[go: up one dir, main page]
More Web Proxy on the site http://driver.im/

KR101161990B1 - Heating chamber and heating apparatus having the same - Google Patents

Heating chamber and heating apparatus having the same Download PDF

Info

Publication number
KR101161990B1
KR101161990B1 KR1020100137309A KR20100137309A KR101161990B1 KR 101161990 B1 KR101161990 B1 KR 101161990B1 KR 1020100137309 A KR1020100137309 A KR 1020100137309A KR 20100137309 A KR20100137309 A KR 20100137309A KR 101161990 B1 KR101161990 B1 KR 101161990B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
heating
heating chamber
seating
heating element
gas
Prior art date
Application number
KR1020100137309A
Other languages
Korean (ko)
Inventor
황원호
김관태
Original Assignee
주식회사 포스코
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 주식회사 포스코 filed Critical 주식회사 포스코
Priority to KR1020100137309A priority Critical patent/KR101161990B1/en
Application granted granted Critical
Publication of KR101161990B1 publication Critical patent/KR101161990B1/en

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/67098Apparatus for thermal treatment
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/67155Apparatus for manufacturing or treating in a plurality of work-stations
    • H01L21/6719Apparatus for manufacturing or treating in a plurality of work-stations characterized by the construction of the processing chambers, e.g. modular processing chambers

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Furnace Details (AREA)

Abstract

PURPOSE: A heating chamber and a heating apparatus having the same are provided to prevent an electrical short circuit between heating elements by arranging an insulating member between the heating elements spirally arranged. CONSTITUTION: A heating chamber(20) includes a sample support unit and a heating unit. A vacuum processing unit(40) forms inside the heating chamber into vacuum. A gas supply unit(50) supplies gas to inside the heating chamber. The gas supply unit includes a control valve for controlling the injection amount of the gas and a pump for supplying the gas. A monitoring unit(60) displays a vacuum condition, temperature, and pressure within the heating chamber.

Description

가열 챔버 및 이를 구비하는 가열 장치{HEATING CHAMBER AND HEATING APPARATUS HAVING THE SAME} HEATING CHAMBER AND HEATING APPARATUS HAVING THE SAME}

본 발명은 가열 챔버 및 이를 구비하는 가열 장치에 관한 것으로 특히 가열 챔버의 내부를 안정적으로 가열할 수 있는 발열부를 구비하는 가열 챔버 및 이를 구비하는 가열 장치에 관한 것이다. The present invention relates to a heating chamber and a heating apparatus having the same, and more particularly, to a heating chamber having a heating unit capable of stably heating the inside of the heating chamber, and a heating apparatus having the same.

일반적으로 가열 장치는 반도체 제조 등의 다양한 분야에서 이용되고 있으며, 일례로, 특정 시편(試片)의 특성을 분석하기 위해, 시편 열을 가하고 그 변화를 관찰하는 데에 이용되고 있다. In general, a heating apparatus is used in various fields, such as semiconductor manufacturing, and is used to apply the heat of a specimen and to observe the change, for example in order to analyze the characteristic of a specific specimen.

종래의 경우, 가열 장치는 가열 챔버 내에 시편이 안착되는 안착부가 형성되며, 안착부의 주위를 따라 시편에 열을 가하는 발열체를 구비한다. 즉, 종래의 경우, 발열체는 가열 챔버의 내부에 배치되어 시편에 열을 가하도록 구성되었다. In the conventional case, the heating device has a seating portion in which the specimen is seated in the heating chamber, and has a heating element for heating the specimen along the periphery of the seating portion. That is, in the conventional case, the heating element is arranged inside the heating chamber and configured to apply heat to the specimen.

그런데 이처럼 발열부가 가열 챔버의 내부에 배치되는 경우, 가열 챔버 내의 기체 분위기 관리를 위해 가열 챔버 내부로 주입되는 가스와 발열체가 서로 반응하여 발열체가 파손되는 경우가 종종 발생되고 있다. However, when the heat generating unit is disposed inside the heating chamber, the gas injected into the heating chamber and the heating element react with each other to frequently manage the gas atmosphere in the heating chamber.

보다 구체적으로 설명하면, 불활성 가스인 아르곤(Ar) 가스와 환원성 가스인 수소(H2) 가스를 일정한 비율로 혼합한 혼합 가스를 가열 챔버의 내부에 주입하면서 시편을 고온까지 가열하는 경우, 혼합 가스 내에 포함된 수소와 발열체가 고온에서 반응하여 스파크가 발생하거나, 발열체가 단선되는 문제가 발생되었다. More specifically, when the specimen is heated to a high temperature while injecting a mixed gas of argon (Ar) gas, which is an inert gas, and hydrogen (H 2 ) gas, which is a reducing gas, in a constant ratio, into the inside of the heating chamber, the mixed gas, Hydrogen and the heating element contained therein react at a high temperature to generate sparks, or the heating element is disconnected.

