KR100951284B1 - 웨이퍼 레벨 패키지 제조방법 - Google Patents
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Abstract
Description
Claims (24)
- 상부면에 하나이상의 디바이스부를 구비하고 상기 디바이스부와 전기적으로 연결되는 본딩패드를 구비하는 디바이스 기판용 웨이퍼를 제공하는 단계 ;상기 본딩패드를 따라 상기 디바이스부를 에워싸는 접합용 실링라인을 제공하는 단계 ;상기 접합용 실링라인을 매개로 캡 기판용 웨이퍼와 디바이스 기판용 웨이퍼를 접합하는 단계 ;상기 본딩패드와 전기적으로 연결되는 외부단자를 상기 캡기판용 웨이퍼에 형성하는 단계 ; 및상기 캡기판용 웨이퍼와 디바이스 기판용 웨이퍼를 절단라인을 따라 절단하여 복수개의 웨이퍼 레벨 패키지를 개별적으로 분리하는 단계 ; 를 포함하고,상기 접합용 실링라인은 상기 본딩패드를 비전도성 소재로 완전히 덮도록 상기 본딩패드를 따라 연속적으로 형성됨을 특징으로 하는 웨이퍼 레벨 패키지 제조방법.
- 제1항에 있어서, 상기 본딩패드는 상기 디바이스부와 전기적으로 연결되도록 상기 디바이스 기판용 웨이퍼의 상부면에 패턴인쇄되는 연결패턴과 접속되는 접속패드와, 상기 접속패드의 상부면에 탑재되는 전도성 범프를 포함함을 특징으로 하는 웨이퍼 레벨 패키지 제조방법.
- 삭제
- 제1항에 있어서, 상기 접합용 실링라인은 상기 본딩패드의 외측면을 비전도성 소재로 덮으면서 본딩패드의 상부면만을 외부로 노출시키도록 상기 본딩패드를 따라 연속적으로 형성됨을 특징으로 하는 웨이퍼 레벨 패키지 제조방법.
- 제1항에 있어서, 상기 캡 기판용 웨이퍼와 디바이스 기판용 웨이퍼를 접합한 다음에는 상기 본딩패드와 일대일 대응하는 캡 기판용 웨이퍼에 비아를 형성함을 특징으로 하는 웨이퍼 레벨 패키지 제조방법.
- 제1항에 있어서, 상기 캡 기판용 웨이퍼와 디바이스 기판용 웨이퍼를 접합하기 전에는 상기 본딩패드와 일대일 대응하는 캡 기판용 웨이퍼에 비아를 형성함을 특징으로 하는 웨이퍼 레벨 패키지 제조방법.
- 제1항에 있어서, 상기 접합용 실링라인을 매개로 디바이스 기판용 웨이퍼와 접합된 캡 기판용 웨이퍼는 래핑(lapping), 그라이딩(grinding), 폴리싱(polishing)중 어느 하나의 방식으로 상부면을 제거하여 박형화함을 특징으로 하는 웨이퍼 레벨 패키지 제조방법.
- 제1항에 있어서, 상기 본딩패드와 대응하는 캡 기판용 웨이퍼와 디바이스 기판용 웨이퍼에는 비아가 형성되고, 상기 디바이스 기판용 웨이퍼과 상기 캡 기판용 웨이퍼를 접합하는 단계는 상기 비아를 통해 외부노출되는 접합용 실링라인을 제거하여 상기 본딩패드의 상부면을 외부노출시키는 단계를 추가 포함함을 특징으로 하는 웨이퍼 레벨 패키지 제조방법.
- 제1항에 있어서, 상기 본딩패드와 대응하는 캡 기판용 웨이퍼와 디바이스 기판용 웨이퍼에는 비아가 형성되고, 상기 캡 기판용 웨이퍼에 외부단자를 형성하는 단계는 상기 비아에 전도성 충진재를 채워 충진한 단계와, 상기 전도성 충진재의 상단과 접속되는 단자패드를 상기 캡 기판용 웨이퍼에 형성하는 단계를 포함함을 특징으로 하는 웨이퍼 레벨 패키지 제조방법.
- 제1항에 있어서, 상기 절단라인은 상기 외부단자와 상기 접합용 실링라인의 외측 또는 상기 외부단자와 상기 접합용 실링라인의 중심을 따라 형성됨을 특징으로 하는 웨이퍼 레벨 패키지 제조방법.
- 제1항에 있어서, 상기 캡 기판용 웨이퍼와 디바이스 기판용 웨이퍼사이에는 접합용 외부실링라인을 추가 포함하고, 상기 접합용 외부실링라인은 상기 접합용 실링라인의 외측에 일정간격을 두고 형성됨을 특징으로 하는 웨이퍼 레벨 패키지 제조방법.
