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KR101194849B1 - 용액 분사 유니트 - Google Patents

용액 분사 유니트 Download PDF

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KR101194849B1
KR101194849B1 KR1020040114257A KR20040114257A KR101194849B1 KR 101194849 B1 KR101194849 B1 KR 101194849B1 KR 1020040114257 A KR1020040114257 A KR 1020040114257A KR 20040114257 A KR20040114257 A KR 20040114257A KR 101194849 B1 KR101194849 B1 KR 101194849B1
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South Korea
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solution
housing
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rotating means
substrate
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KR1020040114257A
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Inventor
김군호
Original Assignee
엘지디스플레이 주식회사
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    • B05CAPPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
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Abstract

본 발명은 용액 분사 대상물 전체에 용액을 분사하는 시간을 단축시켜 대상물의 부분들마다 용액과 접촉하는 시간의 차이를 최소화할 수 있는 용액 분사 유니트를 개시한다. 본 발명에 따른 용액 분사 유니트는 내부로 용액과 압축 공기가 각각 공급되며, 그 저면에는 다수의 노즐이 장착되어 있는 다수의 하우징들; 및 각 하우징에 연결되어 각 하우징을 소정 각도 회전시키는 회전 수단을 포함한다. 각 하우징은 그 상부면에 브라켓트가 각각 고정되어 있으며, 각 브라켓트에는 회전 수단의 회전축이 고정되어 있어 회전 수단에 의하여 각 하우징의 회전이 이루어진다. 회전 수단은 각 하우징이 용액 분사 대상물을 벗어나지 않는 범위 내에서 그리고 인접한 하우징의 용액 분사 범위와 중첩되지 않는 범위 내에서 각 하우징을 회전시킨다.
용액 분사

