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KR101011691B1 - Photomask-less exposure system - Google Patents

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Publication number
KR101011691B1
KR101011691B1 KR1020090011165A KR20090011165A KR101011691B1 KR 101011691 B1 KR101011691 B1 KR 101011691B1 KR 1020090011165 A KR1020090011165 A KR 1020090011165A KR 20090011165 A KR20090011165 A KR 20090011165A KR 101011691 B1 KR101011691 B1 KR 101011691B1
Authority
KR
South Korea
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axis
light irradiation
light
screen plate
plate
Prior art date
Application number
KR1020090011165A
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Korean (ko)
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KR20100091801A (en
Inventor
남수용
안병현
김지수
Original Assignee
부경대학교 산학협력단
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
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Abstract

본 발명은 포토마스크리스 노광장치에 관한 것으로, 판이동용 Y축이송로봇; Y축이송로봇의 Y축슬라이드베이스에 설치되는 판거치테이블; Y축이송로봇의 상부에 이와 직교하도록 위치되는 광원이동용 X축이송로봇; X축이송로봇의 X축슬라이드베이스에 설치되고 스크린판에 빛을 조사하는 광조사헤드; 광조사헤드에 연결되어서 이에 빛을 전달하는 광조사장치; 광조사장치 및 X축이송로봇, Y축이송로봇에 연결되며 입력된 패턴에 따라 광조사장치 및 X축이송로봇, Y축이송로봇을 제어하는 터치패널; 터치패널에 연결되고 스크린 제판의 패턴이 수치적인 신호로 입력되며 입력된 신호를 터치패널로 전송하는 패턴입력프로그램부;를 포함하여 이루어진다.The present invention relates to a photomaskless exposure apparatus, comprising a Y-axis transfer robot for plate movement; A plate value table installed on the Y axis slide base of the Y axis transport robot; An X axis transport robot for moving a light source positioned perpendicularly to the Y axis transport robot; A light irradiation head installed on the X axis slide base of the X axis transport robot and irradiating light to the screen plate; A light irradiation apparatus connected to the light irradiation head and transmitting light thereto; A touch panel connected to the light irradiation device, the X axis transport robot, and the Y axis transport robot and controlling the light irradiation device, the X axis transport robot, and the Y axis transport robot according to the input pattern; And a pattern input program unit connected to the touch panel and inputting a pattern of the screen plate as a numerical signal, and transmitting the input signal to the touch panel.

따라서, 컴퓨터에 노광 화상 입력, 레이저로 노광, 현상, 정착, 수세, 건조 마스크 완성으로 이루어진 종래의 공정들이, 패턴입력프로그램부에 스크린 제판의 패턴을 수치적인 신호로 입력하고 터치패널을 작동시키는 간단한 공정으로 단순화되므로 스크린 인쇄판의 제판 공정이 대폭 감소되며, 현상 및 수세 공정이 삭제되므로 이 공정에서 발생되는 미감응 감광성 물질이 폐액으로 누출되는 문제가 방지된다.Therefore, conventional processes consisting of exposure image input to a computer, exposure with a laser, development, fixation, washing with water, and completion of a dry mask are simple to input a pattern of screen making into a pattern input part as a numerical signal and operate a touch panel. Since the process is simplified, the screen-printing plate making process is greatly reduced, and the developing and washing processes are eliminated, thereby preventing the unsensitized photosensitive material generated in this process from leaking into the waste liquid.

판거치테이블, 광조사헤드, 광조사장치, 터치패널, 패턴입력프로그램부 Panel Mount Table, Light Irradiation Head, Light Irradiation Device, Touch Panel, Pattern Input Program

Description

포토마스크리스 노광장치{Photomask-less exposure system}Photomask-less exposure system

본 발명은 스크린 인쇄 제판장치에 관한 것으로, 더 상세하게는 포토마스크가 필요없는 포토마스크리스 노광장치에 관한 것이다. The present invention relates to a screen printing plate making apparatus, and more particularly to a photomaskless exposure apparatus that does not require a photomask.

일반적으로 스크린 인쇄는 스크린 위에 잉크를 올려놓고 스퀴즈로 잉크를 망에 있는 홀로 밀어 넣어서 피인쇄체에 잉크를 전이시키는 인쇄방법이다. 이때 스크린에는 인쇄하고자 하는 화선이나 화상이 잉크가 배출될 수 있도록 망사가 열려 있고, 비화선부분은 감광성 수지나 다른 물질로 메워져 있다. 이처럼 비화선부분을 감광성 수지로 메우는 작업을 할 수 있도록 감광성 레지스트 수지를 스크린 전면에 도포한 후 포토마스크를 스크린 위에 밀착하여 노광시킨 다음 현상하여 인쇄판을 만든다. 이 때에 사용하는 포토마스크의 제조 공정은 크게 나누어 6단계의 공정을 거쳐서 만든다. 즉 화상 입력, 노광, 현상, 정착, 수세, 건조 등의 공정이 필요하다. 이처럼 포토마스크의 제조에서부터 스크린 인쇄판을 완성하기까지는 많은 공정이 필요하다. 이 공정을 간략히 요약하면 다음과 같다. In general, screen printing is a printing method in which ink is transferred onto a printed object by placing ink on a screen and pushing ink into a hole in a net with a squeeze. At this time, the wire or image to be printed on the screen is a mesh so that the ink can be discharged, the non-wire portion is filled with a photosensitive resin or other material. The photosensitive resist resin is applied to the entire surface of the screen so that the non-wire portion can be filled with the photosensitive resin, the photomask is closely adhered to the screen, and then developed to produce a printing plate. The manufacturing process of the photomask used at this time is largely divided, and is made through the 6-step process. That is, processes such as image input, exposure, development, fixing, washing with water, and drying are necessary. As such, a lot of processes are required to manufacture the photomask to complete the screen printing plate. A brief summary of this process is as follows.

컴퓨터에 노광 화상 입력 ⇒ 레이저로 노광 ⇒ 현상 ⇒ 정착 ⇒ 수세 ⇒ 건조 ⇒ 마스크 완성(film/glass) 보관 ⇒ 스크린 견장 ⇒ P/R 도포 ⇒ 건조 ⇒ 마스 크 노광 ⇒ 습식 현상 ⇒ 건조 ⇒ 등의 13공정을 거쳐 제판이 완료 된다. 물론 이 공정들 사이에 미세한 공정들이 더 있을 수 있다.13 processes such as exposure image input to computer ⇒ exposure with laser ⇒ development ⇒ fixation ⇒ flushing ⇒ drying ⇒ mask completion (film / glass) storage ⇒ screen strap ⇒ P / R coating ⇒ drying ⇒ mask exposure ⇒ wet development ⇒ drying ⇒ Engraving is completed through. Of course, there may be more fine processes between these processes.

특히 포토마스크 제작하기 위해 이루어지는 6단계의 공정, 즉 노광 화상 입력 ⇒ 레이저로 노광 ⇒ 현상 ⇒ 정착 ⇒ 수세 ⇒ 건조 ⇒ 마스크 완성(film/glass) 보관 공정으로 인해 작업시간 및 작업인력이 증가되고 이에 따라 인건비 및 제조단가가 크게 상승될 뿐 아니라 공정이 많을수록 품질관리도 복잡해진다. 또 하나의 큰 문제점은 현상 및 수세에서 생기는 미감응 감광성 물질이 폐액으로의 누출되어 환경오염의 주요인을 일으키는데, 폐수의 배출은 매월 700장의 포토마스크를 제작하는 업체에서 폐액 5.8톤이 배출되고, 폐수는 500톤이 배출된다.In particular, a six-step process for producing a photomask: exposure image input ⇒ exposure with laser ⇒ development ⇒ fixation ⇒ washing with water ⇒ drying ⇒ mask completion (film / glass) storage process increases working time and work force, In addition to a significant increase in labor and manufacturing costs, the more processes, the more complicated the quality control. Another big problem is that unsensitized photosensitive materials from developing and washing are leaked into the waste liquid, causing major environmental pollution. 500 tons are emitted.

상술한 문제점을 해결하기 위한 본 발명의 목적은, 스크린 인쇄판의 제판 공정이 대폭 감소되도록 한 포토마스크리스 노광장치를 제공하는데 있다.SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention for solving the above problems is to provide a photomaskless exposure apparatus that can greatly reduce the plate-making process of the screen printing plate.

본 발명의 다른 목적은, 현상 및 수세 공정이 삭제되도록 한 포토마스크리스 노광장치를 제공하는데 있다.Another object of the present invention is to provide a photomaskless exposure apparatus in which the developing and washing processes are eliminated.

