively disposed at pixel electrodes 140 and 141 between adjacent pixels (eg, P1 and P2). It is configured to overlap.
Taking two pixels, P1 and P2 as an example, both ends of the repair pattern 150 positioned between P1 and P2 overlap the lower pixel electrode 141 of P1 and the upper pixel electrode 140 of P2 by a predetermined area. do.

여기서, 어레이 기판 상의 리페어 패턴(150)들은 각 화소(P1, P2, …)에 공통 전압(Vcom)을 인가하는 공통 라인(130)들에 연결된 형태, 또는 독립된 섬 형상의 패턴으로 형성할 수 있다.Here, the repair patterns 150 on the array substrate may be formed in a form connected to the common lines 130 applying the common voltage Vcom to each pixel P1, P2,..., Or in an independent island pattern. .

컬러 필터 기판에는 적색, 녹색, 청색의 컬러 필터와 블랙 매트릭스 등을 형성하여 어레이 기판의 구동에 따라 빛을 파장별로 투과시켜 화상을 표시하도록 구성한다.Red, green, and blue color filters, a black matrix, and the like are formed on the color filter substrate, and light is transmitted for each wavelength in accordance with driving of the array substrate to display an image.

본 발명에 따른 리페어 공정은 어레이 기판 상태나 액정 패널 상태에 모두 적용될 수 있으며, 어레이 기판 상태에서 리페어 공정을 수행하는 경우에는 S110 단계 및 S120 단계가 생략된다.The repair process according to the present invention can be applied to both the array substrate state and the liquid crystal panel state, and when the repair process is performed in the array substrate state, steps S110 and S120 are omitted.

다음으로, S130 단계에서, 어레이 기판 상의 화소들(P1, P2, …)에 테스트 신호를 인가하여 불량 화소(P1)를 검출한다.Next, in operation S130, a bad signal P1 is detected by applying a test signal to the pixels P1, P2,..., On the array substrate.

다음으로, S140 단계에서, 불량 화소(P1)에 구비된 박막 트랜지스터의 드레인 전극(122)들을 레이저 커팅으로 단선(cutting)시켜 불량 화소(P1) 내의 상, 하부 화소 전극(140, 141)과 접속되지 않도록 한다.Next, in operation S140, the drain electrodes 122 of the thin film transistor included in the defective pixel P1 are disconnected by laser cutting to be connected to the upper and lower pixel electrodes 140 and 141 in the defective pixel P1. Do not

다음으로, S150 단계에서, 불량 화소(P1)와, 불량 화소(P1)에 인접하는 정상 화소(P2)의 화소 전극들(140, 141) 간에 겹쳐지도록 구성된 리페어 패턴(150)의 양측 끝단을 레이저 용접하여 리페어 패턴(150)을 통해 두 화소(P1, P2)의 화소 전극들(140, 141)을 전기적으로 링크시킨다.Next, in operation S150, both ends of the repair pattern 150 configured to overlap the bad pixel P1 and the pixel electrodes 140 and 141 of the normal pixel P2 adjacent to the bad pixel P1 are lasered. By welding, the pixel electrodes 140 and 141 of the two pixels P1 and P2 are electrically linked through the repair pattern 150.

어레이 기판 상의 리페어 패턴(150)들이 공통 라인(130)들에 연결된 형태로 구성된 경우에는, S140 단계 이전에 레이저를 이용하여 불량 화소(P1)에 구비된 리페어 패턴(150)을 연결된 공통 라인(130)으로부터 단선시키는 단계를 더 포함하게 된다.In the case where the repair patterns 150 on the array substrate are configured to be connected to the common lines 130, the common lines 130 are connected to the repair patterns 150 provided in the bad pixels P1 using a laser before step S140. And disconnecting from).

이와 같이, 불량 화소(P1)를 상부 또는 하부 등의 위치에 인접한 정상 화소(P2)와 연결 구동함으로써, 화상을 표시할 때 불량이 인지되지 않도록 하는 시각적 무결점화를 구현할 수 있다.As described above, by driving the defective pixel P1 with the normal pixel P2 adjacent to the upper or lower position, the visual defect may be realized such that the defect is not recognized when the image is displayed.