이러한 문제는 발열체를 칸탈(Kanthal)로 형성하는 경우 더욱 심화되고 있다. 따라서, 가열 챔버의 내부에 혼합가스를 주입하고 가열 챔버를 고온으로 유지시키더라도 발열체가 파손되지 않는 가열 챔버가 요구되고 있는 실정이다. This problem is exacerbated when the heating element is formed of Kanthal. Accordingly, there is a demand for a heating chamber in which a heating element is not damaged even when a mixed gas is injected into the heating chamber and the heating chamber is maintained at a high temperature.

본 발명의 목적은 혼합 가스가 주입된 가열 챔버에서 시편을 고온으로 가열하더라도 발열체가 파손되지 않는 가열 챔버 및 이를 구비하는 가열 장치를 제공하는 데에 있다. An object of the present invention is to provide a heating chamber and a heating device having the same, even if the specimen is heated to a high temperature in the heating chamber in which the mixed gas is injected.

본 발명의 실시예에 따른 가열 챔버는 내부 공간을 구비하는 케이스, 상기 케이스의 내부로 돌출되도록 배치되며 시편이 안착되는 안착면을 구비하는 시편 지지부 및 상기 안착면의 반대면에 체결되어 상기 안착면을 통해 상기 시편에 열을 전달하는 발열부를 포함하여 구성되는 것을 특징으로 한다.The heating chamber according to the embodiment of the present invention is fastened to a case having an inner space, a specimen support portion having a seating surface disposed to protrude into the inside of the case, and a seat on which the specimen is seated, and the seating surface being fastened to the seating surface. It characterized in that it comprises a heating unit for transmitting heat to the specimen through.

본 발명의 실시예에 있어서 상기 시편 지지부는, 일면이 상기 안착면으로 형성되며 내부에 공간이 형성되는 안착부 및 관 형상으로 일단이 대기 중으로 노출되고, 타단이 상기 안착부와 연결되어 상기 안착부의 내부 공간으로 공기가 유입되는 통로를 형성하는 연장부를 포함할 수 있다. In the embodiment of the present invention, the specimen support portion, one surface is formed in the seating surface and the space is formed inside the one end is exposed to the atmosphere in the air, the other end is connected to the seating portion is connected to the seating portion It may include an extension that forms a passage for introducing air into the interior space.

본 발명의 실시예에 있어서 상기 발열부는, 상기 안착부의 내부에 체결되는 발열체 및 상기 연장부 내에 배치되고 일단이 상기 발열체와 전기적으로 연결되며 타단은 전원과 연결되어 상기 발열체로 전력을 공급하는 도선을 포함하여 구성될 수 있다. In the embodiment of the present invention, the heating unit is disposed in the heating element and the extension portion fastened inside the seating portion and one end is electrically connected to the heating element and the other end is connected to a power source to supply power to the heating element It can be configured to include.

본 발명의 실시예에 있어서, 상기 안착면은 스테인리스 강으로 형성될 수 있다. In an embodiment of the present invention, the seating surface may be formed of stainless steel.

또한 본 발명의 실시예에 따른 가열 장치는 상기한 어느 하나의 가열 챔버, 상기 가열 챔버 내부를 진공으로 형성하는 진공 처리부, 및 상기 가열 챔버 내부에 가스를 공급하는 가스 공급부를 포함할 수 있다. In addition, the heating apparatus according to an embodiment of the present invention may include any one of the above-described heating chamber, a vacuum processing unit for forming a vacuum inside the heating chamber, and a gas supply unit for supplying gas into the heating chamber.

본 발명의 실시예에 있어서 상기 시편 지지부는, 일면이 상기 안착면으로 형성되며 내부에 공간이 형성되는 안착부 및 관 형상으로 일단이 대기 중으로 노출되고, 타단이 상기 안착부와 연결되어 상기 안착부의 내부 공간으로 공기가 유입되는 통로를 형성하는 연장부를 포함할 수 있다. In the embodiment of the present invention, the specimen support portion, one surface is formed in the seating surface and the space is formed inside the one end is exposed to the atmosphere in the air, the other end is connected to the seating portion is connected to the seating portion It may include an extension that forms a passage for introducing air into the interior space.

본 발명의 실시예에 있어서 상기 연장부는, 상기 진공 처리부의 내부를 관통하도록 배치될 수 있다. In an embodiment of the present invention, the extension part may be disposed to penetrate the inside of the vacuum processing part.

본 발명에 따르면, 발열체가 가열 챔버의 내부가 아닌 외부에 배치되어 가열 챔버의 내부로 열을 전달하도록 구성된다.According to the invention, the heating element is arranged outside of the heating chamber and is configured to transfer heat into the heating chamber.

