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KR101063452B1 - Etching Equipment - Google Patents

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KR101063452B1
KR101063452B1 KR1020090064345A KR20090064345A KR101063452B1 KR 101063452 B1 KR101063452 B1 KR 101063452B1 KR 1020090064345 A KR1020090064345 A KR 1020090064345A KR 20090064345 A KR20090064345 A KR 20090064345A KR 101063452 B1 KR101063452 B1 KR 101063452B1
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cam link
manifold
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etching
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나동호
박우철
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삼성전기주식회사
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Abstract

에칭장치가 개시된다. 기판에 에칭액을 분사하는 에칭장치로서, 회전축을 중심으로 회전하는 캠링크, 기판의 표면에 에칭액을 분사하는 노즐을 구비하고 있으며, 회전축에 편심되게 배치된 일단부가 캠링크에 회전가능하게 연결된 매니폴드(manifold), 캠링크에 연결되어 있으며 캠링크의 회전 시에 캠링크를 선형 왕복운동시키는 링크부를 포함하는 에칭장치는, 다양한 곡선의 패턴으로 에칭액을 균일하게 분사함으로써, 에칭의 균일성을 향상시킬 수 있다.An etching apparatus is disclosed. An etching apparatus for spraying etching liquid onto a substrate, the apparatus comprising: a cam link rotating about a rotation axis; and a nozzle for spraying etching liquid onto a surface of the substrate; one end disposed eccentrically on the rotating shaft rotatably connected to the cam link. The etching apparatus including a manifold, a link portion connected to the cam link and linearly reciprocating the cam link when the cam link is rotated, improves the uniformity of etching by uniformly spraying the etching liquid in various curved patterns. Can be.

에칭, 도포, 균일성 Etch, Apply, Uniformity

Description

에칭장치{Etching apparatus}Etching apparatus

본 발명은 에칭장치에 관한 것이다.The present invention relates to an etching apparatus.

인쇄회로기판(Printed Circuit Board) 제작기술의 발달에 따라 미세 회로패턴 설계기술에 대응한 에칭기술 및 이를 구현하는 에칭장치의 개발에 대한 요구가 증대되고 있다.With the development of printed circuit board manufacturing technology, there is an increasing demand for the development of etching technology corresponding to the fine circuit pattern design technology and the etching apparatus for implementing the same.

특히, 에칭의 균일성을 향상시키기 위하여, 에칭액을 기판에 균일하게 분사하는 장치에 대한 수요가 높아지고 있다.In particular, in order to improve the uniformity of etching, the demand for the apparatus which sprays etching liquid uniformly on a board | substrate is increasing.

종래에는 수평으로 이송된 기판에 일정한 패턴으로 움직이는 노즐을 통하여 에칭액을 분사하는 에칭장치가 사용되었다. 그러나, 이러한 방식은 기판을 지지하는 롤러로 인하여 노즐의 움직임에 한계가 있어서, 에칭의 균일성을 높이는데 한계가 있다. 또한, 지지하는 롤러 간의 간격을 넓히는데도 한계가 있어서, 대형기판에 적용하기 어려운 문제도 있다.In the related art, an etching apparatus for spraying etching liquid through a nozzle moving in a predetermined pattern on a horizontally transferred substrate is used. However, this method has a limitation in the movement of the nozzle due to the roller supporting the substrate, thereby limiting the uniformity of etching. In addition, there is a limit to widening the distance between the supporting rollers, there is also a problem that is difficult to apply to large substrates.

이러한 수평방식의 한계를 극복하는 방법으로, 수직으로 기판을 세워서 이송한 후에, 노즐에 대하여 기판을 좌우로 이동시켜 에칭액의 균일한 도포를 도모하는 방법이 제안되었다. 그러나, 이러한 방식은 기판을 지지하는 지그와 지그를 이동시키는 롤러 사이에 슬립이 발생하여 에칭의 균일성이 보장되지 않는 문제가 있다. 또한, 에칭액의 분사패턴이 직선으로만 형성되어 에칭의 균일성 향상에 한계가 있다.As a method of overcoming the limitations of the horizontal method, a method has been proposed in which the substrate is moved vertically and then moved horizontally with respect to the nozzle to uniformly apply the etching solution. However, this method has a problem in that slip occurs between the jig supporting the substrate and the roller for moving the jig, so that uniformity of etching is not guaranteed. In addition, since the injection pattern of the etching liquid is formed only in a straight line, there is a limit in improving the uniformity of etching.