도 8은 본 발명의 효과를 설명하기 위한 비교표로서, 본 발명을 적용하여 상하 화소(상하로 인접한 불량 화소와 정상 화소)를 링크시킨 경우와, 종래 기술에 따라 암점화한 경우의 인지 특성을 비교한 것이다.8 is a comparison table for explaining the effect of the present invention, comparing the recognition characteristics when the upper and lower pixels (up and down adjacent adjacent pixels and normal pixels) by applying the present invention and the dark point according to the prior art It is.

화면 상에 화이트, 그레이, 블랙(White/Gray/Black) 레벨이 표시되는 경우, 종래 기술에 따라 리페어하여 암점화하였을 때 우측에서와 같이 블랙 레벨을 제외한 모든 그레이에서 불량으로 인지되는 반면에, 본 발명에 따라 상하 화소를 링크시킨 경우에는 좌측에서와 같이 어느 그레이에서도 불량 지점이 인지되지 않는다.If white, gray, or black levels are displayed on the screen, when repaired and darkened according to the prior art, they are recognized as defective in all gray except the black level as shown on the right. In the case where the upper and lower pixels are linked according to the invention, no defective point is recognized in any gray as in the left side.

화면 상에 라인(Line)이 표시되는 경우, 본 발명에서는 라인의 바로 위에 불량 화소가 걸릴 때에만 불량이 인지되는 반면에, 종래 기술에서는 블랙 레벨을 제외한 모든 그레이에서 불량이 인지된다.When a line is displayed on the screen, the defect is recognized only when the defective pixel is caught directly above the line in the present invention, whereas the defect is recognized in all grays except the black level in the prior art.

화면 상에 다양한 그레이를 갖는 이미지(Picture)가 표시되는 경우, 본 발명에서는 불량 화소가 인접한 정상 화소와 비슷한 그레이를 표시하므로 이미지의 경계 부분에서도 불량으로 잘 인지되지 않으나, 종래 기술에 따르면 암점으로 불량이 인지된다.When a picture having various grays is displayed on the screen, in the present invention, since a bad pixel displays gray similar to an adjacent normal pixel, it is not well recognized as a bad even at the boundary of the image. This is recognized.

이상 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예를 설명하였지만, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자는 본 발명이 그 기술적 사상이나 필수적인 특징을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 실시될 수 있다는 것을 이해할 수 있을 것이다.While the present invention has been described in connection with what is presently considered to be practical exemplary embodiments, it is to be understood that the invention is not limited to the disclosed embodiments, but, on the contrary, You will understand.

따라서, 이상에서 기술한 실시예들은 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이므로, 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적이 아닌 것으로 이해해야만 하며, 본 발명은 청구항의 범주에 의해 정의될 뿐이다.Therefore, it should be understood that the above-described embodiments are provided so that those skilled in the art can fully understand the scope of the present invention. Therefore, it should be understood that the embodiments are to be considered in all respects as illustrative and not restrictive, The invention is only defined by the scope of the claims.

상기한 바와 같이 이루어진 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 횡전계 방식 액정 표시 장치 및 그의 리페어 방법에 의하면, 불량 화소를 인접한 정상 화소와 연동 구동하여 시각적 무결점화함으로써, 일반적인 화상에서 쉽게 불량 지점이 인지되지 않도록 할 수 있다.According to the transverse electric field type liquid crystal display device and the repair method thereof according to the preferred embodiment of the present invention as described above, the defect point is not easily recognized in the general image by visually defecting the defective pixel by cooperatively driving the adjacent pixel. You can do that.

또한, 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 횡전계 방식 액정 표시 장치 및 그의 리페어 방법에 의하면, 액정 패널로 합착되기 전의 어레이 기판 상태에서뿐만 아니라 합착된 이후의 액정 패널 상태에서도 손쉽게 리페어 공정을 수행할 수 있다.Further, according to the transverse electric field type liquid crystal display device and the repair method thereof according to the preferred embodiment of the present invention, the repair process can be easily performed not only in the array substrate state before bonding to the liquid crystal panel but also in the liquid crystal panel state after the bonding. .