이에, 가열 챔버에 혼합 가스가 주입되고 가열 챔버의 내부가 가열되더라도, 발열체는 혼합 가스와 접촉하지 않으며, 대기 중에 위치하게 된다. Thus, even if the mixed gas is injected into the heating chamber and the inside of the heating chamber is heated, the heating element is not in contact with the mixed gas and is positioned in the atmosphere.

따라서, 발열체와 혼합 가스(예컨대, 수소)가 고온에서 접촉함에 따라 스파크가 발생하거나 발열체가 단선되는 등 발열체가 파손되는 것을 방지할 수 있다. Therefore, when the heating element and the mixed gas (eg, hydrogen) contact at a high temperature, it is possible to prevent the heating element from being damaged, such as sparking or disconnection of the heating element.

도 1은 본 발명의 실시예에 따른 가열 장치의 정면도.
도 2는 도 1에 도시된 가열 장치의 측면도.
도 3은 도 1에 도시된 가열 장치의 평면도.
도 4는 본 발명의 실시예에 따른 가열 챔버를 개략적으로 도시한 절단 사시도.
1 is a front view of a heating apparatus according to an embodiment of the present invention.
FIG. 2 is a side view of the heating device shown in FIG. 1. FIG.
3 is a plan view of the heating apparatus shown in FIG.
4 is a perspective view schematically showing a heating chamber according to an embodiment of the present invention.

본 발명의 상세한 설명에 앞서, 이하에서 설명되는 본 명세서에 기재된 실시예와 도면에 도시된 구성은 본 발명의 가장 바람직한 실시예에 불과할 뿐, 본 발명의 기술적 사상을 모두 대변하는 것은 아니므로, 본 출원시점에 있어서 이들을 대체할 수 있는 다양한 균등물과 변형 예들이 있을 수 있음을 이해하여야 한다. Prior to the detailed description of the present invention, the configuration described in the embodiments and drawings described herein are only the most preferred embodiment of the present invention, and do not represent all of the technical spirit of the present invention, It is to be understood that there may be various equivalents and variations in place of the filing at the time of filing.

이하, 본 발명의 실시예를 첨부된 도면에 의거하여 상세히 설명한다. Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 1은 본 발명의 실시예에 따른 가열 장치의 정면도이고, 도 2는 도 1에 도시된 가열 장치의 측면도이며 도 3은 도 1에 도시된 가열 장치의 평면도이다. 1 is a front view of a heating device according to an embodiment of the present invention, FIG. 2 is a side view of the heating device shown in FIG. 1, and FIG. 3 is a plan view of the heating device shown in FIG. 1.

또한 도 4는 본 발명의 실시예에 따른 가열 챔버를 개략적으로 도시한 절단 사시도이다.4 is a cut perspective view schematically showing a heating chamber according to an embodiment of the present invention.

도 1 내지 도 4를 참조하면, 본 발명의 실시예에 따른 가열 장치(100)는 고진공 고온 가열 장치(100)로, 발열부(10)를 구비하는 가열 챔버(20), 가스 공급부(50), 및 진공 처리부(40)를 포함하여 구성된다. 1 to 4, the heating device 100 according to the embodiment of the present invention is a high vacuum high temperature heating device 100, which includes a heating chamber 20 and a gas supply unit 50 having a heat generating unit 10. And a vacuum processing unit 40.

가열 챔버(20)는 내부에 공간이 형성되며 밀폐가 가능한 케이스(22)에 의해 형성된다.The heating chamber 20 is formed by a case 22 in which a space is formed inside and which can be sealed.

본 실시예에 따른 가열 챔버(20)는 원통형으로 형성되며, 일단에 개폐가 가능한 출입문(24)이 구비된다. 이러한 출입문(24)을 통해 실험 대상인 시편이 가열 챔버(20)의 내부로 유입되어 안착될 수 있다. The heating chamber 20 according to the present embodiment is formed in a cylindrical shape, and is provided with an entrance door 24 that can be opened and closed at one end. Through the door 24, the test specimen may be introduced into the heating chamber 20 to be seated.

또한 가열 챔버(20)는 외부에서 작업자가 내부의 상황을 용이하게 인지할 수 있도록 적어도 하나의 관찰 창(26)을 구비할 수 있다. 본 실시예의 경우, 관찰 창(26)이 출입문(24)의 중앙에 형성되는 경우를 예로 들고 있다. 그러나 본 발명은 이에 한정되지 않으며, 가열 챔버(20) 상의 다양한 위치에 형성될 수 있다. 또한 관찰 창(26)이 아닌, 카메라를 설치하고 후술되는 모니터부(60)를 통해 가열 챔버(20)의 내부 상황을 파악하는 등 다양한 응용이 가능하다. In addition, the heating chamber 20 may be provided with at least one observation window 26 so that an operator can easily recognize the situation inside. In the case of this embodiment, the case where the observation window 26 is formed in the center of the entrance door 24 is taken as an example. However, the present invention is not limited thereto and may be formed at various positions on the heating chamber 20. In addition, a variety of applications are possible, such as the installation of a camera rather than the observation window 26 and grasping the internal situation of the heating chamber 20 through the monitor unit 60 described later.