본 발명의 또 다른 목적은, 스크린판이 판거치테이블에 간편하게 고정되도록 한 포토마스크리스 노광장치를 제공하는데 있다.It is still another object of the present invention to provide a photomaskless exposure apparatus in which a screen plate is easily fixed to a plate mounting table.

본 발명의 또 다른 목적은, 광조사헤드와 스크린판의 수직 간격을 간편하게 조절할 수 있도록 한 포토마스크리스 노광장치를 제공하는데 있다.Still another object of the present invention is to provide a photomaskless exposure apparatus capable of easily adjusting the vertical gap between the light irradiation head and the screen plate.

이와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명의 포토마스크리스 노광장치는, 케이스의 내부에 수납된 베드; 상기 베드의 상부면에 Y축 방향으로 길게 설치되어서 이에 설치된 Y축슬라이드베이스를 왕복이송시키는 판이동용 Y축이송로봇; 상기 판이동용 Y축이송로봇의 Y축슬라이드베이스에 설치되고 상부면에 상기 스크린판이 고정되며 상기 스크린판과 함께 Y축 방향으로 이송되는 판거치테이블; 상기 판거치테이블에 설치되어서 그 상부면에 안착된 상기 스크린판의 위치를 보정하고 고정시키는 스크린판고정부; 상기 베드의 상부면에 X축 방향으로 길게 설치되어서 이에 설치된 X축슬라이드베이스를 왕복이송시키고 상기 Y축이송로봇의 상부에 이와 직교하도록 위치되는 광원이동용 X축이송로봇; 상기 X축이송로봇의 X축슬라이드베이스에 설치되어서 이를 따라 X축 방향으로 이송되고 상기 스크린판에 빛을 조사하는 광조사헤드; 상기 X축이송로봇의 X축슬라이드베이스와 광조사헤드 사이에 설치되어서 상기 광조사헤드 및 스크린판 사이의 수직 간격을 조절하는 광조사거리조절부; 상기 베드의 상부면에 설치되고 상기 광조사헤드에 연결되어서 이에 빛을 전달하는 광조사장치; 상기 케이스에 설치되고 상기 광조사장치 및 X축이송로봇, Y축이송로봇에 연결되며 입력된 패턴에 따라 상기 광조사장치 및 X축이송로봇, Y축이송로봇을 제어하는 터치패널; 상기 터치패널에 연결되고 스크린 제판의 패턴이 수치적인 신호로 입력되며 입력된 신호를 상기 터치패널로 전송하는 패턴입력프로그램부;를 포함하여 이루어진 것을 특징으로 한다.The photomaskless exposure apparatus of the present invention for achieving the above object, the bed accommodated in the case; Y-axis transport robot for moving the plate is installed on the upper surface of the bed in the Y-axis direction for reciprocating the Y-axis slide base installed therein; A plate mounting table installed on the Y axis slide base of the plate movement Y-axis transfer robot, the screen plate being fixed to an upper surface, and transported in the Y axis direction together with the screen plate; A screen plate fixing part installed on the plate mounting table to correct and fix the position of the screen plate seated on an upper surface thereof; An X-axis transport robot, which is installed on the upper surface of the bed in the X-axis direction and reciprocates the X-axis slide base installed thereon, and is positioned to be orthogonal to the upper part of the Y-axis transport robot; A light irradiation head installed on the X-axis slide base of the X-axis transfer robot and moved along the X-axis direction to irradiate light to the screen plate; A light irradiation distance adjusting unit installed between the X axis slide base and the light irradiation head of the X axis transfer robot to adjust a vertical distance between the light irradiation head and the screen plate; A light irradiation apparatus installed on an upper surface of the bed and connected to the light irradiation head to transmit light thereto; A touch panel installed in the case and connected to the light irradiation device, the X axis transport robot, and the Y axis transport robot, and controlling the light irradiation device, the X axis transport robot, and the Y axis transport robot according to an input pattern; And a pattern input program unit connected to the touch panel and inputting a pattern of a screen plate as a numerical signal, and transmitting the input signal to the touch panel.

본 발명의 포토마스크리스 노광장치의 다른 특징은, 상기 케이스에는, 그 내부를 개폐하고 닫힌 상태에서 내부를 투시할 수 있도록 투명재의 커버가 설치되어 있고, 상기 스크린판에 도포된 레지스트 중의 용제가 증발될 시 이를 외부로 배출시킬 수 있도록 케이스의 상부 및 측면에 상부배기팬 및 측면배기팬이 설치되어 있다.Another feature of the photomaskless exposure apparatus of the present invention is that the case is provided with a cover of a transparent material so as to open and close the inside and to see the inside in a closed state, and the solvent in the resist applied to the screen plate is evaporated. The upper exhaust fan and side exhaust fan are installed on the upper and side surfaces of the case so as to discharge it to the outside when possible.

본 발명 포토마스크리스 노광장치의 또 다른 특징은, 상기 스크린판고정부는, 스크린판의 테두리가 지지되도록 상기 판거치테이블의 둘레에 설치되는 스토퍼들과, 상기 판거치테이블에 안착된 상기 스크린판을 X축방향으로 밀어서 상기 스크린판의 일측면이 대응 스토퍼에 밀착되도록 상기 스토퍼에 설치되는 X축클램프와, 상기 판거치테이블에 안착된 상기 스크린판을 Y축방향으로 밀어서 상기 스크린판의 다른 측면이 대응 스토퍼에 밀착되도록 상기 스토퍼에 설치되는 Y축클램프로 이루 어진다.Another feature of the photomaskless exposure apparatus of the present invention is that the screen plate fixing unit includes stoppers installed around the plate table so that the edges of the screen plate are supported, and the screen plate mounted on the plate table. The X-axis clamp is installed on the stopper so that one side of the screen plate is in close contact with the corresponding stopper by pushing in the X-axis direction, and the other side of the screen plate is pushed in the Y-axis direction by pushing the screen plate seated on the plate value table. It consists of a Y-axis clamp installed in the stopper to be in close contact with the corresponding stopper.

본 발명 포토마스크리스 노광장치의 또 다른 특징은, 상기 광조사헤드는, 상기 광조사장치로부터 조사된 빛을 안내하는 광파이버라이트가이드와, 상기 광파이버라이트가이드 내에 설치되어서 안내된 빛을 집광시키는 집광랜즈와, 상기 집광랜즈 하부의 광파이버라이드가이드에 결합되고 집광된 빛이 일정한 크기로 조사되도록 빛의 일부를 차단하여서 일정한 크기의 빛만 통과시키는 슬릿으로 이루어진다.Another feature of the photomaskless exposure apparatus of the present invention is that the light irradiation head includes an optical fiber light guide for guiding the light irradiated from the light irradiation device, and a condensing lens for condensing the guided light provided in the optical fiber light guide. And a slit coupled to the optical fiber guide at the bottom of the condensing lens and blocking only a portion of the light so that the condensed light is irradiated to a predetermined size.

본 발명 포토마스크리스 노광장치의 또 다른 특징은, 상기 광조사거리조절부는, 상기 Y축이송로봇의 Y축슬라이드베이스에 고정되어서 이와 함께 Y축 방향으로 왕복이송되고 상기 광조사헤드가 Z축방향으로 이송되도록 안내하며 Z축 방향의 가이드홈이 형성된 Z축고정테이블과, 상기 광조사헤드가 설치되고 상기 Z축고정테이블의 가이드홈에 슬라이드 결합되도록 가이드가 형성되며 가이드의 일면에 랙기어가 형성된 랜즈홀더와, 상기 Z축고정테이블에 시계방향 또는 반시계방향으로 회전되도록 설치되고 둘레에 상기 가이드의 랙기어에 치합되도록 피니언기어가 형성되며 시계방향 또는 반시계방향으로 회전시킬 시 상기 랜즈홀더가 상기 Z축고정테이블을 따라 Z축 방향으로 이송되도록 하는 조절나사로 이루어진다.Still another feature of the photomaskless exposure apparatus of the present invention is that the light irradiation distance adjusting unit is fixed to the Y axis slide base of the Y axis transport robot and reciprocated in the Y axis direction, and the light irradiation head is moved in the Z axis direction. Z-axis fixed table for guiding to be transported and formed with a guide groove in the Z-axis direction, a guide is formed so that the light irradiation head is installed and slide-coupled to the guide groove of the Z-axis fixed table, and a rack gear formed on one surface of the guide. A pinion gear is formed on the holder and the Z-axis fixing table so as to rotate clockwise or counterclockwise, and is engaged with the rack gear of the guide. The lens holder is rotated when rotated clockwise or counterclockwise. It consists of adjusting screw to move along the Z-axis fixing table in the Z-axis direction.