Description

용액 분사 유니트{Unit for dispensing solution}
도 1은 일반적인 용액 분사 유니트의 저면도.
도 2는 도 1에 도시된 용액 분사 유니트를 이용하여 기판에 현상액을 분사하는 상태를 도시한 정면도.
도 3은 도 1에 도시된 용액 분사 유니트를 통하여 분사된 현상액에 의하여 식각된 포토레지스트의 상태를 나타내기 위한 기판의 정면도.
도 4는 본 발명에 따른 용액 분사 유니트의 저면도.
도 5는 도 4에 도시된 용액 분사 유니트를 이용하여 기판 표면에 용액을 분사하는 상태를 도시한 정면도.
본 발명은 용액 분사 유니트에 관한 것으로서, 특히 용액이 분사되는 시간의 차이에 나타나는 공정 대상물의 처리(반응) 차이를 줄일 수 있는 용액 분사 유니트에 관한 것이다.
반도체 소자, 유기 전계 발광 소자 등과 같은 소자의 제조 공정에서는 기판 표면에 공정막, 예를 들어 감광막인 포토레지스트(photoresist)층을 형성하고, 현 상액을 이용하여 포토레지스트층을 일부 현상(식각)하는 공정을 포함한다.
도 1은 일반적인 용액 분사 유니트의 저면도, 도 2는 도 1에 도시된 용액 분사 유니트를 이용하여 기판에 현상액을 분사하는 상태를 도시한 정면도로서, 포토레지스트층에 현상액을 분사하는 용액 분사 유니트 및 분사 과정을 간단히 설명하면 다음과 같다.
일반적인 용액 분사 유니트(10)는 기판(1)이 장착되는 기판 장착부(3) 상에 설치되며, 크게 하우징(11) 및 하우징(11)의 이동을 안내하는 가이드 레일(12) 그리고 하우징(11)을 이동시키는 구동 수단(도시되지 않음)으로 이루어진다.
하우징(11) 내부로는 외부에 저장된 용액(현상액)과 압축 공기가 공급되며, 그 저면에는 다수의 노즐(11-1)들이 장착되어 있다.
하우징(11) 내부로 용액과 압축 공기가 공급됨과 동시에 구동 수단이 작동하면, 하우징(11)은 가이드 레일(12)을 따라 이동(A1에서 A2로)하면서 노즐(11-1)을 통하여 기판(1)에 용액을 분사한다.
기판(1) 표면에 형성된 포토레지스트층은 용액과 접촉하는 시간에 따라 식각 정도가 달라진다. 따라서 하우징(11)이 가이드 레일(12)을 따라 이동하면서 용액을 분사하기 때문에 용액 분사가 완료된 후 기판(1)에 형성된 포토레지스트층의 두께는 균일하지 않게 된다.
하우징(11)의 이동 시작 지점(도 2의 A1)에서 분사된 용액은 하우징(11)이 이동 종료 지점(A2)에 도달할 때까지 포토레지스트층(2)을 식각하게 된다. 물론, 하우징(11)의 이동 시작 지점(도 2의 A1)에서 용액이 분사될 때, 이동 종료 지점 (A2)에 대응하는 포토레지스트층(1-1)에는 용액이 분사되지 않는다.
도 3은 도 1에 도시된 용액 분사 유니트를 통하여 분사된 현상액에 의하여 식각된 포토레지스트의 상태를 나타내기 위한 기판의 정면도로서, 포토레지스트층(2)에서 하우징(11)의 이동 시작 지점(도 2의 A1)과 대응하는 부분의 두께(T1)와 하우징(11)의 이동 종료 지점(A2)에 대응하는 부분의 두께(T2)는 서로 큰 차이가 있음을 도시하고 있다.
이러한 포토레지스트층(2)의 식각 불균일 현상은 하우징(11)이 이동 시작 지점(A1)에서 이동 종료 지점(A2)까지 이동하는 과정에서 이미 분사된 용액과 포토레지스트층(2)이 접촉함으로서 나타나는 결과이다.
도 3에 도시된 바와 같이, 현상 공정이 종료된 후 기판(1) 상의 포토레지스트층(2)의 두께가 전체적으로 균일하지 않게 되며, 이러한 포토레지스트층(2)의 두께 불균일은 이후의 공정에 큰 영향을 미치며, 특히 소자의 기능에 심각한 영향을 초래할 수 있다.
본 발명은 용액 분사 유니트를 이용하여 용액을 분사하는 과정에서 발생하는 상술한 문제점을 해결하기 위한 것으로서, 용액 분사 대상물 전체에 용액을 분사하는 시간을 단축시켜 대상물의 부분들마다 용액과 접촉하는 시간의 차이를 최소화할 수 있는 용액 분사 유니트를 제공하는데 그 목적이 있다.
위의 목적을 실현하기 위한 본 발명에 따른 용액 분사 유니트는 내부로 용액과 압축 공기가 각각 공급되며, 그 저면에는 다수의 노즐이 장착되어 있는 다수의 하우징들; 및 각 하우징에 연결되어 각 하우징을 소정 각도 회전시키는 회전 수단을 포함한다.