본 발명은 에칭의 균일성을 높이는 에칭장치를 제공하는 것이다.The present invention provides an etching apparatus for improving the uniformity of etching.

본 발명의 일 측면에 따르면, 기판에 에칭액을 분사하는 에칭장치로서, 회전축을 중심으로 회전하는 캠링크, 기판의 표면에 에칭액을 분사하는 노즐을 구비하고 있으며, 상기 회전축에 편심되게 배치된 일단부가 상기 캠링크에 회전가능하게 연결된 매니폴드(manifold), 상기 캠링크에 연결되어 있으며, 상기 캠링크의 회전 시에 상기 캠링크를 선형 왕복운동시키는 링크부를 포함하는 에칭장치가 제공된다.According to an aspect of the present invention, an etching apparatus for spraying etching liquid onto a substrate, the cam link rotates around a rotating shaft, a nozzle for spraying etching liquid onto the surface of the substrate, one end portion eccentrically disposed on the rotating shaft An etching apparatus is provided that includes a manifold rotatably connected to the cam link, and a link part connected to the cam link and linearly reciprocating the cam link when the cam link is rotated.

상기 링크부는, 상기 일단부에 대하여 타단부가 선형 왕복운동이 가능하게 형성된 제1링크바와, 상기 제1링크바의 타단부와 상기 캠링크를 연결하고 있으며, 상기 회전축에 편심되게 배치된 일단부가 상기 캠링크에 회전가능하게 연결된 제2링크바를 포함할 수 있다.The link portion may include a first link bar having the other end linearly reciprocated with respect to the one end, and the other end of the first link bar and the cam link, and having one end eccentrically disposed on the rotating shaft. It may include a second link bar rotatably connected to the cam link.

상기 매니폴드는 일단부가 상측을 향하도록, 세워서 배치될 수 있다.The manifold may be placed upright, with one end facing upwards.

상기 매니폴드의 하측을 이동가능하게 지지하는 지지롤러 및 상기 지지롤러를 지지하는 가이드를 구비한 지지부를 더 포함할 수 있다.It may further include a support having a support roller for supporting the lower side of the manifold and a guide for supporting the support roller.

상기 지지부는, 상기 매니폴드와 상기 지지롤러를 연결하고 있으며, 신축 가능하게 형성된 연결부재를 더 포함할 수 있다.The support part may further include a connection member connecting the manifold and the support roller and formed to be elastic.

상기 매니폴드와 기판이 나란하게 이격되어 배치되도록, 상기 기판을 세워서 고정하는 지그를 더 포함할 수 있다.The manifold and the substrate may further include a jig for standing and fixing the substrate so as to be spaced apart side by side.

상기 지그를 이송하는 이송부를 더 포함할 수 있다.It may further include a transfer unit for transferring the jig.

상기 이송부는, 상기 지그를 지지하여 이송시키는 이송롤러를 포함할 수 있다.The transfer unit may include a transfer roller for supporting and transferring the jig.

본 발명의 일 측면에 따르면, 다양한 곡선 패턴으로 에칭액을 균일하게 분사함으로써, 에칭의 균일성을 향상시킬 수 있다. According to one aspect of the present invention, by uniformly spraying the etching liquid in various curved patterns, it is possible to improve the uniformity of the etching.

또한, 에칭액을 분사하는 노즐의 움직임의 신뢰성이 보장된다.In addition, the reliability of the movement of the nozzle injecting the etching liquid is ensured.

이하에서 본 발명의 실시예를 첨부도면을 참조하여 상세하게 설명한다. Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 에칭장치를 나타낸 정면도이다.1 is a front view showing an etching apparatus according to an embodiment of the present invention.

본 발명의 일 실시예에 따른 에칭장치는, 캠링크(10), 매니폴드(20), 링크부(30)를 포함한다.An etching apparatus according to an embodiment of the present invention includes a cam link 10, a manifold 20, and a link unit 30.

캠링크(10)는 에칭액의 분사 시에 노즐(24)의 움직임을 발생시키는 부분으로, 모터 등의 구동장치와 연결된 회전축(12)에 연결되어 회전한다. 캠링크(10)에는 후술할 매니폴드(20)가 연결되어, 매니폴드(20)가 캠링크(10)에 대하여 상대적인 회전운동을 한다. 그리고, 캠링크(10)에는 후술할 링크부(30)도 연결되어, 링크부(30)에 의해 캠링크(10)가 왕복운동을 한다. 구체적 내용은 이하에서 설명한다.The cam link 10 is a portion that generates the movement of the nozzle 24 when the etching liquid is injected, and is connected to the rotating shaft 12 connected to a driving device such as a motor to rotate. The cam link 10 is connected to the manifold 20 to be described later, the manifold 20 makes a relative rotational movement with respect to the cam link (10). In addition, the link portion 30 to be described later is also connected to the cam link 10, the cam link 10 is reciprocated by the link portion 30. Details are described below.