본 발명 포토마스크리스 노광장치의 또 다른 특징은, 상기 광조사장치는, 열발생이 없고 순간 점등 및 소등이 가능하며 365nm 파장의 광원을 광의 확산없이 조사 가능한 UV LED 광원으로 이루어진다.Another feature of the photomaskless exposure apparatus of the present invention is that the light irradiation apparatus is a UV LED light source capable of irradiating a light source having a wavelength of 365 nm without diffusing light without instantaneous heat generation and light emission.

이상에서와 같은 본 발명은, 컴퓨터에 노광 화상 입력, 레이저로 노광, 현 상, 정착, 수세, 건조 마스크 완성으로 이루어진 종래의 공정들이, 패턴입력프로그램부에 스크린 제판의 패턴을 수치적인 신호로 입력하고 터치패널을 작동시키는 간단한 공정으로 단순화되므로 스크린 인쇄판의 제판 공정이 대폭 감소되고, 이에 따라 작업시간 및 작업인력을 줄일 수 있으며, 전체 제조 단가가 크게 절감된다.In the present invention as described above, the conventional processes consisting of exposure image input to the computer, exposure by laser, development, fixation, washing with water, and completion of dry mask are inputted into the pattern input program unit as a numerical signal to the pattern of screen making. And the simple process of operating the touch panel is greatly reduced, the screen-printing plate making process is greatly reduced, thereby reducing the working time and labor, and greatly reduce the overall manufacturing cost.

본 발명의 포토마스크리스 노광장치는 현상 및 수세 공정이 삭제되므로 이 공정에서 발생되는 미감응 감광성 물질이 폐액으로 누출되는 문제가 방지되며, 이에 따라 환경오염 문제가 방지된다.In the photomaskless exposure apparatus of the present invention, the development and washing process are eliminated, so that the unsensitized photosensitive material generated in this process is prevented from leaking into the waste liquid, thereby preventing environmental pollution.

본 발명은, 판거치테이블의 상부에 스크린판을 안착시키고 X축클램프를 잠그면 스크린판이 X축 방향으로 밀리면서 대응 스토퍼에 스크린판의 일측면이 탄성적으로 지지되고, 두 개의 Y축클램프들을 잠그면 스크린판이 Y축 방향으로 밀리면서 대응 스토퍼들에 스크린판의 다른 측면이 탄성적으로 지지된다. 따라서 판거치테이블의 상부에 스크린판을 안착시키고 X축클램프 및 Y축클램프를 잠그는 비교적 간단한 작업에 의해 판거치테이블 상에서 스크린판의 위치가 보정된 후 고정된다. 그러므로 스크린판의 위치보정 및 고정 작업이 매우 간편하므로 작업 효율을 향상시킬 수 있다.According to the present invention, when the screen plate is seated on the top of the plate mounting table and the X-axis clamp is locked, the screen plate is pushed in the X-axis direction while one side of the screen plate is elastically supported by the corresponding stopper, and the two Y-axis clamps are locked. As the screen plate is pushed in the Y-axis direction, the other side of the screen plate is elastically supported by the corresponding stoppers. Therefore, the position of the screen plate on the plate table is corrected and fixed by a relatively simple operation of seating the screen plate on the top of the plate table and locking the X-axis clamp and the Y-axis clamp. Therefore, the work of positioning and fixing the screen plate is very simple, and thus the work efficiency can be improved.

이러한 본 발명은, 조절나사를 시계방향 또는 반시계방향으로 회전시키면 랜즈홀더 및 광조사헤드가 Z축고정테이블을 따라 Z축 방향으로 이동된다. 따라서 조절나사를 회전시켜서 광조사헤드와 스크린판 사이의 수직 간격을 간편하게 조절할 수 있다.According to the present invention, when the adjustment screw is rotated clockwise or counterclockwise, the lens holder and the light irradiation head are moved in the Z-axis direction along the Z-axis fixing table. Therefore, it is possible to easily adjust the vertical distance between the light irradiation head and the screen plate by rotating the adjustment screw.

본 발명의 구체적인 특징 및 이점은 첨부된 도면을 참조한 이하의 설명으로 더욱 명확해 질 것이다.Specific features and advantages of the present invention will become more apparent from the following description taken in conjunction with the accompanying drawings.

도 1은 본 발명의 포토마스트리스 노광장치를 보인 개략적 사시도이고, 도 2는 도 1의 개략적 측면도이며, 도 3은 노광장치의 주요 부품을 발췌한 측면도이다. 도 4는 도 3의 정면도이고, 도 5는 도 3의 평면도이며, 도 6은 본 발명의 주요 부위를 발췌한 부분 사시도이다. 도 7a 및 도 7b는 X축클램프 및 Y축클램프의 일실시예를 보인 개략적 평단면도이고, 도 8a 및 도 8b는 Y축클램프의 작동상태를 보인 개략적 평면도들이며, 도 9a 내지 도 9c는 스크린판이 스크린판고정부에 의해 판거치테이블에 고정되는 상태를 순차적으로 보인 개략적 평면도들이다. 도 10은 광조사헤드를 보인 개략적 단면도이고, 도 11은 광조사거리조절부를 보인 개략적 확대 사시도이며, 도 12는 도 11의 부분 단면도이다.FIG. 1 is a schematic perspective view showing a photomatrix exposure apparatus of the present invention, FIG. 2 is a schematic side view of FIG. 1, and FIG. 3 is a side view of main components of the exposure apparatus. FIG. 4 is a front view of FIG. 3, FIG. 5 is a plan view of FIG. 3, and FIG. 6 is a partial perspective view of an essential part of the present invention. 7A and 7B are schematic cross-sectional views showing one embodiment of an X-axis clamp and a Y-axis clamp, and FIGS. 8A and 8B are schematic plan views showing an operating state of the Y-axis clamp, and FIGS. 9A to 9C are screen plates. Schematic plan views sequentially showing a state in which the screen fixing unit is fixed to the plate mounting table. FIG. 10 is a schematic cross-sectional view showing a light irradiation head, FIG. 11 is a schematic enlarged perspective view showing a light irradiation distance control unit, and FIG. 12 is a partial cross-sectional view of FIG.

이러한 본 발명의 포토마스크리스 노광장치는, 케이스(20), 베드(10), Y축이송로봇(30), 판거치테이블(40), 스크린판고정부(50), X축이송로봇(60), 광조사헤드(70), 광조사거리조절부(80), 광조사장치(90), 터치패널(100), 패턴입력프로그램부(110)로 이루어진다.The photomaskless exposure apparatus of the present invention, the case 20, the bed 10, the Y-axis transfer robot 30, the plate table 40, the screen fixing part 50, the X-axis transfer robot 60 , Light irradiation head 70, light irradiation distance adjusting unit 80, light irradiation apparatus 90, touch panel 100, pattern input program unit 110.

케이스(20)는, 도 1 및 도 2에 도시한 바와 같이 다수의 부품들이 수납되며, 프레임(2)의 상부에 안착된다. 이러한 케이스(20)에는, 그 내부를 개폐하고 닫힌 상태에서 내부를 투시할 수 있도록 투명재의 커버(21)가 설치되어 있다. 이 커버(21)의 일측은 케이스(20)와 힌지(23)로 결합되어 있고, 커버(21)의 타측에는 커 버(21)를 개폐하도록 손잡이(22)가 구비되어 있다. 또한 케이스(20)에는, 스크린판(1)에 도포된 레지스트 중의 용제가 증발될 시 이를 외부로 배출시킬 수 있도록 케이스(20)의 상부 및 측면에 상부배기팬(24) 및 측면배기팬(25)이 설치되어 있다. 케이스(20) 전면 일측에는 광량조절패널(26)이 설치되어 있으며, 이 광량조절패널(26)을 통해 조사광의 세기를 조절할 수 있다.As shown in FIGS. 1 and 2, the case 20 accommodates a plurality of parts and is seated on an upper portion of the frame 2. Such a case 20 is provided with a cover 21 made of a transparent material so that the inside can be opened and closed and the inside can be viewed through. One side of the cover 21 is coupled to the case 20 and the hinge 23, the other side of the cover 21 is provided with a handle 22 to open and close the cover 21. In addition, the case 20, the upper exhaust fan 24 and the side exhaust fan 25 on the upper and side surfaces of the case 20 so that the solvent in the resist applied to the screen plate (1) is evaporated to the outside when evaporated ) Is installed. The light intensity control panel 26 is installed at one side of the front surface of the case 20, and the intensity of the irradiated light can be adjusted through the light intensity control panel 26.