또한 본 실시예에 따른 가열 챔버(20)는 케이스(22)의 타단에서 케이스(22)의 내부로 돌출되는 시편 지지부(30)를 구비한다. In addition, the heating chamber 20 according to the present embodiment includes a specimen support part 30 protruding into the case 22 from the other end of the case 22.

시편 지지부(30)는 케이스(22)의 타단을 관통하여 케이스(22)의 내부로 연장되는 관 형태의 연장부(35)와, 길이가 짧은 원통 형태로 형성되어 연장부(35)의 끝단과 체결되는 안착부(32)를 포함한다. The specimen support part 30 is formed in a tubular extension part 35 penetrating the other end of the case 22 and extending into the case 22, and formed in a cylindrical shape having a short length. It includes a seating portion 32 to be fastened.

연장부(35)는 내부가 빈 관 형태로 형성되며, 케이스(22)의 타단을 관통하는 형태로 케이스(22)의 타단에 삽입된다. 연장부(35)의 일단(36)은 케이스(22)의 외부로 연장되어 가열 장치(100)의 외부 즉, 대기 중으로 노출된다. 이에 따라 연장부(35)의 내부는 외부의 공기가 용이하게 유입될 수 있다. The extension part 35 is formed in a hollow tube shape and is inserted into the other end of the case 22 so as to penetrate the other end of the case 22. One end 36 of the extension part 35 extends outside of the case 22 and is exposed to the outside of the heating device 100, that is, into the atmosphere. Accordingly, the outside air can be easily introduced into the extension 35.

또한 연장부(35)의 타단은 안착부(32)와 연결된다. In addition, the other end of the extension portion 35 is connected to the seating portion (32).

안착부(32)는 일단(또는 일면)이 연장부(35)의 타단과 연결된다. 그리고 타단(또는 타면)은 시편이 안착되는 안착면(33)으로 이용된다. 이를 위해, 안착부(32)의 타단 즉 안착면(33)에는 시편을 지지하기 위한 시편 지지 돌기(34)가 구비될 수 있다. 여기서, 시편 지지 돌기(34)는 시편을 지지하기 위해, 집게나 클립, 스프링 등과 같은 다양한 시편 고정 부재(도시되지 않음)를 구비할 수 있다. The seating part 32 has one end (or one side) connected to the other end of the extension part 35. And the other end (or other surface) is used as the seating surface 33 on which the specimen is seated. To this end, the other end of the seating portion 32, that is, the seating surface 33 may be provided with a specimen support protrusion 34 for supporting the specimen. Here, the specimen support protrusion 34 may include various specimen fixing members (not shown) such as tongs, clips, and springs to support the specimen.

이러한 안착부(32)는 원통 형태의 내부가 빈 공간으로 형성되며, 그 내부에는 후술되는 발열부(10)의 발열체(11)가 삽입된다. 또한, 연장부(35)도 그 내부가 빈 관 형태로 형성되며, 내부에는 발열체(11)를 외부와 전기적으로 연결하는 도선(12)이 그 내부에 삽입되어 배치된다. 이에 대해서는 후술되는 발열부(10)에 대한 설명에서 보다 상세히 살펴보기로 한다. The seating portion 32 is formed in an empty space inside the cylindrical shape, the heating element 11 of the heat generating portion 10 to be described later is inserted therein. In addition, the extension part 35 is also formed in the shape of an empty tube, the inside of which the conductor 12 for electrically connecting the heating element 11 to the outside is inserted and disposed therein. This will be described in more detail in the description of the heating unit 10 to be described later.

한편, 본 실시예에 따른 안착부(32)는 금속 재질로 이루어질 수 있으며, 보다 구체적으로는 발열체(11)에서 발생된 열을 효과적으로 시편에 전달하기 위해 스테인리스 강으로 형성될 수 있다. 그러나 본 발명이 이에 한정되는 것은 아니며, 발열체(11)에서 발생된 열을 효과적으로 시편에 전달할 수 있다면 다양한 재질이 이용될 수 있다. On the other hand, the seating portion 32 according to the present embodiment may be made of a metal material, more specifically, may be formed of stainless steel in order to effectively transfer the heat generated from the heating element (11) to the specimen. However, the present invention is not limited thereto, and various materials may be used as long as the heat generated by the heating element 11 can be effectively transferred to the specimen.

발열부(10)는 발열체(11) 및 도선(12)을 포함하여 구성된다. The heat generating unit 10 includes a heat generating element 11 and a conductive wire 12.