본 실시예의 캠링크(10)는 원판형의 디스크에 매니폴드(20)와 링크부(30)가 각각 편심되게 연결되는 구조이다. 한편, 캠링크(10)의 형상은 본 실시예에 한정되지 않으며, 당업자가 용이하게 사용할 수 있는 다양한 형태를 포함한다.The cam link 10 of the present embodiment has a structure in which the manifold 20 and the link portion 30 are eccentrically connected to the disk-shaped disk. On the other hand, the shape of the cam link 10 is not limited to this embodiment, and includes various forms that can be easily used by those skilled in the art.

매니폴드(20)는 기판(1)의 표면에 에칭액을 분사하는 부분으로, 노즐(24)을 구비하고 있다. 그리고, 에칭액의 균일한 분사를 위하여, 캠링크(10)에 의해 구동되어 캠링크(10)에 대하여 상대적인 회전운동을 한다. The manifold 20 is a part which injects etching liquid to the surface of the board | substrate 1, and is equipped with the nozzle 24. As shown in FIG. Then, in order to uniformly spray the etchant, the cam link 10 is driven to perform relative rotational movement with respect to the cam link 10.

도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 에칭장치의 캠링크(10)와 매니폴드(20)의 작동을 나타낸 도면이다.2 is a view showing the operation of the cam link 10 and the manifold 20 of the etching apparatus according to an embodiment of the present invention.

도 2에 나타난 바와 같이, 매니폴드(20)의 일단부는 캠링크(10)에 자유롭게 회전이 가능하게 결합되어 있으며, 캠링크(10)의 회전중심인 회전축(12)에 대하여 편심되게 결합되어 있다. 이에 따라, 캠링크(10)의 회전에 따라 매니폴드(20)의 노즐(24)도 각각 일정한 범위에서 회전운동을 할 수 있다.As shown in FIG. 2, one end of the manifold 20 is rotatably coupled to the cam link 10, and is eccentrically coupled to the rotation axis 12, which is the rotation center of the cam link 10. . Accordingly, as the cam link 10 rotates, the nozzles 24 of the manifold 20 may also rotate in a predetermined range.

특히, 본 실시예의 에칭장치는 세워진 기판(1)에 에칭액을 도포하는 장치로서, 매니폴드(20)는 일단부가 상측을 향하도록 세워서 배치될 수 있다.In particular, the etching apparatus of the present embodiment is a device for applying the etching liquid to the standing substrate 1, the manifold 20 can be arranged upright with one end facing upward.

그리고, 매니폴드(20)의 하측은, 매니폴드(20)의 움직임을 따라 이동하며 지지하는 지지롤러(42) 및 지지롤러(42)를 지지하는 가이드(44)를 구비한 지지부(40)에 의해 지탱될 수 있다.The lower side of the manifold 20 is supported by a support roller 40 having a support roller 42 for moving and supporting the movement of the manifold 20 and a guide 44 for supporting the support roller 42. Can be sustained by

여기서, 매니폴드(20)가 상하로 움직일 때도 안정적인 지지가 가능하도록, 지지부(40)에는 매니폴드(20)와 지지롤러(42)를 연결하고 있으며 신축 가능하게 형성된 연결부재(46)가 더 포함될 수 있다.Here, the support part 40 further includes a connecting member 46 which is connected to the manifold 20 and the support rollers 42 and is formed to be flexible so that stable support is possible even when the manifold 20 moves up and down. Can be.

링크부(30)는 캠링크(10)에 연결되어서, 캠링크(10)의 회전 시에 캠링크(10)를 선형 왕복운동시키는 부분이다.The link unit 30 is connected to the cam link 10, and is a portion for linearly reciprocating the cam link 10 when the cam link 10 rotates.

도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 에칭장치의 캠링크(10)와 링크부(30)의 작동을 나타낸 도면이다.3 is a view showing the operation of the cam link 10 and the link portion 30 of the etching apparatus according to an embodiment of the present invention.