베드(10)는, 도 2 내지 도 6에 도시한 바와 같이 케이스(20) 내부에 안착되며, 그 상부면에 본 발명의 주요 부품들이 설치된다.The bed 10 is seated inside the case 20, as shown in Figures 2 to 6, the main parts of the present invention is installed on the upper surface.

Y축이송로봇(30)은, 도 2 내지 도 6에 도시한 바와 같이 베드(10)의 상부면에 Y축 방향으로 길게 설치되어서 이에 설치된 Y축슬라이드베이스(31)를 왕복이송시킨다. Y축슬라이드베이스(31)의 이송은, 다양한 방법이 사용될 수 있다. 유압실린더, 로드레스 실린더 등의 유압 방식에 의한 이송도 가능하며, 구동모터, 벨트, 풀리로 이루어진 기계식에 의한 이송도 가능하며, Y축을 따라 Y축슬라이드베이스(31)를 왕복이송시키기 위한 수단이면 어느 것이든 가능하다.2 to 6, the Y-axis transfer robot 30 is installed on the upper surface of the bed 10 in the Y-axis direction long as shown in Figure 2 to reciprocate the Y-axis slide base 31 installed thereon. For the transfer of the Y-axis slide base 31, various methods can be used. It is possible to transfer by hydraulic method such as hydraulic cylinder and rodless cylinder, and also by mechanical type consisting of drive motor, belt and pulley, and means for reciprocating the Y axis slide base 31 along the Y axis. Either way is possible.

판거치테이블(40)은, 도 2 내지 도 6에 도시한 바와 같이 판이동용 Y축이송로봇(30)의 Y축슬라이드베이스(31)에 설치되고 상부면에 스크린판(1)이 고정되며 스크린판(1)과 함께 Y축 방향으로 이송된다.The plate mounting table 40 is installed on the Y-axis slide base 31 of the Y-axis transfer robot 30 for plate movement as shown in FIGS. 2 to 6, and the screen plate 1 is fixed to the upper surface of the screen. It is conveyed in the Y-axis direction with the plate 1.

스크린판고정부(50)는, 도 2 내지 도 6, 도 7a 내지 도 9c에 도시한 바와 같이 판거치테이블(40)에 설치되어서 그 상부면에 안착된 스크린판(1)의 위치를 보정하고 고정시킨다.The screen fixing part 50 is installed in the plate mounting table 40 as shown in Figs. 2 to 6 and 7A to 9C to correct and fix the position of the screen plate 1 seated on the upper surface thereof. Let's do it.

이러한 스크린판고정부(50)는, 스토퍼(51)들, X축클램프(52), Y축클램프(53)들로 이루어진다. 스토퍼(51)는, 스크린판(1)의 테두리가 지지되도록 판거치테이블(40)의 둘레에 설치된다. 이러한 스토퍼(51)들은 판거치테이블(40)의 후방 양측 모서리부에 각각 두 개씩 설치되어 있고, 판거치테이블(40)의 전방 양측에 두 개가 설치되어 있다. X축클램프(52)는 후방 일측의 스토퍼(51)에 설치된다. The screen fixing part 50 is composed of stoppers 51, X-axis clamp 52, and Y-axis clamp 53. The stopper 51 is provided around the plate table 40 so that the edge of the screen plate 1 is supported. Two stoppers 51 are provided at each of both rear edges of the rear plate table 40, and two stoppers 51 are provided at both front sides of the plate table 40. The X-axis clamp 52 is mounted to the stopper 51 on one rear side.

X축클램프(52)는, 판거치테이블(40)에 안착된 스크린판(1)을 X축방향으로 밀어서 스크린판(1)의 일측면이 대응 스토퍼(51)에 밀착되도록 스토퍼(51)에 설치된다. 이러한 X축클램프(52)는, 일단이 스토퍼(51)에 고정되고 타단에 단턱(52b)이 형성된 고정보스(52a)와, 일단에 고정보스(52a)의 단턱(52b)에 맞물리도록 다른 단턱(52d)이 형성되는 손잡이(52c)와, 일단이 손잡이(52c)에 고정되고 고정보스(52a) 및 스토퍼(51)를 관통하도록 설치되며 타단이 스크린판(1)에 대향되는 작동축(52e)과, 작동축(52e)에 고정된 와셔(52f)와, 고정보스(52a) 및 스토퍼(51)의 내부에 구비되고 일단이 고정보스(52a)의 내측에 지지되고 타단이 와셔(52f)에 지지되어서 작동축(52e) 및 손잡이(52c)를 스크린판(1) 측으로 탄성적으로 지지하는 스프링(52g)으로 이루어진다.The X-axis clamp 52 pushes the screen plate 1 seated on the plate table 40 in the X-axis direction so that one side of the screen plate 1 is in close contact with the corresponding stopper 51. Is installed. The X-axis clamp 52 has a high step 52a having one end fixed to the stopper 51 and a step 52b formed at the other end thereof, and the other step being engaged with the step 52b of the high tip 52a at one end thereof. A handle 52c in which a 52d is formed and one end thereof are fixed to the handle 52c and installed to penetrate the high information 52a and the stopper 51, and the other end of the operating shaft 52e is opposed to the screen plate 1. ), The washer 52f fixed to the operating shaft 52e, the high intelligence 52a and the stopper 51 are provided inside, and one end is supported inside the high intelligence 52a, and the other end washer 52f. It is made of a spring 52g which is supported on the elastic shaft and elastically supports the operating shaft 52e and the handle 52c toward the screen plate 1 side.

Y축클램프(53)는 판거치테이블(40)에 안착된 스크린판(1)을 Y축방향으로 밀어서 스크린판(1)의 다른 측면이 대응 스토퍼(51)에 밀착되도록 스토퍼(51)에 설치 된다. 이러한 Y축클램프(53)는, 일단이 스토퍼(51)에 고정되고 타단에 단턱(53b)이 형성된 고정보스(53a)와, 일단에 고정보스(53a)의 단턱(53b)에 맞물리도록 다른 단턱(53d)이 형성되는 손잡이(53c)와, 일단이 손잡이(53c)에 고정되고 고정보스(53a) 및 스토퍼(51)를 관통하도록 설치되며 타단이 스크린판(1)에 대향되는 작동축(53e)과, 작동축(53e)에 고정된 와셔(53f)와, 고정보스(53a) 및 스토퍼(51)의 내부에 구비되고 일단이 고정보스(53a)의 내측에 지지되고 타단이 와셔(53f)에 지지되어서 작동축(53e) 및 손잡이(53c)를 스크린판(1) 측으로 탄성적으로 지지하는 스프링(53g)으로 이루어진다.The Y-axis clamp 53 is mounted on the stopper 51 so that the other side of the screen plate 1 comes into close contact with the corresponding stopper 51 by pushing the screen plate 1 seated on the plate table 40 in the Y-axis direction. do. The Y-axis clamp 53 has a high step 53a having one end fixed to the stopper 51 and a step 53b formed at the other end thereof, and another step to engage the step 53b of the high info 53a at one end thereof. A handle 53c on which the 53d is formed, and one end fixed to the handle 53c and installed to penetrate the high information 53a and the stopper 51, and the other end of the operating shaft 53e opposite to the screen plate 1. ), The washer 53f fixed to the operating shaft 53e, the high intelligence 53a and the stopper 51 are provided inside, and one end is supported inside the high intelligence 53a, and the other end washer 53f. It is made of a spring 53g which is supported on the elastic shaft and elastically supports the operating shaft 53e and the handle 53c toward the screen plate 1 side.

광원이동용 X축이송로봇(60)은, 도 2 내지 도 6에 도시한 바와 같이 베드(10)의 상부면에 X축 방향으로 길게 설치되어서 이에 설치된 X축슬라이드베이스(61)를 왕복이송시키고 Y축이송로봇(30)의 상부에 이와 직교하도록 위치된다.The X axis transfer robot 60 for moving the light source is installed on the upper surface of the bed 10 in the X axis direction as shown in FIGS. 2 to 6 so as to reciprocate the Y axis slide base 61 installed thereon and Y It is located at the top of the axis transfer robot 30 to be orthogonal to it.