발열체(11)는 상기한 바와 같이 안착부(32)의 내부 공간에 배치된다. 이때, 발열체(11)는 안착면(33)의 반대면에 접촉하도록 배치된다. 따라서, 발열체(11)에서 발생되는 열은 최대한 안착면(33)에 안착되는 시편으로 전달될 수 있다.The heating element 11 is disposed in the inner space of the seating portion 32 as described above. At this time, the heating element 11 is disposed to contact the opposite surface of the seating surface (33). Therefore, heat generated in the heating element 11 may be transmitted to the specimen seated on the seating surface 33 as much as possible.

발열체(11)는 코일 형태로 형성될 수 있으며, 나선 형상으로 안착부(32) 내에 고정될 수 있다. 이때, 발열체(11)들 사이에 전기적인 단락이 발생되는 것을 방지하기 위해, 나선형으로 배치된 발열체(11) 사이에는 절연 부재(예컨대, 애자(碍子) 등)가 삽입될 수 있다.The heating element 11 may be formed in a coil shape and may be fixed in the seating part 32 in a spiral shape. In this case, an insulation member (eg, insulator, etc.) may be inserted between the heating elements 11 arranged in a helical manner to prevent an electrical short between the heating elements 11.

이러한 절연 부재에 의해, 발열체(11)는 안착부(32) 내에서 움직이지 않도록 견고하게 고정될 수 있다. By this insulating member, the heating element 11 can be firmly fixed so as not to move in the mounting portion 32.

도선(12)은 발열체(11)를 전원과 전기적으로 연결한다. 이를 위해, 도선(12)은 전술한 연장부(35)의 내부에 배치되어 일단이 발열체(11)와 전기적으로 연결되며, 타단은 가열 장치(100)의 전원부(도시되지 않음)와 연결되어 발열체(11)로 전력을 제공한다. The conductive wire 12 electrically connects the heating element 11 to a power source. To this end, the conductive wire 12 is disposed in the above-described extension part 35 so that one end thereof is electrically connected to the heating element 11, and the other end thereof is connected to a power supply unit (not shown) of the heating device 100 to heat the heating element. Provide power to (11).

이상과 같이 구성되는 본 실시예에 따른 발열체(11)는 안착부(32) 내에 고정 체결되며, 연장부(35)를 통해 가열 장치의 외부로부터 유입되는 공기가 접촉하도록 구성된다. The heating element 11 according to the present embodiment configured as described above is fixedly fastened in the seating part 32, and is configured to contact air introduced from the outside of the heating device through the extension part 35.

즉, 본 실시예에 따른 가열 챔버(20)는 발열체(11)가 가열 챔버(20)의 내부로 노출되지 않고, 가열 챔버(20)의 내부와 격리되도록 배치되는 것을 특징으로 한다. That is, the heating chamber 20 according to the present embodiment is characterized in that the heating element 11 is arranged to be isolated from the interior of the heating chamber 20 without being exposed to the interior of the heating chamber 20.

비록 본 실시예에 따른 발열체(11)가 가열 챔버(20)의 중심부에 위치되도록 구성되지만, 이는 가열 챔버(20)의 내부에 구비되는 안착부(32)의 배치에 따른 구성이다. 따라서, 실질적으로 발열체(11)는 가열 챔버(20)의 밀폐된 내부 공간과 완전하게 격리된 공간에 배치되어 가열 챔버(20)의 내부로 열을 전달하도록 구성된다.Although the heating element 11 according to the present embodiment is configured to be positioned at the center of the heating chamber 20, this is a configuration according to the arrangement of the seating portion 32 provided inside the heating chamber 20. Thus, the heating element 11 is substantially arranged in a space completely isolated from the sealed inner space of the heating chamber 20 and configured to transfer heat into the heating chamber 20.

이러한 구성으로 인하여, 가열 챔버(20)에 혼합 가스가 주입되고 가열 챔버(20)의 내부가 가열되더라도, 발열체(11)는 혼합 가스와 접촉하지 않으며, 대기 중에 있게 된다. Due to this configuration, even if the mixed gas is injected into the heating chamber 20 and the inside of the heating chamber 20 is heated, the heating element 11 is not in contact with the mixed gas and is in the atmosphere.

한편 전술한 바와 같이, 본 실시예에 따른 연장부(35)는 도선(12)이 배치되는 공간으로 이용될 뿐만 아니라, 외부의 공기가 안착부(32) 내부의 발열체(11)로 유입되는 통로로 이용된다. 따라서, 이를 위해 본 실시예에 따른 연장부(35)는 그 일단(36)이 외부로 노출되고, 타단은 안착부(32)의 내부 공간과 연결되도록 구성된다. Meanwhile, as described above, the extension part 35 according to the present embodiment is not only used as a space in which the conductive wire 12 is disposed, but also a passage through which external air flows into the heating element 11 inside the seating part 32. Used as Therefore, for this purpose, the extension part 35 according to the present exemplary embodiment is configured such that one end 36 is exposed to the outside and the other end is connected to the inner space of the seating part 32.