구체적으로 본 실시예의 링크부(30)는, 지지체(32) 등에 지지된 일단부에 대하여 타단부가 선형 왕복운동이 가능하게 형성된 제1링크바(34)와, 제1링크바(34)의 타단부와 캠링크(10)를 연결하는 제2링크바(36)를 포함하여 이루질 수 있다. 여기서, 제2링크바(36)의 일단부는 회전축(12)에 편심되게 배치되며 캠링크(10)에 회전가능하게 연결된다.Specifically, the link portion 30 of the present embodiment includes a first link bar 34 and a first link bar 34 of which the other end is capable of linear reciprocating motion with respect to one end supported by the support 32 or the like. A second link bar 36 connecting the other end and the cam link 10 may be formed. Here, one end of the second link bar 36 is disposed eccentrically on the rotation shaft 12 and rotatably connected to the cam link 10.

이에 따라, 캠링크(10)의 회전 시에 캠링크(10)가 좌우로 선형의 왕복운동을 하게 되고, 캠링크(10)에 연결된 매니폴드(20)도 캠링크(10)와 함께 선형의 왕복운동을 하게 된다. 즉, 매니폴드(20)는 선형의 왕복운동과 상술한 캠링크(10)에 대한 원형운동이 결합된 운동을 하게 된다. 따라서, 캠링크(10)와의 연결위치 설정에 따 라, 매니폴드(20)의 노즐(24)은 원형운동과 왕복운동이 결합된 다양한 곡선운동(예를 들면, 타원운동 및 8자 운동 등)을 할 수 있어서, 에칭액을 균일하게 분사할 수 있다.Accordingly, when the cam link 10 rotates, the cam link 10 linearly reciprocates from side to side, and the manifold 20 connected to the cam link 10 also linearly with the cam link 10. It will reciprocate. In other words, the manifold 20 is a linear reciprocating motion and the circular motion with respect to the cam link 10 is combined. Therefore, according to the connection position setting with the cam link 10, the nozzle 24 of the manifold 20 is a variety of curved motion (for example, elliptical motion and 8-way motion, etc.) combined with circular motion and reciprocating motion The etching liquid can be sprayed uniformly.

또한, 노즐(24)의 이동이 링크구조에 의해서만 결정되므로, 슬립 등의 문제가 발생하지 않아 동작에 신뢰성이 보장된다.Further, since the movement of the nozzle 24 is determined only by the link structure, problems such as slip do not occur and reliability in operation is guaranteed.

한편, 본 실시예의 에칭장치는 에칭액이 도포되는 기판(1)을 세워서 이송하는 이송부(60)를 추가로 포함할 수 있다. On the other hand, the etching apparatus of this embodiment may further include a transfer unit 60 for standing up and conveying the substrate 1 to which the etching liquid is applied.

도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 에칭장치의 이송부(60)의 작동을 나타낸 도면이다. 4 is a view showing the operation of the transfer unit 60 of the etching apparatus according to an embodiment of the present invention.

도 4에 나타난 바와 같이, 본 실시예의 에칭장치는, 매니폴드(20)와 기판(1)이 나란하게 이격되어 배치되도록, 기판(1)을 세워서 고정하는 지그(50)를 포함한다. 여기서, 지그(50)는 클램프(52)를 이용하여 기판(1)을 지그(50)에 고정한다.As shown in FIG. 4, the etching apparatus of this embodiment includes a jig 50 for standing and fixing the substrate 1 so that the manifold 20 and the substrate 1 are arranged side by side. Here, the jig 50 fixes the substrate 1 to the jig 50 using the clamp 52.

그리고, 지그(50)를 에칭액이 분사되는 노즐(24)에 대향되게 배치되도록, 지그(50)를 이송하는 이송부(60)를 포함한다. 구체적으로, 이송부(60)는 지그(50)를 지지하여 이송시키는 이송롤러(62)를 구비한다.And the jig 50 is included so that the conveyance part 60 which conveys the jig 50 may be arrange | positioned so that it may oppose the nozzle 24 in which etching liquid is injected. Specifically, the transfer unit 60 includes a transfer roller 62 for supporting and transferring the jig 50.

상기에서는 본 발명의 실시예를 참조하여 설명하였지만, 해당 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 하기의 특허 청구의 범위에 기재된 본 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 이해할 수 있을 것이다.Although the above has been described with reference to embodiments of the present invention, those skilled in the art may variously modify the present invention without departing from the spirit and scope of the present invention as set forth in the claims below. And can be changed.

전술한 실시예 외의 많은 실시예들이 본 발명의 특허청구범위 내에 존재한다.Many embodiments other than the above-described embodiments are within the scope of the claims of the present invention.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 에칭장치를 나타낸 정면도.1 is a front view showing an etching apparatus according to an embodiment of the present invention.