Claims (13)

서로 인접하는 제 1, 제 2 화소가 정의된 투명 절연 기판;A transparent insulating substrate on which first and second pixels adjacent to each other are defined; 상기 투명 절연 기판 상에 수직 방향으로 형성된 복수의 데이터 라인 및 상기 복수의 데이터 라인과 교차되도록 상기 화소 내에 수평 방향으로 형성된 복수의 게이트 라인;A plurality of data lines formed in the vertical direction on the transparent insulating substrate and a plurality of gate lines formed in the pixel to intersect the plurality of data lines; 상기 복수의 게이트 라인과 상기 복수의 데이터 라인 각각의 교차 부위에 배치되고, 게이트 전극, 반도체층, 소스 전극 및 한 쌍의 드레인 전극이 구비된 듀얼 타입의 박막 트랜지스터;A dual type thin film transistor disposed at an intersection of each of the plurality of gate lines and the plurality of data lines and provided with a gate electrode, a semiconductor layer, a source electrode, and a pair of drain electrodes; 상기 한 쌍의 드레인 전극에 각각 연결된 상, 하부 화소 전극 및 상기 상, 하부 화소 전극과 서로 엇갈리도록 배치된 상, 하부 공통 전극;Upper and lower pixel electrodes connected to the pair of drain electrodes, and upper and lower common electrodes disposed to alternate with the upper and lower pixel electrodes; 상기 제 1 화소와 상기 제 2 화소 사이에 수평 방향으로 형성되며, 상기 제 1 화소의 하부 공통 전극과 상기 제 2 화소의 상부 공통 전극을 서로 연결하는 공통 라인; 및A common line formed in a horizontal direction between the first pixel and the second pixel and connecting a lower common electrode of the first pixel and an upper common electrode of the second pixel to each other; And 상기 제 1 화소와 상기 제 2 화소 사이에 배치되며, 양측 끝단의 오버랩 영역이 상기 제 1 화소의 하부 화소 전극과 상기 제 2 화소의 상부 화소 전극에 각각 겹쳐지도록 구성되는 리페어 패턴을 포함하고;A repair pattern disposed between the first pixel and the second pixel and configured such that overlap regions at both ends thereof overlap each of the lower pixel electrode of the first pixel and the upper pixel electrode of the second pixel; 상기 제 1, 제 2 화소가 모두 정상 화소인 경우 상기 리페어 패턴은 상기 공통 라인에 연결되어 있고, 상기 제 1, 제 2 화소 중의 하나가 불량 화소인 경우 상기 리페어 패턴은 상기 공통 라인과 연결되지 않은 독립된 섬 형상의 패턴인 것을 특징으로 하는 횡전계 방식 액정 표시 장치.When the first and second pixels are all normal pixels, the repair pattern is connected to the common line. When one of the first and second pixels is a bad pixel, the repair pattern is not connected to the common line. It is an independent island pattern, The transverse electric field system liquid crystal display device. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 리페어 패턴은,The repair pattern is, 대칭 형상을 갖는 것을 특징으로 하는 횡전계 방식 액정 표시 장치.A transverse electric field liquid crystal display device having a symmetrical shape. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 복수의 게이트 라인 각각은,Each of the plurality of gate lines, 상기 제 1, 제 2 화소 각각의 중심부에 위치한 것을 특징으로 하는 횡전계 방식 액정 표시 장치.And a central field of each of the first and second pixels. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 제 1, 제 2 화소는,The first and second pixels, 중심부가 꺾어진 형상인 것을 특징으로 하는 횡전계 방식 액정 표시 장치.A transverse electric field type liquid crystal display device, characterized in that the center portion is bent. 삭제delete 삭제delete 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 듀얼 타입의 박막 트랜지스터는 불량 화소 내의 상, 하부 화소 전극과 단선(cutting)되어 있으며, 상기 리페어 패턴은 양측의 오버랩 영역을 통해 상기 제 1 화소의 하부 화소 전극과 상기 제 2 화소의 상부 화소 전극에 전기적으로 접촉된 것을 특징으로 하는 횡전계 방식 액정 표시 장치.The dual type thin film transistor is disconnected from upper and lower pixel electrodes in a bad pixel, and the repair pattern includes a lower pixel electrode of the first pixel and an upper pixel electrode of the second pixel through overlap regions of both sides. The transverse electric field type liquid crystal