여기서, 본 실시예에 따른 연장부(35)는 도 4에 도시된 바와 같이 진공 처리부(40)의 내부를 관통하도록 배치되며, 그 끝단은 도 3에 도시된 바와 같이 진공 처리부(40)의 외부로 노출되도록 배치된다. 이는 본 실시예에 따른 연장부(35)와 진공 처리부(40)가 모두 케이스(22)의 타단을 통해 가열 챔버(20)와 연결되도록 구성되었기 때문에 도출된 구성이다. Here, the extension part 35 according to the present embodiment is disposed to penetrate the inside of the vacuum processing part 40 as shown in FIG. 4, and the end thereof is outside the vacuum processing part 40 as shown in FIG. 3. To be exposed. This configuration is derived because both the extension part 35 and the vacuum processing part 40 according to the present embodiment are configured to be connected to the heating chamber 20 through the other end of the case 22.

따라서, 본 발명은 이러한 구성에 한정되지 않으며, 안착부(32) 내에 배치된 발열체(11)에 외부의 공기가 용이하게 유입될 수만 있다면 다양한 경로를 통해 연장부(35)가 형성될 수 있다. Therefore, the present invention is not limited to this configuration, and the extension part 35 may be formed through various paths so long as external air can be easily introduced into the heating element 11 disposed in the seating part 32.

진공 처리부(40)는 가열 챔버(20) 내부를 진공으로 형성한다. 이를 위해, 진공 처리부(40)는 가열 챔버(20) 내부의 공기를 외부로 배출하기 위한 진공 펌프(44)와, 가열 챔버(20) 내부의 진공 정도를 측정하기 위한, 진공 센서(42)를 구비할 수 있다. 이러한 진공 처리부(40)는 도 4에 도시된 바와 같이 내부에 연장부(35)를 포함하며 케이스(22)의 타단과 연결되고, 케이스(22)의 타단에 형성된 흡입 구멍(23)통해 가열 챔버(20) 내부의 공기를 흡입한다. The vacuum processor 40 forms a vacuum inside the heating chamber 20. To this end, the vacuum processor 40 includes a vacuum pump 44 for discharging air in the heating chamber 20 to the outside, and a vacuum sensor 42 for measuring the degree of vacuum in the heating chamber 20. It can be provided. The vacuum processing unit 40 includes an extension 35 therein and is connected to the other end of the case 22 as shown in FIG. 4, and the heating chamber is formed through the suction hole 23 formed at the other end of the case 22. (20) Inhale the air inside.

가스 공급부(50)는 가열 챔버(20)의 내부에 기체 분위기를 균일하게 조성하기 위한 혼합 가스를 가열 챔버(20) 내부로 주입한다. 이를 위해, 가스 공급부(50)는 가스를 제공하기 위한 펌프(54)와, 가스의 주입양을 조절하기 위한 조절 밸브(52) 등을 구비할 수 있다.
The gas supply unit 50 injects a mixed gas for uniformly forming a gas atmosphere in the heating chamber 20 into the heating chamber 20. To this end, the gas supply unit 50 may include a pump 54 for providing gas, a control valve 52 for adjusting the injection amount of gas, and the like.

한편, 본 실시예에 따른 가열 장치(100)는 가열 챔버(20) 내의 진공 상태와 온도, 및 압력 등을 작업자가 용이하게 인지할 수 있는 모니터부(60)를 더 구비할 수 있다. 모니터부(60)를 통해 작업자는 현재 가열 챔버(20) 내부의 전반적인 상황을 한 눈에 파악할 수 있다.
On the other hand, the heating device 100 according to the present embodiment may further include a monitor 60 that allows an operator to easily recognize the vacuum state, temperature, pressure, and the like in the heating chamber 20. Through the monitor unit 60, the operator can grasp the overall situation inside the heating chamber 20 at a glance.

이상과 같이 구성되는 본 실시예에 따른 가열 장치는 발열체가 가열 챔버의 내부와 완전히 격리되도록 배치되어 가열 챔버의 내부로 열을 전달하도록 구성된다.The heating apparatus according to the present embodiment configured as described above is arranged so that the heating element is completely isolated from the inside of the heating chamber, and is configured to transfer heat to the inside of the heating chamber.

이에, 가열 챔버에 혼합 가스가 주입되고 가열 챔버의 내부가 가열되더라도, 발열체는 혼합 가스와 접촉하지 않으며, 대기 중에 위치하게 된다. Thus, even if the mixed gas is injected into the heating chamber and the inside of the heating chamber is heated, the heating element is not in contact with the mixed gas and is positioned in the atmosphere.

따라서, 발열체와 혼합 가스(예컨대, 수소)가 고온에서 접촉함에 따라 스파크가 발생하거나 발열체가 단선되는 등 발열체가 파손되는 것을 방지할 수 있다.
Therefore, when the heating element and the mixed gas (eg, hydrogen) contact at a high temperature, it is possible to prevent the heating element from being damaged, such as sparking or disconnection of the heating element.