- 제11항에 있어서, 상기 접합용 외부실링라인은 상기 캡기판용 웨이퍼의 하부 면에 형성되는 상부접합재와 상기 디바이스 기판용 상부면에 형성되는 하부접합재를 포함하고, 상기 상,하부 접합재는 상기 캡기판용 웨이퍼와 디바이스 기판용 웨이퍼간의 접합시 일체로 접합됨을 특징으로 하는 웨이퍼 레벨 패키지 제조방법.
- 제12항에 있어서, 상기 상,하부 접합재는 비전도성 소재로 이루어짐을 특징으로 하는 웨이퍼 레벨 패키지 제조방법.
- 제11항에 있어서, 상기 절단라인은 상기 접합용 외부실링라인의 외측 또는 상기 접합용 외부실링라인의 중심을 따라 형성됨을 특징으로 하는 웨이퍼 레벨 패키지 제조방법.
- 하부면에 형성되는 패드접합재를 에워싸는 상부접합재를 구비하는 캡 기판용 웨이퍼를 제공하는 단계 ;상기 패드접합재와 대응하는 상부면에 본딩패드를 에워싸는 하부접합재를 구비하고, 상기 본딩패드와 전기적으로 연결되는 디바이스부를 구비하는 디바이스 기판용 웨이퍼를 제공하는 단계 ;상기 패드접합재와 상,하부 접합재를 매개로 캡 기판용 웨이퍼와 디바이스 기판용 웨이퍼를 접합하는 단계 ;상기 본딩패드와 전기적으로 연결되는 외부단자를 상기 캡기판용 웨이퍼에 형성하는 단계 ; 및상기 캡기판용 웨이퍼와 디바이스 기판용 웨이퍼를 절단라인을 따라 절단하여 복수개의 웨이퍼 레벨 패키지를 개별적으로 분리하는 단계 ; 를 포함하고,상기 패드접합재가 본딩패드를 비전도성 소재로 덮도록 상기 본딩 패드를 따라 형성되는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 레벨 패키지 제조방법.
- 제15항에 있어서, 상기 본딩패드는 상기 디바이스부와 전기적으로 연결되도록 상기 디바이스 기판용 웨이퍼의 상부면에 패턴인쇄되는 연결패턴과 접속되는 접속패드와, 상기 접속패드의 상부면에 탑재되는 전도성 범프를 포함하여 구성됨을 특징으로 하는 웨이퍼 레벨 패키지 제조방법.
- 제15항에 있어서, 상기 본딩패드는 상부단에 상기 패드접합재와 마주하는 보조접합재를 구비함을 특징으로 하는 웨이퍼 레벨 패키지 제조방법.
- 제17항에 있어서, 상기 패드접합재와 보조 접합재는 비전도성 소재로 이루어짐을 특징으로 하는 웨이퍼 레벨 패키지 제조방법.
- 제15항에 있어서, 상기 캡 기판용 웨이퍼와 디바이스 기판용 웨이퍼를 접합한 다음에는 상기 본딩패드와 일대일 대응하는 캡 기판용 웨이퍼에 비아를 형성함을 특징으로 하는 웨이퍼 레벨 패키지 제조방법.
- 제15항에 있어서, 상기 본딩패드와 대응하는 캡 기판용 웨이퍼와 디바이스 기판용 웨이퍼에는 비아가 형성되고, 상기 비아는 상기 패드접합재까지 관통하도록 형성됨을 특징으로 하는 웨이퍼 레벨 패키지 제조방법.
- 제15항에 있어서, 상기 캡 기판용 웨이퍼와 디바이스 기판용 웨이퍼를 접합하기 전에는 상기 본딩패드와 일대일 대응하는 캡 기판용 웨이퍼에 형성함을 특징으로 하는 웨이퍼 레벨 패키지 제조방법.