광조사헤드(70)는, 도 2 내지 도 6, 도 10 내지 도 12에 도시한 바와 같이 X축이송로봇(60)의 X축슬라이드베이스(61)에 설치되어서 이를 따라 X축 방향으로 이송되고 스크린판(1)에 빛을 조사한다. 이러한 광조사헤드(70)는, 랜즈홀더(83)에 고정되는 광파이버라이트가이드(71), 집광랜즈(72), 슬릿(73)으로 이루어진다.The light irradiation head 70 is installed in the X-axis slide base 61 of the X-axis transport robot 60 as shown in FIGS. 2 to 6 and 10 to 12, and is transferred along the X-axis direction. The screen plate (1) is irradiated with light. The light irradiation head 70 is composed of an optical fiber light guide 71 fixed to the lens holder 83, a collecting lens 72, a slit 73.

광파이버라이트가이드(71)는, 광조사장치(90)로부터 조사된 빛을 안내한다. 집광랜즈(72)는, 광파이버라이트가이드(71) 내에 설치되어서 안내된 빛을 집광시킨다. 슬릿(73)은, 집광랜즈(72) 하부의 광파이버라이드가이드(84)에 결합되고 중앙 에 구멍(74)이 형성되어 있다. 이 슬릿(73)은 집광된 빛이 일정한 크기로 조사되도록 빛의 일부를 차단하여서 구멍(74)을 통해 일정한 크기의 빛만 통과시킨다.The optical fiber light guide 71 guides the light irradiated from the light irradiation apparatus 90. The condensing lens 72 is provided in the optical fiber light guide 71 to condense guided light. The slit 73 is coupled to the optical fiber guide 84 at the bottom of the condenser lens 72, and a hole 74 is formed at the center thereof. The slit 73 blocks a part of the light so that the collected light is irradiated to a certain size, and passes only a certain size of light through the hole 74.

광조사거리조절부(80)는, 도 2, 도 3, 도 11, 도 12에 도시한 바와 같이 X축이송로봇(60)의 X축슬라이드베이스(61)와 광조사헤드(70) 사이에 설치되어서 광조사헤드(70) 및 스크린판(1) 사이의 수직 간격을 조절한다. 이러한 광조사거리조절부(80)는, Z축고정테이블(81), 랜즈홀더(83), 조절나사(86)로 이루어진다.The light irradiation distance adjusting unit 80 is installed between the X axis slide base 61 and the light irradiation head 70 of the X axis moving robot 60 as shown in FIGS. 2, 3, 11, and 12. The vertical distance between the light irradiation head 70 and the screen plate 1 is adjusted. The light irradiation distance adjusting unit 80 is composed of a Z-axis fixing table 81, a lens holder 83, and an adjusting screw 86.

Z축고정테이블(81)은, Y축이송로봇(30)의 Y축슬라이드베이스(31)에 고정되어서 이와 함께 Y축 방향으로 왕복이송되고 광조사헤드(70)가 Z축방향으로 이송되도록 안내하며 Z축 방향의 가이드홈(82)이 형성된다.The Z-axis fixing table 81 is fixed to the Y-axis slide base 31 of the Y-axis transfer robot 30 and reciprocated in the Y-axis direction, and guides the light irradiation head 70 to be transferred in the Z-axis direction. And the guide groove 82 in the Z-axis direction is formed.

랜즈홀더(83)는, 광조사헤드(70)가 설치되고 Z축고정테이블(81)의 가이드홈(82)에 슬라이드 결합되도록 가이드(84)가 형성되며 가이드(84)의 일면에 랙기어(85)가 형성되어 있다. The lens holder 83 is provided with a guide 84 so that the light irradiation head 70 is installed and slide-coupled to the guide groove 82 of the Z-axis fixing table 81, and a rack gear (1) on one surface of the guide 84. 85) is formed.

조절나사(86)는, Z축고정테이블(81)에 시계방향 또는 반시계방향으로 회전되도록 설치되고 둘레에 가이드(84)의 랙기어(85)에 치합되도록 피니언기어(87)가 형성되며 시계방향 또는 반시계방향으로 회전시킬 시 랜즈홀더(83)가 Z축고정테이블(81)을 따라 Z축 방향으로 이송되도록 한다.The adjustment screw 86 is installed on the Z-axis fixing table 81 so as to rotate clockwise or counterclockwise, and the pinion gear 87 is formed to be engaged with the rack gear 85 of the guide 84 around the clock. When rotating in the clockwise or counterclockwise direction, the lens holder 83 is transported in the Z-axis direction along the Z-axis fixing table 81.

광조사장치(90)는, 도 6에 도시한 바와 같이 베드(10)의 상부면에 설치되고 광조사헤드(70)에 연결되어서 이에 빛을 전달한다. 이러한 광조사장치(90)는, 열발 생이 없고 순간 점등 및 소등이 가능하며 365nm 파장의 광원을 광의 확산없이 조사 가능한 UV LED 광원으로 이루어진다.As shown in FIG. 6, the light irradiation apparatus 90 is installed on the upper surface of the bed 10 and connected to the light irradiation head 70 to transmit light thereto. The light irradiation apparatus 90 is capable of instantaneous lighting and extinguishing without heat generation, and is made of a UV LED light source capable of irradiating a light source having a wavelength of 365 nm without diffusing light.

터치패널(100)은, 도 1에 도시한 바와 같이 케이스(20)에 설치되고 광조사장치(90) 및 X축이송로봇(60), Y축이송로봇(30)에 연결되며 입력된 패턴에 따라 광조사장치(90) 및 X축이송로봇(60), Y축이송로봇(30)을 제어한다.As shown in FIG. 1, the touch panel 100 is installed in the case 20 and connected to the light irradiation apparatus 90, the X-axis transfer robot 60, and the Y-axis transfer robot 30, and to the input pattern. Accordingly, the light irradiation apparatus 90 and the X-axis transfer robot 60, Y-axis transfer robot 30 is controlled.

패턴입력프로그램부(110)는, 도1에 도시한 바와 같이 터치패널(100)에 연결되고 스크린 제판의 패턴이 수치적인 신호로 입력되며 입력된 신호를 터치패널(100)로 전송한다.The pattern input program unit 110 is connected to the touch panel 100 as shown in FIG. 1, the pattern of the screen plate is input as a numerical signal, and transmits the input signal to the touch panel 100.

이러한 구성의 본 발명 포토마스크리스 노광장치는 다음과 같이 작동된다.The photomaskless exposure apparatus of the present invention in such a configuration is operated as follows.

먼저, 판거치테이블(40) 상에 도 9a에 도시한 바와 같이 스크린판(1)을 안착시킨다. 스크린판(1)이 안착되면 X축클램프(52)를 작동시킨다. 즉, X축클램프(52)의 손잡이(52c)를 약간 당긴 후 회전시켜서 손잡이(52c)의 단턱(52d)과 고정보스(52a)의 단턱(52b)이 서로 맞물리도록 한다. 이와 같이 하면 단턱(52b)(52d)들의 폭만큼 스프링(52g)이 복원되면서 작동축(52e)을 스크린판(1) 측으로 밀게 되며, 이에 따라 작동축(52e)의 단부가 스크린판(1)의 대응 측면을 탄성적으로 밀게 된다. 스크린판(1)은 작동축(52e)에 의해 밀리면서 일측면이 도 9b와 같이 대응 스토퍼(51)에 지지된다.First, the screen plate 1 is seated on the plate mounting table 40 as shown in FIG. 9A. When the screen plate 1 is seated, the X-axis clamp 52 is operated. That is, the handle 52c of the X-axis clamp 52 is pulled slightly and rotated so that the step 52d of the handle 52c and the step 52b of the high information 52a are engaged with each other. In this way, the spring 52g is restored by the width of the step 52b and 52d, and the operating shaft 52e is pushed toward the screen plate 1, so that the end of the operating shaft 52e is pushed to the screen plate 1. Push the corresponding side of the elastically. The screen plate 1 is pushed by the operating shaft 52e, and one side thereof is supported by the corresponding stopper 51 as shown in Fig. 9B.

X축클램프(52)가 잠긴 후 도 9c와 같이 Y축클램프(53)도 잠근다. 즉, 도 8a와 같은 상태의 Y축클램프(53)의 손잡이(53c)를 약간 당긴 후 회전시켜서 도 8b와 같이 손잡이(53c)의 단턱(53d)과 고정보스(53a)의 단턱(53b)이 서로 맞물리도록 한다. 이와 같이 하면 단턱(53b)(53d)들의 폭만큼 스프링(53g)이 복원되면서 작동축(53e)을 스크린판(1) 측으로 밀게 되며, 이에 따라 작동축(53e)의 단부가 스크린판(1)의 대응 측면을 탄성적으로 밀게 된다. 스크린판(1)은 작동축(53e)에 의해 밀리면서 후방 일측면이 대응 두 스토퍼(51)에 지지된다.After the X-axis clamp 52 is locked, the Y-axis clamp 53 is also locked as shown in FIG. 9C. That is, by slightly pulling the knob 53c of the Y-axis clamp 53 in the state shown in FIG. 8A and rotating it, the step 53d of the handle 53c and the step 53b of the high information 53a are rotated as shown in FIG. 8B. Engage each other. In this way, the spring 53g is restored by the width of the stepped portions 53b and 53d, and the operating shaft 53e is pushed toward the screen plate 1, so that the end of the operating shaft 53e is pushed to the screen plate 1. Push the corresponding side of the elastically. The screen plate 1 is pushed by the actuating shaft 53e and the rear one side thereof is supported by the corresponding two stoppers 51.