한편, 본 발명에 따른 가열 장치는 전술한 실시예에 한정되지 않으며, 본 발명의 기술적 사상 내에서 당 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의하여 다양한 변형이 가능하다. On the other hand, the heating device according to the present invention is not limited to the above-described embodiment, various modifications are possible by those skilled in the art within the technical idea of the present invention.

예를 들어, 전술한 실시예에서는 안착면이 지면에 대해 수직하게 배치되는 경우를 예로 들었으나, 본 발명은 이에 한정되지 않는다. 즉 안착면이 지면과 수평하게 배치되도록 구성하는 등 필요에 따라 다양한 응용이 가능하다. For example, in the above-described embodiment, a case in which the seating surface is disposed perpendicular to the ground is exemplified, but the present invention is not limited thereto. That is, a variety of applications are possible as necessary, such that the seating surface is arranged horizontally with the ground.

또한 본 실시예에서는 가열 장치에 구비되는 가열 챔버를 예로 들어 설명하였으나, 본 발명은 이에 한정되지 않으며 특정한 공간을 가열하기 위해 구성되는 설비나 장치라면 폭넓게 적용될 수 있다. In addition, in the present embodiment, the heating chamber provided in the heating apparatus has been described as an example, but the present invention is not limited thereto and may be widely applied to any equipment or apparatus configured to heat a specific space.

100.... 가열 장치
10.....발열부
11.....발열체 12....도선
20.....가열 챔버 22.....케이스
24.....출입문 26.....관찰 창
30.....시편 지지부
32.....안착부
33.....안착면 34.....지지 돌기
35.....연장부
40.....진공 처리부
42.....진공 센서 44.....진공 펌프
50.....가스 공급부 52.....조절 밸브
54.....펌프 60.....모니터부
100 ... heating device
10 ..... Heating part
11 .... heating element 12 ...
20 ..... heating chamber 22 ..... case
24 ..... Entrance 26 ..... Observation Window
30 ..... Specimen Support
32 ..... rest
33 ..... Seat 34 ..... Supporting protrusion
35 ..... Extension
40 ..... Vacuum treatment part
42 ..... vacuum sensor 44 ..... vacuum pump
50 ..... Gas Supply 52 ..... Control Valve
54 ..... pump 60 ..... monitor

Claims (7)

내부 공간을 구비하는 케이스, 상기 케이스의 내부로 돌출되도록 배치되며, 시편이 안착되는 안착면을 구비하는 시편 지지부 및 상기 안착면의 반대면에 체결되어 상기 안착면을 통해 상기 시편에 열을 전달하는 발열부를 포함하여 구성되는가열 챔버;
상기 가열 챔버 내부를 진공으로 형성하는 진공 처리부; 및
상기 가열 챔버 내부에 가스를 공급하는 가스 공급부;를 포함하며
상기 시편 지지부는, 일면이 상기 안착면으로 형성되며 내부에 공간이 형성되는 안착부; 및
관 형상으로 일단이 대기 중으로 노출되고, 타단이 상기 안착부와 연결되어 상기 안착부의 내부 공간으로 공기가 유입되는 통로를 형성하는 연장부;를 구비하며,
상기 연장부는, 상기 진공 처리부의 내부를 관통하도록 배치되는 것을 특징으로 하는 가열 장치.
A case having an inner space, disposed to protrude into the inside of the case, and fastened to an opposite surface of the test piece support portion having a seating surface on which the test piece is seated and the seating surface to transfer heat to the test piece through the seating surface. A heating chamber including a heating unit;
A vacuum processor configured to vacuum the inside of the heating chamber; And
And a gas supply unit supplying a gas into the heating chamber.
The specimen support part may include a seating part having one surface formed as the seating surface and having a space formed therein; And
A tubular shape, one end of which is exposed to the atmosphere, the other end of which is connected to the seating part and an extension part which forms a passage through which air enters into the seating space;
And the extension part is disposed to penetrate the inside of the vacuum processing part.
삭제delete 제 1 항에 있어서, 상기 발열부는,
상기 안착부의 내부에 체결되는 발열체; 및
상기 연장부 내에 배치되고 일단이 상기 발열체와 전기적으로 연결되며 타단은 전원과 연결되어 상기 발열체로 전력을 공급하는 도선;
을 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 가열 장치.
The method of claim 1, wherein the heat generating unit,
A heating element fastened inside the seating part; And
A conductive wire disposed in the extension part, one end of which is electrically connected to the heating element, and the other end of which is connected to a power source to supply power to the heating element;
Heating device comprising a.
제 1 항에 있어서,
상기 안착면은 스테인리스 강으로 형성되는 것을 특징으로 하는 가열 장치.
The method of claim 1,
And the seating surface is formed of stainless steel.
삭제delete 삭제delete 삭제delete
KR1020100137309A 2010-12-28 2010-12-28 Heating chamber and heating apparatus having the same KR101161990B1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020100137309A KR101161990B1 (en) 2010-12-28 2010-12-28 Heating chamber and heating apparatus having the same