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DE102007060632A1 (de) * | 2007-12-17 | 2009-06-18 | Robert Bosch Gmbh | Verfahren zum Herstellen eines Kappenwafers für einen Sensor |
TWI388038B (zh) * | 2009-07-23 | 2013-03-01 | Ind Tech Res Inst | 感測元件結構與製造方法 |
TWI419302B (zh) * | 2010-02-11 | 2013-12-11 | Advanced Semiconductor Eng | 封裝製程 |
US8232845B2 (en) * | 2010-09-27 | 2012-07-31 | Avago Technologies Wireless Ip (Singapore) Pte. Ltd. | Packaged device with acoustic resonator and electronic circuitry and method of making the same |
US9069005B2 (en) * | 2011-06-17 | 2015-06-30 | Avago Technologies General Ip (Singapore) Pte. Ltd. | Capacitance detector for accelerometer and gyroscope and accelerometer and gyroscope with capacitance detector |
US9065358B2 (en) | 2011-07-11 | 2015-06-23 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | MEMS structure and method of forming same |
US9085456B2 (en) * | 2012-01-16 | 2015-07-21 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | Support structure for TSV in MEMS structure |
CN103762221B (zh) * | 2014-01-28 | 2017-01-11 | 苏州晶方半导体科技股份有限公司 | 晶圆级封装结构及其形成方法、以及封装方法 |
TWI550737B (zh) * | 2014-08-11 | 2016-09-21 | 精材科技股份有限公司 | 晶片封裝體及其製造方法 |
TWI575672B (zh) * | 2014-08-11 | 2017-03-21 | 精材科技股份有限公司 | 晶片封裝體及其製造方法 |
DE112016003737T5 (de) * | 2015-08-18 | 2018-05-03 | Mitsubishi Electric Corporation | Halbleitervorrichtung |
CN105742195A (zh) * | 2016-04-01 | 2016-07-06 | 江苏长电科技股份有限公司 | 一种蚀刻埋孔型表面声滤波芯片封装结构的制造方法 |
CN105870077A (zh) * | 2016-04-01 | 2016-08-17 | 江苏长电科技股份有限公司 | 埋孔型表面声滤波芯片封装结构及其制造方法 |
CN105762085B (zh) * | 2016-04-01 | 2019-01-01 | 江苏长电科技股份有限公司 | 金属圆片埋孔型表面声滤波芯片封装结构及制造方法 |
CN105897210A (zh) * | 2016-04-01 | 2016-08-24 | 江苏长电科技股份有限公司 | 凹槽型表面声滤波芯片封装结构及其制造方法 |
CN105742255B (zh) * | 2016-04-01 | 2018-10-09 | 江苏长电科技股份有限公司 | 金属圆片级凹槽埋孔型表面声滤波芯片封装结构及方法 |
CN105897218B (zh) * | 2016-04-01 | 2018-11-09 | 江苏长电科技股份有限公司 | 凹槽埋孔型表面声滤波芯片封装结构及其制造方法 |
US10855250B2 (en) * | 2016-07-11 | 2020-12-01 | Akoustis, Inc. | Communication filter for LTE band 41 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20060074075A (ko) * | 2004-12-27 | 2006-07-03 | 삼성전자주식회사 | Mems 소자 패키지 및 그 제조방법 |
JP2006303061A (ja) * | 2005-04-19 | 2006-11-02 | Sony Corp | ウェハレベル半導体装置の製造方法 |
JP2007013174A (ja) | 2005-06-30 | 2007-01-18 | Avago Technologies Wireless Ip (Singapore) Pte Ltd | キャップ内でビアコンタクトを通って、ずらされたコンタクタへと延びる、fbarチップのウェハレベルパッケージングのためのコンタクトを形成する方法 |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5448014A (en) | 1993-01-27 | 1995-09-05 | Trw Inc. | Mass simultaneous sealing and electrical connection of electronic devices |
SG111972A1 (en) * | 2002-10-17 | 2005-06-29 | Agency Science Tech & Res | Wafer-level package for micro-electro-mechanical systems |
US7368808B2 (en) * | 2003-06-30 | 2008-05-06 | Intel Corporation | MEMS packaging using a non-silicon substrate for encapsulation and interconnection |
US6777263B1 (en) * | 2003-08-21 | 2004-08-17 | Agilent Technologies, Inc. | Film deposition to enhance sealing yield of microcap wafer-level package with vias |
JP2006197554A (ja) | 2004-12-17 | 2006-07-27 | Seiko Epson Corp | 弾性表面波デバイス及びその製造方法、icカード、携帯用電子機器 |
KR100826394B1 (ko) * | 2007-05-17 | 2008-05-02 | 삼성전기주식회사 | 반도체 패키지 제조방법 |
-
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Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20060074075A (ko) * | 2004-12-27 | 2006-07-03 | 삼성전자주식회사 | Mems 소자 패키지 및 그 제조방법 |
JP2006303061A (ja) * | 2005-04-19 | 2006-11-02 | Sony Corp | ウェハレベル半導体装置の製造方法 |
JP2007013174A (ja) | 2005-06-30 | 2007-01-18 | Avago Technologies Wireless Ip (Singapore) Pte Ltd | キャップ内でビアコンタクトを通って、ずらされたコンタクタへと延びる、fbarチップのウェハレベルパッケージングのためのコンタクトを形成する方法 |
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