display device which electrically contacted. a) 게이트 전극, 반도체층, 소스 전극 및 한 쌍의 드레인 전극을 갖는 듀얼 타입의 박막 트랜지스터에 의해 각각이 스위칭되는 제 1, 제 2 화소가 구성되고, 상기 제 1, 제 2 화소 사이에 리페어 패턴이 형성되며, 상기 리페어 패턴의 양측 끝단은 상기 제 1 화소의 하부 화소 전극과 상기 제 2 화소의 상부 화소 전극에 각각 겹쳐진 어레이 기판을 제조하는 단계;a) first and second pixels, each of which is switched by a dual type thin film transistor having a gate electrode, a semiconductor layer, a source electrode and a pair of drain electrodes, are configured, and a repair pattern is formed between the first and second pixels Manufacturing an array substrate on which both ends of the repair pattern are respectively overlapped with a lower pixel electrode of the first pixel and an upper pixel electrode of the second pixel; b) 상기 제 1, 제 2 화소에 테스트 신호를 인가하여 불량 화소를 검출하는 단계;b) detecting a bad pixel by applying a test signal to the first and second pixels; c) 상기 제 1 화소가 불량 화소인 경우, 상기 제 1 화소의 박막 트랜지스터를 단선(cutting)시키는 단계; 및c) cutting the thin film transistor of the first pixel when the first pixel is a bad pixel; And d) 불량 화소인 상기 제 1 화소와 정상 화소인 상기 제 2 화소에 겹쳐진 상기 리페어 패턴의 양측 끝단을 상기 제 1 화소의 하부 화소 전극과 상기 제 2 화소의 상부 화소 전극에 전기적으로 접촉시키는 단계를 포함하는 횡전계 방식 액정 표시 장치의 리페어 방법.d) electrically contacting both ends of the repair pattern overlapped with the first pixel as the bad pixel and the second pixel as the normal pixel, to the lower pixel electrode of the first pixel and the upper pixel electrode of the second pixel; Repair method of a transverse electric field type liquid crystal display device containing. 제8항에 있어서,9. The method of claim 8, 상기 어레이 기판을 제조한 이후에, 상기 어레이 기판을 이용하여 액정 패널을 제조하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 횡전계 방식 액정 표시 장치의 리페어 방법.And after the array substrate is manufactured, manufacturing a liquid crystal panel using the array substrate. 제8항에 있어서,9. The method of claim 8, 상기 a) 단계에서,In step a), 상기 리페어 패턴은 독립된 섬 형상의 패턴으로 형성되거나 상기 제 1, 제 2 화소에 공통 전압을 인가하기 위한 공통 라인에 연결되도록 형성되고,The repair pattern may be formed in an independent island pattern or connected to a common line for applying a common voltage to the first and second pixels. 불량 화소에 겹쳐진 리페어 패턴이 상기 공통 라인에 연결된 경우, 상기 연결된 공통 라인으로부터 상기 리페어 패턴을 단선(cutting)시키는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 횡전계 방식 액정 표시 장치의 리페어 방법.And when the repair pattern overlapping the bad pixel is connected to the common line, cutting the repair pattern from the connected common line. 제8항에 있어서,9. The method of claim 8, 상기 리페어 패턴은,The repair pattern is, 대칭 형상을 갖도록 형성하는 것을 특징으로 하는 횡전계 방식 액정 표시 장치의 리페어 방법.The repairing method of the transverse electric field type liquid crystal display device which is formed so that it may have a symmetrical shape. 제8항에 있어서,9. The method of claim 8, 상기 제 1, 제 2 화소는,The first and second pixels, 중심부가 꺾어진 형상으로 형성하는 것을 특징으로 하는 횡전계 방식 액정 표시 장치의 리페어 방법.A repair method of a transverse electric field type liquid crystal display device, wherein the center portion is formed in a bent shape. 제8항에 있어서,9. The method of claim 8, 상기 c) 단계는 레이저 커팅(laser cutting) 공정을 이용하여 단선(cutting)시키는 단계이고,Step c) is a step of cutting using a laser cutting process (laser cutting), 상기 d) 단계는 레이저 용접(laser welding) 공정을 이용하여 전기적으로 접촉시키는 단계인 것을 특징으로 하는 횡전계 방식 액정 표시 장치의 리페어 방법.The step d) is a repairing method of a transverse electric field type liquid crystal display device, characterized in that the electrical contact by using a laser welding (laser welding) process.
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