각 하우징은 그 상부면에 브라켓트가 각각 고정되어 있으며, 각 브라켓트에는 회전 수단의 회전축이 고정되어 있어 회전 수단에 의하여 각 하우징의 회전이 이루어진다. 회전 수단은 각 하우징이 용액 분사 대상물을 벗어나지 않는 범위 내에서 그리고 인접한 하우징의 용액 분사 범위와 중첩되지 않는 범위 내에서 각 하우징을 회전시킨다.
이하, 본 발명을 첨부한 도면을 참고하여 상세히 설명한다.
도 4는 본 발명에 따른 용액 분사 유니트의 저면도로서, 본 발명에 따른 용액 분사 유니트(20)는 기판이 장착되는 기판 장착부(도시되지 않음) 상에 설치되며, 다수의, 예를 들어 2개의 제 1 및 제 2 하우징(21 및 22) 및 각 하우징(21 및 22)을 일정 각도 회전시키는 회전 수단(도시되지 않음)을 포함한다.
서로 떨어진 상태로 위치하는 제 1 및 제 2 하우징(21 및 22)의 내부로는 외부에 저장된 용액(현상액)과 압축 공기가 공급되며, 그 저면에는 다수의 노즐(21-1 및 22-1)들이 각각 장착되어 있다.
도 5는 도 4에 도시된 용액 분사 유니트를 이용하여 기판 표면에 용액을 분사하는 상태를 도시한 정면도로서, 2개의 하우징(21, 22)에서 용액이 기판(1)으로 분사됨을 도시하고 있다.
각 하우징(21 및 22)의 상부면에는 브라켓트(21-2 및 22-2)가 고정되어 있으 며, 이 브라켓트(21-2 및 22-2)에는 회전 수단의 회전축(31, 32)이 길이 방향으로 각각 고정되어 있다. 따라서 하우징(21 및 22)은 회전 수단의 회전에 의하여 회전이 가능하다.
이와 같이 구성된 용액 분사 유니트에서는, 각 하우징(21 및 22)의 내부로 용액과 압축 공기가 공급됨과 동시에 회전 수단이 작동하면, 회전축(31, 32)에 의하여 제 1 및 제 2 하우징(21 및 22)은 소정 각도 회전함과 동시에 각 노즐(21-1 및 22-1)을 통하여 기판에 용액이 분사된다.
도 5에 도시된 바와 같이, 회전 수단은 각 하우징(21 및 22)이 기판(1)을 벗어나지 않는 범위 내에서 용액을 분사시킬 수 있도록 하우징을 회전시킨다. 또한 기판(1) 표면에 균일한 양의 용액을 분사하기 위하여 인접한 다른 하우징의 용액 분사 범위와 중첩되지 않는 범위 내에서 각 하우징을 회전시키는 것이 바람직하다.
도 1에 도시된 일반적인 용액 분사 유니트와 비교하여, 2개의 하우징(21, 22)을 이용하여 기판(1)의 표면 전체, 즉 포토레지스트층(2)의 전 표면에 용액을 분사하는 시간은 약 1/2 정도 줄어들며, 따라서 포토레지스트 층(2) 중에서 각 하우징(21, 22)의 회전 시작 부분에 대응하는 부분과 회전 종료 부분에 대응하는 부분의 두께 차이 역시 크게 줄어들게 된다.
이상과 같은 본 발명에 따른 용액 분사 유니트를 이용할 경우, 공정 용액에 위한 처리 과정 후, 기판 표면에 형성된 공정막은 전체적으로 균일한 두께를 유지할 수 있다.
위에서 설명한 본 발명의 바람직한 실시예는 예시의 목적을 위해 개시되었다. 따라서, 본 발명에 대한 통상의 지식을 가지는 당업자라면 본 발명의 사상과 범위 안에서 다양한 수정, 변경, 부가가 가능할 것이며, 이러한 수정, 변경 및 부가는 하기의 특허청구범위에 속하는 것으로 보아야 할 것이다.

Claims (3)

  1. 기판에 형성된 공정막에 공정 용액을 분사하는 용액 분사 유니트에 있어서,
    내부로는 용액과 압축 공기가 각각 공급되며, 그 저면에는 다수의 노즐이 장착되어 있는 다수의 하우징들; 및
    각 하우징에 연결되어 각 하우징을 소정 각도 회전시키는 회전 수단을 포함하며,
    상기 회전 수단은 인접한 하우징의 용액 분사 범위와 중첩되지 않는 범위 내에서 각 하우징을 회전시키되, 각 하우징이 용액 분사 대상물을 벗어나지 않는 범위 내에서 각 하우징을 회전시키는 용액 분사 유니트.
  2. 제 1 항에 있어서, 각 하우징은 그 상부면에 브라켓트가 각각 고정되어 있으며, 각 브라켓트에는 회전 수단의 회전축이 고정되어 있는 용액 분사 유니트.
  3. 삭제
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