스크린판(1)이 고정되면, 패턴입력프로그램부(110)를 통해서 스크린 제판 패턴에 따라 수치로 신호로 입력한다. 그리고 패턴입력프로그램부(110)를 통해서 입력된 패턴을 자동식 터치패널(100)을 통해 작동시킨다.When the screen plate 1 is fixed, the signal is input as a numerical value according to the screen engraving pattern through the pattern input program unit 110. The pattern input through the pattern input program unit 110 is operated through the automatic touch panel 100.

패턴입력프로그램부(110)를 통해서 패턴의 수치를 입력하여서 광원의 X축 및 Y축으로의 총이동거리, 그리고 미세이동범위, 이동속도를 조절할 수 있다. 이러한 패턴입력프로그램부(110)를 통해서 패턴이 입력되어 저장되면 터치패널(100)를 작동시켜서 입력된 패턴에 따라 X축이송로봇(60), Y축이송로봇(30), 광조사장치(90)가 동작되도록 한다. 여기서 터치패널(100)에 입력된 프로그램에 의해 그 동작을 자동모드 또는 수동모드로 전환시킬 수 있다. By inputting the numerical value of the pattern through the pattern input program unit 110, it is possible to adjust the total movement distance, the micro movement range, and the movement speed of the light source to the X and Y axes. When the pattern is input and stored through the pattern input program unit 110, the touch panel 100 is operated to operate the X-axis transfer robot 60, the Y-axis transfer robot 30, and the light irradiation device 90 according to the input pattern. ) To work. Here, the operation may be switched to the automatic mode or the manual mode by a program input to the touch panel 100.

터치패널(100)의 프로그램 내에는 기본적으로 1∼4까지의 4가지 형태의 패턴들이 저장되며, 총 50개의 패턴 형태를 저장할 수 있다. 패턴 3의 경우를 예를 들어서 설명하면 다음과 같다.In the program of the touch panel 100, four types of patterns 1 to 4 are basically stored, and a total of 50 pattern types can be stored. The case of pattern 3 is described as an example.

패턴 3의 경우는 Y축 방향으로 4곳, X축 방향으로 4곳, 총 16곳을 점조사 방식으로 조사하며, 이 때 조사 시간은 각각 1초씩 조사하도록 설정된다. 이러한 패턴 3을 선택하면 Y축이송로봇(30)에 의해 판거치테이블(40)이 Y축 방향으로 한 단계씩 이송되고 X축이송로봇(60)에 의해 광조사헤드(70)가 X축 방향으로 한 단계씩 이송되면서 스크린판(1) 상에 광을 1초씩 조사한다. 이와 같은 방식으로 스크린판(1) 상에 총 16곳을 점조사 방식으로 조사한다. In the case of pattern 3, four locations in the Y-axis direction, four locations in the X-axis direction, and 16 locations in total are irradiated with a point irradiation method, and the irradiation time is set to irradiate for 1 second each. When the pattern 3 is selected, the plate value table 40 is moved one step in the Y axis direction by the Y axis transport robot 30, and the light irradiation head 70 is moved in the X axis direction by the X axis transport robot 60. The light is irradiated onto the screen plate 1 by one second while being transferred step by step. In this way, a total of 16 places are irradiated on the screen plate 1 in a point irradiation method.

광조사장치(90)는 광조사헤드(70)로부터 빛이 조사되도록 광을 발생시켜서 광파이버를 통해 광조사헤드(70)로 전달한다. 이 광조사장치(90)의 광원은, 순간점등 및 소등이 가능한 UV LED 광원이 사용된다. UV LED 광원의 특징은 열발생이 없고, 365nm 파장의 광원만을 확산없이 조사 가능하다.The light irradiation apparatus 90 generates light to radiate light from the light irradiation head 70 and transmits the light to the light irradiation head 70 through the optical fiber. As the light source of the light irradiation apparatus 90, a UV LED light source capable of turning on and off the light is used. The characteristic of the UV LED light source is no heat generation, and only the 365 nm wavelength light source can be irradiated without diffusion.

광조사헤드(70)로 전달된 빛은 집광랜즈(72)를 통해 집광된 후 슬릿(73)의 구멍(74)을 통과하여서 조사된다. 빛이 슬릿(73)의 구멍(74)을 통과하면서 일정한 크기 즉, 원하는 크기의 빛만이 조사된다. 슬릿(73) 구멍(74)의 직경은 10미크론까지 제작할 수 있고, 따라서 10미크론의 빛을 조사할 수 있다.Light transmitted to the light irradiation head 70 is focused through the light collecting lens 72 and then irradiated through the hole 74 of the slit 73. As light passes through the hole 74 of the slit 73, only light of a constant size, that is, a desired size, is irradiated. The diameter of the holes 74 of the slit 73 can be made up to 10 microns, so that light of 10 microns can be irradiated.

한편, 광조사거리조절부(80)를 통해 UV LED 광원과 스크린판(1) 사과의 광조사거리를 조절할 수 있다. 조절나사(86)를 회전시키면 랜즈홀더(83)가 Z축고정테이블(81)을 따라 Z축 방향으로 승강되므로 광조사거리를 조정할 수 있다. 이 때 광조사거리의 오차범위는 ±1미크론이다.On the other hand, through the light irradiation distance adjusting unit 80 can adjust the light irradiation distance of the UV LED light source and the screen plate (1) apple. By rotating the adjustment screw 86, the lens holder 83 is elevated in the Z-axis direction along the Z-axis fixing table 81, so that the light irradiation distance can be adjusted. At this time, the error range of light irradiation distance is ± 1 micron.

광조사거리가 결정되면 케이스(20) 일측의 광량조절패널(26)을 통해 조사광의 세기를 조절한다. 광세기의 경우는 0에서 100% 비율로 조절할 수 있고, 조사 시간을 조정할 수 있으며, 광세기와 조사 시간을 통해서 총노광량을 결정한다.When the light irradiation distance is determined, the intensity of the irradiation light is adjusted through the light amount control panel 26 on one side of the case 20. In the case of the light intensity, the ratio can be adjusted from 0 to 100%, the irradiation time can be adjusted, and the total exposure amount is determined through the light intensity and the irradiation time.

광조사헤드(70)는 X축이송로봇(60)에 의해서 X축 방향으로 이동되고 판거치테이블(40)은 Y축이송로봇(30)에 의해 Y축 방향으로 이동되므로 광원은 X축 방향, Y축 방향으로 ±1미크론 오차범위로 이동되면서 스크린판(1)에 빛을 조사한다.The light irradiation head 70 is moved in the X-axis direction by the X-axis transfer robot 60 and the plate value table 40 is moved in the Y-axis direction by the Y-axis transfer robot 30, so that the light source is moved in the X-axis direction, Irradiate light to the screen plate (1) while moving in the error range of ± 1 micron in the Y-axis direction.

스크린판(1)이 조사되는 동안 스크린판(1)에 도포된 레지스트중에 포함되는 용제가 증발된다. 증발되는 용제의 냄새는 케이스(20)의 상부배기팬(24) 및 측면배기팬(25)을 통해 외부로 배출된다.While the screen plate 1 is irradiated, the solvent contained in the resist applied to the screen plate 1 is evaporated. The smell of the evaporated solvent is discharged to the outside through the upper exhaust fan 24 and the side exhaust fan 25 of the case 20.

이러한 본 발명의 포토마스크리스 노광장치는 다음과 같은 장점이 있다.The photomaskless exposure apparatus of the present invention has the following advantages.