도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 에칭장치의 캠링크와 매니폴드의 작동을 나타낸 도면.2 is a view showing the operation of the cam link and the manifold of the etching apparatus according to an embodiment of the present invention.

도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 에칭장치의 캠링크와 링크부의 작동을 나타낸 도면.3 is a view showing the operation of the cam link and the link portion of the etching apparatus according to an embodiment of the present invention.

도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 에칭장치의 이송부의 작동을 나타낸 도면.4 is a view showing the operation of the transfer unit of the etching apparatus according to an embodiment of the present invention.

<도면의 주요부분에 대한 부호의 설명><Description of the symbols for the main parts of the drawings>

1: 기판 10: 캠링크1: Substrate 10: Camlink

12: 회전축 20: 매니폴드12: axis of rotation 20: manifold

24: 노즐 30: 링크부24: nozzle 30: link portion

34: 제1링크바 36: 제2링크바34: first link bar 36: second link bar

40: 지지부 42: 지지롤러40: support portion 42: support roller

44: 가이드 46: 연결부재44: guide 46: connecting member

50: 지그 52: 클램프50: jig 52: clamp

60: 이송부 62: 이송롤러60: feed section 62: feed roller

Claims (8)

기판에 에칭액을 분사하는 에칭장치로서,An etching apparatus for injecting etching liquid onto a substrate, 회전축을 중심으로 회전하는 캠링크;A cam link rotating about a rotation axis; 기판의 표면에 에칭액을 분사하는 노즐을 구비하고 있으며, 상기 회전축에 편심되게 배치된 일단부가 상기 캠링크에 회전가능하게 연결된 매니폴드(manifold); 및A manifold having a nozzle for spraying etching liquid on a surface of the substrate, the one end of the substrate being eccentrically disposed on the rotating shaft and rotatably connected to the cam link; And 상기 캠링크에 연결되어 있으며, 상기 캠링크의 회전 시에 상기 캠링크를 선형 왕복운동시키는 링크부를 포함하고,A link portion connected to the cam link and linearly reciprocating the cam link when the cam link is rotated, 상기 링크부는,The link unit, 상기 일단부에 대하여 타단부가 선형 왕복운동이 가능하게 형성된 제1링크바와,A first link bar having the other end linearly reciprocated with respect to the one end; 상기 제1링크바의 타단부와 상기 캠링크를 연결하고 있으며, 상기 회전축에 편심되게 배치된 일단부가 상기 캠링크에 회전가능하게 연결된 제2링크바를 포함하는 것을 특징으로 하는 에칭장치.And a second link bar connecting the other end of the first link bar to the cam link, and one end of the first link bar being eccentrically disposed on the rotating shaft to be rotatably connected to the cam link. 삭제delete 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 매니폴드는 일단부가 상측을 향하도록, 세워서 배치된 것을 특징으로 하는 에칭장치.The manifold is an etching apparatus, characterized in that the one end is arranged upright, facing upward. 제3항에 있어서,The method of claim 3, 상기 매니폴드의 하측을 이동가능하게 지지하는 지지롤러 및 상기 지지롤러를 지지하는 가이드를 구비한 지지부를 더 포함하는 에칭장치.Etching apparatus further comprises a support having a support roller for supporting the lower side of the manifold and a guide for supporting the support roller. 제4항에 있어서,5. The method of claim 4, 상기 지지부는,The support portion 상기 매니폴드와 상기 지지롤러를 연결하고 있으며, 신축 가능하게 형성된 연결부재를 더 포함하는 에칭장치.Etching apparatus for connecting the manifold and the support rollers, further comprising a connecting member formed to be stretchable. 제3항에 있어서,The method of claim 3, 상기 매니폴드와 기판이 나란하게 이격되어 배치되도록, 상기 기판을 세워서 고정하는 지그를 더 포함하는 에칭장치.Etching apparatus further comprises a jig for standing up and fixing the substrate so that the manifold and the substrate spaced apart side by side. 제6항에 있어서,The method of claim 6, 상기 지그를 이송하는 이송부를 더 포함하는 에칭장치.Etching apparatus further comprises a transfer unit for transferring the jig. 제7항에 있어서,The method of claim 7, wherein 상기 이송부는, 상기 지그를 지지하여 이송시키는 이송롤러를 포함하는 것을 특징으로 하는 에칭장치.The conveying unit, the etching apparatus characterized in that it comprises a conveying roller for supporting and conveying the jig.
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