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020100137309A KR101161990B1 (en) 2010-12-28 2010-12-28 Heating chamber and heating apparatus having the same

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR101161990B1 true KR101161990B1 (en) 2012-07-04

Family

ID=46716159

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020100137309A KR101161990B1 (en) 2010-12-28 2010-12-28 Heating chamber and heating apparatus having the same

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR101161990B1 (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
RU2554325C1 (en) * 2014-02-25 2015-06-27 Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Юго-Западный государственный университет" (ЮЗГУ) Thermal chamber for testing of electronic products

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007165322A (en) * 2006-12-15 2007-06-28 Kyocera Corp Sample heating device and its manufacturing method

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007165322A (en) * 2006-12-15 2007-06-28 Kyocera Corp Sample heating device and its manufacturing method

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
RU2554325C1 (en) * 2014-02-25 2015-06-27 Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Юго-Западный государственный университет" (ЮЗГУ) Thermal chamber for testing of electronic products

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US20060275933A1 (en) Thermally conductive ceramic tipped contact thermocouple
JP6211053B2 (en) Substrate support with feedthrough structure
TWI801755B (en) Indirectly heated cathode ion source and target holder
KR101149381B1 (en) Substrate processing apparatus and method of manufacturing semiconductor device
TW200845199A (en) Plasma process apparatus
TW200811903A (en) New and improved ion source
CN110495255B (en) Atmospheric pressure plasma device
US10873163B2 (en) Power connector with integrated power monitoring
KR101161990B1 (en) Heating chamber and heating apparatus having the same
KR100937504B1 (en) Measurement apparatus of hall effect
KR20100057118A (en) Probe station of variable temperature
US6534748B1 (en) Semiconductor purification apparatus and method
KR101415552B1 (en) Ground structure, and heater and chemical vapor deposition apparatus including the same
US10443117B2 (en) Plasma nitriding apparatus
JP2003060016A (en) Current introducing terminal and semiconductor manufacturing apparatus
KR102578955B1 (en) Female connecter for electrical wiring of a chemical vapor deposition apparatus
KR20090020281A (en) Superconductivity Measurement Device
KR20190089553A (en) Heater and apparatus for processing substrate
KR20170042521A (en) Multi-function heater device having a heat ray cradle for the multi-function heater device and the cradle and the operation method thereof
JP2003142359A (en) Current inlet terminal and semiconductor manufacturing apparatus
CN111226120B (en) Detector
KR20160012481A (en) Batch type apparatus for processing substrate
CN220187866U (en) Temperature measuring device and sintering furnace
KR100788956B1 (en) Plasma Process Equipment Including Electrostatic Chuck
KR20190050534A (en) Substrate processing apparatus and substrate processing method using the same

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
PA0109 Patent application

Patent event code: PA01091R01D

Comment text: Patent Application

Patent event date: 20101228

PA0201 Request for examination
PE0902 Notice of grounds for rejection

Comment text: Notification of reason for refusal

Patent event date: 20111027

Patent event code: PE09021S01D

E701 Decision to grant or registration of patent right
PE0701 Decision of registration

Patent event code: PE07011S01D

Comment text: Decision to Grant Registration

Patent event date: 20120605

GRNT Written decision to grant
PR0701 Registration of establishment

Comment text: Registration of Establishment

Patent event date: 20120626

Patent event code: PR07011E01D

PR1002 Payment of registration fee

Payment date: 20120626

End annual number: 3

Start annual number: 1

PG1601 Publication of registration
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20150625

Year of fee payment: 4

PR1001 Payment of annual fee

Payment date: 20150625

Start annual number: 4

End annual number: 4

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20160627

Year of fee payment: 5

PR1001 Payment of annual fee

Payment date: 20160627

Start annual number: 5

End annual number: 5

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20170626

Year of fee payment: 6

PR1001 Payment of annual fee

Payment date: 20170626

Start annual number: 6

End annual number: 6

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20180620

Year of fee payment: 7

PR1001 Payment of annual fee

Payment date: 20180620

Start annual number: 7

End annual number: 7

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20190626

Year of fee payment: 8

PR1001 Payment of annual fee

Payment date: 20190626

Start annual number: 8

End annual number: 8

PR1001 Payment of annual fee

Payment date: 20200626

Start annual number: 9

End annual number: 9

PR1001 Payment of annual fee

Payment date: 20210628

Start annual number: 10

End annual number: 10

PR1001 Payment of annual fee

Payment date: 20220628

Start annual number: 11

End annual number: 11

PC1903 Unpaid annual fee

Termination category: Default of registration fee

Termination date: 20240407