첫째, 컴퓨터에 노광 화상 입력, 레이저로 노광, 현상, 정착, 수세, 건조 마스크 완성으로 이루어진 종래의 공정들이, 패턴입력프로그램부(110)에 스크린 제판의 패턴을 수치적인 신호로 입력하고 터치패널(100)을 작동시키는 간단한 공정으로 단순화되므로 스크린판(1)의 제판 공정이 대폭 감소되고, 이에 따라 작업시간 및 작업인력을 줄일 수 있으며, 전체 제조 단가가 크게 절감된다.First, conventional processes consisting of exposure image input to a computer, exposure with a laser, development, fixation, washing with water, and completion of dry mask are inputted to the pattern input program unit 110 by inputting a pattern of screen making into a numerical signal and then using a touch panel ( Since it is simplified to a simple process for operating 100), the screen-making process of the screen plate 1 is drastically reduced, thereby reducing work time and labor, and greatly reducing the overall manufacturing cost.

둘째, 본 발명의 포토마스크리스 노광장치는 현상 및 수세 공정이 삭제되므로 이 공정에서 발생되는 미감응 감광성 물질이 폐액으로 누출되는 문제가 방지되며, 이에 따라 환경오염 문제가 방지된다.Second, since the developing and washing process of the photomaskless exposure apparatus of the present invention is eliminated, the problem that the unsensitized photosensitive material generated in this process is leaked into the waste liquid is prevented, thereby preventing the environmental pollution problem.

셋째, 판거치테이블(40)의 상부에 스크린판(1)을 안착시키고 X축클램프(52)를 잠그면 스크린판(1)이 X축 방향으로 밀리면서 대응 스토퍼(51)에 스크린판(1)의 일측면이 탄성적으로 지지되고, 두 개의 Y축클램프(53)들을 잠그면 스크린판(1)이 Y축 방향으로 밀리면서 대응 스토퍼(51)들에 스크린판(1)의 다른 측면이 탄성적으 로 지지된다. Third, when the screen plate 1 is seated on the top of the plate mounting table 40 and the X-axis clamp 52 is locked, the screen plate 1 is pushed in the X-axis direction while the screen plate 1 is attached to the corresponding stopper 51. One side of the elastically supported, and locking the two Y-axis clamps 53, the screen plate 1 is pushed in the Y-axis direction while the other side of the screen plate 1 is elastic to the corresponding stoppers 51 Is supported.

따라서 판거치테이블(40)의 상부에 스크린판(1)을 안착시키고 X축클램프(52) 및 Y축클램프(53)를 잠그는 비교적 간단한 작업에 의해 판거치테이블(40) 상에서 스크린판(1)의 위치가 보정된 후 고정된다. 그러므로 스크린판(1)의 위치보정 및 고정 작업이 매우 간편하므로 작업 효율을 향상시킬 수 있다.Accordingly, the screen plate 1 is mounted on the plate table 40 by a relatively simple operation of seating the screen plate 1 on the top of the plate table 40 and locking the X-axis clamp 52 and the Y-axis clamp 53. After the position of is corrected, it is fixed. Therefore, the position correction and fixing operation of the screen plate 1 is very easy, so that the work efficiency can be improved.

넷째, 조절나사(86)를 시계방향 또는 반시계방향으로 회전시키면 랜즈홀더(83) 및 광조사헤드(70)가 Z축고정테이블(81)을 따라 Z축 방향으로 이동된다. 따라서 조절나사(86)를 회전시켜서 광조사헤드(70)와 스크린판(1) 사이의 수직 간격을 간편하게 조절할 수 있다.Fourth, when the adjustment screw 86 is rotated clockwise or counterclockwise, the lens holder 83 and the light irradiation head 70 is moved in the Z-axis direction along the Z-axis fixing table 81. Therefore, by rotating the adjustment screw 86, it is possible to easily adjust the vertical gap between the light irradiation head 70 and the screen plate (1).

도 1은 본 발명의 포토마스트리스 노광장치를 보인 개략적 사시도1 is a schematic perspective view showing a photomatrix exposure apparatus of the present invention

도 2는 도 1의 개략적 측면도FIG. 2 is a schematic side view of FIG. 1

도 3은 노광장치의 주요 부품을 발췌한 측면도Figure 3 is a side view of the main parts of the exposure apparatus

도 4는 도 3의 정면도4 is a front view of FIG. 3

도 5는 도 3의 평면도5 is a plan view of FIG.

도 6은 본 발명의 주요 부위를 발췌한 부분 사시도Figure 6 is a partial perspective view of the main portion of the present invention

도 7a 및 도 7b는 X축클램프 및 Y축클램프의 일실시예를 보인 개략적 평단면도7A and 7B are schematic plan cross-sectional views showing one embodiment of the X-axis clamp and the Y-axis clamp.

도 8a 및 도 8b는 Y축클램프의 작동상태를 보인 개략적 평면도들8a and 8b are schematic plan views showing the operating state of the Y-axis clamp

도 9a 내지 도 9c는 스크린판이 스크린판고정부에 의해 판거치테이블에 고정되는 상태를 순차적으로 보인 개략적 평면도들9A to 9C are schematic plan views sequentially showing a state in which a screen plate is fixed to a plate mounting table by a screen plate fixing unit.

도 10은 광조사헤드를 보인 개략적 단면도10 is a schematic cross-sectional view showing a light irradiation head

도 11은 광조사거리조절부를 보인 개략적 확대 사시도11 is a schematic enlarged perspective view showing a light irradiation distance control unit

도 12는 도 11의 부분 단면도12 is a partial cross-sectional view of FIG.

*도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명** Description of the symbols for the main parts of the drawings *

1 : 스크린판 2 : 프레임1: screen plate 2: frame

10 : 베드 20 : 케이스10: bed 20: case

21 : 커버 22 : 손잡이21: cover 22: handle

23 : 힌지 24 : 상부배기팬23: hinge 24: upper exhaust fan

25 : 측면배기팬 26 : 광량조절패널25: side exhaust fan 26: light control panel

30 : Y축이송로봇 31 : Y축슬라이드베이스30: Y axis transfer robot 31: Y axis slide base

40 : 판거치테이블 50 : 스크린판고정부40: Pan value table 50: Screen height adjustment

51 : 스토퍼 52 : X축클램프51: stopper 52: X axis clamp

52a,53a : 고정보스 52b,53d : 단턱52a, 53a: high information 52b, 53d: step

52c,53c : 손잡이 52e,53e : 작동축52c, 53c: Handle 52e, 53e: Operating shaft

52f,53f : 와셔 52g,53g : 스프링52f, 53f: Washer 52g, 53g: Spring

53 : Y축클램프 60 : X축이송로봇53: Y axis clamp 60: X axis transfer robot

61 : X축슬라이드베이스 70 : 광조사헤드61: X axis slide base 70: light irradiation head

71 : 광파이버라이트가이드 72 : 집광랜즈71: optical fiber light guide 72: condensing lens

73 : 슬릿 74 : 구멍73: slit 74: hole

80 : 광조사거리조절부 81 : Z축고정테이블80: light irradiation distance control unit 81: Z axis fixed table

82 : 가이드홈 83 : 랜즈홀더82: guide groove 83: land holder

84 : 가이드 85 : 랙기어84: guide 85: rack gear

86 : 조절나사 87 : 피니언기어86: adjusting screw 87: pinion gear

90 : 광조사장치 100 : 터치패널90: light irradiation device 100: touch panel

110 : 패턴입력프로그램부 110: pattern input program unit

Claims (6)

케이스(20)의 내부에 수납된 베드(10);A bed 10 accommodated in the case 20; 상기 베드(10)의 상부면에 Y축 방향으로 길게 설치되어서 이에 설치된 Y축슬라이드베이스(31)를 왕복이송시키는 판이동용 Y축이송로봇(30);A plate movement Y-axis transfer robot 30 installed on the upper surface of the bed 10 in the Y-axis direction to reciprocate the Y-axis slide base 31 installed thereon; 상기 판이동용 Y축이송로봇(30)의 Y축슬라이드베이스(31)에 설치되고 상부면에 스크린판(1)이 고정되며 스크린판(1)과 함께 Y축 방향으로 이송되는 판거치테이블(40);The plate mounting table 40 is installed on the Y-axis slide base 31 of the plate movement Y-axis transfer robot 30 and the screen plate 1 is fixed to the upper surface and is transferred in the Y-axis direction together with the screen plate 1. ); 상기 판거치테이블(40)에 설치되어서 그 상부면에 안착된 스크린판(1)의 위치를 보정하고 고정시키는 스크린판고정부(50); A screen plate fixing part (50) installed in the plate mounting table (40) to correct and fix the position of the screen plate (1) seated on an upper surface thereof; 상기 베드(10)의 상부면에 X축 방향으로 길게 설치되어서 이에 설치된 X축슬라이드베이스(61)를 왕복이송시키고 상기 Y축이송로봇(30)의 상부에 이와 직교하도록 위치되는 광원이동용 X축이송로봇(60); X-axis transfer for light source movement is installed on the upper surface of the bed 10 in the X-axis direction and reciprocated to transfer the X-axis slide base 61 installed thereon and located at the top of the Y-axis transfer robot 30 to be orthogonal thereto. Robot 60; 상기 X축이송로봇(60)의 X축슬라이드베이스(61)에 설치되어서 이를 따라 X축 방향으로 이송되고 스크린판(1)에 빛을 조사하는 광조사헤드(70);A light irradiation head 70 installed on the X-axis slide base 61 of the X-axis transfer robot 60 to be transported in the X-axis direction and irradiating light to the screen plate 1 according to the X-axis slide base 61; 상기 X축이송로봇(60)의 X축슬라이드베이스(61)와 광조사헤드(70) 사이에 설치되어서 상기 광조사헤드(70) 및 스크린판(1) 사이의 수직 간격을 조절하는 광조사거리조절부(80); Light irradiation distance control is installed between the X axis slide base 61 and the light irradiation head 70 of the X axis transfer robot 60 to adjust the vertical distance between the light irradiation head 70 and the screen plate (1) Part 80; 상기 베드(10)의 상부면에 설치되고 상기 광조사헤드(70)에 연결되어서 이에 빛을 전달하는 광조사장치(90);A light irradiation apparatus (90) installed on an upper surface of the bed (10) and connected to the light irradiation head (70) to transmit light thereto; 상기 케이스(20)에 설치되고 상기 광조사장치(90) 및 X축이송로봇(60), Y축이송로봇(30)에 연결되며 입력된 패턴에 따라 상기 광조사장치(90) 및 X축이송로봇(60), Y축이송로봇(30)을 제어하는 터치패널(100);Installed in the case 20 and connected to the light irradiation apparatus 90 and the X-axis transfer robot 60, Y-axis transfer robot 30, the light irradiation apparatus 90 and X-axis transfer according to the input pattern A touch panel 100 for controlling the robot 60 and the Y-axis transfer robot 30; 상기 터치패널(100)에 연결되고 스크린 제판의 패턴이 수치적인 신호로 입력되며 입력된 신호를 상기 터치패널(100)로 전송하는 패턴입력프로그램부(110);를 포함하여 이루어진 것을 특징으로 하는 포토마스크리스 노광장치.And a pattern input program unit 110 connected to the touch panel 100 and inputting a pattern of a screen plate as a numerical signal and transmitting the input signal to the touch panel 100. Maskless exposure apparatus. 제1항에 있어서, 상기 케이스(20)에는,The method of claim 1, wherein the case 20, 그 내부를 개폐하고 닫힌 상태에서 내부를 투시할 수 있도록 투명재의 커버(21)가 설치되어 있고, Transparent cover 21 is provided to open and close the inside and to see the inside in a closed state, 상기 스크린판(1)에 도포된 레지스트 중의 용제가 증발될 시 이를 외부로 배출시킬 수 있도록 케이스(20)의 상부 및 측면에 상부배기팬(24) 및 측면배기팬(25)이 설치되어 있는 것을 특징으로 하는 포토마스크리스 노광장치.The upper exhaust fan 24 and the side exhaust fan 25 are installed on the upper and side surfaces of the case 20 so that the solvent in the resist applied to the screen plate 1 is discharged to the outside when evaporated. A photomaskless exposure apparatus characterized by the above-mentioned. 제1항에 있어서, 상기 스크린판고정부(50)는,According to claim 1, wherein the screen fixing unit 50, 스크린판(1)의 테두리가 지지되도록 상기 판거치테이블(40)의 둘레에 설치되는 스토퍼(51)들과,Stoppers 51 installed around the plate table 40 so that the edge of the screen plate 1 is supported, 상기 판거치테이블(40)에 안착된 상기 스크린판(1)을 X축방향으로 밀어서 상기 스크린판(1)의 일측면이 대응 스토퍼(51)에 밀착되도록 상기 스토퍼(51)에 설치되는 X축클램프(52)와,X-axis installed on the stopper 51 so that one side of the screen plate 1 is in close contact with the corresponding stopper 51 by pushing the screen plate 1 seated on the plate mounting table 40 in the X-axis direction. With clamp 52, 상기 판거치테이블(40)에 안착된 상기 스크린판(1)을 Y축방향으로 밀어서 상기 스크린판(1)의 다른 측면이 대응 스토퍼(51)에 밀착되도록 상기 스토퍼(51)에 설치되는 Y축클램프(53)로 이루어진 것을 특징으로 하는 포토마스크리스 노광장치.Y-axis installed in the stopper 51 so that the other side of the screen plate 1 is in close contact with the corresponding stopper 51 by pushing the screen plate 1 seated on the plate mounting table 40 in the Y-axis direction. Photomaskless exposure apparatus, characterized in that consisting of a clamp (53). 제1항에 있어서, 상기 광조사헤드(70)는,The method of claim 1, wherein the light irradiation head 70, 상기 광조사장치(90)로부터 조사된 빛을 안내하는 광파이버라이트가이드(71)와,An optical fiber light guide 71 for guiding light irradiated from the light irradiation device 90; 상기 광파이버라이트가이드(71) 내에 설치되어서 안내된 빛을 집광시키는 집광랜즈(72)와,A condenser lens 72 installed in the optical fiber light guide 71 for condensing guided light; 상기 집광랜즈(72) 하부의 광파이버라이드가이드(84)에 결합되고 집광된 빛이 일정한 크기로 조사되도록 빛의 일부를 차단하여서 일정한 크기의 빛만 통과시키는 슬릿(73)으로 이루어진 것을 특징으로 하는 포토마스크리스 노광장치.Photomask, characterized in that made of a slit (73) coupled to the optical fiber guide (84) below the condensing lens (72) and blocking only a portion of the light so that the focused light is irradiated to a certain size. Lease exposure apparatus. 제1항에 있어서, 상기 광조사거리조절부(80)는,According to claim 1, The light irradiation distance adjusting unit 80, 상기 Y축이송로봇(30)의 Y축슬라이드베이스(31)에 고정되어서 이와 함께 Y축 방향으로 왕복이송되고 상기 광조사헤드(70)가 Z축방향으로 이송되도록 안내하며 Z축 방향의 가이드홈(82)이 형성된 Z축고정테이블(81)과,It is fixed to the Y-axis slide base 31 of the Y-axis transfer robot 30 and reciprocated in the Y-axis direction and guides the light irradiation head 70 to be transferred in the Z-axis direction and guide grooves in the Z-axis direction. A Z-axis fixing table 81 on which 82 is formed, 상기 광조사헤드(70)가 설치되고 상기 Z축고정테이블(81)의 가이드홈(82)에 슬라이드 결합되도록 가이드(84)가 형성되며 가이드(84)의 일면에 랙기어(85)가 형성된 랜즈홀더(83)와,The light irradiation head 70 is installed and the guide 84 is formed so that the slide is coupled to the guide groove 82 of the Z-axis fixing table 81, the lens gear formed of the rack gear 85 on one surface of the guide 84 Holder 83, 상기 Z축고정테이블(81)에 시계방향 또는 반시계방향으로 회전되도록 설치되고 둘레에 상기 가이드(84)의 랙기어(85)에 치합되도록 피니언기어(87)가 형성되며 시계방향 또는 반시계방향으로 회전시킬 시 상기 랜즈홀더(83)가 상기 Z축고정테이블(81)을 따라 Z축 방향으로 이송되도록 하는 조절나사(86)로 이루어진 것을 특징으로 하는 포토마스크리스 노광장치.The pinion gear 87 is installed on the Z-axis fixing table 81 so as to rotate in a clockwise or counterclockwise direction and is engaged with the rack gear 85 of the guide 84 around the clockwise or counterclockwise direction. Photo-lensless exposure apparatus, characterized in that the lens holder (83) is made of an adjustment screw (86) to be transferred in the Z-axis direction along the Z-axis fixing table (81) when rotating. 제1항에 있어서, 상기 광조사장치(90)는,The method of claim 1, wherein the light irradiation apparatus 90, 열발생이 없고 순간 점등 및 소등이 가능하며 365nm 파장의 광원을 광의 확산없이 조사 가능한 UV LED 광원으로 이루어진 것을 특징으로 하는 포토마스크리스 노광장치.Photomaskless exposure apparatus characterized by consisting of a UV LED light source that can be turned on and off instantaneously without heat generation and irradiated with a light source of 365nm wavelength without diffusing light.
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